JP2001091870A - 画像形成装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 複数のマルチビーム走査光学系を用いる画像
形成装置において、特別な装置を用いなくても、感光体
上での各レーザビームによる副走査方向の各走査ピッチ
を各々均一となるように調整可能にする。 【解決手段】 作業者の指示に応じてステッピングモー
タ３８，４８により２ＬＤユニット１１，２１を独立し
て回転させ、それらからそれぞれ射出される各２本のレ
ーザビームによる感光体上での副走査方向の各走査ピッ
チを調整する。また、同期検知センサによる２ＬＤユニ
ット１１の各ＬＤ３１，３２に対する各走査位置検出エ
ッジの時間間隔と２ＬＤユニット２１の各ＬＤ４１，４
２に対する各走査位置検出エッジの時間間隔を独立して
計測し、その各計測結果が同一となるようにステッピン
グモータ３８，４８により２ＬＤユニット１１，２１を
独立して回転させ、上記各走査ピッチを自動的に調整す
る。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】この発明は、複数のマルチビ
ームを用いて感光体上に画像の書き込みを行なう（静電
気的な画像である静電潜像を形成させる）レーザプリン
タ，デジタル複写機，ファクシミリ装置，印刷機等の画
像形成装置に関する。

【０００２】

【従来の技術】従来、レーザプリンタやデジタル複写機
等の画像形成装置では、シングルビーム走査光学系から
のレーザビームによって感光体上（予め帯電された面）
を走査して静電潜像を形成し、その静電潜像をトナーに
より現像してトナー画像を形成した後、それを用紙等の
記録媒体上に形成（転写・定着）する一連の電子写真プ
ロセスを実行する。

【０００３】ここで、従来のシングルビーム走査光学系
についてもう少し詳しく説明すると、単一のレーザ発光
素子（半導体レーザ）から射出されるレーザビームをポ
リゴンモータによって回転されるポリゴンミラー（回転
多面鏡）を用いて周期的に偏向させ、感光体の表面（感
光体上）を主走査方向（感光体の軸方向）に走査して静
電潜像を形成する。

【０００４】このとき、感光体は回動しており、その表
面（感光体上）が回動方向である副走査方向に移動して
いるため、レーザビームによる走査が副走査方向にも行
なわれることになる。このようなシングルビーム走査光
学系を備えた画像形成装置において、感光体上へのレー
ザビームによる主走査方向の走査速度はポリゴンモータ
の回転速度がパラメータとなっており、走査速度の限界
はポリゴンモータの回転速度の限界によって制限されて
いる。

【０００５】近年、主走査方向の走査速度の限界から、
複数の各レーザ発光素子からそれぞれ射出される各レー
ザビーム（マルチビーム）をポリゴンミラーを用いて周
期的に偏向させ、感光体上を主走査方向に同時に並行走
査することにより、走査速度を１／（レーザ発光素子
数）で制御して感光体上に静電潜像を形成させる、マル
チビーム走査光学系が提案され、特に２本のレーザビー
ムを用いた２ビーム走査光学系については実現されてき
ている。

【０００６】しかし、いまだ３ビーム以上のマルチビー
ム走査光学系は実現されておらず、３ビーム以上のレー
ザビームによって感光体上を安定して平行走査するレン
ズ光学系の開発が必要になる。

【０００７】一方、例えばデジタル複写機においては、
従来のアナログ複写機の高速機と同等の複写速度（印刷
速度）が要求されてきている。デジタル複写機やレーザ
プリンタ等の画像形成装置の印刷速度を高速にするため
には、２ビーム，３ビームと、感光体上を同時に並行走
査するレーザビームの本数を単純に増加させるとよい
が、上述したように３ビーム以上のマルチビーム走査光
学系はいまだ実用化されていない。

【０００８】２ビーム以上のレーザビームによって感光
体上を同時に平行走査する場合、感光体上での各レーザ
ビームによる副走査方向の走査間隔（走査ピッチ）を光
学的な絞りを用いて、十分近接させなければならない。
現在、複数のＬＤ（半導体レーザ）を近接させて製造す
る技術の開発が進んでいるが、３個以上のＬＤからなる
ＬＤアレイは現在のところ、実用に至っているものは少
なく、また製法上非常に困難であり、コスト的に高くな
る。

【０００９】そこで、現在すでに実用に至っている２ビ
ーム走査光学系を複数個用いることにより、デジタル複
写機やレーザプリンタ等の画像形成装置の印刷速度をよ
り高速にすることが可能になる。また、今後３ビーム以
上のマルチビーム走査光学系が実用化されれば、そのマ
ルチビーム走査光学系を複数個用いることにより、さら
に高速な印刷速度が実現可能となる。

【００１０】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、複数の
マルチビーム走査光学系を用いる場合、感光体上での各
レーザビームによる副走査方向の走査ピッチが各々均一
になるように調整する必要があるが、その調整作業が非
常に面倒である。つまり、画像形成装置の組立工程時
に、その作業者が実際の形成画像や感光体上での各レー
ザビームによる副走査方向の走査ピッチを特別な装置を
用いてマルチビーム走査光学系の個数分測定し、その測
定結果に基づいてその走査ピッチが各々均一になるよう
に調整する必要がある。

【００１１】この発明は上記の点に鑑みてなされたもの
であり、複数のマルチビーム走査光学系を用いる画像形
成装置において、特別な装置を用いなくても、感光体上
での各レーザビームによる副走査方向の各走査ピッチを
各々均一となるように調整可能にすることにより、高画
質の画像を得られるようにすることを目的とする。ま
た、入力される画像情報の画素密度によらず高画質の画
像を得られるようにすることも目的とする。

【００１２】

【課題を解決するための手段】この発明は、複数のレー
ザ発光素子からなるレーザ光源を有し、そのレーザ光源
から射出される複数のレーザビームをポリゴンミラーを
用いて周期的に偏向させ、副走査方向に移動される感光
体上を主走査方向に同時に並行走査して静電潜像を形成
させるマルチビーム走査手段を複数備えた画像形成装置
において、上記の目的を達成するため、次のようにした
ことを特徴とする。

【００１３】請求項１の発明は、画像情報に応じて各マ
ルチビーム走査手段の各レーザ光源内の複数のレーザ発
光素子をそれぞれ独立して変調制御して発光させるレー
ザ変調手段と、該手段によって各マルチビーム走査手段
の各レーザ光源からそれぞれ射出される各複数のレーザ
ビームによる感光体上での副走査方向の各走査ピッチを
それぞれ独立して調整するビーム走査ピッチ調整手段と
を設けたものである。

