JP2001176791A - Method and system of exposure, and pellicle - Google Patents
Method and system of exposure, and pellicleInfo
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Abstract
Description
【０００１】[0001]
【発明の属する技術分野】本発明は、ペリクルを用いた
リソグラフィーの露光方法、露光装置およびリソグラフ
ィー用ペリクルに関する。The present invention relates to a lithographic exposure method using a pellicle, an exposure apparatus, and a pellicle for lithography.
【０００２】[0002]
【従来の技術】従来、ＬＳＩ、超ＬＳＩなどの半導体装
置あるいは液晶表示板などの製造においては、半導体装
置用あるいは液晶用原板に光を照射してパターニングを
する工程がある。この場合、光照射に用いる露光原版に
ゴミが付着しないように、ペリクルをマスク（本発明で
は、露光原版と露光原版の支持基板とを合わせて、マス
クという）に貼付する方法が行われている。マスクにペ
リクルを貼付することにより、ゴミは、マスクの表面に
は直接付着せず、ペリクル膜上に付着することになるた
め、リソグラフィー時に、焦点をマスクのパターン上に
合わせておけば、ペリクル上のゴミは焦点ずれとなり、
転写に無関係となる利点がある。2. Description of the Related Art Conventionally, in the manufacture of semiconductor devices such as LSIs and VLSIs or liquid crystal display panels, there is a step of irradiating light onto a semiconductor device or liquid crystal original plate to perform patterning. In this case, a method is employed in which a pellicle is attached to a mask (in the present invention, a mask is used in combination with the exposure master and the support substrate of the exposure master) so that dust does not adhere to the exposure master used for light irradiation. . By attaching the pellicle to the mask, dust will not adhere directly to the surface of the mask, but will adhere to the pellicle film. Garbage is out of focus,
It has the advantage of being independent of transcription.
【０００３】ペリクルは、一般に、図１に示すように、
薄いペリクル膜１とフレーム３、ペリクル膜１をフレー
ム３に接着するメンブレン接着剤２、ペリクルをマスク
５に接着するレチクル接着剤４からなっている。ペリク
ル膜１には、光を良く通過させるニトロセルロース、酢
酸セルロース、もしくはフッ素ポリマーなどからなる透
明な薄膜が用いられ、ペリクル膜１とフレーム３との接
着は、アルミニウム、ステンレス、ポリエチレン等から
なるペリクル枠（フレーム３）の上部にペリクル膜１の
良溶媒を塗布し、風乾して接着する（特開昭５８−２１
９０２３号公報）か、アクリル樹脂やエポキシ樹脂もし
くはフッ素ポリマーなどの接着剤で接着する（米国特許
第４８６１４０２号明細書、特公昭６３−２７７０７号
公報、特開平７−１６８３４５号公報）ことが行われて
いる。[0003] Generally, a pellicle is, as shown in FIG.
It comprises a thin pellicle film 1 and a frame 3, a membrane adhesive 2 for bonding the pellicle film 1 to the frame 3, and a reticle adhesive 4 for bonding the pellicle to the mask 5. As the pellicle film 1, a transparent thin film made of nitrocellulose, cellulose acetate, fluoropolymer, or the like that allows light to pass well is used. The pellicle film 1 is bonded to the frame 3 by a pellicle made of aluminum, stainless steel, polyethylene, or the like. A good solvent for the pellicle film 1 is applied to the upper part of the frame (frame 3), and air-dried for adhesion (JP-A-58-21).
No. 9023) or bonding with an adhesive such as an acrylic resin, an epoxy resin or a fluoropolymer (US Pat. No. 4,861,402, JP-B-63-27707, JP-A-7-168345). ing.
