JP2001075288A - Aligner - Google Patents
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Abstract
Description
【０００１】[0001]
【発明の属する技術分野】本発明は、感光性を有する感
光基板と原版とを密着して露光する露光装置に関するも
のである。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to an exposure apparatus for exposing a photosensitive substrate having photosensitivity and an original in close contact with each other.
【０００２】[0002]
【従来の技術】従来より、プリント配線基板の導体パタ
ーンを形成するために、形成パターンを描いた原版を用
いて、これに光を投影露光して、基板に原版と同一のパ
ターンを描く方法が普及している。しかし、この方法で
は、原版と基板との間に隙間が生じて十分な密着が得ら
れない場合に、照射された光が回り込んでしまって、パ
ターン幅を一定にすることができないという問題があっ
た。そこで、このような問題を解決するために、例え
ば、特開平６−２７６７４号公報においては、図７に示
すように、フィルム状の原版２０を、柔軟な支持フィル
ム５２の表面に貼付して、整合テーブル１４に配置した
基板３０に当接、すなわち、突き当てた状態に接触させ
た後、その支持フィルム５２の裏側から吸気ポンプ５３
で空気を送って膨らませることで、原版２０と基板３０
とを確実に密着させて、露光ランプ１６で光を照射して
基板３０に導体パターンを形成する方法が提案されてい
る。2. Description of the Related Art Conventionally, in order to form a conductor pattern on a printed wiring board, there has been a method in which an original having a pattern to be formed is used, and light is projected and exposed on the original to draw the same pattern on the substrate. Widespread. However, this method has a problem that, when a gap is generated between the original plate and the substrate and sufficient adhesion cannot be obtained, the irradiated light wraps around and the pattern width cannot be made constant. there were. Therefore, in order to solve such a problem, for example, in JP-A-6-27674, as shown in FIG. 7, a film-shaped original plate 20 is attached to the surface of a flexible support film 52, After the substrate 30 placed on the alignment table 14 is brought into contact with, that is, brought into contact with, the suction pump 53 from behind the support film 52.
The original 20 and substrate 30 are blown by
And a method of forming a conductive pattern on the substrate 30 by irradiating light with the exposure lamp 16 while ensuring close contact between the substrate 30 and the substrate.
【０００３】[0003]
【発明が解決しようとする課題】しかし、前述した方法
では、例えば、支持フィルム５２を膨らませるときに、
基板３０との当接の具合によっては、原版２０と基板３
０とのあいだに空気が入り込んでしまう恐れがある。一
旦、空気が入り込んでしまうと、原版２０と基板３０と
を密着させたときに、気泡が残ってしまう。また、支持
フィルム５２も原版２０も柔軟であるので、原版２０の
交換時に、支持フィルム５２と原版２０との間に空気が
入り込んでしまう可能性があり、これを防止するため、
上述の特開平６−２７６７４号公報の露光装置のよう
に、入り込んだ空気を排出する真空ポンプ５４を設けな
ければならなかった。さらに、原版２０は、柔軟であ
り、折れ、曲げ、破損等の可能性があるので、保管時
に、十分に注意を払わなければならなかった。However, in the above-described method, for example, when the support film 52 is inflated,
Depending on the state of contact with the substrate 30, the original 20 and the substrate 3
There is a risk that air will enter between zero. Once the air has entered, when the original plate 20 and the substrate 30 are brought into close contact, bubbles remain. In addition, since both the support film 52 and the master 20 are flexible, air may enter between the support film 52 and the master 20 when the master 20 is replaced.
As in the above-described exposure apparatus disclosed in Japanese Patent Application Laid-Open No. 6-27674, a vacuum pump 54 for discharging the air that has entered must be provided. Furthermore, since the original plate 20 is flexible and may be broken, bent, damaged, or the like, sufficient care must be taken during storage.
【０００４】本発明の課題は、原版と基板とを確実に密
着させることができ、また、原版を簡単に取り扱うこと
ができる露光装置を提供することである。[0004] It is an object of the present invention to provide an exposure apparatus which can surely bring an original and a substrate into close contact with each other and can easily handle the original.
