JP2001052372A - 光ディスク - Google Patents

光ディスク

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JP2001052372A
JP2001052372A JP11225016A JP22501699A JP2001052372A JP 2001052372 A JP2001052372 A JP 2001052372A JP 11225016 A JP11225016 A JP 11225016A JP 22501699 A JP22501699 A JP 22501699A JP 2001052372 A JP2001052372 A JP 2001052372A
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Japan
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mask layer
layer
electron
optical disk
film
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JP11225016A
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English (en)
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Ichiro Ueno
一郎 上野
Koji Tsujita
公二 辻田
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Victor Company of Japan Ltd
Original Assignee
Victor Company of Japan Ltd
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Publication date
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 情報信号を高密度(超解像度)に光学的に再
生する際に、繰り返し再生特性を向上できるマスク層を
提供する。 【解決手段】 記録情報と対応して複数のピット1aを
周回状に形成したディスク基板1上に、記録情報を再生
するための反射層2と、レーザー光の照射光強度が強く
なると温度が高くなり光透過率が上がるマスク層3とを
少なくとも積層して膜付けし、前記マスク層3側に照射
した前記レーザー光の光スポット径が前記マスク層3を
透過することで実質的に縮小した光スポット径となって
前記2反射層に入射するようになされている光ディスク
において、前記マスク層3は、電子供与性呈色化合物と
電子受容性顕色剤からなるサーモクロミック材料を流動
性のある材料中に溶解または分散させて流動性を保った
状態で膜付けしたことを特徴とする光ディスクである。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、情報信号を高密度
(超解像度)に光学的に再生又は記録再生することがで
きる光ディスクにおいて、とくに、反射層又は記録層に
マスク層を積層してマスク層側から照射した光スポット
の径を光学的回折限界以上に小さくして再生又は記録再
生する光ディスクに関する。
【0002】
【従来の技術】一般的に、多量に情報信号を再生又は記
録再生することができてアクセス時間も短い記録再生媒
体として光ディスクが知られているが、情報化社会のデ
ィジタル化の発展に伴って、光ディスクを用いて更なる
高密度記録再生(超解像度記録再生)が望まれている。
【0003】そして、光ディスクにより情報信号を光学
的に高密度に再生又は記録再生する方法として、例えば
以下のような方法が提案されている。
【0004】すなわち、この方法としては(a)記録再
生用のレーザー光の波長を短くすること、(b)光ディ
スクに集光するレンズのNA(開口数)を大きくするこ
と、(c)情報信号を記録する記録層を多層にするこ
と、(d)記録するレーザー光の波長を変えて多重に記
録すること、(e)マスク層を形成してレーザー光の光
スポット径を実質的に小さくすること、等の方法があ
る。これらの方法の内、マスク層を形成して実質的にレ
ーザー光のスポット径を小さくする手法は、例えば特開
平5−12673号公報、特開平5−12715号公
報、特開平5−28498号公報、特開平5−2853
5号公報,特開平5−73961号公報,特開平5−2
34136号公報,特開平8−315419号公報等に
