JP2001076863A - 高周波加熱装置 - Google Patents
高周波加熱装置Info
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- heated
- heating chamber
- ribs
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 被加熱物を効率よく均一に加熱する高周波加
熱装置を得ること。 【解決手段】 被加熱物１を収納する加熱室２と、高周
波を発信する高周波発信器３と、加熱室２の底壁中央部
に設けられ高周波発信器３から発信する高周波を加熱室
２に供給する給電面６と、給電面６の上方に設けられた
ロータリプレート８を備え、ロータリプレート８は、中
心部１０から外周部１１にわたって形成される２つの曲
線リブ１２、１３を有し、曲線リブ１２、１３はロータ
リプレート８の中心部１０を通る直線に対して互いに非
対称に配設されるものである。
熱装置を得ること。 【解決手段】 被加熱物１を収納する加熱室２と、高周
波を発信する高周波発信器３と、加熱室２の底壁中央部
に設けられ高周波発信器３から発信する高周波を加熱室
２に供給する給電面６と、給電面６の上方に設けられた
ロータリプレート８を備え、ロータリプレート８は、中
心部１０から外周部１１にわたって形成される２つの曲
線リブ１２、１３を有し、曲線リブ１２、１３はロータ
リプレート８の中心部１０を通る直線に対して互いに非
対称に配設されるものである。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】この発明は、加熱室の底部か
ら高周波を発信し、被加熱物の下方から高周波を照射し
て高効率で加熱する高周波加熱装置に関するものであ
る。
ら高周波を発信し、被加熱物の下方から高周波を照射し
て高効率で加熱する高周波加熱装置に関するものであ
る。
【０００２】
【従来の技術】図９は例えば実用新案登録第２５４５１
５２号公報に開示された従来例の高周波加熱装置を示す
側面断面図、図１０は上面断面図である。図において、
１５は加熱室１６を開閉するドア、１７は高周波発信
器、１８は高周波発信器１７から加熱室１６に高周波を
導く導波管、１９は導波管１８と加熱室１６との境界に
ある給電面、２０はロータリプレート２１を回転させる
モータ、２２はロータリプレート２１を回転支持するロ
ーラであり、ロータリプレート２１の下面周辺部と加熱
室１６底壁に接しながら、ロータリプレート２１の回転
に伴って円軌道上を移動し、かつローラ２２とともに移
動するリング状のローラ連結体２３で連結されている。
２４は正三角形状のマイクロ波撹拌体であり、連結体２
３に内接されている。
５２号公報に開示された従来例の高周波加熱装置を示す
側面断面図、図１０は上面断面図である。図において、
１５は加熱室１６を開閉するドア、１７は高周波発信
器、１８は高周波発信器１７から加熱室１６に高周波を
導く導波管、１９は導波管１８と加熱室１６との境界に
ある給電面、２０はロータリプレート２１を回転させる
モータ、２２はロータリプレート２１を回転支持するロ
ーラであり、ロータリプレート２１の下面周辺部と加熱
室１６底壁に接しながら、ロータリプレート２１の回転
に伴って円軌道上を移動し、かつローラ２２とともに移
動するリング状のローラ連結体２３で連結されている。
２４は正三角形状のマイクロ波撹拌体であり、連結体２
３に内接されている。
【０００３】ローラ連結体２３に設けられたマイクロ波
撹拌体２４は、ローラ連結体２３の移動に伴って給電面
１９に対する相対的位置関係が刻々と変化すると共に、
マイクロ波撹拌体２４のいずれかの箇所が常に給電面１
９上の近辺に位置する。これにより、マイクロ波の撹拌
が行われ、加熱ムラを少なくすることを可能としてい
る。
撹拌体２４は、ローラ連結体２３の移動に伴って給電面
１９に対する相対的位置関係が刻々と変化すると共に、
マイクロ波撹拌体２４のいずれかの箇所が常に給電面１
９上の近辺に位置する。これにより、マイクロ波の撹拌
が行われ、加熱ムラを少なくすることを可能としてい
る。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、従来例
の構成では、給電面上のリブの形状は刻々と形状を変化
させているが、マイクロ波撹拌体の形状が正三角形のた
め、ロータリプレートが１周回転したときに給電面上の
リブの配置形状が３回も同じ形状になる。したがって、
マイクロ波を撹拌する能力が十分ではなく、加熱ムラが
発生しやすいという問題点があった。また、ロータリプ
レートを回転させるために複雑な構造になりローラ等の
部品点数が増え、故障率が高くなり信頼性に欠けるとい
う問題点もあった。
の構成では、給電面上のリブの形状は刻々と形状を変化
