JP2001093947A - 半導体装置、半導体ウェーハと半導体装置の製造方法 - Google Patents

半導体装置、半導体ウェーハと半導体装置の製造方法

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JP2001093947A
JP2001093947A JP26769399A JP26769399A JP2001093947A JP 2001093947 A JP2001093947 A JP 2001093947A JP 26769399 A JP26769399 A JP 26769399A JP 26769399 A JP26769399 A JP 26769399A JP 2001093947 A JP2001093947 A JP 2001093947A
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JP
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pad
vdd
line
semiconductor device
input
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Seiichiro Yokokura
誠一郎 横倉
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Toshiba Corp
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 ウェーハバーンインにおいてプローブ針の本
数が減らせ、負荷抵抗の接続の手間が省ける半導体ウェ
ーハを提供する。 【解決手段】 半導体ウェーハ上で、VDDライン11
を、ヒューズ8を介して複数のVDDパッド3と、ヒュー
ズ8とプルアップ抵抗9を介して複数の入出力用パッド
6とに接続する。同様にVSSライン12を、ヒューズ8
を介して複数のVSSパッド4と、ヒューズ8とプルダウ
ン抵抗10を介して複数の入出力用パッド7とに接続す
る。さらに、クロックライン13をヒューズ8を介して
複数のクロックパッド5に接続する。このことにより、
VDDパッド3、VSSパッド4、クロックパッド5の1つ
ずつに電圧を印加すれば、残りのパッドにも電圧が印可
されバーンインが可能になり、ヒューズ8をすべて切断
すれば、ダイソートが可能になる。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、LSI等の半導体
装置のバーンインに関し、特に、信頼性の高いウェーハ
バーンインを可能にする半導体装置、半導体ウェーハと
半導体装置の製造方法に関する。
【0002】
【従来の技術】LSI等の半導体装置は、初期不良発見
のため加速度試験であるバーンインを経て出荷されてい
る。バーンインでは、120℃から150℃で数時間の
エージングテストを行う。
【0003】現在ではウェーハバーンイン(WBI)が
様々な方法で検討されている。ウェーハ形状でのバーン
インが可能になれば、パッケージ前にバーンインが可能
になり不良品をパッケージする工数が削減できる等のバ
ーンインのコストの削減が期待できる。
【0004】バーンインでは、半導体装置のほぼすべて
のパッドに電流を流す必要が有るので、ウェーハバーン
インでは、数十以上の半導体装置のほぼすべての数万個
以上のパッドにプローブ針を接触させる。ところが、パ
ッドからプローブ針がずれたり、針がパッドを破壊して
しまうことがあった。また、バーンインでは、多数のパ
ッドにプルアップ抵抗とプルダウン抵抗の負荷抵抗を接
続するので、テスト回路の接続を誤ったり断線させたり
することがあった。
【0005】これらの接触不良や誤接続により、バーン
インが正常に行われない場合は、再度テストを行ってい
た。
【0006】
【発明が解決しようとする課題】そこで、本発明者は、
これらの接触不良や誤接続について原因を詳細に検討
し、以下に示す4つの原因を明らかにした。
【0007】(1)バーンインボードもウェーハと同じ
温度環境にあり、バーンインボードとウェーハの熱膨張
率の違いによりパッドとプローブ針の相対的な位置が変
わり接触不良になる。
【0008】(2)バーンインボードとウェーハの反り
によって、ウェーハ面内で針圧が異なる。ある領域で針
圧が正常であっても、別の領域で針圧が低すぎ針がパッ
ドに接触しなかったり、針圧が高すぎ針がパッドを破壊
してしまうことがある。
【0009】(3)バーンインボードは繰り返し使用さ
れるため室温との温度差によるサーマルショックを何度
も受け、プローブ針の変形やパッドの引っ掻き屑やはん
だ外れやはんだ屑によるショートや断線などの不良を起
こすことがある。
【0010】(4)人が接続するには接続する負荷抵抗
の数が多すぎる。
【0011】そして、原因の1、2、3についてはプロ
ーブ針の本数が多すぎて針圧や位置の調整を人が管理で
きる状況にないと考えられた。
【0012】本発明は、上記事情に鑑みてなされたもの
であり、その目的とするところは、ウェーハバーンイン
においてプローブ針の本数を減らせ、負荷抵抗の接続の
手間を省ける半導体装置を提供する事にある。
【0013】また、本発明の目的は、ウェーハバーンイ
ンにおいてプローブ針の本数を減らせ、負荷抵抗の接続
の手間を省ける半導体ウェーハを提供する事にある。
【0014】最後に、本発明の目的は、ウェーハバーン
インにおいてプローブ針の本数を減らせ、負荷抵抗の接
続の手間を省ける半導体装置の製造方法を提供する事に
ある。
【0015】
【課題を解決するための手段】すなわち、上記問題点を
解決するための本発明の第1の特徴は、VDDパッドと、
第1の入出力用パッドと、この第1の入出力用パッドに
接続するプルアップ抵抗と、VDDパッドとプルアップ抵
抗に接続するVDDラインとを備える半導体装置であるこ