開示されている。
【0005】図1は従来の光ディスクの一例としてマス
ク層付き再生専用光ディスクを模式的に示した拡大断面
図、図2は従来の光ディスクの他例としてマスク層付き
記録再生可能光ディスクを模式的に示した拡大断面図、
図3はマスク層付き光ディスクにおいて、マスク層の温
度と光の透過率との関係を示した図、図4はマスク層付
き光ディスクにおいて、マスク層に集光した光の強度分
布と、このマスク層を透過する光の強度分布の模式図で
あり、(a)は光ディスクの回転方向の光の強度分布を
示し、(b)は光ディスクの半径方向の光の強度分布を
示した図、図5はマスク層付き光ディスクにおいて、マ
スク層に集光した光スポットと、光を吸収して温度が上
がって透過率が上がるマスク層を透過する光スポットと
の関係を示した図である。
【0006】まず、図1に示した如く、従来のマスク層
付き再生専用光ディスク100では、円盤状の透明なデ
ィスク基板101の一方の面に記録情報と対応して複数
のピット101aが周回状(螺旋状又は同心円状)に成
形され、且つ、他方の面は平坦に形成されており、この
ディスク基板101の一方の面上にマスク層102、反
射層103及び保護層104が順次積層して膜付けされ
ている。尚、図1中に示した複数のピット101a上へ
の各層の膜付けは凹凸状に膜付けされるものであるが、
図示の都合上簡略的に示している。そして、透明なディ
スク基板101の他方の面側からレーザー光Lを照射し
て、複数のピット101aからの反射光を読み取ってい
る。
【0007】一方、図2に示した如く、従来のマスク層
付き記録再生可能光ディスク200では、円盤状の透明
なディスク基板201の一方の面にランド201aとグ
ルーブ(溝)201bとが交互に周回状に成形され、且
つ、他方の面は平坦に形成されており、このディスク基
板201の一方の面上にマスク層202、記録層203
及び保護層204が順次積層して膜付けされている。
尚、図2中に示したランド201aとグルーブ(溝)2
01b上への各層の膜付けは凹凸状に膜付けされるもの
であるが、図示の都合上簡略的に示している。そして、
透明なディスク基板101の他方の面側から記録情報信
号と対応したレーザー光Lをランド201a,グルーブ
201bの少なくとも一方に照射して記録を行ない、ラ
ンド201a,グルーブ201bに記録した記録情報か
らの反射光を読み取っている。
【0008】ここで、上記した各光ディスク100,2
00の各マスク層102,202は、各ディスク基板1
01,201の他方の面側からレーザー光Lを照射しな
いとき、あるいはレーザー光Lの光強度が弱いときは透
過率が小さく、一方、レーザー光Lの光強度が強くなる
とマスク層102,202は光学的に光を吸収して温度
が上がることにより化学的に変化して、図3に示すよう
に光の透過率が上がり、図5に示すようにマスク層を透
過したスポット径が実質的に小さくなるものである。
【0009】すなわち、図4(a),(b)に示したレ
ーザー光Lの光強度分布特性では、マスク層に入射する
光の強度分布に対してマスク層を透過した光の強度分布
が狭まっており、この作用を利用して小さなピットを記
録再生することが可能となる。この作用を利用した時
に、光ディスク面に現れるレーザー光の光スポットの状
態が図5に示されている。この際、図4(a)に示した
状態は、図5中で後述するB点の回転方向の状態と対応
しており、一方、図4(b)に示した状態は、図5中で
B点の半径方向の状態と対応している。
【0010】図5に示したように、光ディスクを矢印方
向に回転させながら一定強度のレーザー光を連続してス
ポット状に照射すると、光ディスク上の例えばB点は、
円形の光スポットLSのA点からB点までの光強度を積
分した強度の光が照射される。この光を吸収して変換さ
れた熱から、熱伝導や輻射で失われる熱を引いた熱で温
度が上昇し、マスク層の透過率が上がる。よって、光ス
ポットLS内で透過率の上がる部分は、光ディスクの回
転方向で云うと、スポット径の後ろ部分(後流側)にな
り、レーザー光のスポット径が実質的に縮小する。
【0011】また、図5中において、光スポットLS内
の斜線で示すエリアCの部分は、マスク層を透過したマ
スク透過光スポットを示し、このエリアCを除いた残り
のエリアDは、マスク層を透過しない光スポットを示し
ている。このように、マスク層を形成することにより、
レーザー光のスポット径が実質的に小さくなり、高密度
な光ディスクの再生又は記録再生が可能となる。
【0012】
【発明が解決しようとする課題】ところで、従来のマス
ク層付き再生専用光ディスク100及びマスク層付き記
録再生可能光ディスク200では、マスク層102,2