【０００５】[0005]
【課題を解決するための手段】本発明は、以下のような
解決手段により、前記課題を解決する。なお、理解を容
易にするために、本発明の実施形態に対応する符号を付
して説明するが、これに限定されるものではない。前記
課題を解決するために、請求項１の発明は、感光性を有
する感光基板（３０）と原版（２０）とを密着して露光
する露光装置であって、露光波長の光を透過する支持基
板（１１）と、その表面に前記原版（２０）が貼付さ
れ、前記支持基板（１１）に対して反対側に突き出すよ
うに取り付けられ、一旦、平坦になって、前記原版（２
０）と前記感光基板（３０）とを整合した後、再び、も
との突き出し状態に戻って、前記原版（２０）と前記感
光基板（３０）とを当接する原版保持手段（１２）と、
前記原版保持手段（１２）の形状を変形させる原版保持
部変形手段（１３）とを備えることを特徴とする露光装
置である。The present invention solves the above-mentioned problems by the following means. In addition, in order to make it easy to understand, description is given with reference numerals corresponding to the embodiment of the present invention, but the present invention is not limited to this. In order to solve the above-mentioned problem, the invention according to claim 1 is an exposure apparatus for exposing a photosensitive substrate (30) having photosensitivity and a master (20) in close contact with each other, and a support for transmitting light having an exposure wavelength. The substrate (11) and the original plate (20) are attached to the surface thereof and attached so as to protrude to the opposite side with respect to the support substrate (11).
0) and the photosensitive substrate (30), and then return to the original protruding state again, and original holding means (12) for bringing the original (20) into contact with the photosensitive substrate (30);
An exposure apparatus, comprising: an original holding part deforming means (13) for deforming the shape of the original holding means (12).
【０００６】請求項２の発明は、請求項１に記載の露光
装置において、前記原版保持部変形手段（１３）は、空
気制御によって、前記原版保持手段（１２）の形状を変
形させることを特徴とする露光装置である。According to a second aspect of the present invention, in the exposure apparatus according to the first aspect, the original holding section deforming means (13) deforms the shape of the original holding means (12) by air control. Exposure apparatus.
【０００７】請求項３の発明は、請求項１又は請求項２
に記載の露光装置において、前記原版保持手段（１２）
は、前記原版（２０）を貼付したまま取り外して交換す
ることができることを特徴とする露光装置である。[0007] The third aspect of the present invention is the first or second aspect.
3. The exposure apparatus according to claim 1, wherein the original holding means (12).
Is an exposure apparatus characterized in that it can be removed and replaced while the original plate (20) is stuck.
【０００８】請求項４の発明は、請求項１から請求項３
までのいずれか１項に記載の露光装置において、前記原
版（２０）と前記感光基板（３０）との間の空気を排気
して、前記原版（２０）と前記感光基板（３０）とを密
着させる排気手段（１５）を備えることを特徴とする露
光装置である。[0008] The invention of claim 4 is the first to third aspects of the present invention.
In the exposure apparatus according to any one of the above, the air between the master (20) and the photosensitive substrate (30) is exhausted to bring the master (20) and the photosensitive substrate (30) into close contact with each other. An exposure apparatus is provided with an exhaust means (15) for causing the gas to flow.
【０００９】[0009]
【発明の実施の形態】以下、図面等を参照して、本発明
の実施の形態について、さらに詳しく説明する。 （実施形態）図１は、本発明による露光装置の一実施形
態を示す側面図である。露光装置１０は、支持基板１１
と、原版フィルム保持プレート１２と、プレート変形用
ポンプ１３と、整合テーブル１４と、排気ポンプ１５
と、露光ランプ１６とを備える。Embodiments of the present invention will be described below in more detail with reference to the drawings. (Embodiment) FIG. 1 is a side view showing an embodiment of an exposure apparatus according to the present invention. The exposure apparatus 10 includes a support substrate 11
Original plate holding plate 12, plate deformation pump 13, alignment table 14, exhaust pump 15
And an exposure lamp 16.
