JP2001089660A - 高屈折率を有する光学素子、光学用レンズ及び樹脂組成物 - Google Patents
高屈折率を有する光学素子、光学用レンズ及び樹脂組成物Info
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- JP2001089660A JP2001089660A JP27231399A JP27231399A JP2001089660A JP 2001089660 A JP2001089660 A JP 2001089660A JP 27231399 A JP27231399 A JP 27231399A JP 27231399 A JP27231399 A JP 27231399A JP 2001089660 A JP2001089660 A JP 2001089660A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 ｎｄ１．５５以上の高屈折率で、低い残留複
屈折、高い光透過率の光学的基本特性に優れ、尚かつ、
高い熱安定性、低い吸水性、及び優れた成形性を有す
る、光学素子を提供する。 【解決手段】 下記平均組成式〔Ｉ〕で表される珪素系
樹脂を含有することを特徴とする光学素子、光学用レン
ズ及び樹脂組成物。 平均組成式〔Ｉ〕 （Ｒ1）a（Ｒ2）bＳｉＯ(4-a-b)/2 〔式中、Ｒ1は、各々同じでも異なっても良い、水素原
子、水酸基、アミノ基、又は置換又は非置換の脂肪族
基、脂環式基、アリール基、複素環基、またはこれらの
基が酸素を介して珪素原子に結合された基から選ばれる
基を表す。Ｒ2は、内部回転異性性を付与しうる結合軸
を有するビアリール基または該ビアリール基が置換した
有機基を表す。ただし、０≦ａ＜１．５、０．３＜ｂ＜
１．８、０．８＜ａ＋ｂ＜１．８である。〕
屈折、高い光透過率の光学的基本特性に優れ、尚かつ、
高い熱安定性、低い吸水性、及び優れた成形性を有す
る、光学素子を提供する。 【解決手段】 下記平均組成式〔Ｉ〕で表される珪素系
樹脂を含有することを特徴とする光学素子、光学用レン
ズ及び樹脂組成物。 平均組成式〔Ｉ〕 （Ｒ1）a（Ｒ2）bＳｉＯ(4-a-b)/2 〔式中、Ｒ1は、各々同じでも異なっても良い、水素原
子、水酸基、アミノ基、又は置換又は非置換の脂肪族
基、脂環式基、アリール基、複素環基、またはこれらの
基が酸素を介して珪素原子に結合された基から選ばれる
基を表す。Ｒ2は、内部回転異性性を付与しうる結合軸
を有するビアリール基または該ビアリール基が置換した
有機基を表す。ただし、０≦ａ＜１．５、０．３＜ｂ＜
１．８、０．８＜ａ＋ｂ＜１．８である。〕
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は高屈折率を有する光
学素子、光学用レンズ及びその硬化性樹脂組成物に関す
る。
学素子、光学用レンズ及びその硬化性樹脂組成物に関す
る。
【０００２】
【従来の技術】カメラ、フィルム一体型カメラ（レンズ
付きフィルム）、ビデオカメラ等の各種カメラ、ＣＤ、
ＣＤ−ＲＯＭ、ＣＤ−Ｖｉｄｅｏ、ＭＯ、ＣＤ−Ｒ、Ｄ
ＶＤ等の光ピックアップ装置や複写機及びプリンター等
のＯＡ機器といった各種機器等に使用される光学素子に
は、高い光透過率、高い屈折率、成形後の低い残留複屈
折等の基本的な光学特性が必要とされる。更に、高い熱
安定性、高い硬度、低い吸水性、高い耐候性、耐溶剤性
等の種々の特性が要求される。また、低いコストで生産
することができ、良好な成形性が要求される。
付きフィルム）、ビデオカメラ等の各種カメラ、ＣＤ、
ＣＤ−ＲＯＭ、ＣＤ−Ｖｉｄｅｏ、ＭＯ、ＣＤ−Ｒ、Ｄ
ＶＤ等の光ピックアップ装置や複写機及びプリンター等
のＯＡ機器といった各種機器等に使用される光学素子に
は、高い光透過率、高い屈折率、成形後の低い残留複屈
折等の基本的な光学特性が必要とされる。更に、高い熱
安定性、高い硬度、低い吸水性、高い耐候性、耐溶剤性
等の種々の特性が要求される。また、低いコストで生産
することができ、良好な成形性が要求される。
【０００３】しかしながら従来の、例えば、ポリメチル
メタクリレート、ポリシクロヘキシルメタクリレート、
ポリスチレン、ポリカーボネート、ポリ−４−メチルペ
ンテン、ノルボルネン系ポリマー、ポリウレタン樹脂等
を用いて成形した光学用レンズは熱安定性が低く、高い
吸水性に伴う環境による光学特性の変動、高い複屈折等
の欠点を有しており、上述の要求に対しては未だ不十分
であった。
メタクリレート、ポリシクロヘキシルメタクリレート、
ポリスチレン、ポリカーボネート、ポリ−４−メチルペ
ンテン、ノルボルネン系ポリマー、ポリウレタン樹脂等
を用いて成形した光学用レンズは熱安定性が低く、高い
吸水性に伴う環境による光学特性の変動、高い複屈折等
の欠点を有しており、上述の要求に対しては未だ不十分
であった。
【０００４】また、耐熱性や耐薬品性が高いといわれる
ポリジエチレングリコールビスアリルカーボネートを用
いたプラスチックレンズが知られているが、低屈折率で
あり、また耐熱性もそれほど高いものではなかった。
ポリジエチレングリコールビスアリルカーボネートを用
いたプラスチックレンズが知られているが、低屈折率で
あり、また耐熱性もそれほど高いものではなかった。
【０００５】一般に、光学材料の屈折率が高いと同一の
屈折率を有するレンズエレメントをより曲率の小さい緩
い面で実現できる為、この面で発生する収差量を小さく
でき、レンズの枚数を削減したり、レンズの偏心感度を
低減したり、レンズ厚みを薄くしてレンズ系を小型軽量
化したりすることが可能になる。また、レンズ光沢面に
施す反射防止コートにおいても、レンズ光学面の中心か
ら周辺までコート物質の蒸着源に対して垂直に近い角度
を保てるため、均一な厚みでコート処理ができ、均一な
反射防止特性を得られるメリットがある。
屈折率を有するレンズエレメントをより曲率の小さい緩
い面で実現できる為、この面で発生する収差量を小さく
でき、レンズの枚数を削減したり、レンズの偏心感度を
低減したり、レンズ厚みを薄くしてレンズ系を小型軽量
化したりすることが可能になる。また、レンズ光沢面に
施す反射防止コートにおいても、レンズ光学面の中心か
ら周辺までコート物質の蒸着源に対して垂直に近い角度
を保てるため、均一な厚みでコート処理ができ、均一な
反射防止特性を得られるメリットがある。
【０００６】前記の光学用プラスチック材料において、
現在実用化されている屈折率の高いものでは、ポリカー
ボネート（ｎｄ＝１．５８、νｄ＝２９）やポリスチレ
ン（ｎｄ＝１．５７、νｄ＝３４）があるのみで、どち
らも複屈折が大きいため、用途に限界があった。
現在実用化されている屈折率の高いものでは、ポリカー
ボネート（ｎｄ＝１．５８、νｄ＝２９）やポリスチレ
ン（ｎｄ＝１．５７、νｄ＝３４）があるのみで、どち
らも複屈折が大きいため、用途に限界があった。
【０００７】特開平２−２２９８６０号にはシリコーン
ポリマー及び橋かけ剤を用いて形成された透明なシリコ
ーン組成物が提案されている。提案されているシリコー
ン組成物は高い光透過率を有しているが、機械的強度、
硬度が不充分であり、高い信頼性が要求される光学素子
には適さないものであった。
ポリマー及び橋かけ剤を用いて形成された透明なシリコ
ーン組成物が提案されている。提案されているシリコー
ン組成物は高い光透過率を有しているが、機械的強度、
硬度が不充分であり、高い信頼性が要求される光学素子
には適さないものであった。
【０００８】また、特開平１０−１５８４００号にはＪ
ＩＳ−Ａ硬度８５以上のシリコーン樹脂組成物からなる
光学レンズが提案されているが、屈折率ｎｄ１．５１と
低いものであった。
ＩＳ−Ａ硬度８５以上のシリコーン樹脂組成物からなる
光学レンズが提案されているが、屈折率ｎｄ１．５１と
低いものであった。
【０００９】一般のシリコーン系材料は光透過率が優れ
る、耐熱性がある、成形が可能である、成形後の残留複
屈折が低いなど光学用プラスチック材料としてユニーク
な特徴を有しているが、屈折率が低いため用途に限界が
あった。
る、耐熱性がある、成形が可能である、成形後の残留複
屈折が低いなど光学用プラスチック材料としてユニーク
な特徴を有しているが、屈折率が低いため用途に限界が
あった。
【００１０】シリコーン系材料がもつユニークな特性を
有し、尚かつ、ｎｄ１．５５以上の高い屈折率をもつ光
学用プラスチック材料、及び光学素子に関する提案は殆
どなされていないのが現状である。
有し、尚かつ、ｎｄ１．５５以上の高い屈折率をもつ光
学用プラスチック材料、及び光学素子に関する提案は殆
どなされていないのが現状である。
【００１１】即ち、光学素子として、高屈折率で、光透
過率が高く、成形後の残留複屈折が少なく、熱安定性が
高く、機械的強度が強く、吸水性が低く、耐候性の高い
成形材料が強く望まれていた。
過率が高く、成形後の残留複屈折が少なく、熱安定性が
高く、機械的強度が強く、吸水性が低く、耐候性の高い
成形材料が強く望まれていた。
【００１２】
【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、高屈
折率で、低残留複屈折、高光透過率等の光学的基本特性
に優れ、尚かつ、高い熱安定性、低い吸水性、高い機械
的強度及び硬度を有し、高性能と高信頼性が要求され
る、カメラ、フィルム一体型カメラ（レンズ付きフィル
ム）、ビデオカメラ等の各種カメラ、ＣＤ、ＣＤ−ＲＯ
Ｍ、ＣＤ−Ｖｉｄｅｏ、ＭＯ、ＣＤ−Ｒ、ＤＶＤ等の光
ピックアップ装置や複写機及びプリンター等のＯＡ機器
といった各種機器等に適した光学素子、光学用レンズ及
びその樹脂組成物を提供することにある。
折率で、低残留複屈折、高光透過率等の光学的基本特性
に優れ、尚かつ、高い熱安定性、低い吸水性、高い機械
的強度及び硬度を有し、高性能と高信頼性が要求され
る、カメラ、フィルム一体型カメラ（レンズ付きフィル
ム）、ビデオカメラ等の各種カメラ、ＣＤ、ＣＤ−ＲＯ
Ｍ、ＣＤ−Ｖｉｄｅｏ、ＭＯ、ＣＤ−Ｒ、ＤＶＤ等の光
ピックアップ装置や複写機及びプリンター等のＯＡ機器