させているが、マイクロ波撹拌体の形状が正三角形のた
め、ロータリプレートが１周回転したときに給電面上の
リブの配置形状が３回も同じ形状になる。したがって、
マイクロ波を撹拌する能力が十分ではなく、加熱ムラが
発生しやすいという問題点があった。また、ロータリプ
レートを回転させるために複雑な構造になりローラ等の
部品点数が増え、故障率が高くなり信頼性に欠けるとい
う問題点もあった。
【０００５】また、一般的に被加熱物は加熱室の中央付
近に設置されて、被加熱物の下方からマイクロ波を供給
することで効率よく加熱することが可能となる。しかし
ながら、従来の高周波加熱装置においては、マイクロ波
を供給する給電面が被加熱物の中央付近に設けられてい
ないため、効率よく加熱することができない。また、被
加熱物の中心より周囲にマイクロ波が多く照射されるた
め、加熱ムラが発生するという問題点があった。
近に設置されて、被加熱物の下方からマイクロ波を供給
することで効率よく加熱することが可能となる。しかし
ながら、従来の高周波加熱装置においては、マイクロ波
を供給する給電面が被加熱物の中央付近に設けられてい
ないため、効率よく加熱することができない。また、被
加熱物の中心より周囲にマイクロ波が多く照射されるた
め、加熱ムラが発生するという問題点があった。
【０００６】この発明は上記のような問題点を解決する
ものであり、被加熱物を高効率で均一に加熱することが
できる高周波加熱装置を得ることを目的とする。
ものであり、被加熱物を高効率で均一に加熱することが
できる高周波加熱装置を得ることを目的とする。
【０００７】
【課題を解決するための手段】この発明に係る高周波加
熱装置は、被加熱物を収納する加熱室と、高周波を発信
する高周波発信部と、前記加熱室の底壁中央部に設けら
れ前記高周波発信部から発信する高周波を前記加熱室に
供給する供給部と、前記供給部の上方に設けられたロー
タリプレートを備え、前記ロータリプレートは、回転中
心部から外周部にわたって形成される２つのリブを有
し、該リブはロータリプレートの中心を通る直線に対し
て互いに非対称に配設されたものである。
熱装置は、被加熱物を収納する加熱室と、高周波を発信
する高周波発信部と、前記加熱室の底壁中央部に設けら
れ前記高周波発信部から発信する高周波を前記加熱室に
供給する供給部と、前記供給部の上方に設けられたロー
タリプレートを備え、前記ロータリプレートは、回転中
心部から外周部にわたって形成される２つのリブを有
し、該リブはロータリプレートの中心を通る直線に対し
て互いに非対称に配設されたものである。
【０００８】また、ロータリプレートは、回転中心部か
ら外周部にわたって形成される２つのリブを有し、該リ
ブはロータリプレートの中心に対して互いに非対称に配
設されたものである。
ら外周部にわたって形成される２つのリブを有し、該リ
ブはロータリプレートの中心に対して互いに非対称に配
設されたものである。
【０００９】さらに、前記ロータリプレートは、回転中
心部から外側に向かって１本のリブを設けたものであ
る。
心部から外側に向かって１本のリブを設けたものであ
る。
【００１０】
【発明の実施の形態】実施の形態１．図１はこの発明の
実施の形態１を示す高周波加熱装置の正面断面図、図２
はロータリプレートの形状を示す上面図である。図にお
いて、１は被加熱物、２は加熱室、３は高周波の発信源
である高周波発信器、４は高周波発信器３を制御する制
御部、５は高周波発信器３から加熱室２に高周波を導く
導波管、６は導波管５と加熱室２の境界にある給電面
で、加熱室２の底壁中央部に設けられている。そして、
給電面６から加熱室２内へ高周波が供給される。７は被
加熱物１を載置するガラス等の低誘電率材料で成形され
た被加熱物１の設置台、８は設置台７を支持する金属製
のロータリプレートで、給電面６の上方に配置される。
９はロータリプレート８を回転させるモータである。１
０はロータリプレート８の中心部、１１はロータリプレ
ート８の外周部、１２、１３はロータリプレート８に形
成された曲線リブである。
実施の形態１を示す高周波加熱装置の正面断面図、図２
はロータリプレートの形状を示す上面図である。図にお
いて、１は被加熱物、２は加熱室、３は高周波の発信源
である高周波発信器、４は高周波発信器３を制御する制
御部、５は高周波発信器３から加熱室２に高周波を導く
導波管、６は導波管５と加熱室２の境界にある給電面
で、加熱室２の底壁中央部に設けられている。そして、
給電面６から加熱室２内へ高周波が供給される。７は被
加熱物１を載置するガラス等の低誘電率材料で成形され
た被加熱物１の設置台、８は設置台７を支持する金属製
のロータリプレートで、給電面６の上方に配置される。
９はロータリプレート８を回転させるモータである。１
０はロータリプレート８の中心部、１１はロータリプレ
