JP2001051100A - 放射線像変換パネル及びその製造方法 - Google Patents
放射線像変換パネル及びその製造方法Info
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- JP2001051100A JP2001051100A JP11259286A JP25928699A JP2001051100A JP 2001051100 A JP2001051100 A JP 2001051100A JP 11259286 A JP11259286 A JP 11259286A JP 25928699 A JP25928699 A JP 25928699A JP 2001051100 A JP2001051100 A JP 2001051100A
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 解像度を低下させることなく感度をより向上
させた放射線像変換パネル並びにその製造方法を提供す
る。 【解決手段】 結合剤中に蛍光体粒子を分散させた蛍光
体層と光反射性材料を分散させた光反射層とをこの順に
ファイバーオプティックプレートの一端面に積層させて
なる放射線像変換パネルとその製造方法。
させた放射線像変換パネル並びにその製造方法を提供す
る。 【解決手段】 結合剤中に蛍光体粒子を分散させた蛍光
体層と光反射性材料を分散させた光反射層とをこの順に
ファイバーオプティックプレートの一端面に積層させて
なる放射線像変換パネルとその製造方法。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は放射線像変換パネル
及びその製造方法に関する。更に詳しくは、本発明は放
射線像を可視像に変換し、その可視像をＣＣＤ（固体結
合素子）で受像してこれを一旦デジタル信号に変換し、
該デジタル信号を画像処理して放射線像を再生する方式
のデジタル放射線画像表示システムに用いられる、感度
と解像力の優れた放射線像変換パネル並びにその製造方
法に関する。
及びその製造方法に関する。更に詳しくは、本発明は放
射線像を可視像に変換し、その可視像をＣＣＤ（固体結
合素子）で受像してこれを一旦デジタル信号に変換し、
該デジタル信号を画像処理して放射線像を再生する方式
のデジタル放射線画像表示システムに用いられる、感度
と解像力の優れた放射線像変換パネル並びにその製造方
法に関する。
【０００２】
【従来の技術】放射線像を可視光に変換し、これをＣＣ
Ｄで受光するデジタル放射線画像システムにおいて、放
射線像を可視光に変換する放射線像−可視光変換媒体
（以下、これらを単に「像変換パネル」と総称すること
にする）としては、従来、 １）支持体上に蛍光体層を形成し、その表面に保護膜を
設けた蛍光板（この蛍光板では保護膜面をＣＣＤの受光
面に貼付して使用される）。 ２）支持体上に蛍光体層を形成しただけの保護膜のない
蛍光板。（この蛍光板では蛍光板の蛍光体層面を直にＣ
ＣＤの受光面に貼付して使用される）。 ３）蛍光体をファイバーオプティクプレート（以下、
「ＦＯＰ」という）の一端面に直接塗布して蛍光体層を
形成したもの（このタイプのものでは、ＦＯＰの蛍光体
が塗布されていない方の端面をＣＣＤの受光面に貼付し
て使用される）。 などがあり、それぞれの像変換パネルにおける蛍光体層
により、放射線像（潜像）から可視像（顕像）に変換さ
れた光（放射線像）を、受光器であるＣＣＤに受光させ
て放射線像を得る。
Ｄで受光するデジタル放射線画像システムにおいて、放
射線像を可視光に変換する放射線像−可視光変換媒体
（以下、これらを単に「像変換パネル」と総称すること
にする）としては、従来、 １）支持体上に蛍光体層を形成し、その表面に保護膜を
設けた蛍光板（この蛍光板では保護膜面をＣＣＤの受光
面に貼付して使用される）。 ２）支持体上に蛍光体層を形成しただけの保護膜のない
蛍光板。（この蛍光板では蛍光板の蛍光体層面を直にＣ
ＣＤの受光面に貼付して使用される）。 ３）蛍光体をファイバーオプティクプレート（以下、
「ＦＯＰ」という）の一端面に直接塗布して蛍光体層を
形成したもの（このタイプのものでは、ＦＯＰの蛍光体
が塗布されていない方の端面をＣＣＤの受光面に貼付し
て使用される）。 などがあり、それぞれの像変換パネルにおける蛍光体層
により、放射線像（潜像）から可視像（顕像）に変換さ
れた光（放射線像）を、受光器であるＣＣＤに受光させ
て放射線像を得る。
【０００３】なお、従来の上記１）及び２）の放射線像
変換パネルは周知のように、基本的には紙、合成樹脂等
の支持体とこの片面に設けられた蛍光体層とからなり、
この蛍光体層は照射されたＸ線による励起されて高輝度
の瞬時発光を示すＸ線用蛍光体を結合剤中に分散させた
もので構成されているものが一般的であり、更に上記蛍
光体層の表面は、必要に応じて酢酸セルロース、セルロ
