JP2001109000A - 反射型液晶表示素子およびそれを用いた画像表示装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 液晶層の厚みを設計値通り、かつ、面内で均
一に実現して、良好な光学特性の反射型液晶表示素子を
得る。 【解決手段】 基板２０３ａと基板２０３ｂとの間にビ
ーズ２１０が安定的に位置決めされる位置決め手段のへ
こみを反射電極の液晶層側に有し、へこみ部分のビーズ
は、最も厚みの大きいカラーフィルタの箇所で基板と基
板の両方に接するようにして、へこみ以外の箇所のビー
ズは、基板のいずれか片方に接するようにしているか、
液晶層に浮遊させている。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、反射型液晶表示素
子に関するものである。

【０００２】

【従来の技術】反射型液晶表示素子は、パネル前面より
入射した外光を液晶セルにより変調し、セル裏面に設け
た反射板によって反射させて、表示を行う方式である。
このため透過型液晶表示素子に不可欠なバックライトが
不要であり、消費電力の低減が可能である。このため反
射型液晶表示素子は、携帯情報端末や携帯機器に最適で
ある。

【０００３】しかし、反射型液晶表示素子では、外光の
反射により表示を行うために、入射光の調節機能がな
い。このため外光の照度が弱い場合、例えば、屋内や夜
間使用する場合では、入射する外光が少ないため、表示
画面が非常に暗くなり、視認性が劣化する欠点を有して
いる。このため、反射型液晶表示素子では、入射した外
光をできるだけ効率よく反射させるように、反射率を高
める必要がある。

【０００４】反射率を高める手段として、液晶セルや光
学部材での光の伝搬ロスを防ぐことと反射板での反射率
を高める事が上げられる。液晶セルや光学部材による光
の伝播ロスを低減する方法としては、偏光板での光の透
過損失がもっとも大きい事に着目して、偏光板を用いな
いゲストホスト型表示方式や偏光板を１枚にした１枚偏
光板方式などがある。

【０００５】また、反射板での反射率を高める方法とし
て、従来液晶セルの外側に設けてい反射板を液晶セルの
内部に設け、かつ反射板の構成材料として、反射率が高
く、電気抵抗値の低いアルミニウムを用いて、反射板と
しての機能と電極としての機能を兼ね備えた反射電極を
形成する方式がある。さらに、反射電極面に凹凸を設
け、光散乱機能を付与した液晶セルと位相板と偏光板を
用いて、表示を行う方式がある。

【０００６】

【発明が解決しようとする課題】液晶セルで光の変換に
より明るさを調節するには、液晶層の厚を均一に制御す
ることが重要となる。しかしながら、反射率を高めるた
めに電極自体を反射電極として、更に、その反射面を凹
凸に形成した場合、液晶セルでの液晶層の厚みを均一に
制御することが非常に難しい。

【０００７】特に、現在、液晶セルの液晶層の厚みの形
成に通常用いられている、球状のビーズを均一に配置す
るという方法をとった場合、液晶層の厚みを反射電極基
板の凹凸のどこでビーズが支えているかが、反射型液晶
表示素子の内部で異なってしまうと、液晶表示素子の液
晶層の厚み自身が特定しににくくなる上に、反射型液晶
表示素子内でのばらつきも大きくなり、表示上のむらを
生じさせてしまうという課題を有している。

【０００８】

【課題を解決するための手段】上記課題を解決するため
に、本発明の反射型液晶表示素子は、少なくとも透明電
極を有した基板と、少なくとも反射電極を有した他方の
基板と、基板の透明電極を有した面と他方の基板の反射
電極を有した面との間に液晶層と複数のビーズとを備え
て、厚みの均一な液晶層が得られるように、基板と他方
の基板との間にビーズが安定的に位置決めされる位置決
め手段を、反射電極の液晶層側に有している。

【０００９】また、反射電極の液晶層側の位置決め手段
を有した箇所に備えられるビーズは、基板と他方の基板
の両方に接するようにして、位置決め手段の箇所以外の
他の箇所に備えられるビーズは、基板と他方の基板のい
ずれか片方に接するか、または基板と他方の基板との間
の液晶層に浮遊させている。