ート８の外周部、１２、１３はロータリプレート８に形
成された曲線リブである。
【００１１】図２に示すとおり、曲線リブ１２、１３は
ロータリプレート８の中心に対してそれぞれ点対称に配
置され、中心部１０を通る直線に対しては非対称に配置
されている。この構成により、１／２回転毎にロータリ
プレート８の配置形状は同じ形状になる。 （ロータリプレート８が１回転する間に２回同じ配置形
状となる。）
ロータリプレート８の中心に対してそれぞれ点対称に配
置され、中心部１０を通る直線に対しては非対称に配置
されている。この構成により、１／２回転毎にロータリ
プレート８の配置形状は同じ形状になる。 （ロータリプレート８が１回転する間に２回同じ配置形
状となる。）
【００１２】そして、高周波発信器３で発信した高周波
は加熱室２下部に設けられた導波管５を介して被加熱物
１の下方から直接照射されるが、このとき、給電面６が
加熱室２の上部や側面に設けられている高周波加熱装置
よりも、加熱室２壁面での反射回数が大幅に減少するた
め、マイクロ波エネルギーが効率よく被加熱物１に吸収
される。したがって、被加熱物１を効率よく加熱するこ
とができ、エネルギーロスを大幅に低減することができ
る。
は加熱室２下部に設けられた導波管５を介して被加熱物
１の下方から直接照射されるが、このとき、給電面６が
加熱室２の上部や側面に設けられている高周波加熱装置
よりも、加熱室２壁面での反射回数が大幅に減少するた
め、マイクロ波エネルギーが効率よく被加熱物１に吸収
される。したがって、被加熱物１を効率よく加熱するこ
とができ、エネルギーロスを大幅に低減することができ
る。
【００１３】一方、被加熱物１とマイクロ波を供給する
給電面６との間に金属製のロータリプレート８が存在す
るため、マイクロ波は被加熱物１に照射する前にロータ
リプレート８のリブで反射してしまい、効率よく被加熱
物１に吸収されない恐れがある。しかしながら、ロータ
リプレート８の曲線リブ１２、１３をロータリプレート
８が１／２回転すると同じ配置形状となる位置に設けた
ので、リブ間を通過し易くして、効率よく加熱すること
ができる。
給電面６との間に金属製のロータリプレート８が存在す
るため、マイクロ波は被加熱物１に照射する前にロータ
リプレート８のリブで反射してしまい、効率よく被加熱
物１に吸収されない恐れがある。しかしながら、ロータ
リプレート８の曲線リブ１２、１３をロータリプレート
８が１／２回転すると同じ配置形状となる位置に設けた
ので、リブ間を通過し易くして、効率よく加熱すること
ができる。
【００１４】また、ロータリプレート８の曲線リブ１
２、１３をロータリプレート８が１／２回転すると同じ
配置形状となる位置に設けたので、加熱室２内で形成さ
れる電界強度分布パターンは１／２回転するまで同一パ
ターンになることがない。これにより、マイクロ波をよ
り効果的に撹拌していることになり、より多くの電界強
度分布パターンで被加熱物を加熱することができる。し
たがって、被加熱物１の加熱ムラを少なくすることが可
能となる。
２、１３をロータリプレート８が１／２回転すると同じ
配置形状となる位置に設けたので、加熱室２内で形成さ
れる電界強度分布パターンは１／２回転するまで同一パ
ターンになることがない。これにより、マイクロ波をよ
り効果的に撹拌していることになり、より多くの電界強
度分布パターンで被加熱物を加熱することができる。し
たがって、被加熱物１の加熱ムラを少なくすることが可
能となる。
【００１５】実施の形態２．図３はこの発明の実施の形
態２を示すロータリプレートの形状を示す上面図であ
る。全体の構成は実施の形態１と同様であり、ロータリ
プレートの形状のみが異なるものである。実施の形態２
では、曲線リブ１２、１３が中心部１０を通る直線に対
して非対称であり、かつロータリプレート８の中心に対
しても非対称である。この構成により、ロータリプレー
ト８は１回転しないと同じ配置形状にはならない。
態２を示すロータリプレートの形状を示す上面図であ
る。全体の構成は実施の形態１と同様であり、ロータリ
プレートの形状のみが異なるものである。実施の形態２
では、曲線リブ１２、１３が中心部１０を通る直線に対
して非対称であり、かつロータリプレート８の中心に対
しても非対称である。この構成により、ロータリプレー
ト８は１回転しないと同じ配置形状にはならない。
【００１６】ロータリプレート８の曲線リブ１２、１３
をロータリプレート８が１回転する間に一度も同じ配置
形状にならないように形成したので、加熱室２内で形成
される電界強度分布パターンが１回転する間に一度も同
一パターンにならないことになる。これにより、マイク
ロ波をより効果的に撹拌でき、より多くの電界強度分布
パターンで被加熱物を加熱することができる。したがっ
て、被加熱物の加熱ムラを少なくすることが可能とな