といった各種機器等に適した光学素子、光学用レンズ及
びその樹脂組成物を提供することにある。
【００１３】
【課題を解決するための手段】本発明の上記目的は、下
記構成により達成された。
記構成により達成された。
【００１４】（１） 下記平均組成式〔Ｉ〕で表される
珪素系樹脂を含有することを特徴とする樹脂組成物。
珪素系樹脂を含有することを特徴とする樹脂組成物。
【００１５】平均組成式〔Ｉ〕 （Ｒ1）a（Ｒ2）bＳｉＯ(4-a-b)/2 〔式中、Ｒ1は、各々同じでも異なっても良い、水素原
子、水酸基、アミノ基、又は置換又は非置換の脂肪族
基、脂環式基、アリール基、複素環基、またはこれらの
基が酸素を介して珪素原子に結合された基から選ばれる
基を表す。Ｒ2は、内部回転異性性を付与しうる結合軸
を有するビアリール基または該ビアリール基が置換した
有機基を表す。ただし、０≦ａ＜１．５、０．３＜ｂ＜
１．８、０．８＜ａ＋ｂ＜１．８である。〕 （２） 上記平均組成式〔Ｉ〕で表される珪素系樹脂を
含有する樹脂組成物からなることを特徴とする光学素
子。
子、水酸基、アミノ基、又は置換又は非置換の脂肪族
基、脂環式基、アリール基、複素環基、またはこれらの
基が酸素を介して珪素原子に結合された基から選ばれる
基を表す。Ｒ2は、内部回転異性性を付与しうる結合軸
を有するビアリール基または該ビアリール基が置換した
有機基を表す。ただし、０≦ａ＜１．５、０．３＜ｂ＜
１．８、０．８＜ａ＋ｂ＜１．８である。〕 （２） 上記平均組成式〔Ｉ〕で表される珪素系樹脂を
含有する樹脂組成物からなることを特徴とする光学素
子。
【００１６】（３） 前記平均組成式〔Ｉ〕におけるＲ
1で示される置換基の少なくとも１種がアルケニル基で
あることを特徴とする前記２に記載の光学素子。
1で示される置換基の少なくとも１種がアルケニル基で
あることを特徴とする前記２に記載の光学素子。
【００１７】（４） 前記アルケニル基がビニル基であ
ることを特徴とする前記３に記載の光学素子。
ることを特徴とする前記３に記載の光学素子。
【００１８】（５） 前記平均組成式〔Ｉ〕におけるＲ
1で示される置換基の少なくとも１種が水素原子である
ことを特徴とする前記２に記載の光学素子。
1で示される置換基の少なくとも１種が水素原子である
ことを特徴とする前記２に記載の光学素子。
【００１９】（６） 前記２〜５のいずれか１項に記載
の光学素子を有することを特徴とする光学用レンズ。
の光学素子を有することを特徴とする光学用レンズ。
【００２０】（７） 光学用レンズの少なくとも一方の
光学面が非球面形状を有することを特徴とする前記６に
記載の光学用レンズ。
光学面が非球面形状を有することを特徴とする前記６に
記載の光学用レンズ。
【００２１】（８） 光学用レンズの光学面の両面が非
球面形状を有することを特徴とする前記７に記載の光学
用レンズ。
球面形状を有することを特徴とする前記７に記載の光学
用レンズ。
【００２２】以下に本発明を更に詳しく説明する。本発
明の目的の１つとしては、高屈折率を有する光学素子を
得ることであり、その達成手段としては、上記平均組成
式〔Ｉ〕で表される珪素系樹脂を含有する樹脂組成物か
らなる光学素子を用いることである。ここで、本発明は
熱硬化性の樹脂組成物からなることが好ましい。
明の目的の１つとしては、高屈折率を有する光学素子を
得ることであり、その達成手段としては、上記平均組成
式〔Ｉ〕で表される珪素系樹脂を含有する樹脂組成物か
らなる光学素子を用いることである。ここで、本発明は
熱硬化性の樹脂組成物からなることが好ましい。
【００２３】本発明においては、内部回転異性性を付与
しうる結合軸を有するビアリール基の存在が効果発現の
要因である。
しうる結合軸を有するビアリール基の存在が効果発現の
要因である。
【００２４】本発明の要点は、１，１′−ビナフチル基
の２つのナフタレン環をつなぐ結合軸に代表される「内
部回転異性性（アトロプ異性性）を付与しうる結合軸」
（以降単に「本発明の結合軸」と省略する）を有するビ
アリール基（またはそのビアリール基部分を有する有機
基）を珪素系樹脂やシリコーン樹脂に導入すると、単純
なフェニル基やナフチル基を導入した際に起こる複屈折
の大幅な増大を伴わずに、屈折率のみを大幅に増大させ
ることができることを見出したことである。
の２つのナフタレン環をつなぐ結合軸に代表される「内
部回転異性性（アトロプ異性性）を付与しうる結合軸」
（以降単に「本発明の結合軸」と省略する）を有するビ
アリール基（またはそのビアリール基部分を有する有機
基）を珪素系樹脂やシリコーン樹脂に導入すると、単純
なフェニル基やナフチル基を導入した際に起こる複屈折
の大幅な増大を伴わずに、屈折率のみを大幅に増大させ
ることができることを見出したことである。
【００２５】前記平均組成式〔Ｉ〕で示される珪素系樹
脂について説明する。
脂について説明する。
【００２６】Ｒ1は、水素原子、水酸基、アミノ基、ハ
ロゲン原子又は有機基から選ばれる基を表し、Ｒ1で示
されるこれらの基は、珪素系樹脂中のポリマー鎖中に、
幾つかの基が同時に存在することができることを意味す
る。
ロゲン原子又は有機基から選ばれる基を表し、Ｒ1で示
されるこれらの基は、珪素系樹脂中のポリマー鎖中に、
幾つかの基が同時に存在することができることを意味す
る。
【００２７】有機基としては、置換又は非置換の脂肪族
基、脂環式基、アリール基及び複素環基、又はこれらの
基が酸素を介して珪素原子に結合された基から選ばれる
基を表す。
基、脂環式基、アリール基及び複素環基、又はこれらの
基が酸素を介して珪素原子に結合された基から選ばれる
基を表す。
【００２８】置換又は非置換の脂肪族基としては、各々
置換または非置換のアルキル基、アルキレン基等を挙げ
ることができる。
置換または非置換のアルキル基、アルキレン基等を挙げ
ることができる。
【００２９】アルキル基としては、メチル基、エチル
基、プロピル基、ブチル基、ベンジル基、フェネチル
基、トリフロロメチル基、ベンジル基等が挙げられる。
アルキレン基としては、メチレン基、エチレン基、プロ
ピレン基、ブチレン基等が挙げられる。
基、プロピル基、ブチル基、ベンジル基、フェネチル
基、トリフロロメチル基、ベンジル基等が挙げられる。
アルキレン基としては、メチレン基、エチレン基、プロ
ピレン基、ブチレン基等が挙げられる。
【００３０】置換又は非置換の脂環式基としては、シク
ロペンチル基、シクロヘキシル基、アダマンチル基、ノ
ルボルニル基等の基が挙げられる。
ロペンチル基、シクロヘキシル基、アダマンチル基、ノ
ルボルニル基等の基が挙げられる。
【００３１】置換又は非置換のアリール基としては、フ
ェニル基、トリル基、キシリル基、ナフチル基、クロロ
フェニル基、トリブロモフェニル基、ペンタフルオロフ
ェニル基等の基が挙げられる。
ェニル基、トリル基、キシリル基、ナフチル基、クロロ
フェニル基、トリブロモフェニル基、ペンタフルオロフ
ェニル基等の基が挙げられる。
【００３２】置換又は非置換の複素環基としては、フリ
ル基、チエニル基、ピリジル基等の基が挙げられる。
ル基、チエニル基、ピリジル基等の基が挙げられる。
【００３３】更に、有機基としては、上記置換基が酸素
原子を介して珪素原子に結合される基を含み、例えば、
アルコキシ基、シクロアルキルオキシ基、アリールオキ
シ基、複素環オキシ基等の基が挙げられる。
原子を介して珪素原子に結合される基を含み、例えば、
アルコキシ基、シクロアルキルオキシ基、アリールオキ
シ基、複素環オキシ基等の基が挙げられる。
【００３４】本発明においては、前記平均組成式〔Ｉ〕
におけるＲ2で示される基、即ち、内部回転異性性を付
与しうる結合軸を有するビアリール基が高屈折率かつ低
複屈折を達成する上での重要な要素である。
におけるＲ2で示される基、即ち、内部回転異性性を付
与しうる結合軸を有するビアリール基が高屈折率かつ低
複屈折を達成する上での重要な要素である。
【００３５】次に内部回転異性性を付与しうる結合軸を
有するビアリール基について説明する。「内部回転異性
性を付与しうる結合軸」とは、例えば下記１，１′−ビ
ナフチルのナフタレン核とナフタレン核をつなぐ結合軸
のように、常温常圧下において立体障害により３６０度
の自由回転ができないような結合軸のことを意味し、便
宜的にはＣＰＫ模型を組んだ際に３６０度の自由回転が
できなければその結合軸は「内部回転異性性を付与しう
る結合軸」であると言うことができる。
有するビアリール基について説明する。「内部回転異性
性を付与しうる結合軸」とは、例えば下記１，１′−ビ
ナフチルのナフタレン核とナフタレン核をつなぐ結合軸
のように、常温常圧下において立体障害により３６０度
の自由回転ができないような結合軸のことを意味し、便
宜的にはＣＰＫ模型を組んだ際に３６０度の自由回転が
できなければその結合軸は「内部回転異性性を付与しう
る結合軸」であると言うことができる。
【００３６】
【化１】
【００３７】また、「内部回転異性性を付与しうる結合
軸」を有する化合物には異性体が存在し、その異性体を
「アトロプ異性体」または「内部回転光学異性体」（化
学大辞典；第６巻、第５８８ページ：共立出版）という
が、逆に言うと「内部回転異性性を付与しうる結合軸」
をもつ化合物（または置換基）とは「アトロプ異性体」
または「内部回転光学異性体」が存在する化合物（また
は置換基）と言い換えることもできる。
軸」を有する化合物には異性体が存在し、その異性体を
「アトロプ異性体」または「内部回転光学異性体」（化
学大辞典；第６巻、第５８８ページ：共立出版）という
が、逆に言うと「内部回転異性性を付与しうる結合軸」
をもつ化合物（または置換基）とは「アトロプ異性体」
または「内部回転光学異性体」が存在する化合物（また
は置換基）と言い換えることもできる。
【００３８】以下に「内部回転異性性を付与しうる結合
軸」を有する置換基の基本骨格（化１で示す化合物から
任意の位置の水素原子を取り除いたものが置換基とな
る。また、その基本骨格はさらに置換基によって置換さ
れていても良く、さらに縮合環を形成してもよい。）の