【００１０】このようにして、液晶層の厚みを決める部
分が、位置決め手段の最もくぼんだ部分で決定され、か
つ、位置決め手段を有していない部分は、すべて、この
液晶層の厚みよりも大きくでき、光学特性がより良好と
することができる。

【００１１】また、少なくとも透明電極と三原色ごとに
厚みの異なるカラーフィルタとを有した基板と、少なく
とも反射電極を有した他方の基板と、基板の透明電極を
有した面と他方の基板の反射電極を有した面との間に液
晶層と複数のビーズとを備えて、厚みの均一な液晶層が
得られるように、基板と他方の基板との間にビーズが安
定的に位置決めされる位置決め手段を、反射電極の液晶
層側に有している。

【００１２】また、反射電極の液晶層側の位置決め手段
を有した部分に備えられるビーズは、最も厚みの大きい
三原色のカラーフィルタの箇所で基板と他方の基板の両
方に接するようにして、それ以外の他の箇所に備えられ
るビーズは、基板と他方の基板のいずれか片方に接する
ようにしているか、又は基板と他方の基板との間の液晶
層に浮遊させている。

【００１３】このようにして、反射型液晶表示素子を三
原色のカラーフィルタ層を用いてカラー表示した場合
で、かつ、色によりカラーフィルタ層の厚みが異なって
いる場合でも、均一な液晶層の厚みを実現することがで
きる。

【００１４】そして、人間の視感度が最大となる緑のカ
ラーフィルタのところでは、位置決め手段の最もくぼん
だ部分で液晶層の厚みを均一にでき、光学特性がより良
好とすることができる。

【００１５】また、位置決め手段は、なだらかな曲面の
へこみで、そのへこみの外形は、ビーズの直径よりも大
きくしている。

【００１６】また、位置決め手段は、なだらかな曲面の
へこみで、そのへこみの深さの最大値は、ビーズの直径
よりも小さくしている。

【００１７】また、位置決め手段のなだらかな曲面のへ
こみの外形は、外形の下限値が５μｍであり、そして外
形の上限値が１５μｍであり、さらにへこみの深さは、
深さの下限値が０．３μｍであり、そして深さの上限値
が１．５μｍにしている。

【００１８】また、ビーズの形状は略球状で、前記ビー
ズの１ｍｍ²あたりの個数は、下限値が５０個であり、
そして上限値を３００個にしている。

【００１９】このようにして、反射型液晶表示素子とし
て、より望ましい特性を得ることができる。

【００２０】また、本発明の反射型液晶表示素子を画像
表示装置に用いた。

【００２１】このようにして、より望ましい特性の画像
表示装置が得られる。

【００２２】

【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態につい
て、図面を参照しながら説明する。

【００２３】（実施の形態１）図１は実施の形態１の反
射型液晶表示素子の断面図である。１００は液晶セル、
１０１は偏光フィルム、１０２は高分子フィルム層、１
０３ａ、１０３ｂはガラス基板、１０５ａ、１０５ｂは
配向層、１０６は透明電極、１０７は液晶層、１０８は
金属反射電極、１０９は平坦化層、１１０はビーズ、１
１１はシールを示す。

【００２４】基板１０３ａ、１０３ｂとして無アルカリ
ガラス基板(例えば１７３７：コーニング社製)を用い、
上側の透明基板１０３ａ上に、透明電極１０６としてイ
ンジウム錫オキサイドで画素電極を形成した。また、下
側の基板１０３ｂ上には、アルカリ系の絶縁材料で平坦
化層１０９を形成した。画素部分の厚みは４μｍでかつ
その上に外形１２μｍ、くぼみ深さ１．０μｍなだらか
な曲面の丸いへこみをランダムに形成し、画素部分以外
は厚み２μｍで形成した。また、シール材を形成する部
分は平坦化層を形成しなかった。そして画素部分には、
チタンを１００ｎｍ蒸着した上にアルミニウムを２００
ｎｍ蒸着して金属反射電極１０８を形成した。

【００２５】透明電極１０６および金属反射電極１０８
上には、ポリイミドのγ−ブチロラクトンの５重量％溶
液を印刷し、２５０℃で硬化したのち、６３#のツイス
ト角を実現するようにレーヨン布を用いた回転ラビング
法による配向処理を行うことで配向層１０５ａ、１０５
ｂを形成した。