とである。ここで、「VDDパッド」とは、半導体装置の
中央部に配置される電子回路を高電位VDDに設定する電
源を接続するためにこの回路から引き出されているパッ
ドのことである。「入出力用パッド」とは、この回路の
入出力信号を外部回路に出入力させるためにこの回路か
ら引き出されているパッドのことである。なお、「入/
出力」と記載した場合は「入力」と「出力」と「入出
力」を表します。「プルアップ抵抗」とは、負荷抵抗と
して高電位VDDに接続される抵抗のことである。このこ
とにより、半導体装置上ですでにVDDラインを介して複
数のVDDパッドが接続されるので、バーンインにおいて
は1つのVDDパッドに給電するだけで他のVDDパッドに
も給電が可能である。また、半導体装置上ですでに、V
DDラインとプルアップ抵抗を介してVDDパッドと入出力
用パッドが接続されるので、バーンインにおいては1つ
のVDDパッドに給電するだけで入出力用パッドの電位を
昇圧させることが可能である。そして、プローブ針の本
数が減らせ、負荷抵抗の接続の手間が省けるウェーハバ
ーンインが可能になる。
【0016】本発明の第1の特徴は、VDDパッドとVDD
ラインの間に接続される第1のヒューズと、第1の入出
力用パッドとプルアップ抵抗の間に接続される第2のヒ
ューズとを備える事により効果的である。ここで、「ヒ
ューズ」とは、オン状態からオフ状態へ一回限りのスイ
ッチングが可能な素子のことである。ただし、素子とし
て存在する領域が他素子や配線と明確に区別できなくて
も、その領域でスイッチングが可能であるならば、その
領域にはヒューズが接続されていると考える。さらに、
スイッチングが行われ、オフ状態になっても、この断線
箇所には断線したヒューズが有ると考える。たとえば、
ある配線の一領域をレーザートリマー装置で除去し配線
を断線させる場合、このレーザートリマー装置で除去可
能な領域あるいは除去後の領域にヒューズがあると考え
る。なお、ここでは一回のスイッチング動作が必要であ
るのでヒューズを用いたが、ヒューズに限らず多数回の
スイッチングが可能なスイッチング素子であっても良
い。このことにより、バーンイン後にヒューズを切断さ
せるだけで半導体装置を通常動作の可能な状態にでき
る。
【0017】本発明の第1の特徴は、第1と第2のヒュ
ーズがすべて切断されている事により効果的である。こ
のことにより、半導体装置の通常動作が可能になる。
【0018】本発明の第1の特徴は、VDDパッドとVDD
ラインの間に接続される第1の不揮発性スイッチング素
子と、第1の入出力用パッドとプルアップ抵抗の間に接
続される第2の不揮発性スイッチング素子とを備える事
により効果的である。ここで、「不揮発性スイッチング
素子」とは、フラッシュメモリ素子やFRAM素子のよ
うにスイッチング後のオンオフの状態を外力によらず維
持できる素子のことである。このことにより、不揮発性
スイッチング素子をオン状態にすればバーンインが上記
のように容易に行え、オフ状態にすれば通常動作が可能
になる。
【0019】本発明の第1の特徴は、VSSパッドと、第
2の入出力用パッドと、この第2の入出力用パッドに接
続するプルダウン抵抗と、VSSパッドとプルダウン抵抗
に接続するVSSラインとを備える事によっても同様の効
果を得られる。ここで、「VSSパッド」とは、半導体装
置の中央部に配置される電子回路を低電位VSSに設定す
る電源を接続するためにこの回路から引き出されている
パッドのことである。「プルダウン抵抗」とは、負荷抵
抗として低電位VSSに接続される抵抗のことである。こ
のことにより、半導体装置上ですでにVSSラインを介し
て複数のVSSパッドが接続されるので、バーンインにお
いては1つのVSSパッドを給電あるいは接地するだけで
他のVSSパッドにも給電あるいは接地が可能である。ま
た、半導体装置上ですでに、VSSラインとプルダウン抵
抗を介してVSSパッドと入出力用パッドが接続されるの
で、バーンインにおいては1つのVSSパッドを給電ある
いは接地するだけで入出力用パッドの電位を昇圧させる
ことが可能である。そして、プローブ針の本数が減ら
せ、負荷抵抗の接続の手間が省けるウェーハバーンイン
が可能になる。VSSパッドとVSSラインの間に接続され
る第3のヒューズと、第2の入出力用パッドとプルダウ
ン抵抗の間に接続される第4のヒューズとを備える事に
よっても上記のVDDラインと同様の効果を得られる。第
3と第4のヒューズがすべて切断されている事によって
も上記のVDDラインと同様の効果を得られる。VSSパッ
ドとVSSラインの間に接続される第3の不揮発性スイッ
チング素子と、第2の入出力用パッドとプルダウン抵抗
の間に接続される第4の不揮発性スイッチング素子とを
備える事によっても上記のVDDラインと同様の効果を得
られる。
【0020】本発明の第1の特徴は、クロックパッド
と、クロックパッドに接続するクロックラインとを備え
る事によっても同様の効果を得られる。ここで、「クロ
ックパッド」とは、半導体装置の中央部に位置する電子
回路回路の動作のタイミングを決めるクロックを接続す
るためにこの回路から引き出されているパッドのことで
ある。このことにより、半導体装置上ですでにクロック
ラインを介して複数のクロックパッドが接続されるの
で、バーンインにおいては1つのクロックパッドにクロ
ック信号を入力するだけで他のクロックパッドにも入力
が可能である。プローブ針の本数が減らせるウェーハバ
ーンインが可能になる。クロックパッドとクロックライ
ンの間に接続される第5のヒューズを備える事によって
も上記のVDDラインと同様の効果を得られる。第5のヒ
ューズがすべて切断されている事によっても上記のVDD
ラインと同様の効果を得られる。クロックパッドとクロ
ックラインの間に接続される第5の不揮発性スイッチン
グ素子を備える事によっても上記のVDDラインと同様の
効果を得られる。
【0021】本発明の第2の特徴は、第1の半導体装置
