JP2001085581A - 半導体モジュール用基板及びその製造方法 - Google Patents
半導体モジュール用基板及びその製造方法Info
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 半導体チップの搭載部分において特にすぐれ
た伝熱、放熱特性を有し、熱応力に起因するクラック等
の発生を防止することができ、しかも安価な半導体モジ
ュール用基板を提供すること。 【解決手段】 半導体チップ２０を搭載するための半導
体モジュール用基板において、第１のヒートシンク１１
と、第１のヒートシンク１１上に接合されて半導体チッ
プ２０の搭載部分が開口した絶縁基板１３と、第１のヒ
ートシンク１１の上面と絶縁基板１３の開口部分１３ａ
とにより形成された凹部１４内に充填された第２のヒー
トシンク１５とを装備する。第２のヒートシンク１５
は、例えば凹部１４内に配置された板状又は粉末状の放
熱材１５ａと、放熱材１５ａと凹部１４の内面との間隙
に埋め込まれたＡｇろう材１５ｂとにより構成する。
た伝熱、放熱特性を有し、熱応力に起因するクラック等
の発生を防止することができ、しかも安価な半導体モジ
ュール用基板を提供すること。 【解決手段】 半導体チップ２０を搭載するための半導
体モジュール用基板において、第１のヒートシンク１１
と、第１のヒートシンク１１上に接合されて半導体チッ
プ２０の搭載部分が開口した絶縁基板１３と、第１のヒ
ートシンク１１の上面と絶縁基板１３の開口部分１３ａ
とにより形成された凹部１４内に充填された第２のヒー
トシンク１５とを装備する。第２のヒートシンク１５
は、例えば凹部１４内に配置された板状又は粉末状の放
熱材１５ａと、放熱材１５ａと凹部１４の内面との間隙
に埋め込まれたＡｇろう材１５ｂとにより構成する。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は半導体モジュール用
基板及びその製造方法に関し、特に大量の熱を発する半
導体チップを搭載するためのパワーモジュール用基板等
の半導体モジュール用基板及びその製造方法に関する。
基板及びその製造方法に関し、特に大量の熱を発する半
導体チップを搭載するためのパワーモジュール用基板等
の半導体モジュール用基板及びその製造方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】従来のこの種半導体モジュール用基板と
しては、例えば図４に示すようなパワーモジュール用基
板が知られている。このパワーモジュール用基板３０
は、セラミック基板からなる絶縁基板３１の上面にろう
材３２を介して配線金属板３３が張り合わせられる一
方、絶縁基板３１の下面にろう材３４を介してヒートシ
ンク３５が接合された構造を有している。このようなパ
ワーモジュール用基板３０では、配線金属板３３上に半
導体チップ２０が搭載され、半導体チップ２０上面に形
成されたパッド電極（図示略）と配線金属板３３のパッ
ド電極部３３ａとがワイヤー２１にてボンディングされ
るようになっている。
しては、例えば図４に示すようなパワーモジュール用基
板が知られている。このパワーモジュール用基板３０
は、セラミック基板からなる絶縁基板３１の上面にろう
材３２を介して配線金属板３３が張り合わせられる一
方、絶縁基板３１の下面にろう材３４を介してヒートシ
ンク３５が接合された構造を有している。このようなパ
ワーモジュール用基板３０では、配線金属板３３上に半
導体チップ２０が搭載され、半導体チップ２０上面に形
成されたパッド電極（図示略）と配線金属板３３のパッ
ド電極部３３ａとがワイヤー２１にてボンディングされ
るようになっている。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】半導体モジュール用基
板は、特にパワーモジュール用基板として用いられる場
合、搭載する半導体チップ２０が大電流の通流によって
大量の熱を発することから優れた放熱特性を有している
ことが要求される。このため、半導体チップ２０とヒー
トシンク３５との間に位置することになる絶縁基板３１
についても優れた放熱特性を有すること、つまり高い熱
伝導率を有することが要求される。しかしながら、高熱
伝導率を有する例えばＡｌＮ基板等のセラミック基板は
一般に非常に高価なものであるため、このようなセラミ
ック基板を絶縁基板３１に用いると半導体モジュール用
基板の価格も高くなってしまう。このため、安価でかつ
高熱伝導率を有する絶縁材料の開発、あるいは半導体チ
ップ２０からヒートシンク３５への伝熱特性に優れかつ
安価な構造の半導体モジュール用基板の開発が切望され
ている。
板は、特にパワーモジュール用基板として用いられる場
合、搭載する半導体チップ２０が大電流の通流によって
大量の熱を発することから優れた放熱特性を有している
ことが要求される。このため、半導体チップ２０とヒー
トシンク３５との間に位置することになる絶縁基板３１
についても優れた放熱特性を有すること、つまり高い熱
伝導率を有することが要求される。しかしながら、高熱
伝導率を有する例えばＡｌＮ基板等のセラミック基板は
一般に非常に高価なものであるため、このようなセラミ
ック基板を絶縁基板３１に用いると半導体モジュール用
基板の価格も高くなってしまう。このため、安価でかつ
高熱伝導率を有する絶縁材料の開発、あるいは半導体チ
ップ２０からヒートシンク３５への伝熱特性に優れかつ
安価な構造の半導体モジュール用基板の開発が切望され
ている。
【０００４】また、パワーモジュール用基板等の半導体
モジュール用基板では、搭載された半導体チップの動作