【００１０】支持基板１１は、原版フィルム保持プレー
ト１２を支持する基板である。支持基板１１は、露光ラ
ンプ１６からの露光波長の光を透過する材質で形成され
ており、例えば、ガラス、プラスチック材料（例えば、
アクリル（ＰＭＭＡ），ポリエチレン（ＰＥ），ポリプ
ロピレン（ＰＰ），ポリ塩化ビニル（ＰＶＣ），ポリカ
ーボネート（ＰＣ）など）等を使用することができる。
また、支持基板１１は、原版フィルム保持プレート１２
に比べて、十分な剛性を有しており、後述のように、プ
レート変形用ポンプ１３で排気しても、変形しない。本
実施形態では、厚さ１０ｍｍの透明ガラスによって形成
されている。また、支持基板１１は、後述の通り、プレ
ート変形用ポンプ１３を接続する貫通孔１１ａを有す
る。The support substrate 11 is a substrate that supports the original film holding plate 12. The support substrate 11 is formed of a material that transmits light having an exposure wavelength from the exposure lamp 16 and is made of, for example, glass or a plastic material (for example,
Acrylic (PMMA), polyethylene (PE), polypropylene (PP), polyvinyl chloride (PVC), polycarbonate (PC), and the like can be used.
Further, the support substrate 11 includes an original film holding plate 12.
Has sufficient rigidity, and does not deform even when exhausted by the plate deformation pump 13 as described later. In the present embodiment, it is formed of a transparent glass having a thickness of 10 mm. The support substrate 11 has a through hole 11a for connecting the plate deformation pump 13 as described later.
【００１１】原版フィルム保持プレート１２は、原版フ
ィルム２０を貼付するプレートであり、シール部材１１
ｂを介して、支持基板１１に固定されている。原版フィ
ルム保持プレート１２は、可撓性を有する樹脂プレート
であり、表面に原版フィルム２０を貼付しており、その
貼付面を凸状に突き出すように、支持基板１１に取り付
けられている。この突き出しは、周りから押さえられて
突き出す場合、及び自重によって垂れ下がって突き出す
場合がある。また、原版フィルム保持プレート１２は、
露光ランプ１６からの露光波長の光を透過する材質であ
り、例えば、アクリル（ＰＭＭＡ），ポリエチレン（Ｐ
Ｅ），ポリプロピレン（ＰＰ），ポリ塩化ビニル（ＰＶ
Ｃ），ポリカーボネート（ＰＣ）などを使用することが
でき、本実施形態では、透明で硬質なアクリルプレート
で形成されている。その厚さは、１ｍｍであり、十分な
強度を有するとともに、可撓性も有している。The original film holding plate 12 is a plate to which the original film 20 is attached, and the seal member 11
It is fixed to the support substrate 11 via b. The original film holding plate 12 is a flexible resin plate, has an original film 20 adhered to the surface thereof, and is attached to the support substrate 11 so that the adhered surface protrudes in a convex shape. The protrusion may be pressed out from the surroundings and may protrude depending on its own weight. The original film holding plate 12 is
It is a material that transmits light having an exposure wavelength from the exposure lamp 16. For example, acrylic (PMMA), polyethylene (P)
E), polypropylene (PP), polyvinyl chloride (PV)
C), polycarbonate (PC), and the like can be used. In the present embodiment, it is formed of a transparent and hard acrylic plate. Its thickness is 1 mm, which has sufficient strength and flexibility.
【００１２】なお、原版フィルム２０は、感光基板３０
に描くパターンが形成されたフィルム状の原版であり、
上述の通り、原版フィルム保持プレート１２に貼付され
ている。この原版フィルム２０の交換に際しては、原版
フィルム保持プレート１２ごと交換する。これにより、
軟弱な原版フィルム２０の破損等を防止することがで
き、原版フィルム２０の取り扱いが容易になる。The original film 20 is formed on a photosensitive substrate 30.
It is a film-shaped original plate with a pattern drawn on it,
As described above, it is attached to the original film holding plate 12. When exchanging the original film 20, the original film holding plate 12 is exchanged. This allows
The weak original film 20 can be prevented from being damaged, and the original film 20 can be easily handled.
【００１３】プレート変形用ポンプ１３は、支持基板１
１、シール部材１１ｂ及び原版フィルム保持プレート１
２で形成される、およそ１〜２ｍｍの空間の空気を排気
して、その空間を大気圧より負圧にすることで、原版フ
ィルム保持プレート１２を吸引して変形させるエアポン
プである。なお、支持基板１１、原版フィルム保持プレ
ート１２等で形成される空間の空気は、温湿度コントロ
ールされたクリーンエアーであり、一定の状態に保たれ
ており、プレート変形用ポンプ１３の排出量を制御する
ことで、原版フィルム保持プレート１２の形状を制御可
能である。プレート変形用ポンプ１３は、支持基板１１
に設けられた貫通孔１１ａに接続されており、その貫通
孔１１ａから排気する。プレート変形用ポンプ１３は、
原版フィルム２０と感光基板３０とを整合（精密位置決
め）するときは、原版フィルム保持プレート１２を平坦
にする。また、プレート変形用ポンプ１３は、原版フィ
ルム２０と感光基板３０とを密着させるときは、開放し
て空気を戻し、原版フィルム保持プレート１２を整合テ
ーブル１４側に、再び、突き出した状態にする。The plate deforming pump 13 is provided on the support substrate 1.