の上に設けられる第1のVDDパッドと、第1の半導体装
置の上に設けられる第1の入出力用パッドと、第1の入
出力用パッドに接続する第1のプルアップ抵抗と、第1
のVDDパッドと第1のプルアップ抵抗に接続するVDDラ
インとを備える半導体ウェーハであることである。この
ことにより、半導体ウェーハ上ですでにVDDラインを介
して半導体装置毎に複数のVDDパッドが接続されるの
で、バーンインにおいては1つのVDDパッドに給電する
だけで他のVDDパッドにも給電が可能である。また、半
導体装置毎にすでに、VDDラインとプルアップ抵抗を介
してVDDパッドと入出力用パッドが接続されるので、バ
ーンインにおいては1つのVDDパッドに給電するだけで
入出力用パッドの電位を昇圧させることが可能である。
そして、プローブ針の本数が減らせ、負荷抵抗の接続の
手間が省けるウェーハバーンインが可能になる。
【0022】本発明の第2の特徴は、第1のプルアップ
抵抗と、VDDラインとが、スクライブラインの上に備え
られる事により効果的である。ここで、「スクライブラ
イン」とは、半導体ウェーハの上に配置された半導体装
置の間に設けられる格子状の領域のことで、ダイシング
の際に切りしろになる。このことにより、半導体装置の
面積を大きくしなくて良く、ウェーハの上に作れる半導
体装置の数を減らさなくてすむ。
【0023】本発明の第2の特徴は、第2の半導体装置
の上に設けられる第2のVDDパッドと、第2の半導体装
置の上に設けられる第2の入出力用パッドと、第2の入
出力用パッドに接続する第2のプルアップ抵抗とを備
え、第2のVDDパッドと第2のプルアップ抵抗とがVDD
ラインに接続する事により効果的である。このことによ
り、半導体ウェーハ上ですでにVDDラインを介して複数
の半導体装置のVDDパッドが接続されるので、バーンイ
ンにおいては1つのVDDパッドに給電するだけで他の半
導体装置のVDDパッドにも給電が可能である。また、半
導体装置毎にすでに、VDDラインとプルアップ抵抗を介
してVDDパッドと入出力用パッドが接続されるので、バ
ーンインにおいては1つのVDDパッドに給電するだけで
複数の半導体装置の入出力用パッドの電位を昇圧させる
ことが可能である。そして、プローブ針の本数が減ら
せ、負荷抵抗の接続の手間が省けるウェーハバーンイン
が可能になる。そして、第2のプルアップ抵抗が、スク
ライブラインの上に備えられる事により効果的である。
【0024】本発明の第2の特徴は、第1のVDDパッド
とVDDラインの間に接続される第1のヒューズと、第1
の入出力用パッドと第1のプルアップ抵抗の間に接続さ
れる第2のヒューズと、第2のVDDパッドとVDDライン
の間に接続される第3のヒューズと、第2の入出力用パ
ッドと第2のプルアップ抵抗の間に接続される第4のヒ
ューズとを備える事により効果的である。また、本発明
の第2の特徴は、第1乃至4のヒューズがすべて切断さ
れている事により効果的である。このことにより、バー
ンイン後にヒューズを切断させるだけで半導体装置の通
常動作が可能になる。
【0025】本発明の第2の特徴は、第1の半導体装置
の上に設けられる第1のVSSパッドと、第1の半導体装
置の上に設けられる第3の入出力用パッドと、第3の入
出力用パッドに接続する第1のプルダウン抵抗と、第1
のVSSパッドと第1のプルダウン抵抗に接続するVSSラ
インとを備える事によっても上記のVDDラインと同様の
効果を得ることができる。第1のプルダウン抵抗と、V
SSラインとが、スクライブラインの上に備えられる事に
よっても上記のVDDラインと同様の効果を得ることがで
きる。第2の半導体装置の上に設けられる第2のVSSパ
ッドと、第2の半導体装置の上に設けられる第4の入出
力用パッドと、第4の入出力用パッドに接続する第2の
プルダウン抵抗とを備え、第2のVSSパッドと第2のプ
ルダウン抵抗とがVSSラインに接続する事によっても上
記のVDDラインと同様の効果を得ることができる。第2
のプルダウン抵抗が、スクライブラインの上に備えられ
る事によっても上記のVDDラインと同様の効果を得るこ
とができる。第1のVSSパッドとVSSラインの間に接続
される第5のヒューズと、第3の入出力用パッドと第1
のプルダウン抵抗の間に接続される第6のヒューズと、
第2のVSSパッドとVSSラインの間に接続される第7の
ヒューズと、第4の入出力用パッドと第2のプルダウン
抵抗の間に接続される第8のヒューズとを備える事によ
っても上記のVDDラインと同様の効果を得ることができ
る。第5乃至8のヒューズがすべて切断されている事に
よっても上記のVDDラインと同様の効果を得ることがで
きる。
【0026】本発明の第2の特徴は、第1の半導体装置
の上に設けられる第1のクロックパッドと、第2の半導
体装置の上に設けられる第2のクロックパッドと、スク
ライブラインの上に備えられ、第1のクロックパッドと
第2のクロックパッドに接続するクロックラインとを備
える事によっても同様の効果を得ることができる。
【0027】このことにより、半導体ウェーハ上ですで
にクロックラインを介して複数の半導体装置のクロック
パッドが接続されるので、バーンインにおいては1つの
クロックパッドにクロック信号を入力するだけで他の半
導体装置のクロックパッドにも入力が可能である。そし
て、プローブ針の本数が減らせるウェーハバーンインが
可能になる。第1のクロックパッドとクロックラインの
間に接続される第9のヒューズと、第2のクロックパッ
ドとクロックラインの間に接続される第10のヒューズ
とを備える事によっても上記のVDDラインと同様の効果
を得ることができる。第9と10のヒューズがすべて切
断されている事によっても上記のVDDラインと同様の効
果を得ることができる。
【0028】本発明の第3の特徴は、VDDパッドと、第
1の入出力用パッドと、この第1の入出力用パッドに接
続するプルアップ抵抗と、VDDパッドとプルアップ抵抗