02のマスク効果によりレーザー光Lのスポット径が実
質的に小さくなり、記録情報を高密度(超解像度)に再
生又は記録再生が可能となるものの、上記した光ディス
ク100,200を繰り返し再生又は記録再生すると、
マスク層102,202が劣化し、照射光強度が弱いと
きでも光透過率が高くなり、マスク作用が小さくなるな
どの問題が生じている。
【0013】図6はマスク層としてサーモクロミックを
用いて、図1に示した従来のマスク付き再生専用光ディ
スクを、連続して繰り返し再生した回数と、再生特性の
変化を示した図である。図6中、▲印はマスク層なしの
場合を示し、□印は電子供与性呈剤に山本化成(株)製
のGN2を用い、且つ、電子受容性顕色剤にBHPEを
用いて両者を重量比で略1:2で共蒸着してマスク層を
膜付けした場合を示し、●印は電子供与性呈剤に山本化
成(株)製のD94−006を用い、且つ、電子受容性
顕色剤にBHPEを用いて両者を重量比で略1:2で共
蒸着してマスク層を膜付けした場合を示している。
【0014】上記した従来のマスク付き再生専用光ディ
スク100には、DVD信号が記録されている。再生特
性としては、最長ピット(I14T)出力に対する最短
ピット(I3T)出力の比(I3T/I14T)を用い
ている。最長ピット長(I14T)は1.87μm、最
短ピット長(I3T)は0.4μmである。I3T/I
14T値が大きい方が、再生特性がよい。このI3T/
I14T値は、レーザー波長650nm、光ディスク1
00に集光するレンズ開口数(NA)0.6の光学系を
用いて、再生パワー1.5mw〜4mwで再生して得た
値である。レーザー波長650nm、レンズ開口数(N
A)0.6の光学系の場合、集光された光スポット径
は、エアリーディスク径で約1.32である。最短ピッ
ト長よりも、スポット径の方が大きいため、最短ピット
長出力が最長ピット長出力よりも遙かに小さく、約1/
4である。しかし、マスク層102があると、スポット
径が小さくなるので、マスク層102のマスク材料にも
よるが最短ピット値出力は最長ピット出力の2/3〜3
/4に改良される。しかし、この値は、再生回数が少な
い場合で、繰り返し回数増加に従って最短ピット出力の
最長ピット出力に対する比は小さくなる。すなわち、マ
スク層102を透過したスポット径が徐々に増大する。
ディスク構造により多少異なるが、図6の例では3万〜
4万回連続して繰り返し再生すると、最短ピット長/最
長ピット長の比は、マスク層なしの場合とほぼ同じにな
ってしまう。すなわち、マスク作用が無くなったことを
意味する。 そこで、マスク層付き再生専用光ディスク
又はマスク層付き記録再生可能光ディスクに、レーザー
光の照射光強度が強くなると温度が高くなり光透過率が
上がるマスク層を膜付けするにあたって、マスク層の影
響による繰り返し再生特性の劣化を防止できるマスク層
が望まれている。
【0015】
【課題を解決するための手段】本発明は上記課題に鑑み
てなされたものであり、第1の発明は、記録情報と対応
して複数のピットを周回状に形成したディスク基板上
に、記録情報を再生するための反射層と、レーザー光の
照射光強度が強くなると温度が高くなり光透過率が上が
るマスク層とを少なくとも積層して膜付けし、前記マス
ク層側に照射した前記レーザー光の光スポット径が前記
マスク層を透過することで実質的に縮小した光スポット
径となって前記反射層に入射するようになされている光
ディスクにおいて、前記マスク層は、電子供与性呈色化
合物と電子受容性顕色剤からなるサーモクロミック材料
を流動性のある材料中に溶解または分散させて流動性を
保った状態で膜付けしたことを特徴とする光ディスクで
ある。
【0016】また、第2の発明は、ランドとグルーブと
を交互に周回状に形成したディスク基板上に、情報信号
を記録して再生するための記録層と、レーザー光の照射
光強度が強くなると温度が高くなり光透過率が上がるマ
スク層とを少なくとも積層して膜付けし、前記マスク層
側に照射した前記レーザー光の光スポット径が前記マス
ク層を透過することで実質的に縮小した光スポット径と
なって前記記録層に入射するようになされている光ディ
スクにおいて、前記マスク層は、電子供与性呈色化合物
と電子受容性顕色剤からなるサーモクロミック材料を流
動性のある材料中に溶解または分散させて流動性を保っ
た状態で膜付けしたことを特徴とする光ディスクであ
る。
【0017】また、上記第1又は第2の発明の光ディス
クにおいて、前記流動性のある材料は、アクリレート系
樹脂前駆体であることを特徴とするものである。
【0018】更に、上記第1又は第2の発明の光ディス
