JP2001077130A - Manufacture of resin sealed semiconductor device - Google Patents
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Abstract
Description
【0001】[0001]
【発明の属する技術分野】本発明は、QFN(Quad
Flat Non−leaded Package)
と称される外部端子となるリード部が片面封止された小
型/薄型の樹脂封止型半導体装置の製造方法に関するも
のであり、特に生産効率を向上させるとともに、リード
部の信頼性を向上させた樹脂封止型半導体装置を実現す
るための製造方法に関するものである。TECHNICAL FIELD The present invention relates to a QFN (Quad).
Flat Non-leaded Package)
The present invention relates to a method for manufacturing a small / thin resin-encapsulated semiconductor device in which a lead portion serving as an external terminal is sealed on one side, and particularly to improve production efficiency and reliability of the lead portion. And a method for realizing a resin-sealed semiconductor device.
【0002】[0002]
【従来の技術】近年、電子機器の小型化に対応するため
に、樹脂封止型半導体装置などの半導体部品の高密度実
装が要求され、それにともなって、半導体部品の小型、
薄型化が進んでいる。また小型で薄型でありながら、多
ピン化が進み、高密度の小型、薄型の樹脂封止型半導体
装置が要望されている。2. Description of the Related Art In recent years, in order to cope with miniaturization of electronic equipment, high-density mounting of semiconductor components such as resin-encapsulated semiconductor devices has been required.
Thinning is progressing. In addition, the number of pins has been increased while being small and thin, and a high-density small and thin resin-sealed semiconductor device has been demanded.
【0003】以下、従来のQFN型の樹脂封止型半導体
装置に使用するリードフレームについて説明する。Hereinafter, a lead frame used in a conventional QFN-type resin-sealed semiconductor device will be described.
【0004】図21は、従来のリードフレームの構成を
示す図であり、図21(a)は平面図であり、図21
(b)は図21(a)のA−A1箇所の断面図である。FIG. 21 is a view showing the structure of a conventional lead frame, and FIG. 21 (a) is a plan view, and FIG.
FIG. 22B is a cross-sectional view taken along a line A-A1 in FIG.
【0005】図21に示すように、従来のリードフレー
ムは、フレーム枠101と、そのフレーム枠101内
に、半導体素子が載置される矩形状のダイパッド部10
2と、ダイパッド部102の角部をその先端部で支持
し、端部がフレーム枠101と接続した吊りリード部1
03と、半導体素子を載置した場合、その載置した半導
体素子と金属細線等の接続手段により電気的に接続する
ビーム状のリード部104とより構成されている。そし
てリード部104は、封止樹脂で封止された際、封止樹
脂部に埋設される部分はインナーリード部104aを構
成し、封止樹脂部より露出する部分はアウターリード部
104bを構成するものであり、インナーリード部10
4aとアウターリード部104bとは、一体で連続して
設けられている。図21において、破線で示した領域
は、半導体素子を搭載して樹脂封止型半導体装置を構成
する場合、封止樹脂で封止する領域を示しており、また
一点鎖線で示した部分は、半導体素子を搭載して樹脂封
止し、樹脂封止型半導体装置を構成した後、リード部1
04(アウターリード部104b)を金型で切断する部
分を示している。As shown in FIG. 21, a conventional lead frame comprises a frame 101 and a rectangular die pad 10 on which a semiconductor element is mounted.
2 and a suspension lead 1 having a corner portion of the die pad portion 102 supported at its tip end and an end portion connected to the frame 101.
03, and a beam-shaped lead portion 104 electrically connected to the mounted semiconductor element by a connecting means such as a thin metal wire when the semiconductor element is mounted. When the lead portion 104 is sealed with the sealing resin, a portion embedded in the sealing resin portion constitutes an inner lead portion 104a, and a portion exposed from the sealing resin portion constitutes an outer lead portion 104b. And the inner lead portion 10
4a and the outer lead portion 104b are provided integrally and continuously. In FIG. 21, a region indicated by a broken line indicates a region sealed with a sealing resin when a semiconductor element is mounted to form a resin-sealed semiconductor device, and a portion indicated by a dashed line indicates After the semiconductor element is mounted and resin-sealed to form a resin-sealed semiconductor device, the lead 1
FIG. 4 shows a portion where the outer lead portion 104b is cut by a mold.
【0006】また、従来のリードフレームは、図21
(b)に示すように、ダイパッド部102は吊りリード
部103によって支持されているが、その吊りリード部
103に設けたディプレス部によってダイパッド部10
2がリード部104上面に対して上方に配置されるよ
う、アップセットされているものである。FIG. 21 shows a conventional lead frame.
As shown in (b), the die pad portion 102 is supported by the suspension lead portion 103, and the die pad portion 10 is supported by the depress portion provided on the suspension lead portion 103.
2 is set up so as to be disposed above the upper surface of the lead portion 104.
【0007】次に従来の樹脂封止型半導体装置について
説明する。図22は、図21に示したリードフレームを
用いた樹脂封止型半導体装置を示す図であり、図22
(a)は、内部構成を破線で示した透視平面図であり、
図22(b)は図22(a)のB−B1箇所の断面図で
ある。Next, a conventional resin-sealed semiconductor device will be described. FIG. 22 is a view showing a resin-sealed semiconductor device using the lead frame shown in FIG.
(A) is a perspective plan view showing the internal configuration by a broken line,
FIG. 22B is a cross-sectional view taken along a line B-B1 in FIG.
【0008】図22に示すように、リードフレームのダ
イパッド部102上に半導体素子105が搭載され、そ
の半導体素子105とリード部104のインナーリード
部104aとが金属細線106により電気的に接続され
ている。そしてダイパッド部102上の半導体素子10
5、インナーリード部104aの外囲は封止樹脂107
により封止されている。そしてそのリード部104(イ
ンナーリード部104a)の底面部分は封止樹脂107
の底面からスタンドオフを有して露出して、外部端子1
08を構成している。なお、封止樹脂107の側面から
はアウターリード部104bが露出しているが、実質的
に封止樹脂107の側面と同一面である。As shown in FIG. 22, a semiconductor element 105 is mounted on a die pad section 102 of a lead frame, and the semiconductor element 105 and an inner lead section 104a of the lead section 104 are electrically connected by a thin metal wire 106. I have. Then, the semiconductor element 10 on the die pad portion 102
5. The outer periphery of the inner lead portion 104a is the sealing resin 107.
Is sealed. The bottom portion of the lead portion 104 (the inner lead portion 104a) is
Is exposed with a standoff from the bottom surface of the external terminal 1
08. Although the outer lead portion 104b is exposed from the side surface of the sealing resin 107, it is substantially the same as the side surface of the sealing resin 107.
【0009】次に従来の樹脂封止型半導体装置の製造方
法について説明する。Next, a method of manufacturing a conventional resin-encapsulated semiconductor device will be described.
【0010】まず図23に示すように、フレーム枠と、
そのフレーム枠内に、半導体素子が載置される矩形状で
あって、アップセットされたダイパッド部102と、ダ
イパッド部102の角部をその先端部で支持し、端部が
フレーム枠と接続した吊りリード部と、半導体素子を載
置した場合、その載置した半導体素子と金属細線等の接
続手段により電気的に接続するビーム状のリード部10
4とを有したリードフレームを用意する。[0010] First, as shown in FIG.
In the frame, the semiconductor device is mounted in a rectangular shape, and the upset die pad portion 102 and the corners of the die pad portion 102 are supported at their tip portions, and the ends are connected to the frame frame. When the semiconductor device is mounted on the suspension lead portion, the beam-shaped lead portion 10 electrically connected to the mounted semiconductor device by connecting means such as a thin metal wire.
4 is prepared.
【0011】そして図24に示すように、ダイパッド部
102上に銀ペースト等の接着剤により半導体素子10
5を搭載しボンディングする。Then, as shown in FIG. 24, the semiconductor element 10 is placed on the die pad 102 with an adhesive such as a silver paste.
5 is mounted and bonded.
【0012】次に図25に示すように、ダイパッド部1
02上に搭載された半導体素子105の表面の電極パッ
ド(図示せず)とリード部104のインナーリード部1
04aとを金属細線106により電気的に接続する。Next, as shown in FIG.
02 and the inner lead 1 of the lead 104 on the surface of the semiconductor element 105 mounted on the
04a is electrically connected with the thin metal wire 106.
【0013】次に図26に示すように、半導体素子10
5が搭載された状態のリードフレームの少なくともリー
ド部104の底面に封止シート109を密着させる。こ
の封止シート109はリード部104の底面に封止樹脂
が回り込まないように保護し、リード部104の底面を
露出させるための部材である。Next, as shown in FIG.
The sealing sheet 109 is brought into close contact with at least the bottom surface of the lead portion 104 of the lead frame in which 5 is mounted. The sealing sheet 109 is a member for protecting the sealing resin from flowing around the bottom surface of the lead portion 104 and exposing the bottom surface of the lead portion 104.