に接続するVDDラインとを半導体ウェーハの上に形成す
る工程と、この半導体ウェーハのバーンインを行う工程
と、VDDパッドとVDDラインの接続を切断しプルアップ
抵抗とVDDラインの接続を切断する工程と、半導体ウェ
ーハのダイソートを行う工程とを有する半導体装置の製
造方法であることである。このことにより、半導体ウェ
ーハ上ですでにVDDラインを介して複数のVDDパッドが
接続されるので、バーンインにおいては1つのVDDパッ
ドに給電するだけで他のVDDパッドにも給電が可能であ
る。また、半導体ウェーハ上ですでに、VDDラインとプ
ルアップ抵抗を介してVDDパッドと入出力用パッドが接
続されるので、バーンインにおいては1つのVDDパッド
に給電するだけで入出力用パッドの電位を昇圧させるこ
とが可能である。そして、プローブ針の本数が減らせ、
負荷抵抗の接続の手間が省けるウェーハバーンインが可
能になる。バーンインの後に切断する工程を行うこと
で、半導体装置が通常動作の可能な状態になるので半導
体ウェーハのダイソートが行える。
【0029】本発明の第3の特徴は、VSSパッドと、第
2の入出力用パッドと、この第2の入出力用パッドに接
続するプルダウン抵抗と、VSSパッドとプルダウン抵抗
に接続するVSSラインとを、半導体ウェーハの上に形成
する工程と、この半導体ウェーハのバーンインを行う工
程と、VSSパッドとVSSラインの接続を切断しプルダウ
ン抵抗とVSSラインの接続を切断する工程と、半導体ウ
ェーハのダイソートを行う工程とを有する事によっても
同様の効果を得ることができる。このことにより、上記
VDDラインと同様の効果を得ることができる。
【0030】本発明の第3の特徴は、クロックパッド
と、このクロックパッドに接続するクロックラインと
を、半導体ウェーハの上に形成する工程と、この半導体
ウェーハのバーンインを行う工程と、クロックパッドと
クロックラインの接続を切断する工程と、半導体ウェー
ハのダイソートを行う工程とを有する事によっても同様
の効果を得ることができる。このことにより、上記VDD
ラインと同様の効果を得ることができる。
【0031】
【発明の実施の形態】次に、図面を参照して、本発明の
実施の形態として半導体ウェーハ、半導体装置と半導体
装置の製造方法を説明する。以下の図面の記載におい
て、同一又は類似の部分には同一又は類似の符号を付し
ている。また、図面は模式的なものであり、厚みと平面
寸法との関係、各層の厚みの比率等は現実のものとは異
なることに留意すべきである。
【0032】(第1の実施の形態)図1は、第1の実施
の形態に係る半導体ウェーハの上に形成される半導体装
置のパッドの近傍の上面図である。図2は、第1の実施
の形態に係る半導体ウェーハの上に形成される複数の半
導体装置の上面図である。図1は図2の一部の拡大図で
ある。第1の実施の形態に係る半導体ウェーハは、格子
状に配置された半導体装置1と、半導体装置1の間に設
けられるスクライブライン2を有する。半導体装置1
が、ワンチップマイコン等のテストROMを内蔵する半
導体装置とする。半導体装置1は、中央部に図示は省略
した電子回路と、この電子回路を高電位VDDに設定する
電源を接続するためにこの回路から引き出されているV
DDパッド3と、同様に低電位VSSに設定するためのVSS
パッド4と、この回路の動作のタイミングを決めるクロ
ックを接続するためにこの回路から引き出されているク
ロックパッド5と、この回路の入出力信号を外部回路に
出入力させるためにこの回路から引き出されている入出
力用パッド6と7とを備えている。さらに、半導体装置
1は、配線であるVDDライン11を備えており、VDDパ
ッド3は切断可能なヒューズ8を介してVDDライン11
に接続され、入出力用パッド6は切断可能なヒューズ8
とプルアップ抵抗9を介してVDDライン11に接続され
ている。特に図2のように、複数のVDDパッド3と複数
の入出力用パッド6がVDDライン11に接続されていて
もよく、VDDライン11を輪の形状につなげてもよい。
なお、図2ではヒューズ8とプルアップ抵抗9とプルダ
ウン抵抗10の図示を省略している。半導体装置1は、
配線であるVSSライン12を備えており、VSSパッド4
は切断可能なヒューズ8を介してVSSライン12に接続
され、入出力用パッド7は切断可能なヒューズ8とプル
ダウン抵抗10を介してVSSライン12に接続されてい
る。半導体装置1は、配線であるクロックライン13を
備えており、クロックパッド5は切断可能なヒューズ8
を介してクロックライン13に接続されている。
【0033】図3と図4は、バーンインのためにプロー
ブ針をパッドに接触させた図である。図3に示すよう
に、バーンインに際し、プローブ針14は、VDDパッド
3と、VSSパッド4と、クロックパッド5の3つのパッ
ドに接触させればよく、入出力用パッド6と7に接触さ
せる必要はない。入出力用パッド6がプルアップ抵抗9
とVDDライン11を介してVDDパッド3に接続している
ので、プルアップ抵抗9が負荷抵抗として機能するから
である。入出力用パッド7もプルダウン抵抗10とVSS
ライン12を介してVSSパッド4に接続しているので、
プルダウン抵抗10が負荷抵抗として機能するからであ
る。また、図4に示すように、半導体装置1が複数のV
DDパッド3と、VSSパッド4と、クロックパッド5を有
していてもそれらのなかの1つずつにプローブ針14を
接触させれば良い。これは、半導体装置1の中で、複数
のVDDパッド3はVDDライン11を介して接続している
ので、1つのVDDパッド3にプローブ針14を通してV
DDを印加すれば、残りのVDDパッド3の電位もVDDにす
ることができるからである。同様のことがVSSパッド4
とクロックパッド5にもいえるので、結局、半導体装置
1当たりVDDパッド3用と、VSSパッド4用と、クロッ
クパッド5用の3本のプローブ針14でバーンインが可
能になる。また、半導体装置1内でプルアップ抵抗9と