クにおいて、前記マスク層側に保護層,接着層を介して
透明基板を接着し、この透明基板側から前記レーザー光
を照射させることを特徴とするものである。
【0019】
【発明の実施の形態】以下に本発明に係る光ディスクの
一実施例を図7乃至図15を参照して、<第1実施例
>,<第2実施例>の順に詳細に説明する。
【0020】本発明に係る光ディスクを説明する前に、
この光ディスクに適用されるマスク層について図7及び
図8を用いて先に説明する。
【0021】図7は電子供与性呈色化合物と電子受容性
顕色剤からなる各種のサーモクロミック材料を用いた場
合のマスク層の製法と、マスク層の再生繰り返し特性を
測定したデータを示した一覧図、図8は図7中のデータ
を判定する場合の1例を示した図である。
【0022】図7に示した如く、本発明に係る光ディス
クに適用されるマスク層について、電子供与性呈色化合
物と電子受容性顕色剤からなる各種のサーモクロミック
材料を用いて予備実験を行なった。
【0023】ここで、マスク層の電子供与性呈色化合物
として山本化成(株)製のGN2,GN606,GN6
09,D94−006を用い、一方、マスク層の電子受
容性顕色剤としてBHPEを用い、且つ、両者を(GN
2+BHPE),(GN606+BHPE),(GN6
09+BHPE),(D94−006+BHPE)の4
通りに組み合わせて、電子供与性呈色化合物と電子受容
性顕色剤とを重量比で略1:2に設定して予備実験を行
なった。
【0024】まず、電子供与性呈色化合物と電子受容性
顕色剤からなる上記組み合せの各サーモクロミック材料
を、ガラス基板上に共蒸着法で膜付けした場合を製法1
(比較例1)とする。
【0025】また、電子供与性呈色化合物と電子受容性
顕色剤からなる上記組み合せの各サーモクロミック材料
を、流動性のある材料中に溶解させた後ガラス基板上に
滴下し薄膜に形成し、溶剤を蒸発させた場合を製法2
(比較例2)とする。
【0026】また、電子供与性呈色化合物と電子受容性
顕色剤からなる上記組み合せの各サーモクロミック材料
を、流動性のある材料中に溶解させた後ガラス基板上に
滴下し薄膜に形成し、溶剤等が一部残り流動性がある状
態で顕微鏡用カバーガラスを密着させて溶剤を閉じこめ
た場合を製法3(実施例1)とする。
【0027】また、電子供与性呈色化合物と電子受容性
顕色剤からなる上記組み合せの各サーモクロミック材料
をアクリレート系樹脂前駆体に分散させた後ガラス基板
上に滴下し、約200℃に加熱しながら顕微鏡用カバー
ガラスを加圧密着させた場合を製法4(実施例2)とす
る。
【0028】上記した製法1〜製法4でそれぞれ作成し
た各マスク層に対して、下記の条件で再生繰り返し特性
を測定した。
【0029】レーザー波長650nm、光ディスクに集
光するレンズ開口数(NA)0.6、照射光強度(再生
パワーに相当)8mw、照射パルス幅1μsec、照射
パルス間隔50msec 試料は固定 マスク層付き光ディスクの再生パワーは、だいたい1〜
2.5mwであるので、レーザー光の照射光強度は実際
の光ディスク再生の場合より、3〜8倍強い光である。
DVDディスクの線速度は3.5m/secであり、ス
チル再生をした場合には1回転約50〜100msec
である。また、レーザー光のスポット径は半値幅で約
0.6μmであるので、1スポットを通過するディスク
の時間(例えば、図5のB点がスポット径を通過する時
間)は、約0.3μsecである。すなわち、レーザー
光の照射パルス幅は、実際の光ディスク再生の場合よ
り、約3倍長い。すなわち、図7中のデータは、実際の
光ディスク再生の場合より、9〜24倍過酷な条件で測
定している。レーザー光の照射パルス間隔は50mse
cであるので、1分間に1200回照射していることに
なる。80分では96000回、10万回弱である。
【0030】ここで、図8は上記条件で測定した1例の
写真である。図8の写真中で、横軸は時間で1目盛20
0nsである。縦軸はマスク層透過光量(相対値)であ
る。連続して繰り返し照射したとき、図8の写真中で、
A点の値がB点の値の何%増加するかで劣化を判定し
た。マスク層が劣化すると、照射光が弱いときでも透過
率が高くなり、A点の値が増大する。
【0031】図7中で、○印は劣化が認められない場
合、△印は劣化が約10%認められる(すなわち、図8
の写真中のA点の値がB点の値の約10%増加した)場
合、×印は劣化が20%以上認められる(すなわち、図
8の写真中のA点の値がB点の値の約20%増加した)
場合である。
【0032】上記製法1〜製法4において、製法1(比
較例1)及び製法2(比較例2)は前述した製法からマ
スク層を膜付けした段階でマスク層自体に流動性がな