【0014】次に図27に示すように、リードフレーム
を金型内に載置し、金型によりリード部104を封止シ
ート109に対して押圧した状態でエポキシ系樹脂より
なる封止樹脂107を注入し、リードフレームの外囲と
してダイパッド部102、半導体素子105、リード部
104の上面領域と金属細線106の接続領域を封止す
る。図28には外囲を封止樹脂107で封止した状態を
示している。Next, as shown in FIG. 27, the lead frame is placed in a mold, and the lead portion 104 is pressed against the sealing sheet 109 by the mold. Is implanted to seal the upper surface area of the die pad portion 102, the semiconductor element 105, the lead portion 104, and the connection region of the thin metal wire 106 as the outer periphery of the lead frame. FIG. 28 shows a state where the outer periphery is sealed with a sealing resin 107.
【0015】次に図29に示すように、リードフレーム
のリード部104の底面に密着させていた封止シートを
ピールオフ等により除去する。Next, as shown in FIG. 29, the sealing sheet adhered to the bottom surface of the lead portion 104 of the lead frame is removed by peeling off or the like.
【0016】次に図30に示すように、リード部104
の切断部110に対して、金型による切断刃111でリ
ードカットを行う。Next, as shown in FIG.
Is cut with a cutting blade 111 using a die.
【0017】そして図31に示すように、リードフレー
ムのダイパッド部102上に半導体素子105が搭載さ
れ、その半導体素子105とリード部104のインナー
リード部104aとが金属細線106により電気的に接
続され、外囲が封止樹脂107により封止され、そして
そのリード部104(インナーリード部104a)の底
面部分は封止樹脂107の底面からスタンドオフを有し
て露出して、外部端子108を構成するとともに、封止
樹脂107の側面からはアウターリード部104bが露
出し、実質的に封止樹脂107の側面と同一面を構成し
た樹脂封止型半導体装置を得る。As shown in FIG. 31, a semiconductor element 105 is mounted on a die pad section 102 of a lead frame, and the semiconductor element 105 and an inner lead section 104a of the lead section 104 are electrically connected by a thin metal wire 106. The outer periphery is sealed with a sealing resin 107, and the bottom surface of the lead portion 104 (inner lead portion 104 a) is exposed with a standoff from the bottom surface of the sealing resin 107 to form an external terminal 108. At the same time, the outer lead portion 104b is exposed from the side surface of the sealing resin 107, and a resin-sealed semiconductor device having substantially the same surface as the side surface of the sealing resin 107 is obtained.
【0018】[0018]
【発明が解決しようとする課題】しかしながら従来のリ
ードフレームとそれを用いた樹脂封止型半導体装置の製
造方法では、特にリードフレームに対して樹脂封止した
後は、金型の切断刃によるリードカットを行っていたた
め、その切断工程において、リードカット時の衝撃によ
りリード部の隣接する封止樹脂の部分に樹脂カケ、クラ
ック等が起こり、またリード部が封止樹脂部分から脱落
するといった課題があった。従来の樹脂封止型半導体装
置の構造は、リード部がその上面だけを封止樹脂で覆わ
れたいわゆる片面封止構造であるため、金型の切断刃に
よるリードカットでは、その衝撃いかんによって、リー
ド部、封止樹脂部の破損が発生しやすい状況であった。However, in a conventional lead frame and a method of manufacturing a resin-encapsulated semiconductor device using the same, particularly after the lead frame is resin-encapsulated, the lead is cut by a cutting blade of a mold. Since the cutting was performed, in the cutting process, there were problems such as resin chips and cracks occurring in the sealing resin portion adjacent to the lead portion due to the impact at the time of lead cutting, and the lead portion falling off from the sealing resin portion. there were. Since the structure of the conventional resin-encapsulated semiconductor device is a so-called single-sided encapsulation structure in which only the upper surface of the lead portion is covered with an encapsulating resin, the lead cutting by the cutting blade of the mold causes an The lead portion and the sealing resin portion were easily damaged.
【0019】さらに近年、大型のリードフレーム基板上
に半導体素子を搭載し、金属細線で接続した後、外囲を
全体で封止する一括成形が進んでいるが、この一括成形
では、リードフレーム上面全体を封止樹脂が覆った構成
の場合は、リードカットだけでなく、封止樹脂部もカッ
トしなければならないため、金型の切断刃によるカット
手段では対応できないという課題が顕在化してきてい
る。Furthermore, in recent years, a semiconductor device has been mounted on a large-sized lead frame substrate, connected with thin metal wires, and then encapsulation has been progressing in which the outer periphery is entirely sealed. In the case where the entire structure is covered with the sealing resin, not only the lead cut but also the sealing resin portion must be cut, and thus the problem that the cutting means using the cutting blade of the mold cannot cope with the problem has become apparent. .
【0020】本発明は前記した従来の課題および今後の
樹脂封止型半導体装置の製造工程の動向に対応できる樹
脂封止型半導体装置の製造方法を提供するものであり、
生産性を高め、リードフレーム、基板から樹脂封止型半
導体装置を分離する際の切断工程でリード部、封止樹脂
部に欠陥、欠損の発生しない樹脂封止型半導体装置の製
造方法を提供するものである。The present invention provides a method of manufacturing a resin-encapsulated semiconductor device which can cope with the above-mentioned conventional problems and future trends in the manufacturing process of the resin-encapsulated semiconductor device.
Provided is a method for manufacturing a resin-encapsulated semiconductor device that improves productivity and does not cause defects or defects in a lead portion and an encapsulation resin portion in a cutting step when separating the resin-encapsulated semiconductor device from a lead frame and a substrate. Things.
【0021】[0021]
【課題を解決するための手段】前記従来の課題を解決す
るために、本発明の樹脂封止型半導体装置の製造方法
は、金属板よりなるフレーム本体と、前記フレーム本体
の略中央領域内に配設された半導体素子搭載用のダイパ
ッド部と、先端部で前記ダイパッド部を支持し、他端部
でフレーム枠と接続した吊りリード部と、少なくとも先
端部が前記ダイパッド部に向かって延在し、他端部が前
記フレーム枠と接続したリード部と、前記リード部のフ
レーム枠と接続した領域近傍に設けられた切断部とより
なるリードフレームを用意する工程と、前記用意したリ
ードフレームの前記ダイパッド部上に半導体素子を搭載
する工程と、前記ダイパッド部上に搭載した前記半導体
素子の主面上の電極パッドと、前記リードフレームのリ
ード部の各上面とを金属細線により接続する工程と、前
記リードフレームの裏面側の少なくともリード部の各底
面に金属膜を形成する工程と、少なくとも前記リード部
の端部に押圧力を付加し、前記リード部の底面を前記金
属膜に押圧した状態で、前記リードフレームの上面側と
して前記半導体素子、ダイパッド部、金属細線、および
前記リード部の底面と前記リード部のフレーム枠と接続
した領域近傍に設けられた切断部を除く領域を封止樹脂
により樹脂封止する工程と、前記リードの切断部上面に
対してブレードによる切削を行い、前記切断部下面に形
成している金属膜と共に切断部を切断して樹脂封止型半
導体装置を分離する工程と、前記分離した樹脂封止型半
導体装置の底面に形成された金属膜を除去して樹脂封止
型半導体装置を得る工程とよりなる樹脂封止型半導体装
置の製造方法である。In order to solve the above-mentioned conventional problems, a method of manufacturing a resin-encapsulated semiconductor device according to the present invention comprises a frame main body made of a metal plate and a substantially central region of the frame main body. A die pad portion for mounting the semiconductor element, a suspension lead portion supporting the die pad portion at the tip end, and connected to the frame at the other end portion, at least the tip end portion extends toward the die pad portion. A step of preparing a lead frame having a lead portion having the other end connected to the frame frame, and a cut portion provided in the vicinity of a region of the lead portion connected to the frame frame; and A step of mounting a semiconductor element on a die pad portion; and an electrode pad on a main surface of the semiconductor element mounted on the die pad portion, and each upper surface of a lead portion of the lead frame. Connecting with a thin metal wire, forming a metal film on at least each bottom surface of the lead portion on the back surface side of the lead frame, applying a pressing force to at least the end of the lead portion, and applying a pressing force to the bottom surface of the lead portion. In the state of being pressed against the metal film, the semiconductor element, the die pad portion, the fine metal wire, and the cutting portion provided near the region where the bottom surface of the lead portion is connected to the frame of the lead portion as the upper surface side of the lead frame. A step of sealing the area except for the resin with a sealing resin, cutting the upper surface of the cut portion of the lead with a blade, cutting the cut portion together with the metal film formed on the lower surface of the cut portion, and sealing the resin. A step of separating the stop-type semiconductor device, and a step of removing the metal film formed on the bottom surface of the separated resin-sealed semiconductor device to obtain a resin-sealed semiconductor device. A method of manufacturing sealed semiconductor devices.
