JP2001070284A5 - - Google Patents
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Description
【特許請求の範囲】
【請求項1】
被検体が挿入される計測空間を挟んで対向して、計測空間から近い順に、一対の磁極片と、これに接続された一対の永久磁石と、これを支持する一対のヨーク(継鉄)が配置され、一対のヨークは柱状のコラム(継鉄)によって間隔をとって支持され、かつ、コラムと磁気的に結合されている静磁場発生装置において、前記磁極片の外径と前記永久磁石の実質的外径が略同一であることを特徴とする静磁場発生装置。
【請求項2】
請求項1記載の静磁場発生装置において、前記永久磁石の最大外径と、前記ヨークの永久磁石を支持する部分の外径が略同一であることを特徴とする静磁場発生装置。
【請求項3】
請求項1又は2記載の静磁場発生装置において、前記磁極片は計測空間に対向する面側の外周部に環状突起部を有し、かつ、渦電流の発生を阻止あるいは抑制するように構成したことを持撒とする静磁場発生装置。
【請求項4】
請求項3記載の静磁場発生装置において、前記磁極片は中央の円板部と、該円板部を取り巻く外周の環状突起部に分割され、前記円板部が強磁性体から成り、前記環状突起部が永久磁石から成り、前記円板部を渦電流の発生を阻止あるいは抑制するように構成したことを特徴とする静磁場発生装置。
【請求項5】
被検体が挿入される計測空間を挟んで対向して、計測空間から近い順に、一対の永久磁石と、これを支持する一対のヨーク(継鉄)が配置され、一対のヨークは柱状のコラム(継鉄)によって間隔をとって支持され、かつ、コラムと磁気的に結合されている静磁場
発生装置において、前記永久磁石の最大外径と、前記ヨークの永久磁石を支持する部分の外径が略同一であり、前記永久磁石の計測空間に対向する面側の少なくとも外周部に環状突起部を有することを特徴とする静磁場発生装置。
【請求項6】
請求項1乃至5記載の静磁場発生装置において、前記ヨークは前記永久磁石を支持する円板状の磁石支持部と、該磁石支持部から半径方向に突出したコラム接続部から成り、該コラム接続部の厚さは前記磁石支持部の厚さより厚くしたことを持徹とする静磁場発生装置。
【請求項7】
請求項1乃至6記載の静磁場発生装置において、前記ヨークは前記永久磁石を支持する円板状の磁石支持部と、該磁石支持部から半径方向に突出したコラム接続部から成り、前記磁石支持部の底辺が前記コラム接続部の底辺より上側となるように構成されていることを特徴とする静磁場発生装置。
【請求項8】
計測空間に静磁場を発生する静磁場発生装置と、計測空間に傾斜磁場を発生する傾斜磁場発生装置と、被検体(検査対象)に電磁波を照射し、被検体からの核磁気共鳴信号を検出する高周波コイルと、前記核磁気共鳴信号を用いて被検体の物理的性質をあらわす画像を得る画像再構成手段と、検査条件を制御する制御手段とを備えた磁気共鳴イメージング装置において、前記静磁場発生装置が請求項1乃至7の何れかに記載の静磁場発生装置であることを特徴とする磁気共鳴イメージング装置。
【請求項1】
被検体が挿入される計測空間を挟んで対向して、計測空間から近い順に、一対の磁極片と、これに接続された一対の永久磁石と、これを支持する一対のヨーク(継鉄)が配置され、一対のヨークは柱状のコラム(継鉄)によって間隔をとって支持され、かつ、コラムと磁気的に結合されている静磁場発生装置において、前記磁極片の外径と前記永久磁石の実質的外径が略同一であることを特徴とする静磁場発生装置。
【請求項2】
請求項1記載の静磁場発生装置において、前記永久磁石の最大外径と、前記ヨークの永久磁石を支持する部分の外径が略同一であることを特徴とする静磁場発生装置。
【請求項3】
請求項1又は2記載の静磁場発生装置において、前記磁極片は計測空間に対向する面側の外周部に環状突起部を有し、かつ、渦電流の発生を阻止あるいは抑制するように構成したことを持撒とする静磁場発生装置。
【請求項4】
請求項3記載の静磁場発生装置において、前記磁極片は中央の円板部と、該円板部を取り巻く外周の環状突起部に分割され、前記円板部が強磁性体から成り、前記環状突起部が永久磁石から成り、前記円板部を渦電流の発生を阻止あるいは抑制するように構成したことを特徴とする静磁場発生装置。
【請求項5】
被検体が挿入される計測空間を挟んで対向して、計測空間から近い順に、一対の永久磁石と、これを支持する一対のヨーク(継鉄)が配置され、一対のヨークは柱状のコラム(継鉄)によって間隔をとって支持され、かつ、コラムと磁気的に結合されている静磁場