一例を示すが本発明はこれらに限定されるものではな
い。
軸」を有する置換基の基本骨格（化１で示す化合物から
任意の位置の水素原子を取り除いたものが置換基とな
る。また、その基本骨格はさらに置換基によって置換さ
れていても良く、さらに縮合環を形成してもよい。）の
一例を示すが本発明はこれらに限定されるものではな
い。
【００３９】
【化２】
【００４０】
【化３】
【００４１】
【化４】
【００４２】
【化５】
【００４３】
【化６】
【００４４】なお、構造式中のＲ101〜Ｒ137で表される
置換基は、Ｔａｆｔの立体的パラメータＥｓ値（Ｕｎｇ
ｅｒ，Ｓ．Ｈ．，Ｃ．：Ｐｒｏｇ．Ｐｈｙｓ．Ｏｒｇ．
Ｃｈｅｍ．１２，９１（１９７６）および「薬物の構造
活性相関−ドラッグデザインと作用機構研究への指針」
化学の領域増感１２２号 南江堂社刊 第１２４〜１２
６ページ）が−１．００よりも小さい置換基を表し、例
えば臭素原子、ヨウ素原子、メチル基、エチル基、プロ
ピル基等の直鎖アルキル基、イソプロピル基、ｔｅｒｔ
−ブチル基等の分岐アルキル基、シクロペンチル基、シ
クロブチル基等の環状アルキル基、フェニル基、ナフチ
ル基等の芳香族基、ピリジル基、イミダゾリル基、フリ
ル基等の複素環基、ニトロ基、メルカプト基等が挙げら
れる。
置換基は、Ｔａｆｔの立体的パラメータＥｓ値（Ｕｎｇ
ｅｒ，Ｓ．Ｈ．，Ｃ．：Ｐｒｏｇ．Ｐｈｙｓ．Ｏｒｇ．
Ｃｈｅｍ．１２，９１（１９７６）および「薬物の構造
活性相関−ドラッグデザインと作用機構研究への指針」
化学の領域増感１２２号 南江堂社刊 第１２４〜１２
６ページ）が−１．００よりも小さい置換基を表し、例
えば臭素原子、ヨウ素原子、メチル基、エチル基、プロ
ピル基等の直鎖アルキル基、イソプロピル基、ｔｅｒｔ
−ブチル基等の分岐アルキル基、シクロペンチル基、シ
クロブチル基等の環状アルキル基、フェニル基、ナフチ
ル基等の芳香族基、ピリジル基、イミダゾリル基、フリ
ル基等の複素環基、ニトロ基、メルカプト基等が挙げら
れる。
【００４５】この内部回転異性性を付与しうる結合軸を
有するビアリール基はさらに任意の置換基によって置換
されていてもよく、その置換基としては、アルキル基、
シクロアルキル基、アリール基、水酸基、アルコキシ
基、アリールオキシ基、メルカプト基、アルキルチオ
基、アリールチオ基、スルフィニル基、スルホニル基、
ニトロ基、シアノ基、エステル基、アミノ基、アシルア
ミノ基、スルホンアミド基、カルバモイル基、カルボキ
シル基、ハロゲン原子、複素環基等が挙げられる。好ま
しくはアルキルチオ基、アリールチオ基に代表される含
硫黄置換基、複素環基、塩素原子、臭素原子、沃素原子
等のハロゲン原子であるが、最も好ましくは臭素原子で
あり、臭素原子の持つ原子屈折率が８．８６５と高いこ
とにより、本発明の高屈折率を有する光学素子を形成す
るために有利である。又、複素環基としては７．８００
と比較的原子屈折の大きなイオウ原子を含む複素環が高
屈折率が得られる点でより好ましい。
有するビアリール基はさらに任意の置換基によって置換
されていてもよく、その置換基としては、アルキル基、
シクロアルキル基、アリール基、水酸基、アルコキシ
基、アリールオキシ基、メルカプト基、アルキルチオ
基、アリールチオ基、スルフィニル基、スルホニル基、
ニトロ基、シアノ基、エステル基、アミノ基、アシルア
ミノ基、スルホンアミド基、カルバモイル基、カルボキ
シル基、ハロゲン原子、複素環基等が挙げられる。好ま
しくはアルキルチオ基、アリールチオ基に代表される含
硫黄置換基、複素環基、塩素原子、臭素原子、沃素原子
等のハロゲン原子であるが、最も好ましくは臭素原子で
あり、臭素原子の持つ原子屈折率が８．８６５と高いこ
とにより、本発明の高屈折率を有する光学素子を形成す
るために有利である。又、複素環基としては７．８００
と比較的原子屈折の大きなイオウ原子を含む複素環が高
屈折率が得られる点でより好ましい。
【００４６】本発明に用いられる珪素系樹脂中において
は、Ｒ2で示される置換基のｍｏｌ％は０．３＜ｂ＜
１．８であるが、ｂはできるだけ大きい方が好ましく、
特に好ましくは、０．５＜ｂ＜１．８である。
は、Ｒ2で示される置換基のｍｏｌ％は０．３＜ｂ＜
１．８であるが、ｂはできるだけ大きい方が好ましく、
特に好ましくは、０．５＜ｂ＜１．８である。
【００４７】本発明に用いられる珪素系樹脂は、下記平
均組成式〔II〕で表されるオルガノポリシロキサンを含
有する硬化性樹脂組成物から形成されたものであること
が好ましい。
均組成式〔II〕で表されるオルガノポリシロキサンを含
有する硬化性樹脂組成物から形成されたものであること
が好ましい。
【００４８】平均組成式〔II〕 （Ｒ3）f（Ｒ2）gＳｉＯ(4-f-g)/2 式中、Ｒ3は、各々同じでも異なっても良く、水素原
子、水酸基、アミノ基、又は置換又は非置換の脂肪族
基、脂環式基、アリール基、複素環基、又はこれらの基
が酸素を介して珪素原子に結合された基から選ばれる基
を表し、Ｒ2は前記平均組成式〔Ｉ〕におけるＲ2と同義
である。０＜ｆ＜１．５、０．３＜ｇ＜１．８、０．８
＜ｆ＋ｇ＜１．８である。
子、水酸基、アミノ基、又は置換又は非置換の脂肪族
基、脂環式基、アリール基、複素環基、又はこれらの基
が酸素を介して珪素原子に結合された基から選ばれる基
を表し、Ｒ2は前記平均組成式〔Ｉ〕におけるＲ2と同義
である。０＜ｆ＜１．５、０．３＜ｇ＜１．８、０．８
＜ｆ＋ｇ＜１．８である。
【００４９】前記平均組成式〔II〕で表されるオルガノ
ポリシロキサンについて説明する。
ポリシロキサンについて説明する。
【００５０】本発明に用いられる平均組成式（Ｒ3）
f（Ｒ2）gＳｉＯ(4-f-g)/2（式中、Ｒ２は内部回転異性
性を付与しうる結合軸を有するビアリール基または該ビ
アリール基が置換した有機基を表す。）で示されるオル
ガノポリシロキサンの合成方法について述べる。
f（Ｒ2）gＳｉＯ(4-f-g)/2（式中、Ｒ２は内部回転異性
性を付与しうる結合軸を有するビアリール基または該ビ
アリール基が置換した有機基を表す。）で示されるオル
ガノポリシロキサンの合成方法について述べる。
【００５１】合成方法には二つの方法がある。第一の方
法について述べる。
法について述べる。
【００５２】上記Ｒ２基を置換基として有するハロシラ
ン、またはアルコキシシランと水素原子、水酸基、アル
キル基、シクロアルキル基、アルケニル基及びフェニル
基を置換基として有するハロシラン、またはアルコキシ
シランを共加水分解／重縮合することにより得ることが
できる。
ン、またはアルコキシシランと水素原子、水酸基、アル
キル基、シクロアルキル基、アルケニル基及びフェニル
基を置換基として有するハロシラン、またはアルコキシ
シランを共加水分解／重縮合することにより得ることが
できる。
【００５３】Ｒ2基を置換基として有するハロシラン、
またはアルコキシシランについて具体例を示す。
またはアルコキシシランについて具体例を示す。
【００５４】
【化７】
【００５５】
【化８】
【００５６】
【化９】
【００５７】
【化１０】
【００５８】
【化１１】
【００５９】
【化１２】
【００６０】
【化１３】
【００６１】
【化１４】
【００６２】
【化１５】
【００６３】以下に、本発明のＲ2基（Ｒ2は内部回転異
性性を付与しうる結合軸を有するビアリール基または該
ビアリール基が置換した有機基を表す。）を置換基とし
て有するハロシラン、またはアルコキシシランと混合し
て共加水分解／重縮合することのできるハロシラン、ま
たはアルコキシシランについて具体例を示す。
性性を付与しうる結合軸を有するビアリール基または該
ビアリール基が置換した有機基を表す。）を置換基とし
て有するハロシラン、またはアルコキシシランと混合し
て共加水分解／重縮合することのできるハロシラン、ま
たはアルコキシシランについて具体例を示す。
【００６４】ジエトキシ−１−ナフチルフェニルシラン ジメトキシ−１−ナフチルフェニルシラン ジエトキシジ−９−フェナントリルシラン ジ−５−アセナフテニルジエトキシシラン ジメトキシジ−１−ナフチルシラン ジエトキシジ−１−ナフチルシラン （ｐ−（ｐ−ブロモフェノキシ）フェニル）ジエトキシ
フェニルシラン （ｐ−ブロモフェニル）ジエトキシフェニルシラン ジエトキシ（ペンタクロロフェニル）シラン ジメトキシ（ペンタクロロフェニル）シラン （２−ヨードフェニル）ビス（１−メチルエトキシ）フ
ェニルシラン ビス（４−クロロフェニル）ジメトキシシラン ビス（４−クロロフェニル）ジエトキシシラン ビス（（１，１′−ビフェニル）−４−イル）ジメトキ
シシラン ジクロロジ−１Ｈ−インデン−１−イルシラン ジクロロ−２，４−シクロペンタジエン−１−イル−９
Ｈ−フルオレン−９−イルシラン ジクロロジ−９Ｈ−フルオレン−９−イルシラン ９−（ジクロロメチルシリル）−９Ｈ−カルバゾール ジクロロメチル（３−（１−フェナントリル）プロピ
ル）シラン ジクロロメチル（３−（１−ナフチル）プロピル）シラ
ン ジクロロメチル（３−（１−ナフチル）エチル）シラン クロロジメチル−１−ピレニル−シラン ２−（ジクロロフェニルシリル）−１−メチル−１Ｈ−
インドール 等を挙げることが出来る。これらの化合物は何れも公知
のハロシラン、アルコキシシランである。
フェニルシラン （ｐ−ブロモフェニル）ジエトキシフェニルシラン ジエトキシ（ペンタクロロフェニル）シラン ジメトキシ（ペンタクロロフェニル）シラン （２−ヨードフェニル）ビス（１−メチルエトキシ）フ
ェニルシラン ビス（４−クロロフェニル）ジメトキシシラン ビス（４−クロロフェニル）ジエトキシシラン ビス（（１，１′−ビフェニル）−４−イル）ジメトキ
シシラン ジクロロジ−１Ｈ−インデン−１−イルシラン ジクロロ−２，４−シクロペンタジエン−１−イル−９
Ｈ−フルオレン−９−イルシラン ジクロロジ−９Ｈ−フルオレン−９−イルシラン ９−（ジクロロメチルシリル）−９Ｈ−カルバゾール ジクロロメチル（３−（１−フェナントリル）プロピ
ル）シラン ジクロロメチル（３−（１−ナフチル）プロピル）シラ
