JP2001068449A - 枚葉型のウエット処理装置及びそのウエット処理方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】大型のウエハにおいても中心部分と外側部分で
均一な処理を行うことが可能な枚葉型のウエット処理装
置を提供する。 【解決手段】ウエハ３０の一主面３１と処理容器１とに
より形成される第１の空間７とウエハの他主面３２と処
理容器２とにより形成される第２の空間８とが隔離さ
れ、一主面３１と対面して多数の供給ノズル１０及び回
収ノズル２０がたがいに交互に配列し、それぞれの供給
ノズル１０からエッチング液１３を一主面３１に向けて
供給し、それぞれの回収ノズル２０からエッチング液２
３を回収するエッチング装置１００。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、枚葉型のウエット
処理装置及びそのウエット処理方法に係わり、特に大型
の半導体ウエハ（以下、ウエハ、と称する）に対する均
一なウエットエッチングを可能にする処理装置及び処理
方法に関する。

【０００２】

【従来の技術】ウエハのウエットエッチング処理には、
複数枚のウエハをキャリアに搭載し、キャリアをエッチ
ング薬液に浸漬するバッチ式の方法と、ウエハ表面にエ
ッチング液を供給してウエハを一枚毎に処理をする枚葉
式がある。

【０００３】バッチ式は一見大量生産に適しているよう
であるが、処理をするウエハの枚数に関係なく大きなエ
ッチング液槽を必要とし、洗浄装置も乾燥装置も大きく
なるから、製造装置全体が大型化してしまう。

【０００４】さらに複数のウエハに対するウエットエッ
チング処理を同時に行っても、次の工程が一枚ずつ行う
枚葉式の場合は、待ち時間が長くなりその間に自然酸化
膜の発生や汚れの付着等の不都合が発生する。

【０００５】したがって、特に大型のウエハの場合は、
状況に応じて一枚毎に処理を行う枚葉式のウエットエッ
チング処理の方が有利となる。

【０００６】図１１は従来技術の枚葉型ウエットエッチ
ング処理装置を示す図である。表面３１がウエットエッ
チング処理されるウエハ３０の裏面３２を回転テーブル
８６の上面に当接させて載置し、ウエハの中心部分上に
位置した１個のエッチング液供給ノズル８５を処理容器
上部８１の中央に設け、１個のエッチング液回収ノズル
８７を処理容器下部８２に設置している。

【０００７】そして回転テーブル８６により回転してい
るウエハ３０の表面３１の中央部分に、エッチング液供
給装置８３から供給チューブ８４および供給ノズル８５
を通してエッチング液が９１が落とされる。エッチング
液９１は、ウエハが回転しているので遠心力でウエハの
外方向に流れ全表面に行き渡たり、処理後のエッチング
液９２が回収ノズル８７および回収チューブ８９を通し
てエッチング液回収装置８８により回収される。

【０００８】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら図１１に
示すような従来の技術では、エッチング液をウエハ中心
部のみから供給するので、中心付近では、大量の劣化し
てないエッチング液によるエッチング液処理が行われる
が、外に行くほど単位面積あたりの流量が少なくなり、
また、薬液も劣化し処理効果は低下するので、ウエハの
中心部分と外側部分とで処理を均一にしにくい。また、
大口径のウエハほどこの傾向は大きくなる。

【０００９】また回転テーブルを用いているから、この
回転機構から発生するパーテクルによる汚染や、回転機
構の破損による生産性の低下が生じる。

【００１０】またウエハの裏面下には回転テーブルが設
けられているから、ウエハの表面と裏面に互いに異なる
処理を同時に行うことが不可能になる。

【００１１】したがって本発明の目的は、大口径のウエ
ハにおいても中心部分と外側部分で均一な処理を行うこ
とが可能な枚葉型のウエット処理装置及びそのウエット
処理方法を提供することである。

【００１２】本発明の他の目的は、回転テーブルに起因
する汚染や破損の不都合を排除したウエット処理装置及
びそのウエット処理方法を提供することである。

【００１３】本発明の別の目的は、ウエハの表面と裏面
に互いに異なる処理を同時に行うことが可能になるウエ
ット処理装置及びそのウエット処理方法を提供すること
である。