／休止による周期的な温度変化（温度サイクル）によっ
て、構成要素間の熱膨張係数の差に起因する熱応力が生
じるが、この熱応力が過大に作用する場合、絶縁基板や
半導体チップにクラック等が生じてしまい信頼性が低下
することがある。
モジュール用基板では、搭載された半導体チップの動作
／休止による周期的な温度変化（温度サイクル）によっ
て、構成要素間の熱膨張係数の差に起因する熱応力が生
じるが、この熱応力が過大に作用する場合、絶縁基板や
半導体チップにクラック等が生じてしまい信頼性が低下
することがある。
【０００５】本発明は上記課題に鑑みなされたものであ
って、放熱特性に優れ、特に半導体チップの搭載部分が
優れた熱伝導特性を有し、熱応力に起因するクラック等
の発生を防止することができながら、しかも安価な半導
体モジュール用基板及びその製造方法を提供することを
目的としている。
って、放熱特性に優れ、特に半導体チップの搭載部分が
優れた熱伝導特性を有し、熱応力に起因するクラック等
の発生を防止することができながら、しかも安価な半導
体モジュール用基板及びその製造方法を提供することを
目的としている。
【０００６】
【課題を解決するための手段及びその効果】上記目的を
達成するために本発明に係る半導体モジュール用基板
（１）は、半導体チップを搭載するための半導体モジュ
ール用基板において、第１のヒートシンクと、該第１の
ヒートシンク上に接合されて前記半導体チップの搭載部
分が開口した絶縁基板と、前記第１のヒートシンクの上
面と前記絶縁基板の開口部分とにより形成された凹部内
に充填された第２のヒートシンクとを備えていることを
特徴としている。
達成するために本発明に係る半導体モジュール用基板
（１）は、半導体チップを搭載するための半導体モジュ
ール用基板において、第１のヒートシンクと、該第１の
ヒートシンク上に接合されて前記半導体チップの搭載部
分が開口した絶縁基板と、前記第１のヒートシンクの上
面と前記絶縁基板の開口部分とにより形成された凹部内
に充填された第２のヒートシンクとを備えていることを
特徴としている。
【０００７】上記した半導体モジュール用基板（１）に
よれば、前記第１のヒートシンクへの伝熱特性に優れて
いることが要求される半導体チップの搭載部分が、前記
第１のヒートシンクの上面と前記絶縁基板の開口部分と
により形成された凹部内に充填された第２のヒートシン
クで構成され、該第２のヒートシンクが前記絶縁基板を
介さずに前記第１のヒートシンク上に直接的に接合され
ているため、前記第２のヒートシンク上に配線金属板を
介して半導体チップを搭載した場合、該半導体チップで
発生した熱を前記第２のヒートシンクから前記第１のヒ
ートシンクへと効率良く伝熱させて放熱させることがで
きる。また、前記半導体チップと前記第１のヒートシン
クとの間に前記絶縁基板は位置しないことになるため、
前記絶縁基板を特に熱伝導性に優れた材料を用いて構成
する必要が少ない。このため、前記絶縁基板の構成材料
として、例えば安価なアルミナ（Ａｌ2 Ｏ3 ）やＡｌＮ
の中では熱伝導率が比較的低く比較的安価なＡｌＮ等を
用いることが可能となる。
よれば、前記第１のヒートシンクへの伝熱特性に優れて
いることが要求される半導体チップの搭載部分が、前記
第１のヒートシンクの上面と前記絶縁基板の開口部分と
により形成された凹部内に充填された第２のヒートシン
クで構成され、該第２のヒートシンクが前記絶縁基板を
介さずに前記第１のヒートシンク上に直接的に接合され
ているため、前記第２のヒートシンク上に配線金属板を
介して半導体チップを搭載した場合、該半導体チップで
発生した熱を前記第２のヒートシンクから前記第１のヒ
ートシンクへと効率良く伝熱させて放熱させることがで
きる。また、前記半導体チップと前記第１のヒートシン
クとの間に前記絶縁基板は位置しないことになるため、
前記絶縁基板を特に熱伝導性に優れた材料を用いて構成
する必要が少ない。このため、前記絶縁基板の構成材料
として、例えば安価なアルミナ（Ａｌ2 Ｏ3 ）やＡｌＮ
の中では熱伝導率が比較的低く比較的安価なＡｌＮ等を
用いることが可能となる。
【０００８】さらに、前記第２のヒートシンクを前記半
導体チップと熱膨張係数の差が小さい材料で構成するこ
とも容易であり、温度サイクルによって生じる熱応力に
起因して半導体チップ等にクラックが発生するのを阻止
して、温度サイクルに対する信頼性を高めることができ
る。
導体チップと熱膨張係数の差が小さい材料で構成するこ
とも容易であり、温度サイクルによって生じる熱応力に
起因して半導体チップ等にクラックが発生するのを阻止
して、温度サイクルに対する信頼性を高めることができ
る。
【０００９】また本発明に係る半導体モジュール用基板
（２）は、上記半導体モジュール用基板（１）におい
て、前記第２のヒートシンクが、前記絶縁基板の熱伝導
率よりも高い熱伝導率を有した材料を用いて形成されて
いることを特徴としている。上記した半導体モジュール
用基板（２）によれば、前記半導体チップと前記第１の
ヒートシンクとの間に位置する前記第２のヒートシンク
が前記絶縁基板よりも熱伝導率の高い材料で形成されて
いることから、前記第２のヒートシンク上に半導体チッ
プを搭載した場合、該半導体チップで発生した熱を前記
第２のヒートシンクから前記第１のヒートシンクを介し
て極めて効率良く放熱させることができる。したがっ
て、放熱特性に優れた半導体モジュール用基板を実現す
ることができる。
（２）は、上記半導体モジュール用基板（１）におい
て、前記第２のヒートシンクが、前記絶縁基板の熱伝導
率よりも高い熱伝導率を有した材料を用いて形成されて