ン ジクロロメチル（３−（１−ナフチル）エチル）シラン クロロジメチル−１−ピレニル−シラン ２−（ジクロロフェニルシリル）−１−メチル−１Ｈ−
インドール 等を挙げることが出来る。これらの化合物は何れも公知
のハロシラン、アルコキシシランである。
【００６５】他の各種のクロロシラン化合物はダウ・コ
ーニング・コーポレーション（米国）、信越化学工業
（株）等から市販されている。例えば、信越化学工業
（株）の珪素化合物試薬カタログには以下のクロロシラ
ン化合物が記載されており、これらも併用することがで
きる。
ーニング・コーポレーション（米国）、信越化学工業
（株）等から市販されている。例えば、信越化学工業
（株）の珪素化合物試薬カタログには以下のクロロシラ
ン化合物が記載されており、これらも併用することがで
きる。
【００６６】テトラクロロシラン（商品名、ＬＳ−１
０）、トリクロロシラン（商品名、ＬＳ−２０）、メチ
ルトリクロロシラン（商品名、ＬＳ−４０）、ビニルト
リクロロシラン（商品名、ＬＳ−７０）、ジメチルジク
ロロシラン（商品名、ＬＳ−１３０）、メチルビニルジ
クロロシラン（商品名、ＬＳ−１９０）、トリメチルク
ロロシラン（商品名、ＬＳ−２６０）、ジビニルジクロ
ロシラン（商品名、ＬＳ−３３５）、ジメチルビニルク
ロロシラン（商品名、ＬＳ−３８０）、アリルジメチル
クロロシラン（商品名、ＬＳ−６５０）、４−クロロフ
ェニルトリクロロシラン（商品名、ＬＳ−９１５）、フ
ェニルトリクロロシラン（商品名ＬＳ−９２０）、シク
ロヘキシルトリクロロシラン（商品名、ＬＳ−９７
０）、ベンジルトリクロロシラン（商品名、ＬＳ−１４
６５）、ｐ−トルイルトリクロロシラン（商品名、ＬＳ
−１４８０）、フェニルビニルジクロロシラン（商品
名、ＬＳ−１９８０）、ジメチルフェニルクロロシラン
（商品名、ＬＳ−２０００）、オクチルトリクロロシラ
ン（商品名、ＬＳ−２１９０）、メチルフェニルビニル
クロロシラン（商品名、ＬＳ−２５２０）、トリフェニ
ルクロロシラン（商品名、ＬＳ−６３７０）、トリベン
ジルクロロシラン（商品名、ＬＳ−６８００）。
０）、トリクロロシラン（商品名、ＬＳ−２０）、メチ
ルトリクロロシラン（商品名、ＬＳ−４０）、ビニルト
リクロロシラン（商品名、ＬＳ−７０）、ジメチルジク
ロロシラン（商品名、ＬＳ−１３０）、メチルビニルジ
クロロシラン（商品名、ＬＳ−１９０）、トリメチルク
ロロシラン（商品名、ＬＳ−２６０）、ジビニルジクロ
ロシラン（商品名、ＬＳ−３３５）、ジメチルビニルク
ロロシラン（商品名、ＬＳ−３８０）、アリルジメチル
クロロシラン（商品名、ＬＳ−６５０）、４−クロロフ
ェニルトリクロロシラン（商品名、ＬＳ−９１５）、フ
ェニルトリクロロシラン（商品名ＬＳ−９２０）、シク
ロヘキシルトリクロロシラン（商品名、ＬＳ−９７
０）、ベンジルトリクロロシラン（商品名、ＬＳ−１４
６５）、ｐ−トルイルトリクロロシラン（商品名、ＬＳ
−１４８０）、フェニルビニルジクロロシラン（商品
名、ＬＳ−１９８０）、ジメチルフェニルクロロシラン
（商品名、ＬＳ−２０００）、オクチルトリクロロシラ
ン（商品名、ＬＳ−２１９０）、メチルフェニルビニル
クロロシラン（商品名、ＬＳ−２５２０）、トリフェニ
ルクロロシラン（商品名、ＬＳ−６３７０）、トリベン
ジルクロロシラン（商品名、ＬＳ−６８００）。
【００６７】本発明においては、置換基としてＲ2基を
有するハロシラン化合物又はアルコキシシラン化合物
と、上記のような公知または市販されているハロシラン
化合物又はアルコキシシラン化合物とを、配合比及び反
応条件等を変化することにより、得られるオルガノポリ
シロキサン中のＲ2基の含有ｍｏｌ％、分岐及び網目構
造、反応性基の種類、量、分子量、粘度等を制御するこ
とが可能であり、多様なオルガノポリシロキサンを調製
することが可能である。
有するハロシラン化合物又はアルコキシシラン化合物
と、上記のような公知または市販されているハロシラン
化合物又はアルコキシシラン化合物とを、配合比及び反
応条件等を変化することにより、得られるオルガノポリ
シロキサン中のＲ2基の含有ｍｏｌ％、分岐及び網目構
造、反応性基の種類、量、分子量、粘度等を制御するこ
とが可能であり、多様なオルガノポリシロキサンを調製
することが可能である。
【００６８】前記平均組成式〔II〕で示されるオルガノ
ポリシロキサンの具体例としては下記平均組成式で示さ
れるものが例示される。
ポリシロキサンの具体例としては下記平均組成式で示さ
れるものが例示される。
【００６９】以下の記載においてＶｉはビニル基、Ｍｅ
はメチル基、Ｐｈはフェニル基、ＤＢＰｈは２，４−ジ
ブロモフェニル基を示す。さらにその他の置換基とその
略号の関係は下記のとおりとする。
はメチル基、Ｐｈはフェニル基、ＤＢＰｈは２，４−ジ
ブロモフェニル基を示す。さらにその他の置換基とその
略号の関係は下記のとおりとする。
【００７０】
【化１６】
【００７１】
【化１７】
【００７２】
【化１８】
【００７３】Ｓ−１（ＶｉＭｅ2ＳｉＯ1/2）A（ＰｈＳ
ｉＯ3/2）B（（ＢＮＰ）2ＳｉＯ2/2）C Ｓ−２（Ｍｅ3ＳｉＯ1/2）A（ＳｉＯ4/2）B（ＰｈＶｉ
ＳｉＯ2/2）C（（ＢＮＰＤ）1/2ＳｉＯ3/2）D Ｓ−３（ＶｉＭｅ2ＳｉＯ1/2）A（Ｐｈ（ＢＮＰ）Ｓｉ
Ｏ2/2）B（ＳｉＯ4/2）C（Ｍｅ3ＳｉＯ1/2）D S-4(ViMe2ＳｉＯ1/2）A（（ＢＡＴ）ＳｉＯ2/2）B（Ｓ
ｉＯ4/2）C（Ｐｈ3ＳｉＯ1/2）D Ｓ−５（ＶｉＭｅ2ＳｉＯ1/2）A（（ＢＡＴＤ）1/2Ｓｉ
Ｏ3/2）B（ＳｉＯ4/2）C（Ｍｅ3ＳｉＯ1/2）D Ｓ−６（ＰｈＭｅ2ＳｉＯ1/2）A（Ｂｅｎｚｙｌ（ＢＮ
Ｐ）ＳｉＯ2/2）B（ＶｉＭｅＳｉＯ2/2）C（ＰｈＳｉＯ
3/2）D Ｓ−７（Ｍｅ3ＳｉＯ1/2）A（Ｖｉ（ＢＮＰ）Ｓｉ
Ｏ2/2）B（ＭｅＳｉＯ3/2）C（Ｐｈ2ＶｉＳｉＯ1/2）D Ｓ−８（Ｍｅ3ＳｉＯ1/2）A（Ｍｅ（ＢＮＰＤ）1/2Ｓｉ
Ｏ2/2）B（ＳｉＯ4/2）C（ＶｉＳｉＯ3/2）D Ｓ−９（ＶｉＰｈ2ＳｉＯ1/2）A（Ｍｅ2（ＢＮＰＤ）
1/2ＳｉＯ1/2）B（ＳｉＯ4/2）C（ＰｈＳｉＯ3/2）D Ｓ−１０（ＶｉＭｅ2ＳｉＯ1/2）A（（ＰＮＮＰ）2Ｓｉ
Ｏ2/2）B（ＳｉＯ4/2）C（Ｍｅ3ＳｉＯ1/2）D Ｓ−１１（ＶｉＭｅ2ＳｉＯ1/2）A（ＰｈＳｉＯ3/2）B
（（ＣＬＮＰ）2ＳｉＯ2/2）C Ｓ−１２（Ｍｅ3ＳｉＯ1/2）A（ＳｉＯ4/2）B（ＰｈＶ
ｉＳｉＯ2/2）C（（ＭＯＢＮＤ）1/2ＳｉＯ3/2）D Ｓ−１３（ＶｉＭｅ2ＳｉＯ1/2）A（（ＭＯＢＮ）Ｓｉ
Ｏ3/2）B（ＳｉＯ4/2）C（Ｍｅ3ＳｉＯ1/2）D Ｓ−１４（ＶｉＭｅ2ＳｉＯ1/2）A（（ＢＮＰＨ）2Ｓｉ
Ｏ2/2）B（ＳｉＯ4/2）C（Ｐｈ3ＳｉＯ1/2）D Ｓ−１５（ＶｉＭｅ2ＳｉＯ1/2）A（（ＢＮＡＤ）1/2Ｓ
ｉＯ3/2）B（ＳｉＯ4/2）C（Ｍｅ3ＳｉＯ1/2）D Ｓ−１６（Ｍｅ3ＳｉＯ1/2）A（ＳｉＯ4/2）B（Ｖｉ
（ＰＮＣＡ）ＳｉＯ2/2）C（（ＭＯＢＮＤ）1/2ＳｉＯ
3/2）D Ｓ−１７（ＨＭｅ2ＳｉＯ1/2）A（ＰｈＳｉＯ3/2）
B（（ＢＮＰ）2ＳｉＯ2/2）C Ｓ−１８（Ｍｅ3ＳｉＯ1/2）A（ＳｉＯ4/2）B（ＰｈＨ
ＳｉＯ2/2）C（（ＢＢＮＰ）ＳｉＯ3/2）D Ｓ−１９（ＨＭｅ2ＳｉＯ1/2）A（Ｍｅ（ＭＥＮＰ）Ｓ
ｉＯ2/2）B（ＳｉＯ4/2）C（Ｍｅ3ＳｉＯ1/2）D Ｓ−２０（ＨＭｅ2ＳｉＯ1/2）A（（ＰＮＮＰ）ＳｉＯ
3/2）B（ＳｉＯ4/2）C（Ｐｈ3ＳｉＯ1/2）D Ｓ−２１（ＨＭｅ2ＳｉＯ1/2）A（ＤＢＰｈ（ＢＢＮ
Ｐ）ＳｉＯ2/2）B（ＳｉＯ4/2）C（Ｍｅ3ＳｉＯ1/2）D Ｓ−２２（ＨＭｅ2ＳｉＯ1/2）A（ＰｈＳｉＯ3/2）
B（（ＢＮＣＡ）ＳｉＯ3/2）C Ｓ−２３（Ｍｅ3ＳｉＯ1/2）A（ＳｉＯ4/2）B（Ｈ（Ｂ
ＮＰＤ）1/2ＳｉＯ2/2）C（（ＢＢＮＰ）ＳｉＯ3/2）D Ｓ−２４（ＨＭｅ2ＳｉＯ1/2）A（Ｐｈ（ＣＬＮＰ）Ｓ
ｉＯ2/2）B（ＳｉＯ4/2）C（Ｍｅ3ＳｉＯ1/2）D Ｓ−２５（ＨＭｅ2ＳｉＯ1/2）A（（ＡＢＮ）Ｓｉ
Ｏ3/2）B（ＳｉＯ4/2）C（Ｐｈ3ＳｉＯ1/2）D Ｓ−２６（ＨＭｅ2ＳｉＯ1/2）A（（ＡＢＮＤ）1/2Ｓｉ
Ｏ3/2）B（ＳｉＯ4/2）C（Ｍｅ3ＳｉＯ1/2）D Ｓ−２７（ＰｈＭｅ2ＳｉＯ1/2）A（（ＭＯＢＮＤ）1/2
ＳｉＯ3/2）B（ＨＭｅＳｉＯ2/2）C（ＰｈＳｉＯ3/2）D Ｓ−２８（Ｍｅ3ＳｉＯ1/2）A（Ｍｅ（ＮＭＢＰ）Ｓｉ
Ｏ2/2）B（ＭｅＳｉＯ3/2）C（Ｐｈ2ＨＳｉＯ1/2）D Ｓ−２９（ＨＭｅ2ＳｉＯ1/2）A（（ＢＮＡＤ）1/2Ｓｉ
Ｏ3/2）B（ＳｉＯ4/2）C（ＰｈＳｉＯ3/2）D Ｓ−３０（ＨＰｈ2ＳｉＯ1/2）A（Ｍｅ（ＢＢＮＰ）Ｓ
ｉＯ2/2）B（ＳｉＯ4/2）C（ＰｈＳｉＯ3/2）D Ｓ−３１（ＨＭｅ2ＳｉＯ1/2）A（（ＡＢＮＤ）1/2Ｓｉ
Ｏ3/2）B（ＳｉＯ4/2）C（Ｍｅ3ＳｉＯ1/2）D （但し、Ａ〜Ｄは１未満の正の数であり、各式において
Ａ〜Ｄ（ＤがないものはＡ〜Ｃ）の合計は１．０であ
る。） これらのオルガノポリシロキサンは上記の式におけるそ
れぞれの構成単位に対応するハロシラン、またはアルコ
キシシランを共加水分解／重縮合する公知の方法で得る
ことができる。
ｉＯ3/2）B（（ＢＮＰ）2ＳｉＯ2/2）C Ｓ−２（Ｍｅ3ＳｉＯ1/2）A（ＳｉＯ4/2）B（ＰｈＶｉ
ＳｉＯ2/2）C（（ＢＮＰＤ）1/2ＳｉＯ3/2）D Ｓ−３（ＶｉＭｅ2ＳｉＯ1/2）A（Ｐｈ（ＢＮＰ）Ｓｉ
Ｏ2/2）B（ＳｉＯ4/2）C（Ｍｅ3ＳｉＯ1/2）D S-4(ViMe2ＳｉＯ1/2）A（（ＢＡＴ）ＳｉＯ2/2）B（Ｓ
ｉＯ4/2）C（Ｐｈ3ＳｉＯ1/2）D Ｓ−５（ＶｉＭｅ2ＳｉＯ1/2）A（（ＢＡＴＤ）1/2Ｓｉ
Ｏ3/2）B（ＳｉＯ4/2）C（Ｍｅ3ＳｉＯ1/2）D Ｓ−６（ＰｈＭｅ2ＳｉＯ1/2）A（Ｂｅｎｚｙｌ（ＢＮ
Ｐ）ＳｉＯ2/2）B（ＶｉＭｅＳｉＯ2/2）C（ＰｈＳｉＯ
3/2）D Ｓ−７（Ｍｅ3ＳｉＯ1/2）A（Ｖｉ（ＢＮＰ）Ｓｉ
Ｏ2/2）B（ＭｅＳｉＯ3/2）C（Ｐｈ2ＶｉＳｉＯ1/2）D Ｓ−８（Ｍｅ3ＳｉＯ1/2）A（Ｍｅ（ＢＮＰＤ）1/2Ｓｉ