【００１４】請求項２の発明は、請求項１の画像形成装
置において、各マルチビーム走査手段の各レーザ光源を
それぞれ、複数のレーザ発光素子が１直線上に並ぶよう
に配置し、各マルチビーム走査手段の各レーザ光源をそ
れぞれ、複数のレーザ発光素子の各発光点を通る直線上
のいずれかの点を中心にレーザビームの射出方向に対し
て垂直方向に独立に回転させる複数の回転手段を設け、
ビーム走査ピッチ調整手段を、各回転手段を用いること
により、各マルチビーム走査手段の各レーザ光源からそ
れぞれ射出される各複数のレーザビームによる感光体上
での副走査方向の各走査ピッチをそれぞれ独立して調整
する手段としたものである。

【００１５】請求項３の発明は、請求項２の画像形成装
置において、各回転手段をそれぞれ、ステッピングモー
タ又はサーボモータ等の微小回転角度を電気的に制御可
能な手段としたものである。

【００１６】請求項４の発明は、請求項２又は３の画像
形成装置において、通常の画素密度と異なる画素密度の
画像情報が入力されたとき、ビーム走査ピッチ調整手段
が、各回転手段を用いることにより、各マルチビーム走
査手段の各レーザ光源からそれぞれ射出される各複数の
レーザビームによる感光体上での副走査方向の各走査ピ
ッチをそれぞれ入力された画像情報の画素密度に応じた
最適な走査ピッチとなるように自動的に調整するように
したものである。

【００１７】請求項５の発明は、請求項２又は３の画像
形成装置において、各マルチビーム走査手段の各レーザ
光源からそれぞれ射出され、ポリゴンミラーによって主
走査方向に走査される各複数のレーザビームをそれぞれ
感光体上に到達する前に検知することにより、その各複
数のレーザビームの走査位置を検出する同期検知手段
と、該手段による各マルチビーム走査手段の各レーザ光
源毎の複数のレーザ発光素子に対する各走査位置検出エ
ッジの時間間隔をそれぞれ独立して計測する走査位置間
隔計測手段とを設け、ビーム走査ピッチ調整手段が、走
査位置間隔計測手段による各計測結果が同一となるよう
に、各回転手段を用いることにより、各マルチビーム走
査手段の各レーザ光源からそれぞれ射出される各複数の
レーザビームによる感光体上での副走査方向の各走査ピ
ッチをそれぞれ自動的に調整するようにしたものであ
る。

【００１８】請求項６の発明は、請求項５の画像形成装
置において、ビーム走査ピッチ調整手段が、走査位置間
隔計測手段による各計測結果を比較し、予め決められた
１個のマルチビーム走査手段のレーザ光源から射出され
る複数のレーザビームによる感光体上での副走査方向の
走査ピッチとその他のマルチビーム走査手段のレーザ光
源から射出される複数のレーザビームによる感光体上で
の副走査方向の走査ピッチが同一となるように、その走
査ピッチの調整角度を算出した後、予め決められた１個
のマルチビーム走査手段のレーザ光源は固定し、その他
のマルチビーム走査手段のレーザ光源を対応する回転手
段を用いて上記調整角度分だけ回転させることにより、
そのマルチビーム走査手段の各レーザ光源からそれぞれ
射出される各複数のレーザビームによる感光体上での副
走査方向の各走査ピッチをそれぞれ自動的に調整するよ
うにしたものである。

【００１９】請求項７の発明は、請求項５の画像形成装
置において、ビーム走査ピッチ調整手段が、走査位置間
隔計測手段による各計測結果が予め設定された基準値と
一致するように、各回転手段を用いることにより、各マ
ルチビーム走査手段の各レーザ光源からそれぞれ射出さ
れる各複数のレーザビームによる感光体上での副走査方
向の各走査ピッチをそれぞれ自動的に調整するようにし
たものである。

【００２０】請求項８の発明は、請求項５〜７のいずれ
かの画像形成装置において、電源投入後、画像形成動作
を開始する前に、各マルチビーム走査手段が所定の速度
で各レーザ光源からそれぞれ射出される各複数のレーザ
ビームによる走査を開始した時点で、ビーム走査ピッチ
調整手段が調整処理を行なうようにしたものである。

【００２１】

【発明の実施の形態】以下、この発明の実施形態を図面
に基づいて具体的に説明する。図２は、この発明の一実
施形態である画像形成装置のドラム周りの一例を示す概
略構成図である。

【００２２】この画像形成装置１は、像担持体である感
光体ドラム（以下単に「感光体」と略す）２と、複数の
マルチビーム走査手段である第１の２ビーム書込ユニッ
ト３および第２の２ビーム書込ユニット４と、感光体２
を中心とした帯電ユニット５，現像ユニット６，転写ユ
ニット７，分離ユニット８，およびクリーニングユニッ
ト９とを備えた電子写真方式の画像形成装置である。

【００２３】なお、第１の２ビーム書込ユニット３が複
数（この例では２本）のレーザビームによって感光体２
上を走査する位置ａと、第２の２ビーム書込ユニット４
が複数（この例では２本）のレーザビームによって感光
体２上を走査する位置ｂとの距離は、Ｄｍｍであること
とする。ここで、この画像形成装置１における一連の電
子写真プロセスについて、簡単に説明する。

【００２４】図示しないメインモータにより矢示方向に
回転される感光体２は、帯電ユニット５によってその表
面が一様に帯電される。その帯電面は、第１の２ビーム
書込ユニット３および第２の２ビーム書込ユニット４か
ら各ラインの画像情報に応じてそれぞれ変調された各２
本のレーザビーム（総計４本のレーザビーム）によって
同時に並行走査され、静電潜像が形成される。

【００２５】その静電潜像は、現像ユニット６からのト
ナーにより現像され、トナー画像が形成される。トナー
画像は、図示しない給紙トレイから給紙された用紙（他
の記録媒体でもよい）上に転写ユニット７によって転写
される。

【００２６】トナー画像が転写された用紙は、分離ユニ
ット８によって感光体２から分離された後、図示しない
定着ユニットに送られ、そこでトナー画像が熱定着さ
れ、機外に排紙される。一方、感光体２に残留している
トナーは、クリーニングユニット９によって除去され、
回収される。

【００２７】図３は、第１の２ビーム書込ユニット３お
よび第２の２ビーム書込ユニット４をそれぞれ構成する
２ビーム走査光学系（マルチビーム走査光学系）の構成
例を示す斜視図である。この各２ビーム走査光学系（第
１，第２の２ビーム書込ユニット３，４）による感光体
２上での主走査の方向（主走査方向）は、それぞれ逆に
なっている。

【００２８】この各２ビーム走査光学系にはそれぞれ、
レーザ光源としての２ＬＤ（半導体レーザダイオード）
ユニット１１，２１、感光体２上での各２本のレーザビ
ームの走査を等速にするためのｆθレンズ１３，２３、
反射ミラー１４，２４が配置されている。

