JP2001077265A - Manufacture of resin sealed semiconductor device - Google Patents

Manufacture of resin sealed semiconductor device

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JP2001077265A
JP2001077265A JP24752199A JP24752199A JP2001077265A JP 2001077265 A JP2001077265 A JP 2001077265A JP 24752199 A JP24752199 A JP 24752199A JP 24752199 A JP24752199 A JP 24752199A JP 2001077265 A JP2001077265 A JP 2001077265A
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JP
Japan
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lead
frame
resin
mold
sealing
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JP24752199A
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Japanese (ja)
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Kunikazu Takemura
邦和 竹村
Masanori Nano
匡紀 南尾
Katsuki Uchiumi
勝喜 内海
Osamu Adachi
修 安達
Takahiro Matsuo
隆広 松尾
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Panasonic Holdings Corp
Original Assignee
Matsushita Electronics Corp
Matsushita Electric Industrial Co Ltd
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To prevent metal burrs on the end surface of a lead portion by blade cutting in a lead cutting process after resin sealing. SOLUTION: When a resin sealed type semiconductor device is separated from a resin sealed lead frame by lead cutting, sealing resins 8a and 8b are formed on the top and the bottom, respectively of the lead portion 4 to be cut. By cutting the lead portion 4 together with these sealing resins 8a, 8b with a rotary blade 11, bent portions on a cut end surface of the lead portion can be prevented. Furthermore, by performing reciprocating blade cutting to cut the lead portion 4 twice, the bent inverted portion can be prevented. Therefore, a resin sealed semiconductor device wit high mounting reliability can be obtained without defects on the lead portion.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、QFN(Quad
Flat Non−leaded Package)
と称される外部端子となるリード部が片面封止された小
型/薄型の樹脂封止型半導体装置の製造方法に関するも
のであり、特に生産効率を向上させるとともに、リード
部の信頼性を向上させた樹脂封止型半導体装置を実現す
るための製造方法に関するものである。
TECHNICAL FIELD The present invention relates to a QFN (Quad).
Flat Non-leaded Package)
The present invention relates to a method for manufacturing a small / thin resin-encapsulated semiconductor device in which a lead portion serving as an external terminal is sealed on one side, and particularly to improve production efficiency and reliability of the lead portion. And a method for realizing a resin-sealed semiconductor device.

【0002】[0002]

【従来の技術】近年、電子機器の小型化に対応するため
に、樹脂封止型半導体装置などの半導体部品の高密度実
装が要求され、それにともなって、半導体部品の小型、
薄型化が進んでいる。また小型で薄型でありながら、多
ピン化が進み、高密度の小型、薄型の樹脂封止型半導体
装置が要望されている。
2. Description of the Related Art In recent years, in order to cope with miniaturization of electronic equipment, high-density mounting of semiconductor components such as resin-encapsulated semiconductor devices has been required.
Thinning is progressing. In addition, the number of pins has been increased while being small and thin, and a high-density small and thin resin-sealed semiconductor device has been demanded.

【0003】以下、従来のQFN型の樹脂封止型半導体
装置に使用するリードフレームについて説明する。
Hereinafter, a lead frame used in a conventional QFN-type resin-sealed semiconductor device will be described.

【0004】図42は、従来のリードフレームの構成を
示す図であり、図42(a)は平面図であり、図42
(b)は図42(a)のA−A1箇所の断面図である。
FIG. 42 is a view showing the structure of a conventional lead frame. FIG. 42 (a) is a plan view, and FIG.
FIG. 42B is a cross-sectional view taken along a line AA1 in FIG.

【0005】図42に示すように、従来のリードフレー
ムは、フレーム枠101と、そのフレーム枠101内
に、半導体素子が載置される矩形状のダイパッド部10
2と、ダイパッド部102の角部をその先端部で支持
し、端部がフレーム枠101と接続した吊りリード部1
03と、半導体素子を載置した場合、その載置した半導
体素子と金属細線等の接続手段により電気的に接続する
ビーム状のリード部104とより構成されている。そし
てリード部104は、封止樹脂で封止された際、封止樹
脂部に埋設される部分はインナーリード部104aを構
成し、封止樹脂部より露出する部分はアウターリード部
104bを構成するものであり、インナーリード部10
4aとアウターリード部104bとは、一体で連続して
設けられている。図42において、破線で示した領域
は、半導体素子を搭載して樹脂封止型半導体装置を構成
する場合、封止樹脂で封止する領域を示しており、また
一点鎖線で示した部分は、半導体素子を搭載して樹脂封
止し、樹脂封止型半導体装置を構成した後、リード部1
04(アウターリード部104b)を金型で切断する部
分を示している。
As shown in FIG. 42, a conventional lead frame includes a frame 101 and a rectangular die pad 10 on which a semiconductor element is mounted.
2 and a suspension lead 1 having a corner portion of the die pad portion 102 supported at its tip end and an end portion connected to the frame 101.
03, and a beam-shaped lead portion 104 electrically connected to the mounted semiconductor element by a connecting means such as a thin metal wire when the semiconductor element is mounted. When the lead portion 104 is sealed with the sealing resin, a portion embedded in the sealing resin portion constitutes an inner lead portion 104a, and a portion exposed from the sealing resin portion constitutes an outer lead portion 104b. And the inner lead portion 10
4a and the outer lead portion 104b are provided integrally and continuously. In FIG. 42, a region indicated by a dashed line indicates a region sealed with a sealing resin when a semiconductor element is mounted to form a resin-encapsulated semiconductor device, and a portion indicated by a dashed line indicates After mounting a semiconductor element and sealing with a resin to form a resin-sealed semiconductor device, the lead 1
FIG. 4 shows a portion where the outer lead portion 104b is cut by a mold.

【0006】また、従来のリードフレームは、図42
(b)に示すように、ダイパッド部102は吊りリード
部103によって支持されているが、その吊りリード部
103に設けたディプレス部によってダイパッド部10
2がリード部104上面に対して上方に配置されるよ
う、アップセットされているものである。
FIG. 42 shows a conventional lead frame.
As shown in (b), the die pad portion 102 is supported by the suspension lead portion 103, and the die pad portion 10 is supported by the depress portion provided on the suspension lead portion 103.
2 is set up so as to be disposed above the upper surface of the lead portion 104.

【0007】次に従来の樹脂封止型半導体装置について
説明する。図43は、図42に示したリードフレームを
用いた樹脂封止型半導体装置を示す図であり、図43
(a)は、内部構成を破線で示した透視平面図であり、
図43(b)は図43(a)のB−B1箇所の断面図で
ある。
Next, a conventional resin-sealed semiconductor device will be described. FIG. 43 is a diagram showing a resin-sealed semiconductor device using the lead frame shown in FIG.
(A) is a perspective plan view showing the internal configuration by a broken line,
FIG. 43B is a cross-sectional view taken along a line B-B1 in FIG.

【0008】図43に示すように、リードフレームのダ
イパッド部102上に半導体素子105が搭載され、そ
の半導体素子105とリード部104のインナーリード
部104aとが金属細線106により電気的に接続され
ている。そしてダイパッド部102上の半導体素子10
5、インナーリード部104aの外囲は封止樹脂107
により封止されている。そしてそのリード部104(イ
ンナーリード部104a)の底面部分は封止樹脂107
の底面からスタンドオフを有して露出して、外部端子1
08を構成している。なお、封止樹脂107の側面から
はアウターリード部104bが露出しているが、実質的
に封止樹脂107の側面と同一面である。
As shown in FIG. 43, a semiconductor element 105 is mounted on a die pad section 102 of a lead frame, and the semiconductor element 105 and an inner lead section 104a of the lead section 104 are electrically connected by a thin metal wire 106. I have. Then, the semiconductor element 10 on the die pad portion 102
5. The outer periphery of the inner lead portion 104a is the sealing resin 107.
Is sealed. The bottom portion of the lead portion 104 (the inner lead portion 104a) is
Is exposed with a standoff from the bottom surface of the external terminal 1
08. Although the outer lead portion 104b is exposed from the side surface of the sealing resin 107, it is substantially the same as the side surface of the sealing resin 107.

【0009】次に従来の樹脂封止型半導体装置の製造方
法について説明する。
Next, a method of manufacturing a conventional resin-encapsulated semiconductor device will be described.

【0010】まず図44に示すように、フレーム枠と、
そのフレーム枠内に、半導体素子が載置される矩形状で
あって、アップセットされたダイパッド部102と、ダ
イパッド部102の角部をその先端部で支持し、端部が
フレーム枠と接続した吊りリード部と、半導体素子を載
置した場合、その載置した半導体素子と金属細線等の接
続手段により電気的に接続するビーム状のリード部10
4とを有したリードフレームを用意する。
[0010] First, as shown in FIG.
In the frame, the semiconductor device is mounted in a rectangular shape, and the upset die pad portion 102 and the corners of the die pad portion 102 are supported at their tip portions, and the ends are connected to the frame frame. When the semiconductor device is mounted on the suspension lead portion, the beam-shaped lead portion 10 electrically connected to the mounted semiconductor device by connecting means such as a thin metal wire.
4 is prepared.

【0011】そして図45に示すように、ダイパッド部
102上に銀ペースト等の接着剤により半導体素子10
5を搭載しボンディングする。
Then, as shown in FIG. 45, the semiconductor element 10 is placed on the die pad portion 102 with an adhesive such as a silver paste.
5 is mounted and bonded.

【0012】次に図46に示すように、ダイパッド部1
02上に搭載された半導体素子105の表面の電極パッ
ド(図示せず)とリード部104のインナーリード部1
04aとを金属細線106により電気的に接続する。
Next, as shown in FIG.
02 and the inner lead 1 of the lead 104 on the surface of the semiconductor element 105 mounted on the
04a is electrically connected with the thin metal wire 106.

【0013】次に図47に示すように、半導体素子10
5が搭載された状態のリードフレームの少なくともリー
ド部104の底面に封止シート109を密着させる。こ
の封止シート109はリード部104の底面に封止樹脂
が回り込まないように保護し、リード部104の底面を
露出させるための部材である。
Next, as shown in FIG.
The sealing sheet 109 is brought into close contact with at least the bottom surface of the lead portion 104 of the lead frame in which 5 is mounted. The sealing sheet 109 is a member for protecting the sealing resin from flowing around the bottom surface of the lead portion 104 and exposing the bottom surface of the lead portion 104.

【0014】次に図48に示すように、リードフレーム
を金型内に載置し、金型によりリード部104を封止シ
ート109に対して押圧した状態でエポキシ系樹脂より
なる封止樹脂107を注入し、リードフレームの外囲と
してダイパッド部102、半導体素子105、リード部
104の上面領域と金属細線106の接続領域を封止す
る。図49には外囲を封止樹脂107で封止した状態を
示している。
Next, as shown in FIG. 48, the lead frame is placed in a mold, and the lead portion 104 is pressed against the sealing sheet 109 by the mold. Is implanted to seal the upper surface area of the die pad portion 102, the semiconductor element 105, the lead portion 104, and the connection region of the thin metal wire 106 as the outer periphery of the lead frame. FIG. 49 shows a state where the outer periphery is sealed with a sealing resin 107.

【0015】次に図50に示すように、リードフレーム
のリード部104の底面に密着させていた封止シート1
09をピールオフ等により除去する。
Next, as shown in FIG. 50, the sealing sheet 1 adhered to the bottom surface of the lead portion 104 of the lead frame.
09 is removed by peel-off or the like.

【0016】次に図51に示すように、リード部104
の切断部110に対して、金型による切断刃111でリ
ードカットを行い、樹脂封止型半導体装置を分離する。
Next, as shown in FIG.
Is cut by a cutting blade 111 using a die to separate the resin-encapsulated semiconductor device.

【0017】そして図52に示すように、リードフレー
ムのダイパッド部102上に半導体素子105が搭載さ
れ、その半導体素子105とリード部104のインナー
リード部104aとが金属細線106により電気的に接
続され、外囲が封止樹脂107により封止され、そして
そのリード部104(インナーリード部104a)の底
面部分は封止樹脂107の底面からスタンドオフを有し
て露出して、外部端子108を構成するとともに、封止
樹脂107の側面からはアウターリード部104bが露
出し、実質的に封止樹脂107の側面と同一面を構成し
た樹脂封止型半導体装置を得る。
As shown in FIG. 52, a semiconductor element 105 is mounted on the die pad section 102 of the lead frame, and the semiconductor element 105 and the inner lead section 104a of the lead section 104 are electrically connected by a thin metal wire 106. The outer periphery is sealed with a sealing resin 107, and the bottom surface of the lead portion 104 (inner lead portion 104 a) is exposed with a standoff from the bottom surface of the sealing resin 107 to form an external terminal 108. At the same time, the outer lead portion 104b is exposed from the side surface of the sealing resin 107, and a resin-sealed semiconductor device having substantially the same surface as the side surface of the sealing resin 107 is obtained.

【0018】[0018]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら従来のリ
ードフレームとそれを用いた樹脂封止型半導体装置の製
造方法では、特にリードフレームに対して樹脂封止した
後は、金型の切断刃によるリードカットを行っていたた
め、その切断工程において、リードカット時の衝撃によ
りリード部の隣接する封止樹脂の部分に樹脂カケ、クラ
ック等が起こり、またリード部が封止樹脂部分から脱落
するといった課題があった。従来の樹脂封止型半導体装
置の構造は、リード部がその上面だけを封止樹脂で覆わ
れたいわゆる片面封止構造であるため、金型の切断刃に
よるリードカットでは、その衝撃いかんによって、リー
ド部、封止樹脂部の破損が発生しやすい状況であった。
However, in a conventional lead frame and a method of manufacturing a resin-encapsulated semiconductor device using the same, particularly after the lead frame is resin-encapsulated, the lead is cut by a cutting blade of a mold. Since the cutting was performed, in the cutting process, there were problems such as resin chips and cracks occurring in the sealing resin portion adjacent to the lead portion due to the impact at the time of lead cutting, and the lead portion falling off from the sealing resin portion. there were. Since the structure of the conventional resin-encapsulated semiconductor device is a so-called single-sided encapsulation structure in which only the upper surface of the lead portion is covered with an encapsulating resin, the lead cutting by the cutting blade of the mold causes an The lead portion and the sealing resin portion were easily damaged.