いることを特徴としている。上記した半導体モジュール
用基板（２）によれば、前記半導体チップと前記第１の
ヒートシンクとの間に位置する前記第２のヒートシンク
が前記絶縁基板よりも熱伝導率の高い材料で形成されて
いることから、前記第２のヒートシンク上に半導体チッ
プを搭載した場合、該半導体チップで発生した熱を前記
第２のヒートシンクから前記第１のヒートシンクを介し
て極めて効率良く放熱させることができる。したがっ
て、放熱特性に優れた半導体モジュール用基板を実現す
ることができる。
【００１０】また本発明に係る半導体モジュール用基板
（３）は、上記半導体モジュール用基板（２）におい
て、前記第２のヒートシンクが、前記凹部内に配置され
た板状又は粉末状の放熱材と、該放熱材と前記凹部の内
面との間隙に埋め込まれたろう材とにより構成されてい
ることを特徴としている。上記した半導体モジュール用
基板（３）によれば、前記凹部内に配置された前記放熱
材と、該放熱材と前記凹部の内面との間隙に埋め込まれ
たろう材とにより前記第２のヒートシンクが構成されて
いるため、該第２のヒートシンクと前記第１のヒートシ
ンクとの接合部分における伝熱性の向上を図ることがで
きる。
（３）は、上記半導体モジュール用基板（２）におい
て、前記第２のヒートシンクが、前記凹部内に配置され
た板状又は粉末状の放熱材と、該放熱材と前記凹部の内
面との間隙に埋め込まれたろう材とにより構成されてい
ることを特徴としている。上記した半導体モジュール用
基板（３）によれば、前記凹部内に配置された前記放熱
材と、該放熱材と前記凹部の内面との間隙に埋め込まれ
たろう材とにより前記第２のヒートシンクが構成されて
いるため、該第２のヒートシンクと前記第１のヒートシ
ンクとの接合部分における伝熱性の向上を図ることがで
きる。
【００１１】また本発明に係る半導体モジュール用基板
（４）は、上記半導体モジュール用基板（３）におい
て、前記第２のヒートシンクを構成する前記放熱材が、
Ｍｏ、Ｗ、Ｃｕ、Ｍｏ−Ｃｕ、Ｗ−Ｃｕのいずれかを用
いて形成されていることを特徴としている。Ｍｏ、Ｗ、
Ｍｏ−Ｃｕ、Ｗ−Ｃｕはいずれも、熱伝導率が高く、か
つ半導体チップに近い熱膨張係数を有したものである。
したがって、これらのいずれかを構成材料として前記第
２のヒートシンクを構成する前記放熱材が形成された上
記の半導体モジュール用基板（４）によれば、前記半導
体チップの搭載部分の伝熱、放熱特性に優れ、しかも熱
応力に起因する破壊が半導体チップ等に生じない信頼性
の高い半導体モジュール用基板を提供することができ
る。
（４）は、上記半導体モジュール用基板（３）におい
て、前記第２のヒートシンクを構成する前記放熱材が、
Ｍｏ、Ｗ、Ｃｕ、Ｍｏ−Ｃｕ、Ｗ−Ｃｕのいずれかを用
いて形成されていることを特徴としている。Ｍｏ、Ｗ、
Ｍｏ−Ｃｕ、Ｗ−Ｃｕはいずれも、熱伝導率が高く、か
つ半導体チップに近い熱膨張係数を有したものである。
したがって、これらのいずれかを構成材料として前記第
２のヒートシンクを構成する前記放熱材が形成された上
記の半導体モジュール用基板（４）によれば、前記半導
体チップの搭載部分の伝熱、放熱特性に優れ、しかも熱
応力に起因する破壊が半導体チップ等に生じない信頼性
の高い半導体モジュール用基板を提供することができ
る。
【００１２】また本発明に係る半導体モジュール用基板
の製造方法は、半導体チップを搭載するための半導体モ
ジュール用基板の製造方法において、第１のヒートシン
ク上に前記半導体チップの搭載部分が開口した絶縁基板
をろう材を介して配置するとともに、前記第１のヒート
シンクの上面と前記絶縁基板の開口部分とにより形成さ
れた凹部内に板状又は粉末状の放熱材を配置する工程
と、前記ろう材を加熱溶融させることにより、前記第１
のヒートシンクと前記絶縁基板とを接合するとともに前
記放熱材と前記凹部の内面との間隙を前記ろう材で埋め
込んで第２のヒートシンクを形成する工程とを含んでい
ることを特徴としている。
の製造方法は、半導体チップを搭載するための半導体モ
ジュール用基板の製造方法において、第１のヒートシン
ク上に前記半導体チップの搭載部分が開口した絶縁基板
をろう材を介して配置するとともに、前記第１のヒート
シンクの上面と前記絶縁基板の開口部分とにより形成さ
れた凹部内に板状又は粉末状の放熱材を配置する工程
と、前記ろう材を加熱溶融させることにより、前記第１
のヒートシンクと前記絶縁基板とを接合するとともに前
記放熱材と前記凹部の内面との間隙を前記ろう材で埋め
込んで第２のヒートシンクを形成する工程とを含んでい
ることを特徴としている。
【００１３】上記した半導体モジュール用基板の製造方
法によれば、前記第１のヒートシンクと前記絶縁基板と
の間のろう材、及び前記第１のヒートシンクと前記凹部
内に配置された前記放熱材との間のろう材を加熱溶融さ
せることにより、前記第１のヒートシンクと前記絶縁基
板とを接合するとともに前記凹部を充填する第２のヒー
トシンクを形成するので、前記絶縁基板とは別に前記第
２のヒートシンクを形成することによる工程数の増加を
抑えることができる。しかも、前記半導体チップと前記
第１のヒートシンクとの間に前記絶縁基板を位置させな
いことから、前記絶縁基板に安価な基板を用いることが
できる。よって、半導体モジュール用基板を安価に製造
することができる。
法によれば、前記第１のヒートシンクと前記絶縁基板と
の間のろう材、及び前記第１のヒートシンクと前記凹部
内に配置された前記放熱材との間のろう材を加熱溶融さ
せることにより、前記第１のヒートシンクと前記絶縁基
板とを接合するとともに前記凹部を充填する第２のヒー
トシンクを形成するので、前記絶縁基板とは別に前記第