1. Seal member 11b and original film holding plate 1
This is an air pump that exhausts air in a space of about 1 to 2 mm formed by the step 2 and makes the space negative pressure than atmospheric pressure, thereby sucking and deforming the original film holding plate 12. The air in the space formed by the support substrate 11, the original film holding plate 12, and the like is clean air whose temperature and humidity are controlled, is kept in a constant state, and controls the discharge amount of the plate deformation pump 13. By doing so, the shape of the original film holding plate 12 can be controlled. The plate deforming pump 13 is connected to the support substrate 11.
Is connected to the through-hole 11a provided in the air outlet, and the air is exhausted from the through-hole 11a. The plate deforming pump 13
When aligning (precisely positioning) the original film 20 and the photosensitive substrate 30, the original film holding plate 12 is flattened. When the original film 20 and the photosensitive substrate 30 are brought into close contact with each other, the plate deforming pump 13 is released to return the air, and the original film holding plate 12 is again protruded toward the alignment table 14.
【００１４】整合テーブル１４は、上面に感光基板３０
を配置し、その感光基板３０を原版フィルム２０に対し
て整合するテーブルである。整合テーブル１４は、水平
なテーブル面上のＸ方向及びＹ方向（Ｘ方向に対する直
交方向）並びにテーブル面に対する垂直軸周りのθ方向
に移動することができる。整合テーブル１４は、あらか
じめ、前工程で粗位置決め（概ねの位置への位置決め）
されている感光基板３０を整合する。整合テーブル１４
は、整合テーブル１４の上方に設置されたＣＣＤカメラ
（不図示）が読み取った感光基板３０の位置決め用マー
クの検出信号に基づいて、ＸＹθ方向に感光基板３０を
移動させて、原版フィルム２０に対して整合を行う。ま
た、整合テーブル１４は、後述の通り、排気ポンプ１５
を接続する排気孔１４ａを有する。The alignment table 14 has a photosensitive substrate 30 on its upper surface.
Are arranged, and the photosensitive substrate 30 is aligned with the original film 20. The alignment table 14 can move in the X and Y directions (perpendicular to the X direction) on a horizontal table surface and in the θ direction around an axis perpendicular to the table surface. The alignment table 14 is roughly positioned in advance in the previous process (positioning to an approximate position).
The exposed photosensitive substrate 30 is aligned. Matching table 14
Moves the photosensitive substrate 30 in the XYθ directions based on a detection signal of a positioning mark of the photosensitive substrate 30 read by a CCD camera (not shown) installed above the alignment table 14, and moves the photosensitive substrate 30 relative to the original film 20. Perform alignment. The matching table 14 includes an exhaust pump 15 as described later.
And an exhaust hole 14a for connecting
【００１５】排気ポンプ１５は、原版フィルム２０と感
光基板３０とを密着させる際に、両者の間の空気を排除
して、より確実に密着させるエアポンプである。排気ポ
ンプ１５は、整合テーブル１４に設けられた排気孔１４
ａに接続されており、その排気孔１４ａを通じて排気す
る。The exhaust pump 15 is an air pump that removes air between the original film 20 and the photosensitive substrate 30 when the original film 20 and the photosensitive substrate 30 are brought into close contact with each other, thereby ensuring more secure contact. The exhaust pump 15 is provided with an exhaust hole 14 provided in the alignment table 14.
a, and exhaust air through the exhaust hole 14a.
【００１６】露光ランプ１６は、原版フィルム２０に密
着している感光基板３０に対して光を照射するランプで
あり、支持基材１１の上方に設置されている。露光ラン
プ１６から照射された光は、透明の支持基材１１及び原
版フィルム２０を透過して感光基板３０を感光させる。The exposure lamp 16 irradiates light to the photosensitive substrate 30 which is in close contact with the original film 20, and is installed above the supporting substrate 11. Light emitted from the exposure lamp 16 passes through the transparent support substrate 11 and the original film 20 to expose the photosensitive substrate 30.