【００１４】

【課題を解決するための手段】本発明の第１番目の特徴
は、ウエハの一主面と処理容器とにより形成される第１
の空間と前記ウエハの他主面と前記処理容器とにより形
成される第２の空間とが隔離され、前記一主面と対面し
て多数の供給ノズル及び回収ノズルがたがいに交互に配
列し、それぞれの前記供給ノズルからエッチング液を前
記一主面に向けて供給し、それぞれの前記回収ノズルか
ら前記エッチング液を回収するエッチング装置の構造を
有する枚葉型のウエット処理装置にある。ここで、エッ
チング処理部、洗浄処理部および乾燥処理部を具備する
枚葉型のウエットエッチング処理装置において、前記エ
ッチング処理部に前記エッチング装置の構造を用いるこ
とができる。

【００１５】本発明の第２番目の特徴は、ウエハの一主
面と処理容器とにより形成される第１の空間と前記ウエ
ハの他主面と前記処理容器とにより形成される第２の空
間とが隔離され、前記一主面と対面して多数の供給ノズ
ル及び回収ノズルがたがいに交互に配列し、それぞれの
前記供給ノズルから洗浄液を前記一主面に向けて供給
し、それぞれの前記回収ノズルから前記洗浄液を回収す
る洗浄装置の構造を有する枚葉型のウエット処理装置に
ある。ここで、エッチング処理部、洗浄処理部および乾
燥処理部を具備する枚葉型のウエットエッチング処理装
置において、前記洗浄処理部に前記洗浄装置の構造を用
いることができる。

【００１６】本発明の第３番目の特徴は、エッチング処
理部、洗浄処理部および乾燥処理部を具備する枚葉型の
ウエットエッチング処理装置において、前記エッチング
処理部にはウエハの一主面と処理容器とにより形成され
る第１の空間と前記ウエハの他主面と前記処理容器とに
より形成される第２の空間とが隔離され、前記一主面と
対面して多数の供給ノズル及び回収ノズルがたがいに交
互に配列し、それぞれの前記供給ノズルからエッチング
液を前記一主面に向けて供給し、それぞれの前記回収ノ
ズルから前記エッチング液を回収するエッチング装置を
用い、前記洗浄処理部にはウエハの前記一主面と処理容
器とにより形成される第１の空間と前記ウエハの他主面
と前記処理容器とにより形成される第２の空間とが隔離
され、前記一主面と対面して多数の供給ノズル及び回収
ノズルがたがいに交互に配列し、それぞれの前記供給ノ
ズルから洗浄液を前記一主面に向けて供給し、それぞれ
の前記回収ノズルから前記洗浄液を回収する洗浄装置を
用いる枚葉型のウエット処理装置にある。ここで前記乾
燥処理部には、ウエハの前記一主面と処理容器とにより
形成される第１の空間と前記ウエハの他主面と前記処理
容器とにより形成される第２の空間とが隔離され、前記
一主面と対面して多数の供給ノズル及び回収ノズルがた
がいに交互に配列し、それぞれの前記供給ノズルから乾
燥用気体が前記一主面に向けて供給し、それぞれの前記
回収ノズルから前記乾燥用気体を回収する乾燥装置を用
いることができる。

【００１７】本発明の第４番目の特徴は、ウエハの一主
面と処理容器とにより形成される第１の空間と前記ウエ
ハの他主面と前記処理容器とにより形成される第２の空
間とが隔離され、前記一主面と対面して多数の供給ノズ
ル及び回収ノズルがたがいに交互に配列し、それぞれの
前記供給ノズルから第１のエッチング液を前記一主面に
向けて供給し、それぞれの前記回収ノズルから前記第１
のエッチング液を回収する第１のエッチング装置の構造
と、前記他主面と対面して多数の供給ノズル及び回収ノ
ズルがたがいに交互に配列し、それぞれの前記供給ノズ
ルから第２のエッチング液を前記他主面に向けて供給
し、それぞれの前記回収ノズルから前記第２のエッチン
グ液を回収する第２のエッチング装置の構造とを具備す
る枚葉型のウエット処理装置にある。