く、一方、製法3(実施例1)及び製法4(実施例2)
は前述した製法からマスク層を膜付けした段階でマスク
層自体に流動性が保たれている。また、蒸着できる電子
供与性呈色化合物と、流動性のある材料に溶解する電子
供与性呈色化合物とは、必ずしも一致しないので全く同
一の電子供与性呈色化合物での比較ではないが、流動性
が有る材料中に溶解させた状態の試料は、流動性のない
状態の試料に比べて再生繰り返し特性が遙かに良くな
る。
【0033】すなわち、図7より明らかなように、電子
供与性呈色化合物と電子受容性顕色剤からなるサーモク
ロミック材料を溶剤に溶解させてマスク層自体を流動性
を保って膜付けした場合(実施例1及び実施例2の場
合)には、再生繰り返し特性の劣化が認められない。ま
た、流動性のあるアクリレート系樹脂前駆体に分散させ
た場合にも、再生繰り返し特性の劣化が大きく改良され
ることが分かる。ここで、流動性のある材料中にサーモ
クロミック材料を溶解又は分散させると、再生繰り返し
特性の劣化が改良される理由は、マスク層自体に流動性
があるので、レーザー光の照射中にサーモクロミック材
料が入れ替わり、連続して照射されることを防ぎ、再生
繰り返し特性が改良されているものではないかと考えて
いる。
【0034】<第1実施例>図9は本発明に係る第1実
施例の光ディスクを模式的に示した拡大断面図、図10
は本発明に係る第1実施例の光ディスクを一部変形させ
た変形例を模式的に示した拡大断面図、図11は本発明
に係る第1実施例の光ディスクに適用される記録再生光
学系装置を示した構成図、図12は本発明に係る第1実
施例の光ディスク(マスク層付き再生専用光ディスク)
の再生特性の一例を示した図である。
【0035】図9に示した本発明に係る第1実施例の光
ディスクD1は、マスク層付き再生専用光ディスクとし
て形成されており、ここでは後述するようにマスク層3
に流動性を持たせているために、マスク層3を円盤状の
ディスク基板1と透明基板6との間で挟み込んで形成し
ている。
【0036】すなわち、図9に示した如く、本発明に係
る第1実施例の光ディスクD1では、中央部に図示しな
い中心孔を形成した円盤状のディスク基板1の一方の面
に記録情報と対応して複数のピット1aが周回状(螺旋
状又は同心円状)に成形され、且つ、他方の面は平坦に
形成されている。上記ディスク基板1はインジェクショ
ン法などによりポリカーボネイトを材料として成形して
おり、レーザー光Lが入射する側の基板でないために、
必ずしも透明な基板である必要はない。
【0037】また、ディスク基板1の一方の面上に、複
数のピット1aと対応した記録情報を再生するための反
射層2と、レーザー光の照射光強度が強くなると温度が
高くなり光透過率が上がるマスク層3と、保護層4とが
順次積層して膜付けされている。そして、保護層4を膜
付けした後に、保護層4上に接着剤を滴下して接着層5
を介してポリカーボネイトを材料とした透明基板6の中
心孔をディスク基板1の中心孔に合せて透明基板6を接
着している。尚、図9中に示した複数のピット1a上へ
の各層の膜付けは凹凸状に膜付けされるものであるが、
図示の都合上簡略的に示している。そして、透明基板6
側から再生用のレーザー光Lが入射されるようになって
おり、片面側からのみ記録情報を再生できる構造形態に
なっている。
【0038】ここで、上記した反射層2は、例えば、A
l,Auなどの金属膜であり、蒸着あるいはスパッター
法でディスク基板1の一方の面上に膜付けしている。
【0039】また、本発明の要部となるマスク層3は、
サーモクロミック材料とアクリレート系樹脂前駆体をエ
チルセロソルブに溶解させ、スピンナー法で反射層2上
に膜付けしている。このマスク層3は、例えば、サーモ
クロミック材料として電子供与性呈色剤GN609と電
子受容性顕色剤BHPE{1.1’−ビス(4−ヒドロ
キシフェニル)エタン}とを重量比で略1:2にし、ア
クリレート系樹脂前駆体を電子供与性呈色剤GN609
の1〜2倍(重量で)加え、エチルセロソルブに溶解さ
せた。電子供与性呈色剤GN609の濃度は、約5%に
なるようにエチルセロソルブに溶解させた。溶剤にエチ
ルセロソルブを用いた理由は、ディスク基板1の基板材
料であるポリカーボネイト等を溶かさないためである。
電子供与性呈色剤GN2の場合は、エチルセロソルブに
対する溶解度が悪く、1〜2%しか溶解しなかった。そ
して、マスク層3を膜付けした段階で流動性が保たれて
いる。
【0040】また、保護膜4として、脂環式炭化水素樹
脂(商品名クイントン1325、日本ゼオン(株)製を
使用した)をデカヒドロナフタレンに10〜20%溶解
し、やはりスピンナー法でマスク層4上に膜付けしてい