【００２９】また、この各２ビーム走査光学系には、共
通の回転多面鏡（以下「ポリゴンミラー」という）１５
が配置されており、そのポリゴンミラー１５は図示しな
いポリゴンモータにより、各２ＬＤユニット１１，２１
からそれぞれ射出される各２本のレーザビームを周期的
に偏向させ、副走査方向に移動される感光体２上をレン
ズ等の光学素子を介して同時に並行走査して静電潜像を
形成させる。

【００３０】さらに、この各２ビーム走査光学系には、
共通の同期検知センサ（同期検知手段）１６が配置され
ており、この同期検知センサ１６は、各２ＬＤユニット
１１，２１からそれぞれ射出され、ポリゴンミラー１５
によって主走査方向に走査される各２本のレーザビーム
をそれぞれ感光体２上に到達する前に反射ミラー１７，
２７により検知（受光）することにより、その各２本の
レーザビームの走査位置を検出し、電気的なタイミング
信号（以下「同期検知信号」）を生成して出力する。

【００３１】したがって、同期検知センサ１６から出力
される同期検知信号を用いることにより、１走査毎（周
期的に）に静電潜像形成（画像書き込み）用の各レーザ
ビームの発光開始タイミングを制御することができる。
同期検知センサ１６は、光学的に感光体２の表面とほぼ
同一面になるように配置されているものとする。なお、
同期検知センサ１６を各２ビーム走査光学系毎に設ける
ようにしてもよい。

【００３２】ここで、この実施形態の画像形成装置１に
おいて使用されている２つのマルチビーム走査光学系は
それぞれ２ビーム走査光学系であるが、この２つの２ビ
ーム走査光学系を用いる場合の各部の関係を説明する。
但し、２ビーム走査光学系の動作の説明は省略する。

【００３３】一般に、ポリゴンミラーに直結されたポリ
ゴンモータの回転数（ＲＰＭ）は、要求された印刷速度
に応じて決定され、感光体の線速をｖ（ｍｍ／ｓ）、画
像情報の画素密度をｄｐｉ（dot per inch）、ポリゴン
ミラーの反射面数（ミラー面数）をｎとすると、以下の
（１）に示す式によって決定される。 ＲＰＭ＝（ｖ×ｄｐｉ×６０）／（２５．４×ｎ） …（１）

【００３４】上記（１）に示した式は、単一のＬＤから
のレーザビームで感光体上を走査させる場合のポリゴン
モータの回転数であり、この実施形態のように複数個の
ＬＤからの各レーザビームで感光体上を同時に並行走査
する場合には、ポリゴンモータの回転数は以下の（２）
に示す式によって決定される。 ＲＰＭ＝（ｖ×ｄｐｉ×６０）／（２５．４×ｎ×ｍ） …（２）

【００３５】但し、ｍはＬＤの同時走査数である。この
実施形態では、ＬＤが４個なので、ｍ＝４となり、ポリ
ゴンモータの回転数は、ＬＤが１個の場合と比較して１
／４に抑えることが可能となる。

【００３６】図１は、２ＬＤユニット１１，２１の構成
例を示す斜視図である。２ＬＤユニット１１は、レーザ
発光素子としてのＬＤ（半導体レーザダイオード）３
１，３２，コリメートレンズ３３，３４、アパーチャ３
５，３６，ビーム合成プリズム３７等によって構成され
ている。２ＬＤユニット２１も、上述と同様に、ＬＤ４
１，４２，コリメートレンズ４３，４４、アパーチャ４
５，４６，ビーム合成プリズム４７等によって構成され
ている。

【００３７】２ＬＤユニット１１において、ＬＤ３１か
ら射出されたレーザビームは、コリメートレンズ３３，
アパーチャ３５を通過し、ビーム合成プリズム３７の反
射面３７ｂを通過してそのプリズム３７より射出され、
ＬＤ３２から出射されたレーザビームも同様に、コリメ
ートレンズ３４，アパーチャ３６を通過し、ビーム合成
プリズム３７の反射面３７ａ，３７ｂにて反射してその
プリズム３７から射出されることにより、各ＬＤ３１，
３２から射出される２本のレーザビームによる感光体２
上での副走査方向の走査ピッチを近接させている（ビー
ム合成処理）。

【００３８】２ＬＤユニット１１の各ＬＤ３１，３２か
ら射出される２本のレーザビームによる感光体２上での
副走査方向の走査ピッチの調整は、ステッピングモータ
３８を動力源として、ＬＤ３１の発光点（ＬＤ３２の発
光点でもよい）を中心に２ＬＤユニット１１全体をレー
ザビームの射出方向に対して垂直方向に回転することに
より実現することができる。

【００３９】一方、２ＬＤユニット２１においても、Ｌ
Ｄ４１から射出されたレーザビームは、コリメートレン
ズ４３，アパーチャ４５を通過し、ビーム合成プリズム
４７の反射面４７ｂを通過してそのプリズム４７より射
出され、ＬＤ４２から出射されたレーザビームも同様
に、コリメートレンズ４４，アパーチャ４６を通過し、
ビーム合成プリズム４７の反射面４７ａ，４７ｂにて反
射してそのプリズム４７から射出されることにより、各
ＬＤ４１，４２から射出される２本のレーザビームによ
る感光体２上での副走査方向の走査ピッチを近接させて
いる。

【００４０】２ＬＤユニット２１の各ＬＤ４１，４２か
ら射出される２本のレーザビームによる感光体２上での
副走査方向の走査ピッチの調整は、ステッピングモータ
４８を動力源として、ＬＤ４１の発光点（ＬＤ４２の発
光点でもよい）を中心に２ＬＤユニット２１全体をレー
ザビームの射出方向に対して垂直方向に回転することに
より実現することができる。

【００４１】ステッピングモータ３８，４８はいずれ
も、微小な回転角度をそのステッピングモータの回転パ
ルス数を変化させることにより電気的に制御可能な回転
手段である。なお、ステッピングモータ３８，４８の代
わりにサーボモータ等の他の回転手段を使用することも
できる。また、１個のＬＤユニットに３個以上のＬＤが
備えられている場合は、その各発光点を通る直線上のい
ずれかの点を中心にＬＤユニット全体をレーザビームの
射出方向に対して垂直方向に回転することもできる。

【００４２】ここで、第１，第２の２ビーム書込ユニッ
ト３，４（各２ビーム走査光学系）の各２ＬＤユニット
１１，２１からそれぞれ射出される各２本のレーザビー
ムによる感光体２上での副走査方向の各走査ピッチは、
各２ＬＤユニット１１，１２の取付や、第１，第２の２
ビーム書込ユニット３，４の光学素子の光学特性のバラ
ツキ、各光学素子の取付精度等により、最初から各々均
一（同一）とはなり得ない。