【0022】また本発明の樹脂封止型半導体装置の製造
方法は、金属板よりなるフレーム本体と、前記フレーム
本体の略中央領域内に配設された半導体素子搭載用のダ
イパッド部と、先端部で前記ダイパッド部を支持し、他
端部でフレーム枠と接続した吊りリード部と、少なくと
も先端部が前記ダイパッド部に向かって延在し、他端部
が前記フレーム枠と接続したリード部と、前記リード部
のフレーム枠と接続した領域近傍に設けられた切断部と
よりなるリードフレームを用意する工程と、前記用意し
たリードフレームの前記ダイパッド部上に半導体素子を
搭載する工程と、前記ダイパッド部上に搭載した前記半
導体素子の主面上の電極パッドと、前記リードフレーム
のリード部の各上面とを金属細線により接続する工程
と、前記リードフレームの裏面側の少なくともリード部
の各底面に封止シートを密着させる工程と、少なくとも
前記リード部の端部に押圧力を付加し、前記リード部の
底面を前記封止シートに押圧した状態で、前記リードフ
レームの上面側として前記半導体素子、ダイパッド部、
金属細線、および前記リード部の底面と前記リード部の
フレーム枠と接続した領域近傍に設けられた切断部を除
く領域を封止樹脂により樹脂封止する工程と、前記封止
シートを除去する工程と、前記リードフレームの裏面側
の少なくともリード部の各底面に金属膜を形成する工程
と、前記リード部の切断部上面に対してブレードによる
切削を行い、前記切断部下面に形成している金属膜と共
に切断部を切断して樹脂封止型半導体装置を分離する工
程と、前記分離した樹脂封止型半導体装置の底面に形成
された金属膜を除去して樹脂封止型半導体装置を得る工
程とよりなる樹脂封止型半導体装置の製造方法である。Further, the method of manufacturing a resin-encapsulated semiconductor device according to the present invention is characterized in that a frame main body made of a metal plate, a die pad portion for mounting a semiconductor element disposed in a substantially central region of the frame main body, A supporting lead portion supporting the die pad portion at the other end and connected to the frame frame, at least a leading end portion extends toward the die pad portion, and a lead portion connected at the other end portion to the frame frame, A step of preparing a lead frame including a cut section provided in the vicinity of a region connected to a frame of the lead section; a step of mounting a semiconductor element on the die pad section of the prepared lead frame; Connecting the electrode pads on the main surface of the semiconductor element mounted thereon to the respective upper surfaces of the lead portions of the lead frame by thin metal wires; A step of bringing a sealing sheet into close contact with at least each bottom surface of the lead portion on the back surface side of the program, and applying a pressing force to at least an end of the lead portion, and pressing the bottom surface of the lead portion against the sealing sheet. The semiconductor element as a top surface side of the lead frame, a die pad portion,
A step of resin-sealing a metal thin wire and a region excluding a cut portion provided in the vicinity of a bottom surface of the lead part and a frame connected to the frame of the lead part with a sealing resin, and a step of removing the sealing sheet Forming a metal film on at least each bottom surface of the lead portion on the back surface side of the lead frame; cutting the upper surface of the cut portion of the lead portion with a blade to form a metal film on the lower surface of the cut portion A step of cutting the cut portion together with the film to separate the resin-encapsulated semiconductor device, and a step of removing the metal film formed on the bottom surface of the separated resin-encapsulated semiconductor device to obtain a resin-encapsulated semiconductor device And a method for manufacturing a resin-sealed semiconductor device.
【0023】そして具体的には、リードフレームの裏面
側の少なくともリード部の各底面に金属膜を形成する工
程では、金属膜として金属シートを密着して金属膜を形
成する工程である樹脂封止型半導体装置の製造方法であ
る。More specifically, the step of forming a metal film on at least each bottom surface of the lead portion on the back side of the lead frame is a step of forming a metal film by closely attaching a metal sheet as the metal film. This is a method for manufacturing a semiconductor device.
【0024】また、リードフレームの裏面側の少なくと
もリード部の各底面に金属膜を形成する工程では、金属
膜はリードフレームと同素材の金属膜を形成する樹脂封
止型半導体装置の製造方法である。In the step of forming a metal film on at least each bottom surface of the lead portion on the back surface side of the lead frame, the metal film is formed by a method of manufacturing a resin-encapsulated semiconductor device in which a metal film of the same material as the lead frame is formed. is there.
【0025】また、リードフレームの裏面側の少なくと
もリード部の各底面に金属膜を形成する工程では、金属
膜はリードフレームの素材よりも硬い金属よりなる金属
膜を形成する樹脂封止型半導体装置の製造方法である。In the step of forming a metal film on at least each bottom surface of the lead portion on the back surface side of the lead frame, the metal film is a resin-encapsulated semiconductor device that forms a metal film made of a metal harder than the material of the lead frame. It is a manufacturing method of.
【0026】前記構成の通り、本発明の樹脂封止型半導
体装置の製造方法は、樹脂封止した後のリードフレーム
に対して、リード切断して樹脂封止型半導体装置を分離
する際、金属膜を少なくともリード部の底面に密着さ
せ、その状態で樹脂封止し、次いでリードカットしてい
るため、金属膜とともにブレード切断することで、共切
りするため、リードの切断した端面へのカエリ部の発生
を防止できるものである。この場合、特に金属膜の材質
がリード部(リードフレーム)よりも硬い材質としてい
るので、切断したリード部の端面にはカエリ部は発生し
ない。また、金属膜は金属シートであるため、封止工程
で使用でき、リード部に対して片面封止が可能であり、
金属シートが樹脂よりなるものではないため、収縮が少
なく、封止した樹脂とリード部との境界への溝の発生を
防止でき、信頼性の高い樹脂封止型半導体装置を実現で
きる。また、金属膜はリードフレームと同素材より構成
することで、樹脂封止の際に加わる熱での熱膨張の影響
をなくし、信頼性の高い樹脂封止と製品を実現できるも
のである。As described above, in the method of manufacturing a resin-sealed semiconductor device according to the present invention, when a lead frame is cut to separate the resin-sealed semiconductor device from a metal, The film is brought into close contact with at least the bottom surface of the lead portion, resin-sealed in that state, and then the lead is cut. Can be prevented from occurring. In this case, since the material of the metal film is particularly harder than the lead portion (lead frame), no burrs are generated on the end surface of the cut lead portion. In addition, since the metal film is a metal sheet, it can be used in a sealing step, and one-side sealing can be performed on a lead portion.
Since the metal sheet is not made of resin, shrinkage is small, generation of a groove at the boundary between the sealed resin and the lead portion can be prevented, and a highly reliable resin-encapsulated semiconductor device can be realized. In addition, since the metal film is made of the same material as the lead frame, the effect of thermal expansion due to heat applied at the time of resin sealing is eliminated, and highly reliable resin sealing and a product can be realized.
【0027】また、樹脂封止前には樹脂製の封止シート
をリード部の底面に密着させ、その後で樹脂封止するの
で、リード底面への樹脂バリの発生を防止し、そして樹
脂封止後には金属膜をリード部の底面に密着させ、その
状態でリードカットしているため、金属膜とともにブレ
ード切断することで、共切りするため、リードの切断し
た端面へのカエリ部の発生を防止できるものである。す
なわち工程内容によってリード部の底面に付加する部材
(封止シート、金属膜)をそれぞれ変えることができ、
選択の幅を有した製造方法を実現することができる。Before the resin sealing, a sealing sheet made of resin is brought into close contact with the bottom surface of the lead portion, and thereafter the resin sealing is performed. Later, the metal film is adhered to the bottom surface of the lead part, and the lead is cut in that state, so the blade is cut along with the metal film, so that it cuts together, preventing the occurrence of burrs on the cut end surface of the lead You can do it. That is, the members (sealing sheet, metal film) added to the bottom surface of the lead portion can be changed depending on the contents of the process,
A manufacturing method having a range of choice can be realized.
【0028】[0028]
【発明の実施の形態】以下、本発明のリードフレームと
それを用いた樹脂封止型半導体装置の製造方法の一実施
形態について図面を参照しながら説明する。DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS An embodiment of a lead frame according to the present invention and a method for manufacturing a resin-encapsulated semiconductor device using the same will be described below with reference to the drawings.
【0029】まず本実施形態のリードフレームについて
説明する。First, the lead frame of this embodiment will be described.
【0030】図1は本実施形態のリードフレームの一部
分を示す図であり、図1(a)は平面図であり、図1
(b)は図1(a)のC−C1箇所の断面図である。FIG. 1 is a view showing a part of the lead frame of the present embodiment, and FIG. 1 (a) is a plan view, and FIG.
FIG. 2B is a cross-sectional view taken along a line C-C1 in FIG.