【００１８】本発明の第５番目の特徴は、ウエハの一主
面と処理容器とにより形成される第１の空間と前記ウエ
ハの他主面と前記処理容器とにより形成される第２の空
間とが隔離され、前記一主面と対面して多数の供給ノズ
ル及び回収ノズルがたがいに交互に配列し、それぞれの
前記供給ノズルからエッチング液を前記一主面に向けて
供給し、それぞれの前記回収ノズルから前記のエッチン
グ液を回収するエッチング装置の構造と、前記他主面と
対面して多数の供給ノズル及び回収ノズルがたがいに交
互に配列し、それぞれの前記供給ノズルから洗浄液を前
記他主面に向けて供給し、それぞれの前記回収ノズルか
ら前記洗浄液を回収する洗浄装置の構造を具備する枚葉
型のウエット処理装置にある。

【００１９】また上記したそれぞれのウエット処理装置
において、前記供給ノズル及び回収ノズルは２軸方向に
マトリックス状に配列していることができる。あるい
は、前記供給ノズル及び回収ノズルは処理される前記ウ
エハの中心に対して同心円的に配列していることができ
る。また上記したそれぞれのウエット処理装置におい
て、前記供給ノズル及び回収ノズルのノズル孔の断面形
状は、丸、四角形あるいは六角形であることができる。

【００２０】本発明の第６番目の特徴は、上記したいず
れかのウエット処理装置を用いてウエハの処理を行う枚
葉型のウエット処理方法にある。

【００２１】

【発明の実施の形態】次ぎに本発明について図面を参照
して詳細に説明する。

【００２２】図１は本発明の第１の実施の形態としての
ウエットエッチング装置を示す一部側面図を含む断面図
である。図２は図１のノズルの配列を示す平面図であ
る。図３は図１におけるエッチング液の動きを拡大して
示す断面図である。

【００２３】処理容器上部１は上板部５とフランジ部３
を有し、上板部５には多数の供給ノズル１０及び回収ノ
ズル２０、すなわちノズル孔がマトリックス状に形成さ
れている。供給ノズル１０及び回収ノズル２０は少なく
とも一方向に互いに交互に配列している。

【００２４】図２では、供給ノズル１０を白抜きで表
し、回収ノズル２０をドットのハッチングで表してお
り、この実施の形態では、Ｘ方向およびＹ方向の両方向
で供給ノズル１０及び回収ノズル２０が１個づつ互いに
交互に配列していることを示している。

【００２５】ウエハの全表面に対向して分布している両
ノズルの総数は、８インチウエハの場合に１００〜３０
０個であり、ウエハ面積の増減に比例してこの両ノズル
の総数の範囲が増減する。またノズルの直径は例えば１
０ｍｍである。

【００２６】また、処理容器上部１は、耐熱性と耐薬品
性に優れたフッ素樹脂であるＰＦＡ（テトラフルオロエ
チレン−パーフルオロアルキルビニルエーテル共重合
体）の成形体である。あるいは同様のフッ素樹脂である
ＦＥＰ（テトラフルオロエチレン−ヘキサフルオロプロ
ピレン共重合体）の成形体でもよい。

【００２７】それぞれの供給ノズル１０にテフロンチュ
ーブの供給チューブ１１が結合し、この供給チューブ１
１の群がエッチング液供給装置１２に集められている。
同様に、それぞれの回収ノズル２０にテフロンチューブ
の回収チューブ２１が結合し、この回収チューブ２１の
群がエッチング液回収装置２２に集められている。

【００２８】また、ＰＦＡもしくはＦＥＰの成形体であ
る処理容器下部２は、下板部６とフランジ部４を有して
いる。そして図１の状態で処理容器上部の上面と処理容
器下部の下面間の寸法は例えば３０ｍｍである。

【００２９】ウエハ３０、例えば直径８インチの８イン
チウエハ３０の下面側の周辺部分を全周にわたって処理
容器下部２のフランジ部（ウエハセット部）４の凹部に
処理する一主面（表面）３１が上になるようにはめ込み
挿入してセットする。これによりウエハ３０と処理容器
下部２の下板部６間が密封された空間８となる。