る。
をロータリプレート８が１回転する間に一度も同じ配置
形状にならないように形成したので、加熱室２内で形成
される電界強度分布パターンが１回転する間に一度も同
一パターンにならないことになる。これにより、マイク
ロ波をより効果的に撹拌でき、より多くの電界強度分布
パターンで被加熱物を加熱することができる。したがっ
て、被加熱物の加熱ムラを少なくすることが可能とな
る。
【００１７】一方、被加熱物１とマイクロ波を供給する
給電面６との間に金属製のロータリプレート８が存在す
るため、マイクロ波は被加熱物１に照射する前にロータ
リプレート８のリブで反射してしまい、効率よく被加熱
物１に吸収されない恐れがある。しかしながら、ロータ
リプレート８のリブを１回転しないと同じ配置形状にな
らない位置に設けたので、マイクロ波がロータリプレー
ト８を通過し易くして高効率を損なわないようにするこ
とができる。
給電面６との間に金属製のロータリプレート８が存在す
るため、マイクロ波は被加熱物１に照射する前にロータ
リプレート８のリブで反射してしまい、効率よく被加熱
物１に吸収されない恐れがある。しかしながら、ロータ
リプレート８のリブを１回転しないと同じ配置形状にな
らない位置に設けたので、マイクロ波がロータリプレー
ト８を通過し易くして高効率を損なわないようにするこ
とができる。
【００１８】実施の形態３．図４はこの発明の実施の形
態３を示すロータリプレートの形状を示す上面図であ
る。全体の構成は実施の形態１と同様であり、ロータリ
プレートの形状のみが異なるものである。実施の形態３
では、２直線とそれらをつなぐ２つの曲線から成る小判
形状の外周部１１と、外周部１１と中心部１０を結合す
る２本の曲線リブ１２、１３とからロータリプレート８
は成形されている。そして、曲線リブ１２、１３は中心
部１０を通る直線に対しては非対称に配置され、ロータ
リプレート８の中心に対しては互いに点対称となるよう
に配置されている。この構成により、１／２回転毎にロ
ータリプレート８の配置形状が同じ形状になる。
態３を示すロータリプレートの形状を示す上面図であ
る。全体の構成は実施の形態１と同様であり、ロータリ
プレートの形状のみが異なるものである。実施の形態３
では、２直線とそれらをつなぐ２つの曲線から成る小判
形状の外周部１１と、外周部１１と中心部１０を結合す
る２本の曲線リブ１２、１３とからロータリプレート８
は成形されている。そして、曲線リブ１２、１３は中心
部１０を通る直線に対しては非対称に配置され、ロータ
リプレート８の中心に対しては互いに点対称となるよう
に配置されている。この構成により、１／２回転毎にロ
ータリプレート８の配置形状が同じ形状になる。
【００１９】ロータリプレート８の曲線リブ１２、１３
をロータリプレート８が１／２回転すると同じ配置形状
となる位置に設けたので、加熱室２内で形成される電界
強度分布パターンは１／２回転するまで同一パターンに
なることがない。これにより、マイクロ波をより効果的
に撹拌していることになり、より多くの電界強度分布パ
ターンで被加熱物を加熱することができる。したがっ
て、被加熱物１の加熱ムラを少なくすることが可能とな
る。
をロータリプレート８が１／２回転すると同じ配置形状
となる位置に設けたので、加熱室２内で形成される電界
強度分布パターンは１／２回転するまで同一パターンに
なることがない。これにより、マイクロ波をより効果的
に撹拌していることになり、より多くの電界強度分布パ
ターンで被加熱物を加熱することができる。したがっ
て、被加熱物１の加熱ムラを少なくすることが可能とな
る。
【００２０】一方、被加熱物１とマイクロ波を供給する
給電面６との間に金属製のロータリプレート８が存在す
るため、マイクロ波は被加熱物１に照射する前にロータ
リプレート８のリブで反射してしまい、効率よく被加熱
物１に吸収されない恐れがある。しかしながら、ロータ
リプレート８の曲線リブ１２、１３をロータリプレート
８が１／２回転すると同じ配置形状となる位置に設けた
ので、リブ間を通過し易くして、効率よく加熱すること
ができる。
給電面６との間に金属製のロータリプレート８が存在す
るため、マイクロ波は被加熱物１に照射する前にロータ
リプレート８のリブで反射してしまい、効率よく被加熱
物１に吸収されない恐れがある。しかしながら、ロータ
リプレート８の曲線リブ１２、１３をロータリプレート
８が１／２回転すると同じ配置形状となる位置に設けた
ので、リブ間を通過し易くして、効率よく加熱すること
ができる。
【００２１】実施の形態４．図５はこの発明の実施の形
態４を示すロータリプレートの形状を示す上面図であ
る。全体の構成は実施の形態１と同様であり、ロータリ
プレートの形状のみが異なるものである。実施の形態４
では、円形の外周部１１と中心部１０とを１本の曲線リ