【０００４】ペリクル膜１として、ガラス厚板等のペリ
クル厚板７（図５）を用いる場合もある。ペリクルは、
フレーム３の下部にポリブテン樹脂、ポリ酢酸ビニル樹
脂、アクリル樹脂、シリコーン樹脂等からなるレチクル
接着剤４（粘着剤）層を設け、該粘着剤４層を保護する
離型剤層（セパレータ）をその上に設けておくのが一般
的である。ペリクルは、露光装置にかける前にあらかじ
めマスク５に貼り付けられる。このマスク５への貼付
は、該離型剤層を剥離し、ペリクルを、荷重をかけて、
マスク５に押しつけることにより行われる。そのため
に、ペリクルの粘着剤４層は、所要の厚さと弾性を持つ
必要がある。In some cases, a pellicle thick plate 7 (FIG. 5) such as a glass thick plate is used as the pellicle film 1. The pellicle is
A reticle adhesive 4 (adhesive) layer made of a polybutene resin, a polyvinyl acetate resin, an acrylic resin, a silicone resin, or the like is provided at a lower portion of the frame 3, and a release agent layer (separator) for protecting the adhesive 4 layer is provided. It is generally provided above. The pellicle is pasted on the mask 5 before being applied to the exposure apparatus. The sticking to the mask 5 is performed by peeling the release agent layer, applying a load to the pellicle,
This is performed by pressing against the mask 5. Therefore, the four adhesive layers of the pellicle need to have required thickness and elasticity.
【０００５】ペリクルが貼付されたマスク５は、露光装
置のマスク保持部８（図２）で保持されて運ばれ、露光
装置の所定の位置で露光される。従来のペリクルとマス
ク５との接着においては、ペリクル膜１の表面（以下、
ペリクル膜面という）がマスク５の露光原版面（以下、
マスク面という）に平行でない場合が見られた。その原
因としては、フレーム３の下面に設けられた粘着剤４層
の厚みが均一でない場合、貼付の際の押圧が均一になさ
れない場合、フレーム３自体に加工寸法誤差がある場
合、等があり得る。[0005] The mask 5 to which the pellicle is attached is held and carried by the mask holding section 8 (FIG. 2) of the exposure apparatus, and is exposed at a predetermined position of the exposure apparatus. In the conventional adhesion between the pellicle and the mask 5, the surface of the pellicle film 1 (hereinafter referred to as the
The pellicle film surface) is the exposed original surface of the mask 5 (hereinafter, referred to as the pellicle film surface).
(Referred to as the mask plane). The causes include the case where the thickness of the adhesive layer 4 provided on the lower surface of the frame 3 is not uniform, the case where the pressure at the time of sticking is not uniform, the case where the frame 3 itself has a processing dimensional error, and the like. obtain.
【０００６】ペリクル膜面とマスク面とが平行でない場
合は、ペリクルを通る光がゆがめられ、そのゆがみが光
を照射される被露光処理原板上に転写されるため、被露
光処理原板上の回路パターンにゆがみが生じることにな
る。このゆがみは、被露光処理原板上の回路パターンの
パターン線幅にずれを生じさせることになり、歩留まり
の低下を招く。近時のマスクパターンの微細化傾向によ
り、用いる光線の波長が短くなり、紫外線に移行しつつ
ある現状では、このペリクル膜面とマスク面との平行度
の確保は、いよいよ重要な課題となっている。When the pellicle film surface and the mask surface are not parallel, the light passing through the pellicle is distorted, and the distortion is transferred onto the exposed original plate to be irradiated with light. The pattern will be distorted. This distortion causes a shift in the pattern line width of the circuit pattern on the original plate to be exposed, and lowers the yield. With the recent trend toward miniaturization of mask patterns, the wavelength of the light beam used is becoming shorter, and ultraviolet light is shifting to the current state.Securing parallelism between the pellicle film surface and the mask surface has become an increasingly important issue. I have.
【０００７】また、ガラス等の厚板をペリクル厚膜７と
して用いる場合には、厚板であるために、薄膜による干
渉効果がなくなり、ペリクル厚板表面からの反射が大き
くなる。また、光学的にペリクル厚板がレンズの役割を
果たすことになるので、ペリクル膜面とマスク面の平行
度の確保は更に重要になる。しかし、従来の露光装置で
は、ペリクル膜面とマスク面との平行度を調整すること
は全く考えられていなかった。When a thick plate of glass or the like is used as the pellicle thick film 7, since the thick plate is used, the thin film eliminates the interference effect and the reflection from the pellicle thick plate surface increases. Further, since the pellicle thick plate plays the role of a lens optically, it is more important to ensure the parallelism between the pellicle film surface and the mask surface. However, in the conventional exposure apparatus, it has not been considered at all to adjust the parallelism between the pellicle film surface and the mask surface.