【００４３】そこで、この実施形態の画像形成装置１で
は、ビームピッチ調整機構を構成する各ステッピングモ
ータ３８，４８により各２ＬＤユニット１１，２１をそ
れぞれ独立して回転させることにより、各２ＬＤユニッ
ト１１，２１からそれぞれ射出される各２本のレーザビ
ーム（各マルチビーム）による感光体２上での副走査方
向の各走査ピッチをそれぞれ独立して調整するビーム走
査ピッチ調整処理を実施し、その各走査ピッチを各々均
一（同一）にすることができる。

【００４４】ビーム走査ピッチ調整処理を実施すること
により、画像形成動作時に、各２ＬＤユニット１１，２
１からそれぞれ射出される各２本のレーザビームをポリ
ゴンミラー１５を用いて周期的に偏向させ、副走査方向
に移動される感光体２上を主走査方向に同時に一定の走
査ピッチで平行走査して静電潜像を形成させることがで
きる。

【００４５】ところで、図３に示すように、ある時点
（第１の時点とする）でのポリゴンミラー１５の反射面
から反射ミラー１７の反射面へのレーザビームの光路
と、ある他の時点（第２の時点とする）でのポリゴンミ
ラー１５の反射面から反射ミラー１４の反射面へのレー
ザビームの光路との角度をαとし、第１の時点でのポリ
ゴンミラー１５の反射面から反射ミラー２７の反射面へ
のレーザビームの光路と、第２の時点でのポリゴンミラ
ー１５の反射面から反射ミラー２４の反射面へのレーザ
ビームの光路との角度をβとすると、その各角度α，β
がα＞βの関係となるように各々の反射ミラーが配置さ
れているものとする。

【００４６】このように、上記各角度α，βがα＞βの
関係となっていることから、例えば図４に示すように、
同期検知センサ（光検出器）１６からの同期検知信号の
出力は、ポリゴンミラー１５による各々のマルチビーム
（２本のレーザビーム）の走査によって時間的にズレを
生じるため、各マルチビームの走査位置を判別（検出）
することが可能である。

【００４７】また、図１および図５に示すように、各々
の２ＬＤユニット１１，２１ではそれぞれ、各ＬＤから
射出される２本のレーザビームの走査が時間的にズレを
生じるように、その各ＬＤの発光点が斜めに直線上に並
ぶように取り付けられるため、その各ＬＤから射出され
る２本のレーザビームの走査位置を同期検知センサ１６
によって検出することができる。

【００４８】図６は、この実施形態の画像形成装置１の
制御部の主要部の構成例を示すブロック図である。図６
において、スキャナ等の画像入力部５０によってメイン
制御部６０に入力された画像情報は、画像処理部６２に
よって所定の画像処理が施された後、書込制御部７０に
伝送される。

【００４９】メイン制御部６０に入力される画像情報
は、通常、６００ｄｐｉの画素密度で入力されるものと
する。ＣＰＵ６１は、中央処理装置，ＲＯＭ，ＲＡＭ等
からなるマイクロコンピュータであり、この画像形成装
置１全体を統括的に制御する。このＣＰＵ６１は、画像
処理部６２から書込制御部７０へ画像情報が送出される
前に、その画素密度の指定情報を書込制御部７０へ送出
する。

【００５０】書込制御部７０は、同期信号分離部７１，
画像情報分離部７２，第１のＬＤユニット変調部７３，
第２のＬＤユニット変調部７４を備えており、その各部
と図示しないモータ駆動部等とにより、この発明に係わ
るビーム走査ピッチ調整手段としての機能を実現する。

【００５１】同期信号分離部７１は、同期検知センサ１
６からの同期検知信号により、２ＬＤユニット１１の各
ＬＤ３１，３２に対する各走査位置検出エッジの時間間
隔（走査位置時間間隔）および２ＬＤユニット２１の各
ＬＤ４１，４２に対する各走査位置検出エッジの時間間
隔をそれぞれ独立して計測する計測部（走査位置間隔計
測手段）７１ａを備えている。

【００５２】書込制御部７０は、例えば図７に示すよう
に、同期信号分離部７１の計測部７１ａによって２ＬＤ
ユニット１１の各ＬＤ３１，３２に対する各走査位置検
出エッジの時間間隔を計測することにより、その各ＬＤ
３１，３２から射出される２本のレーザビームによる感
光体２上での副走査方向の走査ピッチを相関的に求める
ことができる。また、以下の（１）〜（３）に示すビー
ム走査ピッチ調整処理を行なうことができる。

【００５３】（１）この画像形成装置１の製造工程（組
立工程）時に、作業者の指示（例えば操作パネル上の所
定のキー操作）に応じて図１の各ステッピングモータ３
８，４８により各２ＬＤユニット１１，２１をそれぞれ
独立して回転させることにより、各２ＬＤユニット１
１，２１からそれぞれ射出される各２本のレーザビーム
による感光体２上での副走査方向の各走査ピッチをそれ
ぞれ独立に調整する。

【００５４】（２）この画像形成装置１が電源投入後画
像形成動作を開始する前に、ポリゴンミラー１５が所定
の回転数で安定して回転され、各２ビーム走査光学系
（第１，第２の２ビーム書込ユニット３，４）が所定の
速度で２ＬＤユニット１１，２１からそれぞれ射出され
る各２本のレーザビームによる走査を開始した時点（他
の時点でもよい）で毎回、計測部７１ａによる各計測結
果（走査位置時間間隔）が同一となるように、各ステッ
ピングモータ３８，４８により各２ＬＤユニット１１，
２１をそれぞれ独立して回転させることにより、各２Ｌ
Ｄユニット１１，２１からそれぞれ射出される各２本の
レーザビームによる感光体２上での副走査方向の各走査
ピッチを自動的に調整する。

【００５５】具体的には例えば、上述の時点で、計測部
７１ａによる各計測結果を比較し、予め決められた１個
の２ビーム走査光学系（第１，第２の２ビーム書込ユニ
ット３，４のいずれか）の２ＬＤユニットから射出され
る２本のレーザビームによる感光体２上での副走査方向
の走査ピッチとその他の２ビーム走査光学系の２ＬＤユ
ニットから射出される２本のレーザビームによる感光体
２上での副走査方向の走査ピッチが同一となるように、
その後者の走査ピッチの調整角度（調整値）を演算によ
り算出し、予め決められた１個の２ビーム走査光学系の
２ＬＤユニットは固定し、その他の２ビーム走査光学系
の２ＬＤユニットを対応するステッピングモータにより
上記調整角度分だけ回転させることにより、各２ＬＤユ
ニット１１，２１からそれぞれ射出される各２本のレー
ザビームによる感光体２上での副走査方向の各走査ピッ
チを自動的に調整する。