ブ１２で結合し、更に中心部１０から外れた位置で、外
周部１１間をつなぐ１本の直線リブ１４が形成されてい
る。そして、曲線リブ１２、直線１４は中心部１０を通
る直線に対しても、ロータリプレート８の中心に対して
も互いに非対称に配置されている。この構成により、１
回転しないとロータリプレート８の配置形状が同じ形状
にならない。
態４を示すロータリプレートの形状を示す上面図であ
る。全体の構成は実施の形態１と同様であり、ロータリ
プレートの形状のみが異なるものである。実施の形態４
では、円形の外周部１１と中心部１０とを１本の曲線リ
ブ１２で結合し、更に中心部１０から外れた位置で、外
周部１１間をつなぐ１本の直線リブ１４が形成されてい
る。そして、曲線リブ１２、直線１４は中心部１０を通
る直線に対しても、ロータリプレート８の中心に対して
も互いに非対称に配置されている。この構成により、１
回転しないとロータリプレート８の配置形状が同じ形状
にならない。
【００２２】ロータリプレート８の曲線リブ１２、直線
リブ１４の形状をロータリプレート８が１回転する間に
一度も同じ配置形状にならないように形成したので、加
熱室２内で形成される電界強度分布パターンが１回転す
る間に同一パターンになることがない。これは、マイク
ロ波をより効果的に撹拌していることになる。したがっ
て、より多くの電界強度分布パターンで被加熱物を加熱
することができ、加熱ムラを少なくすることが可能とな
る。
リブ１４の形状をロータリプレート８が１回転する間に
一度も同じ配置形状にならないように形成したので、加
熱室２内で形成される電界強度分布パターンが１回転す
る間に同一パターンになることがない。これは、マイク
ロ波をより効果的に撹拌していることになる。したがっ
て、より多くの電界強度分布パターンで被加熱物を加熱
することができ、加熱ムラを少なくすることが可能とな
る。
【００２３】一方、被加熱物１とマイクロ波を供給する
給電面６との間に金属製のロータリプレート８が存在す
るため、マイクロ波は被加熱物１に照射する前にロータ
リプレート８のリブで反射してしまい、効率よく被加熱
物１に吸収されない恐れがある。しかしながら、ロータ
リプレート８のリブを１回転しないと同じ配置形状にな
らない位置に設けたので、マイクロ波がロータリプレー
ト８を通過し易くして高効率を損なわないようにするこ
とができる。
給電面６との間に金属製のロータリプレート８が存在す
るため、マイクロ波は被加熱物１に照射する前にロータ
リプレート８のリブで反射してしまい、効率よく被加熱
物１に吸収されない恐れがある。しかしながら、ロータ
リプレート８のリブを１回転しないと同じ配置形状にな
らない位置に設けたので、マイクロ波がロータリプレー
ト８を通過し易くして高効率を損なわないようにするこ
とができる。
【００２４】実施の形態５．図６はこの発明の実施の形
態５を示すロータリプレートの形状を示す上面図であ
る。全体の構成は実施の形態１と同様であり、ロータリ
プレートの形状のみが異なるものである。実施の形態５
では、ロータリプレート８の外周部はなく、中心部１０
から２本の曲線リブ１２、１３が外側に向かって配置さ
れているだけである。曲線リブ１２、１３は中心部１０
を通る直線に対して非対称であり、ロータリプレート８
の中心に対しては互いに点対称に配置されている。この
構成により、１／２回転毎にロータリプレート８の配置
形状が同じ形状になる。
態５を示すロータリプレートの形状を示す上面図であ
る。全体の構成は実施の形態１と同様であり、ロータリ
プレートの形状のみが異なるものである。実施の形態５
では、ロータリプレート８の外周部はなく、中心部１０
から２本の曲線リブ１２、１３が外側に向かって配置さ
れているだけである。曲線リブ１２、１３は中心部１０
を通る直線に対して非対称であり、ロータリプレート８
の中心に対しては互いに点対称に配置されている。この
構成により、１／２回転毎にロータリプレート８の配置
形状が同じ形状になる。
【００２５】ロータリプレート８の曲線リブ１２、１３
をロータリプレート８が１／２回転すると同じ配置形状
となる位置に設けたので、加熱室２内で形成される電界
強度分布パターンは１／２回転するまで同一パターンに
なることがない。これにより、マイクロ波をより効果的
に撹拌していることになり、より多くの電界強度分布パ
ターンで被加熱物を加熱することができる。したがっ
て、被加熱物１の加熱ムラを少なくすることが可能とな
る。
をロータリプレート８が１／２回転すると同じ配置形状
となる位置に設けたので、加熱室２内で形成される電界
強度分布パターンは１／２回転するまで同一パターンに
なることがない。これにより、マイクロ波をより効果的
に撹拌していることになり、より多くの電界強度分布パ
ターンで被加熱物を加熱することができる。したがっ