２のヒートシンクを形成することによる工程数の増加を
抑えることができる。しかも、前記半導体チップと前記
第１のヒートシンクとの間に前記絶縁基板を位置させな
いことから、前記絶縁基板に安価な基板を用いることが
できる。よって、半導体モジュール用基板を安価に製造
することができる。
【００１４】
【発明の実施の形態】以下、本発明に係る半導体モジュ
ール用基板及びその製造方法の実施の形態を図面に基づ
いて説明する。図１は実施の形態に係るパワーモジュー
ル用基板としての半導体モジュール用基板を示す側断面
図であり、図１は半導体チップを搭載した状態のものを
示している。
ール用基板及びその製造方法の実施の形態を図面に基づ
いて説明する。図１は実施の形態に係るパワーモジュー
ル用基板としての半導体モジュール用基板を示す側断面
図であり、図１は半導体チップを搭載した状態のものを
示している。
【００１５】図１に示したように実施の形態に係る半導
体モジュール用基板１０では、第１のヒートシンク１１
の上面に、Ａｇろう材１２によって接合された絶縁基板
１３が設けられている。第１のヒートシンク１１は、例
えばＣｕやＭｏ、あるいはこれらの混合材等といった高
い熱伝導率を有する材料で構成されている。また絶縁基
板１３は、半導体チップ２０の搭載部分が開口した開口
部分１３ａを有しており、第１のヒートシンク１１の上
面と絶縁基板１３の開口部分１３ａとにより凹部１４が
形成されている。絶縁基板１３は、例えば０．０５ｍｍ
〜１．００ｍｍ程度の厚みのＡｌ2 Ｏ3 基板やＡｌＮ基
板（但し、ＡｌＮの中では比較的熱伝導率が低い、例え
ば１３０Ｗ／ｍ・Ｋ程度の比較的安価なＡｌＮを材料と
している）、ＳｉＮ基板等の安価なセラミック基板で構
成されている。
体モジュール用基板１０では、第１のヒートシンク１１
の上面に、Ａｇろう材１２によって接合された絶縁基板
１３が設けられている。第１のヒートシンク１１は、例
えばＣｕやＭｏ、あるいはこれらの混合材等といった高
い熱伝導率を有する材料で構成されている。また絶縁基
板１３は、半導体チップ２０の搭載部分が開口した開口
部分１３ａを有しており、第１のヒートシンク１１の上
面と絶縁基板１３の開口部分１３ａとにより凹部１４が
形成されている。絶縁基板１３は、例えば０．０５ｍｍ
〜１．００ｍｍ程度の厚みのＡｌ2 Ｏ3 基板やＡｌＮ基
板（但し、ＡｌＮの中では比較的熱伝導率が低い、例え
ば１３０Ｗ／ｍ・Ｋ程度の比較的安価なＡｌＮを材料と
している）、ＳｉＮ基板等の安価なセラミック基板で構
成されている。
【００１６】上記の凹部１４内には、絶縁基板１３より
も高い熱伝導率を有した第２のヒートシンク１５が充填
されている。第２のヒートシンク１５は、例えば凹部１
４内に配置された板状又は粉末状の放熱材１５ａと、こ
の放熱材１５ａと凹部１４の内面との間隙に埋め込まれ
たＡｇろう材１５ｂとにより構成されている。また、第
２のヒートシンク１５と第１のヒートシンク１１との間
にも、第１のヒートシンク１１と絶縁基板１３とを接合
するＡｇろう材１２が同様に介在している状態となって
いる。
も高い熱伝導率を有した第２のヒートシンク１５が充填
されている。第２のヒートシンク１５は、例えば凹部１
４内に配置された板状又は粉末状の放熱材１５ａと、こ
の放熱材１５ａと凹部１４の内面との間隙に埋め込まれ
たＡｇろう材１５ｂとにより構成されている。また、第
２のヒートシンク１５と第１のヒートシンク１１との間
にも、第１のヒートシンク１１と絶縁基板１３とを接合
するＡｇろう材１２が同様に介在している状態となって
いる。
【００１７】図２は第２のヒートシンク１５を構成する
放熱材１５ａが板状である場合の一例を示したものであ
り、（ａ）は平面図、（ｂ）は（ａ）におけるＡ−Ａ線
矢視断面図である。図２に示した放熱材１５ａは、絶縁
基板１３の開口部分１３ａとほぼ同じ、すなわち搭載す
る半導体チップ２０の搭載面とほぼ同じ平面視略矩形状
をなし、かつ断面積が開口部分１３ａのそれよりもわず
かに小さくなるように形成されている。そして、放熱材
１５ａの周縁部には、放熱材１５ａと凹部１４の内面と
の間隙に埋め込まれたＡｇろう材１５ｂが付着した状態
になっている。
放熱材１５ａが板状である場合の一例を示したものであ
り、（ａ）は平面図、（ｂ）は（ａ）におけるＡ−Ａ線
矢視断面図である。図２に示した放熱材１５ａは、絶縁
基板１３の開口部分１３ａとほぼ同じ、すなわち搭載す
る半導体チップ２０の搭載面とほぼ同じ平面視略矩形状
をなし、かつ断面積が開口部分１３ａのそれよりもわず
かに小さくなるように形成されている。そして、放熱材
１５ａの周縁部には、放熱材１５ａと凹部１４の内面と
の間隙に埋め込まれたＡｇろう材１５ｂが付着した状態
になっている。
【００１８】上記の放熱材１５ａは、高い熱伝導率を有
する、例えば、Ｃｕ材、Ｍｏ材、Ｗ材、Ｍｏ−Ｃｕ混合
材、Ｗ−Ｃｕ混合材のいずれかの材料を用いて構成され
ている。第２のヒートシンク１５は、例えば図２に示す
板状の放熱材１５ａがＭｏで構成され、第２のヒートシ
ンク１５の一辺Ｌ1 が２０ｍｍ程度で厚さＴ1 が０．６
３５ｍｍ程度、放熱材１５ａの一辺Ｌ2 が１８ｍｍ程
度、厚さＴ2 が０．５３５ｍｍ程度に設定されている場
合、第２のヒートシンク１５の熱膨張係数は６．０×１
０-6／Ｋ、熱伝導率は１８６Ｗ／ｍ・Ｋ程度となる。
する、例えば、Ｃｕ材、Ｍｏ材、Ｗ材、Ｍｏ−Ｃｕ混合
材、Ｗ−Ｃｕ混合材のいずれかの材料を用いて構成され
ている。第２のヒートシンク１５は、例えば図２に示す
板状の放熱材１５ａがＭｏで構成され、第２のヒートシ
ンク１５の一辺Ｌ1 が２０ｍｍ程度で厚さＴ1 が０．６