【００３０】次に、処理容器上部１を被せ、そのフラン
ジ部３の凹部にウエハ３０の上面側の周辺部分を全周に
わたってはめ込み挿入し押しつける。これにより、ウエ
ハ３０のエッチング処理をする一主面（表面）３１と処
理容器上部１の上板部５との間が、エッチング液が流れ
る空間７となる。

【００３１】そして、ウエハ３０と処理容器下部２の下
板部６間が密封された空間８となっているから、エッチ
ング液がウエハ３０の他主面（裏面）３２に不都合に流
れ込むことがない。

【００３２】図１に示すように、両フランジ部４，５が
ウエハ３０の周辺箇所を全周にわたって押しつけられて
両密封空間７，８が形成された後、エッチング液供給装
置１２からエッチング液１３を多数の供給チューブ１１
からそれぞれの供給ノズル１０に送られ、供給ノズル１
０から吹き出したエッチング液１３がウエハ３０の表面
３１に吹き出されて所定のエッチングを行う。これと同
時に、使用されたエッチング液２３がそれぞれの回収ノ
ズル２０から回収チューブ２１を通してエッチング液回
収装置２２に強制回収を始める。

【００３３】すなわち、全ての供給ノズル１０から吹き
出したエッチング液１３は、ウエハ全面に薬液量、圧力
的に均一に当たり、処理ウエハ３０の処理面３１は均一
に処理される。これと同時に、図３に示すように、表面
３１を処理した後のエッチング液２３は、すぐに隣接す
る回収ノズル２０で強制回収される。図３において、供
給されるエッチング液１３は白ぬきで示し、エッチング
後に回収されるエッチング液２３はドットのハッチング
で示してある。

【００３４】図４は本発明の第２の実施の形態として洗
浄装置を示す一部側面図を含む断面図である。図４にお
いて図１と同一もしくは類似の箇所は同じ符号を付して
あるから重複する説明は省略する。

【００３５】図４の洗浄装置２００は、図１のウエット
エッチング装置１００のエッチング液供給装置１２及び
エッチング液回収装置２２をそれぞれ洗浄液供給装置４
２及び洗浄液回収装置５２に置き換えたものである。

【００３６】図１の動作と同様に図５では、供給される
洗浄液４３である純水がそれぞれの供給ノズル１０から
吹き付けられ、隣接する回収ノズル２０から回収される
洗浄液５３として使用した純水が強制的に回収される。
このような洗浄装置２００を用いることにより、ウエハ
全面に対する一様な洗浄が行われ、これにより効率的な
洗浄処理となる。

【００３７】図５は本発明の第３の実施の形態としての
第１の混合処理装置を示す一部側面図を含む断面図であ
る。図５において図１と同一もしくは類似の箇所は同じ
符号を付してあるから重複する説明は省略する。

【００３８】図５の第１の混合処理装置では、ウエハ３
０の一主面（表面）３１のエッチング処理に対するエッ
チング液の供給・回収機構は図１と同じであが、ウエハ
３０の他主面（裏面）３２のエッチング処理も同時に行
えるように、そのエッチング液の供給・回収機構を有し
ている。

【００３９】すなわち、処理容器下部２Ａの下板部６Ａ
にも、処理容器上部１の上板部５と同様に、多数の供給
ノズル１０及び回収ノズル２０、すなわちノズル孔がマ
トリックス状に形成されている。また、下板部６Ａにお
ける供給ノズル１０及び薬液回収ノズル２０も少なくと
も一方向に互いに交互に配列している。

【００４０】そして図１と同様に、ウエハ３０の下面側
の周辺部分を全周にわたって処理容器下部２Ａのフラン
ジ部（ウエハセット部）４Ａの凹部にはめ込み挿入して
セットして、ウエハ３０と処理容器下部２Ａの下板部６
Ａ間に空間８Ａが形成されるが、この空間８Ａはエッチ
ング液が流れる空間である。

【００４１】下板部６Ａのそれぞれの供給ノズル１０に
テフロンチューブの供給チューブ１１が結合し、この供
給チューブ１１の群が第２のエッチング液供給装置１２
Ａに集められている。同様に、下板部６Ａのそれぞれの
回収ノズル２０にテフロンチューブの回収チューブ２１
が結合し、この回収チューブ２１の群が第２のエッチン
グ液回収装置２２Ａに集められている。