【００１７】（動作方法）図２から図６は、本発明の露
光装置の動作を説明する図である。 （＃１０１；感光基板セッティング工程）露光装置１０
は、前工程で粗位置決めされている感光基板３０を整合
テーブル１４にセッティングする（図２）。なお、この
とき、原版フィルム保持プレート１２には、原版フィル
ム２０があらかじめ貼付されており、また、整合テーブ
ル１４側に突き出している。(Operation Method) FIGS. 2 to 6 are views for explaining the operation of the exposure apparatus of the present invention. (# 101: photosensitive substrate setting step) exposure apparatus 10
Sets the photosensitive substrate 30 roughly positioned in the previous process on the alignment table 14 (FIG. 2). At this time, the original film 20 is attached to the original film holding plate 12 in advance, and protrudes toward the alignment table 14.
【００１８】（＃１０２；整合工程）＃１０１において
感光基板３０をセッティングした露光装置１０は、プレ
ート変形用ポンプ１３で排気して、原版フィルム保持プ
レート１２を平坦にする（図３）。なお、このときの空
気の流れ方向を、図中の矢印で示す（以下、同じ）。ま
た、ＣＣＤカメラ（不図示）で感光基板３０の位置決め
用マークを読み取り、その検出信号に基づいて、整合テ
ーブル１４をＸＹθ方向に移動させて、原版フィルム２
０と感光基板３０とを整合する。(# 102: Alignment Step) The exposure apparatus 10 in which the photosensitive substrate 30 is set in # 101 evacuates with the plate deformation pump 13 to flatten the original film holding plate 12 (FIG. 3). The air flow direction at this time is indicated by an arrow in the figure (the same applies hereinafter). In addition, the positioning mark on the photosensitive substrate 30 is read by a CCD camera (not shown), and the alignment table 14 is moved in the XYθ directions based on the detection signal.
0 and the photosensitive substrate 30 are aligned.
【００１９】（＃１０３；当接工程）＃１０２において
原版フィルム２０と感光基板３０とを整合した露光装置
１０は、プレート変形用ポンプ１３を開放して空気を戻
し、原版フィルム保持プレート１２を整合テーブル１４
側に、再び、突き出した状態に戻した後、原版フィルム
２０と感光基板３０とを当接させる（図４）。このと
き、原版フィルム保持プレート１２は、凸状に突き出て
いるので、原版フィルム２０と感光基板３０との間に空
気を入り込ませることがなく、後の密着工程において、
確実に、この凸状部分の中央から密着させることができ
る。(# 103; Contacting Step) The exposure apparatus 10 in which the original film 20 and the photosensitive substrate 30 are aligned in # 102 opens the plate deforming pump 13 to return the air and aligns the original film holding plate 12. Table 14
After returning to the protruding state, the original film 20 is brought into contact with the photosensitive substrate 30 (FIG. 4). At this time, since the original film holding plate 12 protrudes in a convex shape, air does not enter between the original film 20 and the photosensitive substrate 30, and in the subsequent contacting step,
As a result, it is possible to bring the projection into close contact with the center of the projection.
【００２０】（＃１０４；密着工程）＃１０３において
原版フィルム２０と感光基板３０とを当接させた露光装
置１０は、支持基板１１を下げながら、原版フィルム２
０と感光基板３０とを密着させる。このとき、原版フィ
ルム２０と感光基板３０とは、必ず、中央から周囲に徐
々に密着していくので、空気は、外側に押し出され、両
者の間に気泡として残ることがない。この際、プレート
変形用ポンプ１３は、開放されたままであり、支持基板
１１と原版フィルム保持プレート１２との間の空気は、
外部へ逃げることができる。また、排気ポンプ１５を作
動させて、原版フィルム２０と感光基板３０との間の空
気を排気して、その間の空気を除去することにより、両
者を、一層、強固に密着させる（図５）。(# 104: Close contact step) The exposure apparatus 10 in which the original film 20 and the photosensitive substrate 30 are brought into contact with each other in # 103
0 and the photosensitive substrate 30 are brought into close contact with each other. At this time, since the original film 20 and the photosensitive substrate 30 always come into close contact from the center to the periphery, the air is pushed outward and air does not remain between them. At this time, the plate deforming pump 13 remains open, and the air between the support substrate 11 and the original film holding plate 12 is
You can escape to the outside. Further, the exhaust pump 15 is operated to exhaust the air between the original film 20 and the photosensitive substrate 30, and the air therebetween is removed, so that the two are more firmly adhered to each other (FIG. 5).