【0031】図1に示すように、本実施形態のリードフ
レームは、フレーム枠1と、そのフレーム枠1内に、半
導体素子が載置される矩形状のダイパッド部2と、ダイ
パッド部2の角部をその先端部で支持し、端部がフレー
ム枠1と接続した吊りリード部3と、半導体素子を載置
した場合、その載置した半導体素子と金属細線等の接続
手段により電気的に接続するビーム状のリード部4とよ
り構成されている。そしてリード部4は、封止樹脂で封
止された際、封止樹脂部に埋設される部分はインナーリ
ード部4aを構成し、封止樹脂部より露出する部分はア
ウターリード部4bを構成するものであり、インナーリ
ード部4aとアウターリード部4bとは、一体で連続し
て設けられている。図1において、破線で示した領域
は、半導体素子を搭載して樹脂封止型半導体装置を構成
する場合、封止樹脂で封止する領域を示しており、また
一点鎖線で示した部分は、半導体素子を搭載して樹脂封
止し、樹脂封止型半導体装置を構成した後、リード部4
(アウターリード部4b)を切断する切断部5を示して
いる。As shown in FIG. 1, a lead frame according to the present embodiment has a frame 1, a rectangular die pad 2 on which a semiconductor element is mounted, and a corner of the die pad 2. When the semiconductor element is mounted on the suspension lead 3 whose end is connected to the frame frame 1 and the semiconductor element is mounted, the semiconductor chip is electrically connected to the mounted semiconductor element by connecting means such as a thin metal wire. And a beam-shaped lead portion 4. When the lead portion 4 is sealed with the sealing resin, a portion embedded in the sealing resin portion constitutes an inner lead portion 4a, and a portion exposed from the sealing resin portion constitutes an outer lead portion 4b. The inner lead portion 4a and the outer lead portion 4b are provided integrally and continuously. In FIG. 1, a region indicated by a broken line indicates a region to be sealed with a sealing resin when a semiconductor element is mounted to form a resin-encapsulated semiconductor device, and a portion indicated by a dashed line indicates After the semiconductor element is mounted and resin-sealed to form a resin-sealed semiconductor device, the lead 4
The cutting portion 5 that cuts the (outer lead portion 4b) is shown.
【0032】また、本実施形態のリードフレームは、図
1(b)に示すように、ダイパッド部2は吊りリード部
3によって支持されているが、その吊りリード部3に設
けたディプレス部によってダイパッド部2がリード部4
上面に対して上方に配置されるよう、アップセットされ
ているものである。In the lead frame of this embodiment, as shown in FIG. 1B, the die pad portion 2 is supported by the suspension lead portion 3, and the die pad portion is provided by the depress portion provided on the suspension lead portion 3. Die pad 2 is lead 4
It is upset so as to be disposed above the upper surface.
【0033】なお、リードフレームは、図1に示した構
成よりなるパターンが1つではなく、複数個、左右、上
下に連続して配列されるものである。The lead frame is not a single pattern having the structure shown in FIG. 1, but a plurality of patterns arranged continuously in the left, right, up and down directions.
【0034】次に本実施形態のリードフレームを用いた
樹脂封止型半導体装置について説明する。図2は、図1
に示したリードフレームを用いた樹脂封止型半導体装置
を示す図であり、図2(a)は、内部構成を破線で示し
た透視平面図であり、図2(b)は図2(a)のD−D
1箇所の断面図である。Next, a resin-sealed semiconductor device using the lead frame of the present embodiment will be described. FIG. 2 shows FIG.
2A is a diagram showing a resin-encapsulated semiconductor device using the lead frame shown in FIG. 2A, FIG. 2A is a perspective plan view showing the internal configuration by a broken line, and FIG. ) DD
It is sectional drawing of one place.
【0035】図2に示すように、リードフレームのダイ
パッド部2上に半導体素子6が搭載され、その半導体素
子6とリード部4のインナーリード部4aとが金属細線
7により電気的に接続されている。そしてダイパッド部
2上の半導体素子6、インナーリード部4aの外囲は封
止樹脂8により封止されている。そしてそのリード部4
(インナーリード部4a)の底面部分は封止樹脂8の底
面からスタンドオフを有して露出して、外部端子9を構
成している。なお、封止樹脂8の側面からはアウターリ
ード部4bが露出しているが、実質的に封止樹脂8の側
面と同一面である。As shown in FIG. 2, a semiconductor element 6 is mounted on the die pad section 2 of the lead frame, and the semiconductor element 6 and the inner lead section 4a of the lead section 4 are electrically connected by a thin metal wire 7. I have. The outer periphery of the semiconductor element 6 and the inner lead portion 4a on the die pad portion 2 is sealed with a sealing resin 8. And the lead part 4
The bottom portion of the (inner lead portion 4 a) is exposed with a standoff from the bottom surface of the sealing resin 8 to form an external terminal 9. Although the outer lead portions 4b are exposed from the side surfaces of the sealing resin 8, they are substantially the same as the side surfaces of the sealing resin 8.
【0036】次に本実施形態の樹脂封止型半導体装置の
製造方法について説明する。Next, a method of manufacturing the resin-encapsulated semiconductor device of this embodiment will be described.
【0037】まず図3に示すように、フレーム枠と、そ
のフレーム枠内に、半導体素子が載置される矩形状であ
って、アップセットされたダイパッド部2と、ダイパッ
ド部2の角部をその先端部で支持し、端部がフレーム枠
と接続した吊りリード部と、半導体素子を載置した場
合、その載置した半導体素子と金属細線等の接続手段に
より電気的に接続するビーム状のリード部4とを有した
リードフレームを用意する。First, as shown in FIG. 3, a frame frame, a die pad portion 2 having a rectangular shape on which a semiconductor element is mounted, and an upset die pad portion 2 and a corner portion of the die pad portion 2 are placed in the frame frame. A suspension lead supported at its tip and connected to the frame frame at the end, and a beam-shaped beam electrically connected to the mounted semiconductor element by a connecting means such as a thin metal wire when the semiconductor element is mounted. A lead frame having the lead portion 4 is prepared.
【0038】そして図4に示すように、ダイパッド部2
上に銀ペースト等の接着剤により半導体素子6を搭載し
ボンディングする。Then, as shown in FIG.
The semiconductor element 6 is mounted thereon with an adhesive such as a silver paste and bonded.
【0039】次に図5に示すように、ダイパッド部2上
に搭載された半導体素子6の表面の電極パッド(図示せ
ず)とリード部4のインナーリード部4aとを金属細線
7により電気的に接続する。Next, as shown in FIG. 5, an electrode pad (not shown) on the surface of the semiconductor element 6 mounted on the die pad portion 2 and an inner lead portion 4a of the lead portion 4 are electrically connected by a thin metal wire 7. Connect to
【0040】次に図6に示すように、半導体素子6が搭
載された状態のリードフレームの少なくともリード部4
の底面に封止シート10を密着させる。この封止シート
10はリード部4の底面に封止樹脂が回り込まないよう
に保護し、リード部4の底面を露出させるための部材で
ある。Next, as shown in FIG. 6, at least the lead portion 4 of the lead frame with the semiconductor element 6 mounted thereon.
The sealing sheet 10 is brought into close contact with the bottom surface of. The sealing sheet 10 is a member for protecting the sealing resin from flowing around the bottom surface of the lead portion 4 and exposing the bottom surface of the lead portion 4.
【0041】次に図7に示すように、リードフレームを
金型内に載置し、金型によりリード部4を封止シート1
0に対して押圧した状態でエポキシ系樹脂よりなる封止
樹脂8を注入し、リードフレームの外囲としてダイパッ
ド部2、半導体素子6、リード部4の上面領域と金属細
線7の接続領域を封止する。図8には外囲を封止樹脂8
で封止した状態を示している。Next, as shown in FIG. 7, the lead frame is placed in a mold, and the lead 4 is sealed with the sealing sheet 1 by the mold.
A sealing resin 8 made of an epoxy resin is injected in a state where the sealing member 8 is pressed against the upper surface of the die pad portion 2, the semiconductor element 6, and the connection region of the upper surface region of the lead portion 4 and the connection region of the thin metal wire 7. Stop. In FIG.
Shows the state sealed with.
【0042】次に図9に示すように、リードフレームの
リード部4の底面に密着させていた封止シート10をピ
ールオフ等により除去する。Next, as shown in FIG. 9, the sealing sheet 10 adhered to the bottom surface of the lead portion 4 of the lead frame is removed by peel-off or the like.
【0043】次に図10に示すように、リード部4の切
断部5に対して、回転ブレード11でリードカットを行
う。Next, as shown in FIG. 10, the lead 5 is cut on the cut portion 5 of the lead portion 4 by the rotating blade 11.
【0044】そして図11に示すように、リードフレー
ムのダイパッド部2上に半導体素子6が搭載され、その
半導体素子6とリード部4のインナーリード部4aとが
金属細線7により電気的に接続され、外囲が封止樹脂8
により封止され、そしてそのリード部4(インナーリー
ド部4a)の底面部分は封止樹脂8の底面からスタンド
オフを有して露出して、外部端子9を構成するととも
に、封止樹脂8の側面からはアウターリード部4bが露
出し、実質的に封止樹脂8の側面と同一面を構成した樹
脂封止型半導体装置を得るものである。As shown in FIG. 11, the semiconductor element 6 is mounted on the die pad 2 of the lead frame, and the semiconductor element 6 and the inner lead 4a of the lead 4 are electrically connected by the thin metal wire 7. , The enclosing resin 8
And the bottom surface of the lead portion 4 (inner lead portion 4a) is exposed with a standoff from the bottom surface of the sealing resin 8 to form the external terminal 9 and to form the external terminal 9. The outer lead portion 4b is exposed from the side surface, and a resin-sealed semiconductor device having substantially the same surface as the side surface of the sealing resin 8 is obtained.
