JP2001107296A - めっき方法及びめっき製品 - Google Patents

めっき方法及びめっき製品

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JP2001107296A
JP2001107296A JP28515899A JP28515899A JP2001107296A JP 2001107296 A JP2001107296 A JP 2001107296A JP 28515899 A JP28515899 A JP 28515899A JP 28515899 A JP28515899 A JP 28515899A JP 2001107296 A JP2001107296 A JP 2001107296A
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satin
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plated
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Mitsuo Imamoto
光男 今本
Toshiyuki Kawamoto
理之 河本
Yutaka Yoshikawa
豊 吉川
Kenichi Nishikawa
賢一 西川
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Toto Ltd
Ebara Udylite Co Ltd
Original Assignee
Toto Ltd
Ebara Udylite Co Ltd
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 含フッ素化合物粒子の共析による表面の曇り
や、熱処理により生じる干渉色を防ぐことにより、めっ
きされた製品の商品的価値を下げることなく、製品に撥
水性を付与する技術を提供すること。 【解決手段】 サテン状下地加工を施した被めっき製品
に、含フッ素化合物粒子共析複合めっきおよび必要によ
り表面保護めっきを施すことを特徴とするめっき方法な
らびに当該方法により得られるめっき製品。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、めっき方法に関
し、更に詳細には、含フッ素化合物粒子を共析させるこ
とにより撥水性を高め、しかも高級感のある外観も与え
ることのできるめっき方法および当該方法により得られ
るめっき製品に関する。
【0002】
【従来の技術】従来より、めっき被膜表面に撥水性を与
えたり、滑りを良くする目的で、4フッ化エチレン樹
脂、フッ化黒鉛、フッ化ビニリデン樹脂、フッ化ビニル
樹脂等の含フッ素化合物粒子を共析させる複合めっきが
行われている。この含フッ素化合物粒子を共析させる複
合めっきを行った場合、めっき製品表面の撥水性や、滑
り等表面の物性は明らかに向上するが、めっき製品によ
っては外観的に問題が生じる場合があることが明らかに
されつつある。
【0003】すなわち、本発明者らが得た知見による
と、きれいに研磨したり、下地のめっきにより高い光沢
を与えた製品に上記複合めっきを行った場合、含フッ素
化合物粒子の共析により表面が不均一に曇り、いわゆる
ボケた外観になるという問題があり、更に撥水性を高め
るために熱処理を行った場合には干渉色が出、製品の商
品価値を著しく落とすという問題が生じていた。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】上記の事情から、めっ
きされた製品の商品的価値を下げることなく、含フッ素
化合物粒子を共析させる複合めっきを行ない、製品に撥
水性を付与することのできる技術の提供が求められてい
る。
【0005】
【課題を解決するための手段】本発明者は、含フッ素化
合物粒子を共析させる複合めっきを行った後の熱処理に
より生じる干渉色を防ぐ方法について鋭意研究を行っ
た。そしてその結果、被めっき製品にサテン状下地加工
を施した後に複合めっきを行えば、熱処理した後に干渉
色が発生しないこと、また、めっき後の外観も、全体と
して均一に曇った外観であり、高級感を与えるものであ
ることを見出し、本発明を完成した。
【0006】すなわち本発明は、サテン状下地加工を施
した被めっき製品に、含フッ素化合物粒子共析複合めっ
きを施すことを特徴とするめっき方法を提供するもので
ある。
【0007】また本発明は、上記含フッ素化合物粒子共
析複合めっきを施した後に更に表面保護めっきを施すこ
とを特徴とするめっきを提供するものである。
【0008】更に本発明は、上記両方法により得られる
めっき製品を提供するものである。
【0009】
【発明の実施の形態】本発明を実施するには、まず被め