【0019】さらに近年、大型のリードフレーム基板上
に半導体素子を搭載し、金属細線で接続した後、外囲を
全体で封止する一括成形が進んでいるが、この一括成形
では、リードフレーム上面全体を封止樹脂が覆った構成
の場合は、リードカットだけでなく、封止樹脂部もカッ
トしなければならないため、金型の切断刃によるカット
手段では対応できないという課題が顕在化してきてい
る。
Furthermore, in recent years, a semiconductor device has been mounted on a large-sized lead frame substrate, connected with thin metal wires, and then encapsulation has been progressing in which the outer periphery is entirely sealed. In the case where the entire structure is covered with the sealing resin, not only the lead cut but also the sealing resin portion must be cut, and thus the problem that the cutting means using the cutting blade of the mold cannot cope with the problem has become apparent. .

【0020】本発明は前記した従来の課題および今後の
樹脂封止型半導体装置の製造工程の動向に対応できる樹
脂封止型半導体装置の製造方法を提供するものであり、
生産性を高め、リードフレーム、または基板から樹脂封
止型半導体装置を分離する際の切断工程でリード部、封
止樹脂部に欠陥、欠損の発生しない樹脂封止型半導体装
置の製造方法を提供するものである。
The present invention provides a method of manufacturing a resin-encapsulated semiconductor device which can cope with the above-mentioned conventional problems and future trends in the manufacturing process of the resin-encapsulated semiconductor device.
Provided is a method of manufacturing a resin-encapsulated semiconductor device in which the lead portion and the encapsulating resin portion are free from defects and defects in a cutting step when separating the resin-encapsulated semiconductor device from a lead frame or a substrate, which increases productivity. Is what you do.

【0021】[0021]

【課題を解決するための手段】前記従来の課題を解決す
るために、本発明の樹脂封止型半導体装置の製造方法
は、金属板よりなるフレーム本体と、前記フレーム本体
の略中央領域内に配設された半導体素子搭載用のダイパ
ッド部と、先端部で前記ダイパッド部を支持し、他端部
でフレーム枠と接続した吊りリード部と、少なくとも先
端部が前記ダイパッド部に向かって延在し、他端部が前
記フレーム枠と接続したリード部と、前記リード部のフ
レーム枠と接続した領域近傍に設けられた切断部とより
なるリードフレームを用意する工程と、前記用意したリ
ードフレームの前記ダイパッド部上に半導体素子を搭載
する工程と、前記ダイパッド部上に搭載した前記半導体
素子の主面上の電極パッドと、前記リードフレームのリ
ード部の各上面とを金属細線により接続する工程と、封
止金型として、前記リードフレームの表面側に当接し、
前記リードフレームのリード部の切断部に相当する部分
に彫り込み部を有した第1の金型と、前記第1の金型と
ともに前記リードフレームを挟み込む第2の金型とを用
意する工程と、前記リードフレームの裏面側の少なくと
もリード部の各底面に封止シートを密着させる工程と、
前記第1の金型と第2の金型との間に前記リードフレー
ムを載置し、少なくとも前記リードフレームのリード部
の端部に押圧力を付加し、前記リード部の底面を前記封
止シートに押圧した状態で封止樹脂を注入して、前記リ
ードフレームの上面側として前記半導体素子、ダイパッ
ド部、金属細線、および前記リード部の底面を除く領域
を封止樹脂により樹脂封止するとともに、前記第1の金
型の彫り込み部に封止樹脂を注入して前記フレームのリ
ード部の切断部上に封止樹脂を形成する工程と、樹脂封
止後に前記封止シートを前記リードフレームより除去す
る工程と、前記リードの切断部上面に対してブレードに
よる切削を行い、前記切断部上に形成された封止樹脂と
共に切断部を切断して樹脂封止型半導体装置を得る工程
とよりなる樹脂封止型半導体装置の製造方法である。
In order to solve the above-mentioned conventional problems, a method of manufacturing a resin-encapsulated semiconductor device according to the present invention comprises a frame main body made of a metal plate and a substantially central region of the frame main body. A die pad portion for mounting the semiconductor element, a suspension lead portion supporting the die pad portion at the tip end, and connected to the frame at the other end portion, at least the tip end portion extends toward the die pad portion. A step of preparing a lead frame having a lead portion having the other end connected to the frame frame, and a cut portion provided in the vicinity of a region of the lead portion connected to the frame frame; and A step of mounting a semiconductor element on a die pad portion; and an electrode pad on a main surface of the semiconductor element mounted on the die pad portion, and each upper surface of a lead portion of the lead frame. A step of connecting the genus thin wire, a sealing mold, in contact with the surface of the lead frame,
A step of preparing a first mold having a carved portion in a portion corresponding to a cut portion of a lead portion of the lead frame, and a second mold for sandwiching the lead frame together with the first mold; A step of adhering a sealing sheet to each bottom surface of at least the lead portion on the back side of the lead frame,
The lead frame is placed between the first mold and the second mold, and a pressing force is applied to at least an end of a lead portion of the lead frame to seal the bottom surface of the lead portion. While injecting a sealing resin in a state pressed against the sheet, the semiconductor element, the die pad portion, the fine metal wire, and the region excluding the bottom surface of the lead portion are resin-sealed with the sealing resin as the upper surface side of the lead frame. Forming a sealing resin on a cut portion of a lead portion of the frame by injecting a sealing resin into the engraved portion of the first mold, and removing the sealing sheet from the lead frame after resin sealing. Removing, and cutting the upper surface of the cut portion of the lead with a blade, and cutting the cut portion together with the sealing resin formed on the cut portion to obtain a resin-sealed semiconductor device. Resin seal It is a manufacturing method of the type semiconductor device.

【0022】また、本発明の樹脂封止型半導体装置の製
造方法は、金属板よりなるフレーム本体と、前記フレー
ム本体の略中央領域内に配設された半導体素子搭載用の
ダイパッド部と、先端部で前記ダイパッド部を支持し、
他端部でフレーム枠と接続した吊りリード部と、少なく
とも先端部が前記ダイパッド部に向かって延在し、他端
部が前記フレーム枠と接続したリード部と、前記リード
部の前記フレーム枠と接続した領域近傍に設けられ、他
のリード部分よりも薄厚の切断部とよりなるリードフレ
ームを用意する工程と、前記用意したリードフレームの
前記ダイパッド部上に半導体素子を搭載する工程と、前
記ダイパッド部上に搭載した前記半導体素子の主面上の
電極パッドと、前記リードフレームのリード部の各上面
とを金属細線により接続する工程と、封止金型として、
前記リードフレームの表面側に当接する第1の金型と、
前記第1の金型とともに前記リードフレームを挟み込む
第2の金型とを用意する工程と、前記リードフレームの
裏面側の少なくともリード部の各底面に封止シートを密
着させる工程と、前記第1の金型と第2の金型との間に
前記リードフレームを載置し、少なくとも前記リードフ
レームのリード部の端部に押圧力を付加し、前記リード
部の底面を前記封止シートに押圧した状態で封止樹脂を
注入して、前記リードフレームの上面側として前記半導
体素子、ダイパッド部、金属細線、および前記リード部
の底面を除く領域を封止樹脂により樹脂封止するととも
に、前記リードフレームの前記リード部の切断部の薄厚
による段差部分に封止樹脂を注入して前記フレームのリ
ード部の切断部底面に封止樹脂を形成する工程と、樹脂
封止後に前記封止シートを前記リードフレームより除去
する工程と、前記リードの切断部上面に対してブレード
による切削を行い、前記切断部底面に形成した封止樹脂
と共に切断部を切断して樹脂封止型半導体装置を得る工
程とよりなる樹脂封止型半導体装置の製造方法である。
Further, the method of manufacturing a resin-encapsulated semiconductor device according to the present invention is characterized in that a frame main body made of a metal plate, a die pad portion for mounting a semiconductor element disposed in a substantially central region of the frame main body, Support the die pad part with the part,
A hanging lead connected to the frame at the other end, at least a leading end extending toward the die pad, and a lead connected to the frame at the other end, and the frame of the lead; A step of preparing a lead frame provided in the vicinity of the connected region and having a cut portion thinner than other lead portions; a step of mounting a semiconductor element on the die pad portion of the prepared lead frame; An electrode pad on the main surface of the semiconductor element mounted on the part, a step of connecting each upper surface of the lead part of the lead frame with a thin metal wire, and as a sealing mold,
A first mold abutting on a surface side of the lead frame;
A step of preparing a second mold that sandwiches the lead frame together with the first mold; a step of adhering a sealing sheet to at least each bottom surface of the lead portion on the back side of the lead frame; The lead frame is placed between the mold and the second mold, and a pressing force is applied to at least an end of a lead portion of the lead frame, and a bottom surface of the lead portion is pressed against the sealing sheet. In this state, a sealing resin is injected, and a region excluding the semiconductor element, the die pad portion, the fine metal wire, and the bottom surface of the lead portion is resin-sealed with a sealing resin as an upper surface side of the lead frame, and the lead is formed. A step of injecting a sealing resin into a thin step portion of the cut portion of the lead portion of the frame to form a sealing resin on the bottom surface of the cut portion of the lead portion of the frame; A resin-encapsulated semiconductor device in which a step of removing a sheet from the lead frame and cutting the upper surface of the cut portion of the lead with a blade and cutting the cut portion together with a sealing resin formed on the bottom surface of the cut portion; And a method for manufacturing a resin-encapsulated semiconductor device.

【0023】また、本発明の樹脂封止型半導体装置の製
造方法は、金属板よりなるフレーム本体と、前記フレー
ム本体の略中央領域内に配設された半導体素子搭載用の
ダイパッド部と、先端部で前記ダイパッド部を支持し、
他端部でフレーム枠と接続した吊りリード部と、少なく
とも先端部が前記ダイパッド部に向かって延在し、他端
部が前記フレーム枠と接続したリード部と、前記リード
部の前記フレーム枠と接続した領域近傍に設けられ、他
のリード部分よりも薄厚の切断部とよりなるリードフレ
ームを用意する工程と、前記用意したリードフレームの
前記ダイパッド部上に半導体素子を搭載する工程と、前
記ダイパッド部上に搭載した前記半導体素子の主面上の
電極パッドと、前記リードフレームのリード部の各上面
とを金属細線により接続する工程と、封止金型として、
前記リードフレームの表面側に当接し、前記リードフレ
ームのリード部の切断部に相当する部分に彫り込み部を
有した第1の金型と、前記第1の金型とともに前記リー
ドフレームを挟み込む第2の金型とを用意する工程と、
前記リードフレームの裏面側の少なくともリード部の各
底面に封止シートを密着させる工程と、前記第1の金型
と第2の金型との間に前記リードフレームを載置し、少
なくとも前記リードフレームのリード部の端部に押圧力
を付加し、前記リード部の底面を前記封止シートに押圧
した状態で封止樹脂を注入して、前記リードフレームの
上面側として前記半導体素子、ダイパッド部、金属細
線、および前記リード部の底面を除く領域を封止樹脂に
より樹脂封止するとともに、前記リードフレームの前記
リード部の切断部の薄厚による段差部分と前記第1の金
型の彫り込み部とに封止樹脂を注入して前記フレームの
リード部の切断部上下面に封止樹脂を形成する工程と、
樹脂封止後に前記封止シートを前記リードフレームより
除去する工程と、前記リードの切断部上面に対してブレ
ードによる切削を行い、前記切断部上下面に形成した封
止樹脂と共に切断部を切断して樹脂封止型半導体装置を
得る工程とよりなる樹脂封止型半導体装置の製造方法で
ある。
Further, the method of manufacturing a resin-encapsulated semiconductor device according to the present invention is characterized in that a frame main body made of a metal plate, a die pad portion for mounting a semiconductor element disposed in a substantially central region of the frame main body, Support the die pad part with the part,
A hanging lead connected to the frame at the other end, at least a leading end extending toward the die pad, and a lead connected to the frame at the other end, and the frame of the lead; A step of preparing a lead frame provided in the vicinity of the connected region and having a cut portion thinner than other lead portions; a step of mounting a semiconductor element on the die pad portion of the prepared lead frame; An electrode pad on the main surface of the semiconductor element mounted on the part, a step of connecting each upper surface of the lead part of the lead frame with a thin metal wire, and as a sealing mold,
A first mold that is in contact with the front surface side of the lead frame and has an engraved portion in a portion corresponding to a cut portion of a lead portion of the lead frame; and a second mold that sandwiches the lead frame together with the first mold. A step of preparing a mold and
A step of adhering a sealing sheet to at least each bottom surface of the lead portion on the back surface side of the lead frame, and placing the lead frame between the first mold and the second mold; A pressing force is applied to the ends of the lead portions of the frame, a sealing resin is injected in a state where the bottom surface of the lead portion is pressed against the sealing sheet, and the semiconductor element and the die pad portion are used as the upper surface side of the lead frame. A thin metal wire, and a region excluding the bottom surface of the lead portion is resin-sealed with a sealing resin, and a step portion due to a thin thickness of a cut portion of the lead portion of the lead frame and a carved portion of the first mold are formed. Forming a sealing resin on the upper and lower surfaces of the cut portion of the lead portion of the frame by injecting the sealing resin into the
The step of removing the sealing sheet from the lead frame after resin sealing, and cutting the upper surface of the cut portion of the lead with a blade, and cutting the cut portion together with the sealing resin formed on the upper and lower surfaces of the cut portion. And a step of obtaining a resin-encapsulated semiconductor device.