【０００８】[0008]
【発明が解決しようとする課題】上記問題点に鑑み、本
発明の課題は、ペリクルを用いたリソグラフィーにおけ
る露光の際に、ペリクル膜面とマスク面との平行度を調
整することができるようにすることにある。SUMMARY OF THE INVENTION In view of the above problems, an object of the present invention is to adjust the parallelism between a pellicle film surface and a mask surface during exposure in lithography using a pellicle. Is to do.
【０００９】[0009]
【課題を解決するための手段】上記に課題を解決するた
めに、本発明のペリクルを用いたリソグラフィーにおけ
る露光方法は、露光に際して、ペリクルのペリクル膜面
とマスク面との平行度を調整・確保するを特徴とする。
本発明の露光装置は、露光装置にマスク保持部と、ペリ
クル保持部ないしペリクル支持部とを備えることを特徴
とする。該ペリクル支持部は、ペリクル面をマスク面に
対して平行に調整する構造となっている。更に、本発明
のリソグラフィーに用いられるペリクルは、厚板からな
るペリクル膜をフレームから外側にはみ出させ、このは
み出し部分を前記ペリクル保持部に保持され得る被保持
部とすることができる。In order to solve the above-mentioned problems, an exposure method in lithography using a pellicle according to the present invention adjusts and secures the parallelism between the pellicle film surface of the pellicle and the mask surface during exposure. It is characterized by
An exposure apparatus according to the present invention is characterized in that the exposure apparatus includes a mask holding unit and a pellicle holding unit or a pellicle supporting unit. The pellicle support has a structure for adjusting the pellicle surface parallel to the mask surface. Further, in the pellicle used in the lithography of the present invention, the pellicle film formed of a thick plate may protrude from the frame to the outside, and the protruding portion may be a held portion that can be held by the pellicle holding portion.
【００１０】[0010]
【発明の実施の形態】前述のとおり、従来の露光装置
は、マスク５を両脇からつかむことによってマスク５を
保持する機能を持つマスク保持部８（図２）を備えるだ
けで、ペリクルを保持する機能は有していなかった。本
発明者が検討した結果、上記課題は、ペリクルを用いた
リソグラフィーにおける露光に際して、従来の露光装置
に備えられていたマスク保持部８に加えて、ペリクル膜
面をマスク面と平行にするために、露光装置にペリクル
を保持するペリクル保持部９（図２）を新たに設け、ま
たは、ペリクル支持部１０（図４）を設け、ペリクル膜
面とマスク面とが平行になるように調整・確保すること
で解決できることを見い出し、本発明に至った。DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS As described above, a conventional exposure apparatus holds a pellicle only by providing a mask holding section 8 (FIG. 2) having a function of holding the mask 5 by holding the mask 5 from both sides. Did not have the function of As a result of the study by the present inventor, the above-mentioned problem has been solved in order to make the pellicle film surface parallel to the mask surface in addition to the mask holding unit 8 provided in the conventional exposure apparatus during the exposure in lithography using the pellicle. A pellicle holding section 9 (FIG. 2) for holding a pellicle is newly provided in the exposure apparatus, or a pellicle supporting section 10 (FIG. 4) is provided so that the pellicle film surface and the mask surface are adjusted and secured in parallel. The present invention has been found to be able to solve this problem, and has led to the present invention.