プルダウン抵抗10が、入出力用パッド6と7と、VDD
ライン11とVSSライン12とに接続されているので、
バーンインに際しプルアップ抵抗とプルダウン抵抗を半
導体装置1の外で接続させる必要がない。なお、バーン
インの判定についてはVDDパッド3に接続されるプロー
ブ14を流れる電流をモニターして所定値より大きくな
れば半導体装置1が不良であると判定する。不良判定さ
れた半導体装置1にVDDパッド3から電圧を印加し続け
ると過電流が流れ熱暴走し、周辺の半導体装置1も破壊
してしまう場合があるので、不良判定後は電圧の印加を
停止する。
【0034】図5と図6は、ヒューズ8をすべて切断
し、VDDパッド3、VSSパッド4、クロックパッド5と
入出力用パッド6と7から、VDDライン11、VSSライ
ン12、クロックライン13、プルアップ抵抗9とプル
ダウン抵抗10を切り離した図である。ヒューズ8をす
べて切断することによって、半導体装置1が本来の使用
目的で動作できるようになる。
【0035】ヒューズ8の切断にはレーザートリマー装
置を用いてレーザー光を照射し溶断する。ヒューズ8の
構造としては、切断部のヒューズ材が大気中に蒸発しや
すいように、ヒューズ8の上のパッシベーション膜は薄
くした方がよいが、他の点は別段ヒューズ8前後の配線
と変える必要はない。
【0036】また、ヒューズ8の切断には、ヒューズ8
に過電流を流し発熱させて溶断してもよい。過電流はで
きるだけ半導体装置1内部の電子回路には流したくない
ので、VDDパッド3、VSSパッド4、クロックパッド5
と入出力用パッド6と7にプローブ針を立て、VDDライ
ン11、VSSライン12とクロックライン13側にもプ
ローブ針を立て、プローブ針間に過電流を流せばよい。
ライン11、12、13側にプローブ針を立てるために
は、ライン11、12、13にヒューズ8を介すること
無く直結するパッドをそれぞれに設けておく。ヒューズ
8の構造としては、上記と同様にヒューズ8の上のパッ
シベーション膜は薄くした方がよく、さらに、他の配線
部より発熱しやすいように電気抵抗を大きくしておいた
ほうがよい。抵抗を大きくするには幅をヒューズ8の前
後に位置する配線より細くすれば良い。
【0037】なお、ヒューズ8のかわりに不揮発性のス
イッチング素子を配してもよい。不揮発性のスイッチン
グ素子の制御電極同士を接続しておけば、1の制御信号
ですべてのスイッチング素子をオフすることが可能であ
る。
【0038】図7と図8は、ダイソートのためにプロー
ブ針をパッドに接触させた図である。図7に示すよう
に、ダイソートにおいては、プローブ針14を半導体装
置1のすべてのパッド3、4、5、6、7に接触させ
る。ヒューズ8がすべて切断されているので、パッド
3、4、5、6、7毎に任意に電位を設定したり、電位
を測定することができる。図8に示すように、ダイソー
トにおいては、半導体装置1を1つずつ内部の回路が目
的通りに動作するか判定して、動作不良の半導体装置1
にマーキングをする。
【0039】図9は、レーザー光による溶断後の本発明
の第1の実施の形態に係る半導体装置1のパッドの近傍
の上面図である。半導体装置1では、動作時に使用され
ないVDDライン11、VSSライン12、クロックライン
13、プルアップ抵抗9とプルダウン抵抗10を有する
ことになる。
【0040】(第2の実施の形態)図10は、第2の実
施の形態に係る半導体ウェーハの上に形成される半導体
装置のパッドの近傍の上面図である。図11は、第2の
実施の形態に係る半導体ウェーハの上に形成される複数
の半導体装置の上面図である。図10は図11の一部の
拡大図である。第2の実施の形態に係る半導体ウェーハ
は、格子状に配置された半導体装置1と、半導体装置1
の間に設けられるスクライブライン2を有する。半導体
装置1が、ワンチップマイコン等のテストROMを内蔵
する半導体装置とする。半導体装置1は、中央部に図示
は省略した電子回路と、この電子回路から引き出されて
いるVDDパッド3、VSSパッド4、クロックパッド5、
入出力用パッド6、7とを備えている。一方、スクライ
ブライン2は、配線であるVDDライン11を備えてお
り、VDDライン11は、切断可能なヒューズ8を介して
VDDパッド3に接続される。また、VDDライン11は、
切断可能なヒューズ8とプルアップ抵抗9を介して入出
力用パッド6に接続されている。特に図11のように、
VDDライン11が複数のVDDパッド3と複数の入出力用
パッド6に接続されていてもよく、VDDライン11が輪
の形状であってもよい。なお、図11ではヒューズ8と
プルアップ抵抗9とプルダウン抵抗10の図示を省略し
ている。スクライブライン2は、配線であるVSSライン
12を備えており、VSSライン12は切断可能なヒュー
ズ8を介してVSSパッド4に接続され、切断可能なヒュ
ーズ8とプルダウン抵抗10を介して入出力用パッド7
に接続されている。スクライブライン2は、配線である
クロックライン13を備えており、切断可能なヒューズ
8を介してクロックパッド5に接続されている。
【0041】第2の実施の形態に係る半導体ウェーハ
と、第1の実施の形態に係る半導体ウェーハとは、VDD
ライン11、VSSライン12、クロックライン13、ヒ
ューズ8、プルアップ抵抗9とプルダウン抵抗10の配
置される場所が、スクライブライン2の上か半導体装置
1の上かの違いがあるだけで、VDDライン11、VSSラ
イン12、クロックライン13、ヒューズ8、プルアッ
プ抵抗9とプルダウン抵抗10の接続の前後関係は同じ
である。したがって、第2の実施の形態においても第1
の実施の形態と同様に、バーンインのためのパッド3、
4、5への針当てや、すべてのヒューズ8の切断や、ダ
イソートのためのすべてのパッドへの針当てを行うこと
ができる。
【0042】図12は、ダイシング後の本発明の第2の
実施の形態に係る半導体装置1のパッドの近傍の上面図
である。半導体装置1は、動作時に使用されないVDDラ