【００２６】そして、上側の透明基板１０３ａ上の周辺
部には６．０μｍの径のガラスファイバーを１．０重量
％混入した熱硬化性シール樹脂（例えばストラクトボン
ド：三井東圧化学株式会社製）を印刷してシール１１１
を形成し、下側の基板１０３ｂ上には３．０μｍの直径
の略球状の樹脂ビーズを１２０個／ｍｍ²の割合で散布
し、上側の透明基板１０３ａと下側の基板１０３ｂを互
いに貼り合わせ、１５０℃でシール樹脂を硬化した後、
ΔｎＬＣ＝０．０８のフッ素エステル系ネマティック液
晶にカイラルピッチが８０μｍになるようにカイラル液
晶を混ぜた液晶を真空注入し、紫外線硬化性樹脂で封口
した後、紫外線光により硬化した。

【００２７】こうして形成された液晶セル１００の上側
の透明基板１０３ａの上に、ノーマリーホワイト化のた
めの光学補償層としてポリカーボネートフィルム２枚か
らなる高分子フィルム層１０２を貼付し、さらに、偏光
フィルム１０１としてニュートラルグレーの偏光フィル
ム（住友化学工業株式会社製ＳＱ−１８５２ＡＰ）にア
ンチグレア(ＡＧ)とアンチリフレクション（ＡＲ）処理
を施したものを貼付した。

【００２８】こうしてできた反射型液晶表示素子は、ミ
ノルタ製の反射率計ＣＭ―５０８Ｄで測定して反射率４
２％、コントラスト１２の良好な光学特性が得られた。

【００２９】また、光学顕微鏡を用いた観察で、位置決
め手段のくぼみを形成した部分では、ビーズの９０％以
上がディンプルの中に存在していることが確認でき、電
子顕微鏡による観察で、位置決め手段のくぼみの最もへ
こんだ部分に存在していることが確認できた。

【００３０】また液晶層の厚みを光学的に測定すると、
位置決め手段の最もへこんだ部分で測定したとき、平均
で３．０４μｍとなっており、設計値３μｍをほぼ実現
しており、このため良好な特性を得られたことが判る。
また面内でのセル厚の均一性は±０．１２μｍと良好で
あった。

【００３１】次に、ビーズの単位面積あたりの数、位置
決め手段のくぼみの外径とくぼみの深さ、ビーズの直径
を変化させたところ、ビーズの単位面積あたりの数が５
０から３００μｍ／ｍｍ²、位置決め手段のくぼみの外
形が５から１５μｍ、くぼみの深さが０．３から１．５
μｍで、液晶層の厚みの設計値３μｍに対して、ビーズ
の直径が２から４μｍのときに反射型液晶表示素子の光
学特性が良好に保たれた。より詳しく説明すると、対向
する基板間での液晶層の厚みを、略球状のビーズを配置
して形成したとき、液晶層の厚みを位置決め手段のくぼ
みの最もへこんだ部分から一方の基板の液晶と接する部
分までの距離として、その液晶層の厚みの設計値をｄ
（μｍ）、ビーズの直径をｒ（μｍ）としたとき、 ｄ−１．０≦ｒ≦ｄ＋１．０（μｍ） を満たすようにすることで、位置決め手段のくぼみの最
もへこんだ部分で液晶の厚みを決定でき、かつ、反射電
極に位置決め手段のくぼみを有しているので、ビーズを
安定的に位置決め手段のくぼみに配置することができ、
びーずはくぼみに９０％以上の割合で配置することがで
き、液晶層の厚みをむらなく均一にすることができる。
そして、ビーズの直径を、セル厚の設計値の±１μｍ以
内に抑えることで良好な光学特性を得ることができる。
そして、位置決め手段のくぼみの外形がビーズの直径よ
り小さくなったときは、光学特性も悪くなり、反射型液
晶表示素子の面内の均一性も悪化した。電子顕微鏡観察
したところ、位置決め手段のくぼみの様々な部分に位置
しており、液晶層の厚みの不均一を引き起こしていたこ
とが判った。