Ｏ2/2）B（ＳｉＯ4/2）C（ＶｉＳｉＯ3/2）D Ｓ−９（ＶｉＰｈ2ＳｉＯ1/2）A（Ｍｅ2（ＢＮＰＤ）
1/2ＳｉＯ1/2）B（ＳｉＯ4/2）C（ＰｈＳｉＯ3/2）D Ｓ−１０（ＶｉＭｅ2ＳｉＯ1/2）A（（ＰＮＮＰ）2Ｓｉ
Ｏ2/2）B（ＳｉＯ4/2）C（Ｍｅ3ＳｉＯ1/2）D Ｓ−１１（ＶｉＭｅ2ＳｉＯ1/2）A（ＰｈＳｉＯ3/2）B
（（ＣＬＮＰ）2ＳｉＯ2/2）C Ｓ−１２（Ｍｅ3ＳｉＯ1/2）A（ＳｉＯ4/2）B（ＰｈＶ
ｉＳｉＯ2/2）C（（ＭＯＢＮＤ）1/2ＳｉＯ3/2）D Ｓ−１３（ＶｉＭｅ2ＳｉＯ1/2）A（（ＭＯＢＮ）Ｓｉ
Ｏ3/2）B（ＳｉＯ4/2）C（Ｍｅ3ＳｉＯ1/2）D Ｓ−１４（ＶｉＭｅ2ＳｉＯ1/2）A（（ＢＮＰＨ）2Ｓｉ
Ｏ2/2）B（ＳｉＯ4/2）C（Ｐｈ3ＳｉＯ1/2）D Ｓ−１５（ＶｉＭｅ2ＳｉＯ1/2）A（（ＢＮＡＤ）1/2Ｓ
ｉＯ3/2）B（ＳｉＯ4/2）C（Ｍｅ3ＳｉＯ1/2）D Ｓ−１６（Ｍｅ3ＳｉＯ1/2）A（ＳｉＯ4/2）B（Ｖｉ
（ＰＮＣＡ）ＳｉＯ2/2）C（（ＭＯＢＮＤ）1/2ＳｉＯ
3/2）D Ｓ−１７（ＨＭｅ2ＳｉＯ1/2）A（ＰｈＳｉＯ3/2）
B（（ＢＮＰ）2ＳｉＯ2/2）C Ｓ−１８（Ｍｅ3ＳｉＯ1/2）A（ＳｉＯ4/2）B（ＰｈＨ
ＳｉＯ2/2）C（（ＢＢＮＰ）ＳｉＯ3/2）D Ｓ−１９（ＨＭｅ2ＳｉＯ1/2）A（Ｍｅ（ＭＥＮＰ）Ｓ
ｉＯ2/2）B（ＳｉＯ4/2）C（Ｍｅ3ＳｉＯ1/2）D Ｓ−２０（ＨＭｅ2ＳｉＯ1/2）A（（ＰＮＮＰ）ＳｉＯ
3/2）B（ＳｉＯ4/2）C（Ｐｈ3ＳｉＯ1/2）D Ｓ−２１（ＨＭｅ2ＳｉＯ1/2）A（ＤＢＰｈ（ＢＢＮ
Ｐ）ＳｉＯ2/2）B（ＳｉＯ4/2）C（Ｍｅ3ＳｉＯ1/2）D Ｓ−２２（ＨＭｅ2ＳｉＯ1/2）A（ＰｈＳｉＯ3/2）
B（（ＢＮＣＡ）ＳｉＯ3/2）C Ｓ−２３（Ｍｅ3ＳｉＯ1/2）A（ＳｉＯ4/2）B（Ｈ（Ｂ
ＮＰＤ）1/2ＳｉＯ2/2）C（（ＢＢＮＰ）ＳｉＯ3/2）D Ｓ−２４（ＨＭｅ2ＳｉＯ1/2）A（Ｐｈ（ＣＬＮＰ）Ｓ
ｉＯ2/2）B（ＳｉＯ4/2）C（Ｍｅ3ＳｉＯ1/2）D Ｓ−２５（ＨＭｅ2ＳｉＯ1/2）A（（ＡＢＮ）Ｓｉ
Ｏ3/2）B（ＳｉＯ4/2）C（Ｐｈ3ＳｉＯ1/2）D Ｓ−２６（ＨＭｅ2ＳｉＯ1/2）A（（ＡＢＮＤ）1/2Ｓｉ
Ｏ3/2）B（ＳｉＯ4/2）C（Ｍｅ3ＳｉＯ1/2）D Ｓ−２７（ＰｈＭｅ2ＳｉＯ1/2）A（（ＭＯＢＮＤ）1/2
ＳｉＯ3/2）B（ＨＭｅＳｉＯ2/2）C（ＰｈＳｉＯ3/2）D Ｓ−２８（Ｍｅ3ＳｉＯ1/2）A（Ｍｅ（ＮＭＢＰ）Ｓｉ
Ｏ2/2）B（ＭｅＳｉＯ3/2）C（Ｐｈ2ＨＳｉＯ1/2）D Ｓ−２９（ＨＭｅ2ＳｉＯ1/2）A（（ＢＮＡＤ）1/2Ｓｉ
Ｏ3/2）B（ＳｉＯ4/2）C（ＰｈＳｉＯ3/2）D Ｓ−３０（ＨＰｈ2ＳｉＯ1/2）A（Ｍｅ（ＢＢＮＰ）Ｓ
ｉＯ2/2）B（ＳｉＯ4/2）C（ＰｈＳｉＯ3/2）D Ｓ−３１（ＨＭｅ2ＳｉＯ1/2）A（（ＡＢＮＤ）1/2Ｓｉ
Ｏ3/2）B（ＳｉＯ4/2）C（Ｍｅ3ＳｉＯ1/2）D （但し、Ａ〜Ｄは１未満の正の数であり、各式において
Ａ〜Ｄ（ＤがないものはＡ〜Ｃ）の合計は１．０であ
る。） これらのオルガノポリシロキサンは上記の式におけるそ
れぞれの構成単位に対応するハロシラン、またはアルコ
キシシランを共加水分解／重縮合する公知の方法で得る
ことができる。
【００７４】例えばＳ−１を合成する場合には、ジメチ
ルビニルクロロシランとフェニルトリエトキシシランお
よびＡ−３をモル比でＡ：Ｂ：Ｃ（但し、Ａ〜Ｃは１未
満の正の数であり、Ａ〜Ｃ合計は１．０である。）にな
るように混合し、それを水含有溶媒中、酸または塩基触
媒を用いて共加水分解／重縮合行うことにより得ること
ができる。
ルビニルクロロシランとフェニルトリエトキシシランお
よびＡ−３をモル比でＡ：Ｂ：Ｃ（但し、Ａ〜Ｃは１未
満の正の数であり、Ａ〜Ｃ合計は１．０である。）にな
るように混合し、それを水含有溶媒中、酸または塩基触
媒を用いて共加水分解／重縮合行うことにより得ること
ができる。
【００７５】同様にＳ−２を合成する場合には、トリメ
チルメトキシシラン、テトラメトキシシラン、フェニル
ビニルジクロロシランおよびＡ−１５をモル比でＡ：
Ｂ：Ｃ：Ｄ（但し、Ａ〜Ｄは１未満の正の数であり、Ａ
〜Ｄの合計は１．０である。）になるように混合し、そ
れを水含有溶媒中、酸または塩基触媒を用いて共加水分
解／重縮合行うことにより得ることができる。
チルメトキシシラン、テトラメトキシシラン、フェニル
ビニルジクロロシランおよびＡ−１５をモル比でＡ：
Ｂ：Ｃ：Ｄ（但し、Ａ〜Ｄは１未満の正の数であり、Ａ
〜Ｄの合計は１．０である。）になるように混合し、そ
れを水含有溶媒中、酸または塩基触媒を用いて共加水分
解／重縮合行うことにより得ることができる。
【００７６】次に第２の合成方法について述べる。
【００７７】分子中に最低２個以上の水素原子を含有す
るオルガノハイドロジェンポリシロキサンとアルケニル
基（好ましくは末端オレフィン）を有するポリシロキサ
ン、有機ポリマー、有機低分子化合物または内部回転異
性性を付与しうる結合軸を有するビアリール化合物を白
金触媒下でハイドロシリレーション反応により付加重合
する（この際、オルガノハイドロジェンポリシロキサン
かアルケニル基含有化合物の少なくとも一方には内部回
転異性性を付与しうる結合軸を有するビアリール基が含
まれている）ことにより、オルガノポリシロキサンに本
発明の結合軸を有するビアリール基を導入する方法であ
る。この方法は、シリコーン工業においては公知の手法
である。
るオルガノハイドロジェンポリシロキサンとアルケニル
基（好ましくは末端オレフィン）を有するポリシロキサ
ン、有機ポリマー、有機低分子化合物または内部回転異
性性を付与しうる結合軸を有するビアリール化合物を白
金触媒下でハイドロシリレーション反応により付加重合
する（この際、オルガノハイドロジェンポリシロキサン
かアルケニル基含有化合物の少なくとも一方には内部回
転異性性を付与しうる結合軸を有するビアリール基が含
まれている）ことにより、オルガノポリシロキサンに本
発明の結合軸を有するビアリール基を導入する方法であ
る。この方法は、シリコーン工業においては公知の手法
である。
【００７８】オルガノハイドロジェンポリシロキサンと
しては、両末端トリメチルシロキシ基封鎖メチルハイド
ロジェンポリシロキサン、両末端トリメチルシロキシ基
封鎖ジメチルシロキサン・メチルハイドロジェンポリシ
ロキサン共重合体、両末端ジメチルハイドロジェンシロ
キシ基封鎖ジメチルシロキサン、および前記Ｓ−１７〜
Ｓ−３１等を挙げることが出来る。
しては、両末端トリメチルシロキシ基封鎖メチルハイド
ロジェンポリシロキサン、両末端トリメチルシロキシ基
封鎖ジメチルシロキサン・メチルハイドロジェンポリシ
ロキサン共重合体、両末端ジメチルハイドロジェンシロ
キシ基封鎖ジメチルシロキサン、および前記Ｓ−１７〜
Ｓ−３１等を挙げることが出来る。
【００７９】アルケニル基を有する化合物としては、ビ
ニル基含有ポリシロキサン、ジメチルジビニルシラン、
ビニル基やアリル基アクリル基、メタクリル基等を含有
する有機オリゴマーまたはポリマー、前記Ｓ−１〜Ｓ−
１６および以下に示すような分子内にアルケニル基を含
有する内部回転異性性を付与しうる結合軸を有するビア
リール化合物等を挙げることが出来る。
ニル基含有ポリシロキサン、ジメチルジビニルシラン、
ビニル基やアリル基アクリル基、メタクリル基等を含有
する有機オリゴマーまたはポリマー、前記Ｓ−１〜Ｓ−
１６および以下に示すような分子内にアルケニル基を含
有する内部回転異性性を付与しうる結合軸を有するビア
リール化合物等を挙げることが出来る。
【００８０】
【化１９】
【００８１】
【化２０】
【００８２】本発明の光学素子は本発明のオルガノポリ
シロキサンを含有する硬化性樹脂組成物から形成され、
これらの硬化性樹脂組成物は、更に下記のポリエステル
系樹脂、ポリウレタン系樹脂、アクリル系樹脂、スチレ
ン系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、ポリオレフィン系
樹脂、本発明外のシリコーン系樹脂等を含有させること
ができる。
シロキサンを含有する硬化性樹脂組成物から形成され、
これらの硬化性樹脂組成物は、更に下記のポリエステル
系樹脂、ポリウレタン系樹脂、アクリル系樹脂、スチレ
ン系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、ポリオレフィン系
樹脂、本発明外のシリコーン系樹脂等を含有させること
ができる。
【００８３】本発明の光学素子のシロキサン構成単位の
組成としては、３官能シロキサン単位及び／又は４官能
シロキサン単位を主な構成単位とすることが好ましい。
組成としては、３官能シロキサン単位及び／又は４官能
シロキサン単位を主な構成単位とすることが好ましい。
【００８４】本発明でいう主な構成単位とは、シリコー
ン系樹脂を構成する全珪素原子に対して３官能シロキサ
ン単位の含有ｍｏｌ％、及び４官能シロキサン単位含有
ｍｏｌ％の和が５ｍｏｌ％以上９０ｍｏｌ％以下である
ことが好ましい。特に好ましくは、１５ｍｏｌ％以上、
８５ｍｏｌ％以下である。５ｍｏｌ％以上とすることに
よって、得られる光学素子成形品の硬度を高くすること
ができ、増加することによって更に硬度を高くする事が
できる。しかしながら、あまり高くすると脆さを生じて
くるので、光学素子成形品の耐衝撃性を保持するために
は９０ｍｏｌ％以下であることが好ましい。
ン系樹脂を構成する全珪素原子に対して３官能シロキサ
ン単位の含有ｍｏｌ％、及び４官能シロキサン単位含有
ｍｏｌ％の和が５ｍｏｌ％以上９０ｍｏｌ％以下である
ことが好ましい。特に好ましくは、１５ｍｏｌ％以上、
８５ｍｏｌ％以下である。５ｍｏｌ％以上とすることに
よって、得られる光学素子成形品の硬度を高くすること
ができ、増加することによって更に硬度を高くする事が
できる。しかしながら、あまり高くすると脆さを生じて
くるので、光学素子成形品の耐衝撃性を保持するために