【0045】以上、本実施形態のリードフレームを用い
て樹脂封止型半導体装置を製造する際、樹脂封止後のリ
ードカット工程では、金型の切断刃に代えて、基板ダイ
シング等で用いるような回転ブレード11で切削して切
断することにより、切断されるリード部4(切断部5)
に対しては、切断時の押圧力による衝撃が印加されず、
リード部4、そのリード部4近傍の封止樹脂8に対する
ダメージを解消してリードカットすることができる。そ
のため、リード部、封止樹脂部に欠陥、欠損の発生をな
くして信頼性の高い樹脂封止型半導体装置を得ることが
できる。As described above, when manufacturing a resin-sealed semiconductor device using the lead frame of the present embodiment, in the lead cutting step after resin sealing, the semiconductor device is used for substrate dicing or the like instead of the cutting blade of the mold. Lead portion 4 (cut portion 5) that is cut by cutting with a simple rotating blade 11
, The impact due to the pressing force at the time of cutting is not applied,
The lead portion 4 and the sealing resin 8 in the vicinity of the lead portion 4 can be damaged and the lead can be cut. Therefore, a highly reliable resin-encapsulated semiconductor device can be obtained by eliminating defects and defects in the lead portion and the encapsulation resin portion.
【0046】次に本実施形態の樹脂封止型半導体装置の
製造方法で得られた樹脂封止型半導体装置に起こり得る
別の課題について説明する。Next, another problem which may occur in the resin-encapsulated semiconductor device obtained by the method of manufacturing a resin-encapsulated semiconductor device of this embodiment will be described.
【0047】図12は本実施形態の樹脂封止型半導体装
置の課題を示す断面図である。図12に示す樹脂封止型
半導体装置は、基本構成は前記した図2に示した樹脂封
止型半導体装置と同様であるが、製造過程において、回
転ブレードでリード部4の切断部5を切削してリードカ
ットしているため、回転ブレードによる回転力とリード
部4の素材である金属材料との関係により、切断したリ
ード部4のアウターリード部4bの面に金属材によるカ
エリ部12(金属バリ)が形成されてしまう。このカエ
リ部12により、樹脂封止型半導体装置を基板実装する
際、実装不良を誘発したり、ハンダ接合時のハンダブリ
ッジを起こしたりする可能性があり、カエリ部12が発
生しないようリードカット、または発生したカエリ部1
2を除去する必要性が生じている。なお、図12では、
カエリ部12は、リード部4の底面側に示しているが、
リード部4の側面側、およびリード部4の上面側にも発
生する場合もある。FIG. 12 is a sectional view showing the problem of the resin-encapsulated semiconductor device of this embodiment. The resin-encapsulated semiconductor device shown in FIG. 12 has the same basic configuration as that of the resin-encapsulated semiconductor device shown in FIG. 2, except that the cutting portion 5 of the lead portion 4 is cut by a rotating blade in the manufacturing process. The lead portion 4 is formed by cutting the lead portion 4 of the cut lead portion 4 with the burrs 12 (metal) on the surface of the outer lead portion 4b of the cut lead portion 4 due to the relationship between the rotating force of the rotating blade and the metal material that is the material of the lead portion 4. Burrs) are formed. When the resin-encapsulated semiconductor device is mounted on a substrate, the burrs 12 may cause a mounting failure or cause a solder bridge at the time of solder bonding. Or the burrs that occurred 1
2 has to be removed. In FIG. 12,
The burrs 12 are shown on the bottom side of the lead 4,
It may also occur on the side surface of the lead portion 4 and on the upper surface side of the lead portion 4.
【0048】通常、カエリ部12の発生要因としては、
リード切断で用いる回転ブレードの切削によって、リー
ド部4を構成している材料である金属材(例えばCu
材)がはね上げられ、金属材の一部が薄膜状に突出し、
カエリ部12として切断されたリード部4の端面に残留
するものと考えられる。Normally, factors that cause the burrs 12 include:
The metal material (for example, Cu
Material) is flipped up, and a part of the metal material protrudes in the form of a thin film,
It is considered that the burrs 12 remain on the end surface of the cut lead 4.
【0049】以下、本発明の樹脂封止型半導体装置の製
造方法について、主としてリード部4の側面側と底面側
とに発生するカエリ部12の除去、またはそれ自体の発
生を防止する実施形態について、課題解決における実施
形態として図面を参照しながら説明する。Hereinafter, a method of manufacturing a resin-encapsulated semiconductor device according to the present invention will be described with reference to an embodiment in which a flash portion 12 generated mainly on a side surface and a bottom surface side of a lead portion 4 is prevented or generation of the flash portion 12 itself is prevented. Embodiments for solving the problems will be described with reference to the drawings.
【0050】図13〜図20は、本実施形態の樹脂封止
型半導体装置の製造方法を示す工程ごとの断面図であ
る。なお、ここで用いるリードフレームは、図1に示し
た構成と同様の構成を有するものである。FIGS. 13 to 20 are cross-sectional views showing the steps of a method for manufacturing the resin-encapsulated semiconductor device of this embodiment. Note that the lead frame used here has the same configuration as the configuration shown in FIG.
【0051】まず図13に示すように、フレーム枠と、
そのフレーム枠内に、半導体素子が載置される矩形状で
あって、アップセットされたダイパッド部2と、ダイパ
ッド部2の角部をその先端部で支持し、端部がフレーム
枠と接続した吊りリード部と、半導体素子を載置した場
合、その載置した半導体素子と金属細線等の接続手段に
より電気的に接続するビーム状のリード部4とを有した
リードフレームを用意する。First, as shown in FIG.
In the frame, the die pad 2 having a rectangular shape on which the semiconductor element is mounted, and the upset die pad 2 and the corners of the die pad 2 were supported at the tip end, and the end was connected to the frame. When a semiconductor element is mounted, a lead frame having a suspended lead part and a beam-shaped lead part 4 electrically connected to the mounted semiconductor element by a connecting means such as a thin metal wire is prepared.
【0052】そして図14に示すように、ダイパッド部
2上に銀ペースト等の接着剤により半導体素子6を搭載
しボンディングする。Then, as shown in FIG. 14, the semiconductor element 6 is mounted on the die pad portion 2 with an adhesive such as a silver paste and bonded.
【0053】次に図15に示すように、ダイパッド部2
上に搭載された半導体素子6の表面の電極パッド(図示
せず)とリード部4のインナーリード部4aとを金属細
線7により電気的に接続する。Next, as shown in FIG.
The electrode pads (not shown) on the surface of the semiconductor element 6 mounted thereon are electrically connected to the inner lead portions 4 a of the lead portions 4 by the thin metal wires 7.
【0054】次に図16に示すように、半導体素子6が
搭載された状態のリードフレームの少なくともリード部
4の底面に金属シート13を密着させる。この金属シー
ト13はリード部4の底面に封止樹脂が回り込まないよ
うに保護し、リード部4の底面を露出させるための部材
であり、さらに樹脂封止の際の加熱による熱膨張の影響
をなくすため、金属シート13はリードフレームと同素
材の材料からなるものである。したがってリードフレー
ムが銅(Cu)をベース金属としている場合は、銅シー
トを密着させるものである。また、リードフレームと同
素材とせず、リードフレームよりも硬い材質から構成し
た金属シートでもよい。この場合は硬さがリードフレー
ムよりも硬く、膨張係数はリードフレームと近似した材
料を選択する。また金属シート13はその表面に接着剤
層を有したものを用いてリード部4に密着させてもよい
が、樹脂封止型半導体装置を構成した後は、金属シート
13を容易に除去できるような剥離容易な接着剤層を設
けた金属シートを用いる。Next, as shown in FIG. 16, a metal sheet 13 is brought into close contact with at least the bottom surface of the lead portion 4 of the lead frame on which the semiconductor element 6 is mounted. The metal sheet 13 is a member for protecting the sealing resin from wrapping around the bottom surface of the lead portion 4 and exposing the bottom surface of the lead portion 4. To eliminate this, the metal sheet 13 is made of the same material as the lead frame. Therefore, when the lead frame is made of copper (Cu) as a base metal, a copper sheet is adhered. Also, a metal sheet made of a material harder than the lead frame may be used instead of the same material as the lead frame. In this case, a material whose hardness is harder than that of the lead frame and whose expansion coefficient is similar to that of the lead frame is selected. The metal sheet 13 may be adhered to the lead portion 4 by using an adhesive layer on its surface. However, after forming the resin-encapsulated semiconductor device, the metal sheet 13 is easily removed. A metal sheet provided with an easily peelable adhesive layer is used.
【0055】次に図17に示すように、リードフレーム
を金型内に載置し、金型によりリード部4を金属シート
13に対して押圧した状態でエポキシ系樹脂よるなる封
止樹脂8を注入し、リードフレームの外囲としてダイパ
ッド部2、半導体素子6、リード部4の上面領域と金属
細線7の接続領域を封止する。図18には外囲を封止樹
脂8で封止した状態を示している。Next, as shown in FIG. 17, the lead frame is placed in a mold, and the lead resin 4 is pressed against the metal sheet 13 by the mold to remove the sealing resin 8 made of epoxy resin. Injection is performed to seal the die pad portion 2, the semiconductor element 6, the upper surface region of the lead portion 4, and the connection region between the fine metal wires 7 as the outer periphery of the lead frame. FIG. 18 shows a state in which the outer periphery is sealed with a sealing resin 8.