【００４２】そして第２のエッチング液供給装置１２Ａ
から第２のエッチング液１３Ａを多数の供給チューブ１
１からそれぞれの供給ノズル１０に送られ、供給ノズル
１０から吹き出した第２のエッチング液１３Ａがウエハ
３０の裏面３２に吹き出されて所定のエッチングを行
う。これと同時に、使用された第２のエッチング液２３
Ａがそれぞれの回収ノズル２０から回収チューブ２１を
通して第２のエッチング液回収装置２２Ａに強制回収を
始める。

【００４３】この実施の形態によれば、先に述べたよう
に上の空間７と下の空間８Ａは両フランジ３，４Ａによ
り互いに隔離しているから、ウエハ３０の表面３１と裏
面３２を互いに異なるエッチング処理を同時に行うこと
ができる。例えば、表面３１にパターニングのエッチン
グ処理をエッチング液１３，２３で行っているときに、
裏面３２に裏面エッチング処理を第２のエッチング液１
３Ａ，２３Ａで行うことにより製造効率を向上させるこ
とが出来る。

【００４４】図６は本発明の第４の実施の形態としての
第２の混合処理装置を示す一部側面図を含む断面図であ
る。図６において図１および図５と同一もしくは類似の
箇所は同じ符号を付してあるから重複する説明は省略す
る。

【００４５】図６の第２の混合処理装置は、図５の第１
の混合処理装置の第２のエッチング液供給装置１２Ａ及
び第２のエッチング液回収装置２２Ａをそれぞれ洗浄液
供給装置４２及び洗浄液回収装置５２に置き換えたもの
である。

【００４６】ウエハ３０の裏面３２に対して、図４の動
作と同様に、純水が供給される洗浄液４３としてそれぞ
れの供給ノズル１０から吹き付けられ、隣接する回収ノ
ズル２０から回収される洗浄液５３として使用した純水
が強制的に回収される。これにより、ウエハ裏面全面に
対する一様な洗浄が行われる。

【００４７】この実施の形態によれば、先に述べたよう
に上の空間７と下の空間８Ａは両フランジ３，４Ａによ
り互いに隔離しているから、ウエハ３０の表面３１のエ
ッチング処理と裏面３２の洗浄処理を同時に行うことが
でき製造効率を向上させることが出来る。

【００４８】図７は本発明の第５の実施の形態としての
ウエットエッチング処理装置を示すブロック図である。

【００４９】キャリア４５０に搭載されてローダ４１０
に搬入されたウエハ３０は、エッチング処理部１１０に
搬送され、エッチング処理後に洗浄処理部２１０に搬送
され、洗浄処理後に乾燥処理部３１０に搬送され、乾燥
処理後にアンローダ４２０に搬送され、ここからキャリ
ア４５０に搭載されて搬出される。それぞれの搬送は搬
送ロボット４３０により自動的に行われる。またそれぞ
れの処理や搬送は自動的に行われる。

【００５０】図７のウエットエッチング処理装置４００
における、８インチウエハの表面３１の自然酸化膜をエ
ッチング除去する例を説明する。

【００５１】エッチング処理部１１０において図１に示
したウエットエッチング装置１００を用いて、全ての供
給ノズル１０からウエハの表面全体に均一にエッチング
液として０．５リットル／ｍｉｎの希フッ酸（ＤＨＦ）
を６０秒間吹き出させてエッチング処理を行う。

【００５２】その後、洗浄処理部２１０において図４に
示した洗浄装置２００を用いて、全ての供給ノズル１０
からウエハの表面全体に均一に洗浄液として１．０リッ
トル／ｍｉｎの純水を３０秒間吹き出させて洗浄処理を
行う。

【００５３】その後、乾燥処理部３１０においてウエハ
全体を不活性ガス中に晒して乾燥させる。あるいは、乾
燥処理部３１０において、図８に示す乾燥装置３００を
用いて乾燥処理を行う。図８において図１と同一もしく
は類似の箇所は同じ符号を付してあるから重複する説明
は省略する。