【００１１】本発明は、ペリクルとマスク５との貼付に
用いられる粘着剤４層（レチクル接着剤層）の有する弾
性を利用して、露光に際して、ペリクル膜面とマスク面
との平行度を調整する点に特徴がある。マスク保持部８
で平板状のマスク５を保持するのであるから、マスク面
の平面の水平度は、マスク保持部８を調整することによ
って決めることができる。ペリクル膜面の水平度を保っ
てペリクル保持部９でペリクルを保持することができれ
ば、マスク面とペリクル膜面とが共に水平になり、した
がって、両者は平行とすることができる。マスク面の平
面とペリクル膜の平面とを平行に調整・確保するときに
そこに生じる齟齬は、ペリクルとマスク５との貼付に用
いられる粘着剤４層の有する弾性によって吸収される。According to the present invention, the degree of parallelism between the pellicle film surface and the mask surface is adjusted at the time of exposure by utilizing the elasticity of the four pressure-sensitive adhesive layers (reticle adhesive layer) used for attaching the pellicle to the mask 5. There is a feature in that. Mask holder 8
, The flatness of the mask surface can be determined by adjusting the mask holding unit 8. If the pellicle can be held by the pellicle holding unit 9 while maintaining the level of the pellicle film surface, the mask surface and the pellicle film surface are both horizontal, and therefore, both can be parallel. The inconsistency that arises when the plane of the mask surface and the plane of the pellicle film are adjusted and secured in parallel is absorbed by the elasticity of the four adhesive layers used for attaching the pellicle and the mask 5.
【００１２】ペリクル用のフレーム３のペリクル膜１を
接着する面の平面度は、従来十分に保たれていたので、
そのフレーム３に接着されるペリクル膜１の平面度は保
証されている。したがって、ペリクル膜面の平面が水平
になるようにペリクル保持部９でペリクルを保持すれ
ば、ペリクル膜面はマスク面と平行となる。フレーム３
の側面とペリクル膜１接着面とが垂直に仕上がっている
フレームを用いるならば、図２に示すように、フレーム
３の側面を保持するペリクル保持部９の姿勢を事前に調
整しておくことによって、フレーム３の側面をペリクル
保持部９で保持することにより、ペリクル膜面を水平に
保持することができる。ペリクル膜面が水平になるよう
に、ペリクル保持部９の把持部の角度を変えることがで
きる機構（図示せず）を採用することにより、ペリクル
膜面の平面を基準にして、ペリクル膜面を水平にしてペ
リクルを保持することができる。The flatness of the surface of the pellicle frame 3 to which the pellicle film 1 is bonded has been sufficiently maintained conventionally.
The flatness of the pellicle film 1 bonded to the frame 3 is guaranteed. Therefore, if the pellicle is held by the pellicle holding unit 9 so that the plane of the pellicle film surface is horizontal, the pellicle film surface is parallel to the mask surface. Frame 3
If a frame is used in which the side surface of the pellicle film 1 and the pellicle film 1 bonding surface are finished perpendicularly, as shown in FIG. 2, the posture of the pellicle holding portion 9 holding the side surface of the frame 3 is adjusted in advance. By holding the side surface of the frame 3 with the pellicle holding unit 9, the pellicle film surface can be held horizontally. By adopting a mechanism (not shown) capable of changing the angle of the gripping portion of the pellicle holding portion 9 so that the pellicle film surface is horizontal, the pellicle film surface is adjusted with respect to the plane of the pellicle film surface. The pellicle can be held horizontally.
【００１３】ペリクル膜面の平面を基準とするとき、ペ
リクル保持部９側に突き出し部６（図３）を設けること
もできる。以上のいずれの方策を採用するにしても、ペ
リクルには、前記露光装置のペリクル保持部９に保持さ
れ得る被保持部を有することが必要であり、この被保持
部を露光装置のペリクル保持部９が保持しマスク面に平
行になるよう調整・確保することにより、ペリクル面を
マスク面に対して平行にすることができる。ペリクルの
被保持部としては、ペリクルのフレーム３が利用でき
る。ペリクル膜として、ガラス厚板７等の厚板を用いる
場合には、その厚板をフレームの外側にはみ出させ、そ
のペリクル膜（板）のはみ出し部分を被保持部として利
用することができる（図５）。When the plane of the pellicle film surface is used as a reference, a protruding portion 6 (FIG. 3) can be provided on the pellicle holding portion 9 side. Regardless of which of the above measures is adopted, the pellicle must have a held part that can be held by the pellicle holding part 9 of the exposure apparatus, and this held part is required to be a pellicle holding part of the exposure apparatus. The pellicle surface can be made parallel to the mask surface by adjusting and ensuring that the pellicle surface 9 is held and parallel to the mask surface. The pellicle frame 3 can be used as the pellicle held portion. When a thick plate such as the glass thick plate 7 is used as the pellicle film, the thick plate is allowed to protrude to the outside of the frame, and the protruding portion of the pellicle film (plate) can be used as a portion to be held. 5).