発生装置において、前記永久磁石の最大外径と、前記ヨークの永久磁石を支持する部分の外径が略同一であり、前記永久磁石の計測空間に対向する面側の少なくとも外周部に環状突起部を有することを特徴とする静磁場発生装置。
【請求項6】
請求項1乃至5記載の静磁場発生装置において、前記ヨークは前記永久磁石を支持する円板状の磁石支持部と、該磁石支持部から半径方向に突出したコラム接続部から成り、該コラム接続部の厚さは前記磁石支持部の厚さより厚くしたことを持徹とする静磁場発生装置。
【請求項7】
請求項1乃至6記載の静磁場発生装置において、前記ヨークは前記永久磁石を支持する円板状の磁石支持部と、該磁石支持部から半径方向に突出したコラム接続部から成り、前記磁石支持部の底辺が前記コラム接続部の底辺より上側となるように構成されていることを特徴とする静磁場発生装置。
【請求項8】
計測空間に静磁場を発生する静磁場発生装置と、計測空間に傾斜磁場を発生する傾斜磁場発生装置と、被検体(検査対象)に電磁波を照射し、被検体からの核磁気共鳴信号を検出する高周波コイルと、前記核磁気共鳴信号を用いて被検体の物理的性質をあらわす画像を得る画像再構成手段と、検査条件を制御する制御手段とを備えた磁気共鳴イメージング装置において、前記静磁場発生装置が請求項1乃至7の何れかに記載の静磁場発生装置であることを特徴とする磁気共鳴イメージング装置。
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JP25584799A JP4293686B2 (ja) | 1999-09-09 | 1999-09-09 | 静磁場発生装置及びそれを用いた磁気共鳴イメージング装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP25584799A JP4293686B2 (ja) | 1999-09-09 | 1999-09-09 | 静磁場発生装置及びそれを用いた磁気共鳴イメージング装置 |
Publications (3)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2001070284A JP2001070284A (ja) | 2001-03-21 |
JP2001070284A5 true JP2001070284A5 (ja) | 2006-10-19 |
JP4293686B2 JP4293686B2 (ja) | 2009-07-08 |
Family
ID=17284428
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP25584799A Expired - Fee Related JP4293686B2 (ja) | 1999-09-09 | 1999-09-09 | 静磁場発生装置及びそれを用いた磁気共鳴イメージング装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2001074243A1 (fr) * | 2000-04-03 | 2001-10-11 | Hitachi Medical Corporation | Aimant supraconducteur et appareil d'imagerie par resonance magnetique qui comprend ledit aimant |
CN100581455C (zh) | 2006-10-13 | 2010-01-20 | Ge医疗系统环球技术有限公司 | 磁场产生装置和磁共振成像设备 |
KR101528221B1 (ko) * | 2013-11-20 | 2015-06-12 | 한국원자력연구원 | 가변 정자기장 케비티를 이용한 중성자 스핀 편극 장치 |
KR101746504B1 (ko) | 2015-10-01 | 2017-06-14 | 한국원자력연구원 | 고자기장 케비티 장치 및 이를 구비하는 rf 중성자 스핀 플리퍼 장치 |
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1999
- 1999-09-09 JP JP25584799A patent/JP4293686B2/ja not_active Expired - Fee Related
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