は９０ｍｏｌ％以下であることが好ましい。
【００８５】本発明の光学素子はシラザン、ポリシラ
ン、シルフェニレン、シルアルキレン等のシロキサン構
造単位以外の珪素原子を含有する構造単位を構成単位と
してもつことができる。
ン、シルフェニレン、シルアルキレン等のシロキサン構
造単位以外の珪素原子を含有する構造単位を構成単位と
してもつことができる。
【００８６】更に、光学素子成形品の硬度、耐衝撃性な
どの一般機械的物性が優れるので硬化性珪素系樹脂組成
物からなる光学素子が特に好ましい。
どの一般機械的物性が優れるので硬化性珪素系樹脂組成
物からなる光学素子が特に好ましい。
【００８７】硬化性珪素系樹脂組成物としては、光及び
電子線硬化性珪素系樹脂組成物、室温硬化性珪素系樹脂
組成物、熱硬化性珪素系樹脂組成物などを挙げることが
できる。成形加工が容易である点で熱硬化性珪素系樹脂
組成物が特に好ましい。
電子線硬化性珪素系樹脂組成物、室温硬化性珪素系樹脂
組成物、熱硬化性珪素系樹脂組成物などを挙げることが
できる。成形加工が容易である点で熱硬化性珪素系樹脂
組成物が特に好ましい。
【００８８】以下、熱硬化性珪素系樹脂組成物について
詳しく説明する。
詳しく説明する。
【００８９】一般に、熱硬化性珪素系樹脂組成物からな
る光学素子は、１種または複数のオルガノポリシロキサ
ン、硬化剤、触媒を金型にいれ、金型中で熱硬化させ成
形することにより製造される。熱硬化反応としては縮合
架橋、パーオキサイド架橋、白金付加架橋などの反応を
用いることができる。特に、白金触媒を用いた付加重合
反応による熱硬化が好ましい。
る光学素子は、１種または複数のオルガノポリシロキサ
ン、硬化剤、触媒を金型にいれ、金型中で熱硬化させ成
形することにより製造される。熱硬化反応としては縮合
架橋、パーオキサイド架橋、白金付加架橋などの反応を
用いることができる。特に、白金触媒を用いた付加重合
反応による熱硬化が好ましい。
【００９０】本発明の光学素子は、１種、または複数の
前記平均組成式〔II〕で示されるオルガノポリシロキサ
ンと、反応性基を介して架橋可能なオルガノポリシロキ
サン、及び触媒を金型に入れ、金型中で熱硬化させ成形
することにより製造される。
前記平均組成式〔II〕で示されるオルガノポリシロキサ
ンと、反応性基を介して架橋可能なオルガノポリシロキ
サン、及び触媒を金型に入れ、金型中で熱硬化させ成形
することにより製造される。
【００９１】熱硬化に白金触媒を用いた付加重合反応を
用いて光学素子を製造する場合は、以下の二つの方法が
ある。
用いて光学素子を製造する場合は、以下の二つの方法が
ある。
【００９２】即ち、第１の方法は、１種又は数種のＳｉ
Ｈ基を有する前記平均組成式〔II〕で示されるオルガノ
ポリシロキサンと、１種又は数種のアルケニル基を有す
るオルガノポリシロキサンを配合し触媒を加え、加熱成
形するという手法である。
Ｈ基を有する前記平均組成式〔II〕で示されるオルガノ
ポリシロキサンと、１種又は数種のアルケニル基を有す
るオルガノポリシロキサンを配合し触媒を加え、加熱成
形するという手法である。
【００９３】第２の方法は、１種又は複数のアルケニル
基を有する前記平均組成式〔II〕で示されるオルガノポ
リシロキサンと、１種又は数種のＳｉＨ基を有するオル
ガノポリシロキサン（以下オルガノハイドロジェンポリ
シロキサンという）を配合し触媒を加え、加熱成形する
という手法である。
基を有する前記平均組成式〔II〕で示されるオルガノポ
リシロキサンと、１種又は数種のＳｉＨ基を有するオル
ガノポリシロキサン（以下オルガノハイドロジェンポリ
シロキサンという）を配合し触媒を加え、加熱成形する
という手法である。
【００９４】本発明の光学素子の製造にはどちらの方法
を用いてもよい。
を用いてもよい。
【００９５】光学素子の硬度等の機械的物性、屈折率な
どの光学特性を調整する目的で上記以外のオルガノポリ
シロキサン、テトラビニルシラン等の低分子シラン化合
物、や１，３，５，７−テトラメチルシクロテトラシロ
キサン、１，３，５，７−テトラメチル−１，３，５，
７−テトラビニルシクロテトラシロキサン等のシロキサ
ンオリゴマーを加えることもできる。
どの光学特性を調整する目的で上記以外のオルガノポリ
シロキサン、テトラビニルシラン等の低分子シラン化合
物、や１，３，５，７−テトラメチルシクロテトラシロ
キサン、１，３，５，７−テトラメチル−１，３，５，
７−テトラビニルシクロテトラシロキサン等のシロキサ
ンオリゴマーを加えることもできる。
【００９６】また、同様の目的で以下の一般式で示され
る、有機珪素化合物を用いることもできる。
る、有機珪素化合物を用いることもできる。
【００９７】（ＨＳｉ（ＣＨ3）2Ｏ）E−Ｓｉ
（Ｒ(3-E)）−Ｑ−Ｓｉ（Ｒ(3-E)）−（ＯＳｉ（Ｃ
Ｈ3）2Ｈ）E （式中、Ｒは一価炭化水素基、Ｑは二価の芳香族炭化水
素基であり、Ｅは１〜３の整数である） 本発明の前記平均組成式〔II〕で示されるオルガノポリ
シロキサンと同様にして、アルケニル基を有するオルガ
ノポリシロキサンを合成することができる。
（Ｒ(3-E)）−Ｑ−Ｓｉ（Ｒ(3-E)）−（ＯＳｉ（Ｃ
Ｈ3）2Ｈ）E （式中、Ｒは一価炭化水素基、Ｑは二価の芳香族炭化水
素基であり、Ｅは１〜３の整数である） 本発明の前記平均組成式〔II〕で示されるオルガノポリ
シロキサンと同様にして、アルケニル基を有するオルガ
ノポリシロキサンを合成することができる。
【００９８】アルケニル基を有するオルガノポリシロキ
サンはクロロシラン、メチルトリクロロシラン、ジメチ
ルジクロロシラン、フェニルトリクロロシラン、ジフェ
ニルジクロロシラン等の公知のクロロシラン化合物と分
子内にビニル基やアリル基を有する公知のクロロシラン
化合物を各種の組み合わせで配合し、共加水分解、或い
は、アルコキシ化し、更に、縮合させることにより合成
することが出来る。
サンはクロロシラン、メチルトリクロロシラン、ジメチ
ルジクロロシラン、フェニルトリクロロシラン、ジフェ
ニルジクロロシラン等の公知のクロロシラン化合物と分
子内にビニル基やアリル基を有する公知のクロロシラン
化合物を各種の組み合わせで配合し、共加水分解、或い
は、アルコキシ化し、更に、縮合させることにより合成
することが出来る。
【００９９】光学素子成形品の機械的強度、硬度を高め
るためにはＣＨ2＝ＣＨＳｉＯ3/2、ＣＨ3Ｃ6Ｈ4ＳｉＯ
3/2、Ｃ6Ｈ5ＳｉＯ3/2、ＣＨ3ＳｉＯ3/2、ＣｌＣ6Ｈ4Ｓ
ｉＯ3/2、Ｃ6Ｈ5ＣＨ2ＳｉＯ3/2等の３官能形シロキサ
ン単位成分やＳｉＯ4/2といった４官能形シロキサン単
位成分をオルガノポリシロキサンのポリマー鎖内に組み
入れることが好ましい。
るためにはＣＨ2＝ＣＨＳｉＯ3/2、ＣＨ3Ｃ6Ｈ4ＳｉＯ
3/2、Ｃ6Ｈ5ＳｉＯ3/2、ＣＨ3ＳｉＯ3/2、ＣｌＣ6Ｈ4Ｓ
ｉＯ3/2、Ｃ6Ｈ5ＣＨ2ＳｉＯ3/2等の３官能形シロキサ
ン単位成分やＳｉＯ4/2といった４官能形シロキサン単
位成分をオルガノポリシロキサンのポリマー鎖内に組み
入れることが好ましい。
【０１００】上記の末端や側鎖にビニル基やアリル基を
有するオルガノポリシロキサン及びオルガノハイドロジ
ェンポリシロキサンの一部は東芝シリコーン（株）、信
越化学工業（株）、東レ・ダウコーニング・シリコーン
（株）、ダウ・コーニング・コーポレーション（米国）
等のシリコーン素材メーカーより市販されており容易に
入手することが出来る。
有するオルガノポリシロキサン及びオルガノハイドロジ
ェンポリシロキサンの一部は東芝シリコーン（株）、信
越化学工業（株）、東レ・ダウコーニング・シリコーン
（株）、ダウ・コーニング・コーポレーション（米国）
等のシリコーン素材メーカーより市販されており容易に
入手することが出来る。
【０１０１】アルケニル基を有する前記平均組成式
〔Ｉ〕で示されるオルガノポリシロキサンとオルガノハ
イドロジェンポリシロキサン成分の組み合わせで光学素
子成形品を製造する場合について述べる。
〔Ｉ〕で示されるオルガノポリシロキサンとオルガノハ
イドロジェンポリシロキサン成分の組み合わせで光学素
子成形品を製造する場合について述べる。
【０１０２】光学素子成形品を製造する際に用いるアル
ケニル基を有するオルガノポリシロキサン成分とオルガ
ノハイドロジェンポリシロキサン成分は十分に相溶して
いることが好ましい。両者の相溶性が悪いと出来上がっ
た光学素子成形品の光透過率が低下することがある。
ケニル基を有するオルガノポリシロキサン成分とオルガ
ノハイドロジェンポリシロキサン成分は十分に相溶して
いることが好ましい。両者の相溶性が悪いと出来上がっ
た光学素子成形品の光透過率が低下することがある。
【０１０３】オルガノハイドロジェンポリシロキサンの
配合量はアルケニル基を有するオルガノポリシロキサン
成分１００重量部に対して５〜３００重量部、特に、１
０〜１００重量部が好ましい。得られる光学素子成形品
において十分に高い硬度を得るためには、配合量が５重
量部以上であることが好ましい。
配合量はアルケニル基を有するオルガノポリシロキサン
成分１００重量部に対して５〜３００重量部、特に、１
０〜１００重量部が好ましい。得られる光学素子成形品
において十分に高い硬度を得るためには、配合量が５重
量部以上であることが好ましい。
【０１０４】硬化反応に付加重合反応を用いる際の反応
触媒としては白金ブラック、塩化第二白金、塩化白金
酸、塩化白金酸のアルコール変性物、塩化白金酸とオレ
フィン類との錯体等が挙げられる。触媒の使用量は成分
の合計量に対して０．１〜１０００ｐｐｍ、好ましくは
５〜２００ｐｐｍである。
触媒としては白金ブラック、塩化第二白金、塩化白金
酸、塩化白金酸のアルコール変性物、塩化白金酸とオレ
フィン類との錯体等が挙げられる。触媒の使用量は成分
の合計量に対して０．１〜１０００ｐｐｍ、好ましくは
５〜２００ｐｐｍである。
【０１０５】本発明の光学素子はＪＩＳ−Ａ硬度が８５
以上であることが好ましい。ＪＩＳ−Ａ硬度が８５未満
では光学素子として必要な硬度が失われる。同様に、４
００ｎｍ〜８５０ｎｍの分光透過率は８５％以上である
ことが好ましい。