３５ｍｍ程度、放熱材１５ａの一辺Ｌ2 が１８ｍｍ程
度、厚さＴ2 が０．５３５ｍｍ程度に設定されている場
合、第２のヒートシンク１５の熱膨張係数は６．０×１
０-6／Ｋ、熱伝導率は１８６Ｗ／ｍ・Ｋ程度となる。
【００１９】また放熱材１５ａが粉末状のものである場
合、Ａｇろう材１５ｂは放熱材１５ａの粉末粒子間にも
介在した状態になる。ここで、放熱材１５ａの構成材の
一例であるＭｏ、Ｗ、Ｃｕ、Ｍｏ−Ｃｕ、Ｗ−Ｃｕのそ
れぞれの熱伝導率を表１に示す。また、絶縁基板１３の
構成材の一例であるＡｌ2 Ｏ3 、ＡｌＮの熱伝導率も表
１に併せて示す。
合、Ａｇろう材１５ｂは放熱材１５ａの粉末粒子間にも
介在した状態になる。ここで、放熱材１５ａの構成材の
一例であるＭｏ、Ｗ、Ｃｕ、Ｍｏ−Ｃｕ、Ｗ−Ｃｕのそ
れぞれの熱伝導率を表１に示す。また、絶縁基板１３の
構成材の一例であるＡｌ2 Ｏ3 、ＡｌＮの熱伝導率も表
１に併せて示す。
【００２０】
【表１】 このような絶縁基板１３上及び第２のヒートシンク１５
上には、Ａｇろう材１６によって接合された配線金属板
１７が配設されている。
上には、Ａｇろう材１６によって接合された配線金属板
１７が配設されている。
【００２１】そして、上記構成の半導体モジュール用基
板１０の第２のヒートシンク１５上の配線金属板１７上
には半導体チップ２０が搭載され、この半導体チップ２
０の上面に形成されているパッド電極（図示略）と配線
金属板１７のパッド電極部１７ａとがワイヤー２１によ
りボンディングされている。
板１０の第２のヒートシンク１５上の配線金属板１７上
には半導体チップ２０が搭載され、この半導体チップ２
０の上面に形成されているパッド電極（図示略）と配線
金属板１７のパッド電極部１７ａとがワイヤー２１によ
りボンディングされている。
【００２２】次に、本発明の実施の形態に係る半導体モ
ジュール用基板の製造方法を、上記構成の半導体モジュ
ール用基板１０を製造する場合を例にとって説明する。
半導体モジュール用基板１０を製造するにあたっては、
予め半導体チップ２０の搭載部分が切除され、開口部分
１３ａが形成された絶縁基板１３を作製しておく。そし
て次に、第１のヒートシンク１１上に、Ａｇろう材１
２、絶縁基板１３をこの順に積層した状態で配置すると
ともに、絶縁基板１３の開口部分１３ａと第１のヒート
シンク１１の上面とにより形成された凹部１４内に板状
又は粉末状の放熱材１５ａをＡｇろう材１２を介して配
置する。さらに、絶縁基板１３上と放熱材１５ａ上とに
Ａｇろう材１６を介して配線金属板１７を配置する。
ジュール用基板の製造方法を、上記構成の半導体モジュ
ール用基板１０を製造する場合を例にとって説明する。
半導体モジュール用基板１０を製造するにあたっては、
予め半導体チップ２０の搭載部分が切除され、開口部分
１３ａが形成された絶縁基板１３を作製しておく。そし
て次に、第１のヒートシンク１１上に、Ａｇろう材１
２、絶縁基板１３をこの順に積層した状態で配置すると
ともに、絶縁基板１３の開口部分１３ａと第１のヒート
シンク１１の上面とにより形成された凹部１４内に板状
又は粉末状の放熱材１５ａをＡｇろう材１２を介して配
置する。さらに、絶縁基板１３上と放熱材１５ａ上とに
Ａｇろう材１６を介して配線金属板１７を配置する。
【００２３】その後、この状態を維持して約８００℃に
維持された炉内を通過させ、Ａｇろう材１２、１６を溶
融させることにより、第１のヒートシンク１１と絶縁基
板１３とを接合する。同時に溶融したＡｇろう材１２、
１６によって放熱材１５ａと凹部１４の内面との間隙を
埋め込み、このことにより放熱材１５ａと凹部１４内に
埋め込まれたＡｇろう材１５ｂとからなる第２のヒート
シンク１５を形成する。以上の工程によって半導体モジ
ュール用基板１０が製造される。製造された半導体モジ
ュール用基板１０を用いて半導体モジュールを作製する
にあたっては、第２のヒートシンク１５上の配線金属板
１７上面に半導体チップ２０を半田付け、搭載した後、
半導体チップ２０上面に形成されたパッド電極と配線金
属板１７のパッド電極部とをワイヤーボンディングする
ことになる。
維持された炉内を通過させ、Ａｇろう材１２、１６を溶
融させることにより、第１のヒートシンク１１と絶縁基
板１３とを接合する。同時に溶融したＡｇろう材１２、
１６によって放熱材１５ａと凹部１４の内面との間隙を
埋め込み、このことにより放熱材１５ａと凹部１４内に
埋め込まれたＡｇろう材１５ｂとからなる第２のヒート
シンク１５を形成する。以上の工程によって半導体モジ
ュール用基板１０が製造される。製造された半導体モジ
ュール用基板１０を用いて半導体モジュールを作製する
にあたっては、第２のヒートシンク１５上の配線金属板
１７上面に半導体チップ２０を半田付け、搭載した後、
半導体チップ２０上面に形成されたパッド電極と配線金
属板１７のパッド電極部とをワイヤーボンディングする
ことになる。
【００２４】上記構成の半導体モジュール用基板１０に
よれば、第１のヒートシンク１１への伝熱特性に優れて
いることが要求される半導体チップ２０の搭載部分がＭ
ｏ、Ｗ、Ｍｏ−Ｃｕ、Ｗ−Ｃｕ等の高熱伝導率の金属材
料からなる第２のヒートシンク１５で構成され、この第
２のヒートシンク１５が絶縁基板１３を介さずにその開
口部分１３ａから直接的に第１のヒートシンク１１上に
接合されている。このため、第２のヒートシンク１５上
に半導体チップ２０を搭載した場合、半導体チップ２０
で発生した熱を第２のヒートシンク１７から第１のヒー
トシンク１１へと効率良く伝熱させて放熱させることが
できる。
よれば、第１のヒートシンク１１への伝熱特性に優れて