【0024】また、本発明の樹脂封止型半導体装置の製
造方法は、金属板よりなるフレーム本体と、前記フレー
ム本体の略中央領域内に配設された半導体素子搭載用の
ダイパッド部と、先端部で前記ダイパッド部を支持し、
他端部でフレーム枠と接続した吊りリード部と、少なく
とも先端部が前記ダイパッド部に向かって延在し、他端
部が前記フレーム枠と接続したリード部と、前記リード
部の前記フレーム枠と接続した領域近傍に設けられ、他
のリード部分よりも薄厚の切断部とよりなるリードフレ
ームを用意する工程と、前記用意したリードフレームの
前記ダイパッド部上に半導体素子を搭載する工程と、前
記ダイパッド部上に搭載した前記半導体素子の主面上の
電極パッドと、前記リードフレームのリード部の各上面
とを金属細線により接続する工程と、封止金型として、
前記リードフレームの表面側に当接し、前記リードフレ
ームのリード部の切断部に相当する部分に彫り込み部を
有した第1の金型と、前記第1の金型とともに前記リー
ドフレームを挟み込む第2の金型とを用意する工程と、
前記リードフレームの裏面側の少なくともリード部の各
底面に封止シートを密着させる工程と、前記第1の金型
と第2の金型との間に前記リードフレームを載置し、少
なくとも前記リードフレームのリード部の端部に押圧力
を付加し、前記リード部の底面を前記封止シートに押圧
した状態で封止樹脂を注入して、前記リードフレームの
上面側として前記半導体素子、ダイパッド部、金属細
線、および前記リード部の底面を除く領域を封止樹脂に
より樹脂封止するとともに、前記リードフレームの前記
リード部の切断部の薄厚による段差部分と前記第1の金
型の彫り込み部とに封止樹脂を注入して前記フレームの
リード部の切断部上下面に封止樹脂を形成する工程と、
樹脂封止後に前記封止シートを前記リードフレームより
除去する工程と、前記リードの切断部上面に対してブレ
ードによる切削を行い、前記切断部上下面に形成した封
止樹脂と共に切断部を切断し、さらに前記切削の経路に
対して逆方向にブレードにより切削して往復切断して樹
脂封止型半導体装置を分離する工程とよりなる樹脂封止
型半導体装置の製造方法である。
Further, according to the method of manufacturing a resin-encapsulated semiconductor device of the present invention, there are provided a frame body made of a metal plate, a die pad portion for mounting a semiconductor element disposed in a substantially central region of the frame body, Support the die pad part with the part,
A hanging lead connected to the frame at the other end, at least a leading end extending toward the die pad, and a lead connected to the frame at the other end, and the frame of the lead; A step of preparing a lead frame provided in the vicinity of the connected region and having a cut portion thinner than other lead portions; a step of mounting a semiconductor element on the die pad portion of the prepared lead frame; An electrode pad on the main surface of the semiconductor element mounted on the part, a step of connecting each upper surface of the lead part of the lead frame with a thin metal wire, and as a sealing mold,
A first mold that is in contact with the front surface side of the lead frame and has an engraved portion in a portion corresponding to a cut portion of a lead portion of the lead frame; and a second mold that sandwiches the lead frame together with the first mold. A step of preparing a mold and
A step of adhering a sealing sheet to at least each bottom surface of the lead portion on the back surface side of the lead frame, and placing the lead frame between the first mold and the second mold; A pressing force is applied to the ends of the lead portions of the frame, a sealing resin is injected in a state where the bottom surface of the lead portion is pressed against the sealing sheet, and the semiconductor element and the die pad portion are used as the upper surface side of the lead frame. A thin metal wire, and a region excluding the bottom surface of the lead portion is resin-sealed with a sealing resin, and a step portion due to a thin thickness of a cut portion of the lead portion of the lead frame and a carved portion of the first mold are formed. Forming a sealing resin on the upper and lower surfaces of the cut portion of the lead portion of the frame by injecting the sealing resin into the
The step of removing the sealing sheet from the lead frame after resin sealing, and cutting the upper surface of the cut portion of the lead with a blade, and cutting the cut portion together with the sealing resin formed on the upper and lower surfaces of the cut portion. And a step of separating the resin-encapsulated semiconductor device by cutting in a direction opposite to the cutting path with a blade and reciprocating cutting to separate the resin-encapsulated semiconductor device.

【0025】前記構成の通り、本発明の樹脂封止型半導
体装置の製造方法は、ブレードによるリードカットによ
り、生産性を高め、リードフレーム、基板から樹脂封止
型半導体装置を分離する際の切断工程でリード部、封止
樹脂部に欠陥、欠損の発生を防止できるものである。
As described above, the method for manufacturing a resin-encapsulated semiconductor device according to the present invention increases the productivity by cutting the lead with a blade, and performs cutting when separating the resin-encapsulated semiconductor device from the lead frame and substrate. In the process, defects and defects can be prevented from occurring in the lead portion and the sealing resin portion.

【0026】さらに樹脂封止した後のリードフレームに
対して、リード切断して樹脂封止型半導体装置を分離す
る際、切断するリード部の上部、または下部、または上
下部に封止樹脂を形成し、その状態で封止樹脂と共にリ
ードカットするため、リード端面へのカエリ部の発生を
防止できるものである。また、第1の切削の経路に対し
て逆方向にブレードにより第2の切削を行い、切断部を
往復で共切りすることにより、リード部の切断した端面
にカエリが発生したとしても、さらに第2の切削を行
い、その第1の切削で発生した縦カエリ部および横カエ
リ部を除去でき、カエリ部の発生のない樹脂封止型半導
体装置を得ることができるものである。
Furthermore, when the lead frame after resin sealing is cut to separate the resin-encapsulated semiconductor device by a lead, a sealing resin is formed on the upper, lower, or upper and lower portions of the lead portion to be cut. In this state, since the lead is cut together with the sealing resin, the occurrence of burrs on the lead end face can be prevented. Further, even if burrs are generated on the cut end surface of the lead portion by performing the second cutting with a blade in the direction opposite to the first cutting path and cutting the cut portion reciprocally, the second cut is further performed. 2 is performed, the vertical flash portion and the horizontal flash portion generated in the first cutting can be removed, and a resin-encapsulated semiconductor device free of the flash portion can be obtained.

【0027】[0027]

【発明の実施の形態】以下、本発明のリードフレームと
それを用いた樹脂封止型半導体装置の製造方法の一実施
形態について図面を参照しながら説明する。
DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS An embodiment of a lead frame according to the present invention and a method for manufacturing a resin-encapsulated semiconductor device using the same will be described below with reference to the drawings.

【0028】まず本実施形態のリードフレームについて
説明する。
First, the lead frame of this embodiment will be described.

【0029】図1は本実施形態のリードフレームの一部
分を示す図であり、図1(a)は平面図であり、図1
(b)は図1(a)のC−C1箇所の断面図である。
FIG. 1 is a view showing a part of the lead frame of the present embodiment, and FIG. 1 (a) is a plan view, and FIG.
FIG. 2B is a cross-sectional view taken along a line C-C1 in FIG.

【0030】図1に示すように、本実施形態のリードフ
レームは、フレーム枠1と、そのフレーム枠1内に、半
導体素子が載置される矩形状のダイパッド部2と、ダイ
パッド部2の角部をその先端部で支持し、端部がフレー
ム枠1と接続した吊りリード部3と、半導体素子を載置
した場合、その載置した半導体素子と金属細線等の接続
手段により電気的に接続するビーム状のリード部4とよ
り構成されている。そしてリード部4は、封止樹脂で封
止された際、封止樹脂部に埋設される部分はインナーリ
ード部4aを構成し、封止樹脂部より露出する部分はア
ウターリード部4bを構成するものであり、インナーリ
ード部4aとアウターリード部4bとは、一体で連続し
て設けられている。図1において、破線で示した領域
は、半導体素子を搭載して樹脂封止型半導体装置を構成
する場合、封止樹脂で封止する領域を示しており、また
一点鎖線で示した部分は、半導体素子を搭載して樹脂封
止し、樹脂封止型半導体装置を構成した後、リード部4
(アウターリード部4b)を切断する切断部5を示して
いる。
As shown in FIG. 1, the lead frame according to the present embodiment includes a frame 1, a rectangular die pad 2 on which a semiconductor element is mounted, and a corner of the die pad 2. When the semiconductor element is mounted on the suspension lead 3 whose end is connected to the frame frame 1 and the semiconductor element is mounted, the semiconductor chip is electrically connected to the mounted semiconductor element by connecting means such as a thin metal wire. And a beam-shaped lead portion 4. When the lead portion 4 is sealed with the sealing resin, a portion embedded in the sealing resin portion constitutes an inner lead portion 4a, and a portion exposed from the sealing resin portion constitutes an outer lead portion 4b. The inner lead portion 4a and the outer lead portion 4b are provided integrally and continuously. In FIG. 1, a region indicated by a broken line indicates a region to be sealed with a sealing resin when a semiconductor element is mounted to form a resin-encapsulated semiconductor device, and a portion indicated by a dashed line indicates After the semiconductor element is mounted and resin-sealed to form a resin-sealed semiconductor device, the lead 4
The cutting portion 5 that cuts the (outer lead portion 4b) is shown.

【0031】また、本実施形態のリードフレームは、図
1(b)に示すように、ダイパッド部2は吊りリード部
3によって支持されているが、その吊りリード部3に設
けたディプレス部によってダイパッド部2がリード部4
上面に対して上方に配置されるよう、アップセットされ
ているものである。
In the lead frame of this embodiment, as shown in FIG. 1B, the die pad portion 2 is supported by the suspension lead portion 3, and the die pad portion is provided by the depress portion provided on the suspension lead portion 3. Die pad 2 is lead 4
It is upset so as to be disposed above the upper surface.

【0032】なお、リードフレームは、図1に示した構
成よりなるパターンが1つではなく、複数個、左右、上
下に連続して配列されるものである。
The lead frame is not a single pattern having the structure shown in FIG. 1, but a plurality of patterns arranged continuously in the left, right, up and down directions.

【0033】次に本実施形態のリードフレームを用いた
樹脂封止型半導体装置について説明する。図2は、図1
に示したリードフレームを用いた樹脂封止型半導体装置
を示す図であり、図2(a)は、内部構成を破線で示し
た透視平面図であり、図2(b)は図2(a)のD−D
1箇所の断面図である。
Next, a resin-sealed semiconductor device using the lead frame of this embodiment will be described. FIG. 2 shows FIG.
2A is a diagram showing a resin-encapsulated semiconductor device using the lead frame shown in FIG. 2A, FIG. 2A is a perspective plan view showing the internal configuration by a broken line, and FIG. ) DD
It is sectional drawing of one place.

【0034】図2に示すように、リードフレームのダイ
パッド部2上に半導体素子6が搭載され、その半導体素
子6とリード部4のインナーリード部4aとが金属細線
7により電気的に接続されている。そしてダイパッド部
2上の半導体素子6、インナーリード部4aの外囲は封
止樹脂8により封止されている。そしてそのリード部4
(インナーリード部4a)の底面部分は封止樹脂8の底
面からスタンドオフを有して露出して、外部端子9を構
成している。なお、封止樹脂8の側面からはアウターリ
ード部4bが露出しているが、実質的に封止樹脂8の側
面と同一面である。
As shown in FIG. 2, a semiconductor element 6 is mounted on the die pad section 2 of the lead frame, and the semiconductor element 6 and the inner lead section 4a of the lead section 4 are electrically connected by a thin metal wire 7. I have. The outer periphery of the semiconductor element 6 and the inner lead portion 4a on the die pad portion 2 is sealed with a sealing resin 8. And the lead part 4
The bottom portion of the (inner lead portion 4 a) is exposed with a standoff from the bottom surface of the sealing resin 8 to form an external terminal 9. Although the outer lead portions 4b are exposed from the side surfaces of the sealing resin 8, they are substantially the same as the side surfaces of the sealing resin 8.

【0035】次に本実施形態の樹脂封止型半導体装置の
製造方法について説明する。
Next, a method of manufacturing the resin-encapsulated semiconductor device of this embodiment will be described.

【0036】まず図3に示すように、フレーム枠と、そ
のフレーム枠内に、半導体素子が載置される矩形状であ
って、アップセットされたダイパッド部2と、ダイパッ
ド部2の角部をその先端部で支持し、端部がフレーム枠
と接続した吊りリード部と、半導体素子を載置した場
合、その載置した半導体素子と金属細線等の接続手段に
より電気的に接続するビーム状のリード部4とを有した
リードフレームを用意する。
First, as shown in FIG. 3, a frame frame, a rectangular die pad portion 2 in which a semiconductor element is placed in the frame frame, and an upset die pad portion 2 and a corner portion of the die pad portion 2 are formed. A suspension lead supported at its tip and connected to the frame frame at the end, and a beam-shaped beam electrically connected to the mounted semiconductor element by a connecting means such as a thin metal wire when the semiconductor element is mounted. A lead frame having the lead portion 4 is prepared.

【0037】そして図4に示すように、ダイパッド部2
上に銀ペースト等の接着剤により半導体素子6を搭載し
ボンディングする。
Then, as shown in FIG.
The semiconductor element 6 is mounted thereon with an adhesive such as a silver paste and bonded.

【0038】次に図5に示すように、ダイパッド部2上
に搭載された半導体素子6の表面の電極パッド(図示せ
ず)とリード部4のインナーリード部4aとを金属細線
7により電気的に接続する。
Next, as shown in FIG. 5, an electrode pad (not shown) on the surface of the semiconductor element 6 mounted on the die pad section 2 and an inner lead section 4a of the lead section 4 are electrically connected by a thin metal wire 7. Connect to

【0039】次に図6に示すように、半導体素子6が搭
載された状態のリードフレームの少なくともリード部4
の底面に封止シート10を密着させる。この封止シート
10はリード部4の底面に封止樹脂が回り込まないよう
に保護し、リード部4の底面を露出させるための部材で
ある。
Next, as shown in FIG. 6, at least the lead portion 4 of the lead frame with the semiconductor element 6 mounted thereon.
The sealing sheet 10 is brought into close contact with the bottom surface of. The sealing sheet 10 is a member for protecting the sealing resin from flowing around the bottom surface of the lead portion 4 and exposing the bottom surface of the lead portion 4.