【００１４】フレームのペリクル膜側にペリクル膜１と
平行に突き出し部６を設け、この突き出し部６をペリク
ル膜平面の基準として利用することもできる（図３）。
また、ペリクル保持部９の変形として、露光装置のマス
ク保持部８にペリクル支持部１０（図４）を併設し、マ
スク保持部８でマスク５をつかむと共に、ペリクル支持
部１０でペリクルをマスク５に更に押しつけもしくは引
き離すことによって、ペリクル膜面とマスク面との平行
度を高めることができる。ここに示したペリクル膜面と
マスク面との平行度の調整は、粘着剤層が弾性を持って
いることにより可能となるものであり、粘着剤層として
は、好ましくは弾性が比較的小さい粘着剤、例えばシリ
コーン粘着剤を用いることが好ましい。A projecting portion 6 is provided on the pellicle film side of the frame in parallel with the pellicle film 1, and the projecting portion 6 can be used as a reference of the pellicle film plane (FIG. 3).
As a modification of the pellicle holding unit 9, a pellicle support unit 10 (FIG. 4) is provided alongside the mask holding unit 8 of the exposure apparatus, and the mask 5 is grasped by the mask holding unit 8 and the pellicle is masked by the pellicle support unit 10. By further pressing or pulling away from the mask, the parallelism between the pellicle film surface and the mask surface can be increased. The adjustment of the parallelism between the pellicle film surface and the mask surface shown here is made possible by the fact that the pressure-sensitive adhesive layer has elasticity, and the pressure-sensitive adhesive layer preferably has a relatively low elasticity. It is preferable to use an agent such as a silicone adhesive.
【００１５】[0015]
【実施例】以下、図面に基づいて、本発明の実施例を示
す。 ［実施例１］フッ素樹脂製の薄膜をペリクル膜として持
ち、シリコーン樹脂製の０．５ｍｍ厚の粘着剤４層を有
するペリクルをマスク５に載せ、フレーム３上端面に荷
重をかけてペリクルをマスク５に貼り付ける。このマス
ク５を、図２に説明図として示す本発明の実施の形態の
一つである露光装置（要部）を用いて露光位置に導入す
る。マスク５は、露光装置のマスク保持部８によって所
定の場所に搬送され、露光が行われるが、露光装置に設
けられたペリクル保持部９により、ペリクル接着面と側
面とが垂直であることが確認されているフレーム３の側
面が保持され、ペリクル膜面とマスク面との平行度が調
整・確保される。この調整により、ペリクル膜面とマス
ク面との平行度が高くなり、高品質な露光が可能となっ
た。Embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings. [Example 1] A pellicle having a thin film made of fluororesin as a pellicle film, and a pellicle having four layers of 0.5 mm thick adhesive made of silicone resin was placed on a mask 5 and a load was applied to the upper end surface of the frame 3 to mask the pellicle. Paste on 5. The mask 5 is introduced into an exposure position using an exposure apparatus (main part) which is one of the embodiments of the present invention shown as an explanatory diagram in FIG. The mask 5 is conveyed to a predetermined place by the mask holding unit 8 of the exposure apparatus, and is exposed. The pellicle holding unit 9 provided in the exposure apparatus confirms that the pellicle bonding surface and the side surface are perpendicular. The side surface of the frame 3 is held, and the parallelism between the pellicle film surface and the mask surface is adjusted and secured. By this adjustment, the parallelism between the pellicle film surface and the mask surface was increased, and high-quality exposure became possible.