ースアセテートブチレート、ポリエチレンテレフタレー
ト等の透明保護膜により保護されている。
変換パネルは周知のように、基本的には紙、合成樹脂等
の支持体とこの片面に設けられた蛍光体層とからなり、
この蛍光体層は照射されたＸ線による励起されて高輝度
の瞬時発光を示すＸ線用蛍光体を結合剤中に分散させた
もので構成されているものが一般的であり、更に上記蛍
光体層の表面は、必要に応じて酢酸セルロース、セルロ
ースアセテートブチレート、ポリエチレンテレフタレー
ト等の透明保護膜により保護されている。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上述の
１）の像変換パネルでは、その保護膜が厚みを持つため
に蛍光体層からの光が広がり、ＣＣＤに入射する光がぼ
けてしまう問題があった。また、上述の２）の像変換パ
ネルでは、蛍光体層の表面に保護膜がないため光の広が
りは１）のものより小さいが、取り扱い時に蛍光体層表
面を汚染させ、そのために得られる画像にアーチファク
トを発生させる場合があった。更に、蛍光体層を直接Ｃ
ＣＤ受光面へ貼付するため、貼り付けに使用する接着剤
が蛍光体層表面から内部へ徐々に浸透し、その浸透の程
度が全面において均一でないところから、蛍光体層表面
からの光の出方が不均一になるという問題があった。更
にまた、上述の１）、２）の像変換パネルの場合共に、
蛍光体層を透過して直接ＣＣＤに入射するＸ線のために
ＣＣＤが劣化するという問題があった。
１）の像変換パネルでは、その保護膜が厚みを持つため
に蛍光体層からの光が広がり、ＣＣＤに入射する光がぼ
けてしまう問題があった。また、上述の２）の像変換パ
ネルでは、蛍光体層の表面に保護膜がないため光の広が
りは１）のものより小さいが、取り扱い時に蛍光体層表
面を汚染させ、そのために得られる画像にアーチファク
トを発生させる場合があった。更に、蛍光体層を直接Ｃ
ＣＤ受光面へ貼付するため、貼り付けに使用する接着剤
が蛍光体層表面から内部へ徐々に浸透し、その浸透の程
度が全面において均一でないところから、蛍光体層表面
からの光の出方が不均一になるという問題があった。更
にまた、上述の１）、２）の像変換パネルの場合共に、
蛍光体層を透過して直接ＣＣＤに入射するＸ線のために
ＣＣＤが劣化するという問題があった。
【０００５】そこで、最近では上記１）及び２）の像変
換パネルよりも、長さ１〜２０ｍｍ、外径数μｍの光フ
ァイバをいくつか束ねてなるＦＯＰの一端面上に直接蛍
光体を塗布した、上記３）の構造のものが主に採用され
ている。
換パネルよりも、長さ１〜２０ｍｍ、外径数μｍの光フ
ァイバをいくつか束ねてなるＦＯＰの一端面上に直接蛍
光体を塗布した、上記３）の構造のものが主に採用され
ている。
【０００６】ＦＯＰは光を周囲に拡散させることなく透
過させ、また自らがＸ線を吸収することによりＣＣＤ受
光面に到達するＸ線の量を減少することができるため、
上記３）のタイプのものはボケが少なく、しかもＸ線に
対する性能劣化の少ない像変換パネルとすることができ
る。
過させ、また自らがＸ線を吸収することによりＣＣＤ受
光面に到達するＸ線の量を減少することができるため、
上記３）のタイプのものはボケが少なく、しかもＸ線に
対する性能劣化の少ない像変換パネルとすることができ
る。
【０００７】しかしながら、上述の３）の像変換パネル
では、蛍光体層から発光した光の中、ＦＯＰと接してい
な方の蛍光体層の表面へ出た光は利用されることなく外
部に散逸してしまうため感度の高い像変換パネルが得ら
れない。そこで蛍光体層のＦＯＰと接していない面に光
反射効果を持つ支持体を上記１）や２）の像変換パネル
のように設けると、感度は高くなるが、蛍光体層と支持
体の間に、空間や、接着剤などの中間層ができるため反
射光の行路が長くなり鮮鋭度が低下する。また、同じ場
所に支持体の代わりに例えばアルミニウムなどの金属を
蒸着した場合は、反射効果が充分ではないし、蒸着のた
めの装置と工程が必要となりコスト高となる問題があっ
た。
では、蛍光体層から発光した光の中、ＦＯＰと接してい
な方の蛍光体層の表面へ出た光は利用されることなく外
部に散逸してしまうため感度の高い像変換パネルが得ら
れない。そこで蛍光体層のＦＯＰと接していない面に光
反射効果を持つ支持体を上記１）や２）の像変換パネル
のように設けると、感度は高くなるが、蛍光体層と支持
体の間に、空間や、接着剤などの中間層ができるため反
射光の行路が長くなり鮮鋭度が低下する。また、同じ場
所に支持体の代わりに例えばアルミニウムなどの金属を
蒸着した場合は、反射効果が充分ではないし、蒸着のた
めの装置と工程が必要となりコスト高となる問題があっ
た。
【０００８】本発明は上述のような像変換パネルのもつ
状況に鑑みてなされたものであり、解像度を犠牲にする
ことなく感度をより向上させた像変換パネル並びにその