【0040】次に図7に示すように、リードフレームを
金型内に載置し、金型によりリード部4を封止シート1
0に対して押圧した状態でエポキシ系樹脂よりなる封止
樹脂8を注入し、リードフレームの外囲としてダイパッ
ド部2、半導体素子6、リード部4の上面領域と金属細
線7の接続領域を封止する。図8には外囲を封止樹脂8
で封止した状態を示している。
Next, as shown in FIG. 7, the lead frame is placed in a mold, and the lead 4 is sealed with the sealing sheet 1 by the mold.
A sealing resin 8 made of an epoxy resin is injected in a state where the sealing member 8 is pressed against the upper surface of the die pad portion 2, the semiconductor element 6, and the connection region of the upper surface region of the lead portion 4 and the connection region of the thin metal wire 7. Stop. In FIG.
Shows the state sealed with.

【0041】次に図9に示すように、リードフレームの
リード部4の底面に密着させていた封止シート10をピ
ールオフ等により除去する。
Next, as shown in FIG. 9, the sealing sheet 10 adhered to the bottom surface of the lead portion 4 of the lead frame is removed by peel-off or the like.

【0042】次に図10に示すように、リード部4の切
断部5に対して、回転ブレード11でリードカットを行
う。なお、ここで使用するブレード11の幅は通常、ウ
ェハーのダイシングで使用するブレードと同様な100
[μm]程度である。
Next, as shown in FIG. 10, the cutting section 5 of the lead section 4 is subjected to lead cutting by the rotating blade 11. Incidentally, the width of the blade 11 used here is usually 100 mm, which is the same as that of the blade used in dicing a wafer.
[Μm].

【0043】そして図11に示すように、リードフレー
ムのダイパッド部2上に半導体素子6が搭載され、その
半導体素子6とリード部4のインナーリード部4aとが
金属細線7により電気的に接続され、外囲が封止樹脂8
により封止され、そしてそのリード部4(インナーリー
ド部4a)の底面部分は封止樹脂8の底面からスタンド
オフを有して露出して、外部端子9を構成するととも
に、封止樹脂8の側面からはアウターリード部4bが露
出し、実質的に封止樹脂8の側面と同一面を構成した樹
脂封止型半導体装置を得るものである。
As shown in FIG. 11, the semiconductor element 6 is mounted on the die pad 2 of the lead frame, and the semiconductor element 6 and the inner lead 4a of the lead 4 are electrically connected by the thin metal wire 7. , The surrounding is the sealing resin 8
And the bottom surface of the lead portion 4 (inner lead portion 4a) is exposed with a standoff from the bottom surface of the sealing resin 8 to form the external terminal 9 and to form the external terminal 9. The outer lead portion 4b is exposed from the side surface, and a resin-sealed semiconductor device having substantially the same surface as the side surface of the sealing resin 8 is obtained.

【0044】以上、本実施形態のリードフレームを用い
て樹脂封止型半導体装置を製造する際、樹脂封止後のリ
ードカット工程では、金型の切断刃に代えて、基板ダイ
シング等で用いるような回転ブレード11で切削して切
断することにより、切断されるリード部4(切断部5)
に対しては、切断時の押圧力による衝撃が印加されず、
リード部4、そのリード部4近傍の封止樹脂8に対する
ダメージを解消してリードカットすることができる。そ
のため、リード部、封止樹脂部に欠陥、欠損の発生をな
くして信頼性の高い樹脂封止型半導体装置を得ることが
できる。
As described above, when manufacturing a resin-sealed semiconductor device using the lead frame of the present embodiment, in the lead cutting step after resin sealing, the semiconductor device is used for substrate dicing or the like instead of the cutting blade of the mold. Lead portion 4 (cut portion 5) that is cut by cutting with a simple rotating blade 11
, The impact due to the pressing force at the time of cutting is not applied,
The lead portion 4 and the sealing resin 8 in the vicinity of the lead portion 4 can be damaged and the lead can be cut. Therefore, a highly reliable resin-encapsulated semiconductor device can be obtained by eliminating defects and defects in the lead portion and the encapsulation resin portion.

【0045】次に本実施形態の樹脂封止型半導体装置の
製造方法で得られた樹脂封止型半導体装置に起こり得る
別の課題について説明する。
Next, another problem which may occur in the resin-encapsulated semiconductor device obtained by the method of manufacturing a resin-encapsulated semiconductor device according to the present embodiment will be described.

【0046】図12は本実施形態の樹脂封止型半導体装
置の課題を示す断面図である。図12に示す樹脂封止型
半導体装置は、基本構成は前記した図2に示した樹脂封
止型半導体装置と同様であるが、製造過程において、回
転ブレードでリード部4の切断部5を切削してリードカ
ットしているため、回転ブレードによる回転力とリード
部4の素材である金属材料との関係により、切断したリ
ード部4のアウターリード部4bの面に金属材によるカ
エリ部12(金属バリ)が形成されてしまう。このカエ
リ部12により、樹脂封止型半導体装置を基板実装する
際、実装不良を誘発したり、ハンダ接合時のハンダブリ
ッジを起こしたりする可能性があり、カエリ部12が発
生しないようリードカット、または発生したカエリ部1
2を除去する必要性が生じている。なお、図12では、
カエリ部12は、リード部4の底面側に示しているが、
リード部4の側面側、およびリード部4の上面側にも発
生する場合もある。
FIG. 12 is a sectional view showing the problem of the resin-encapsulated semiconductor device of this embodiment. The resin-encapsulated semiconductor device shown in FIG. 12 has the same basic configuration as that of the resin-encapsulated semiconductor device shown in FIG. 2, except that the cutting portion 5 of the lead portion 4 is cut by a rotating blade in the manufacturing process. The lead portion 4 is formed by cutting the lead portion 4 of the cut lead portion 4 with the burrs 12 (metal) on the surface of the outer lead portion 4b of the cut lead portion 4 due to the relationship between the rotating force of the rotating blade and the metal material that is the material of the lead portion 4. Burrs) are formed. When the resin-encapsulated semiconductor device is mounted on a substrate, the burrs 12 may cause a mounting failure or cause a solder bridge at the time of solder bonding. Or the burrs that occurred 1
2 has to be removed. In FIG. 12,
The burrs 12 are shown on the bottom side of the lead 4,
It may also occur on the side surface of the lead portion 4 and on the upper surface side of the lead portion 4.

【0047】通常、カエリ部12の発生要因としては、
リード切断で用いる回転ブレードの切削によって、リー
ド部4を構成している材料である金属材(例えばCu
材)がはね上げられ、金属材の一部が薄膜状に突出し、
カエリ部12として切断されたリード部4の端面に残留
するものと考えられる。
Normally, factors that cause the burrs 12 include:
The metal material (for example, Cu
Material) is flipped up, and a part of the metal material protrudes in the form of a thin film,
It is considered that the burrs 12 remain on the end surface of the cut lead 4.

【0048】以下、本発明の樹脂封止型半導体装置の製
造方法について、主としてリード部4の側面側と底面側
とに発生するカエリ部12の除去、またはそれ自体の発
生を防止する実施形態について、課題解決における実施
形態として図面を参照しながら説明する。
Hereinafter, a method of manufacturing a resin-encapsulated semiconductor device according to the present invention will be described with respect to an embodiment in which the flash portion 12 generated mainly on the side surface and the bottom surface of the lead portion 4 or the generation of the flash portion 12 itself is prevented. Embodiments for solving the problems will be described with reference to the drawings.

【0049】まず課題解決の第1の実施形態について説
明する。
First, a first embodiment for solving the problem will be described.

【0050】図13〜図21は、本実施形態の樹脂封止
型半導体装置の製造方法を示す工程ごとの断面図であ
る。なお、本実施形態で用いるリードフレームは図1に
示したリードフレームと同様な構成である。
FIGS. 13 to 21 are sectional views showing the steps of a method for manufacturing a resin-sealed semiconductor device according to this embodiment. The lead frame used in the present embodiment has the same configuration as the lead frame shown in FIG.

【0051】まず図13に示すように、フレーム枠と、
そのフレーム枠内に、半導体素子が載置される矩形状で
あって、アップセットされたダイパッド部2と、ダイパ
ッド部2の角部をその先端部で支持し、端部がフレーム
枠と接続した吊りリード部と、半導体素子を載置した場
合、その載置した半導体素子と金属細線等の接続手段に
より電気的に接続するビーム状のリード部4とを有した
リードフレームを用意する。
First, as shown in FIG.
In the frame, the die pad 2 having a rectangular shape on which the semiconductor element is mounted, and the upset die pad 2 and the corners of the die pad 2 were supported at the tip end, and the end was connected to the frame. When a semiconductor element is mounted, a lead frame having a suspended lead part and a beam-shaped lead part 4 electrically connected to the mounted semiconductor element by a connecting means such as a thin metal wire is prepared.

【0052】そして図14に示すように、ダイパッド部
2上に銀ペースト等の接着剤により半導体素子6を搭載
しボンディングする。
Then, as shown in FIG. 14, the semiconductor element 6 is mounted on the die pad portion 2 with an adhesive such as a silver paste and bonded.

【0053】次に図15に示すように、ダイパッド部2
上に搭載された半導体素子6の表面の電極パッド(図示
せず)とリード部4のインナーリード部4aとを金属細
線7により電気的に接続する。
Next, as shown in FIG.
The electrode pads (not shown) on the surface of the semiconductor element 6 mounted thereon are electrically connected to the inner lead portions 4 a of the lead portions 4 by the thin metal wires 7.

【0054】次に図16に示すように、半導体素子6が
搭載された状態のリードフレームの少なくともリード部
4の底面に封止シート10を密着させる。この封止シー
ト10はリード部4の底面に封止樹脂が回り込まないよ
うに保護し、リード部4の底面を露出させるための部材
である。
Next, as shown in FIG. 16, the sealing sheet 10 is brought into close contact with at least the bottom surface of the lead portion 4 of the lead frame on which the semiconductor element 6 is mounted. The sealing sheet 10 is a member for protecting the sealing resin from flowing around the bottom surface of the lead portion 4 and exposing the bottom surface of the lead portion 4.

【0055】次に図17に示すように、第1の金型13
と第2の金型(図示せず)との金型よりなる封止金型内
にリードフレームを載置し、第1の金型13によりリー
ド部4を封止シート10に対して押圧した状態でエポキ
シ系樹脂よりなる封止樹脂8を注入し、リードフレーム
の外囲としてダイパッド部2、半導体素子6、リード部
4の上面領域と金属細線7の接続領域を封止する。な
お、ここで使用する第1の金型13は、リードフレーム
の表面側に当接し、リードフレームのリード部4の切断
部に相当する部分に彫り込み部14を有した金型であ
り、リード部4の切断部を含む上面領域に封止樹脂を形
成する構成を有したものである。
Next, as shown in FIG.
The lead frame was placed in a sealing mold composed of a mold and a second mold (not shown), and the lead 4 was pressed against the sealing sheet 10 by the first mold 13. In this state, a sealing resin 8 made of an epoxy resin is injected to seal the die pad portion 2, the semiconductor element 6, the upper surface region of the lead portion 4, and the connection region of the thin metal wire 7 as the outer periphery of the lead frame. The first mold 13 used here is a mold that comes into contact with the front side of the lead frame and has an engraved portion 14 in a portion corresponding to a cut portion of the lead portion 4 of the lead frame. The sealing resin is formed in the upper surface region including the cut portion of No. 4.

【0056】図18には外囲を封止樹脂8で封止した状
態を示し、リード部4の切断部に相当する部分に彫り込
み部14による封止樹脂8aが形成されている。
FIG. 18 shows a state in which the outer periphery is sealed with a sealing resin 8, and a sealing resin 8 a by a carved portion 14 is formed in a portion corresponding to a cut portion of the lead portion 4.

【0057】次に図19に示すように、リードフレーム
のリード部4の底面に密着させていた封止シート10を
ピールオフ等により除去する。
Next, as shown in FIG. 19, the sealing sheet 10 adhered to the bottom surface of the lead portion 4 of the lead frame is removed by peel-off or the like.

【0058】次に図20に示すように、リード部4の切
断箇所に対して、回転ブレード11でリードカットを行
う。なお、ここで使用するブレード11の幅は通常、ウ
ェハーのダイシングで使用するブレードと同様な100
[μm]程度である。そしてこのリードカットではリー
ド部4とともにその上面に形成された封止樹脂8aとと
もに共切りを行うものである。
Next, as shown in FIG. 20, the lead blade 4 is cut at the cut portion of the lead portion 4 by the rotating blade 11. Incidentally, the width of the blade 11 used here is usually 100 mm, which is the same as that of the blade used in dicing a wafer.
[Μm]. In this lead cutting, joint cutting is performed together with the lead portion 4 and the sealing resin 8a formed on the upper surface thereof.

【0059】そして図21に示すように、リードフレー
ムのダイパッド部2上に半導体素子6が搭載され、その
半導体素子6とリード部4のインナーリード部4aとが
金属細線7により電気的に接続され、外囲が封止樹脂8
により封止され、そしてそのリード部4(インナーリー
ド部4a)の底面部分は封止樹脂8の底面からスタンド
オフを有して露出して、外部端子9を構成するととも
に、封止樹脂8の側面からはアウターリード部4bが露
出し、封止樹脂8の側面と同一面を構成した樹脂封止型
半導体装置を得るものである。そして特にアウターリー
ド部4b上には封止樹脂8aが金型形成による段差を有
して形成されているものである。またリード部4の端
面、特にリード部4の端面の上部にはカエリ部の発生は
ない。
As shown in FIG. 21, the semiconductor element 6 is mounted on the die pad 2 of the lead frame, and the semiconductor element 6 and the inner lead 4a of the lead 4 are electrically connected by the thin metal wire 7. , The surrounding is the sealing resin 8
And the bottom surface of the lead portion 4 (inner lead portion 4a) is exposed with a standoff from the bottom surface of the sealing resin 8 to form the external terminal 9 and to form the external terminal 9. The outer lead portion 4b is exposed from the side surface, and a resin-sealed semiconductor device having the same surface as the side surface of the sealing resin 8 is obtained. In particular, the sealing resin 8a is formed on the outer lead portion 4b so as to have a step due to the mold. In addition, no burrs are formed on the end face of the lead portion 4, particularly on the upper portion of the end face of the lead portion 4.