イン11、VSSライン12、クロックライン13、プル
アップ抵抗9とプルダウン抵抗10を有しないことにな
る。ただ、半導体装置1にこれらが接続されていたこと
を示す痕跡としてパッド3、4、5、6、7から半導体
装置1の端面に延びる導線17が観察される。
【0043】(第3の実施の形態)図13と図14は、
第3の実施の形態に係る半導体ウェーハの上に形成され
る複数の半導体装置のパッドの近傍の上面図である。図
13は図14の一部の拡大図である。第3の実施の形態
に係る半導体ウェーハは、格子状に配置された半導体装
置1、101、102と、半導体装置1、101、10
2の間に設けられるスクライブライン2を有する。
【0044】半導体装置1、101、102は、ワンチ
ップマイコン等のテストROMを内蔵する半導体装置と
する。図13より半導体装置1、101、102は、中
央部に図示は省略した電子回路と、この電子回路から引
き出されているVDDパッド31、32、VSSパッド4
1、42、クロックパッド51、52、入出力用パッド
61、62、66、67、71、72とを備えている。
【0045】一方、スクライブライン2は、配線である
VDDライン111と112を備えている。VDDライン1
11は、半導体装置101のVDDパッド31に接続され
る。また、VDDライン111は、プルアップ抵抗91、
93を介して入出力用パッド61、66に接続されてい
る。特に図14のように、VDDライン111が複数のV
DDパッド31、33、34、35と複数の入出力用パッ
ド61、63、64、65に接続されていてもよく、V
DDライン111が輪の形状であってもよい。なお、図1
3ではすべてのパッドに接続するヒューズの図示を省略
している。図14ではすべてのパッドに接続するヒュー
ズと、入出力用パッド61、62、63、64、65に
接続するプルアップ抵抗と、入出力用パッド71、7
2、73、74、75に接続するプルダウン抵抗の図示
を省略している。VDDライン112は、半導体装置10
2のVDDパッド32に接続される。また、VDDライン1
12は、プルアップ抵抗92、94を介して入出力用パ
ッド62、67に接続されている。
【0046】スクライブライン2は、配線であるVSSラ
イン12を備えている。VSSライン12は、半導体装置
101のVSSパッド41と、プルダウン抵抗103を介
して入出力用パッド71に接続されている。また、VSS
ライン12は、半導体装置102のVSSパッド42と、
プルダウン抵抗104を介して入出力用パッド72に接
続されている。さらに、図14のように、VSSライン1
2がVSSライン121、124と接続し、これらVSSラ
イン121、124がVSSライン123と接続した梯子
の形状であってもよい。このことにより、半導体装置1
01の複数のVSSパッド41、43、44、45と複数
の入出力用パッド71、73、74、75を接続するこ
とができる。半導体装置102に関してもVSSライン1
2、122、123等によって複数のVSSパッドと入出
力用パッドを接続することができる。なお、VSSライン
121と122は1本に統合が可能である。
【0047】スクライブライン2は、配線であるクロッ
クライン13を備えており、半導体装置101のクロッ
クパッド51と半導体装置102のクロックパッド52
に接続されている。さらに、図14のように、クロック
ライン13がクロックライン131、134と接続し、
これらクロックライン131、134がクロックライン
133と接続した梯子の形状であってもよい。このこと
により、半導体装置101の複数のクロックパッド5
1、53、54、55を接続することができる。半導体
装置102に関してもクロックライン13、132、1
33等によって複数のクロックパッドを接続することが
できる。なお、クロックライン131と132は1本に
統合が可能である。
【0048】図15と図16は、バーンインのためにプ
ローブ針をパッドに接触させた図である。図15に示す
ように、バーンインに際し、プローブ針141、14
2、143、144は、半導体装置101のVDDパッド
31、VSSパッド41、クロックパッド51と半導体装
置102のVDDパッド32の4つのパッドに接触させれ
ばよく、半導体装置102のVSSパッド42、クロック
パッド52と半導体装置101と102の入出力用パッ
ド61、62、66、67、71、72に接触させる必
要はない。これは、入出力用パッド61、66がプルア
ップ抵抗91、93とVDDライン111を介してVDDパ
ッド31に接続しているからである。そして、入出力用
パッド62、67がプルアップ抵抗92、94とVDDラ
イン112を介してVDDパッド32に接続しているから
である。VSSパッド42もVSSライン12を介してVSS
パッド41に接続し、入出力用パッド71と72もプル
ダウン抵抗103と104とVSSライン12を介してV
SSパッド41に接続しているからである。クロックパッ
ド52もクロックライン13を介してクロックパッド5
1に接続しているからである。
【0049】また、図16に示すように、行方向に並ん
だ半導体装置101、102等に対して半導体装置10
1のVDDパッド31、VSSパッド41、クロックパッド
51にプローブ針141、142、143を接触させれ
ば、行方向に並んだ残りの半導体装置102等は、VDD
パッド32等にプローブ針144を接触させればよい。
すなわち、大半の半導体装置については半導体装置当た
りVDDパッド32用の1本のプローブ針でバーンインが
可能になる。なお、バーンインの判定については、VDD
パッド31、32、36、37に接続される各々のプロ
ーブ141、144、141、144を流れる電流をモ
ニターして所定値より大きくなれば該当する半導体装置
101、102、103、104が不良であると判定す
る。第3の実施の形態においても第1の実施の形態と同