る。この後、マスク層4を約80℃で10分程乾燥さ
せ、冷却後、接着剤としてフォトポリマーを用いて紫外
線硬化法で接着層5を介して透明基板6を接着してい
る。フォトポリマーは、アクリレート系樹脂前駆体であ
る。マスク層3に直接フォトポリマーを付けると、マス
ク層3がフォトポリマーに溶解してしまうので、保護層
4としてクイントン膜を膜付けした。尚、透明基板6を
接着する際に、接着層5を硬化させるために紫外線を照
射しているが、この際、マスク層3中のアクリレート系
樹脂前駆体は硬化していない。すなわち、紫外線照射を
してもマスク層3のサーモクロミック材料により紫外線
が吸収され、マスク層3の表面のみが硬化するものの、
マスク層3全体はほとんど硬化せずに流動性が保たれて
いる。
【0041】次に、図10に示した本発明に係る第1実
施例を一部変形させた変形例の光ディスクD2は、図9
に示した上記第1実施例の光ディスクD1を2枚用意
し、各透明基板6,6側を互いに外側にし、且つ、各デ
ィスク基板1,1側を互いに内側にしてディスク基板
1,1同士を接着層7を介して接合することにより貼り
合わせ光ディスクを形成したものである。従って、この
貼り合わせ光ディスクは、両面側から記録情報を再生で
きる構造形態になっている。
【0042】以上のように形成した本発明に係る第1実
施例における光ディスクD1,D2に適用される再生光
学系装置20Aについて図11を用いて簡略に説明す
る。
【0043】この再生光学系装置20Aは、波長650
nmのレーザー光Lを出射する半導体レーザー素子22
と、半導体レーザー素子22からのレーザー光Lを平行
光にするコリメータレンズ24と、偏光プリズム26
と、1/4波長板28と、レーザー光Lを光ディスクD
1(又はD2)に集光させるためにNA(開口数)が
0.6の対物レンズ30と、偏光プリズム26より分岐
されてくる光ディスクD1(又はD2)からの反射光を
集光する集光レンズ32と、この反射光からフォーカス
情報とトラッキング情報を得るためのシリンドリカルレ
ンズ34と、集光された光を検出する光検出器36とに
より主に構成されており、この光検出器36により光デ
ィスクD1(又はD2)からの反射光を検出することに
より光ディスクD1(又はD2)の記録情報を再生して
いる。
【0044】次に、上記のようにして作成したマスク層
付き再生専用光ディスクD1(又はD2)を再生光学系
装置20Aを用いて、再生パワー約2mwで記録情報を
再生して、図12に示したように、連続して繰り返し再
生した回数と、再生特性の変化を得た。このマスク層付
き再生専用光ディスクD1(又はD2)には、図6の時
と同様にDVD信号が記録されている。再生特性として
は、最長ピット(I14T)出力に対する最短ピット
(I3T)出力の比(I3T/I14T)を用いてい
る。最長ピット長(I14T)は1.87μm、最短ピ
ット長(I3T)は0.4μmである。図12から明ら
かなように、10万回繰り返し再生をしても劣化はほと
んど認められない。
【0045】<第2実施例>図13は本発明に係る第2
実施例の光ディスクを模式的に示した拡大断面図、図1
4は本発明に係る第2実施例の光ディスクを一部変形さ
せた変形例を模式的に示した拡大断面図、図15は本発
明に係る第2実施例の光ディスク(マスク層付き記録再
生可能光ディスク)の再生特性の一例を示した図であ
る。
【0046】図13に示した本発明に係る第2実施例の
光ディスクD3は、マスク層付き記録再生可能光ディス
クとして形成されており、ここでは第1実施例と同様に
マスク層14に流動性を持たせているために、マスク層
14を円盤状のディスク基板11と透明基板17との間
で挟み込んで形成している。
【0047】すなわち、図13に示した如く、本発明に
係る第2実施例の光ディスクD3では、中央部に図示し
ない中心孔を形成した円盤状のディスク基板11の一方
の面に情報信号を記録して再生するためのランド11a
とグルーブ(溝)11bとが交互に周回状に形成され、
且つ、他方の面は平坦に形成されている。上記ディスク
基板1はインジェクション法などによりポリカーボネイ
トを材料として成形しており、レーザー光Lが入射する
側の基板でないために、必ずしも透明な基板である必要
はない。この際、ディスク基板11に形成したランド1
1aとグルーブ11bとは略同一幅に形成されて、記録
再生時にレーザー光に対してトラッキングを取る機能も
備えている。
【0048】また、ディスク基板11の一方の面上に、
情報信号を記録して再生するための記録層12と、光減
衰層13と、レーザー光の照射光強度が強くなると温度
が高くなり光透過率が上がるマスク層14と、保護層1