いることが要求される半導体チップ２０の搭載部分がＭ
ｏ、Ｗ、Ｍｏ−Ｃｕ、Ｗ−Ｃｕ等の高熱伝導率の金属材
料からなる第２のヒートシンク１５で構成され、この第
２のヒートシンク１５が絶縁基板１３を介さずにその開
口部分１３ａから直接的に第１のヒートシンク１１上に
接合されている。このため、第２のヒートシンク１５上
に半導体チップ２０を搭載した場合、半導体チップ２０
で発生した熱を第２のヒートシンク１７から第１のヒー
トシンク１１へと効率良く伝熱させて放熱させることが
できる。
【００２５】よって、温度サイクル時にも半導体チップ
２０の搭載部分が高温になるのを防止できるため、過大
な熱応力が半導体チップ２０等に作用することがない。
このことから、熱応力に起因して半導体チップ２０等に
クラックが発生するのを防止でき、温度サイクルに対す
る信頼性を確保することができる。
２０の搭載部分が高温になるのを防止できるため、過大
な熱応力が半導体チップ２０等に作用することがない。
このことから、熱応力に起因して半導体チップ２０等に
クラックが発生するのを防止でき、温度サイクルに対す
る信頼性を確保することができる。
【００２６】また、本実施の形態では、凹部１４内に配
置された放熱材１５ａと凹部１４の内面との間隙に埋め
込まれたＡｇろう材１５ｂとにより第２のヒートシンク
１５が構成されているので、第２のヒートシンク１５と
第１のヒートシンク１１との接合部分の伝熱性の向上を
図ることができる。このことも、半導体チップ２０で発
生した熱を第２のヒートシンク１５から第１のヒートシ
ンク１１へと効率良く放熱させるうえで非常に有効とな
っている。
置された放熱材１５ａと凹部１４の内面との間隙に埋め
込まれたＡｇろう材１５ｂとにより第２のヒートシンク
１５が構成されているので、第２のヒートシンク１５と
第１のヒートシンク１１との接合部分の伝熱性の向上を
図ることができる。このことも、半導体チップ２０で発
生した熱を第２のヒートシンク１５から第１のヒートシ
ンク１１へと効率良く放熱させるうえで非常に有効とな
っている。
【００２７】また、絶縁基板１３は半導体チップ２０と
第１のヒートシンク１１との間に介在しないことから、
絶縁基板１３を特に熱伝導性に優れた材料を用いて構成
する必要が少ない。このため、絶縁基板１３の構成材料
として、例えば安価なアルミナ（Ａｌ2 Ｏ3 ）やＡｌＮ
の中では熱伝導率が比較的低く比較的安価なＡｌＮ等を
用いることができ、半導体モジュール用基板１０製造の
コストを削減することができる。
第１のヒートシンク１１との間に介在しないことから、
絶縁基板１３を特に熱伝導性に優れた材料を用いて構成
する必要が少ない。このため、絶縁基板１３の構成材料
として、例えば安価なアルミナ（Ａｌ2 Ｏ3 ）やＡｌＮ
の中では熱伝導率が比較的低く比較的安価なＡｌＮ等を
用いることができ、半導体モジュール用基板１０製造の
コストを削減することができる。
【００２８】また実施の形態に係る半導体モジュール用
基板１０の製造方法では、Ａｇろう材１２、１６を加熱
溶融させることで第１のヒートシンク１１と絶縁基板１
３と配線金属板１５とを同時的に接合し、しかも凹部１
４を充填する第２のヒートシンク１５も同時的に形成す
るので、絶縁基板１３とは別に第２のヒートシンク１５
を配設しても工程数の増加を抑えることができる。
基板１０の製造方法では、Ａｇろう材１２、１６を加熱
溶融させることで第１のヒートシンク１１と絶縁基板１
３と配線金属板１５とを同時的に接合し、しかも凹部１
４を充填する第２のヒートシンク１５も同時的に形成す
るので、絶縁基板１３とは別に第２のヒートシンク１５
を配設しても工程数の増加を抑えることができる。
【００２９】このように、実施の形態に係る半導体モジ
ュール用基板１０の製造方法によれば、半導体チップ２
０の搭載部分において特に伝熱、放熱特性に優れた半導
体モジュール用基板を安価に製造することができ、しか
も熱応力に起因するクラック等の発生確率の極めて少な
い高い信頼性を有する半導体モジュール用基板１０を得
ることができる。
ュール用基板１０の製造方法によれば、半導体チップ２
０の搭載部分において特に伝熱、放熱特性に優れた半導
体モジュール用基板を安価に製造することができ、しか
も熱応力に起因するクラック等の発生確率の極めて少な
い高い信頼性を有する半導体モジュール用基板１０を得
ることができる。
【００３０】なお、本実施の形態では、第２のヒートシ
ンク１５を構成する金属材料として、Ｍｏ、Ｗ、Ｃｕ、
Ｍｏ−Ｃｕ、Ｗ−Ｃｕのいずれかを用いる例を述べた
が、別の実施の形態では、絶縁基板１３よりも熱伝導率
の高いその他の材料を用いて構成しても差し支えない。
また、上記実施の形態では、半導体モジュール用基板１
０がパワーモジュール用基板である例を述べたが、本発
明はパワーモジュール用基板のみならず、種々の半導体
モジュール用基板に適用することができる。
ンク１５を構成する金属材料として、Ｍｏ、Ｗ、Ｃｕ、
Ｍｏ−Ｃｕ、Ｗ−Ｃｕのいずれかを用いる例を述べた
が、別の実施の形態では、絶縁基板１３よりも熱伝導率
の高いその他の材料を用いて構成しても差し支えない。
また、上記実施の形態では、半導体モジュール用基板１
０がパワーモジュール用基板である例を述べたが、本発
明はパワーモジュール用基板のみならず、種々の半導体
モジュール用基板に適用することができる。
【００３１】さらに本実施の形態に係る半導体モジュー
ル用基板１０の製造方法では、ろう材としてＡｇろう材
を用いた場合を例に挙げたが、別の実施の形態では、配
線金属板１７を熱により破壊しない程度の低い融点のろ
う材であれば他のろう材を用いることも可能である。