製造方法を提供することを目的とする。
状況に鑑みてなされたものであり、解像度を犠牲にする
ことなく感度をより向上させた像変換パネル並びにその
製造方法を提供することを目的とする。
【０００９】
【課題を解決するための手段】本発明者等は、ＦＯＰに
直接蛍光体層と光反射層とを積層することにより、感度
が高くかつ高解像力を持った像変換パネルが得られるこ
とを見出し、本発明に到った。即ち、本発明は以下の構
成を有する。
直接蛍光体層と光反射層とを積層することにより、感度
が高くかつ高解像力を持った像変換パネルが得られるこ
とを見出し、本発明に到った。即ち、本発明は以下の構
成を有する。
【００１０】（１） 結合剤中に蛍光体粒子を分散させ
た蛍光体層と光反射性材料を分散させた光反射層とをこ
の順にファイバーオプティックプレートの一端面に積層
させてなる放射線像変換パネル。 （２） 上記蛍光体層と上記光反射層とが一体に形成さ
れていることを特徴とする前記（１）に記載の放射線像
変換パネル。 （３） 上記光反射性材料が酸化チタン粒子からなるこ
とを特徴とする上記（１）ないし（２）に記載の放射線
像変換パネル。
た蛍光体層と光反射性材料を分散させた光反射層とをこ
の順にファイバーオプティックプレートの一端面に積層
させてなる放射線像変換パネル。 （２） 上記蛍光体層と上記光反射層とが一体に形成さ
れていることを特徴とする前記（１）に記載の放射線像
変換パネル。 （３） 上記光反射性材料が酸化チタン粒子からなるこ
とを特徴とする上記（１）ないし（２）に記載の放射線
像変換パネル。
【００１１】（４） 上記蛍光体粒子がテルビウム付活
酸硫化ガドリニウム（Ｇｄ２Ｏ２Ｓ：Ｔｂ）であること
を特徴とする上記（１）ないし（３）のいずれかに記載
の放射線像変換パネル。 （５） 結合剤と有機溶剤との混合溶液中に、蛍光体粒
子と光反射性材料とを懸濁させた塗布液をファイバーオ
プティックプレート（ＦＯＰ）の一端面に塗布し、これ
を乾燥させることによって、その乾燥過程における上記
塗布液中における上記蛍光体粒子と上記光反射性材料と
の沈降速度の差により前記ファイバーオプティックプレ
ート（ＦＯＰ）の一端面上に蛍光体層及び光反射層をこ
の順に連続的に積層することを特徴とする放射線像変換
パネルの製造方法。
酸硫化ガドリニウム（Ｇｄ２Ｏ２Ｓ：Ｔｂ）であること
を特徴とする上記（１）ないし（３）のいずれかに記載
の放射線像変換パネル。 （５） 結合剤と有機溶剤との混合溶液中に、蛍光体粒
子と光反射性材料とを懸濁させた塗布液をファイバーオ
プティックプレート（ＦＯＰ）の一端面に塗布し、これ
を乾燥させることによって、その乾燥過程における上記
塗布液中における上記蛍光体粒子と上記光反射性材料と
の沈降速度の差により前記ファイバーオプティックプレ
ート（ＦＯＰ）の一端面上に蛍光体層及び光反射層をこ
の順に連続的に積層することを特徴とする放射線像変換
パネルの製造方法。
【００１２】
【発明の実施の形態】以下、本発明を詳細に説明する。
本発明の像変換パネルを製造するには、まず、蛍光体粒
子を硝化綿などの結合剤と共に所定量混合し、さらにこ
れに有機溶剤を加えて適当な粘度の蛍光体塗布液を調製
する。一方、これとは別に、酸化チタン粒子等の光反射
性材料を結合剤と有機溶剤との混合液の中に入れてボー
ルミルなどで充分に粉砕しながら分散させて得た光反射
性材料塗布液を、先に調製した蛍光体塗布液に所定量加
え、これを更に均一になるまで充分混合し、次いで、こ
の塗布液をＦＯＰの一方の端面に塗布する。塗布の方法
としては、例えば、その先端が端面よりやや突出するよ
うにしてＦＯＰの周囲に囲いを設けて、該端面を底面と
する凹部を設け、この凹部の中に上記塗布液を所定量流
し込む等の方法により行う。ＦＯＰの一方の端面に塗布
された光反射性材料塗布液と蛍光体塗布液との混合塗布
液は強制的に乾燥させるのではなく、ゆっくりと乾燥さ
せることによって、塗布液中の蛍光体粒子と光反射性材
料とが塗布面で乾燥する過程で徐々に分離し、下部（Ｆ
ＯＰ端面と接する側）に蛍光体が沈降し、上部に光反射
性材料が浮上して、蛍光体層と光反射層とが分離しなが
ら乾燥し、蛍光体層と光反射層とが連続的に積層され
た、蛍光体層と光反射層との一体構造を有する塗膜を形
成することが出来る。
本発明の像変換パネルを製造するには、まず、蛍光体粒
子を硝化綿などの結合剤と共に所定量混合し、さらにこ
れに有機溶剤を加えて適当な粘度の蛍光体塗布液を調製
する。一方、これとは別に、酸化チタン粒子等の光反射
性材料を結合剤と有機溶剤との混合液の中に入れてボー
ルミルなどで充分に粉砕しながら分散させて得た光反射
性材料塗布液を、先に調製した蛍光体塗布液に所定量加
え、これを更に均一になるまで充分混合し、次いで、こ
の塗布液をＦＯＰの一方の端面に塗布する。塗布の方法
としては、例えば、その先端が端面よりやや突出するよ