【００５６】あるいは、上述の時点で、計測部７１ａに
よる各計測結果が予め設定された基準値と一致するよう
に、各ステッピングモータ３８，４８により各２ＬＤユ
ニット１１，２１をそれぞれ独立して回転させることに
より、各２ＬＤユニット１１，２１からそれぞれ射出さ
れる各２本のレーザビームによる感光体２上での副走査
方向の各走査ピッチを自動的に調整する。

【００５７】この場合、この画像形成装置１の製造工程
時に、第１の２ビーム書込ユニット３の取付位置精度に
より、各レーザビームによる感光体２上での副走査方向
の走査ピッチが決まるため、通常の画素密度（副走査画
素密度）で感光体２上を走査するためには、同期検知セ
ンサ１６による２ＬＤユニット１１の各ＬＤ３１，３２
に対する各走査位置検出エッジの時間間隔がどの程度の
時間となったかを計測し、その結果を基準値としてこの
画像形成装置１内に記憶させておく。

【００５８】なお、上述した各ビーム走査ピッチ調整処
理はいずれも、通常の画素密度（この実施例では６００
ｄｐｉ）に対応するものであるため、メイン制御部６０
からの画素密度の指定情報によって指定された画素密度
（例えば画像入力部５０によって実際に入力された画像
情報の画素密度）が通常の画素密度と異なる場合は、上
記指定された画素密度に応じて上述した各ビーム走査ピ
ッチ調整処理をそれぞれ行なうようにする。それによっ
て、各２ＬＤユニット１１，２１からそれぞれ射出され
る各２本のレーザビームによる感光体２上での副走査方
向の各走査ピッチがそれぞれ指定された画素密度に応じ
た最適な走査ピッチとなる。

【００５９】このように、各ビーム走査ピッチ調整処理
をそれぞれ実施することにより、この実施形態の画像形
成装置１では、第１，第２の２ビーム書込ユニット３，
４が、各２ＬＤユニット１１，２１からそれぞれ射出さ
れる各２本のレーザビームをポリゴンミラー１５を用い
て周期的に偏向させ、副走査方向に移動される感光体２
上を主走査方向に同時に指定された画素密度に応じた最
適な走査ピッチで平行走査して静電潜像を形成させるこ
とができる。

【００６０】ここで、画素密度が６００ｄｐｉから４０
０ｄｐｉへ変更された場合、２ＬＤユニット１１の各Ｌ
Ｄ３１，３２から射出される２本のレーザビームによる
感光体２上での副走査方向の走査ピッチは図８に示すよ
うに変化する。

【００６１】一方、図６の同期信号分離部７１は、同期
検知センサ１６からの同期検知信号を各レーザビームの
走査位置を示す同期信号として、図４に示すように４つ
の同期信号ＤＥＴＰ１，ＤＥＴＰ３，ＤＥＴＰ２，ＤＥ
ＴＰ４に分離し、画像情報分離部７２に出力する処理を
行なう。

【００６２】画像情報分離部７２は、メイン制御部６０
からの画像情報を主走査（ライン）単位で分離し、奇数
ライン（ＯＤＤ）の画像情報（感光体２上に形成される
静電潜像の奇数ライン用の画像情報）を同期信号分離部
７１からの同期信号ＤＥＴＰ１，ＤＥＴＰ３と共に第１
のＬＤユニット変調部７３に送出し、偶数ライン（ＥＶ
ＥＮ）の画像情報（感光体２上に形成される静電潜像の
偶数ライン用の画像情報）を同期信号分離部７１からの
同期信号ＤＥＴＰ２，ＤＥＴＰ４と共に第２のＬＤユニ
ット変調部７４に送出する。

【００６３】第１のＬＤユニット変調部７３は、画像情
報分離部７２からの同期信号ＤＥＴＰ１，ＤＥＴＰ３お
よび奇数ラインの画像情報に応じて２ＬＤユニット１１
の各ＬＤ３１，３２を変調制御する。この第１のＬＤユ
ニット変調部７３は、図２の第１の２ビーム書込ユニッ
ト３に含まれているものとする。第２のＬＤユニット変
調部７４は、画像情報分離部７２からの同期信号ＤＥＴ
Ｐ２，ＤＥＴＰ４および偶数ラインの画像情報に応じて
２ＬＤユニット２１の各ＬＤ４１，４２を変調制御す
る。この第２のＬＤユニット変調部７４は、図２の第２
の２ビーム書込ユニット４に含まれているものとする。

【００６４】図９は、図６の第１のＬＤユニット変調部
７３および第２のＬＤユニット変調部７４の構成例を示
すブロック図である。第１のＬＤユニット変調部７３
は、制御部８０，ＬＤ変調部（レーザ変調手段）８１，
８２によって構成されている。制御部８０は、画像情報
分離部７２からの奇数ライン（２ライン分）の画像情報
をそれぞれ同期信号ＤＥＴＰ１，ＤＥＴＰ３に同期させ
てＬＤ変調部８１，ＬＤ変調部８２に送出する。

【００６５】ＬＤ変調部８１は、制御部８０からの奇数
ラインの画像情報に応じて２ＬＤユニット１１のＬＤ
（レーザ発光素子）３１を独立に変調（点灯／消灯）制
御して発光させる。ＬＤ変調部８２も、制御部８０から
の奇数ラインの画像情報に応じて２ＬＤユニット１１の
ＬＤ３２を独立に変調制御して発光させる。

【００６６】第２のＬＤユニット変調部７４は、制御部
９０，ＬＤ変調部（レーザ変調手段）９１，９２によっ
て構成されている。制御部９０は、ラインメモリ１０
１，画像反転部１０２を備えている。

【００６７】ラインメモリ１０１は、各２ビーム書込ユ
ニット３，４による感光体２上での各走査位置ａ，ｂ
（図２参照）のズレ量と感光体２の線速とに応じた時間
差を持って各２ビーム書込ユニット３，４が感光体２上
をレーザビームで走査可能にするために、画像情報分離
部７２からの偶数ライン（２ライン分）の画像情報を上
記時間差の間（一時保管時間）だけ一時保管する。

【００６８】画像反転部１０２は、ラインメモリ１０１
に一時保管された偶数ライン（２ライン分）の画像情報
をそれぞれ反転して最下位ビットから順次ＬＤ変調部９
１，９２に送出する。ＬＤ変調部９１は、制御部９０か
らの偶数ラインの画像情報に応じて２ＬＤユニット２１
のＬＤ４１を独立に変調制御する。ＬＤ変調部９２も、
制御部９０からの偶数ラインの画像情報に応じて２ＬＤ
ユニット２１のＬＤ４２を独立に変調制御する。