様に、バーンインの後に、すべてのヒューズ(図示省
略)の切断や、ダイソートのための半導体装置毎のすべ
てのパッドへの針当てを行う。
【0050】(第4の実施の形態)図17と図18は、
第4の実施の形態に係る半導体ウェーハの上に形成され
る複数の半導体装置のパッドの近傍の上面図である。図
17は図18の一部の拡大図である。第4の実施の形態
に係る半導体ウェーハは、格子状に配置された半導体装
置1、101、102と、半導体装置1、101、10
2の間に設けられるスクライブライン2を有する。
【0051】半導体装置1、101、102は、ワンチ
ップマイコン等のテストROMを内蔵する半導体装置と
する。半導体装置1、101、102は、中央部に図示
は省略した電子回路と、この電子回路から引き出されて
いるVDDパッド31、32、VSSパッド41、42、ク
ロックパッド51、52、入出力用パッド61、62、
66、67、71、72とを備えている。
【0052】一方、スクライブライン2は、配線である
VDDライン11、114と112を備えている。VDDラ
イン11は、半導体装置101のVDDパッド31と半導
体装置102のVDDパッド32とに接続される。また、
VDDライン11は、プルアップ抵抗91、92を介して
入出力用パッド61、62に接続されている。VDDライ
ン11は、VDDライン114、112とプルアップ抵抗
93、94を介して入出力用パッド66、67に接続さ
れている。特に図18のように、VDDライン11がVDD
ライン111、114と接続し、これらVDDライン11
1、114がVDDライン113と接続した梯子の形状で
あってもよい。このことにより、半導体装置101の複
数のVDDパッド31、33、34、35と複数の入出力
用パッド61、63、64、65を接続することができ
る。半導体装置102に関してもVDDライン11、11
3等によって複数のVDDパッド32と入出力用パッド6
2を接続することができる。なお、図17ではすべての
パッドに接続するヒューズの図示を省略している。図1
8ではすべてのパッドに接続するヒューズと、入出力用
パッド61、62、63、64、65に接続するプルア
ップ抵抗と、入出力用パッド71、72、73、74、
75に接続するプルダウン抵抗の図示を省略している。
【0053】また、スクライブライン2は、配線である
VSSライン12とクロックライン13を備えている。V
SSライン12とクロックライン13は第3の実施の形態
と同様に接続されている。
【0054】図19と図20は、バーンインのためにプ
ローブ針をパッドに接触させた図である。図19に示す
ように、バーンインに際し、プローブ針14は、半導体
装置101のVDDパッド31、VSSパッド41、クロッ
クパッド51の3つのパッドに接触させればよく、半導
体装置102のVDDパッド32、VSSパッド42、クロ
ックパッド52と半導体装置101と102の入出力用
パッド61、62、66、67、71、72に接触させ
る必要はない。これは、入出力用パッド61、62がプ
ルアップ抵抗91、92とVDDライン11を介してVDD
パッド31に接続しているからである。そして、入出力
用パッド66、67もプルアップ抵抗93、94とVDD
ライン114、112、11を介してVDDパッド31に
接続しているからである。VSSパッド42もVSSライン
12を介してVSSパッド41に接続し、入出力用パッド
71と72もプルダウン抵抗103と104とVSSライ
ン12を介してVSSパッド41に接続しているからであ
る。クロックパッド52もクロックライン13を介して
クロックパッド51に接続しているからである。
【0055】また、図20に示すように、行方向に並ん
だ半導体装置101、102等に対して半導体装置10
1のVDDパッド31、VSSパッド41、クロックパッド
51にプローブ針14を接触させれば、行方向に並んだ
残りの半導体装置102等にはプローブ針を接触させる
必要はない。ただし、1つのVDDパッド31を通して複
数の半導体装置1へ電流が流れるので、VDDライン11
等での電流密度が大きくなりすぎないようにラインの断
面積等を大きくするする必要がある。なお、バーンイン
の判定については、VDDパッド31に接続される各々の
プローブ14を流れる電流をモニターして所定値より大
きくなれば該当する半導体装置101と102の行にあ
る半導体装置のどれかに不良があると判定する。VDDパ
ッド32では半導体装置103と104の行にある半導
体装置に不良が発生したか否かが判定できる。第4の実
施の形態においても第1の実施の形態と同様に、バーン
インの後に、すべてのヒューズ(図示省略)の切断や、
ダイソートのための半導体装置1毎のすべてのパッドへ
の針当てを行う。
【0056】上記のように、本発明は4つの実施の形態
によって記載したが、この開示の一部をなす論述及び図
面はこの発明を限定するものであると理解すべきではな
い。この開示から当業者には様々な代替実施の形態、実
施例及び運用技術が明らかとなろう。したがって、本発
明の技術的範囲は上記の説明から妥当な特許請求の範囲
に係る発明特定事項によってのみ定められるものであ
る。
【0057】
【発明の効果】以上説明したように、本発明によれば、
ウェーハバーンインにおいてプローブ針の本数を減ら
せ、負荷抵抗の接続の手間を省ける半導体装置を提供で
きる。
【0058】また、本発明によれば、ウェーハバーンイ
ンにおいてプローブ針の本数を減らせ、負荷抵抗の接続
の手間を省ける半導体ウェーハを提供できる。
【0059】最後に、本発明によれば、ウェーハバーン
インにおいてプローブ針の本数を減らせ、負荷抵抗の接
続の手間を省ける半導体装置の製造方法を提供できる。
【図面の簡単な説明】
【図1】第1の実施の形態に係る半導体ウェーハと半導
体装置の上面図(その1)である。
【図2】第1の実施の形態に係る半導体ウェーハと半導
体装置の上面図(その2)である。