うにしてＦＯＰの周囲に囲いを設けて、該端面を底面と
する凹部を設け、この凹部の中に上記塗布液を所定量流
し込む等の方法により行う。ＦＯＰの一方の端面に塗布
された光反射性材料塗布液と蛍光体塗布液との混合塗布
液は強制的に乾燥させるのではなく、ゆっくりと乾燥さ
せることによって、塗布液中の蛍光体粒子と光反射性材
料とが塗布面で乾燥する過程で徐々に分離し、下部（Ｆ
ＯＰ端面と接する側）に蛍光体が沈降し、上部に光反射
性材料が浮上して、蛍光体層と光反射層とが分離しなが
ら乾燥し、蛍光体層と光反射層とが連続的に積層され
た、蛍光体層と光反射層との一体構造を有する塗膜を形
成することが出来る。
【００１３】この場合、ＦＯＰ上に塗布された塗布液中
において蛍光体粒子と光反射性材料とが上述の通り分離
するためには、該塗布液中において光反射性材料よりも
蛍光体粒子の方が早く沈降することが必要であり、その
ために、用いられる光反射性材料の方が蛍光体粒子より
も比重が小さいか、又はその粒子径が小さいような材料
を選択しておくことが必要である。ＦＯＰ上に塗布する
塗布液を調製する際、蛍光体粒子と光反射性材料とを共
に結合剤と有機溶剤との混合液中に分散させて、塗布液
とするよりも上述のように蛍光体塗布液と光反射性材料
塗布液とを別々に調製し、特に光反射性材料塗布液にボ
ールミルなどにより粉砕を兼ねて十分な分散処理を施す
ことによって予め光反射性材料塗布液中の光反射性材料
の粒子径を小さくしてから蛍光体塗布液と混合した方
が、塗布後における蛍光体粒子と光反射性材料との分離
を良くするためにも、また、得られる像変換パネルに設
けられた光反射層の光反射効果を高めるためにもより好
ましい。
において蛍光体粒子と光反射性材料とが上述の通り分離
するためには、該塗布液中において光反射性材料よりも
蛍光体粒子の方が早く沈降することが必要であり、その
ために、用いられる光反射性材料の方が蛍光体粒子より
も比重が小さいか、又はその粒子径が小さいような材料
を選択しておくことが必要である。ＦＯＰ上に塗布する
塗布液を調製する際、蛍光体粒子と光反射性材料とを共
に結合剤と有機溶剤との混合液中に分散させて、塗布液
とするよりも上述のように蛍光体塗布液と光反射性材料
塗布液とを別々に調製し、特に光反射性材料塗布液にボ
ールミルなどにより粉砕を兼ねて十分な分散処理を施す
ことによって予め光反射性材料塗布液中の光反射性材料
の粒子径を小さくしてから蛍光体塗布液と混合した方
が、塗布後における蛍光体粒子と光反射性材料との分離
を良くするためにも、また、得られる像変換パネルに設
けられた光反射層の光反射効果を高めるためにもより好
ましい。
【００１４】本発明の像変換パネルの蛍光体層及び光反
射層形成のために塗布液の調製に際して用いられる結合
剤としては、硝化綿以外に酢酸セルロース、エチルセル
ロース、ポリビニルブチラール、綿状ポリエステル、ポ
リ酢酸ビニル、塩化ビニリデン−塩化ビニルコポリマ
ー、塩化ビニリデン−酢酸ビニルコポリマー、ポリアル
キル（メタ）アクリレート、ポリカーボネート、ポリウ
レタン、セルロースアセテートブチレート、ポリビニル
アルコール、ゼラチン、デキストリン等のポリサッカラ
イド、アラビアゴムなど、従来より像変換パネルの結合
剤として知られているものであれば、特に制限はない。
射層形成のために塗布液の調製に際して用いられる結合
剤としては、硝化綿以外に酢酸セルロース、エチルセル
ロース、ポリビニルブチラール、綿状ポリエステル、ポ
リ酢酸ビニル、塩化ビニリデン−塩化ビニルコポリマ
ー、塩化ビニリデン−酢酸ビニルコポリマー、ポリアル
キル（メタ）アクリレート、ポリカーボネート、ポリウ
レタン、セルロースアセテートブチレート、ポリビニル
アルコール、ゼラチン、デキストリン等のポリサッカラ
イド、アラビアゴムなど、従来より像変換パネルの結合
剤として知られているものであれば、特に制限はない。
【００１５】また、蛍光体塗布液の調製に使用される有
機溶剤としては、例えばエタノール、メチルエチルエー
テル、酢酸ブチル、酢酸エチル、エチルエーテル、キシ
レンなどが挙げられる。なお、蛍光体塗布液中には必要
に応じてフタル酸、ステアリン酸などの分散剤や燐酸ト
リフェニル、フタル酸ジエチルなどの可塑剤が添加され
る。本発明の像変換パネルの蛍光体層として用いられる
蛍光体としては、Ｇｄ２Ｏ２Ｓ：Ｔｂ、Ｙ２Ｏ２Ｓ：Ｔ
ｂ、（Ｇｄ，Ｙ）２Ｏ２Ｓ：Ｔｂ、Ｌａ２Ｏ２Ｓ：Ｔ
ｂ、（Ｇｄ，Ｙ）２Ｏ２Ｓ：Ｔｂ：Ｔｍ、ＧｄＴａ
Ｏ４：Ｔｂ、Ｇｄ２Ｏ３・Ｔａ２Ｏ５・Ｂ２Ｏ３：Ｔ
ｂ、ＣａＷＯ４、ＢａＳＯ４：Ｐｂ、ＬａＯＢｒ：Ｔ
ｍ、ＬａＯＢｒ：Ｔｂ、ＨｆＯ２：Ｔｉ、ＨｆＰ
２Ｏ７：Ｃｕ、ＣｄＷＯ４、ＹＴａＯ４、ＹＴａＯ４：
Ｔｍ、ＹＴａＯ４：Ｎｂ、ＺｎＳ：Ａｇ、ＢａＦＣｌ：
ＥｕのようなＸ線励起により高効率な瞬時発光を呈する
蛍光体であればいずれも使用することができる。