【００２１】（＃１０５；露光工程）＃１０４において
原版フィルム２０と感光基板３０とを密着させた露光装
置１０は、露光ランプ１６で露光して、感光基板３０を
感光させる（図６）。(# 105; Exposure Step) The exposure apparatus 10 in which the original film 20 and the photosensitive substrate 30 are brought into close contact in # 104 exposes the photosensitive substrate 30 by exposing with the exposure lamp 16 (FIG. 6).
【００２２】本実施形態によれば、原版フィルム保持プ
レート１２は、感光基板３０側に凸状に突き出すように
取り付けられ、その状態で、原版フィルム２０と感光基
板３０とを、必ず、凸状部分の中央から当接させるの
で、原版フィルム２０と感光基板３０とのあいだに空気
を入り込ませることがなく、両者を確実に密着させるこ
とができる。また、排気ポンプ１５で、原版フィルム２
０と感光基板３０との間の空気を除去するので、両者
を、一層、強固に密着させることができる。さらに、原
版フィルム２０は、硬質の原版フィルム保持プレート１
２に貼付されたまま、交換、保管等することができるの
で、段取り替えや、保管に際しても、破損等の恐れがな
く、容易に取り扱うことができる。さらにまた、原版フ
ィルム保持プレート１２は、アクリルだけで、枠がない
ので、軽くて操作性がよい。According to the present embodiment, the original film holding plate 12 is mounted so as to protrude toward the photosensitive substrate 30 side, and in this state, the original film 20 and the photosensitive substrate 30 are always connected to the convex portion. Since the contact is made from the center of the film, air can be prevented from entering between the original film 20 and the photosensitive substrate 30, and both can be surely brought into close contact with each other. In addition, the original film 2 is
Since the air between 0 and the photosensitive substrate 30 is removed, both can be more firmly adhered. Further, the original film 20 is a rigid original film holding plate 1.
Since it can be exchanged, stored, etc. while being attached to 2, it can be handled easily without any risk of breakage during setup change or storage. Furthermore, since the original film holding plate 12 is made of only acrylic and has no frame, it is light and has good operability.
【００２３】（変形形態）以上説明した実施形態に限定
されることなく、種々の変形や変更が可能であって、そ
れらも本発明の均等の範囲内である。例えば、支持基板
１１と原版フィルム保持プレート１２とで形成される空
間に液体を充満させて、液体ポンプのプレート変形用ポ
ンプ１３を使用して、原版フィルム保持プレート１２を
変形させてもよい。液体は、温度変化による体積変化が
ほとんどないので、特別な温度管理をしなくても、排出
量の制御で原版フィルム保持プレート１２の形状を制御
することが可能である。(Modifications) Various modifications and changes are possible without being limited to the embodiment described above, and these are also within the equivalent scope of the present invention. For example, the space formed by the support substrate 11 and the original film holding plate 12 may be filled with liquid, and the original film holding plate 12 may be deformed by using a plate deformation pump 13 of a liquid pump. Since the liquid hardly changes in volume due to temperature change, it is possible to control the shape of the original film holding plate 12 by controlling the discharge amount without special temperature management.
【００２４】[0024]
【発明の効果】以上、詳しく説明したように、請求項１
の発明によれば、表面に原版が貼付され、支持基板に対
して反対側に突き出すように取り付けられた原版保持手
段を有するので、原版と感光基板とのあいだに空気を入
り込ませることがなく、両者を確実に密着させることが
できる。また、原版保持手段を平坦にして、原版を感光
基板に整合するので、正確に整合することができる。As described in detail above, claim 1 is as follows.
According to the invention, the original is affixed to the surface, and has the original holding means attached so as to protrude to the opposite side with respect to the support substrate, so that air does not enter between the original and the photosensitive substrate, Both can be surely brought into close contact. Also, since the original holding means is flattened to align the original with the photosensitive substrate, accurate alignment can be achieved.
【００２５】請求項２の発明によれば、原版保持部変形
手段は、空気制御により、原版保持手段の形状を制御す
るので、構造が簡単である。According to the second aspect of the present invention, since the original holding portion deforming means controls the shape of the original holding means by air control, the structure is simple.