ル用基板１０の製造方法では、ろう材としてＡｇろう材
を用いた場合を例に挙げたが、別の実施の形態では、配
線金属板１７を熱により破壊しない程度の低い融点のろ
う材であれば他のろう材を用いることも可能である。
【００３２】
【実施例】次に、本発明に係る半導体モジュール用基板
の実施例を説明する。実施例では、図１に示した半導体
モジュール用基板１０の絶縁基板１３、第１のヒートシ
ンク１１、第２のヒートシンク１５、配線金属板１７の
各構成材料を下記の表２に示す組み合わせとして、タイ
プＡ〜Ｄの４種類の半導体モジュール用基板１０のサン
プルを製造した。そして各タイプＡ〜Ｄに半導体チップ
２０を搭載した後、図３に示すように半導体チップ２０
の上面とヒートシンク１１の下面との間での熱抵抗の測
定を行った。各サンプル（タイプＡ〜Ｄ）のＡｇろう材
１２、１６には、共晶ろう材を使用した。
の実施例を説明する。実施例では、図１に示した半導体
モジュール用基板１０の絶縁基板１３、第１のヒートシ
ンク１１、第２のヒートシンク１５、配線金属板１７の
各構成材料を下記の表２に示す組み合わせとして、タイ
プＡ〜Ｄの４種類の半導体モジュール用基板１０のサン
プルを製造した。そして各タイプＡ〜Ｄに半導体チップ
２０を搭載した後、図３に示すように半導体チップ２０
の上面とヒートシンク１１の下面との間での熱抵抗の測
定を行った。各サンプル（タイプＡ〜Ｄ）のＡｇろう材
１２、１６には、共晶ろう材を使用した。
【００３３】また−６５℃→１５０℃→−６５℃の温度
変化を３０００回繰り返す温度サイクル（Ｔ／Ｃ）試験
を行って、試験後の絶縁基板１３及び半導体チップ２０
について剥がれやクラック発生の有無を評価した。これ
らの熱抵抗比率（従来例（タイプＥ）を１００とした場
合の相対比率）及び温度サイクル試験後の評価結果を表
２に併せて示す。
変化を３０００回繰り返す温度サイクル（Ｔ／Ｃ）試験
を行って、試験後の絶縁基板１３及び半導体チップ２０
について剥がれやクラック発生の有無を評価した。これ
らの熱抵抗比率（従来例（タイプＥ）を１００とした場
合の相対比率）及び温度サイクル試験後の評価結果を表
２に併せて示す。
【００３４】また、図４に示した従来構造の半導体モジ
ュール用基板３０について、絶縁基板３１、ヒートシン
ク３５、配線金属板３３の各構成材料を表２のタイプＥ
に示す組み合わせとして製造し、半導体チップ２０を搭
載した後、比較例として上記と同様にして熱抵抗の測定
と温度サイクル試験とを行い、その結果を表２に併せて
示す。
ュール用基板３０について、絶縁基板３１、ヒートシン
ク３５、配線金属板３３の各構成材料を表２のタイプＥ
に示す組み合わせとして製造し、半導体チップ２０を搭
載した後、比較例として上記と同様にして熱抵抗の測定
と温度サイクル試験とを行い、その結果を表２に併せて
示す。
【００３５】
【表２】 表２から明らかなように、実施例に係る半導体モジュー
ル用基板１０のタイプＡ〜Ｄでは、いずれも従来構造を
有するタイプＥよりも熱抵抗値が低減しており、半導体
チップ２０で発生した熱が効率良く第２のヒートシンク
１５から第１のヒートシンク１１へと伝導していること
を確認することができた。
ル用基板１０のタイプＡ〜Ｄでは、いずれも従来構造を
有するタイプＥよりも熱抵抗値が低減しており、半導体
チップ２０で発生した熱が効率良く第２のヒートシンク
１５から第１のヒートシンク１１へと伝導していること
を確認することができた。
【００３６】また、実施例に係るタイプＡ〜Ｄのいずれ
にも絶縁基板１３や半導体チップ２０について剥がれや
クラック等の発生は認められなかった。この温度サイク
ル試験の結果から、実施例に係る半導体モジュール用基
板１０は、従来の半導体モジュール用基板３０と同等以
上の信頼性が得られることを確認することができた。こ
れは、第２のヒートシンク１５の伝熱特性が極めて優れ
ていることにより半導体チップ２０が高温となることが
なく、半導体チップ２０や絶縁基板１３に過大な熱応力
が作用することがないためであると考えられる。また、
絶縁基板１３に半導体チップ２０が搭載されないため、
絶縁基板１３と半導体チップ２０との間の熱膨張係数の
差に起因する熱応力がこれら部材間に作用しないためで
あると考えられる。
にも絶縁基板１３や半導体チップ２０について剥がれや
クラック等の発生は認められなかった。この温度サイク
ル試験の結果から、実施例に係る半導体モジュール用基
板１０は、従来の半導体モジュール用基板３０と同等以
上の信頼性が得られることを確認することができた。こ
れは、第２のヒートシンク１５の伝熱特性が極めて優れ
ていることにより半導体チップ２０が高温となることが
なく、半導体チップ２０や絶縁基板１３に過大な熱応力
が作用することがないためであると考えられる。また、
絶縁基板１３に半導体チップ２０が搭載されないため、
絶縁基板１３と半導体チップ２０との間の熱膨張係数の
差に起因する熱応力がこれら部材間に作用しないためで
あると考えられる。
【００３７】以上の結果から、放熱特性に優れ、半導体
チップ２０搭載後における熱負荷信頼性の高い、しかも
安価な半導体モジュール用基板を実現できることを確認
することができた。
チップ２０搭載後における熱負荷信頼性の高い、しかも
安価な半導体モジュール用基板を実現できることを確認
することができた。
【図１】本発明の実施の形態に係る半導体モジュール用
基板を示す要部側断面図である。
基板を示す要部側断面図である。
【図２】実施の形態に係る半導体モジュール用基板の第
２のヒートシンクを構成する放熱材が板状である場合の
一例を示したものであり、（ａ）は平面図、（ｂ）は