【００６９】次に、第１のＬＤユニット変調部７３およ
び第２のＬＤユニット変調部７４について、もう少し具
体的に説明する。第１のＬＤユニット変調部７３の制御
部８０は、画像情報分離部７２からの奇数ライン（２ラ
イン分）の画像情報のうち、１，５，…，４ｍ＋１（ｍ
＝０，１，２，３，…）ライン目の画像情報を同期信号
ＤＥＴＰ１の同期パルスの立ち下がりエッジに同期させ
てＬＤ変調部８１に順次送出し、３，７，…，４ｍ＋３
（ｍ＝０，１，２，３，…）ライン目の画像情報を同期
信号ＤＥＴＰ３の同期パルスの立ち下がりエッジに同期
させてＬＤ変調部８２に順次送出する。

【００７０】第２のＬＤユニット変調部７４の制御部９
０は、画像情報分離部７２からの偶数ライン（２ライン
分）の画像情報を以下の（３）に示す式で与えられる時
間だけラインメモリ１０１に一時保管し、その画像情報
のうち、２，６，…，４ｍ＋２（ｍ＝０，１，２，３，
…）ライン目の画像情報を同期信号ＤＥＴＰ２の同期パ
ルスの立ち下がりエッジに同期させて画像反転部１０２
により反転して最下位ビット（主走査の後端）から順次
ＬＤ変調部９１に送出し、４，８，…，４ｍ＋４（ｍ＝
０，１，２，３，…）ライン目の画像情報を同期信号Ｄ
ＥＴＰ４の同期パルスの立ち下がりエッジに同期させて
画像反転部１０２により反転して最下位ビットから順次
ＬＤ変調部９２に送出する。

【００７１】 一時保管時間 Ｔ（ｓ）＝Ｄ（ｍｍ）／ｖ（ｍｍ／ｓ） …（３） なお、この実施形態では、第２のＬＤユニット変調部７
４の制御部９０にラインメモリ１０１および画像反転部
１０２を備えたが、そのラインメモリ１０１および画像
反転部１０２を削除し、それらと同等の機能を有するラ
インメモリおよび画像反転部を画像情報分離部７２と第
２のＬＤユニット変調部７４との間、あるいは画像情報
分離部７２に備えてもよい。

【００７２】第１のＬＤユニット変調部７３のＬＤ変調
部８１，８２はそれぞれ、制御部８０からポリゴンミラ
ー１５の回転と同期した同期信号ＤＥＴＰ１，ＤＥＴＰ
３に同期して送られてくる奇数ラインの画像情報に応じ
て、２ＬＤユニット１１の各ＬＤ３１，３２を変調制御
し、その各ＬＤ３１，３２から変調された２本のレーザ
ビームを出力させる。

【００７３】また、２ＬＤユニット１１のＬＤ３１，３
２から出力された２本のレーザビームをポリゴンミラー
１５を用いて周期的に偏向させ、感光体２上を主走査方
向に２ライン毎に予め調整された走査ピッチで同時に並
行走査して奇数ラインの静電潜像を形成させる。

【００７４】第２のＬＤユニット変調部７４のＬＤ変調
部９１，９２はそれぞれ、制御部９０からポリゴンミラ
ー１５の回転と同期した同期信号ＤＥＴＰ２，ＤＥＴＰ
４に同期して送られてくる偶数ラインの画像情報に応じ
て、２ＬＤユニット２１の各ＬＤ４１，４２を変調制御
し、その各ＬＤ４１，４２から変調された２本のレーザ
ビームを出力させる。

【００７５】また、２ＬＤユニット２１のＬＤ４１，４
２から出力された２本のレーザビームをポリゴンミラー
１５を用いて周期的に偏向させ、感光体２上を主走査方
向に２ライン毎に予め調整された走査ピッチで同時に並
行走査して偶数ラインの静電潜像を形成させる。

【００７６】すなわち、感光体２上に形成される静電潜
像のうち、例えば図５に示すように、第１の２ビーム書
込ユニット３のＬＤユニット１１の各ＬＤ３１，３２か
ら出力される２本のレーザビームをポリゴンミラー１５
を用いて偏向させ、感光体２上を主走査方向に２ライン
毎に予め調整された走査ピッチで同時に並行走査して奇
数ライン（４ｍ＋１，４ｍ＋３の２ライン）の静電潜像
を形成させる。

【００７７】そして、Ｔ（ｓ）時間経過するのを待つこ
とにより、感光体２上での奇数ライン（４ｍ＋１，４ｍ
＋３の２ライン）の走査位置からＤ（ｍｍ）だけ感光体
２の表面が移動し、第２の２ビーム書込ユニット４のＬ
Ｄユニット２１の各ＬＤ４１，４２から出力される２本
のレーザビームをそれぞれポリゴンミラー１５を用いて
偏向させ、感光体２上を主走査方向に２ライン毎に予め
調整された走査ピッチで同時に並行走査して偶数ライン
（４ｍ＋２，４ｍ＋４の２ライン）の静電潜像を形成さ
せる。

【００７８】なお、第２の２ビーム書込ユニット４のＬ
Ｄユニット２１のＬＤ４１，４２による感光体２上での
各偶数ラインの走査位置の間が、第１の２ビーム書込ユ
ニット３のＬＤユニット１１のＬＤ３２による奇数ライ
ンの走査位置となっている。また、第２の２ビーム書込
ユニット４のＬＤユニット２１のＬＤ４１，４２による
各偶数ラインの走査方向は、第１の２ビーム書込ユニッ
ト３のＬＤユニット１１のＬＤ３１，３２による各奇数
ラインの走査方向と逆方向となっている。

【００７９】さらに、画像形成装置毎の２ビーム書込ユ
ニットの取り付け位置や感光体上での走査位置のバラツ
キを吸収できるようにするために、奇数ラインの走査を
行なってから偶数ラインの走査を行なうまでの時間Ｔ
（ｓ）は、画像形成装置毎に調整可能となっている。

【００８０】さらにまた、画像入力部５０によって入力
される画像情報としては、パーソナルコンピュータやフ
ァクシミリ装置による送信画像情報、複写機のスキャナ
による読み取り画像情報、あるいはパーソナルコンピュ
ータを介して接続されるスキャナより送信される画像情
報等がある。

【００８１】以上、この実施形態の画像形成装置１で
は、各２ビーム書込ユニットにそれぞれ２ＬＤユニット
を用いているが、同一パッケージ内に近接して複数のＬ
Ｄ（発光点）を同一線上に配置したＬＤアレイを用いる
ようにしてもよい。また、それぞれ３本以上のレーザビ
ームを出力するマルチビーム書込ユニットを複数設ける
ようにしてもよい。３本以上のレーザビームを出力する
マルチビーム書込ユニットが実用化されれば、前述した
実施形態の構成を用いることにより、一層容易に印刷速
度を高速化することができる。