て、被加熱物１の加熱ムラを少なくすることが可能とな
る。
【００２６】一方、被加熱物１とマイクロ波を供給する
給電面６との間に金属製のロータリプレート８が存在す
るため、マイクロ波は被加熱物１に照射する前にロータ
リプレート８のリブで反射してしまい、効率よく被加熱
物１に吸収されない恐れがある。しかしながら、ロータ
リプレート８の曲線リブ１２、１３をロータリプレート
８が１／２回転すると同じ配置形状となる位置に設けた
ので、リブ間を通過し易くして、効率よく加熱すること
ができる。
給電面６との間に金属製のロータリプレート８が存在す
るため、マイクロ波は被加熱物１に照射する前にロータ
リプレート８のリブで反射してしまい、効率よく被加熱
物１に吸収されない恐れがある。しかしながら、ロータ
リプレート８の曲線リブ１２、１３をロータリプレート
８が１／２回転すると同じ配置形状となる位置に設けた
ので、リブ間を通過し易くして、効率よく加熱すること
ができる。
【００２７】実施の形態６．図７はこの発明の実施の形
態６を示す高周波加熱装置のロータリプレートを示す上
面図である。全体の構成は実施の形態１と同様であり、
ロータリプレートの形状のみが異なるものである。実施
の形態６では、円形の外周部１１と中心部１０とを２本
の曲線リブ１２、１３で結合している。曲線リブ１２、
１３は中心部１０を通る直線に対して互いに線対称に配
置され、ロータリプレート８の中心に対して非対称であ
る。この構成により、ロータリプレート８が１回転する
と配置形状が同じ形状になる。
態６を示す高周波加熱装置のロータリプレートを示す上
面図である。全体の構成は実施の形態１と同様であり、
ロータリプレートの形状のみが異なるものである。実施
の形態６では、円形の外周部１１と中心部１０とを２本
の曲線リブ１２、１３で結合している。曲線リブ１２、
１３は中心部１０を通る直線に対して互いに線対称に配
置され、ロータリプレート８の中心に対して非対称であ
る。この構成により、ロータリプレート８が１回転する
と配置形状が同じ形状になる。
【００２８】ロータリプレート８の曲線リブ１２、１３
の形状をロータリプレート８が１回転する間に一度も同
じリブ形状にならないように形成したことで、加熱室２
内で形成される電界強度分布パターンが１回転する間に
同一パターンになることがない。これは、マイクロ波を
より効果的に撹拌していることになる。したがって、よ
り多くの電界強度分布パターンで被加熱物を加熱するこ
とができ、加熱ムラを少なくすることが可能となる。
の形状をロータリプレート８が１回転する間に一度も同
じリブ形状にならないように形成したことで、加熱室２
内で形成される電界強度分布パターンが１回転する間に
同一パターンになることがない。これは、マイクロ波を
より効果的に撹拌していることになる。したがって、よ
り多くの電界強度分布パターンで被加熱物を加熱するこ
とができ、加熱ムラを少なくすることが可能となる。
【００２９】実施の形態７．図８はこの発明の実施の形
態７である高周波加熱装置のロータリプレートを示す上
面図である。全体の構成は実施の形態１と同様であり、
ロータリプレートの形状のみが異なるものである。実施
の形態７では、円形の外周部１１と中心部１０とを１本
の曲線リブ１３で結合しており、ロータリプレート８が
１回転すると配置形状が同じ形状になるように成形され
ている。
態７である高周波加熱装置のロータリプレートを示す上
面図である。全体の構成は実施の形態１と同様であり、
ロータリプレートの形状のみが異なるものである。実施
の形態７では、円形の外周部１１と中心部１０とを１本
の曲線リブ１３で結合しており、ロータリプレート８が
１回転すると配置形状が同じ形状になるように成形され
ている。
【００３０】被加熱物１を設置する被加熱物設置台７を
回転支持し、中心部と外周部を連結する１つのリブで形
成されたロータリプレート８を設けている。
回転支持し、中心部と外周部を連結する１つのリブで形
成されたロータリプレート８を設けている。
【００３１】被加熱物とマイクロ波を供給する給電面と
の間に金属製のロータリプレートが存在するため、マイ
クロ波が被加熱物に照射する前にロータリプレートのリ
ブで反射することで、高効率に被加熱物に吸収されない
恐れがある。そのため、ロータリプレートのリブ数を１
本とし、マイクロ波がロータリプレートを通過しやすく
し、高効率を損なわないようにしてある。
の間に金属製のロータリプレートが存在するため、マイ
クロ波が被加熱物に照射する前にロータリプレートのリ
ブで反射することで、高効率に被加熱物に吸収されない
恐れがある。そのため、ロータリプレートのリブ数を１
本とし、マイクロ波がロータリプレートを通過しやすく
し、高効率を損なわないようにしてある。
【００３２】また、ロータリプレートのリブ数を１本と
し、ロータリプレートが１回転する間に一度も同じ配置