【００１６】［実施例２］実施例１で用いたのと同様の
ペリクルをマスク５に載せ、フレーム３上端面に荷重を
かけてペリクルをマスク５に貼り付ける。このマスク５
を、図３に説明図として示す本発明の実施の形態の一つ
である露光装置（要部）を用いて露光位置に導入する。
マスク５は、露光装置のマスク保持部８によって所定の
場所に搬送され、露光が行われるが、露光装置のペリク
ル保持部９により、フレーム３が保持される。このとき
ペリクル保持部９には、フレーム３の上端面に接触する
突き出し部６が備え付けられている。この突き出し部６
が、ペリクル膜面を接着するフレーム３の端面に当接す
るようにペリクル保持部９が回転した後に、ペリクル保
持部９はフレームを把持する。Example 2 A pellicle similar to that used in Example 1 is placed on a mask 5 and a pellicle is attached to the mask 5 while applying a load to the upper end surface of the frame 3. This mask 5
Is introduced into an exposure position using an exposure apparatus (main part) which is one of the embodiments of the present invention shown as an explanatory view in FIG.
The mask 5 is transported to a predetermined place by the mask holding unit 8 of the exposure apparatus, and is exposed. The pellicle holding unit 9 of the exposure apparatus holds the frame 3. At this time, the pellicle holding portion 9 is provided with a protruding portion 6 that comes into contact with the upper end surface of the frame 3. This protrusion 6
However, after the pellicle holding unit 9 rotates so as to contact the end surface of the frame 3 to which the pellicle film surface is bonded, the pellicle holding unit 9 grips the frame.
【００１７】その後、ペリクル保持部９がマスク保持部
８との事前に設定されていた平行度を正す向きに変更さ
れることにより、ペリクル膜面とマスク面との平行度が
調整・確保される（回転機構等は、図示を省略するが、
適宜のものが利用可能である）。この調整により、ペリ
クル膜面とマスク面との平行度が高くなり、高品質な露
光が可能となった。なお、この実施例では詳細を略して
いるが、ペリクル保持部９のフレーム把持機構に球面座
等を利用することにより、フレームの軸線とペリクル膜
接着面端面との垂直性が保証されていないペリクルに関
しても、ペリクル膜面とマスク面との平行度を調整・確
保することができることは、言うまでもない。Thereafter, the pellicle holding unit 9 is changed to a direction in which the parallelism set in advance with the mask holding unit 8 is corrected, so that the parallelism between the pellicle film surface and the mask surface is adjusted and secured. (The rotation mechanism and the like are not shown,
Appropriate ones are available). By this adjustment, the parallelism between the pellicle film surface and the mask surface was increased, and high-quality exposure became possible. Although details are omitted in this embodiment, the use of a spherical seat or the like for the frame gripping mechanism of the pellicle holding unit 9 does not guarantee the perpendicularity between the axis of the frame and the end surface of the pellicle film bonding surface. It goes without saying that the parallelism between the pellicle film surface and the mask surface can be adjusted and secured.
【００１８】［実施例３］実施例１で用いたのと同様の
ペリクルをマスクに載せ、フレーム３上端面に荷重をか
けてペリクルをマスク５に貼り付ける。このマスク５
を、図４に説明図として示す本発明の実施の形態の一つ
である露光装置（要部）を用いて露光装置に導入する。
マスク５は、露光装置のマスク保持部８によって所定の
場所に搬送され、露光が行われるが、このときマスク保
持部８に付属したペリクル支持部１０により、ペリクル
は、マスク５に均一に精密に押しつけられる。押しつけ
によりペリクル膜面のマスク面に対する平行度が調整・
確保される。この調整により、ペリクル膜面とマスク面
との平行度が高くなり、高品質な露光が可能となった。Example 3 A pellicle similar to that used in Example 1 is placed on a mask, and a load is applied to the upper end surface of the frame 3 to attach the pellicle to the mask 5. This mask 5
Is introduced into an exposure apparatus using an exposure apparatus (main part) which is one of the embodiments of the present invention shown as an explanatory view in FIG.