【００３２】（実施の形態２）図２は実施の形態２の反
射型液晶表示素子の断面図である。２００は液晶セル、
２０１は偏光フィルム、２０２は高分子フィルム層、２
０３ａ、２０３ｂはガラス基板、２０４ａは赤色カラー
フィルタ、２０４ｂは緑色カラーフィルタ、２０４ｃは
青色カラーフィルタ、２０４ｄはブラックマトリクス、
２０５ａ、２０５ｂは配向層、２０６は透明電極、２０
７は液晶層、２０８は金属反射電極、２０９は平坦化
層、２１０はビーズ、２１１はシール、２１２は薄膜ト
ランジスタ(以下ＴＦＴと略記)、２１３はコンタクトホ
ールを示す。

【００３３】基板２０３ａ、２０３ｂとして無アルカリ
ガラス基板(例えば１７３７：コーニング社製)を用い、
上側の透明基板２０３ａ上に、ブラックマトリクス２０
４ｄを形成し、三原色のカラーフィルタとして、赤色カ
ラーフィルタ２０４ａを膜厚０．５μmで、緑色カラー
フィルタ２０４ｂを膜厚１．０μｍで、青色カラーフィ
ルタ２０４ｃを膜厚１．５μｍで形成した。さらに、透
明電極２０６としてインジウム錫オキサイドで対向電極
を形成した。また、下側の基板２０３ｂ上にはＴＦＴ２
１２を形成し、アルカリ系の絶縁材料で平坦化層２０９
を形成した。ＴＦＴの上を除く画素部分の厚みは４μｍ
でかつその上に直径１２μｍ、位置決め手段のくぼみの
深さ１．０μｍの位置決め手段のくぼみをランダムな位
置に形成し、ＴＦＴ部と画素部分以外は基板からの厚み
２μｍで形成した。そしてＴＦＴ２１２のドレイン部分
の上にコンタクトホール２１３を形成した。また、シー
ル材を形成する部分は平坦化層を形成しなかった。そし
て画素部分には、チタンを１００ｎｍ蒸着した上にアル
ミニウムを２００ｎｍ蒸着して金属反射電極２０８を形
成した。金属反射電極２０８はコンタクトホール２１３
を介してＴＦＴ２１２のドレイン部分と接合した。

【００３４】透明電極２０６および金属反射電極２０８
上には、ポリイミドのγ−ブチロラクトンの５重量％溶
液を印刷し、２５０℃で硬化したのち、６３#のツイス
ト角を実現するようにレーヨン布を用いた回転ラビング
法による配向処理を行うことで配向層２０５ａ、２０５
ｂを形成した。

【００３５】そして、上側の透明基板２０３ａ上の周辺
部には６．０μmの径のガラスファイバーを１．０重量
％混入した熱硬化性シール樹脂（例えばストラクトボン
ド：三井東圧化学株式会社製）を印刷してシール２１１
を形成し、下側の基板２０３ｂ上には２．５μmの径の
樹脂ビーズを１２０個／ｍｍ²の割合で散布し、上側の
透明基板２０３ａと下側の基板２０３ｂを互いに貼り合
わせ、１５０℃でシール樹脂を硬化した後、ΔｎＬＣ＝
０．０８のフッ素エステル系ネマティック液晶にカイラ
ルピッチが８０μｍになるようにカイラル液晶を混ぜた
液晶を真空注入し、紫外線硬化性樹脂で封口した後、紫
外線光により硬化した。

【００３６】こうして形成された液晶セル２００の上側
の透明基板２０３ａの上に、ノーマリーホワイト化のた
めの光学補償層としてポリカーボネートフィルム２枚か
らなる高分子フィルム層１０２を貼付し、さらに、偏光
フィルム２０１としてニュートラルグレーの偏光フィル
ム（住友化学工業株式会社製ＳＱ−１８５２ＡＰ）にア
ンチグレア(ＡＧ)とアンチリフレクション（ＡＲ）処理
を施したものを貼付した。