形状にならないように形成したことで、加熱室内で形成
される電界強度分布パターンが１回転するまで１度も同
一パターンにならないことになる。これは、マイクロ波
をより効果的に撹拌していることになる。したがって、
より多くの電界強度分布パターンで被加熱物を加熱する
ことができ、加熱ムラを少なくすることが可能となる。
し、ロータリプレートが１回転する間に一度も同じ配置
形状にならないように形成したことで、加熱室内で形成
される電界強度分布パターンが１回転するまで１度も同
一パターンにならないことになる。これは、マイクロ波
をより効果的に撹拌していることになる。したがって、
より多くの電界強度分布パターンで被加熱物を加熱する
ことができ、加熱ムラを少なくすることが可能となる。
【００３３】なお、各実施の形態において、ロータリプ
レートの補強のため、リブを金属製のリブに換えて、マ
イクロ波を通過しやすい低誘電率材料で形成したリブも
使用しても、同様の効果を得ることができる。
レートの補強のため、リブを金属製のリブに換えて、マ
イクロ波を通過しやすい低誘電率材料で形成したリブも
使用しても、同様の効果を得ることができる。
【００３４】また、ロータリプレートの形状は外周が円
形でなくても、外周部がなくても、またはリブが全て直
線であっても同様の効果を得ることができる。
形でなくても、外周部がなくても、またはリブが全て直
線であっても同様の効果を得ることができる。
【００３５】
【発明の効果】以上のように、この発明によれば、被加
熱物を収納する加熱室と、高周波を発信する高周波発信
部と、前記加熱室の底壁中央部に設けられ前記高周波発
信部から発信する高周波を前記加熱室に供給する供給部
と、前記供給部の上方に設けられたロータリプレートを
備え、前記ロータリプレートは、回転中心部から外周部
にわたって形成される２つのリブを有し、該リブはロー
タリプレートの中心を通る直線に対して互いに非対称に
配設されたので、ロータリプレートが１回転する間に１
度しか同じ配置形状になることがなく、マイクロ波を効
率よく撹拌でき、加熱ムラを少なくすることができる。
熱物を収納する加熱室と、高周波を発信する高周波発信
部と、前記加熱室の底壁中央部に設けられ前記高周波発
信部から発信する高周波を前記加熱室に供給する供給部
と、前記供給部の上方に設けられたロータリプレートを
備え、前記ロータリプレートは、回転中心部から外周部
にわたって形成される２つのリブを有し、該リブはロー
タリプレートの中心を通る直線に対して互いに非対称に
配設されたので、ロータリプレートが１回転する間に１
度しか同じ配置形状になることがなく、マイクロ波を効
率よく撹拌でき、加熱ムラを少なくすることができる。
【００３６】また、ロータリプレートは、回転中心部か
ら外周部にわたって形成される２つのリブを有し、該リ
ブはロータリプレートの回転中心に対して互いに非対称
に配設されたので、ロータリプレートが１回転する間に
１度も同じ配置形状になることがなく、マイクロ波を効
率よく撹拌でき、加熱ムラを少なくすることができる。
ら外周部にわたって形成される２つのリブを有し、該リ
ブはロータリプレートの回転中心に対して互いに非対称
に配設されたので、ロータリプレートが１回転する間に
１度も同じ配置形状になることがなく、マイクロ波を効
率よく撹拌でき、加熱ムラを少なくすることができる。
【００３７】さらに、ロータリプレートは、回転中心か
ら外側に向かって１本のリブを設けたので、マイクロ波
を効率よく撹拌できる。また、マイクロ波が被加熱物に
より多く照射するので、効率よく加熱することができ、
加熱ムラを少なくすることができる。
ら外側に向かって１本のリブを設けたので、マイクロ波
を効率よく撹拌できる。また、マイクロ波が被加熱物に
より多く照射するので、効率よく加熱することができ、
加熱ムラを少なくすることができる。
【００３８】
【図１】 この発明による実施の形態１を示す高周波加
熱装置の正面断面図である。
熱装置の正面断面図である。
【図２】 図１に示すロータリプレートの上面図であ
る。
る。
【図３】 この発明による実施の形態２を示すロータリ
プレートの上面図である。
プレートの上面図である。
【図４】 この発明による実施の形態３を示すロータリ
プレートの上面図である。
プレートの上面図である。
【図５】 この発明による実施の形態４を示すロータリ
プレートの上面図である。
プレートの上面図である。
【図６】 この発明による実施の形態５を示すロータリ
プレートの上面図である。
プレートの上面図である。
【図７】 この発明による実施の形態６を示すロータリ
プレートの上面図である。
プレートの上面図である。
【図８】 この発明による実施の形態７を示すロータリ
プレートの上面図である。
プレートの上面図である。