【0056】次に図19に示すように、金属シート13
を介した状態でリード部4の切断部5に対して、回転ブ
レード11でリードカットを行う。このカットではリー
ド部に対してフルカットを行い、金属シート13に対し
ては全切断は行わない。Next, as shown in FIG.
The lead blade is cut by the rotating blade 11 on the cutting part 5 of the lead part 4 in the state of passing through. In this cutting, the full cutting is performed on the lead portion, and the entire cutting is not performed on the metal sheet 13.
【0057】そして図20に示すように、リード部4の
底面に密着させていた金属シートをピールオフ等の剥離
手段で除去することにより、リードフレームのダイパッ
ド部2上に半導体素子6が搭載され、その半導体素子6
とリード部4のインナーリード部4aとが金属細線7に
より電気的に接続され、外囲が封止樹脂8により封止さ
れ、そしてそのリード部4(インナーリード部4a)の
底面部分は封止樹脂8の底面から、微量分突出(スタン
ドオフを有して)して露出して、外部端子9を構成する
とともに、封止樹脂8の側面からはアウターリード部4
bが露出し、実質的に封止樹脂8の側面と同一面を構成
した樹脂封止型半導体装置を得るものである。As shown in FIG. 20, the semiconductor element 6 is mounted on the die pad portion 2 of the lead frame by removing the metal sheet adhered to the bottom surface of the lead portion 4 by peeling means such as peel-off. The semiconductor element 6
And the inner lead portion 4a of the lead portion 4 are electrically connected by the thin metal wire 7, the outer periphery is sealed by the sealing resin 8, and the bottom portion of the lead portion 4 (the inner lead portion 4a) is sealed. From the bottom surface of the resin 8, a small amount of protrusion (with a stand-off) is exposed to form an external terminal 9, and the outer lead portion 4 is formed from the side surface of the sealing resin 8.
b is exposed and a resin-sealed semiconductor device having substantially the same surface as the side surface of the sealing resin 8 is obtained.
【0058】本実施形態の樹脂封止型半導体装置の製造
方法は、金属膜を少なくともリード部の底面に密着さ
せ、その状態で樹脂封止し、次いでリードカットしてい
るため、金属膜とともにブレード切断することで、共切
りするため、リード部の切断した端面へのカエリ部の発
生を防止できるものである。この場合、特に金属膜の材
質がリード部(リードフレーム)よりも硬い材質として
いるので、切断したリード部の端面にはカエリ部は発生
しない。また、金属膜は金属シートであるため、封止工
程で使用でき、リード部に対して片面封止が可能であ
り、金属シートが樹脂よりなるものではないため、収縮
が少なく、封止した樹脂とリード部との境界への溝の発
生を防止でき、信頼性の高い樹脂封止型半導体装置を実
現できる。また、金属膜はリードフレームと同素材より
構成することで、樹脂封止の際に加わる熱での熱膨張の
影響をなくし、信頼性の高い樹脂封止と製品を実現でき
るものである。In the method of manufacturing the resin-encapsulated semiconductor device according to the present embodiment, the metal film is brought into close contact with at least the bottom surface of the lead portion, the resin is sealed in that state, and then the lead is cut. By cutting, it is possible to prevent the occurrence of burrs on the cut end surface of the lead portion because the cutting is performed. In this case, since the material of the metal film is particularly harder than the lead portion (lead frame), no burrs are generated on the end surface of the cut lead portion. In addition, since the metal film is a metal sheet, it can be used in a sealing step, can be sealed on one side with respect to the lead portion, and since the metal sheet is not made of a resin, there is little shrinkage and the sealed resin The formation of a groove at the boundary between the lead and the lead portion can be prevented, and a highly reliable resin-encapsulated semiconductor device can be realized. In addition, since the metal film is made of the same material as the lead frame, the effect of thermal expansion due to heat applied at the time of resin sealing is eliminated, and highly reliable resin sealing and a product can be realized.
【0059】以上、本実施形態では、リード切断して樹
脂封止型半導体装置を分離する際、テープ状の金属膜を
形成したリード部の切断部に対して、ブレードによりフ
ルカットすることにより、リード部の切断した端面部分
へのカエリ部の発生を防止することができる。すなわ
ち、金属膜(金属シート)とともにリード部を共切りす
ることにより、リード部端面への垂直位置への回転ブレ
ードの切削によるリード部材料である金属材のはね上が
りの度合いを低減し、リード部の端面に残留するカエリ
部の発生を抑えることができるものである。As described above, in this embodiment, when the lead is cut to separate the resin-encapsulated semiconductor device, the cut portion of the lead portion on which the tape-shaped metal film is formed is fully cut by the blade. The occurrence of burrs on the cut end face portions of the leads can be prevented. That is, by cutting the lead portion together with the metal film (metal sheet), the degree of splashing of the metal material, which is the material of the lead portion, is reduced by cutting the rotating blade to the vertical position to the end surface of the lead portion, It is possible to suppress the generation of the burrs remaining on the end face.
【0060】なお、切断時のブレードの回転数、被切断
物の送り速度、ブレードのサイズ、ブレード材質等につ
いては、適宜、最適値を設定する。It is to be noted that optimal values are set as appropriate for the rotation speed of the blade at the time of cutting, the feed speed of the object to be cut, the size of the blade, the material of the blade, and the like.
【0061】さらに本実施形態では、代表としてリード
底面に金属シートを密着させる構成を示したが、リード
フレームのリード部の切断箇所に相当する部分の上面に
金属膜、例えばリード材よりも硬い金属よりなる金属膜
を形成し、かつ樹脂封止前にリード底面にリード材より
硬い材質による金属シートを密着させ、リード部を金属
膜と金属シートとでサンドウィッチ構造として、共切り
してリードカットすることにより、リード部の両面を金
属材で挟んだ状態を構成してリードカットできるので、
よりカエリ部の発生を防止してリードカットできる。ま
た、リード部に対してフルカットする工程では、1回の
フルカットに加えて、同じ箇所を2回以上ブレード切削
する複数カットでもよい。Further, in the present embodiment, a configuration in which a metal sheet is closely adhered to the bottom surface of the lead is shown as a representative, but a metal film, for example, a metal harder than the lead material, is formed on the upper surface of a portion corresponding to the cut portion of the lead portion of the lead frame. A metal film made of a material harder than the lead material is adhered to the bottom surface of the lead before resin sealing, and the lead portion is formed into a sandwich structure between the metal film and the metal sheet, and the lead is cut and cut. By doing so, it is possible to cut the lead by forming a state where both sides of the lead part are sandwiched between metal materials,
The occurrence of burrs can be further prevented and lead cutting can be performed. In the step of performing a full cut on the lead portion, in addition to one full cut, a plurality of cuts in which the same portion is blade-cut twice or more may be performed.
【0062】また、本実施形態では、フレーム枠内に1
つのダイパッド部と、それに対向して配置された複数の
リード部とにより構成されたユニットをその領域内に複
数ユニット有したリードフレームに対して、各ユニット
ごとに樹脂封止してパッケージ部を構成し、各ユニット
間に露出したリード部をその切断部で切断する例を示し
たが、本実施形態で示したように、リード部に対して徐
々に切削を行い、またその切削をブレードの形状、幅、
切断する面の方向を変えてリードカットを実施する手段
によって、一括成形としてリードフレーム内の各ユニッ
トを包括して全面樹脂封止し、各ユニット間のリード部
の上面、すなわち各ユニット間のリード部の切断部に封
止樹脂が形成された場合においても、同様な作用効果を
奏するものである。In this embodiment, one frame is set in the frame.
A package consisting of a unit consisting of two die pads and a plurality of leads arranged in opposition to the lead frame having a plurality of units in its area is resin-sealed for each unit to form a package. Then, the example in which the lead portion exposed between the units is cut by the cut portion is shown. However, as shown in the present embodiment, the lead portion is gradually cut, and the cut is performed in the shape of the blade. ,width,
By means of performing lead cutting by changing the direction of the surface to be cut, all the units in the lead frame are comprehensively resin-sealed as a one-piece molding, and the upper surface of the lead portion between each unit, that is, the lead between each unit, Even when the sealing resin is formed at the cut portion of the portion, the same operation and effect can be obtained.
【0063】なお、本実施形態では、代表としてリード
フレームに対して半導体素子を搭載し、金属細線で接続
した後、樹脂封止前に金属膜をリード部の底面に形成
し、樹脂封止し、金属膜とともにリード切断する例を示
したが、金属膜の形成はリード切断する前工程で行うだ
けでもよく、樹脂封止前には樹脂テープなどの封止シー
トをリード部の底面に密着させ、樹脂封止し、そしてそ
の封止シートを除去し、次いで別途、金属膜をリード部
の底面に形成し、リード切断するという製造方法を採用
してもよい。In the present embodiment, a semiconductor element is mounted on a lead frame as a representative and connected with a thin metal wire. Then, a metal film is formed on the bottom surface of the lead portion before resin sealing, and the resin sealing is performed. Although the example of cutting the lead together with the metal film was shown, the formation of the metal film may be performed only in the step before cutting the lead, and a sealing sheet such as a resin tape is adhered to the bottom surface of the lead portion before resin sealing. Then, the sealing sheet is removed, the sealing sheet is removed, a metal film is separately formed on the bottom surface of the lead portion, and the lead is cut off.