The mask 5 is conveyed to a predetermined place by the mask holding unit 8 of the exposure apparatus and exposure is performed. At this time, the pellicle is uniformly and precisely attached to the mask 5 by the pellicle support unit 10 attached to the mask holding unit 8. Pressed. The parallelism of the pellicle film surface to the mask surface is adjusted by pressing
Secured. By this adjustment, the parallelism between the pellicle film surface and the mask surface was increased, and high-quality exposure became possible.
【００１９】［実施例４］ガラス製のペリクル厚板７を
ペリクル膜とするペリクルをマスク５に載せ、フレーム
３上端面に荷重をかけペリクルをマスク５に貼り付け
る。このマスク５を、図５に説明図として示す本発明の
実施の形態の一つである露光装置（要部）を用いて露光
装置に導入する。マスク５は、露光装置のマスク保持部
８によって所定の場所に搬送され、露光が行われるが、
露光装置のペリクル保持部９により外側にはみ出させた
厚板が保持され、ペリクル膜面とマスク面との平行度が
調整・確保される。この調整により、ペリクルとマスク
５の平行度が高くなり、高品質な露光が可能となった。[Embodiment 4] A pellicle having a pellicle film made of a pellicle thick plate 7 made of glass is placed on a mask 5 and a load is applied to the upper end surface of the frame 3 to attach the pellicle to the mask 5. This mask 5 is introduced into an exposure apparatus using an exposure apparatus (main part) which is one of the embodiments of the present invention shown as an explanatory view in FIG. The mask 5 is transported to a predetermined place by the mask holding unit 8 of the exposure apparatus, and exposure is performed.
The thick plate protruding outside is held by the pellicle holding unit 9 of the exposure apparatus, and the parallelism between the pellicle film surface and the mask surface is adjusted and secured. By this adjustment, the parallelism between the pellicle and the mask 5 was increased, and high-quality exposure was made possible.
【００２０】[0020]
【発明の効果】露光時に、露光装置がマスク保持部によ
りマスクを保持すると共に、ペリクル保持部によりペリ
クルを保持し、ペリクル膜面のマスク面に対する平行度
を調整・確保することにより、ペリクル膜面のマスク面
に対する平行度が高くなり、高品質な露光が可能とな
る。According to the present invention, at the time of exposure, the exposure apparatus holds the mask by the mask holding unit, holds the pellicle by the pellicle holding unit, and adjusts and secures the parallelism of the pellicle film surface to the mask surface. , The degree of parallelism with respect to the mask surface increases, and high-quality exposure can be performed.
【図１】 ペリクルの構造を示す説明図である。FIG. 1 is an explanatory diagram showing a structure of a pellicle.
【図２】 本発明の実施例１の態様を示す説明図であ
る。FIG. 2 is an explanatory diagram showing an embodiment of the first embodiment of the present invention.
【図３】 本発明の実施例２の態様を示す説明図であ
る。FIG. 3 is an explanatory view showing an aspect of a second embodiment of the present invention.
【図４】 本発明の実施例３の態様を示す説明図であ
る。FIG. 4 is an explanatory diagram showing an embodiment of a third embodiment of the present invention.
【図５】 本発明の実施例４の態様を示す説明図であ
る。FIG. 5 is an explanatory view showing an aspect of a fourth embodiment of the present invention.
１：ペリクル膜 ２：メンブレン接着剤 ３：フレーム ４：レチクル接着剤（粘着剤） ５：マスク ６：突き出し部 ７：ペリクル厚板 ８：マスク保持部 ９：ペリクル保持部 １０：ペリクル支持部 1: Pellicle film 2: Membrane adhesive 3: Frame 4: Reticle adhesive (adhesive) 5: Mask 6: Projecting part 7: Pellicle thick plate 8: Mask holding part 9: Pellicle holding part 10: Pellicle supporting part
Claims (4)
る露光方法において、露光に際して、ペリクルのペリク
ル膜面とマスク面との平行度を調整・確保することを特
徴とする露光方法。1. An exposure method in lithography using a pellicle, wherein the degree of parallelism between the pellicle film surface of the pellicle and the mask surface is adjusted and secured at the time of exposure.