以上であることが好ましい。ＪＩＳ−Ａ硬度が８５未満
では光学素子として必要な硬度が失われる。同様に、４
００ｎｍ〜８５０ｎｍの分光透過率は８５％以上である
ことが好ましい。
【０１０６】本発明における光学素子を成形する方法と
しては、注型成形、射出成形、押出成形、トランスファ
ー成形など適宜の成形方法により成形することが可能で
ある。成形温度は、各原料の樹脂組成物の種類、配合量
により適宜選択することができる。
しては、注型成形、射出成形、押出成形、トランスファ
ー成形など適宜の成形方法により成形することが可能で
ある。成形温度は、各原料の樹脂組成物の種類、配合量
により適宜選択することができる。
【０１０７】本発明の光学素子には光透過率を高める為
に反射防止層を設けることが好ましい。反射防止膜とし
ては、単層又は屈折率の異なる薄膜を積層して得られる
多層膜であり、反射率の低減されるものであれば、無機
物でも有機物でも可能である。
に反射防止層を設けることが好ましい。反射防止膜とし
ては、単層又は屈折率の異なる薄膜を積層して得られる
多層膜であり、反射率の低減されるものであれば、無機
物でも有機物でも可能である。
【０１０８】しかし、表面の硬度や干渉縞の防止を重視
するためには、無機物から成る単層、または多層の反射
防止膜を設けることが最も好ましい。使用できる無機物
としては酸化珪素、酸化アルミニウム、酸化ジルコニウ
ム、酸化チタニウム、酸化セリウム、酸化ハフニウム、
フッ化マグネシウム等の酸化物或いはフッ化物等が挙げ
られる。イオンプレーティング、真空蒸着、スパッタリ
ング等のいわゆるＰＶＤ法によって施すことができる。
するためには、無機物から成る単層、または多層の反射
防止膜を設けることが最も好ましい。使用できる無機物
としては酸化珪素、酸化アルミニウム、酸化ジルコニウ
ム、酸化チタニウム、酸化セリウム、酸化ハフニウム、
フッ化マグネシウム等の酸化物或いはフッ化物等が挙げ
られる。イオンプレーティング、真空蒸着、スパッタリ
ング等のいわゆるＰＶＤ法によって施すことができる。
【０１０９】また、表面の傷防止の為にハードコート層
を設けてもよい。
を設けてもよい。
【０１１０】ハードコート層の好ましい例として下記
（イ）、（ロ）を主成分とするコーティング組成物を塗
布硬化させたものが挙げられる。
（イ）、（ロ）を主成分とするコーティング組成物を塗
布硬化させたものが挙げられる。
【０１１１】（イ）少なくとも一種以上の反応性基を有
するシラン化合物の一種以上。
するシラン化合物の一種以上。
【０１１２】（ロ）酸化珪素、酸化アンチモン、酸化ジ
ルコニウム、酸化タングステン、酸化タンタル、酸化ア
ルミニウム等の金属酸化物微粒子、酸化チタン、酸化セ
リウム、酸化ジルコニア、酸化珪素、酸化鉄のうち二つ
以上を用いた複合金属酸化物微粒子、酸化スズと酸化タ
ングステンの複合金属微粒子で酸化スズ微粒子を被覆し
た複合金属微粒子から選ばれる一種以上。
ルコニウム、酸化タングステン、酸化タンタル、酸化ア
ルミニウム等の金属酸化物微粒子、酸化チタン、酸化セ
リウム、酸化ジルコニア、酸化珪素、酸化鉄のうち二つ
以上を用いた複合金属酸化物微粒子、酸化スズと酸化タ
ングステンの複合金属微粒子で酸化スズ微粒子を被覆し
た複合金属微粒子から選ばれる一種以上。
【０１１３】成分（ロ）はハードコート層の屈折率を調
整し、かつ、硬度を高めるために有効な成分である。ハ
ードコート層の厚みは通常０．２ミクロン〜１０ミクロ
ン程度がよい。より好ましくは１ミクロン〜３ミクロン
程度である。
整し、かつ、硬度を高めるために有効な成分である。ハ
ードコート層の厚みは通常０．２ミクロン〜１０ミクロ
ン程度がよい。より好ましくは１ミクロン〜３ミクロン
程度である。
【０１１４】
【実施例】以下に、実施例及び比較例を挙げてこの発明
を更に具体的に説明する。
を更に具体的に説明する。
【０１１５】以下の記載において置換基の略称は前記の
定義と同様である。
定義と同様である。
【０１１６】本発明のアルケニル基をもつ前記平均組成
式〔Ｉ〕で示されるオルガノポリシロキサン１〜６を示
す。
式〔Ｉ〕で示されるオルガノポリシロキサン１〜６を示
す。
【０１１７】これらのオルガノポリシロキサンは公知の
合成方法、すなわち、複数の加水分解性オルガノシラン
化合物を共加水分解／重縮合することにより合成した。
オルガノポリシロキサン１の具体的な合成方法について
簡単に示す。
合成方法、すなわち、複数の加水分解性オルガノシラン
化合物を共加水分解／重縮合することにより合成した。
オルガノポリシロキサン１の具体的な合成方法について
簡単に示す。
【０１１８】（ＣＨ2＝ＣＨ−）（ＣＨ3）2Ｓｉ（ＯＣ2
Ｈ5）、（Ｃ6Ｈ5）Ｓｉ（ＯＣ2Ｈ5）3、Ｓｉ（ＯＣ
2Ｈ5）4、（ＣＨ3）3Ｓｉ（ＯＣ2Ｈ5）、（Ｃ6Ｈ5）2Ｓ
ｉ（ＯＣ2Ｈ5）2及びＡ−３を混合した後、トルエン／
水混合液に滴下し、共加水分解した。水で十分にトルエ
ン相を洗浄した後、減圧濃縮して透明固体状のオルガノ
ポリシロキサン１を得た。
Ｈ5）、（Ｃ6Ｈ5）Ｓｉ（ＯＣ2Ｈ5）3、Ｓｉ（ＯＣ
2Ｈ5）4、（ＣＨ3）3Ｓｉ（ＯＣ2Ｈ5）、（Ｃ6Ｈ5）2Ｓ
ｉ（ＯＣ2Ｈ5）2及びＡ−３を混合した後、トルエン／
水混合液に滴下し、共加水分解した。水で十分にトルエ
ン相を洗浄した後、減圧濃縮して透明固体状のオルガノ
ポリシロキサン１を得た。
【０１１９】加水分解性オルガノシラン化合物の組み合
わせを変えて、オルガノポリシロキサン２〜５を合成し
た。合成品を1Ｈ−ＮＭＲ、ＩＣＰ法によるＳｉ定量を
行うことにより平均組成を求めた。
わせを変えて、オルガノポリシロキサン２〜５を合成し
た。合成品を1Ｈ−ＮＭＲ、ＩＣＰ法によるＳｉ定量を
行うことにより平均組成を求めた。
【０１２０】オルガノポリシロキサン１ Ｖｉ0.200Ｍｅ0.250Ｐｈ0.100（ＢＮＰ）1.150ＳｉＯ
1.15 オルガノポリシロキサン２ Ｖｉ0.200Ｍｅ0.280Ｐｈ0.100（ＢＢＮＰ）1.200ＳｉＯ
1.11 オルガノポリシロキサン３ Ｖｉ0.200Ｍｅ0.260Ｐｈ0.100（ＢＮＡＤ）1.180ＳｉＯ
1.135 オルガノポリシロキサン４ Ｖｉ0.200Ｍｅ0.650Ｐｈ0.100（ＢＮＰ）0.75ＳｉＯ
1.15 オルガノポリシロキサン５ Ｖｉ0.200Ｍｅ1.000Ｐｈ0.100（ＢＮＰ）0.40ＳｉＯ
1.15 オルガノポリシロキサン６ Ｖｉ0.100Ｍｅ0.100Ｐｈ0.100（ＢＮＰ）0.60ＳｉＯ
1.55 実施例１ オルガノポリシロキサン１を１００重量部、分子量３５
００の（Ｍｅ2）ＨＳｉＯ1/2単位とＰｈＳｉＯ3/2単位
よりなる共重合体（共重合比６０／４０）を２０重量
部、及び塩化白金酸のイソプロパノール溶液（白金含有
量０．２重量％）１重量部を混合し、真空撹拌により脱
泡して、シリコーン樹脂組成物を調製した。このシリコ
ーン樹脂組成物をレンズ金型に注入し、１４５℃で３０
分間加熱し、注型成形による片面非球面形状のレンズ成
形品を得た。また、同様にして物性評価用に平板成形品
（直径８ｃｍ、厚さ、１．８ｍｍ）も作製した。
1.15 オルガノポリシロキサン２ Ｖｉ0.200Ｍｅ0.280Ｐｈ0.100（ＢＢＮＰ）1.200ＳｉＯ
1.11 オルガノポリシロキサン３ Ｖｉ0.200Ｍｅ0.260Ｐｈ0.100（ＢＮＡＤ）1.180ＳｉＯ
1.135 オルガノポリシロキサン４ Ｖｉ0.200Ｍｅ0.650Ｐｈ0.100（ＢＮＰ）0.75ＳｉＯ
1.15 オルガノポリシロキサン５ Ｖｉ0.200Ｍｅ1.000Ｐｈ0.100（ＢＮＰ）0.40ＳｉＯ
1.15 オルガノポリシロキサン６ Ｖｉ0.100Ｍｅ0.100Ｐｈ0.100（ＢＮＰ）0.60ＳｉＯ
1.55 実施例１ オルガノポリシロキサン１を１００重量部、分子量３５
００の（Ｍｅ2）ＨＳｉＯ1/2単位とＰｈＳｉＯ3/2単位
よりなる共重合体（共重合比６０／４０）を２０重量
部、及び塩化白金酸のイソプロパノール溶液（白金含有
量０．２重量％）１重量部を混合し、真空撹拌により脱
泡して、シリコーン樹脂組成物を調製した。このシリコ
ーン樹脂組成物をレンズ金型に注入し、１４５℃で３０
分間加熱し、注型成形による片面非球面形状のレンズ成
形品を得た。また、同様にして物性評価用に平板成形品
（直径８ｃｍ、厚さ、１．８ｍｍ）も作製した。
【０１２１】実施例２ オルガノポリシロキサン２を１００重量部を用いた以外
は実施例１と同様にして片面非球面形状のレンズ成形品
を得た。また、同様にして物性評価用に平板成形品（直
径８ｃｍ、厚さ、１．８ｍｍ）も作製した。
は実施例１と同様にして片面非球面形状のレンズ成形品
を得た。また、同様にして物性評価用に平板成形品（直
径８ｃｍ、厚さ、１．８ｍｍ）も作製した。
【０１２２】実施例３ オルガノポリシロキサン３を１００重量部を用いた以外
は実施例１と同様にして両面非球面形状のレンズ成形品
を得た。また、同様にして物性評価用に平板成形品（直
径８ｃｍ、厚さ、１．８ｍｍ）も作製した。
は実施例１と同様にして両面非球面形状のレンズ成形品
を得た。また、同様にして物性評価用に平板成形品（直
径８ｃｍ、厚さ、１．８ｍｍ）も作製した。
【０１２３】実施例４ オルガノポリシロキサン４を１００重量部を用いた以外
は実施例１と同様にして片面非球面形状のレンズ成形品
を得た。また、同様にして物性評価用に平板成形品（直
径８ｃｍ、厚さ、１．８ｍｍ）も作製した。
は実施例１と同様にして片面非球面形状のレンズ成形品
を得た。また、同様にして物性評価用に平板成形品（直
径８ｃｍ、厚さ、１．８ｍｍ）も作製した。
【０１２４】実施例５ オルガノポリシロキサン５を１００重量部を用いた以外
は実施例１と同様にして両面非球面形状のレンズ成形品
を得た。また、同様にして物性評価用に平板成形品（直
径８ｃｍ、厚さ、１．８ｍｍ）も作製した。
は実施例１と同様にして両面非球面形状のレンズ成形品
を得た。また、同様にして物性評価用に平板成形品（直
径８ｃｍ、厚さ、１．８ｍｍ）も作製した。
【０１２５】実施例６ オルガノポリシロキサン６を１００重量部を用いた以外
は実施例１と同様にして両面非球面形状のレンズ成形品