【００８２】

【発明の効果】以上説明してきたように、請求項１の発
明の画像形成装置によれば、各マルチビーム走査手段の
各レーザ光源（複数のレーザ発光素子を有する）からそ
れぞれ射出される各複数のレーザビームによる感光体上
での副走査方向の各走査ピッチをそれぞれ独立して調整
するビーム走査ピッチ調整手段を設けたので、特別な装
置を用いなくても、上記各走査ピッチを各々均一となる
ように調整することができ、高画質の画像を得ることが
できる。

【００８３】請求項２の発明の画像形成装置によれば、
ビーム走査ピッチ調整手段が、各回転手段（各マルチビ
ーム走査手段の各レーザ光源をそれぞれ複数のレーザ発
光素子の各発光点を通る直線上のいずれかの点を中心に
レーザビームの射出方向に対して垂直方向に独立に回転
させる手段）を用いることにより、各マルチビーム走査
手段の各レーザ光源からそれぞれ射出される各複数のレ
ーザビームによる感光体上での副走査方向の各走査ピッ
チをそれぞれ独立して調整することができるので、特別
な装置を用いなくても、上記各走査ピッチを各々均一と
なるように容易に調整することができ、高画質の画像を
得ることができる。

【００８４】請求項３の発明の画像形成装置によれば、
ビーム走査ピッチ調整手段が、各回転手段として、ステ
ッピングモータ又はサーボモータ等の微小回転角度を電
気的に制御可能な手段を用いることにより、各マルチビ
ーム走査手段の各レーザ光源からそれぞれ射出される各
複数のレーザビームによる感光体上での副走査方向の各
走査ピッチをそれぞれ独立して調整することができるの
で、特別な装置を用いなくても、上記各走査ピッチを各
々均一となるように容易に精度よく調整することがで
き、高画質の画像を得ることができる。

【００８５】請求項４の発明の画像形成装置によれば、
通常の画素密度と異なる画素密度の画像情報が入力され
たとき、ビーム走査ピッチ調整手段が、各回転手段を用
いることにより、各マルチビーム走査手段の各レーザ光
源からそれぞれ射出される各複数のレーザビームによる
感光体上での副走査方向の各走査ピッチをそれぞれ上記
入力された画像情報の画素密度に応じた最適な走査ピッ
チとなるように自動的に調整するので、請求項２又は３
の発明と同様の効果を得られる他に、入力される画像情
報の画素密度によらず高画質の画像を得ることができ
る。

【００８６】請求項５の発明の画像形成装置によれば、
ビーム走査ピッチ調整手段が、走査位置間隔計測手段
（同期検知手段による各マルチビーム走査手段の各レー
ザ光源毎の複数のレーザ発光素子に対する各走査位置検
出エッジの時間間隔を独立に計測する手段）による各計
測結果が同一となるように、各回転手段を用いることに
より、各マルチビーム走査手段の各レーザ光源からそれ
ぞれ射出される各複数のレーザビームによる感光体上で
の副走査方向の各走査ピッチをそれぞれ自動的に調整す
るので、サービスマン等の作業者による上記各走査ピッ
チ調整後の所定の作業（画像形成装置に画像形成動作を
行なわせ、それによって得られる画像を確認する）を行
なうことなく、上記各走査ピッチを各々均一となるよう
に確実に調整することができ、高画質の画像を得ること
ができる。

【００８７】請求項６の発明の画像形成装置によれば、
ビーム走査ピッチ調整手段が、走査位置間隔計測手段に
よる各計測結果を比較し、予め決められた１個のマルチ
ビーム走査手段のレーザ光源から射出される複数のレー
ザビームによる感光体上での副走査方向の走査ピッチと
その他のマルチビーム走査手段のレーザ光源から射出さ
れる複数のレーザビームによる感光体上での副走査方向
の走査ピッチが同一となるように、該走査ピッチの調整
角度を算出した後、予め決められた１個のマルチビーム
走査手段のレーザ光源は固定し、その他のマルチビーム
走査手段のレーザ光源を対応する回転手段を用いて上記
調整角度分だけ回転させることにより、該マルチビーム
走査手段の各レーザ光源からそれぞれ射出される各複数
のレーザビームによる感光体上での副走査方向の走査ピ
ッチをそれぞれ自動的に調整するので、請求項５の発明
と同様の効果を得られる他に、上記各走査ピッチの調整
に要する時間を短縮することができる。

【００８８】請求項７の発明の画像形成装置によれば、
ビーム走査ピッチ調整手段が、走査位置間隔計測手段に
よる各計測結果が予め設定された基準値と一致するよう
に、各回転手段を用いることにより、各マルチビーム走
査手段の各レーザ光源からそれぞれ射出される各複数の
レーザビームによる感光体上での副走査方向の走査ピッ
チを自動的に調整するので、請求項５の発明と同様の効
果を得られる他に、各マルチビーム走査手段の各レーザ
光源あるいはその内部の各レーザ発光素子の取付精度を
緩和することが可能となる。また、画像形成装置毎に上
記基準値を設定可能にすることにより、画像形成装置毎
の各マルチビーム走査手段の各レーザ光源あるいはその
内部の各レーザ発光素子の取付精度のバラツキを吸収す
ることが可能となる。

【００８９】請求項８の発明の画像形成装置によれば、
電源投入後、画像形成動作を開始する前に、各マルチビ
ーム走査手段が所定の速度で各レーザ光源からそれぞれ
射出される各複数のレーザビームによる走査を開始した
時点で、ビーム走査ピッチ調整手段が請求項５〜７のい
ずれかの調整処理を行なうので、請求項５〜７のいずれ
かの発明と同様の効果を得られる。また、画像形成装置
の設置環境，動作状態によらず、各マルチビーム走査手
段が、常に、各レーザ光源からそれぞれ射出される各複
数のレーザビームをポリゴンミラーを用いて周期的に偏
向させ、副走査方向に移動される感光体上を主走査方向
に同時に画像形成上理想的な走査ピッチで平行走査して
静電潜像を形成させることができるため、常に安定して
高画質の画像を得ることができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】図３の２ＬＤユニット１１，２１の構成例を示
す斜視図である。

【図２】この発明の一実施形態である画像形成装置のド
ラム周りの一例を示す概略構成図である。

【図３】図２の第１の２ビーム書込ユニット３及び第２
の２ビーム書込ユニット４をそれぞれ構成する２ビーム
走査光学系の構成例を示す斜視図である。

【図４】図３の同期検知センサ１６から出力される同期
検知信号に対する処理を説明するための図である。

【図５】図２の第１の２ビーム書込ユニット３による感
光体２上での走査位置及び走査方向と第２の２ビーム書
込ユニット４による感光体２上での走査位置及び走査方
向との関係を説明するための図である。

【図６】図２に示した画像形成装置の制御部の主要部の
構成例を示すブロック図である。

【図７】図６の計測部７１ａによって計測される図１の
２ＬＤユニット１１の各ＬＤ３１，３２に対する各走査
位置検出エッジの時間間隔とその各ＬＤ３１，３２から
射出される２本のレーザビームによる感光体２上での副
走査方向の走査ピッチとの関係を示す図である。