機溶剤としては、例えばエタノール、メチルエチルエー
テル、酢酸ブチル、酢酸エチル、エチルエーテル、キシ
レンなどが挙げられる。なお、蛍光体塗布液中には必要
に応じてフタル酸、ステアリン酸などの分散剤や燐酸ト
リフェニル、フタル酸ジエチルなどの可塑剤が添加され
る。本発明の像変換パネルの蛍光体層として用いられる
蛍光体としては、Ｇｄ２Ｏ２Ｓ：Ｔｂ、Ｙ２Ｏ２Ｓ：Ｔ
ｂ、（Ｇｄ，Ｙ）２Ｏ２Ｓ：Ｔｂ、Ｌａ２Ｏ２Ｓ：Ｔ
ｂ、（Ｇｄ，Ｙ）２Ｏ２Ｓ：Ｔｂ：Ｔｍ、ＧｄＴａ
Ｏ４：Ｔｂ、Ｇｄ２Ｏ３・Ｔａ２Ｏ５・Ｂ２Ｏ３：Ｔ
ｂ、ＣａＷＯ４、ＢａＳＯ４：Ｐｂ、ＬａＯＢｒ：Ｔ
ｍ、ＬａＯＢｒ：Ｔｂ、ＨｆＯ２：Ｔｉ、ＨｆＰ
２Ｏ７：Ｃｕ、ＣｄＷＯ４、ＹＴａＯ４、ＹＴａＯ４：
Ｔｍ、ＹＴａＯ４：Ｎｂ、ＺｎＳ：Ａｇ、ＢａＦＣｌ：
ＥｕのようなＸ線励起により高効率な瞬時発光を呈する
蛍光体であればいずれも使用することができる。
【００１６】更に、本発明の像変換パネルの光反射層を
形成する光反射性材料としてはＭｇＯ、Ａｌ２Ｏ３、Ｓ
ｉＯ２、ＺｎＯ、ＴｉＯ２、Ｎｂ２Ｏ５、ＢａＳＯ４、
ＺｎＳ、ＰｂＣＯ３、ＣａＣＯ３等の光反射性を有する
無機粉体が用いられ得るが、これらの中でも特にルチル
型及びアナターゼ型の酸化チタン（ＴｉＯ２）を用いる
と反射効果の高い光反射層が得られるので好ましい。ま
た、用いられる光反射性材料の粒径によっても反射効果
が大きく異なり、反射効果の点で、本発明の像変換パネ
ルの光反射層形成のために用いられる光反射性材料の粒
子径としては０．０２μｍないし０．５μｍのものを使
用することが特に好ましい。なお、光反射性材料を分散
させる結合剤と有機溶剤は上記の蛍光体塗布液に使用さ
れるものと同じものが使用できる。
形成する光反射性材料としてはＭｇＯ、Ａｌ２Ｏ３、Ｓ
ｉＯ２、ＺｎＯ、ＴｉＯ２、Ｎｂ２Ｏ５、ＢａＳＯ４、
ＺｎＳ、ＰｂＣＯ３、ＣａＣＯ３等の光反射性を有する
無機粉体が用いられ得るが、これらの中でも特にルチル
型及びアナターゼ型の酸化チタン（ＴｉＯ２）を用いる
と反射効果の高い光反射層が得られるので好ましい。ま
た、用いられる光反射性材料の粒径によっても反射効果
が大きく異なり、反射効果の点で、本発明の像変換パネ
ルの光反射層形成のために用いられる光反射性材料の粒
子径としては０．０２μｍないし０．５μｍのものを使
用することが特に好ましい。なお、光反射性材料を分散
させる結合剤と有機溶剤は上記の蛍光体塗布液に使用さ
れるものと同じものが使用できる。
【００１７】本発明の像変換パネルに使用されるＦＯＰ
としては、芯部を構成し、光を伝達するコアガラスとそ
の周囲を被覆するクラッドガラスからなる、外径が数μ
ｍの柱状のシングルガラスファイバーを多数束ねたマル
チファイバー構造のものを、各ファイバーの軸に垂直に
１〜２０ｍｍ程度の所望の長さにカットして板状とし、
これを更に各シングルファイバーの軸に並行にカットし
て直方体状、立方体状、円板状等、所望の形状の板（プ
レート）に加工したものが使用される。板（プレート）
に加工する際、板（プレート）の一方の面の面積を他方
の面の面積より小さくしテイパー状とし、ＦＯＰの両端
面間で画像を拡大、縮小出来るようにしておいても良
い。なお、通常はＦＯＰにあっては、マルチファイバー
を構成する各シングルファイバー間には各コアガラス及
びクラッドガラスから漏れで出た光を吸収する吸収体が
充填されている。蛍光体粒子及び光反射性材料を含む上
記塗布液はＦＯＰの一端面、即ち、ＦＯＰを構成する各
シングルガラスファイバーの軸に垂直な両切断面の一方
に塗布される。
としては、芯部を構成し、光を伝達するコアガラスとそ
の周囲を被覆するクラッドガラスからなる、外径が数μ
ｍの柱状のシングルガラスファイバーを多数束ねたマル
チファイバー構造のものを、各ファイバーの軸に垂直に
１〜２０ｍｍ程度の所望の長さにカットして板状とし、
これを更に各シングルファイバーの軸に並行にカットし
て直方体状、立方体状、円板状等、所望の形状の板（プ
レート）に加工したものが使用される。板（プレート）
に加工する際、板（プレート）の一方の面の面積を他方
の面の面積より小さくしテイパー状とし、ＦＯＰの両端
面間で画像を拡大、縮小出来るようにしておいても良
い。なお、通常はＦＯＰにあっては、マルチファイバー
を構成する各シングルファイバー間には各コアガラス及
びクラッドガラスから漏れで出た光を吸収する吸収体が
充填されている。蛍光体粒子及び光反射性材料を含む上
記塗布液はＦＯＰの一端面、即ち、ＦＯＰを構成する各
シングルガラスファイバーの軸に垂直な両切断面の一方
に塗布される。
【００１８】図１は本発明の像変換パネルの一例を示す
斜視図であり、図２は図１の像変換パネル１のＡ−Ｂ面
における断面図を例示する図面である。本例の像変換パ
ネルではシングルガラスファイバー５を多数束ねたマル
チファイバーを直方体状のプレートに切断し、ＦＯＰ４