【0060】以上、本実施形態では、樹脂封止した後の
リードフレームに対して、リード切断して樹脂封止型半
導体装置を分離する際、リード部の切断部を含む領域に
封止樹脂を形成し、その封止樹脂を介在させて回転ブレ
ードによってリード部を共切りしてフルカットして樹脂
封止型半導体装置を分離するため、リード部の切断した
端面へのカエリ部の発生を防止してリードカットできる
ものである。しかも短時間によるリードカットが可能で
あり、生産性を高めることができる。
As described above, in the present embodiment, when the lead frame after resin sealing is cut to separate the resin sealed semiconductor device, the sealing resin is applied to the region including the cut portion of the lead portion. Formed, with the sealing resin interposed, cut the lead part together with a rotating blade and full cut to separate the resin-encapsulated semiconductor device, preventing the occurrence of burrs on the cut end surface of the lead part Can be lead cut. Moreover, lead cutting can be performed in a short time, and productivity can be increased.

【0061】次に課題解決の第2の実施形態について説
明する。
Next, a second embodiment for solving the problem will be described.

【0062】図22〜図30は、本実施形態の樹脂封止
型半導体装置の製造方法を示す工程ごとの断面図であ
る。なお、本実施形態で用いるリードフレームは図1に
示したリードフレームと同様な構成であるが、リード部
4のフレーム枠1と接続した領域近傍であって、切断部
5を含む領域には他のリード部分よりも厚みが薄い薄厚
部が形成されているものである。
FIGS. 22 to 30 are cross-sectional views showing the steps of a method for manufacturing the resin-encapsulated semiconductor device of this embodiment. The lead frame used in the present embodiment has the same configuration as the lead frame shown in FIG. 1, but the vicinity of the region of the lead portion 4 connected to the frame 1 and the region including the cutting portion 5 include A thin portion having a thickness smaller than that of the lead portion is formed.

【0063】まず図22に示すように、フレーム枠と、
そのフレーム枠内に、半導体素子が載置される矩形状で
あって、アップセットされたダイパッド部2と、ダイパ
ッド部2の角部をその先端部で支持し、端部がフレーム
枠と接続した吊りリード部と、半導体素子を載置した場
合、その載置した半導体素子と金属細線等の接続手段に
より電気的に接続するビーム状のリード部4とを有し、
リード部4のフレーム枠1と接続した領域近傍であっ
て、切断部を含む領域には他のリード部分よりも厚みが
薄い薄厚部15が形成されたリードフレームを用意す
る。
First, as shown in FIG. 22, a frame
In the frame, the die pad 2 having a rectangular shape on which the semiconductor element is mounted, and the upset die pad 2 and the corners of the die pad 2 were supported at the tip end, and the end was connected to the frame. A hanging lead portion, and a beam-shaped lead portion 4 that is electrically connected to the mounted semiconductor element by a connecting means such as a thin metal wire when the semiconductor element is mounted,
In a region near the region where the lead portion 4 is connected to the frame 1 and including the cut portion, a lead frame having a thin portion 15 having a smaller thickness than other lead portions is prepared.

【0064】そして図23に示すように、ダイパッド部
2上に銀ペースト等の接着剤により半導体素子6を搭載
しボンディングする。
Then, as shown in FIG. 23, the semiconductor element 6 is mounted on the die pad portion 2 with an adhesive such as a silver paste and bonded.

【0065】次に図24に示すように、ダイパッド部2
上に搭載された半導体素子6の表面の電極パッド(図示
せず)とリード部4のインナーリード部4aとを金属細
線7により電気的に接続する。
Next, as shown in FIG.
The electrode pads (not shown) on the surface of the semiconductor element 6 mounted thereon are electrically connected to the inner lead portions 4 a of the lead portions 4 by the thin metal wires 7.

【0066】次に図25に示すように、半導体素子6が
搭載された状態のリードフレームの少なくともリード部
4の底面に封止シート10を密着させる。この封止シー
ト10はリード部4の底面に封止樹脂が回り込まないよ
うに保護し、リード部4の底面を露出させるための部材
である。
Next, as shown in FIG. 25, the sealing sheet 10 is brought into close contact with at least the bottom surface of the lead portion 4 of the lead frame on which the semiconductor element 6 is mounted. The sealing sheet 10 is a member for protecting the sealing resin from flowing around the bottom surface of the lead portion 4 and exposing the bottom surface of the lead portion 4.

【0067】次に図26に示すように、第1の金型13
と第2の金型(図示せず)との金型よりなる封止金型内
にリードフレームを載置し、第1の金型13によりリー
ド部4を封止シート10に対して押圧した状態でエポキ
シ系樹脂よりなる封止樹脂8を注入し、リードフレーム
の外囲としてダイパッド部2、半導体素子6、リード部
4の上面領域と金属細線7の接続領域を封止する。な
お、ここで使用する第1の金型13は、リードフレーム
の表面側に当接し、リードフレームのリード部4の切断
部に相当する部分に彫り込み部14を有した金型であ
り、リード部4の切断部を含む上面領域に封止樹脂を形
成する構成を有したものである。
Next, as shown in FIG.
The lead frame was placed in a sealing mold composed of a mold and a second mold (not shown), and the lead 4 was pressed against the sealing sheet 10 by the first mold 13. In this state, a sealing resin 8 made of an epoxy resin is injected to seal the die pad portion 2, the semiconductor element 6, the upper surface region of the lead portion 4, and the connection region of the thin metal wire 7 as the outer periphery of the lead frame. The first mold 13 used here is a mold that comes into contact with the front side of the lead frame and has an engraved portion 14 in a portion corresponding to a cut portion of the lead portion 4 of the lead frame. The sealing resin is formed in the upper surface region including the cut portion of No. 4.

【0068】図27には外囲を封止樹脂8で封止した状
態を示し、リード部4の切断部に相当する部分に彫り込
み部14による封止樹脂8aが形成され、リード部4の
下面の薄厚部15には、その段差分の封止樹脂8bが形
成されている。
FIG. 27 shows a state in which the outer periphery is sealed with a sealing resin 8. A sealing resin 8 a is formed by a carved portion 14 at a portion corresponding to a cut portion of the lead portion 4, and the lower surface of the lead portion 4 is formed. In the thin portion 15, the sealing resin 8b of the step difference is formed.

【0069】次に図28に示すように、リードフレーム
のリード部4の底面に密着させていた封止シート10を
ピールオフ等により除去する。
Next, as shown in FIG. 28, the sealing sheet 10 adhered to the bottom surface of the lead portion 4 of the lead frame is removed by peel-off or the like.

【0070】次に図29に示すように、リード部4の切
断箇所に対して、回転ブレード11でリードカットを行
う。なお、ここで使用するブレード11の幅は通常、ウ
ェハーのダイシングで使用するブレードと同様な100
[μm]程度である。そしてこのリードカットではリー
ド部4とともにその上面に形成された封止樹脂8a、お
よび下面に形成された封止樹脂8bとともに共切りを行
うものである。
Next, as shown in FIG. 29, a lead cut is performed on the cut portion of the lead portion 4 by the rotating blade 11. Incidentally, the width of the blade 11 used here is usually 100 mm, which is the same as that of the blade used in dicing a wafer.
[Μm]. In this lead cutting, joint cutting is performed together with the sealing resin 8a formed on the upper surface thereof together with the lead portion 4 and the sealing resin 8b formed on the lower surface thereof.

【0071】そして図30に示すように、リードフレー
ムのダイパッド部2上に半導体素子6が搭載され、その
半導体素子6とリード部4のインナーリード部4aとが
金属細線7により電気的に接続され、外囲が封止樹脂8
により封止され、そしてそのリード部4(インナーリー
ド部4a)の底面部分は封止樹脂8の底面からスタンド
オフを有して露出して、外部端子9を構成するととも
に、封止樹脂8の側面からはアウターリード部4bが露
出し、封止樹脂8の側面と同一面を構成した樹脂封止型
半導体装置を得るものである。そして特にアウターリー
ド部4b上部には封止樹脂8aが金型形成による段差を
有して形成され、アウターリード部4b下部には封止樹
脂8bがその薄厚部15による段差を有して形成されて
いるものである。またリード部4の端面、特にリード部
4の端面の上部および下部にはカエリ部の発生はない。
As shown in FIG. 30, the semiconductor element 6 is mounted on the die pad section 2 of the lead frame, and the semiconductor element 6 and the inner lead section 4a of the lead section 4 are electrically connected by the thin metal wire 7. , The surrounding is the sealing resin 8
And the bottom surface of the lead portion 4 (inner lead portion 4a) is exposed with a standoff from the bottom surface of the sealing resin 8 to form the external terminal 9 and to form the external terminal 9. The outer lead portion 4b is exposed from the side surface, and a resin-sealed semiconductor device having the same surface as the side surface of the sealing resin 8 is obtained. In particular, a sealing resin 8a is formed above the outer lead portion 4b so as to have a step due to the formation of a mold, and a sealing resin 8b is formed below the outer lead portion 4b so as to have a step due to the thin portion 15. Is what it is. In addition, no burrs are formed on the end face of the lead portion 4, especially on the upper and lower portions of the end face of the lead portion 4.

【0072】以上、本実施形態では、樹脂封止した後の
リードフレームに対して、リード切断して樹脂封止型半
導体装置を分離する際、リード部の切断部を含む領域の
上下部に封止樹脂を形成し、その封止樹脂を介在させて
回転ブレードによってリード部を共切りしてフルカット
して樹脂封止型半導体装置を分離するため、リード部の
切断した端面へのカエリ部の発生を防止してリードカッ
トできるものである。しかも短時間によるリードカット
が可能であり、生産性を高めることができる。また本実
施形態では前記した第1の実施形態に加えて、切断する
リード部の下部にも共切り用の樹脂を介在させて切断す
るため、よりカエリ部の発生を防止できるものである。
As described above, in this embodiment, when the lead frame after resin sealing is separated by cutting the lead into the resin-sealed semiconductor device, the lead frame is sealed above and below the region including the cut portion of the lead portion. To form a stop resin, cut the lead portion together with a rotary blade with the sealing resin interposed, and fully cut to separate the resin-encapsulated semiconductor device, insert the burrs on the cut end surface of the lead portion. It can lead-cut while preventing occurrence. Moreover, lead cutting can be performed in a short time, and productivity can be increased. In addition, in this embodiment, in addition to the above-described first embodiment, the cutting is performed with the cutting resin interposed also at the lower portion of the lead portion to be cut, so that the occurrence of the flash portion can be further prevented.

【0073】また本実施形態では、リード部4の切断す
る領域を含む領域の下部にリード部4の厚みを他よりも
薄い薄厚部15を形成したリードフレームを用い、さら
にリード部の切断する領域を含む領域の上部に封止樹脂
を形成するために彫り込み部14を有した金型で封止
し、リード部4の切断する領域の上下部には封止樹脂8
a,8bを形成して共切りしてリードカットした例を示
したが、リード部4の切断する領域を含む領域の下部に
リード部4の厚みを他よりも薄い薄厚部15を形成した
リードフレームを用いて、通常の金型によって封止し、
リード部4の下部にのみ封止樹脂を形成して共切りして
もよい。この場合、特にリード部4の切断面の端面下部
に発生するカエリ部を防止できるものである。
In this embodiment, a lead frame is used in which a thin portion 15 having a thickness smaller than that of the lead portion 4 is formed below a region including a region where the lead portion 4 is cut, and a region where the lead portion is cut. In order to form a sealing resin on the upper part of the region including the sealing resin 14, sealing is performed with a mold having an engraved portion 14.
An example is shown in which the lead portions 4a and 8b are formed, and the lead portions are cut by joint cutting. However, a lead in which the thickness of the lead portion 4 is thinner than the other portions is formed below the region including the region where the lead portion 4 is cut. Using a frame, seal with a normal mold,
The sealing resin may be formed only at the lower part of the lead portion 4 and cut off together. In this case, it is possible to prevent burrs generated particularly below the end face of the cut surface of the lead portion 4.

【0074】次に課題解決の第3の実施形態について説
明する。
Next, a third embodiment for solving the problem will be described.

【0075】図31〜図41は、本実施形態の樹脂封止
型半導体装置の製造方法を示す工程ごとの断面図であ
る。なお、本実施形態で用いるリードフレームは図1に
示したリードフレームと同様な構成であるが、リード部
4のフレーム枠1と接続した領域近傍であって、切断部
5を含む領域には他のリード部分よりも厚みが薄い薄厚
部が形成されているものである。また本実施形態の製造
方法は基本的には前記した第2の実施形態の工程と同様
であり、往復カットする構成が加わったものである。
FIGS. 31 to 41 are cross-sectional views showing the steps of a method for manufacturing a resin-encapsulated semiconductor device according to this embodiment. The lead frame used in the present embodiment has the same configuration as the lead frame shown in FIG. 1, but the vicinity of the region of the lead portion 4 connected to the frame 1 and the region including the cutting portion 5 include A thin portion having a thickness smaller than that of the lead portion is formed. The manufacturing method of the present embodiment is basically the same as that of the above-described second embodiment, and has a reciprocating cut configuration.