られる露光装置において、マスク保持部と、ペリクル保
持部とを備えてなることを特徴とする露光装置。2. An exposure apparatus used for lithography using a pellicle, comprising: a mask holding section; and a pellicle holding section.
られる露光装置において、マスク保持部と、ペリクル支
持部とを備え、該ペリクル支持部がペリクル膜面をマス
ク面に対して平行に調整する構造となっていることを特
徴とする露光装置。3. An exposure apparatus used for lithography using a pellicle, comprising a mask holding section and a pellicle support section, wherein the pellicle support section adjusts the pellicle film surface in parallel with the mask surface. An exposure apparatus, comprising:
おいて、厚板からなるペリクル膜をフレームから外側に
はみ出させ、このはみ出し部分を請求項２の露光装置の
ペリクル保持部に保持され得る被保持部とすることを特
徴とするペリクル。4. A pellicle used in lithography, wherein a pellicle film made of a thick plate is protruded outside a frame, and the protruding portion is a held portion that can be held by a pellicle holding portion of the exposure apparatus according to claim 2. A pellicle characterized by the following.
Priority Applications (4)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP36292699A JP3998114B2 (en) | 1999-12-21 | 1999-12-21 | Exposure method, exposure apparatus, and pellicle |
| US09/732,726 US6639650B2 (en) | 1999-12-21 | 2000-12-11 | Light exposure method, light exposure apparatus, pellicle and method for relieving warpage of pellicle membrane |
| TW089126612A TW463073B (en) | 1999-12-21 | 2000-12-13 | Exposure method, exposure apparatus, mask protection film and method for alleviating deflection of mask protection film |
| KR1020000079348A KR20010062562A (en) | 1999-12-21 | 2000-12-20 | Light exposure method, light exposure apparatus, pellicle and method for relieving warpage of pellicle membrane |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP36292699A JP3998114B2 (en) | 1999-12-21 | 1999-12-21 | Exposure method, exposure apparatus, and pellicle |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2001176791A true JP2001176791A (en) | 2001-06-29 |
| JP3998114B2 JP3998114B2 (en) | 2007-10-24 |
Family
ID=18478082
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP36292699A Expired - Fee Related JP3998114B2 (en) | 1999-12-21 | 1999-12-21 | Exposure method, exposure apparatus, and pellicle |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3998114B2 (en) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2008007521A1 (en) * | 2006-07-11 | 2008-01-17 | Nikon Corporation | Reticle holding member, reticle stage, exposure apparatus, projection exposure method and device manufacturing method |
| CN100386843C (en) * | 2002-11-05 | 2008-05-07 | 信越化学工业株式会社 | Mask protective layer for photoetching and its mfg. method |
| JP2013156353A (en) * | 2012-01-27 | 2013-08-15 | V Technology Co Ltd | Exposure equipment |
| KR20160028899A (en) * | 2014-09-04 | 2016-03-14 | 삼성전자주식회사 | Apparatus for protecting extreme ultra violet(EUV) mask, and EUV exposure apparatus comprising the same |
-
1999
- 1999-12-21 JP JP36292699A patent/JP3998114B2/en not_active Expired - Fee Related
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| KR20160028899A (en) * | 2014-09-04 | 2016-03-14 | 삼성전자주식회사 | Apparatus for protecting extreme ultra violet(EUV) mask, and EUV exposure apparatus comprising the same |
| KR102242562B1 (en) * | 2014-09-04 | 2021-04-20 | 삼성전자주식회사 | Apparatus for protecting extreme ultra violet(EUV) mask, and EUV exposure apparatus comprising the same |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP3998114B2 (en) | 2007-10-24 |
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|
| A977 | Report on retrieval |
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| TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
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| A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
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