【００３７】こうしてできた反射型液晶表示素子は、ミ
ノルタ製の反射率計ＣＭ―５０８Ｄで測定して反射率１
５％、コントラスト１２の良好な光学特性が得られた。

【００３８】また、光学顕微鏡を用いた観察で、位置決
め手段のくぼみの形成した部分では、ビーズの９０％以
上がディンプルの中に存在していることが確認でき、電
子顕微鏡による観察で、ビーズは位置決め手段のくぼみ
の最もへこんだ部分に存在していることが確認できた。

【００３９】また液晶層の厚みを光学的に測定すると、
位置決め手段のくぼみの最もへこんだ部分で、視感度最
大である緑色カラーフィルタ部分を測定したとき、平均
で３．０３μｍとなっており、これより設計値である３
μｍが、ビーズの直径２．５μｍに緑色カラーフィルタ
と最大膜厚である青色カラーフィルタとの膜厚差０．５
μｍを加えた値でほぼ実現できていることが判った。ま
た、面内でのセル厚の均一性は、±０．１４μｍと良好
であった。

【００４０】次に、ビーズの単位面積あたりの密度、位
置決め手段のくぼみの外径とくぼみの深さ、ビーズの直
径を変化させたところ、ビーズの密度が５０から３００
μｍ、位置決め手段のくぼみの外径が５から１５μｍ、
くぼみの深さが０．３から１．５μｍ、ビーズの直径が
１．５から３．５μｍの範囲のときに反射型液晶表示素
子の光学特性が良好に保たれた。そして、ビーズの直径
が２．５μｍのとき、液晶層の厚みは設計値の３μｍを
実現でき、反射型液晶表示素子の光学特性がより良好に
保たれた。

【００４１】より詳しく説明すると、三原色のカラーフ
ィルタ層のうち、緑色のカラーフィルタ層の膜厚と最も
厚いカラーフィルタ層の膜厚の差をδ（μｍ）とし、液
晶層の厚みを位置決め手段のくぼみの最もへこんだ部分
から緑色のカラーフィルタ層での液晶と接する部分まで
の距離として、その液晶層の厚みの設計値をｄ（μ
ｍ）、前記ビーズの直径をｒ（μｍ）としたとき、 ｄ−１．０≦ｒ＋δ≦ｄ＋１．０（μｍ） を満たすようにすることで、反射型液晶表示素子を赤、
緑、青のカラーフィルタ層を用いてカラー表示した場合
で、色によりカラーフィルタ層の厚みが異なっている場
合でも、均一な液晶層の厚みを実現することができる。

【００４２】このようにして、人間の視感度が最大とな
る緑のカラーフィルタのところで、位置決め手段のくぼ
み最もへこんだ部分で液晶層の厚みを均一に決定でき
る。これは、ビーズの直径を、液晶層の厚みの設計値よ
りも、緑のカラーフィルタと最大膜厚のカラーフィルタ
との膜厚差分だけ小さい値の±１μｍ以内に抑えること
で光学特性が良好となるように実現できる。

【００４３】反射電極の形状が位置決め手段のくぼみが
なだらかな曲面であることから、ビーズが安定的に位置
決め手段のくぼみに９０％以上の割合で配置することが
でき、液晶層の厚みをむらなく均一にすることができ
る。

【００４４】以上において、位置決め手段のくぼみ形成
されている部分が、画素を形成する部分の一部または全
部であり、画素を形成していない部分には位置決め手段
のくぼみが形成されていないようにすることで、反射液
晶表示素子としての特性を良好にした上で、表示素子の
大部分を占める表示画素部分で液晶層の厚みを形成で
き、液晶層の厚みの均一性を好ましく実現できる。

【００４５】そのとき、概略球形をしたビーズを１ｍｍ
²あたり５０から３００個の割合で配置することが液晶
層の厚みの均一性に望ましく、そのビーズの直径を、位
置決め手段のくぼみの外径よりも小さくすることで、位
置決め手段のくぼみの最もへこんだ部分にビーズを安定
して接するように配置できる。

【００４６】その場合、位置決め手段のくぼみの外径が
５から１５μｍ、くぼみの深さが０．３から１．５μｍ
のときに反射型液晶表示素子として望ましい特性を得る
ことができる。