（ａ）におけるＡ−Ａ線矢視断面図である。
２のヒートシンクを構成する放熱材が板状である場合の
一例を示したものであり、（ａ）は平面図、（ｂ）は
（ａ）におけるＡ−Ａ線矢視断面図である。
【図３】実施の形態に係る半導体モジュール用基板につ
いて熱抵抗を測定する様子を示す図である。
いて熱抵抗を測定する様子を示す図である。
【図４】従来の半導体モジュール用基板の一例を示す要
部側断面図である。
部側断面図である。
１０ 半導体モジュール用基板 １１ 第１のヒートシンク １２、１６ Ａｇろう材 １３ 絶縁基板 １３ａ 開口部分 １４ 凹部 １５ 第２のヒートシンク １７ 配線金属板 ２０ 半導体チップ
Claims (5)
- 【請求項１】 半導体チップを搭載するための半導体モ
ジュール用基板において、 第１のヒートシンクと、 該第１のヒートシンク上に接合されて前記半導体チップ
の搭載部分が開口した絶縁基板と、 前記第１のヒートシンクの上面と前記絶縁基板の開口部
分とにより形成された凹部内に充填された第２のヒート
シンクとを備えていることを特徴とする半導体モジュー
ル用基板。 - 【請求項２】 前記第２のヒートシンクが、前記絶縁基
板の熱伝導率よりも高い熱伝導率を有した材料を用いて
形成されていることを特徴とする請求項１記載の半導体
モジュール用基板。 - 【請求項３】 前記第２のヒートシンクが、前記凹部内
に配置された板状又は粉末状の放熱材と、該放熱材と前
記凹部の内面との間隙に埋め込まれたろう材とにより構
成されていることを特徴とする請求項２記載の半導体モ
ジュール用基板。 - 【請求項４】 前記第２のヒートシンクを構成する前記
放熱材が、Ｍｏ、Ｗ、Ｃｕ、Ｍｏ−Ｃｕ、Ｗ−Ｃｕのい
ずれかを用いて形成されていることを特徴とする請求項
３記載の半導体モジュール用基板。 - 【請求項５】 半導体チップを搭載するための半導体モ
ジュール用基板の製造方法において、 第１のヒートシンク上に前記半導体チップの搭載部分が
開口した絶縁基板をろう材を介して配置するとともに、
前記第１のヒートシンクの上面と前記絶縁基板の開口部
分とにより形成された凹部内に板状又は粉末状の放熱材
を配置する工程と、 前記ろう材を加熱溶融させることにより、前記第１のヒ
ートシンクと前記絶縁基板とを接合するとともに前記放
熱材と前記凹部の内面との間隙を前記ろう材で埋め込ん
で第２のヒートシンクを形成する工程とを含んでいるこ
とを特徴とする半導体モジュール用基板の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP25992299A JP2001085581A (ja) | 1999-09-14 | 1999-09-14 | 半導体モジュール用基板及びその製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP25992299A JP2001085581A (ja) | 1999-09-14 | 1999-09-14 | 半導体モジュール用基板及びその製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2001085581A true JP2001085581A (ja) | 2001-03-30 |
Family
ID=17340803
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP25992299A Pending JP2001085581A (ja) | 1999-09-14 | 1999-09-14 | 半導体モジュール用基板及びその製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2001085581A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN101635285B (zh) * | 2008-07-24 | 2012-06-13 | 达方电子股份有限公司 | 具有散热功能的陶瓷基板结构及其制造方法 |
| WO2014148026A1 (ja) * | 2013-03-21 | 2014-09-25 | 日本電気株式会社 | ヒートシンク構造、半導体装置及びヒートシンク搭載方法 |
| JP2019161109A (ja) * | 2018-03-15 | 2019-09-19 | 株式会社東芝 | 半導体装置用パッケージおよび半導体装置 |
-
1999
- 1999-09-14 JP JP25992299A patent/JP2001085581A/ja active Pending
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN101635285B (zh) * | 2008-07-24 | 2012-06-13 | 达方电子股份有限公司 | 具有散热功能的陶瓷基板结构及其制造方法 |
| WO2014148026A1 (ja) * | 2013-03-21 | 2014-09-25 | 日本電気株式会社 | ヒートシンク構造、半導体装置及びヒートシンク搭載方法 |
| JP2019161109A (ja) * | 2018-03-15 | 2019-09-19 | 株式会社東芝 | 半導体装置用パッケージおよび半導体装置 |
| JP7131933B2 (ja) | 2018-03-15 | 2022-09-06 | 株式会社東芝 | 半導体装置用パッケージおよび半導体装置 |
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