【0064】[0064]
【発明の効果】以上、本発明の樹脂封止型半導体装置の
製造方法において、樹脂封止後のリードカット工程で
は、金型の切断刃に代えて、基板ダイシング等で用いる
ような回転ブレードで切削して切断することにより、切
断されるリード部に対しては、切断時の押圧力による衝
撃が印加されず、リード部、そのリード部近傍の封止樹
脂に対するダメージを解消してリードカットすることが
できる。そのため、リード部、封止樹脂部に欠陥、欠損
の発生をなくして信頼性の高い樹脂封止型半導体装置を
得ることができる。As described above, in the method of manufacturing a resin-encapsulated semiconductor device of the present invention, in the lead cutting step after resin encapsulation, a rotary blade used for substrate dicing or the like is used instead of the cutting blade of the mold. By cutting and cutting, an impact due to the pressing force at the time of cutting is not applied to the lead portion to be cut, and the lead portion and the sealing resin in the vicinity of the lead portion are eliminated to cut the lead. be able to. Therefore, a highly reliable resin-encapsulated semiconductor device can be obtained by eliminating defects and defects in the lead portion and the encapsulation resin portion.
【0065】また、樹脂封止した後のリードフレームに
対して、リード切断して樹脂封止型半導体装置を分離す
る際、金属膜を少なくともリード部の底面に密着させ、
その状態で樹脂封止し、次いでリードカットしているた
め、金属膜とともにブレード切断することで、共切りす
るため、リードの切断した端面へのカエリ部の発生を防
止でき、信頼性の高い樹脂封止型半導体装置を得ること
ができる。When separating the resin-encapsulated semiconductor device by cutting the lead from the lead frame after resin encapsulation, the metal film is brought into close contact with at least the bottom surface of the lead portion.
Since resin sealing is performed in that state and then lead cutting, cutting the blade together with the metal film, and cutting it together, can prevent generation of burrs on the cut end surface of the lead, and provide a highly reliable resin. A sealed semiconductor device can be obtained.
【図1】本発明の一実施形態のリードフレームを示す図FIG. 1 is a view showing a lead frame according to an embodiment of the present invention;
【図2】本発明の一実施形態の樹脂封止型半導体装置を
示す図FIG. 2 is a diagram showing a resin-sealed semiconductor device according to one embodiment of the present invention;
【図3】本発明の一実施形態の樹脂封止型半導体装置の
製造方法を示す断面図FIG. 3 is a cross-sectional view illustrating a method for manufacturing a resin-sealed semiconductor device according to one embodiment of the present invention.
【図4】本発明の一実施形態の樹脂封止型半導体装置の
製造方法を示す断面図FIG. 4 is a cross-sectional view illustrating a method for manufacturing a resin-sealed semiconductor device according to one embodiment of the present invention.
【図5】本発明の一実施形態の樹脂封止型半導体装置の
製造方法を示す断面図FIG. 5 is a sectional view showing the method for manufacturing the resin-sealed semiconductor device according to the embodiment of the present invention;
【図6】本発明の一実施形態の樹脂封止型半導体装置の
製造方法を示す断面図FIG. 6 is a sectional view showing the method of manufacturing the resin-sealed semiconductor device according to one embodiment of the present invention;
【図7】本発明の一実施形態の樹脂封止型半導体装置の
製造方法を示す断面図FIG. 7 is a sectional view showing the method of manufacturing the resin-sealed semiconductor device according to one embodiment of the present invention;
【図8】本発明の一実施形態の樹脂封止型半導体装置の
製造方法を示す断面図FIG. 8 is a sectional view showing the method for manufacturing the resin-encapsulated semiconductor device according to one embodiment of the present invention;
【図9】本発明の一実施形態の樹脂封止型半導体装置の
製造方法を示す断面図FIG. 9 is a sectional view showing the method of manufacturing the resin-sealed semiconductor device according to one embodiment of the present invention;
【図10】本発明の一実施形態の樹脂封止型半導体装置
の製造方法を示す断面図FIG. 10 is a sectional view showing the method of manufacturing the resin-sealed semiconductor device according to one embodiment of the present invention;
【図11】本発明の一実施形態の樹脂封止型半導体装置
の製造方法を示す断面図FIG. 11 is a sectional view showing the method of manufacturing the resin-encapsulated semiconductor device according to one embodiment of the present invention;
【図12】本発明の一実施形態の樹脂封止型半導体装置
の課題を示す断面図FIG. 12 is a sectional view showing a problem of the resin-sealed semiconductor device according to the embodiment of the present invention;
【図13】本発明の一実施形態の樹脂封止型半導体装置
の製造方法を示す断面図FIG. 13 is a sectional view showing the method of manufacturing the resin-encapsulated semiconductor device according to one embodiment of the present invention;
【図14】本発明の一実施形態の樹脂封止型半導体装置
の製造方法を示す断面図FIG. 14 is a sectional view showing the method of manufacturing the resin-sealed semiconductor device according to one embodiment of the present invention;
【図15】本発明の一実施形態の樹脂封止型半導体装置
の製造方法を示す断面図FIG. 15 is a sectional view showing the method of manufacturing the resin-encapsulated semiconductor device according to one embodiment of the present invention;
【図16】本発明の一実施形態の樹脂封止型半導体装置
の製造方法を示す断面図FIG. 16 is a sectional view showing the method of manufacturing the resin-encapsulated semiconductor device according to one embodiment of the present invention;
【図17】本発明の一実施形態の樹脂封止型半導体装置
の製造方法を示す断面図FIG. 17 is a sectional view showing the method of manufacturing the resin-encapsulated semiconductor device according to one embodiment of the present invention;
【図18】本発明の一実施形態の樹脂封止型半導体装置
の製造方法を示す断面図FIG. 18 is a sectional view showing the method of manufacturing the resin-sealed semiconductor device according to one embodiment of the present invention;
【図19】本発明の一実施形態の樹脂封止型半導体装置
の製造方法を示す断面図FIG. 19 is a sectional view showing the method of manufacturing the resin-encapsulated semiconductor device according to one embodiment of the present invention;
【図20】本発明の一実施形態の樹脂封止型半導体装置
の製造方法を示す断面図FIG. 20 is a sectional view showing the method of manufacturing the resin-encapsulated semiconductor device according to one embodiment of the present invention;
【図21】従来のリードフレームを示す図FIG. 21 shows a conventional lead frame.
【図22】従来の樹脂封止型半導体装置を示す図FIG. 22 shows a conventional resin-encapsulated semiconductor device.
【図23】従来の樹脂封止型半導体装置の製造方法を示
す断面図FIG. 23 is a sectional view showing a method for manufacturing a conventional resin-encapsulated semiconductor device.
【図24】従来の樹脂封止型半導体装置の製造方法を示
す断面図FIG. 24 is a sectional view showing a method of manufacturing a conventional resin-encapsulated semiconductor device.
【図25】従来の樹脂封止型半導体装置の製造方法を示
す断面図FIG. 25 is a sectional view showing a method for manufacturing a conventional resin-encapsulated semiconductor device.
【図26】従来の樹脂封止型半導体装置の製造方法を示
す断面図FIG. 26 is a sectional view showing a method of manufacturing a conventional resin-encapsulated semiconductor device.
【図27】従来の樹脂封止型半導体装置の製造方法を示
す断面図FIG. 27 is a sectional view showing a method for manufacturing a conventional resin-encapsulated semiconductor device.
【図28】従来の樹脂封止型半導体装置の製造方法を示
す断面図FIG. 28 is a sectional view showing a method of manufacturing a conventional resin-encapsulated semiconductor device.
【図29】従来の樹脂封止型半導体装置の製造方法を示
す断面図FIG. 29 is a cross-sectional view showing a method for manufacturing a conventional resin-encapsulated semiconductor device.
【図30】従来の樹脂封止型半導体装置の製造方法を示
す断面図FIG. 30 is a sectional view showing a method for manufacturing a conventional resin-encapsulated semiconductor device.
【図31】従来の樹脂封止型半導体装置の製造方法を示
す断面図FIG. 31 is a sectional view showing a method of manufacturing a conventional resin-encapsulated semiconductor device.
1 フレーム枠 2 ダイパッド部 3 吊りリード部 4 リード部 5 切断部 6 半導体素子 7 金属細線 8 封止樹脂 9 外部端子 10 封止シート 11 回転ブレード 12 カエリ部 13 金属シート 101 フレーム枠 102 ダイパッド部 103 吊りリード部 104 リード部 105 半導体素子 106 金属細線 107 封止樹脂 108 外部端子 109 封止シート 110 切断部 111 切断刃 DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Frame frame 2 Die pad part 3 Suspended lead part 4 Lead part 5 Cutting part 6 Semiconductor element 7 Thin metal wire 8 Sealing resin 9 External terminal 10 Sealing sheet 11 Rotating blade 12 Flash part 13 Metal sheet 101 Frame frame 102 Die pad part 103 Hanging Lead part 104 Lead part 105 Semiconductor element 106 Thin metal wire 107 Sealing resin 108 External terminal 109 Sealing sheet 110 Cutting part 111 Cutting blade
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 安達 修 大阪府高槻市幸町1番1号 松下電子工業 株式会社内 (72)発明者 内海 勝喜 大阪府高槻市幸町1番1号 松下電子工業 株式会社内 (72)発明者 南尾 匡紀 大阪府高槻市幸町1番1号 松下電子工業 株式会社内 ──────────────────────────────────────────────────続 き Continued on the front page (72) Inventor Osamu Adachi 1-1, Yukicho, Takatsuki-shi, Osaka Matsushita Electronics Co., Ltd. (72) Katsuyoshi Utsumi 1-1, Yukicho, Takatsuki-shi, Osaka Matsushita Electronics Incorporated (72) Inventor Masanori Minao 1-1, Sachimachi, Takatsuki-shi, Osaka Matsushita Electronics Co., Ltd.