っき製品にサテン状下地加工を施すことが必要である。
【0010】この被めっき製品としては、金属の素材そ
のものであっても良く、また、金属等の素材上に下地金
属めっきを施したものであっても良い。
【0011】サテン状下地加工としては、めっき加工に
よるものおよび例えばブラスト加工や液体ホーニング加
工のような機械的加工が挙げられる。このうち、めっき
加工としては、公知の、電解あるいは無電解によるサテ
ン状ニッケルめっき、サテン状銅めっき、サテン状スズ
めっき等が挙げられる。具体的には、ベロアニッケル
(アトテック社製)、コスモブライト(大和特殊社
製)、サチライトニッケル(荏原ユージライト社製)、
パールブライト(LPW社製)、キューサテン(荏原ユ
ージライト社製)、キューマット(荏原ユージライト社
製)、チンマット(荏原ユージライト社製)、エバソル
ダHS−805(荏原ユージライト社製)等の名称で市
販されている各種サテン状めっきを利用することができ
る。
【0012】次に、サテン状下地加工を施した被めっき
製品上に含フッ素化合物粒子共析複合めっき(以下、
「フッ素化合物共析めっき」という)を施す。
【0013】このフッ素化合物共析めっきとしては、含
フッ素化合物粒子を共析できる浴であれば、電解、無電
解のいずれの浴を用いても良い。具体的に電解めっきの
例としては、含フッ素化合物粒子を含んだニッケル、ニ
ッケルリン合金、ニッケル鉄合金、銅、鉄、亜鉛、亜鉛
ニッケル合金等のめっき浴が挙げられる。また、無電解
めっきの具体例としては、含フッ素化合物粒子を含んだ
ニッケルリン合金、ニッケルホウ素合金、ニッケルコバ
ルト合金、ニッケルタングステン合金等のめっき浴が挙
げられる。
【0014】上記フッ素化合物共析めっきに添加される
含フッ素化合物粒子としては、ポリテトラフルオロエチ
レン等の4フッ化エチレン樹脂、フッ化黒鉛、フッ化ビ
ニリデン樹脂、フッ化ビニル樹脂等で構成される粒子が
挙げられる。これらの含フッ素化合物粒子の粒径は、
0.01〜10μmのものが使用される。粒径が10μ
mを超えるものを使用すると、液中での分散性が低下す
る傾向があり、被膜中に均一に共析しにくくなるおそれ
がある。
【0015】サテン状下地加工を施した被めっき製品上
に施す、フッ素化合物共析めっきの厚みは、特に制約は
ないが、少なくとも上記含フッ素化合物粒子の粒子径以
上であることが必要である。しかしながら、あまり厚く
付けすぎるとコスト高になるため、通常は1〜20μm
程度とすることが好ましい。
【0016】上記のフッ素化合物共析めっきを行うこと
によって、本発明の目的は達成されるが、より耐摩耗性
や耐食性を向上させたり、外観を良くするためには更に
表面保護めっきを施すことが好ましい。
【0017】このような表面保護めっきの例としては、
クロムめっき、金めっき、スズニッケル合金めっき等が
挙げられる。これらのめっきは何れも周知なものであ
り、そのめっき条件は一般的なもので良く、また膜厚も
めっき製品の用途に応じて適宜定められる。
【0018】以上のように、サテン状下地加工を施した
後、フッ素化合物共析めっきおよび必要により表面保護
めっきを施された複合めっき製品は、その撥水性を高め
るために熱処理を行うこともできる。この熱処理は、表
面に露出する含フッ素化合物粒子を溶解させ、表面の含
フッ素化合物で覆われる部分を広げるものであるから、
使用する含フッ素化合物の融点に合わせて加熱すること
が必要となる。例えば、含フッ素化合物粒子としてポリ
テトラフルオロエチレン(以下、「PTFE」と略す)
を用いた場合の加熱処理は、PTFEの融点である32
7℃以上の温度、例えば350℃程度の温度に、数分か
ら1時間程度保持することにより行われる。
【0019】以上のようにして処理された複合めっき製
品は、下地に施されたサテン加工のため、渋い半光沢〜
無光沢の均一な外観であり、熱処理を行った後であって
も干渉色が出ることがなく、高級感のある外観を有す
る。しかも、フッ素化合物共析めっきを行ったことによ
る撥水性は、光沢面を有するフッ素化合物共析めっきを
行っためっき製品と比べ、全く遜色のないものであっ
た。
【0020】なお、本発明方法の好ましい例としては、
例えば次に挙げる工程が例示される。 (1)サテン電解ニッケルめっき(1〜20μm)→フ
ッ素化合物共析ニッケルめっき(1〜20μm)→クロ
ムメッキ(0.1〜1μm) (2)サテン電解銅めっき(1〜20μm)→フッ素化
合物共析ニッケルめっき(1〜20μm)→クロムメッ
キ(0.1〜1μm) (3)サテン電解ニッケルめっき(1〜20μm)→フ
ッ素化合物共析ニッケルめっき(1〜20μm)→金メ
ッキ(0.1〜1μm) (4)サテン電解ニッケルめっき(1〜20μm)→フ
ッ素化合物共析ニッケルめっき(1〜20μm)→スズ