を得た。また、同様にして物性評価用に平板成形品（直
径８ｃｍ、厚さ、１．８ｍｍ）も作製した。
は実施例１と同様にして両面非球面形状のレンズ成形品
を得た。また、同様にして物性評価用に平板成形品（直
径８ｃｍ、厚さ、１．８ｍｍ）も作製した。
【０１２６】比較例１ 特開平１０−１５８４００号の実施例１に記載されてい
る平均組成式Ｍｅ1.02Ｐｈ0.40Ｖｉ0.08ＳｉＯ1.25のオ
ルガノポリシロキサンを１００重量部を用いた以外は実
施例１と同様にして片面非球面形状のレンズ成形品を得
た。また、同様にして物性評価用に平板成形品（直径８
ｃｍ、厚さ、１．８ｍｍ）も作製した。
る平均組成式Ｍｅ1.02Ｐｈ0.40Ｖｉ0.08ＳｉＯ1.25のオ
ルガノポリシロキサンを１００重量部を用いた以外は実
施例１と同様にして片面非球面形状のレンズ成形品を得
た。また、同様にして物性評価用に平板成形品（直径８
ｃｍ、厚さ、１．８ｍｍ）も作製した。
【０１２７】比較例２ 市販されているプラスチックレンズ用ポリメチルメタク
リレート樹脂であるアクリペットＶＨ（三菱レイヨン
製）を用いてレンズ成形用金型を用いて射出成形法によ
り片面非球面形状のレンズ成形品を得た。また、物性評
価用に平板成形品（直径８ｃｍ、厚さ１．８ｍｍ）も作
製した。
リレート樹脂であるアクリペットＶＨ（三菱レイヨン
製）を用いてレンズ成形用金型を用いて射出成形法によ
り片面非球面形状のレンズ成形品を得た。また、物性評
価用に平板成形品（直径８ｃｍ、厚さ１．８ｍｍ）も作
製した。
【０１２８】比較例３ 市販されているプラスチックレンズ用ビスフェノールＡ
タイプポリカーボネート樹脂であるユーピロンＳ２００
０（三菱ガス化学製、数平均分子量２４，０００）を用
いてレンズ成形用金型を用いて射出成形法により片面非
球面形状のレンズ成形品を得た。また、物性評価用に平
板成形品（直径８ｃｍ、厚さ１．８ｍｍ）も作製した。
タイプポリカーボネート樹脂であるユーピロンＳ２００
０（三菱ガス化学製、数平均分子量２４，０００）を用
いてレンズ成形用金型を用いて射出成形法により片面非
球面形状のレンズ成形品を得た。また、物性評価用に平
板成形品（直径８ｃｍ、厚さ１．８ｍｍ）も作製した。
【０１２９】尚、レンズ成形品、及び物性評価用平板成
形品を用いて諸物性を以下に示す方法により測定し、評
価した。
形品を用いて諸物性を以下に示す方法により測定し、評
価した。
【０１３０】屈折率：アッベ屈折率計（アタゴ社製の商
品名２Ｔ）を用いて、成形品の屈折率ｎｄを測定した。
品名２Ｔ）を用いて、成形品の屈折率ｎｄを測定した。
【０１３１】複屈折性：自動複屈折測定機で位相差（ｎ
ｍ）を測定した。
ｍ）を測定した。
【０１３２】分光透過率（％）：４００ｎｍ〜８５０ｎ
ｍの領域の光透過率を可視紫外分光光度計（日立自記分
光光度計）で測定した。
ｍの領域の光透過率を可視紫外分光光度計（日立自記分
光光度計）で測定した。
【０１３３】耐熱性：成形品を１５０℃の乾燥機中に２
時間放置した後、目視及び「フィルム配向ビュアー」
（ユニチカリサーチラボ社の商品名）にて成形品を観察
した。そして、変形、割れ、表面劣化、着色などの変化
が全く認められないものを○、いずれかが認められたも
のを×とした。
時間放置した後、目視及び「フィルム配向ビュアー」
（ユニチカリサーチラボ社の商品名）にて成形品を観察
した。そして、変形、割れ、表面劣化、着色などの変化
が全く認められないものを○、いずれかが認められたも
のを×とした。
【０１３４】硬さ：ＪＩＳ Ｋ７２１５に準じて、デュ
ロメーターを用いてＪＩＳ−Ａ硬度を測定した。８５以
上のものについては○、８５未満のものについてはプラ
スチックレンズとしては硬さが不足しているので×とし
た。
ロメーターを用いてＪＩＳ−Ａ硬度を測定した。８５以
上のものについては○、８５未満のものについてはプラ
スチックレンズとしては硬さが不足しているので×とし
た。
【０１３５】飽和吸水率（％）：ＪＩＳ Ｋ７２０９
（プラスチックの吸水率の測定法）に準拠し直径８ｃ
ｍ、厚さ１．８ｍｍの試験片を用いて測定した。
（プラスチックの吸水率の測定法）に準拠し直径８ｃ
ｍ、厚さ１．８ｍｍの試験片を用いて測定した。
【０１３６】実施例１から６及び比較例１から３のレン
ズ成形品及び平板成形品を用いて、屈折率ｎｄ、残留複
屈折（ｎｍ）、分光透過率（％）、耐熱性、ＪＩＳＡ硬
さ、飽和吸水率（％）を測定し、その結果を表１に示し
た。
ズ成形品及び平板成形品を用いて、屈折率ｎｄ、残留複
屈折（ｎｍ）、分光透過率（％）、耐熱性、ＪＩＳＡ硬
さ、飽和吸水率（％）を測定し、その結果を表１に示し
た。
【０１３７】
【表１】
【０１３８】表１から、本発明の試料は、屈折率ｎｄ、
残留複屈折（ｎｍ）、分光透過率（％）、耐熱性、ＪＩ
ＳＡ硬さ、飽和吸水率（％）が比較より優れていること
が判る。
残留複屈折（ｎｍ）、分光透過率（％）、耐熱性、ＪＩ
ＳＡ硬さ、飽和吸水率（％）が比較より優れていること
が判る。
【０１３９】
【発明の効果】本発明により、ｎｄ１．５５以上の高屈
折率で、低い残留複屈折、高い光透過率の光学的基本特
性に優れ、尚かつ、高い熱安定性、低い吸水性、及び優
れた成形性を有する、光学素子を提供することができ
た。
折率で、低い残留複屈折、高い光透過率の光学的基本特
性に優れ、尚かつ、高い熱安定性、低い吸水性、及び優
れた成形性を有する、光学素子を提供することができ
た。
フロントページの続き (72)発明者 辻 稔夫 東京都日野市さくら町１番地コニカ株式会 社内 Ｆターム(参考） 4J002 CP021 CP031 CP041 CP081 CP091 GP01
Claims (8)
- 【請求項１】 下記平均組成式〔Ｉ〕で表される珪素系
樹脂を含有することを特徴とする樹脂組成物。 平均組成式〔Ｉ〕 （Ｒ1）a（Ｒ2）bＳｉＯ(4-a-b)/2 〔式中、Ｒ1は、各々同じでも異なっても良い、水素原
子、水酸基、アミノ基、又は置換又は非置換の脂肪族
基、脂環式基、アリール基、複素環基、またはこれらの
基が酸素を介して珪素原子に結合された基から選ばれる
基を表す。Ｒ2は、内部回転異性性を付与しうる結合軸
を有するビアリール基または該ビアリール基が置換した
有機基を表す。ただし、０≦ａ＜１．５、０．３＜ｂ＜
１．８、０．８＜ａ＋ｂ＜１．８である。〕 - 【請求項２】 上記平均組成式〔Ｉ〕で表される珪素系
樹脂を含有する樹脂組成物からなることを特徴とする光
学素子。 - 【請求項３】 前記平均組成式〔Ｉ〕におけるＲ1で示
される置換基の少なくとも１種がアルケニル基であるこ
とを特徴とする請求項２に記載の光学素子。 - 【請求項４】 前記アルケニル基がビニル基であること
を特徴とする請求項３に記載の光学素子。 - 【請求項５】 前記平均組成式〔Ｉ〕におけるＲ1で示
される置換基の少なくとも１種が水素原子であることを
特徴とする請求項２に記載の光学素子。 - 【請求項６】 請求項２〜５のいずれか１項に記載の光
学素子を有することを特徴とする光学用レンズ。 - 【請求項７】 光学用レンズの少なくとも一方の光学面
が非球面形状を有することを特徴とする請求項６に記載
の光学用レンズ。 - 【請求項８】 光学用レンズの光学面の両面が非球面形
状を有することを特徴とする請求項７に記載の光学用レ
ンズ。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP27231399A JP2001089660A (ja) | 1999-09-27 | 1999-09-27 | 高屈折率を有する光学素子、光学用レンズ及び樹脂組成物 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP27231399A JP2001089660A (ja) | 1999-09-27 | 1999-09-27 | 高屈折率を有する光学素子、光学用レンズ及び樹脂組成物 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2001089660A true JP2001089660A (ja) | 2001-04-03 |
Family
ID=17512151
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP27231399A Pending JP2001089660A (ja) | 1999-09-27 | 1999-09-27 | 高屈折率を有する光学素子、光学用レンズ及び樹脂組成物 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2001089660A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2007070603A (ja) * | 2005-08-09 | 2007-03-22 | Sony Corp | ナノ粒子−樹脂複合材料及びその製造方法、並びに、発光素子組立体、発光素子組立体用の充填材料、及び、光学材料 |
| JP2010007057A (ja) * | 2008-05-30 | 2010-01-14 | Toray Ind Inc | シロキサン系樹脂組成物およびこれを用いた光学デバイス |
-
1999
- 1999-09-27 JP JP27231399A patent/JP2001089660A/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2007070603A (ja) * | 2005-08-09 | 2007-03-22 | Sony Corp | ナノ粒子−樹脂複合材料及びその製造方法、並びに、発光素子組立体、発光素子組立体用の充填材料、及び、光学材料 |
| JP2010007057A (ja) * | 2008-05-30 | 2010-01-14 | Toray Ind Inc | シロキサン系樹脂組成物およびこれを用いた光学デバイス |
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