【００５４】図８の乾燥装置は、図１のウエットエッチ
ング装置１００のエッチング液供給装置１２及びエッチ
ング液回収装置２２をそれぞれ乾燥用気体供給装置６２
及び乾燥用気体回収装置７２に置き換えたものである。

【００５５】図１の動作と同様に図８では、窒素ガスが
供給される乾燥用気体６３としてそれぞれの供給ノズル
１０から吹き付けられ、隣接する回収ノズル２０から回
収される乾燥用気体７３として使用した窒素ガスが強制
的に回収される。このような乾燥装置３００を用いるこ
とにより、ウエハ全面に対する一様な乾燥が行われ、こ
れにより効率的な乾燥処理となる。

【００５６】この実施の形態に図８の乾燥装置３００を
用いて乾燥を行うことにより、全ての供給ノズル１０か
らウエハの表面全体に均一に乾燥用気体として５．０リ
ットル／ｍｉｎの窒素ガスを１８０秒間吹き出させて乾
燥処理を行う。

【００５７】図９はノズルの配列の変形例を示す平面図
である。図２では供給ノズル１０と回収ノズル２０を
Ｘ，Ｙ方向に互いに交互に配列していたが、図９では、
ウエハの中心と一致する中心から同じ径上に供給ノズル
１０もしくは回収ノズル２０を位置させ、供給ノズル１
０が位置する径と供給ノズル１０が位置する径とを交互
に配置した構造となっており、これにより供給ノズル１
０と回収ノズル２０が径方向に互いに交互に配列してい
ることになる。この図９のような配列でも、図２の配列
と同様な効果が得られる。

【００５８】また、実施の形態の形態では供給ノズル１
０および回収ノズル２０の形状、すなわちノズル孔の形
状は丸（真円）であったが、図１０（Ａ）に示すのよう
に供給ノズル１０および回収ノズル２０を六角形状にし
て蜂の巣グリッド状に配列しても、図１０（Ｂ）のに示
すようにように供給ノズル１０および回収ノズル２０を
四角形状にして配列してもよい。六角形状や四角形状は
丸形状よりも成形が複雑となるが、より高密度に配列さ
せることができる。

【００５９】

【発明の効果】以上説明したように本発明によれば、エ
ッチング液もしくは洗浄液が多数の供給ノズルから直接
処理ウエハの処理面の全面に当たり、隣の回収ノズルか
ら即回収するので、ウエハ全面で常に新しいエッチング
液もしくは洗浄液で処理が行われる。そのことから、全
面でが均一に処理することが出来、どの部分でも置換効
率も向上する。

【００６０】またウエハ全面に処理液供給するので、大
口径のウエハでも均一に処理することが出来る。

【００６１】さらに処理中に回転をする回転テーブルを
必要にしないから、回転テーブルの回転機構によるパー
テクルによる汚染や、回転機構の破損による生産性の低
下とは関係がなくなる。

【００６２】また、ウエハの表面側の空間と裏面側の空
間とが隔離しているから、一方の空間を流れる処理液が
他方の空間に流れ込むという不都合が生じない。

【００６３】さらに、ウエハの表面側の空間と裏面側の
空間とが隔離しているから、表面と裏面にそれぞれ互い
に異なる処理を行うことができ、これにより生産効率を
高めることができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の第１の実施の形態としてのウエットエ
ッチング装置を示す一部側面図を含む断面図である。