ニッケル合金めっき(0.1〜1μm) (5)サテン電解ニッケルめっき(1〜20μm)→フ
ッ素化合物共析ニッケルめっき(1〜20μm) (6)ブラスト加工→フッ素化合物共析ニッケルめっき
(1〜20μm)→クロムめっき(0.1〜1μm) (7)液体ホーニング加工→フッ素化合物共析ニッケル
めっき(1〜20μm)→クロムめっき(0.1〜1μ
m)
【0021】これらのうち、(1)〜(5)の工程で
は、サテン状めっきの前に、基材(被めっき品素材)と
の密着性や、レベリングを改善するために前処理や各種
めっきを適宜施すこともできる。また、上記(1)〜
(7)の工程が終了した後、最終処理として200℃〜
370℃で、数分から2時間熱処理することもでき、こ
れにより撥水性が向上する。
【0022】
【実施例】次に実施例を挙げ、本発明を更に詳しく説明
するが、本発明はこれら実施例に何ら制約されるもので
はない。
【0023】実 施 例 1 下記に示す各工程で、電解めっきを行い、めっき後の試
験片の接触角の測定とめっき外観の観察を行った。な
お、いずれの工程の複合めっきも、熱処理を行った場合
と行わない場合を設け、熱処理の影響も調べた。この結
果を表1に示す。
【0024】( 試験めっき工程 ) 工程1:光沢ニッケルめっき1)(5μm) 工程2:光沢ニッケルめっき1)(5μm)→サテンニ
ッケルめっき2)(5μm) 工程3:光沢ニッケルめっき1)(5μm)→クロムめ
っき3)(0.25μm) 工程4:光沢ニッケルめっき1)(5μm)→含フッ素
化合物粒子共析複合ニッケルめっき(以下、「複合ニッ
ケルめっき」という) 4)(5μm) 工程5:光沢ニッケルめっき1)(5μm)→サテンニ
ッケルめっき2)(5μm)複合ニッケルめっき
4)(5μm) 工程6:光沢ニッケルめっき1)(5μm)→複合ニッ
ケルめっき 4)(5μm)→クロムめっき3)(0.2
5μm) 工程7:光沢ニッケルめっき1)(5μm)→サテンニ
ッケルめっき2)(5μm)複合ニッケルめっき
4)(5μm)→クロムめっき3)(0.25μm) 熱処理:350℃で60分間保持
【0025】なお、上記各工程で用いた1)〜4)のめ
っき浴の組成、条件は、次の通りである。 1)光沢ニッケルめっき(#66プロセス;荏原ユージライト社): 硫酸ニッケル 280g/L 塩化ニッケル 45g/L ほう酸 45g/L 光沢剤#610 5ml/L 光沢剤#63 10ml/L 湿潤剤#62 2ml/L pH 4.0 浴温 55℃ 陰極電流密度 4A/dm2 めっき時間 7分
【0026】 2)サテンニッケルめっき: 硫酸ニッケル 280g/L 塩化ニッケル 45g/L ほう酸 45g/L サッカリンナトリウム 2g/L ヘキシルサルフェートナトリウム 1g/L エチレンオキサイドと プロピレンオキサイドの反応物 0.03g/L pH 4.0 浴温 55℃ 陰極電流密度 4A/dm2 めっき時間 7分
【0027】 3)クロムめっき(クロミライトプロセス;荏原ユージライト株式会社): 無水クロム酸 240g/L 硫酸 1g/L 添加剤 クロミライト KC-40 4g/L 浴温 45℃ 陰極電流密度 20A/dm2 めっき時間 2分
【0028】 4)複合ニッケルめっき: スルファミン酸ニッケル 450g/L 塩化ニッケル 35g/L ほう酸 35g/L サッカリンナトリウム(添加剤) 1g/L FC−134(住友スリーエム社製; 1g/L カチオン系界面活性剤) PTFE粒子(平均粒径0.3μm) 40g/L pH 4.5 浴温 50℃ 攪拌 機械攪拌及び揺動 陰極電流密度 4A/dm2 めっき時間 7分 (電気ニッケルアノード使用)
【0029】( 結 果 )
【表1】
【0030】工程4および工程5によりめっきされた場
合は、接触角が最も大きく、物性的に撥水性が良いこと
が示された。しかし、工程4のものはめっき後の外観が
光沢のある灰色となり、また熱処理により干渉色が生
じ、外観的には問題があった。
【0031】また、工程6および工程7によりめっきさ
れた場合の接触角は、めっきしたままでは小さいが、熱
処理すると大きくなることが示された。鍍金後の外観的
については、工程6のものは少し曇った光沢を有してい
たが、熱処理により干渉色が発生した。
【0032】この結果から、サテン状下地処理(サテン
状めっき)および含フッ素化合物粒子共析電解複合ニッ
ケルめっきを行った場合、特に高い撥水性が得られ、し
かも曇りや干渉色が問題とならないことが明らかとなっ
た。
【0033】
【発明の効果】本発明によれば、高い撥水性の渋い半光
沢〜無光沢の高級感のある外観を有する複合めっき製品
が得られる。従って本発明の複合めっき方法は、多くの
室内家具用金具、水栓金具を代表とする台所、洗面所、
浴室などの水まわり用器具、自動車、バイク、自転車等
の外装品などのめっき方法として有利に使用することが