【0076】まず図31に示すように、フレーム枠と、
そのフレーム枠内に、半導体素子が載置される矩形状で
あって、アップセットされたダイパッド部2と、ダイパ
ッド部2の角部をその先端部で支持し、端部がフレーム
枠と接続した吊りリード部と、半導体素子を載置した場
合、その載置した半導体素子と金属細線等の接続手段に
より電気的に接続するビーム状のリード部4とを有し、
リード部4のフレーム枠1と接続した領域近傍であっ
て、切断部を含む領域には他のリード部分よりも厚みが
薄い薄厚部15が形成されたリードフレームを用意す
る。
First, as shown in FIG. 31, a frame
In the frame, the die pad 2 having a rectangular shape on which the semiconductor element is mounted, and the upset die pad 2 and the corners of the die pad 2 were supported at the tip end, and the end was connected to the frame. A hanging lead portion, and a beam-shaped lead portion 4 that is electrically connected to the mounted semiconductor element by a connecting means such as a thin metal wire when the semiconductor element is mounted,
In a region near the region where the lead portion 4 is connected to the frame 1 and including the cut portion, a lead frame having a thin portion 15 having a smaller thickness than other lead portions is prepared.

【0077】そして図32に示すように、ダイパッド部
2上に銀ペースト等の接着剤により半導体素子6を搭載
しボンディングする。
Then, as shown in FIG. 32, the semiconductor element 6 is mounted on the die pad portion 2 with an adhesive such as silver paste and bonded.

【0078】次に図33に示すように、ダイパッド部2
上に搭載された半導体素子6の表面の電極パッド(図示
せず)とリード部4のインナーリード部4aとを金属細
線7により電気的に接続する。
Next, as shown in FIG.
The electrode pads (not shown) on the surface of the semiconductor element 6 mounted thereon are electrically connected to the inner lead portions 4 a of the lead portions 4 by the thin metal wires 7.

【0079】次に図34に示すように、半導体素子6が
搭載された状態のリードフレームの少なくともリード部
4の底面に封止シート10を密着させる。この封止シー
ト10はリード部4の底面に封止樹脂が回り込まないよ
うに保護し、リード部4の底面を露出させるための部材
である。
Next, as shown in FIG. 34, the sealing sheet 10 is brought into close contact with at least the bottom surface of the lead portion 4 of the lead frame on which the semiconductor element 6 is mounted. The sealing sheet 10 is a member for protecting the sealing resin from flowing around the bottom surface of the lead portion 4 and exposing the bottom surface of the lead portion 4.

【0080】次に図35に示すように、第1の金型13
と第2の金型(図示せず)との金型よりなる封止金型内
にリードフレームを載置し、第1の金型13によりリー
ド部4を封止シート10に対して押圧した状態でエポキ
シ系樹脂よりなる封止樹脂8を注入し、リードフレーム
の外囲としてダイパッド部2、半導体素子6、リード部
4の上面領域と金属細線7の接続領域を封止する。な
お、ここで使用する第1の金型13は、リードフレーム
の表面側に当接し、リードフレームのリード部4の切断
部に相当する部分に彫り込み部14を有した金型であ
り、リード部4の切断部を含む上面領域に封止樹脂を形
成する構成を有したものである。
Next, as shown in FIG.
The lead frame was placed in a sealing mold composed of a mold and a second mold (not shown), and the lead 4 was pressed against the sealing sheet 10 by the first mold 13. In this state, a sealing resin 8 made of an epoxy resin is injected to seal the die pad portion 2, the semiconductor element 6, the upper surface region of the lead portion 4, and the connection region of the thin metal wire 7 as the outer periphery of the lead frame. The first mold 13 used here is a mold that comes into contact with the front side of the lead frame and has an engraved portion 14 in a portion corresponding to a cut portion of the lead portion 4 of the lead frame. The sealing resin is formed in the upper surface region including the cut portion of No. 4.

【0081】図36には外囲を封止樹脂8で封止した状
態を示し、リード部4の切断部に相当する部分に彫り込
み部14による封止樹脂8aが形成され、リード部4の
下面の薄厚部15には、その段差分の封止樹脂8bが形
成されている。
FIG. 36 shows a state in which the outer periphery is sealed with a sealing resin 8. A sealing resin 8 a is formed by a carved portion 14 at a portion corresponding to a cut portion of the lead portion 4. In the thin portion 15, the sealing resin 8b of the step difference is formed.

【0082】次に図37に示すように、リードフレーム
のリード部4の底面に密着させていた封止シート10を
ピールオフ等により除去する。
Next, as shown in FIG. 37, the sealing sheet 10 adhered to the bottom surface of the lead portion 4 of the lead frame is removed by peel-off or the like.

【0083】次に図38に示すように、リード部4の切
断箇所に対して、回転ブレード11で第1の切削による
リードカットを行う。なお、ここで使用するブレード1
1の幅は通常、ウェハーのダイシングで使用するブレー
ドと同様な100[μm]程度である。そしてこのリー
ドカットではリード部4とともにその上面に形成された
封止樹脂8a、および下面に形成された封止樹脂8bと
ともに共切りを行うものである。
Next, as shown in FIG. 38, a lead cut by a first cutting is performed by the rotating blade 11 on the cut portion of the lead portion 4. The blade 1 used here
The width of 1 is usually about 100 [μm] similar to a blade used in dicing a wafer. In this lead cutting, joint cutting is performed together with the sealing resin 8a formed on the upper surface thereof together with the lead portion 4 and the sealing resin 8b formed on the lower surface thereof.

【0084】そして図39,図40に示すように、リー
ド部4の前記第1の切削で形成した溝の経路に対して、
逆方向にブレード11により復路で第2の切削を行い、
往復切断する。
As shown in FIGS. 39 and 40, the path of the groove formed by the first cutting of the lead portion 4 is
The second cutting is performed in the backward direction by the blade 11 in the reverse direction,
Cut back and forth.

【0085】そして図41に示すように、リードフレー
ムのダイパッド部2上に半導体素子6が搭載され、その
半導体素子6とリード部4のインナーリード部4aとが
金属細線7により電気的に接続され、外囲が封止樹脂8
により封止され、そしてそのリード部4(インナーリー
ド部4a)の底面部分は封止樹脂8の底面からスタンド
オフを有して露出して、外部端子9を構成するととも
に、封止樹脂8の側面からはアウターリード部4bが露
出し、封止樹脂8の側面と同一面を構成した樹脂封止型
半導体装置を得るものである。そして特にアウターリー
ド部4b上部には封止樹脂8aが金型形成による段差を
有して形成され、アウターリード部4b下部には封止樹
脂8bがその薄厚部15による段差を有して形成されて
いるものである。またリード部4の端面、特にリード部
4の端面の上部および下部にはカエリ部の発生はない。
As shown in FIG. 41, the semiconductor element 6 is mounted on the die pad section 2 of the lead frame, and the semiconductor element 6 and the inner lead section 4a of the lead section 4 are electrically connected by the thin metal wire 7. , The surrounding is the sealing resin 8
And the bottom surface of the lead portion 4 (inner lead portion 4a) is exposed with a standoff from the bottom surface of the sealing resin 8 to form the external terminal 9 and to form the external terminal 9. The outer lead portion 4b is exposed from the side surface, and a resin-sealed semiconductor device having the same surface as the side surface of the sealing resin 8 is obtained. In particular, a sealing resin 8a is formed above the outer lead portion 4b so as to have a step due to the formation of a mold, and a sealing resin 8b is formed below the outer lead portion 4b so as to have a step due to the thin portion 15. Is what it is. In addition, no burrs are formed on the end face of the lead portion 4, especially on the upper and lower portions of the end face of the lead portion 4.

【0086】以上、本実施形態では、樹脂封止した後の
リードフレームに対して、リード切断して樹脂封止型半
導体装置を分離する際、リード部の切断部を含む領域の
上下部に封止樹脂を形成し、その封止樹脂を介在させて
回転ブレードによってリード部を共切りしてフルカット
して樹脂封止型半導体装置を分離するため、リード部の
切断した端面へのカエリ部の発生を防止してリードカッ
トできるものである。しかも短時間によるリードカット
が可能であり、生産性を高めることができる。また本実
施形態では前記した第1の実施形態に加えて、切断する
リード部の下部にも共切り用の樹脂を介在させて往復切
断するため、よりカエリ部の発生を防止できるものであ
る。
As described above, according to the present embodiment, when the lead frame after resin sealing is cut to separate the resin-encapsulated semiconductor device, the lead frame is sealed above and below the region including the cut portion of the lead portion. To form a stop resin, cut the lead portion together with a rotary blade with the sealing resin interposed, and fully cut to separate the resin-encapsulated semiconductor device, insert the burrs on the cut end surface of the lead portion. It can lead-cut while preventing occurrence. Moreover, lead cutting can be performed in a short time, and productivity can be increased. Further, in this embodiment, in addition to the above-described first embodiment, since reciprocating cutting is performed with the same cutting resin intervening also at the lower part of the lead portion to be cut, generation of a flash portion can be further prevented.

【0087】なお、各実施形態において、切断時のブレ
ードの回転数、被切断物の送り速度、ブレードのサイ
ズ、ブレード材質等については、適宜、最適値を設定す
る。また、使用する回転ブレードについても、通常のダ
イシングに使用する断面がU型または平坦なブレード以
外に、断面形状がV型のブレードを用いてもよい。
In each embodiment, optimal values are set as appropriate for the number of rotations of the blade at the time of cutting, the feed speed of the object to be cut, the size of the blade, the material of the blade, and the like. As for the rotating blade to be used, a blade having a V-shaped cross section may be used in addition to a blade having a U-shaped or flat cross-section used for ordinary dicing.

【0088】さらに各実施形態では、フレーム枠内に1
つのダイパッド部と、それに対向して配置された複数の
リード部とにより構成されたユニットをその領域内に複
数ユニットを有したリードフレームに対して、各ユニッ
トごとに樹脂封止してパッケージ部を構成し、各ユニッ
ト間に露出したリード部をその切断部で切断する例を示
したが、本実施形態で示したように、リード部に対して
徐々に切削を行い、またその切削をブレードの形状、
幅、切断する面の方向を変えてリードカットを実施する
手段によって、一括成形としてリードフレーム内の各ユ
ニットを包括して全面樹脂封止し、各ユニット間のリー
ド部の上面、すなわち各ユニット間のリード部の切断部
に封止樹脂が形成された場合においても、同様な作用効
果を奏するものである。
Further, in each embodiment, one frame is included in the frame.
A package consisting of one die pad and a plurality of leads arranged opposite to each other is sealed with a resin for each unit with respect to a lead frame having a plurality of units in the area. An example in which the lead portion exposed between the units is cut by the cut portion is shown, but as shown in the present embodiment, the lead portion is gradually cut, and the cut is performed on the blade. shape,
By means of performing lead cutting by changing the width and the direction of the cutting surface, all the units in the lead frame are comprehensively molded and resin-encapsulated as a whole, and the upper surface of the lead portion between each unit, that is, between each unit The same operation and effect can be obtained even when the sealing resin is formed in the cut portion of the lead portion.

【0089】[0089]

【発明の効果】以上、本発明の樹脂封止型半導体装置の
製造方法において、樹脂封止後のリードカット工程で
は、金型の切断刃に代えて、基板ダイシング等で用いる
ような回転ブレードで切削して切断することにより、切
断されるリード部に対しては、切断時の押圧力による衝
撃が印加されず、リード部、そのリード部近傍の封止樹
脂に対するダメージを解消してリードカットすることが
できる。そのため、リード部、封止樹脂部に欠陥、欠損
の発生をなくして信頼性の高い樹脂封止型半導体装置を
得ることができる。
As described above, in the method of manufacturing a resin-encapsulated semiconductor device of the present invention, in the lead cutting step after resin encapsulation, a rotary blade used for substrate dicing or the like is used instead of the cutting blade of the mold. By cutting and cutting, an impact due to the pressing force at the time of cutting is not applied to the lead portion to be cut, and the lead portion and the sealing resin in the vicinity of the lead portion are eliminated to cut the lead. be able to. Therefore, a highly reliable resin-encapsulated semiconductor device can be obtained by eliminating defects and defects in the lead portion and the encapsulation resin portion.

【0090】さらに樹脂封止した後のリードフレームに
対して、リード切断して樹脂封止型半導体装置を分離す
る際、切断するリード部の上部、または下部、または上
下部に封止樹脂を形成し、その状態で封止樹脂と共にリ
ードカットすることにより、リード端面へのカエリ部の
発生を防止できるものである。さらに、第1の切削の経
路に対して逆方向にブレードにより第2の切削を行い、
切断部を往復で共切りすることにより、リード部の切断
した端面にカエリが発生したとしても、さらに第2の切
削を行い、その第1の切削で発生した縦カエリ部および
横カエリ部を除去できるものである。
Further, when separating the resin-encapsulated semiconductor device by cutting the lead from the lead frame after resin encapsulation, an encapsulating resin is formed above, below, or above and below the lead portion to be cut. Then, by performing lead cutting together with the sealing resin in this state, it is possible to prevent the occurrence of burrs on the lead end faces. Further, a second cutting is performed by a blade in a direction opposite to a path of the first cutting,
By cutting the cut portion back and forth, even if burrs occur on the cut end surface of the lead portion, a second cutting is further performed to remove the vertical burrs and the horizontal burrs generated by the first cutting. You can do it.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明の一実施形態のリードフレームを示す図FIG. 1 is a view showing a lead frame according to an embodiment of the present invention;

【図2】本発明の一実施形態の樹脂封止型半導体装置を
示す図
FIG. 2 is a diagram showing a resin-sealed semiconductor device according to one embodiment of the present invention;

【図3】本発明の一実施形態の樹脂封止型半導体装置の
製造方法を示す断面図
FIG. 3 is a cross-sectional view illustrating a method for manufacturing a resin-sealed semiconductor device according to one embodiment of the present invention.

【図4】本発明の一実施形態の樹脂封止型半導体装置の
製造方法を示す断面図
FIG. 4 is a cross-sectional view illustrating a method for manufacturing a resin-sealed semiconductor device according to one embodiment of the present invention.