の一端面に蛍光体粒子３３を分散させた蛍光体層３並び
に光反射性材料２２を分散させた光反射層２とがこの順
に積層され一体化されている。使用に際してはこの像変
換パネル１のＦＯＰ４の表面（蛍光体層３と接していな
い方の面）をＣＣＤに貼付けておいて像変換パネル１の
光反射層２側へ被写体を透過したＸ線を照射して、蛍光
体層３において可視光に変換された該被写体のＸ線像を
ＣＣＤで受像してＸ線像を再生する。
斜視図であり、図２は図１の像変換パネル１のＡ−Ｂ面
における断面図を例示する図面である。本例の像変換パ
ネルではシングルガラスファイバー５を多数束ねたマル
チファイバーを直方体状のプレートに切断し、ＦＯＰ４
の一端面に蛍光体粒子３３を分散させた蛍光体層３並び
に光反射性材料２２を分散させた光反射層２とがこの順
に積層され一体化されている。使用に際してはこの像変
換パネル１のＦＯＰ４の表面（蛍光体層３と接していな
い方の面）をＣＣＤに貼付けておいて像変換パネル１の
光反射層２側へ被写体を透過したＸ線を照射して、蛍光
体層３において可視光に変換された該被写体のＸ線像を
ＣＣＤで受像してＸ線像を再生する。
【００１９】なお、本発明の像変換パネルは上述のよう
に蛍光体塗布液と光反射性材料塗布液とを混合してなる
塗布液をＦＯＰ端面に塗布して、該塗布面上においてそ
の乾燥過程で蛍光体粒子と光反射性材料とを分離させて
蛍光体層と光反射層とを一体化して形成する代わりに、
当然のことながら、ＦＯＰ端面に蛍光体塗布液を塗布し
てこれを乾燥させ、先ず、ＦＯＰの端面上に予め蛍光体
層を形成させておき、その上に光反射性材料を分散させ
た光反射性材料塗布液を塗布し、乾燥させて光反射層を
形成させても良いことはいうまでもない。
に蛍光体塗布液と光反射性材料塗布液とを混合してなる
塗布液をＦＯＰ端面に塗布して、該塗布面上においてそ
の乾燥過程で蛍光体粒子と光反射性材料とを分離させて
蛍光体層と光反射層とを一体化して形成する代わりに、
当然のことながら、ＦＯＰ端面に蛍光体塗布液を塗布し
てこれを乾燥させ、先ず、ＦＯＰの端面上に予め蛍光体
層を形成させておき、その上に光反射性材料を分散させ
た光反射性材料塗布液を塗布し、乾燥させて光反射層を
形成させても良いことはいうまでもない。
【００２０】
Ｇｄ２Ｏ２Ｓ：Ｔｂ蛍光体（平均粒径５．０μｍ） ４ 重量部 Ｇｄ２Ｏ２Ｓ：Ｔｂ蛍光体（平均粒径３．０μｍ） １ 重量部 ポリビニルブチラール（結合剤） ０．４重量部 キシレン （溶剤） ２ 重量部 ブチルアルコール（溶剤） ２ 重量部 の上記各原料を十分に混合攪拌して蛍光体塗布液（ａ−
１）を調製した。
１）を調製した。
【００２１】次に、ルチル型酸化チタン（光反射性材
料；石原産業社製ＣＲ−９５、 平均粒径０．２８μｍ） １００重量部 ポリビニルブチラール（溶剤） １重量部 キシレン（溶剤） ４０重量部 ブチルアルコール ４０重量部 の上記各原料を混合し、これを更にボールミルで十分に
攪拌し分散させて光反射性材料塗布液（ｂ−１）を調製
した。
料；石原産業社製ＣＲ−９５、 平均粒径０．２８μｍ） １００重量部 ポリビニルブチラール（溶剤） １重量部 キシレン（溶剤） ４０重量部 ブチルアルコール ４０重量部 の上記各原料を混合し、これを更にボールミルで十分に
攪拌し分散させて光反射性材料塗布液（ｂ−１）を調製
した。
【００２２】次いで、４０重量部の上記蛍光体塗布液
（ａ−１）に対して、６重量部の上記光反射性材料塗布
液（ｂ−１）を添加して充分に攪拌、混合して塗布液
（ｃ−１）を調製した。次に、浜松ホトニクス社製のＦ
ＯＰ（サイズ２０ｍｍｘ３０ｍｍ、厚さ３ｍｍ、各シン
グルファイバー径６μｍ）の外周部全体に、粘着性のあ
る紙テープをその先端がＦＯＰの端面（塗布面）よりも
およそ２ｍｍ程度突出するように巻いて囲いを設けるこ
とによって、紙テープとＦＯＰの端面（塗布面）とによ
って形成される凹部を設け、該凹部内にＧｄ２Ｏ２Ｓ：
Ｔｂ蛍光体の塗布重量が５９ｍｇ／ｃｍ２となる量の上
記塗布液（ｃ−１）を流し込み、その後、水平に保たれ
た平らな板の上に２時間静置して乾燥させた。乾燥後、
ＦＯＰの外周部全体を囲っていた紙テープを取り除き、
ＦＯＰの端面に蛍光体層と光反射層とが一体化して形成
された層を有する実施例１の放射線像変換パネル［１］
を作製した。
（ａ−１）に対して、６重量部の上記光反射性材料塗布
液（ｂ−１）を添加して充分に攪拌、混合して塗布液
（ｃ−１）を調製した。次に、浜松ホトニクス社製のＦ
ＯＰ（サイズ２０ｍｍｘ３０ｍｍ、厚さ３ｍｍ、各シン
グルファイバー径６μｍ）の外周部全体に、粘着性のあ
る紙テープをその先端がＦＯＰの端面（塗布面）よりも
およそ２ｍｍ程度突出するように巻いて囲いを設けるこ
とによって、紙テープとＦＯＰの端面（塗布面）とによ
って形成される凹部を設け、該凹部内にＧｄ２Ｏ２Ｓ：
Ｔｂ蛍光体の塗布重量が５９ｍｇ／ｃｍ２となる量の上