【図８】画素密度が６００ｄｐｉから４００ｄｐｉへ変
更された場合の図１の２ＬＤユニット１１の各ＬＤ３
１，３２から射出される２本のレーザビームによる感光
体上での副走査方向の走査ピッチを示す図である。

【図９】図６の第１のＬＤユニット変調部７３および第
２のＬＤユニット変調部７４の構成例を示すブロック図
である。

【符号の説明】

１：画像形成装置 ２：感光体 ３：第１の２ビーム書込ユニット ４：第２の２ビーム書込ユニット １１，２１：２ＬＤユニット １５：ポリゴンミラー １６：同期検知センサ ５０：画像入力部 ６０：メイン制御部 ６１：ＣＰＵ ６２：画像処理部 ７０：書込制御部 ７１：同期信号分離部 ７２：画像情報分離部 ７３：第１のＬＤユニット変調部 ７４：第２のＬＤユニット変調部 ８０，９０：制御部 ８１，８２，９１，９２：ＬＤ変調部 １０１：ラインメモリ １０２：画像反転部

Claims (8)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 複数のレーザ発光素子からなるレーザ光
   源を有し、該レーザ光源から射出される複数のレーザビ
   ームをポリゴンミラーを用いて周期的に偏向させ、副走
   査方向に移動される感光体上を主走査方向に同時に並行
   走査して静電潜像を形成させるマルチビーム走査手段を
   複数備えた画像形成装置において、 画像情報に応じて前記各マルチビーム走査手段の各レー
   ザ光源内の複数のレーザ発光素子をそれぞれ独立して変
   調制御して発光させるレーザ変調手段と、該手段によっ
   て前記各マルチビーム走査手段の各レーザ光源からそれ
   ぞれ射出される各複数のレーザビームによる前記感光体
   上での前記副走査方向の各走査ピッチをそれぞれ独立し
   て調整するビーム走査ピッチ調整手段とを設けたことを
   特徴とする画像形成装置。
2. 【請求項２】 請求項１記載の画像形成装置において、 前記各マルチビーム走査手段の各レーザ光源はそれぞ
   れ、複数のレーザ発光素子が１直線上に並ぶように配置
   されており、 前記各マルチビーム走査手段の各レーザ光源をそれぞ
   れ、複数のレーザ発光素子の各発光点を通る直線上のい
   ずれかの点を中心にレーザビームの射出方向に対して垂
   直方向に独立に回転させる複数の回転手段を設け、 前記ビーム走査ピッチ調整手段が、前記各回転手段を用
   いることにより、前記各マルチビーム走査手段の各レー
   ザ光源からそれぞれ射出される各複数のレーザビームに
   よる前記感光体上での副走査方向の各走査ピッチをそれ
   ぞれ独立して調整する手段であることを特徴とする画像
   形成装置。
3. 【請求項３】 請求項２記載の画像形成装置において、 前記各回転手段はそれぞれ、ステッピングモータ又はサ
   ーボモータ等の微小回転角度を電気的に制御可能な手段
   であることを特徴とする画像形成装置。
4. 【請求項４】 請求項２又は３記載の画像形成装置にお
   いて、 通常の画素密度と異なる画素密度の画像情報が入力され
   たとき、前記ビーム走査ピッチ調整手段が、前記各回転
   手段を用いることにより、前記各マルチビーム走査手段
   の各レーザ光源からそれぞれ射出される各複数のレーザ
   ビームによる前記感光体上での副走査方向の各走査ピッ
   チをそれぞれ前記入力された画像情報の画素密度に応じ
   た最適な走査ピッチとなるように自動的に調整するよう
   にしたことを特徴とする画像形成装置。
5. 【請求項５】 請求項２又は３記載の画像形成装置にお
   いて、 前記各マルチビーム走査手段の各レーザ光源からそれぞ
   れ射出され、前記ポリゴンミラーによって主走査方向に
   走査される各複数のレーザビームをそれぞれ前記感光体
   上に到達する前に検知することにより、該各複数のレー
   ザビームの走査位置を検出する同期検知手段と、該手段
   による前記各マルチビーム走査手段の各レーザ光源毎の
   複数のレーザ発光素子に対する各走査位置検出エッジの
   時間間隔をそれぞれ独立して計測する走査位置間隔計測
   手段とを設け、 前記ビーム走査ピッチ調整手段が、前記走査位置間隔計
   測手段による各計測結果が同一となるように、前記各回
   転手段を用いることにより、前記各マルチビーム走査手
   段の各レーザ光源からそれぞれ射出される各複数のレー
   ザビームによる前記感光体上での副走査方向の各走査ピ
   ッチをそれぞれ自動的に調整するようにしたことを特徴
   とする画像形成装置。
6. 【請求項６】 請求項５記載の画像形成装置において、 前記ビーム走査ピッチ調整手段が、前記走査位置間隔計
   測手段による各計測結果を比較し、予め決められた１個
   のマルチビーム走査手段のレーザ光源から射出される複
   数のレーザビームによる前記感光体上での副走査方向の
   走査ピッチとその他のマルチビーム走査手段のレーザ光
   源から射出される複数のレーザビームによる前記感光体
   上での副走査方向の走査ピッチが同一となるように、該
   走査ピッチの調整角度を算出した後、前記予め決められ
   た１個のマルチビーム走査手段のレーザ光源は固定し、
   前記その他のマルチビーム走査手段のレーザ光源を対応
   する回転手段を用いて前記調整角度分だけ回転させるこ
   とにより、該マルチビーム走査手段の各レーザ光源から
   それぞれ射出される各複数のレーザビームによる前記感
   光体上での副走査方向の各走査ピッチをそれぞれ自動的
   に調整するようにしたことを特徴とする画像形成装置。
7. 【請求項７】 請求項５記載の画像形成装置において、 前記ビーム走査ピッチ調整手段が、前記走査位置間隔計
   測手段による各計測結果が予め設定された基準値と一致
   するように、前記各回転手段を用いることにより、前記
   各マルチビーム走査手段の各レーザ光源からそれぞれ射
   出される各複数のレーザビームによる前記感光体上での
   副走査方向の各走査ピッチをそれぞれ自動的に調整する
   ようにしたことを特徴とする画像形成装置。
8. 【請求項８】 請求項５乃至７のいずれか一項に記載の
   画像形成装置において、 電源投入後、画像形成動作を開始する前に、前記各マル
   チビーム走査手段が所定の速度で前記各レーザ光源から
   それぞれ射出される各複数のレーザビームによる走査を
   開始した時点で、前記ビーム走査ピッチ調整手段が調整
   処理を行なうようにしたことを特徴とする画像形成装
   置。