【００４７】そして、位置決め手段のくぼみの外形がビ
ーズの直径より小さくなったときは、光学特性も悪くな
り、反射型液晶表示素子の面内の均一性も悪化した。電
子顕微鏡観察したところ、ビーズが位置決め手段のくぼ
みの様々な部分に位置しており、液晶層の厚みの不均一
を引き起こしていたことが判った。

【００４８】なお、以上の実施の形態１と実施の形態２
は、６３ツイストのノーマリーホワイトのツイスティッ
ドネマティックモードで行ったが、これだけにかかわら
ず、ホモジニアス、ホメオトロピック、スーパーツイス
ティッドネマティックモードによる１枚偏光板反射型液
晶表示素子や、あるいは、偏光板を用いないゲストホス
ト液晶や高分子分散液晶を用いた反射型液晶表示素子な
どでも、反射電極基板に凹凸を付与したもので、かつ、
液晶層の厚みを均一に制御する必要のあるものであれ
ば、本発明の要件を満たすことで同様の効果を得ること
ができる。また、ビーズはその表面に固着層を有し、１
５０℃程度の温度に加熱すると固着する固着ビーズを用
いても良い。また、位置決め手段のくぼみの外形は、設
計仕様に応じて丸い形状や三角形や方形や多角形などか
ら選択するようにしている。位置決め手段のなだらかな
曲面も、設計仕様に応じて方物線曲面や双曲線曲面等適
宜選択するようにしている。特に、光の散乱性の指向性
やレイリー散乱の影響を考慮して表示品質の光学特性が
より良好となるようにする。相対するカラーフィルタの
色ごとに位置決め手段のくぼみの外形やなだらかな曲面
を変えるようにしてもよい。

【００４９】

【発明の効果】以上説明したように本発明の反射型液晶
表示素子は、位置決め手段のくぼみが形成されていない
部分での基板内面から液晶に接する部分までの厚みが、
位置決め手段のくぼみの最もくぼんだ部分での基板内面
から液晶に接する部分までの厚みよりも小さくするよう
にすることで、液晶層の厚みを決める部分が、ディンプ
ルの最もくぼんだ部分で決定され、かつ、位置決め手段
のくぼみが形成されていない部分は、すべて、この液晶
層の厚みよりも大きくでき、光学特性がより良好とする
ことができ、産業的価値が大なるものである。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の実施の形態１の反射型液晶表示素子の
断面図

【図２】本発明の実施の形態２の反射型液晶表示素子の
断面図

【符号の説明】

１００、２００ 液晶セル １０１、２０１ 偏光フィルム １０２、２０２ 高分子フィルム層 １０３ａ、１０３ｂ、２０３ａ、２０３ｂ ガラス基板 １０５ａ、１０５ｂ、２０５ａ，２０５ｂ 配向層 １０６、２０６ 透明電極 １０７、２０７ 液晶層 １０８、２０８ 金属反射電極 １０９、２０９ 平坦化層 １１０、２１０ ビーズ １１１、２１１ シール ２０４ａ 赤色カラーフィルタ ２０４ｂ 緑色カラーフィルタ ２０４ｃ 青色カラーフィルタ ２０４ｄ ブラックマトリクス ２１２ 薄膜トランジスタ ２１３ コンタクトホール

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 岩井 義夫 大阪府門真市大字門真1006番地 松下電器 産業株式会社内 (72)発明者 宇野 光宏 大阪府門真市大字門真1006番地 松下電器 産業株式会社内 Ｆターム(参考） 2H089 LA07 LA12 LA20 MA01X MA03Y MA05Y MA07Z NA09 NA12 NA15 QA14 TA02 TA12 TA14 TA15 TA17 2H091 FA02Y FA14Y FB02 FB12 FD04 GA02 GA06 GA08 GA13 LA16 2H092 HA05 NA01 PA03 PA12 5C094 AA55 BA43 CA19 CA24 EA05 EA06 EC03 ED03 GB01