記塗布液（ｃ−１）を流し込み、その後、水平に保たれ
た平らな板の上に２時間静置して乾燥させた。乾燥後、
ＦＯＰの外周部全体を囲っていた紙テープを取り除き、
ＦＯＰの端面に蛍光体層と光反射層とが一体化して形成
された層を有する実施例１の放射線像変換パネル［１］
を作製した。
【００２３】〔実施例２〕光反射性材料塗布液として、
石原産業社製の酸化チタンＣＲ−９５に代えて富士チタ
ン工業社製のアナターゼ型酸化チタンＴＡＦ−１１０Ａ
（平均粒径０．０５μｍ）を使用した以外は実施例１の
光反射性材料塗布液（ｂ−１）と同様にして光反射性材
料塗布液（ｂ−２）を調製し、４０重量部の実施例１で
調製した蛍光体塗布液（ａ−１）に対して３重量部の上
記光反射性材料塗布液（ｂ−２）を添加し、十分に混合
して塗布液（ｃ−２）を調製した。
石原産業社製の酸化チタンＣＲ−９５に代えて富士チタ
ン工業社製のアナターゼ型酸化チタンＴＡＦ−１１０Ａ
（平均粒径０．０５μｍ）を使用した以外は実施例１の
光反射性材料塗布液（ｂ−１）と同様にして光反射性材
料塗布液（ｂ−２）を調製し、４０重量部の実施例１で
調製した蛍光体塗布液（ａ−１）に対して３重量部の上
記光反射性材料塗布液（ｂ−２）を添加し、十分に混合
して塗布液（ｃ−２）を調製した。
【００２４】次いで、塗布液（ｃ−１）に代えて、上記
塗布液（ｃ−２）を用いた以外は実施例１と同様にして
ＦＯＰの端面に蛍光体層と光反射層とが一体化して形成
された層を有する実施例２の放射線像変換パネル［２］
を作製した。
塗布液（ｃ−２）を用いた以外は実施例１と同様にして
ＦＯＰの端面に蛍光体層と光反射層とが一体化して形成
された層を有する実施例２の放射線像変換パネル［２］
を作製した。
【００２５】〔比較例〕ＦＯＰの上端面に塗布する塗布
液として、実施例１の塗布液（ｃ−１）に代えて、光反
射性材料塗布液（ｂ−１）を用いず、蛍光体塗布液（ａ
−１）のみをＦＯＰの端面（塗布面）に塗布した以外は
実施例１の放射線像変換パネル［１］と同様にしてＦＯ
Ｐの端面に蛍光体層のみを有する放射線像変換パネル
［３］を作製した。
液として、実施例１の塗布液（ｃ−１）に代えて、光反
射性材料塗布液（ｂ−１）を用いず、蛍光体塗布液（ａ
−１）のみをＦＯＰの端面（塗布面）に塗布した以外は
実施例１の放射線像変換パネル［１］と同様にしてＦＯ
Ｐの端面に蛍光体層のみを有する放射線像変換パネル
［３］を作製した。
【００２６】《評価》上述のようにして得られた実施例
１、２及び比較例の像変換パネル［１］［２］及び
［３］の各像変換パネルについて、これらをＸ線写真フ
ィルムと組み合わせて、各像変換パネルの感度及び解像
力を測定した。
１、２及び比較例の像変換パネル［１］［２］及び
［３］の各像変換パネルについて、これらをＸ線写真フ
ィルムと組み合わせて、各像変換パネルの感度及び解像
力を測定した。
【００２７】感度及び解像力の測定は、以下のようにし
て行った。即ち、各像変換パネルの光反射層側の面にＸ
線テストチャート（化成オプトニクス社製タイプ１、鉛
箔厚み０．０５ｍｍ）を配置し、一方、各像変換パネル
におけるＦＯＰの蛍光体層が形成されていない方の端面
にＸ線フィルム（富士写真フィルム社製ＵＲ−２）を設
置し、上記Ｘ線テストチャート側からＸ線（管電圧；８
０ｋＶ）を照射して、Ｘ線テストチャートを撮影し、Ｘ
フイルム上にＸ線テストチャートのＸ線像を形成させた
後、この撮影済みの各Ｘ線フィルムを解析して各像変換
パネルの感度並びに解像度を評価した。その結果を表１
に示す。なお、表１において感度は比較例の像変換パネ
ル［３］の感度を１００として、Ｘ線フィルムの黒化度
と特性曲線の形状とから求めた。また、解像度はＸ線フ
ィルムに撮影された現像済Ｘ線テストチャート像を１０
倍の拡大鏡で観察することによって求めた。
て行った。即ち、各像変換パネルの光反射層側の面にＸ
線テストチャート（化成オプトニクス社製タイプ１、鉛
箔厚み０．０５ｍｍ）を配置し、一方、各像変換パネル
におけるＦＯＰの蛍光体層が形成されていない方の端面
にＸ線フィルム（富士写真フィルム社製ＵＲ−２）を設
置し、上記Ｘ線テストチャート側からＸ線（管電圧；８
０ｋＶ）を照射して、Ｘ線テストチャートを撮影し、Ｘ
フイルム上にＸ線テストチャートのＸ線像を形成させた
後、この撮影済みの各Ｘ線フィルムを解析して各像変換
パネルの感度並びに解像度を評価した。その結果を表１
に示す。なお、表１において感度は比較例の像変換パネ
ル［３］の感度を１００として、Ｘ線フィルムの黒化度
と特性曲線の形状とから求めた。また、解像度はＸ線フ
ィルムに撮影された現像済Ｘ線テストチャート像を１０
倍の拡大鏡で観察することによって求めた。
【００２８】
【表１】 表１からわかるように、実施例１及び２の像変換パネル
は比較例のそれに比べておよそ１．８倍もの高感度であ
るにもかかわらず、解像力は１０ＬＰ／ｍｍから８ＬＰ