【図９】 従来の高周波加熱装置を示す側面断面図であ
る。
る。
【図１０】 従来の高周波加熱装置を示す上面断面図で
ある。
ある。
１ 被加熱物、２ 加熱室、３ 高周波発信器、４ 制
御部、５ 導波管、６ 給電面、７ 設置台、８ ロー
タリプレート、９ モータ、１０ 中心部、１１ 外周
部、１２ 曲線リブ、１３ 曲線リブ、１４ 直線リ
ブ。
御部、５ 導波管、６ 給電面、７ 設置台、８ ロー
タリプレート、９ モータ、１０ 中心部、１１ 外周
部、１２ 曲線リブ、１３ 曲線リブ、１４ 直線リ
ブ。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 長田 正史 東京都千代田区丸の内二丁目２番３号 三 菱電機株式会社内 (72)発明者 金井 孝博 埼玉県大里郡花園町大字小前田1728番地１ 三菱電機ホーム機器株式会社内 Ｆターム(参考） 3K090 AA01 AA02 BB01 CA01 EA01 EB19 LA07 MA06
Claims (3)
- 【請求項１】 被加熱物を収納する加熱室と、高周波を
発信する高周波発信部と、前記加熱室の底壁中央部に設
けられ前記高周波発信部から発信する高周波を前記加熱
室に供給する供給部と、前記供給部の上方に設けられた
ロータリプレートを備え、前記ロータリプレートは、回
転中心部から外周部にわたって形成される２つのリブを
有し、該リブはロータリプレートの中心を通る直線に対
して互いに非対称に配設されたことを特徴とする高周波
加熱装置。 - 【請求項２】 被加熱物を収納する加熱室と、高周波を
発信する高周波発信部と、前記加熱室の底壁中央部に設
けられ前記高周波発信部から発信する高周波を前記加熱
室に供給する供給部と、前記供給部上方に設けられたロ
ータリプレートを備え、前記ロータリプレートは、回転
中心部から外周部にわたって形成される２つのリブを有
し、該リブはロータリプレートの中心に対して互いに非
対称に配設されたことを特徴とする高周波加熱装置。 - 【請求項３】 被加熱物を収納する加熱室と、高周波を
発信する高周波発信部と、前記加熱室の底壁中央部に設
けられ前記高周波発信部から発信する高周波を前記加熱
室に供給する供給部と、前記供給部上方に設けられたロ
ータリプレートを備え、前記ロータリプレートは、回転
中心部から外側に向かって１本のリブを設けたことを特
徴とする高周波加熱装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP25135099A JP2001076863A (ja) | 1999-09-06 | 1999-09-06 | 高周波加熱装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP25135099A JP2001076863A (ja) | 1999-09-06 | 1999-09-06 | 高周波加熱装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2001076863A true JP2001076863A (ja) | 2001-03-23 |
Family
ID=17221531
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP25135099A Pending JP2001076863A (ja) | 1999-09-06 | 1999-09-06 | 高周波加熱装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2001076863A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2014524349A (ja) * | 2011-08-01 | 2014-09-22 | スカンジナビアン バイオフューエル カンパニー アーエス | 新型マイクロ波利用閃光熱分解システムおよび当該システムの方法 |
-
1999
- 1999-09-06 JP JP25135099A patent/JP2001076863A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2014524349A (ja) * | 2011-08-01 | 2014-09-22 | スカンジナビアン バイオフューエル カンパニー アーエス | 新型マイクロ波利用閃光熱分解システムおよび当該システムの方法 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| RD01 | Notification of change of attorney |
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