【図3】第1の実施の形態に係る半導体ウェーハにバー
ンインのためプローブ針を接触させた状態の図(その
1)である。
【図4】第1の実施の形態に係る半導体ウェーハにバー
ンインのためプローブ針を接触させた状態の図(その
2)である。
【図5】第1の実施の形態に係る半導体ウェーハのヒュ
ーズを切断した状態の図(その1)である。
【図6】第1の実施の形態に係る半導体ウェーハのヒュ
ーズを切断した状態の図(その2)である。
【図7】第1の実施の形態に係る半導体ウェーハにダイ
ソートのためプローブ針をパッドに接触させた状態の図
(その1)である。
【図8】第1の実施の形態に係る半導体ウェーハにダイ
ソートのためプローブ針をパッドに接触させた状態の図
(その2)である。
【図9】ダイシング後の第1の実施の形態に係る半導体
装置の上面図である。
【図10】第2の実施の形態に係る半導体ウェーハと半
導体装置の上面図(その1)である。
【図11】第2の実施の形態に係る半導体ウェーハと半
導体装置の上面図(その2)である。
【図12】ダイシング後の第2の実施の形態に係る半導
体装置の上面図である。
【図13】第3の実施の形態に係る半導体ウェーハと半
導体装置の上面図(その1)である。
【図14】第3の実施の形態に係る半導体ウェーハと半
導体装置の上面図(その2)である。
【図15】第3の実施の形態に係る半導体ウェーハにバ
ーンインのためプローブ針を接触させた状態の図(その
1)である。
【図16】第3の実施の形態に係る半導体ウェーハにバ
ーンインのためプローブ針を接触させた状態の図(その
2)である。
【図17】第4の実施の形態に係る半導体ウェーハと半
導体装置の上面図(その1)である。
【図18】第4の実施の形態に係る半導体ウェーハと半
導体装置の上面図(その2)である。
【図19】第4の実施の形態に係る半導体ウェーハにバ
ーンインのためプローブ針を接触させた状態の図(その
1)である。
【図20】第4の実施の形態に係る半導体ウェーハにバ
ーンインのためプローブ針を接触させた状態の図(その
2)である。
【符号の説明】
1、101、102、103、104 半導体装置 2 スクライブライン 3、31、32、33、34、35、36、37 VDD
パッド 4、41、42、43、44、45、46 VSS パッ
ド 5、51、52、53、54、55、56 クロックパ
ッド 6、7、61、62、63、64、65、66、67、
71、72 入出力用パッド 8 ヒューズ 9、91、92、93、94 プルアップ抵抗 10、103、104 プルダウン抵抗 11、111、112、114 VDDライン 12、121、122、123、124 VSSライン 13、131、132、133、134 クロックライ
ン 14、141、142、143、144 プローブ 15 バーンインボード 16 プローブカード 17 導線

Claims (9)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 電源パッドと、 第1の入/出力用パッドと、 前記第1の入/出力用パッドに接続する抵抗と、 前記電源パッドと前記抵抗に接続する電源ラインとを備
    える事を特徴とする半導体装置。
  2. 【請求項2】 前記電源パッドと前記電源ラインの間に
    接続される第1のスイッチと、 前記第1の入/出力用パッドと前記抵抗の間に接続され
    る第2のスイッチとを備える事を特徴とする請求項1記
    載の半導体装置。
  3. 【請求項3】 前記第1及び第2のスイッチはヒューズ
    で構成され、このヒューズがすべて切断されている事を
    特徴とする請求項2記載の半導体装置。
  4. 【請求項4】 第1の半導体装置の上に設けられる第1
    の電源パッドと、 前記第1の半導体装置の上に設けられる第1の入/出力
    用パッドと、 前記第1の入/出力用パッドに接続する第1の抵抗と、 前記第1の電源パッドと前記第1の抵抗に接続する電源
    ラインとを備える事を特徴とする半導体ウェーハ。
  5. 【請求項5】 前記第1の抵抗と、前記電源ラインと
    が、スクライブラインの上に備えられる事を特徴とする
    請求項4記載の半導体ウェーハ。
  6. 【請求項6】 第2の半導体装置の上に設けられる第2
    の電源パッドと、 前記第2の半導体装置の上に設けられる第2の入/出力
    用パッドと、 前記第2の入/出力用パッドに接続する第2の抵抗とを
    備え、 前記第2の電源パッドと前記第2の抵抗とが前記電源ラ
    インに接続する事を特徴とする請求項4又は請求項5記
    載の半導体ウェーハ。
  7. 【請求項7】 前記第2の抵抗が、スクライブラインの
    上に備えられる事を特徴とする請求項4乃至6のいずれ
    か1つに記載の半導体ウェーハ。
  8. 【請求項8】 前記第1の電源パッドと前記電源ライン
    の間に接続される第1のヒューズと、 前記第1の入/出力用パッドと前記第1の抵抗の間に接
    続される第2のヒューズと、 前記第2の電源パッドと前記電源ラインの間に接続され
    る第3のヒューズと、 前記第2の入/出力用パッドと前記第2の抵抗の間に接
    続される第4のヒューズとを備える事を特徴とする請求
    項6記載の半導体ウェーハ。
  9. 【請求項9】 電源パッドと、入/出力用パッドと、前
    記入/出力用パッドに接続する抵抗と、前記電源パッド
    と前記抵抗に接続する電源ラインとを、半導体ウェーハ
    の上に形成する工程と、 前記半導体ウェーハのバーンインを行う工程と、 前記電源パッドと前記電源ラインの接続を切断し、前記
    抵抗と前記電源ラインの接続を切断する工程と、 前記半導体ウェーハのダイソートを行う工程とを有する
    事を特徴とする半導体装置の製造方法。
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