【図5】本発明の一実施形態の樹脂封止型半導体装置の
製造方法を示す断面図
FIG. 5 is a sectional view showing the method for manufacturing the resin-sealed semiconductor device according to the embodiment of the present invention;

【図6】本発明の一実施形態の樹脂封止型半導体装置の
製造方法を示す断面図
FIG. 6 is a sectional view showing the method of manufacturing the resin-sealed semiconductor device according to one embodiment of the present invention;

【図7】本発明の一実施形態の樹脂封止型半導体装置の
製造方法を示す断面図
FIG. 7 is a sectional view showing the method of manufacturing the resin-sealed semiconductor device according to one embodiment of the present invention;

【図8】本発明の一実施形態の樹脂封止型半導体装置の
製造方法を示す断面図
FIG. 8 is a sectional view showing the method for manufacturing the resin-encapsulated semiconductor device according to one embodiment of the present invention;

【図9】本発明の一実施形態の樹脂封止型半導体装置の
製造方法を示す断面図
FIG. 9 is a sectional view showing the method of manufacturing the resin-sealed semiconductor device according to one embodiment of the present invention;

【図10】本発明の一実施形態の樹脂封止型半導体装置
の製造方法を示す断面図
FIG. 10 is a sectional view showing the method of manufacturing the resin-sealed semiconductor device according to one embodiment of the present invention;

【図11】本発明の一実施形態の樹脂封止型半導体装置
の製造方法を示す断面図
FIG. 11 is a sectional view showing the method of manufacturing the resin-encapsulated semiconductor device according to one embodiment of the present invention;

【図12】本発明の一実施形態の樹脂封止型半導体装置
の課題を示す断面図
FIG. 12 is a sectional view showing a problem of the resin-sealed semiconductor device according to the embodiment of the present invention;

【図13】本発明の一実施形態の樹脂封止型半導体装置
の製造方法を示す断面図
FIG. 13 is a sectional view showing the method of manufacturing the resin-encapsulated semiconductor device according to one embodiment of the present invention;

【図14】本発明の一実施形態の樹脂封止型半導体装置
の製造方法を示す断面図
FIG. 14 is a sectional view showing the method of manufacturing the resin-sealed semiconductor device according to one embodiment of the present invention;

【図15】本発明の一実施形態の樹脂封止型半導体装置
の製造方法を示す断面図
FIG. 15 is a sectional view showing the method of manufacturing the resin-encapsulated semiconductor device according to one embodiment of the present invention;

【図16】本発明の一実施形態の樹脂封止型半導体装置
の製造方法を示す断面図
FIG. 16 is a sectional view showing the method of manufacturing the resin-encapsulated semiconductor device according to one embodiment of the present invention;

【図17】本発明の一実施形態の樹脂封止型半導体装置
の製造方法を示す断面図
FIG. 17 is a sectional view showing the method of manufacturing the resin-encapsulated semiconductor device according to one embodiment of the present invention;

【図18】本発明の一実施形態の樹脂封止型半導体装置
の製造方法を示す断面図
FIG. 18 is a sectional view showing the method of manufacturing the resin-sealed semiconductor device according to one embodiment of the present invention;

【図19】本発明の一実施形態の樹脂封止型半導体装置
の製造方法を示す断面図
FIG. 19 is a sectional view showing the method of manufacturing the resin-encapsulated semiconductor device according to one embodiment of the present invention;

【図20】本発明の一実施形態の樹脂封止型半導体装置
の製造方法を示す断面図
FIG. 20 is a sectional view showing the method of manufacturing the resin-encapsulated semiconductor device according to one embodiment of the present invention;

【図21】本発明の一実施形態の樹脂封止型半導体装置
の製造方法を示す断面図
FIG. 21 is a sectional view showing the method of manufacturing the resin-sealed semiconductor device according to one embodiment of the present invention;

【図22】本発明の一実施形態の樹脂封止型半導体装置
の製造方法を示す断面図
FIG. 22 is a sectional view showing the method of manufacturing the resin-encapsulated semiconductor device according to one embodiment of the present invention;

【図23】本発明の一実施形態の樹脂封止型半導体装置
の製造方法を示す断面図
FIG. 23 is a sectional view showing the method of manufacturing the resin-encapsulated semiconductor device according to one embodiment of the present invention;

【図24】本発明の一実施形態の樹脂封止型半導体装置
の製造方法を示す断面図
FIG. 24 is a sectional view showing the method of manufacturing the resin-encapsulated semiconductor device according to one embodiment of the present invention;

【図25】本発明の一実施形態の樹脂封止型半導体装置
の製造方法を示す断面図
FIG. 25 is a sectional view showing the method of manufacturing the resin-encapsulated semiconductor device according to one embodiment of the present invention;

【図26】本発明の一実施形態の樹脂封止型半導体装置
の製造方法を示す断面図
FIG. 26 is a sectional view showing the method of manufacturing the resin-encapsulated semiconductor device according to one embodiment of the present invention;

【図27】本発明の一実施形態の樹脂封止型半導体装置
の製造方法を示す断面図
FIG. 27 is a sectional view showing the method of manufacturing the resin-encapsulated semiconductor device according to one embodiment of the present invention;

【図28】本発明の一実施形態の樹脂封止型半導体装置
の製造方法を示す断面図
FIG. 28 is a sectional view showing the method of manufacturing the resin-sealed semiconductor device according to one embodiment of the present invention;

【図29】本発明の一実施形態の樹脂封止型半導体装置
の製造方法を示す断面図
FIG. 29 is a sectional view showing the method of manufacturing the resin-encapsulated semiconductor device according to one embodiment of the present invention;

【図30】本発明の一実施形態の樹脂封止型半導体装置
の製造方法を示す断面図
FIG. 30 is a sectional view showing the method of manufacturing the resin-encapsulated semiconductor device according to one embodiment of the present invention;

【図31】本発明の一実施形態の樹脂封止型半導体装置
の製造方法を示す断面図
FIG. 31 is a sectional view showing the method of manufacturing the resin-encapsulated semiconductor device according to one embodiment of the present invention;

【図32】本発明の一実施形態の樹脂封止型半導体装置
の製造方法を示す断面図
FIG. 32 is a sectional view showing the method of manufacturing the resin-encapsulated semiconductor device according to one embodiment of the present invention;

【図33】本発明の一実施形態の樹脂封止型半導体装置
の製造方法を示す断面図
FIG. 33 is a sectional view showing the method of manufacturing the resin-encapsulated semiconductor device according to one embodiment of the present invention;

【図34】本発明の一実施形態の樹脂封止型半導体装置
の製造方法を示す断面図
FIG. 34 is a sectional view showing the method of manufacturing the resin-encapsulated semiconductor device according to one embodiment of the present invention;

【図35】本発明の一実施形態の樹脂封止型半導体装置
の製造方法を示す断面図
FIG. 35 is a sectional view showing the method of manufacturing the resin-encapsulated semiconductor device according to one embodiment of the present invention;

【図36】本発明の一実施形態の樹脂封止型半導体装置
の製造方法を示す断面図
FIG. 36 is a sectional view showing the method of manufacturing the resin-encapsulated semiconductor device according to one embodiment of the present invention;

【図37】本発明の一実施形態の樹脂封止型半導体装置
の製造方法を示す断面図
FIG. 37 is a sectional view showing the method of manufacturing the resin-encapsulated semiconductor device according to one embodiment of the present invention;

【図38】本発明の一実施形態の樹脂封止型半導体装置
の製造方法を示す断面図
FIG. 38 is a sectional view showing the method of manufacturing the resin-encapsulated semiconductor device according to one embodiment of the present invention;

【図39】本発明の一実施形態の樹脂封止型半導体装置
の製造方法を示す断面図
FIG. 39 is a sectional view showing the method of manufacturing the resin-encapsulated semiconductor device according to one embodiment of the present invention;

【図40】本発明の一実施形態の樹脂封止型半導体装置
の製造方法を示す断面図
FIG. 40 is a sectional view showing the method of manufacturing the resin-encapsulated semiconductor device according to one embodiment of the present invention;

【図41】本発明の一実施形態の樹脂封止型半導体装置
の製造方法を示す断面図
FIG. 41 is a sectional view showing the method of manufacturing the resin-encapsulated semiconductor device according to one embodiment of the present invention;

【図42】従来のリードフレームを示す図FIG. 42 is a view showing a conventional lead frame.

【図43】従来の樹脂封止型半導体装置を示す図FIG. 43 shows a conventional resin-encapsulated semiconductor device.

【図44】従来の樹脂封止型半導体装置の製造方法を示
す断面図
FIG. 44 is a cross-sectional view showing a method for manufacturing a conventional resin-encapsulated semiconductor device.

【図45】従来の樹脂封止型半導体装置の製造方法を示
す断面図
FIG. 45 is a sectional view showing a method of manufacturing a conventional resin-encapsulated semiconductor device.

【図46】従来の樹脂封止型半導体装置の製造方法を示
す断面図
FIG. 46 is a sectional view showing a method of manufacturing a conventional resin-encapsulated semiconductor device.

【図47】従来の樹脂封止型半導体装置の製造方法を示
す断面図
FIG. 47 is a cross-sectional view showing a method for manufacturing a conventional resin-encapsulated semiconductor device.

【図48】従来の樹脂封止型半導体装置の製造方法を示
す断面図
FIG. 48 is a sectional view showing a method of manufacturing a conventional resin-encapsulated semiconductor device.

【図49】従来の樹脂封止型半導体装置の製造方法を示
す断面図
FIG. 49 is a cross-sectional view showing a method for manufacturing a conventional resin-encapsulated semiconductor device.

【図50】従来の樹脂封止型半導体装置の製造方法を示
す断面図
FIG. 50 is a sectional view showing a method of manufacturing a conventional resin-encapsulated semiconductor device.

【図51】従来の樹脂封止型半導体装置の製造方法を示
す断面図
FIG. 51 is a sectional view showing a method of manufacturing a conventional resin-encapsulated semiconductor device.

【図52】従来の樹脂封止型半導体装置の製造方法を示
す断面図
FIG. 52 is a cross-sectional view showing a method for manufacturing a conventional resin-encapsulated semiconductor device.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 フレーム枠 2 ダイパッド部 3 吊りリード部 4 リード部 5 切断部 6 半導体素子 7 金属細線 8 封止樹脂 9 外部端子 10 封止シート 11 回転ブレード 12 カエリ部 13 第1の金型 14 彫り込み部 15 薄厚部 101 フレーム枠 102 ダイパッド部 103 吊りリード部 104 リード部 105 半導体素子 106 金属細線 107 封止樹脂 108 外部端子 109 封止シート 110 切断部 111 切断刃 DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Frame frame 2 Die pad part 3 Suspended lead part 4 Lead part 5 Cutting part 6 Semiconductor element 7 Thin metal wire 8 Sealing resin 9 External terminal 10 Sealing sheet 11 Rotating blade 12 Flash part 13 First mold 14 Engraved part 15 Thin thickness Part 101 Frame frame 102 Die pad part 103 Suspended lead part 104 Lead part 105 Semiconductor element 106 Fine metal wire 107 Sealing resin 108 External terminal 109 Sealing sheet 110 Cutting part 111 Cutting blade

フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 FI テーマコート゛(参考) H01L 23/28 H01L 23/28 A (72)発明者 内海 勝喜 大阪府高槻市幸町1番1号 松下電子工業 株式会社内 (72)発明者 安達 修 大阪府高槻市幸町1番1号 松下電子工業 株式会社内 (72)発明者 松尾 隆広 大阪府高槻市幸町1番1号 松下電子工業 株式会社内 Fターム(参考) 4M109 AA01 BA01 CA21 DA10 FA00 5F061 AA01 BA01 CA21 CB12 CB13 EA03 5F067 AA01 AA09 AB04 BC12 BD05 BD10 DB00 DE14 Continuation of the front page (51) Int.Cl. 7 Identification symbol FI Theme coat II (Reference) H01L 23/28 H01L 23/28 A (72) Inventor Katsuki Utsumi 1-1, Kochicho, Takatsuki-shi, Osaka Matsushita Electronics Co., Ltd. Inside the company (72) Inventor Osamu Adachi 1-1, Sachimachi, Takatsuki-shi, Osaka Matsushita Electronics Corporation Inside (72) Inventor Takahiro Matsuo 1-1, Sachimachi, Takatsuki-shi, Osaka Matsushita Electronics Corporation Inside F-term (Reference) 4M109 AA01 BA01 CA21 DA10 FA00 5F061 AA01 BA01 CA21 CB12 CB13 EA03 5F067 AA01 AA09 AB04 BC12 BD05 BD10 DB00 DE14