【００２６】請求項３の発明によれば、原版保持手段
は、原版を貼付したまま取り外して交換することができ
るので、原版の取り扱いが容易である。According to the third aspect of the present invention, since the original holding means can be removed and replaced with the original attached, the handling of the original is easy.
【００２７】請求項４の発明によれば、原版と感光基板
との間の空気を排除する排気手段を備えるので、原版と
感光基板とを、一層、確実に密着させることができる。According to the fourth aspect of the present invention, since the exhaust means for removing air between the original and the photosensitive substrate is provided, the original and the photosensitive substrate can be more securely brought into close contact with each other.
【図１】本発明による露光装置の一実施形態を示す側面
図である。FIG. 1 is a side view showing an embodiment of an exposure apparatus according to the present invention.
【図２】本発明の露光装置の感光基板セッティング工程
を説明する図である。FIG. 2 is a view illustrating a photosensitive substrate setting step of the exposure apparatus of the present invention.
【図３】本発明の露光装置の整合工程を説明する図であ
る。FIG. 3 is a diagram illustrating an alignment process of the exposure apparatus of the present invention.
【図４】本発明の露光装置の当接工程を説明する図であ
る。FIG. 4 is a diagram illustrating a contact step of the exposure apparatus of the present invention.
【図５】本発明の露光装置の密着工程を説明する図であ
る。FIG. 5 is a diagram illustrating a contact step of the exposure apparatus of the present invention.
【図６】本発明の露光装置の露光工程を説明する図であ
る。FIG. 6 is a view for explaining an exposure step of the exposure apparatus of the present invention.
【図７】従来の露光装置を示す側面図である。FIG. 7 is a side view showing a conventional exposure apparatus.
１０ 露光装置 １１ 支持基板 １１ａ 貫通孔 １１ｂ シール部材 １２ 原版フィルム保持プレート １３ プレート変形用ポンプ １４ 整合テーブル １４ａ 排気孔 １５ 排気ポンプ １６ 露光ランプ ２０ 原版フィルム ３０ 感光基板 ５２ 支持フィルム ５３ 吸気ポンプ ５４ 真空ポンプ DESCRIPTION OF SYMBOLS 10 Exposure apparatus 11 Support substrate 11a Through hole 11b Seal member 12 Original film holding plate 13 Plate deformation pump 14 Matching table 14a Exhaust hole 15 Exhaust pump 16 Exposure lamp 20 Original film 30 Photosensitive substrate 52 Support film 53 Intake pump 54 Vacuum pump
Claims (4)
して露光する露光装置であって、 露光波長の光を透過する支持基板と、 その表面に前記原版が貼付され、前記支持基板に対して
反対側に突き出すように取り付けられ、一旦、平坦にな
って、前記原版と前記感光基板とを整合した後、再び、
もとの突き出し状態に戻って、前記原版と前記感光基板
とを当接する原版保持手段と、 前記原版保持手段の形状を変形させる原版保持部変形手
段とを備えることを特徴とする露光装置。1. An exposure apparatus for exposing a photosensitive substrate having photosensitivity and an original in close contact with each other, comprising: a supporting substrate that transmits light of an exposure wavelength; Attached so as to protrude to the opposite side, once flattened, after aligning the original and the photosensitive substrate, again,
An exposure apparatus comprising: an original holding unit configured to return to an original protruding state and contact the original with the photosensitive substrate; and an original holding unit deforming unit configured to deform a shape of the original holding unit.
版保持手段の形状を変形させることを特徴とする露光装
置。2. The exposure apparatus according to claim 1, wherein the original holding unit deforming unit deforms the shape of the original holding unit by air control.
において、 前記原版保持手段は、前記原版を貼付したまま取り外し
て交換することができることを特徴とする露光装置。3. The exposure apparatus according to claim 1, wherein the original holding unit can be removed and replaced with the original attached.
項に記載の露光装置において、 前記原版と前記感光基板との間の空気を排気して、前記
原版と前記感光基板とを密着させる排気手段を備えるこ
とを特徴とする露光装置。4. One of claims 1 to 3
The exposure apparatus according to claim 1, further comprising an exhaust unit that exhausts air between the original and the photosensitive substrate to bring the original into close contact with the photosensitive substrate.
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