5とが順次積層して膜付けされている。そして、保護層
15を膜付けした後に、保護層15上に接着剤を滴下し
て接着層16を介してポリカーボネイトを材料とした透
明基板17の中心孔をディスク基板11の中心孔に合せ
て透明基板17を接着している。尚、図13中に示した
ランド11aとグルーブ(溝)11b上への各層の膜付
けは凹凸状に膜付けされるものであるが、図示の都合上
簡略的に示している。そして、透明基板17側から記録
再生用のレーザー光Lが入射されるようになっており、
片面側からのみ情報信号をディスク基板11に形成した
ランド11aとグルーブ11bのうち少なくとも一方に
記録再生できる構造形態になっている。
【0049】ここで、上記した記録層12の記録材料と
しては、相変化材料、光磁気材料、ライトワンス材料等
がある。図13中に示した記録層12は、相変化材料を
記録材料に用いた例である。この記録層12はAl(ア
ルミニウム)膜12A、ZnS−SiO2 誘電体膜12
B、AgInSbTe相変化材料膜12C、ZnS−S
iO2 誘電体膜12Dが順に積層して膜付けされてい
る。
【0050】また、光減衰層13は、マスク層14のマ
スク作用が大きく出る照射光強度で、記録層12に記録
された信号が破壊されないようにするために用いてい
る。マスク層14の感度が向上して低照射光強度でマス
ク作用が大きく出るか、記録情報が破壊されないように
なった場合には必要がないので、光減衰層13は必要に
応じて膜付けすれば良い。
【0051】また、マスク層14,保護膜15,接着剤
16,透明基板17は、先に図9に示した第1実施例の
マスク層付き再生専用光ディスクD1中のマスク層3,
保護膜4,接着剤5,透明基板6と同じであり、この第
2実施例のマスク層付き記録再生可能光ディスクD3で
もマスク層14は流動性が保たれた状態で膜付けされて
いる。
【0052】次に、図14に示した本発明に係る第2実
施例を一部変形させた変形例の光ディスクD4は、図1
3に示した上記第2実施例の光ディスクD3を2枚用意
し、各透明基板17,17側を互いに外側にし、且つ、
各ディスク基板11,11側を互いに内側にしてディス
ク基板11,11同士を接着層18を介して接合するこ
とにより貼り合わせ光ディスクを形成したものである。
従って、この貼り合わせ光ディスクは、両面側から記録
情報を記録再生できる構造形態になっている。
【0053】以上のように形成した本発明に係る第2実
施例における光ディスクD3,D4に適用される記録再
生光学系装置20Bは図11に示した再生光学系装置2
0Aと同一構成であるものの、記録時にレーザー光Lの
記録時照射光強度が約15mwと大きく、再生時にレー
ザー光の再生時照射光強度が約2mwと小さく設定され
る点が異なるものである。
【0054】次に、上記のようにして作成したマスク層
付き記録再生可能光ディスクD3(又はD4)を記録再
生光学系装置20Bを用いて、再生パワー約2mwで記
録層12に記録した記録情報を再生して、図15に示し
たように、連続して繰り返し再生した回数と、再生特性
の変化を得た。このマスク層付き記録再生専用光ディス
クD3(又はD4)には、図6の時と同様にDVD信号
が記録されている。再生特性としては、最長ピット(I
14T)出力に対する最短ピット(I3T)出力の比
(I3T/I14T)を用いている。最長ピット長(I
14T)は.1.87μm、最短ピット長(I3T)は
0.4μmである。図15から明らかなように、10万
回繰り返し再生をしても劣化はほとんど認められない。
【0055】尚、応用例として図9に示したマスク層付
き再生専用光ディスクD1と、図13に示したマスク層
付き記録再生可能光ディスクD3とを貼り合わせた貼り
合わせ光ディスクの製作も可能である。
【0056】
【発明の効果】以上詳述した本発明に係る光ディスクに
おいて、マスク層付き記録再生可能光ディスク又はマス
ク層付き記録再生可能光ディスクに、レーザー光の照射
光強度が強くなると温度が高くなり光透過率が上がるマ
スク層を膜付けするにあたって、マスク層は、電子供与
性呈色化合物と電子受容性顕色剤からなるサーモクロミ
ック材料を流動性のある材料中に溶解または分散させて
流動性を保った状態で膜付けしたため、従来のようなマ
スク層自体に流動性がない光ディスクと比較して再生又
は記録再生時の繰り返し再生特性が大巾に向上する。
【図面の簡単な説明】
【図1】従来の光ディスクの一例としてマスク層付き再
生専用光ディスクを模式的に示した拡大断面図である。
【図2】従来の光ディスクの他例としてマスク層付き記
録再生可能光ディスクを模式的に示した拡大断面図であ
る。