Claims (5)
レーム本体の略中央領域内に配設された半導体素子搭載
用のダイパッド部と、先端部で前記ダイパッド部を支持
し、他端部でフレーム枠と接続した吊りリード部と、少
なくとも先端部が前記ダイパッド部に向かって延在し、
他端部が前記フレーム枠と接続したリード部と、前記リ
ード部のフレーム枠と接続した領域近傍に設けられた切
断部とよりなるリードフレームを用意する工程と、前記
用意したリードフレームの前記ダイパッド部上に半導体
素子を搭載する工程と、前記ダイパッド部上に搭載した
前記半導体素子の主面上の電極パッドと、前記リードフ
レームのリード部の各上面とを金属細線により接続する
工程と、前記リードフレームの裏面側の少なくともリー
ド部の各底面に金属膜を形成する工程と、少なくとも前
記リード部の端部に押圧力を付加し、前記リード部の底
面を前記金属膜に押圧した状態で、前記リードフレーム
の上面側として前記半導体素子、ダイパッド部、金属細
線、および前記リード部の底面と前記リード部のフレー
ム枠と接続した領域近傍に設けられた切断部を除く領域
を封止樹脂により樹脂封止する工程と、前記リードの切
断部上面に対してブレードによる切削を行い、前記切断
部下面に形成している金属膜と共に切断部を切断して樹
脂封止型半導体装置を分離する工程と、前記分離した樹
脂封止型半導体装置の底面に形成された金属膜を除去し
て樹脂封止型半導体装置を得る工程とよりなることを特
徴とする樹脂封止型半導体装置の製造方法。1. A frame main body made of a metal plate, a die pad portion for mounting a semiconductor element disposed in a substantially central region of the frame main body, and the die pad portion is supported at a front end portion, and the frame is supported at the other end portion. Suspended lead portion connected to the frame, at least the tip portion extends toward the die pad portion,
A step of preparing a lead frame including a lead portion having the other end connected to the frame frame, and a cut portion provided near a region of the lead portion connected to the frame frame; and a die pad of the prepared lead frame. Mounting a semiconductor element on the die pad portion, connecting the electrode pads on the main surface of the semiconductor element mounted on the die pad portion, and connecting each upper surface of the lead portion of the lead frame with a thin metal wire; A step of forming a metal film on each bottom surface of at least the lead portion on the back surface side of the lead frame, and applying a pressing force to at least an end of the lead portion, and pressing the bottom surface of the lead portion against the metal film, The semiconductor element, the die pad portion, the thin metal wire, and the region where the bottom surface of the lead portion is connected to the frame of the lead portion as the upper surface side of the lead frame. A step of resin-sealing a region other than the cut portion provided in the vicinity with a sealing resin, and cutting the upper surface of the cut portion of the lead with a blade, and cutting together with the metal film formed on the lower surface of the cut portion Cutting the portion to separate the resin-sealed semiconductor device; and removing the metal film formed on the bottom surface of the separated resin-sealed semiconductor device to obtain a resin-sealed semiconductor device. A method for manufacturing a resin-encapsulated semiconductor device, comprising:
レーム本体の略中央領域内に配設された半導体素子搭載
用のダイパッド部と、先端部で前記ダイパッド部を支持
し、他端部でフレーム枠と接続した吊りリード部と、少
なくとも先端部が前記ダイパッド部に向かって延在し、
他端部が前記フレーム枠と接続したリード部と、前記リ
ード部のフレーム枠と接続した領域近傍に設けられた切
断部とよりなるリードフレームを用意する工程と、前記
用意したリードフレームの前記ダイパッド部上に半導体
素子を搭載する工程と、前記ダイパッド部上に搭載した
前記半導体素子の主面上の電極パッドと、前記リードフ
レームのリード部の各上面とを金属細線により接続する
工程と、前記リードフレームの裏面側の少なくともリー
ド部の各底面に封止シートを密着させる工程と、少なく
とも前記リード部の端部に押圧力を付加し、前記リード
部の底面を前記封止シートに押圧した状態で、前記リー
ドフレームの上面側として前記半導体素子、ダイパッド
部、金属細線、および前記リード部の底面と前記リード
部のフレーム枠と接続した領域近傍に設けられた切断部
を除く領域を封止樹脂により樹脂封止する工程と、前記
封止シートを除去する工程と、前記リードフレームの裏
面側の少なくともリード部の各底面に金属膜を形成する
工程と、前記リードの切断部上面に対してブレードによ
る切削を行い、前記切断部下面に形成している金属膜と
共に切断部を切断して樹脂封止型半導体装置を分離する
工程と、前記分離した樹脂封止型半導体装置の底面に形
成された金属膜を除去して樹脂封止型半導体装置を得る
工程とよりなることを特徴とする樹脂封止型半導体装置
の製造方法。2. A frame main body made of a metal plate, a die pad portion for mounting a semiconductor element disposed in a substantially central region of the frame main body, a tip end portion supporting the die pad portion, and the other end portion supporting the frame. Suspended lead portion connected to the frame, at least the tip portion extends toward the die pad portion,
A step of preparing a lead frame including a lead portion having the other end connected to the frame frame, and a cut portion provided near a region of the lead portion connected to the frame frame; and a die pad of the prepared lead frame. Mounting a semiconductor element on the die pad portion, connecting the electrode pads on the main surface of the semiconductor element mounted on the die pad portion, and connecting each upper surface of the lead portion of the lead frame with a thin metal wire; A step of bringing a sealing sheet into close contact with at least each bottom surface of the lead portion on the back surface side of the lead frame, and a state in which a pressing force is applied to at least an end portion of the lead portion and the bottom surface of the lead portion is pressed against the sealing sheet The semiconductor element, the die pad portion, the thin metal wire, and the bottom surface of the lead portion and the frame frame of the lead portion as the upper surface side of the lead frame. A step of resin-sealing a region except a cut portion provided in the vicinity of the continuous region with a sealing resin, a step of removing the sealing sheet, and forming a metal on at least each bottom surface of the lead portion on the back surface side of the lead frame. A step of forming a film, and a step of performing cutting with a blade on the upper surface of the cut portion of the lead, and cutting the cut portion together with the metal film formed on the lower surface of the cut portion to separate the resin-encapsulated semiconductor device. And a step of removing the metal film formed on the bottom surface of the separated resin-encapsulated semiconductor device to obtain a resin-encapsulated semiconductor device.
ード部の各底面に金属膜を形成する工程では、金属膜と
して金属シートを密着して金属膜を形成する工程である
ことを特徴とする請求項1または請求項2のいずれかに
記載の樹脂封止型半導体装置の製造方法。3. The step of forming a metal film on at least each bottom surface of the lead portion on the back side of the lead frame is a step of forming a metal film by closely attaching a metal sheet as the metal film. A method for manufacturing a resin-encapsulated semiconductor device according to claim 1.
ード部の各底面に金属膜を形成する工程では、金属膜は
リードフレームと同素材の金属膜を形成することを特徴
とする請求項1または請求項2のいずれかに記載の樹脂
封止型半導体装置の製造方法。4. The method according to claim 1, wherein in the step of forming a metal film on at least each bottom surface of the lead portion on the back surface side of the lead frame, the metal film is formed of the same material as the lead frame. Item 3. A method for manufacturing a resin-sealed semiconductor device according to any one of Items 2.
ード部の各底面に金属膜を形成する工程では、金属膜は
リードフレームの素材よりも硬い金属よりなる金属膜を
形成することを特徴とする請求項1または請求項2のい
ずれかに記載の樹脂封止型半導体装置の製造方法。5. The step of forming a metal film on at least each bottom surface of the lead portion on the back surface side of the lead frame, wherein the metal film is formed of a metal film made of a metal harder than the material of the lead frame. 3. The method for manufacturing a resin-encapsulated semiconductor device according to claim 1 or 2.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP24752299A JP2001077130A (en) | 1999-09-01 | 1999-09-01 | Manufacture of resin sealed semiconductor device |
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Publication Number | Publication Date |
---|---|
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ID=17164753
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Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2001077130A (en) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2002289742A (en) * | 2001-03-26 | 2002-10-04 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | Semiconductor device and its manufacturing method |
-
1999
- 1999-09-01 JP JP24752299A patent/JP2001077130A/en active Pending
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2002289742A (en) * | 2001-03-26 | 2002-10-04 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | Semiconductor device and its manufacturing method |
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