【図２】図１のノズルの配列を示す平面図である。

【図３】図１におけるエッチング液の動きを拡大して示
す断面図である。

【図４】本発明の第２の実施の形態としての洗浄装置を
示す一部側面図を含む断面図である。

【図５】本発明の第３の実施の形態としての第１の混合
処理装置を示す一部側面図を含む断面図である。

【図６】本発明の第４の実施の形態としての第２の混合
処理装置を示す一部側面図を含む断面図である。

【図７】本発明の第５の実施の形態としてのウエットエ
ッチング処理装置を示すブロック図である。

【図８】図７のウエットエッチング処理装置に用いるこ
とができる乾燥装置を示す一部側面図を含む断面図であ
る。

【図９】本発明の供給ノズルと回収ノズルの配列の変更
例を示す平面図である。

【図１０】本発明の供給ノズルと回収ノズルのノズル形
状の変更例を示す平面図である。

【図１１】従来技術のエッチング装置を示す一部側面図
を含む断面図である。

【符号の説明】

１ 処理容器上部 ２，２Ａ 処理容器下部 ３ フランジ部 ４，４Ａ フランジ部 ５ 上板部 ６，６Ａ 下板部 ７ エッチング液が流れる空間 ８ 密封された空間 ８Ａ エッチング液が流れる空間 １０ 供給ノズル １１ 供給チューブ １２ エッチング液供給装置 １２Ａ 第２のエッチング液供給装置 １３ 供給されるエッチング液 １３Ａ 第２の供給されるエッチング液 ２０ 回収ノズル ２１ 回収チューブ ２２ エッチング液回収装置 ２２Ａ 第２のエッチング液回収装置 ２３ 回収されるエッチング液 ２３Ａ 第２の回収されるエッチング液 ３０ ウエハ ３１ 表面（一主面） ３２ 裏面（他主面） ４２ 洗浄液供給装置 ４３ 供給される洗浄液 ５２ 洗浄液回収装置 ５３ 回収される洗浄液 ６２ 乾燥用気体供給装置 ６３ 供給される乾燥用気体 ７２ 乾燥用気体回収装置 ７３ 回収される乾燥用気体 ８１ 処理容器上部 ８２ 処理容器下部 ８３ エッチング液供給装置 ８４ 供給チューブ ８５ エッチング液供給ノズル ８６ 回転テーブル ８７ エッチング液回収ノズル ８８ エッチング液回収装置 ９１ 供給されるエッチング液 ９２ 回収されるエッチング液 １００ エッチング装置 １１０ エッチング処理部 ２００ 洗浄装置 ２１０ 洗浄処理部 ３００ 乾燥装置 ３１０ 乾燥処理部 ４００ ウエットエッチング処理装置 ４１０ ローダ ４２０ アンローダ ４３０ 搬送ロボット ４５０ キャリア