【図3】マスク層付き光ディスクにおいて、マスク層の
温度と光の透過率との関係を示した図である。
【図4】マスク層付き光ディスクにおいて、マスク層に
集光した光の強度分布と、このマスク層を透過する光の
強度分布の模式図であり、(a)は光ディスクの回転方
向の光の強度分布を示し、(b)は光ディスクの半径方
向の光の強度分布を示した図である。
【図5】マスク層付き光ディスクにおいて、マスク層に
集光した光スポットと、光を吸収して温度が上がって透
過率が上がるマスク層を透過する光スポットとの関係を
示した図である。
【図6】マスク層としてサーモクロミックを用いて、図
1に示した従来のマスク付き再生専用光ディスクを、連
続して繰り返し再生した回数と、再生特性の変化を示し
た図である。
【図7】電子供与性呈色化合物と電子受容性顕色剤から
なる各種のサーモクロミック材料を用いた場合のマスク
層の製法と、マスク層の再生繰り返し特性を測定したデ
ータを示した一覧図である。
【図8】図7中のデータを判定する場合の1例を示した
図である。
【図9】本発明に係る第1実施例の光ディスクを模式的
に示した拡大断面図である。
【図10】本発明に係る第1実施例の光ディスクを一部
変形させた変形例を模式的に示した拡大断面図である。
【図11】本発明に係る第1実施例の光ディスクに適用
される記録再生光学系装置を示した構成図である。
【図12】本発明に係る第1実施例の光ディスク(マス
ク層付き再生専用光ディスク)の再生特性の一例を示し
た図である。
【図13】本発明に係る第2実施例の光ディスクを模式
的に示した拡大断面図である。
【図14】本発明に係る第2実施例の光ディスクを一部
変形させた変形例を模式的に示した拡大断面図である。
【図15】本発明に係る第2実施例の光ディスク(マス
ク層付き記録再生可能光ディスク)の再生特性の一例を
示した図である。
【符号の説明】
D1…本発明に係る第1実施例の光ディスク、D2…本
発明に係る第1実施例の変形例の光ディスク、D3…本
発明に係る第2実施例の光ディスク、D4…本発明に係
る第2実施例の変形例の光ディスク、1…ディスク基
板、1a…複数のピット、2…反射層、3…マスク層、
4…保護層、5…接着層、6…透明基板、7…接着層、
11…ディスク基板、11a…ランド、11b…グルー
ブ(溝)、12…記録層、13…光減衰層、14…マス
ク層、15…保護層、16…接着層、17…透明基板、
18…接着層、L…レーザー光。

Claims (4)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】記録情報と対応して複数のピットを周回状
    に形成したディスク基板上に、記録情報を再生するため
    の反射層と、レーザー光の照射光強度が強くなると温度
    が高くなり光透過率が上がるマスク層とを少なくとも積
    層して膜付けし、前記マスク層側に照射した前記レーザ
    ー光の光スポット径が前記マスク層を透過することで実
    質的に縮小した光スポット径となって前記反射層に入射
    するようになされている光ディスクにおいて、 前記マスク層は、電子供与性呈色化合物と電子受容性顕
    色剤からなるサーモクロミック材料を流動性のある材料
    中に溶解または分散させて流動性を保った状態で膜付け
    したことを特徴とする光ディスク。
  2. 【請求項2】ランドとグルーブとを交互に周回状に形成
    したディスク基板上に、情報信号を記録して再生するた
    めの記録層と、レーザー光の照射光強度が強くなると温
    度が高くなり光透過率が上がるマスク層とを少なくとも
    積層して膜付けし、前記マスク層側に照射した前記レー
    ザー光の光スポット径が前記マスク層を透過することで
    実質的に縮小した光スポット径となって前記記録層に入
    射するようになされている光ディスクにおいて、 前記マスク層は、電子供与性呈色化合物と電子受容性顕
    色剤からなるサーモクロミック材料を流動性のある材料
    中に溶解または分散させて流動性を保った状態で膜付け
    したことを特徴とする光ディスク。
  3. 【請求項3】前記流動性のある材料は、アクリレート系
    樹脂前駆体であることを特徴とする請求項1又は請求項
    2記載の光ディスク。
  4. 【請求項4】前記マスク層側に保護層,接着層を介して
    透明基板を接着し、この透明基板側から前記レーザー光
    を照射させることを特徴とする請求項1乃至請求項3の
    うちいずれか1項記載の光ディスク。
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