できるものである。 以 上
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 河本 理之 福岡県北九州市小倉北区中島2丁目1番1 号 東陶機器株式会社内 (72)発明者 吉川 豊 神奈川県藤沢市善行坂1−1−6 荏原ユ ージライト株式会社中央研究所内 (72)発明者 西川 賢一 神奈川県藤沢市善行坂1−1−6 荏原ユ ージライト株式会社中央研究所内 Fターム(参考) 4K022 AA02 AA47 BA04 BA06 BA14 BA16 BA24 BA32 BA34 CA02 CA18 CA19 CA28 DA01 EA01 EA04

Claims (13)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 サテン状下地加工を施した被めっき製品
    に、含フッ素化合物粒子共析複合めっきを施すことを特
    徴とするめっき方法。
  2. 【請求項2】 サテン状下地加工が、電解または無電解
    のサテン状めっき加工である請求項第1項記載のめっき
    方法。
  3. 【請求項3】 電解または無電解のサテン状めっき加工
    が、サテンニッケルめっき、サテン銅めっき、サテンス
    ズめっきのいずれかのサテン状めっき加工である請求項
    第2項記載のめっき方法。
  4. 【請求項4】 サテン状下地加工が、ブラスト加工また
    は液体ホーニング加工である請求項第1項記載のめっき
    方法。
  5. 【請求項5】 含フッ素化合物粒子共析複合めっきが、
    電解または無電解のめっきである請求項1記載のめっき
    方法。
  6. 【請求項6】 含フッ素化合物粒子共析複合めっき後に
    更に表面保護めっきを行う請求項第1項ないし第5項の
    何れかの項記載のめっき方法。
  7. 【請求項7】 表面保護めっきがクロムめっき、金めっ
    きまたはスズニッケル合金めっきである請求項第6項記
    載のめっき方法。
  8. 【請求項8】 サテン状下地加工を施した被めっき製品
    に、含フッ素化合物粒子共析複合めっきを施した後、熱
    処理を行うことを特徴とする撥水化方法。
  9. 【請求項9】 サテン状下地加工を施した被めっき製品
    に、含フッ素化合物粒子共析複合めっき、表面保護めっ
    きを順次施した後、熱処理を行うことを特徴とする撥水
    化方法。
  10. 【請求項10】 サテン状下地加工後、含フッ素化合物
    粒子共析複合めっきを施されてなるめっき製品。
  11. 【請求項11】 サテン状下地加工後、含フッ素化合物
    粒子共析複合めっき、表面保護めっきを順次施されてな
    るめっき製品。
  12. 【請求項12】 サテン状下地加工後、含フッ素化合物
    粒子共析複合めっきを施し、更に熱処理されてなる撥水
    性製品。
  13. 【請求項13】 サテン状下地加工後、含フッ素化合物
    粒子共析複合めっき、表面保護めっきを順次施し、更に
    熱処理されてなる撥水性製品。
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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2007105721A1 (ja) * 2006-03-13 2007-09-20 Dai Nippon Printing Co., Ltd. 光学拡散素子、投影スクリーン、意匠性部材及びセキュリティ媒体
WO2017077655A1 (ja) * 2015-11-06 2017-05-11 株式会社Jcu ニッケルめっき用添加剤およびこれを含有するサテンニッケルめっき浴

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2007105721A1 (ja) * 2006-03-13 2007-09-20 Dai Nippon Printing Co., Ltd. 光学拡散素子、投影スクリーン、意匠性部材及びセキュリティ媒体
WO2017077655A1 (ja) * 2015-11-06 2017-05-11 株式会社Jcu ニッケルめっき用添加剤およびこれを含有するサテンニッケルめっき浴
CN108350589A (zh) * 2015-11-06 2018-07-31 株式会社杰希优 镀镍用添加剂及含有其的缎光镀镍浴
JPWO2017077655A1 (ja) * 2015-11-06 2018-08-16 株式会社Jcu ニッケルめっき用添加剤およびこれを含有するサテンニッケルめっき浴

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