Claims (12)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 半導体ウエハの一主面と処理容器とによ
   り形成される第１の空間と前記半導体ウエハの他主面と
   前記処理容器とにより形成される第２の空間とが隔離さ
   れ、前記一主面と対面して多数の供給ノズル及び回収ノ
   ズルがたがいに交互に配列し、それぞれの前記供給ノズ
   ルからエッチング液を前記一主面に向けて供給し、それ
   ぞれの前記回収ノズルから前記エッチング液を回収する
   エッチング装置の構造を有することを特徴とする枚葉型
   のウエット処理装置。
2. 【請求項２】 エッチング処理部、洗浄処理部及び乾燥
   処理部を具備する枚葉型のウエット処理装置において、
   前記エッチング処理部に前記エッチング装置の構造を用
   いることを特徴とする請求項１記載の枚葉型のウエット
   処理装置。
3. 【請求項３】 半導体ウエハの一主面と処理容器とによ
   り形成される第１の空間と前記半導体ウエハの他主面と
   前記処理容器とにより形成される第２の空間とが隔離さ
   れ、前記一主面と対面して多数の供給ノズル及び回収ノ
   ズルがたがいに交互に配列し、それぞれの前記供給ノズ
   ルから洗浄液を前記一主面に向けて供給し、それぞれの
   前記回収ノズルから前記洗浄液を回収する洗浄装置の構
   造を有することを特徴とする枚葉型のウエット処理装
   置。
4. 【請求項４】 エッチング処理部、洗浄処理部及び乾燥
   処理部を具備する枚葉型のウエット処理装置において、
   前記洗浄処理部に前記洗浄装置の構造を用いることを特
   徴とする請求項３記載の枚葉型のウエット処理装置。
5. 【請求項５】 エッチング処理部、洗浄処理部および乾
   燥処理部を具備する枚葉型のウエット処理装置におい
   て、前記エッチング処理部には半導体ウエハの一主面と
   処理容器とにより形成される第１の空間と前記半導体ウ
   エハの他主面と前記処理容器とにより形成される第２の
   空間とが隔離され、前記一主面と対面して多数の供給ノ
   ズル及び回収ノズルがたがいに交互に配列し、それぞれ
   の前記供給ノズルからエッチング液を前記一主面に向け
   て供給し、それぞれの前記回収ノズルから前記エッチン
   グ液を回収するエッチング装置を用い、前記洗浄処理部
   には半導体ウエハの前記一主面と処理容器とにより形成
   される第１の空間と前記半導体ウエハの他主面と前記処
   理容器とにより形成される第２の空間とが隔離され、前
   記一主面と対面して多数の供給ノズル及び回収ノズルが
   たがいに交互に配列し、それぞれの前記供給ノズルから
   洗浄液を前記一主面に向けて供給し、それぞれの前記回
   収ノズルから前記洗浄液を回収する洗浄装置を用いるこ
   とを特徴とする枚葉型のウエット処理装置。
6. 【請求項６】 前記乾燥処理部には、半導体ウエハの前
   記一主面と処理容器とにより形成される第１の空間と前
   記半導体ウエハの他主面と前記処理容器とにより形成さ
   れる第２の空間とが隔離され、前記一主面と対面して多
   数の供給ノズル及び回収ノズルがたがいに交互に配列
   し、それぞれの前記供給ノズルから乾燥用気体が前記一
   主面に向けて供給し、それぞれの前記回収ノズルから前
   記乾燥用気体を回収する乾燥装置を用いることを特徴と
   する請求項５記載のウエット処理装置。
7. 【請求項７】 半導体ウエハの一主面と処理容器とによ
   り形成される第１の空間と前記半導体ウエハの他主面と
   前記処理容器とにより形成される第２の空間とが隔離さ
   れ、前記一主面と対面して多数の供給ノズル及び回収ノ
   ズルがたがいに交互に配列し、それぞれの前記供給ノズ
   ルから第１のエッチング液を前記一主面に向けて供給
   し、それぞれの前記回収ノズルから前記第１のエッチン
   グ液を回収する第１のエッチング装置の構造と、前記他
   主面と対面して多数の供給ノズル及び回収ノズルがたが
   いに交互に配列し、それぞれの前記供給ノズルから第２
   のエッチング液を前記他主面に向けて供給し、それぞれ
   の前記回収ノズルから前記第２のエッチング液を回収す
   る第２のエッチング装置の構造とを具備することを特徴
   とする枚葉型のウエット処理装置。
8. 【請求項８】 半導体ウエハの一主面と処理容器とによ
   り形成される第１の空間と前記半導体ウエハの他主面と
   前記処理容器とにより形成される第２の空間とが隔離さ
   れ、前記一主面と対面して多数の供給ノズル及び回収ノ
   ズルがたがいに交互に配列し、それぞれの前記供給ノズ
   ルからエッチング液を前記一主面に向けて供給し、それ
   ぞれの前記回収ノズルから前記のエッチング液を回収す
   るエッチング装置の構造と、前記他主面と対面して多数
   の供給ノズル及び回収ノズルがたがいに交互に配列し、
   それぞれの前記供給ノズルから洗浄液を前記他主面に向
   けて供給し、それぞれの前記回収ノズルから前記洗浄液
   を回収する洗浄装置の構造を具備することを特徴とする
   枚葉型のウエット処理装置。
9. 【請求項９】 前記供給ノズル及び回収ノズルは２軸方
   向にマトリックス状に配列していることを特徴とする請
   求項１乃至請求項８のいずれかに記載の枚葉型のウエッ
   ト処理装置。
10. 【請求項１０】 前記供給ノズル及び回収ノズルは同心
    円的に配列していることを特徴とする請求項１乃至請求
    項８のいずれかに記載の枚葉型のウエット処理装置。
11. 【請求項１１】 前記供給ノズル及び回収ノズルのノズ
    ル孔の断面形状は、丸、四角形あるいは六角形であるこ
    とを特徴とする請求項１乃至請求項１０のいずれかに記
    載の枚葉型のウエット処理装置。
12. 【請求項１２】 請求項１乃至請求項１１のいずれかに
    記載のウエット処理装置を用いて半導体ウエハの処理を
    行うことを特徴とする枚葉型のウエット処理方法。