Claims (9)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 少なくとも透明電極を有した基板と、少
   なくとも反射電極を有した他方の基板と、前記基板の透
   明電極を有した面と前記他方の基板の反射電極を有した
   面との間に液晶層と複数のビーズとを備えた反射型液晶
   表示素子であって、厚みの均一な液晶層が得られるよう
   に、前記基板と前記他方の基板との間に前記ビーズが安
   定的に位置決めされる位置決め手段を、前記反射電極の
   液晶層側に有したことを特徴とする反射型液晶表示素
   子。
2. 【請求項２】 少なくとも透明電極を有した基板と、少
   なくとも反射電極を有した他方の基板と、前記基板の透
   明電極を有した面と前記他方の基板の反射電極を有した
   面との間に液晶層と複数のビーズとを備えた反射型液晶
   表示素子であって、厚みの均一な液晶層が得られるよう
   に、前記基板と前記他方の基板との間に前記ビーズが安
   定的に位置決めされる位置決め手段を、前記反射電極の
   液晶層側に有し、前記反射電極の液晶層側の位置決め手
   段を有した箇所に備えられるビーズは、前記基板と前記
   他方の基板の両方に接するようにして、前記箇所以外の
   他の箇所に備えられるビーズは、前記基板と前記他方の
   基板のいずれか片方に接するか、または前記基板と前記
   他方の基板との間の液晶層に浮遊させたことを特徴とす
   る反射型液晶表示素子。
3. 【請求項３】 少なくとも透明電極と三原色ごとに厚み
   の異なるカラーフィルタとを有した基板と、少なくとも
   反射電極を有した他方の基板と、前記基板の透明電極を
   有した面と前記他方の基板の反射電極を有した面との間
   に液晶層と複数のビーズとを備えた反射型液晶表示素子
   であって、厚みの均一な液晶層が得られるように、前記
   基板と前記他方の基板との間に前記ビーズが安定的に位
   置決めされる位置決め手段を、前記反射電極の液晶層側
   に有したことを特徴とする反射型液晶表示素子。
4. 【請求項４】 少なくとも透明電極と三原色ごとに厚み
   の異なるカラーフィルタとを有した基板と、少なくとも
   反射電極を有した他方の基板と、前記基板の透明電極を
   有した面と前記他方の基板の反射電極を有した面との間
   に液晶層と複数のビーズとを備えた反射型液晶表示素子
   であって、三原色ごとに厚みの均一な液晶層が得られる
   ように、前記基板と前記他方の基板との間に前記ビーズ
   が安定的に位置決めされる位置決め手段を、前記反射電
   極の液晶層側に有し、前記反射電極の液晶層側の位置決
   め手段を有した部分に備えられるビーズは、最も厚みの
   大きい三原色のカラーフィルタの箇所で前記基板と前記
   他方の基板の両方に接するようにして、前記箇所以外の
   他の箇所に備えられるビーズは、前記基板と前記他方の
   基板のいずれか片方に接するようにしているか、又は前
   記基板と前記他方の基板との間の液晶層に浮遊させたこ
   とを特徴とする反射型液晶表示素子。
5. 【請求項５】 位置決め手段は、なだらかな曲面のへこ
   みで、そのへこみの外形は、ビーズの直径よりも大きい
   ことを特徴とする請求項１から請求項４のいずれか一つ
   に記載の反射型液晶表示素子。
6. 【請求項６】 位置決め手段は、なだらかな曲面のへこ
   みで、そのへこみの深さの最大値は、ビーズの直径より
   も小さいことを特徴とする請求項１から請求項４のいず
   れか一つに記載の反射型液晶表示素子。
7. 【請求項７】 位置決め手段のなだらかな曲面のへこみ
   の外形は、前記外形の下限値が５μｍであり、そして前
   記外径の上限値が１５μｍであり、さらに前記へこみの
   深さは、前記深さの下限値が０．３μｍであり、そして
   前記深さの上限値が１．５μｍであることを特徴とする
   請求項１から請求項６のいずれか一つに記載の反射型液
   晶表示素子。
8. 【請求項８】 ビーズの形状は略球状で、前記ビーズの
   １ｍｍ²あたりの個数は、下限値が５０個であり、そし
   て上限値が３００個であることを特徴とする請求項１か
   ら請求項７のいずれか一つに記載の反射型液晶表示素
   子。
9. 【請求項９】 請求項１から請求項８のいずれか一つに
   記載の反射型液晶表示素子を用いたことを特徴とする画
   像表示装置。