Claims (4)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 金属板よりなるフレーム本体と、前記フ
レーム本体の略中央領域内に配設された半導体素子搭載
用のダイパッド部と、先端部で前記ダイパッド部を支持
し、他端部でフレーム枠と接続した吊りリード部と、少
なくとも先端部が前記ダイパッド部に向かって延在し、
他端部が前記フレーム枠と接続したリード部と、前記リ
ード部のフレーム枠と接続した領域近傍に設けられた切
断部とよりなるリードフレームを用意する工程と、前記
用意したリードフレームの前記ダイパッド部上に半導体
素子を搭載する工程と、前記ダイパッド部上に搭載した
前記半導体素子の主面上の電極パッドと、前記リードフ
レームのリード部の各上面とを金属細線により接続する
工程と、封止金型として、前記リードフレームの表面側
に当接し、前記リードフレームのリード部の切断部に相
当する部分に彫り込み部を有した第1の金型と、前記第
1の金型とともに前記リードフレームを挟み込む第2の
金型とを用意する工程と、前記リードフレームの裏面側
の少なくともリード部の各底面に封止シートを密着させ
る工程と、前記第1の金型と第2の金型との間に前記リ
ードフレームを載置し、少なくとも前記リードフレーム
のリード部の端部に押圧力を付加し、前記リード部の底
面を前記封止シートに押圧した状態で封止樹脂を注入し
て、前記リードフレームの上面側として前記半導体素
子、ダイパッド部、金属細線、および前記リード部の底
面を除く領域を封止樹脂により樹脂封止するとともに、
前記第1の金型の彫り込み部に封止樹脂を注入して前記
フレームのリード部の切断部上に封止樹脂を形成する工
程と、樹脂封止後に前記封止シートを前記リードフレー
ムより除去する工程と、前記リードの切断部上面に対し
てブレードによる切削を行い、前記切断部上に形成され
た封止樹脂と共に切断部を切断して樹脂封止型半導体装
置を得る工程とよりなることを特徴とする樹脂封止型半
導体装置の製造方法。
1. A frame main body made of a metal plate, a die pad portion for mounting a semiconductor element disposed in a substantially central region of the frame main body, and the die pad portion is supported at a front end portion, and the frame is supported at the other end portion. Suspended lead portion connected to the frame, at least the tip portion extends toward the die pad portion,
A step of preparing a lead frame including a lead portion having the other end connected to the frame frame, and a cut portion provided near a region of the lead portion connected to the frame frame; and a die pad of the prepared lead frame. Mounting a semiconductor element on the die pad portion, connecting the electrode pads on the main surface of the semiconductor element mounted on the die pad portion and the respective upper surfaces of the lead portions of the lead frame with thin metal wires, A first mold having an engraved portion at a portion corresponding to a cut portion of a lead portion of the lead frame, the first mold being in contact with a front surface side of the lead frame; A step of preparing a second mold for sandwiching a frame; a step of bringing a sealing sheet into close contact with at least each bottom surface of the lead portion on the back side of the lead frame; The lead frame is placed between the mold and the second mold, and a pressing force is applied to at least an end of a lead portion of the lead frame, and a bottom surface of the lead portion is pressed against the sealing sheet. Injecting a sealing resin in the state, the semiconductor element as a top surface side of the lead frame, a die pad portion, a thin metal wire, and resin sealing the region except the bottom surface of the lead portion with a sealing resin,
A step of injecting a sealing resin into the engraved portion of the first mold to form a sealing resin on a cut portion of a lead portion of the frame; and removing the sealing sheet from the lead frame after resin sealing. And a step of performing cutting with a blade on the upper surface of the cut portion of the lead, and cutting the cut portion together with the sealing resin formed on the cut portion to obtain a resin-sealed semiconductor device. A method for manufacturing a resin-encapsulated semiconductor device, comprising:
【請求項2】 金属板よりなるフレーム本体と、前記フ
レーム本体の略中央領域内に配設された半導体素子搭載
用のダイパッド部と、先端部で前記ダイパッド部を支持
し、他端部でフレーム枠と接続した吊りリード部と、少
なくとも先端部が前記ダイパッド部に向かって延在し、
他端部が前記フレーム枠と接続したリード部と、前記リ
ード部の前記フレーム枠と接続した領域近傍に設けら
れ、他のリード部分よりも薄厚の切断部とよりなるリー
ドフレームを用意する工程と、前記用意したリードフレ
ームの前記ダイパッド部上に半導体素子を搭載する工程
と、前記ダイパッド部上に搭載した前記半導体素子の主
面上の電極パッドと、前記リードフレームのリード部の
各上面とを金属細線により接続する工程と、封止金型と
して、前記リードフレームの表面側に当接する第1の金
型と、前記第1の金型とともに前記リードフレームを挟
み込む第2の金型とを用意する工程と、前記リードフレ
ームの裏面側の少なくともリード部の各底面に封止シー
トを密着させる工程と、前記第1の金型と第2の金型と
の間に前記リードフレームを載置し、少なくとも前記リ
ードフレームのリード部の端部に押圧力を付加し、前記
リード部の底面を前記封止シートに押圧した状態で封止
樹脂を注入して、前記リードフレームの上面側として前
記半導体素子、ダイパッド部、金属細線、および前記リ
ード部の底面を除く領域を封止樹脂により樹脂封止する
とともに、前記リードフレームの前記リード部の切断部
の薄厚による段差部分に封止樹脂を注入して前記フレー
ムのリード部の切断部底面に封止樹脂を形成する工程
と、樹脂封止後に前記封止シートを前記リードフレーム
より除去する工程と、前記リードの切断部上面に対して
ブレードによる切削を行い、前記切断部底面に形成した
封止樹脂と共に切断部を切断して樹脂封止型半導体装置
を得る工程とよりなることを特徴とする樹脂封止型半導
体装置の製造方法。
2. A frame main body made of a metal plate, a die pad portion for mounting a semiconductor element disposed in a substantially central region of the frame main body, a tip end portion supporting the die pad portion, and the other end portion supporting the frame. Suspended lead portion connected to the frame, at least the tip portion extends toward the die pad portion,
A step of preparing a lead frame, the other end of which is connected to the frame frame, and a lead frame which is provided near the region of the lead portion connected to the frame frame and has a cut portion thinner than other lead portions; Mounting a semiconductor element on the die pad portion of the prepared lead frame, and electrode pads on a main surface of the semiconductor element mounted on the die pad portion, and each upper surface of the lead portion of the lead frame. A step of connecting with a thin metal wire, and as a sealing mold, a first mold contacting the front side of the lead frame and a second mold sandwiching the lead frame together with the first mold are prepared. Performing a sealing step on at least each of the bottom surfaces of the lead portions on the back surface side of the lead frame; and placing the lead frame between the first mold and the second mold. A sealing resin is injected in a state where a pressing force is applied to at least an end portion of the lead portion of the lead frame and the bottom surface of the lead portion is pressed against the sealing sheet, As the upper surface side, the semiconductor element, the die pad portion, the thin metal wire, and a region except the bottom surface of the lead portion are resin-sealed with a sealing resin, and a step portion due to a thin portion of the cut portion of the lead portion of the lead frame. A step of injecting a sealing resin to form a sealing resin on a bottom surface of a cut portion of a lead portion of the frame; a step of removing the sealing sheet from the lead frame after resin sealing; and a top surface of a cut portion of the lead And cutting the cutting portion together with the sealing resin formed on the bottom surface of the cutting portion to obtain a resin-sealed semiconductor device. Method of manufacturing Aburafutome type semiconductor device.
【請求項3】 金属板よりなるフレーム本体と、前記フ
レーム本体の略中央領域内に配設された半導体素子搭載
用のダイパッド部と、先端部で前記ダイパッド部を支持
し、他端部でフレーム枠と接続した吊りリード部と、少
なくとも先端部が前記ダイパッド部に向かって延在し、
他端部が前記フレーム枠と接続したリード部と、前記リ
ード部の前記フレーム枠と接続した領域近傍に設けら
れ、他のリード部分よりも薄厚の切断部とよりなるリー
ドフレームを用意する工程と、前記用意したリードフレ
ームの前記ダイパッド部上に半導体素子を搭載する工程
と、前記ダイパッド部上に搭載した前記半導体素子の主
面上の電極パッドと、前記リードフレームのリード部の
各上面とを金属細線により接続する工程と、封止金型と
して、前記リードフレームの表面側に当接し、前記リー
ドフレームのリード部の切断部に相当する部分に彫り込
み部を有した第1の金型と、前記第1の金型とともに前
記リードフレームを挟み込む第2の金型とを用意する工
程と、前記リードフレームの裏面側の少なくともリード
部の各底面に封止シートを密着させる工程と、前記第1
の金型と第2の金型との間に前記リードフレームを載置
し、少なくとも前記リードフレームのリード部の端部に
押圧力を付加し、前記リード部の底面を前記封止シート
に押圧した状態で封止樹脂を注入して、前記リードフレ
ームの上面側として前記半導体素子、ダイパッド部、金
属細線、および前記リード部の底面を除く領域を封止樹
脂により樹脂封止するとともに、前記リードフレームの
前記リード部の切断部の薄厚による段差部分と前記第1
の金型の彫り込み部とに封止樹脂を注入して前記フレー
ムのリード部の切断部上下面に封止樹脂を形成する工程
と、樹脂封止後に前記封止シートを前記リードフレーム
より除去する工程と、前記リードの切断部上面に対して
ブレードによる切削を行い、前記切断部上下面に形成し
た封止樹脂と共に切断部を切断して樹脂封止型半導体装
置を得る工程とよりなることを特徴とする樹脂封止型半
導体装置の製造方法。
3. A frame main body made of a metal plate, a die pad portion for mounting a semiconductor element disposed in a substantially central area of the frame main body, and the die pad portion is supported at a front end portion, and the frame is supported at the other end portion. Suspended lead portion connected to the frame, at least the tip portion extends toward the die pad portion,
A step of preparing a lead frame, the other end of which is connected to the frame frame, and a lead frame which is provided near the region of the lead portion connected to the frame frame and has a cut portion thinner than other lead portions; Mounting a semiconductor element on the die pad portion of the prepared lead frame, and electrode pads on a main surface of the semiconductor element mounted on the die pad portion, and each upper surface of the lead portion of the lead frame. A step of connecting with a thin metal wire, and a first mold having an engraved portion in a portion corresponding to a cut portion of a lead portion of the lead frame in contact with a surface side of the lead frame as a sealing mold, A step of preparing a second mold for sandwiching the lead frame together with the first mold; A step of adhering the door, the first
The lead frame is placed between the mold and the second mold, and a pressing force is applied to at least an end of a lead portion of the lead frame, and a bottom surface of the lead portion is pressed against the sealing sheet. In this state, a sealing resin is injected, and a region excluding the semiconductor element, the die pad portion, the fine metal wire, and the bottom surface of the lead portion is resin-sealed with a sealing resin as an upper surface side of the lead frame, and the lead is formed. A step portion formed by a thin portion of the cut portion of the lead portion of the frame;
A step of injecting a sealing resin into the engraved portion of the mold to form a sealing resin on the upper and lower surfaces of the cut portion of the lead portion of the frame, and removing the sealing sheet from the lead frame after resin sealing. And cutting the cutting portion together with the sealing resin formed on the upper and lower surfaces of the cutting portion to obtain a resin-encapsulated semiconductor device. A method for manufacturing a resin-encapsulated semiconductor device.
【請求項4】 金属板よりなるフレーム本体と、前記フ
レーム本体の略中央領域内に配設された半導体素子搭載
用のダイパッド部と、先端部で前記ダイパッド部を支持
し、他端部でフレーム枠と接続した吊りリード部と、少
なくとも先端部が前記ダイパッド部に向かって延在し、
他端部が前記フレーム枠と接続したリード部と、前記リ
ード部の前記フレーム枠と接続した領域近傍に設けら
れ、他のリード部分よりも薄厚の切断部とよりなるリー
ドフレームを用意する工程と、前記用意したリードフレ
ームの前記ダイパッド部上に半導体素子を搭載する工程
と、前記ダイパッド部上に搭載した前記半導体素子の主
面上の電極パッドと、前記リードフレームのリード部の
各上面とを金属細線により接続する工程と、封止金型と
して、前記リードフレームの表面側に当接し、前記リー
ドフレームのリード部の切断部に相当する部分に彫り込
み部を有した第1の金型と、前記第1の金型とともに前
記リードフレームを挟み込む第2の金型とを用意する工
程と、前記リードフレームの裏面側の少なくともリード
部の各底面に封止シートを密着させる工程と、前記第1
の金型と第2の金型との間に前記リードフレームを載置
し、少なくとも前記リードフレームのリード部の端部に
押圧力を付加し、前記リード部の底面を前記封止シート
に押圧した状態で封止樹脂を注入して、前記リードフレ
ームの上面側として前記半導体素子、ダイパッド部、金
属細線、および前記リード部の底面を除く領域を封止樹
脂により樹脂封止するとともに、前記リードフレームの
前記リード部の切断部の薄厚による段差部分と前記第1
の金型の彫り込み部とに封止樹脂を注入して前記フレー
ムのリード部の切断部上下面に封止樹脂を形成する工程
と、樹脂封止後に前記封止シートを前記リードフレーム
より除去する工程と、前記リードの切断部上面に対して
ブレードによる切削を行い、前記切断部上下面に形成し
た封止樹脂と共に切断部を切断し、さらに前記切削の経
路に対して逆方向にブレードにより切削して往復切断し
て樹脂封止型半導体装置を分離する工程とよりなること
を特徴とする樹脂封止型半導体装置の製造方法。
4. A frame main body made of a metal plate, a die pad portion for mounting a semiconductor element disposed in a substantially central region of the frame main body, a tip end supporting the die pad portion, and a second end supporting the frame. Suspended lead portion connected to the frame, at least the tip portion extends toward the die pad portion,
A step of preparing a lead frame, the other end of which is connected to the frame frame, and a lead frame which is provided near the region of the lead portion connected to the frame frame and has a cut portion thinner than other lead portions; Mounting a semiconductor element on the die pad portion of the prepared lead frame, and electrode pads on a main surface of the semiconductor element mounted on the die pad portion, and each upper surface of the lead portion of the lead frame. A step of connecting with a thin metal wire, and a first mold having an engraved portion in a portion corresponding to a cut portion of a lead portion of the lead frame in contact with a surface side of the lead frame as a sealing mold, A step of preparing a second mold for sandwiching the lead frame together with the first mold; A step of adhering the door, the first
The lead frame is placed between the mold and the second mold, and a pressing force is applied to at least an end of a lead portion of the lead frame, and a bottom surface of the lead portion is pressed against the sealing sheet. In this state, a sealing resin is injected, and a region excluding the semiconductor element, the die pad portion, the fine metal wire, and the bottom surface of the lead portion is resin-sealed with a sealing resin as an upper surface side of the lead frame, and the lead is formed. A step portion formed by a thin portion of the cut portion of the lead portion of the frame;
A step of injecting a sealing resin into the engraved portion of the mold to form a sealing resin on the upper and lower surfaces of the cut portion of the lead portion of the frame, and removing the sealing sheet from the lead frame after resin sealing. Process, cutting the upper surface of the cutting portion of the lead with a blade, cutting the cutting portion together with the sealing resin formed on the upper and lower surfaces of the cutting portion, and further cutting with a blade in the opposite direction to the path of the cutting And separating the resin-sealed semiconductor device by reciprocating cutting to separate the resin-sealed semiconductor device.
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