／ｍｍへとわずかに低下するだけであり、解像度の低下
の程度は極めて小さかった。
は比較例のそれに比べておよそ１．８倍もの高感度であ
るにもかかわらず、解像力は１０ＬＰ／ｍｍから８ＬＰ
／ｍｍへとわずかに低下するだけであり、解像度の低下
の程度は極めて小さかった。
【００２９】
【発明の効果】本発明の像変換パネルは上述のような構
成としたので、従来の像変換パネルに比較して、わずか
な解像力の低下で大幅な感度向上を図ることができる。
成としたので、従来の像変換パネルに比較して、わずか
な解像力の低下で大幅な感度向上を図ることができる。
【００３０】
【図１】本発明の放射線像変換パネルの一例を例示する
斜視図である。
斜視図である。
【図２】本発明の放射線像変換パネルの一例を例示する
断面図である。 １………像変換パネル ２………光反射層 ３………蛍光体層 ４………ＦＯＰ ５………ガラスファイバー ２２………光反射性材
料 ３３………蛍光体粒子
断面図である。 １………像変換パネル ２………光反射層 ３………蛍光体層 ４………ＦＯＰ ５………ガラスファイバー ２２………光反射性材
料 ３３………蛍光体粒子
Claims (5)
- 【請求項１】 結合剤中に蛍光体粒子を分散させた蛍光
体層と光反射性材料を分散させた光反射層とをこの順に
ファイバーオプティックプレートの一端面に積層させて
なる放射線像変換パネル。 - 【請求項２】 上記蛍光体層と上記光反射層とが一体に
形成されていることを特徴とする請求項１に記載の放射
線像変換パネル。 - 【請求項３】 上記光反射性材料が酸化チタン粒子から
なることを特徴とする請求項１ないし２に記載の放射線
像変換パネル。 - 【請求項４】 上記蛍光体粒子がテルビウム付活酸硫化
ガドリニウム（Ｇｄ２Ｏ２Ｓ：Ｔｂ）であることを特徴
とする請求項１ないし３のいずれか一項に記載の放射線
像変換パネル。 - 【請求項５】 結合剤と有機溶剤との混合溶液中に、蛍
光体粒子と光反射性材料とを懸濁させた塗布液をファイ
バーオプティックプレート（ＦＯＰ）の一端面に塗布
し、これを乾燥させることによって、その乾燥過程にお
ける上記塗布液中における上記蛍光体粒子と上記光反射
性材料との沈降速度の差により上記ファイバーオプティ
ックプレート（ＦＯＰ）の一端面上に蛍光体層及び光反
射層をこの順に連続的に積層することを特徴とする放射
線像変換パネルの製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11259286A JP2001051100A (ja) | 1999-08-10 | 1999-08-10 | 放射線像変換パネル及びその製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11259286A JP2001051100A (ja) | 1999-08-10 | 1999-08-10 | 放射線像変換パネル及びその製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2001051100A true JP2001051100A (ja) | 2001-02-23 |
Family
ID=17331985
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP11259286A Pending JP2001051100A (ja) | 1999-08-10 | 1999-08-10 | 放射線像変換パネル及びその製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2001051100A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2018016224A1 (ja) * | 2016-07-20 | 2018-01-25 | 株式会社日立製作所 | 放射線モニタ |
-
1999
- 1999-08-10 JP JP11259286A patent/JP2001051100A/ja active Pending
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2018016224A1 (ja) * | 2016-07-20 | 2018-01-25 | 株式会社日立製作所 | 放射線モニタ |
| JPWO2018016224A1 (ja) * | 2016-07-20 | 2019-05-16 | 株式会社日立製作所 | 放射線モニタ |
| EP3489722A4 (en) * | 2016-07-20 | 2020-03-04 | Hitachi, Ltd. | RADIATION MEASURING APPARATUS |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |