JP2001044164A

JP2001044164A - 基板処理装置

Info

Publication number: JP2001044164A
Application number: JP11210905A
Authority: JP
Inventors: Yoshiyuki Nakagawa; 良幸中川; Tsutomu Kamiyama; 勉上山; Koji Yamashita; 宏二山下; Kenji Fujii; 健二藤井
Original assignee: Dainippon Screen Manufacturing Co Ltd
Current assignee: Dainippon Screen Manufacturing Co Ltd
Priority date: 1999-07-26
Filing date: 1999-07-26
Publication date: 2001-02-16

Abstract

(57)【要約】【課題】構成を簡略化し装置の小型化を図りつつ、処
理部内に設けた複数の処理液供給部から均一な処理液を
基板に供給する。【解決手段】基板Ｗを収容して基板Ｗに所定の処理を
施す処理部５と、処理部５内に設けられた第１、第２の
処理液供給部Ｓ１、Ｓ２と、第１、第２の処理液供給部
Ｓ１、Ｓ２に連通接続されるとともに、第１、第２の処
理液供給部Ｓ１、Ｓ２への処理液の供給とその停止を個
別に切換える開閉弁２１Ａ、２１Ｂとを含み、かつ、純
水と薬液とが導入されて処理液を生成する単一の処理液
生成部１０とを備える。第１の処理液供給部Ｓ１から基
板Ｗへの処理液ＱＭの供給とその停止は開閉弁２１Ａの
開閉で行われ、第２の処理液供給部Ｓ２から基板Ｗへの
処理液ＱＭの供給とその停止は開閉弁２１Ｂの開閉で行
われる。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、半導体ウエハや液
晶表示器用のガラス基板、フォトマスク用のガラス基
板、光ディスク用の基板などの基板に、処理液を供給し
て洗浄処理などの所定の処理を行う基板処理装置に関す
る。

【０００２】

【従来の技術】従来のこの種の基板処理装置は、処理部
に基板を収容し、処理部内に設けられたノズルなどの処
理液供給部から基板に処理液を供給して基板に洗浄処理
などの所定の処理を施すように構成されている。

【０００３】また、例えば、基板の表面と裏面とにそれ
ぞれ処理液を供給するような場合などでは、従来、図１
４に示すように、基板Ｗの表面に向けて処理液を供給す
る表面用処理液供給部１１０と、基板Ｗの裏面に向けて
処理液を供給する裏面用処理液供給部１２０とを処理部
１００内に設け、表面用処理液供給部１１０に処理液を
供給する表面用処理液供給ユニット１３０と、裏面用処
理液供給部１２０に処理液を供給する裏面用処理液供給
ユニット１４０とを個別に設けている。

【０００４】また、基板Ｗに供給する処理液として、純
水と薬液とを混合した混合液を用いる場合には、純水と
薬液とを混合して処理液を生成する処理液生成機構が各
処理液供給ユニット１３０、１４０にそれぞれ設けられ
ている。

【０００５】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、このよ
うな構成を有する従来例の場合には、次のような問題が
ある。すなわち、従来装置は、複数の処理液供給部１１
０、１２０ごとに処理液供給ユニット１３０、１４０を
備えるので、構造が複雑であるとともに、装置が大型化
するという問題がある。

【０００６】また、従来装置は、各処理液供給部１１
０、１２０に供給する処理液を別個の処理液機構で生成
することになるので、基板Ｗの表面に供給する処理液と
基板Ｗの裏面に供給する処理液とは、同じ濃度で生成さ
れることが保証されず、基板Ｗの表面と裏面とに同じ濃
度の処理液を供給できることが保証されないという問題
もある。

【０００７】本発明は、このような事情に鑑みてなされ
たものであって、構成を簡略化するとともに装置の小型
化を図りつつ、処理部内に設けた複数の処理液供給部か
ら均一な処理液を基板に供給することができる基板処理
装置を提供することを目的とする。

【０００８】

【課題を解決するための手段】本発明は、このような目
的を達成するために、次のような構成をとる。すなわ
ち、請求項１に記載の発明は、基板に所定の処理を行う
基板処理装置であって、基板を収容して基板に所定の処
理を施す処理部と、前記処理部内に設けられ、第１の方
向から基板に処理液を供給する第１の処理液供給部と、
前記処理部内に設けられ、前記第１の方向と異なる第２
の方向から基板に処理液を供給する第２の処理液供給部
と、前記第１、第２の処理液供給部に連通接続されると
ともに、前記第１の処理液供給部への処理液の供給とそ
の停止を切換える第１の出力側切換え手段と、前記第２
の処理液供給部への処理液の供給とその停止を切換える
第２の出力側切換え手段とを含み、かつ、純水と薬液と
が導入されて処理液を生成する処理液生成部と、を備え
たことを特徴とするものである。

【０００９】請求項２に記載の発明は、上記請求項１に
記載の基板処理装置において、前記処理液生成部への各
液の導入とその停止を個別に切換える複数の導入側切換
え手段を設けたことを特徴とするものである。

【００１０】請求項３に記載の発明は、上記請求項１ま
たは２に記載の基板処理装置において、生成した処理液
の濃度を検知する濃度検知手段を設けたことを特徴とす
るものである。

【００１１】請求項４に記載の発明は、上記請求項１な
いし３のいずれかに記載の基板処理装置において、前記
処理部で処理に使用した後の処理液を回収して前記処理
液生成部に戻す処理液帰還手段を備えたことを特徴とす
るものである。

【００１２】請求項５に記載の発明は、上記請求項４に
記載の基板処理装置において、前記処理液帰還手段に
は、回収した使用後の処理液を貯留する処理液貯留手段
を備えていることを特徴とするものである。

【００１３】請求項６に記載の発明は、上記請求項５に
記載の基板処理装置において、前記処理液貯留手段に貯
留した処理液をフィルターを通過させてから前記処理液
貯留手段に戻すように循環させる内部循環手段を備えた
ことを特徴とするものである。

【００１４】請求項７に記載の発明は、上記請求項１な
いし６のいずれかに記載の基板処理装置において、処理
液を生成するときよりも少ない導入流量で純水を前記処
理液生成部に導入する純水導入流量調節手段と、前記純
水導入流量調節手段で調節される少ない導入流量で純水
のみを前記処理液生成部に導入させるとともに、前記処
理液生成部から前記第１、第２の処理液供給部にその純
水を供給するように前記第１、第２の出力側切換え手段
を切換えるように制御する制御手段と、をさらに備えた
ことを特徴とするものである。

【００１５】

【作用】請求項１に記載の発明の作用は次のとおりであ
る。単一の処理液生成部に純水と薬液とが導入されて処
理液を生成する。なお、処理液生成部に導入する薬液は
１種類であってもよいし複数種類であってもよい。

【００１６】上記処理液生成部で生成した処理液は、第
１の出力側切換え手段を介して、処理部内に設けられた
第１の処理液供給部から、処理部内に収容された基板に
第１の方向から供給されるとともに、第２の出力側切換
え手段を介して、処理部内に設けられた第２の処理液供
給部から、処理部内に収容された基板に第１の方向と異
なる第２の方向から供給される。

【００１７】第１の処理液供給部から基板への処理液の
供給とその停止の切換えは第１の出力側切換え手段で行
われ、第２の処理液供給部から基板への処理液の供給と
その停止の切換えは第２の出力側切換え手段で行われ
る。

【００１８】請求項２に記載の発明によれば、各導入側
切換え手段を個別に切換えて、処理液生成部へ導入する
液を選択的に切換える。これにより、所望の液を混合し
た処理液を生成して基板に供給したり、あるいは、純水
のみを基板に供給したりすることもできる。

【００１９】請求項３に記載の発明によれば、処理液生
成部で生成した処理液の濃度を濃度検知手段により検知
する。

【００２０】請求項４に記載の発明によれば、処理液帰
還手段により、処理部で処理に使用した後の処理液を回
収して処理液生成部に戻して再利用する。

【００２１】請求項５に記載の発明によれば、回収した
使用後の処理液を処理液貯留手段に一旦貯留してから処
理液生成部に戻す。

【００２２】請求項６に記載の発明によれば、内部循環
手段により、処理液貯留手段に貯留した処理液をフィル
ターを通過させてから処理液貯留手段に戻すように内部
的に循環させる。

【００２３】請求項７に記載の発明によれば、基板を処
理していないときには、制御手段が、純水導入流量調節
手段で調節される少ない導入流量で純水のみを処理液生
成部に導入させるとともに、処理液生成部から第１、第
２の処理液供給部にその純水を供給するように第１、第
２の出力側切換え手段を切換えるように制御し、少ない
流量の純水を処理液生成部から第１、第２の処理液供給
部へ流してスローリークを行う。

【００２４】

【発明の実施の形態】以下、図面を参照して本発明の実
施の形態を説明する。図１は本発明の一実施例に係る基
板処理装置の全体的な構成を示す概略図であり、図２は
処理液供給系及び処理液帰還系内の構成を示す配管図、
図３は制御系の構成を示すブロック図、図４は処理液生
成部の具体的な構成例を示す一部断面図、図５は出力側
の開閉弁の一例の構成を示す縦断面図、図６は導入側の
開閉弁の一例の構成を示す縦断面図、図７は濃度検知機
構の一例の構成を示す正面図、図８ないし図１０は処理
部の構成例を示す図、図１１はキャビネット部内の構成
を示す配管図である。なお、各図中において、一点鎖線
の矢印は各液の流れる方向を示している。

【００２５】本実施例装置は、図１に示すように、大き
く分けて、本体部１とキャビネット部２とに分かれ、本
体部１には処理液供給系３と処理液帰還系４とが備えら
れている。基板を収容して所定の処理（洗浄処理など）
を施す処理部５は、処理液供給系３内に設けられてい
る。また、各部を制御する制御部６も、例えば本体部１
内に設けられている。制御部６は、例えば、ＣＰＵとメ
モリなどを備えたコンピューターで構成されている。

【００２６】図２に示すように、処理液供給系３には、
純水や複数種類（本実施例では２種類）の薬液（Ｑ１、
Ｑ２：例えば、アンモニア[NH₃] と過酸化水素[H₂O₂]の
組み合わせや、塩酸[HCl] と過酸化水素[H₂O₂]の組み合
わせなど）が導入されて処理液を生成する処理液生成部
１０が設けられている。本実施例では、処理液帰還系４
から戻された、処理に使用された後に回収された処理液
（以下、この処理液を再利用処理液ともいう）も処理液
生成部１０に導入されている。

【００２７】なお、この実施例では、純水と２種類の薬
液（Ｑ１、Ｑ２）とを所定濃度に混合した処理液（以
下、この処理液を混合処理液ともいう）ＱＭを処理液生
成部１０で生成して、処理部５に供給するものとする。

【００２８】純水や各薬液は、キャビネット部２に連通
接続された純水導入管１１Ｐや各薬液導入管１１Ｑ１、
１１Ｑ２を介して処理液生成部１０の上流側へ導入され
る。また、再利用処理液ＱＭＲは、処理液帰還系４に連
通接続された再利用処理液導入管１１Ｒを介して処理液
生成部１０の上流側へ導入される。

【００２９】各導入管１１（１１Ｐ、１１Ｑ１、１１Ｑ
２及び１１Ｒ）には、処理液生成部１０に導入する各液
の導入圧力を個別に調節する圧力調節器１２（１２Ｐ、
１２Ｑ１、１２Ｑ２、１２Ｒ）がそれぞれ設けられてい
る。

【００３０】圧力調節器１２は、与えられる空気圧（パ
イロット圧）に応じて、二次側（処理液生成部１０側）
の液の圧力を制御する制御弁である。圧力調節器１２に
一定のパイロット圧を与えることにより、圧力調節器１
２の二次側の液の圧力を一定にすることができ、導入管
１１を流通する液の流量を一定にすることができる。ま
た、圧力調節器１２に与えるパイロット圧を変えること
により、導入管１１を流通する液の流量を変えることが
できる。

【００３１】各圧力調節器１２Ｐ、１２Ｑ１、１２Ｑ
２、１２Ｒにパイロット圧を与える制御は制御部６によ
り行われる。制御部６は、後述する流量センサ７１Ｐ、
７１Ｑ１、７１Ｑ２、６５で検知される流量に基づき、
導入管１１を流通する液の流量を、目標の流量（目標
値）にするように、ＰＩＤ制御（Ｐ：比例、Ｉ：積分、
Ｄ：微分）によって、各圧力調節器１２Ｐ、１２Ｑ１、
１２Ｑ２、１２Ｒに与えるパイロット圧を順次決めなが
ら、各圧力調節器１２Ｐ、１２Ｑ１、１２Ｑ２、１２Ｒ
にパイロット圧を与えるように制御する（図３参照）。

【００３２】また、上記各導入管１１（１１Ｐ、１１Ｑ
１、１１Ｑ２、１１Ｒ）には、各導入管１１の流路を絞
って処理液生成部１０に導入する各液の導入流量を個別
に調節する流量調節弁１３（１３Ｐ、１３Ｑ１、１３Ｑ
２、１３Ｒ）や、処理液生成部１０への各液の供給とそ
の停止を個別に切換える複数の導入側切換え手段に相当
する開閉弁１４（１４Ｐ、１４Ｑ１、１４Ｑ２、１４
Ｒ）もそれぞれ設けられている。各流量調節弁１３は、
大量の液が一気に処理液生成部１０に流れ込むのを抑制
するために設けられ、本実施例では手操作で調節するよ
うに構成している。また、各開閉弁１４Ｐ、１４Ｑ１、
１４Ｑ２、１４Ｒの開閉制御は制御部６により行われ
る。

【００３３】さらに、純水導入管１１Ｐには、圧力調節
器１２Ｐを通過せずに処理液生成部１０に純水を供給す
るためのバイパス管１５や、純水を圧力調節器１２Ｐ側
に流すか、バイパス管１５側に流すかを切換えるための
三方弁などで構成される切換え器１６が設けられてい
る。バイパス管１５には、圧力調節器１２Ｐ側を通過し
て処理液生成部１０に純水を供給するときよりも少ない
流量で処理液生成部１０に純水を導入できるように調節
する流量調節弁１７が設けられている。バイパス管１５
や切換え器１６、流量調節弁１７は、請求項７に記載の
発明における純水導入流量調節手段を構成する。なお、
切換え器１６の切換え制御や流量調節弁１７の流量調節
制御は制御部６により行われる。

【００３４】生成された処理液を、処理部５内に設けら
れた第１、第２の処理液供給部Ｓ１、Ｓ２にそれぞれ供
給する第１、第２の処理液供給管２０Ａ、２０Ｂが、処
理液生成部１０の下流側から導出されている。

【００３５】各処理液供給管２０（２０Ａ、２０Ｂ）に
は、生成された処理液の処理部５側への供給とその停止
を切換える第１、第２の出力側切換え手段に相当する開
閉弁２１（２１Ａ、２１Ｂ）や、各供給管２０の流路を
絞って処理部５側に供給する処理液の供給流量を個別に
調節する流量調節弁２２（２２Ａ、２２Ｂ）が設けられ
ている。各流量調節弁２２Ａ、２２Ｂは、各供給管２０
Ａ、２０Ｂの管の長さや配管状態などの違いなどにより
各供給管２０Ａ、２０Ｂ内での圧力損失に差が生じた場
合などにおいても、各処理液供給部Ｓ１、Ｓ２に同じ流
量の処理液を供給できるように設けられている。各開閉
弁２１Ａ、２１Ｂの開閉制御は制御部６により行われ、
流量調節弁２２Ａ、２２Ｂは、例えば、手操作で調節す
るように構成している。

【００３６】また、処理液生成部１０には、処理液生成
部１０に導入される各液の導入部よりも下流側であっ
て、第１、第２の処理液供給管２０Ａ、２０Ｂよりも上
流側の位置に、濃度検知手段に相当する濃度検知機構３
０が設けられている。濃度検知機構３０からの検知信号
は制御部６に与えられる。

【００３７】ここで、処理液生成部１０の具体的な構成
例を図４を参照して説明する。図４に示す処理液生成部
１０は、各導入管１１Ｐ、１１Ｑ１、１１Ｑ２、１１Ｒ
及び第１、第２の処理液供給管２０Ａ、２０Ｂと連通接
続された集合管４０を備えている。図４に示す構成で
は、集合管４０の上流側である基端部に純水導入管１１
Ｐが連通接続され、集合管４０の下流側である先端部は
閉止されている。さらに、集合管４０の側部に、上流側
から順に各薬液導入管１１Ｑ１、１１Ｑ２、再利用処理
液導入管１１Ｒ、第１、第２の処理液供給管２０Ａ、２
０Ｂが連通接続され、集合管４０と再利用処理液導入管
１１Ｒとの接続部分と、集合管４０と第１の処理液供給
管２０Ａとの接続部分との間の集合管４０の管路途中
に、濃度検知機構３０が設けられている。

【００３８】また、流量調節弁２２Ａの機能を兼用した
開閉弁２１Ａと、流量調節弁２２Ｂの機能を兼用した開
閉弁２１Ｂと、開閉弁１４（１４Ｐ、１４Ｑ１、１４Ｑ
２、１４Ｒ）とが、集合管４０に一体的に設けられてい
る。

【００３９】開閉弁２１Ａ、２１Ｂは、図５に示すよう
に、弁本体４１の内部空間４１ａから集合管４０内に弁
４２が導出され、この弁４２は、コイルバネ４３により
上方向に付勢されている。弁本体４１の側部上方にはエ
ア供給口４４が設けられ、側部下方にはエア排出口４５
が設けられている。エア排出口４５は大気開放されてい
る。一方、エア供給口４４にはエア供給管４６が連通接
続され、このエア供給管４６を介して、エア供給源ＧＳ
からエア供給口４４（弁本体４１の内部空間４１ａ内）
にエアを供給できる。エア供給口４４へのエアの供給と
その停止は、エア供給管４６に設けられた、例えば、電
磁式の開閉弁４７の開閉により行える。また、弁本体４
１には、調整ボルト４８がねじ込まれている。

【００４０】図５（ａ）に示すように、開閉弁４７が閉
にされてエア供給口４４にエアを供給しない通常状態で
は、コイルバネ４３のバネ力により、弁４２は調整ボル
ト４８の先端に当接する位置まで上方に押し上げられ、
処理液供給管２０Ａ、２０Ｂの供給口２０ａが開かれて
いる。一方、図５（ｂ）に示すように、開閉弁４７が開
にされてエア供給口４４にエアＡＩＲを供給した状態で
は、供給されたエアの圧力がコイルバネ４３のバネ力に
勝って弁４２は下方に押し下げられ、処理液供給管２０
Ａ、２０Ｂの供給口２０ａが閉じられる。これにより、
開閉弁２１Ａ、２１Ｂの機能が実現される。また、調整
ボルト４８のねじ込み量を手操作で調節することによ
り、供給口２０ａを開いたときの開口度を調節でき、こ
れによって流量調節弁２２Ａ、２２Ｂの機能が実現され
る。

【００４１】以上のように、この開閉弁２１Ａ、２１Ｂ
は、通常状態で弁４２が開の状態をとるノーマルオープ
ンタイプで構成され、後述するスローリークの際、特別
な操作（エアの供給）を行わずに集合管４０から純水を
第１、第２の処理液供給管２０Ａ、２０Ｂに供給できる
ようになっている。

【００４２】各開閉弁１４は、図６に示すように、図４
及び図５で示している調整ボルト４８を省略し、コイル
バネ４３の組み込み位置を上下逆にしてバネ力で弁４２
が下方に押し下げられるように構成し、エア供給口４４
とエア排出口４５の取り付け位置を上下逆にしたこと以
外は、上記開閉弁２１Ａ、２１Ｂと同様の構成を有す
る。すなわち、図６（ａ）に示すように、開閉弁４７が
閉にされてエア供給口４４にエアを供給しない通常状態
では、コイルバネ４３のバネ力により、弁４２は下方に
押し下げられ、導入管１１Ｑ１、１１Ｑ２、１１Ｒの導
入口１１ａが閉じられている。一方、開閉弁４７が開に
されてエア供給口４４にエアＡＩＲを供給した状態で
は、供給されたエアの圧力がコイルバネ４３のバネ力に
勝って弁４２は上方に押し上げられ、導入管１１（１１
Ｑ１、１１Ｑ２、１１Ｒ）の導入口１１ａが開かれる。
これにより、開閉弁１４Ｑ１、１４Ｑ２、１４Ｒの機能
が実現される。

【００４３】以上のように、この開閉弁１４Ｑ１、１４
Ｑ２、１４Ｒは、通常状態で弁４２が閉の状態をとるノ
ーマルクローズタイプで構成され、後述するスローリー
クの際、特別な操作（エアの供給）を行わずに、集合管
４０への薬液Ｑ１、Ｑ２や再利用処理液ＱＭＲの導入を
停止できるようになっている。

【００４４】図４ないし図６に示す構成では、開閉弁４
７の開閉制御を制御部６が行い、各開閉弁２１Ａ、２１
Ｂ、１４Ｑ１、１４Ｑ２、１４Ｒを開閉させる。

【００４５】なお、図４に示す構成では、単体の流量調
節弁１３Ｑ１、１３Ｑ２、１３Ｒを、各導入管１１Ｑ
１、１１Ｑ２、１１Ｒに設けているが、開閉弁２１Ａ、
２１Ｂと同様に、開閉弁１４Ｑ１、１４Ｑ２、１４Ｒに
調節ボルト４８を設けて、流量調節弁１３Ｑ１、１３Ｑ
２、１３Ｒの機能を兼用するように構成してもよいし、
純水導入管１１Ｐに設けた流量調節弁１３Ｐ及び開閉弁
１４Ｐと同様に、単体の流量調節弁１３Ｑ１、１３Ｑ
２、１３Ｒ及び単体の開閉弁１４Ｑ１、１４Ｑ２、１４
Ｒを各導入管１１Ｑ１、１１Ｑ２、１１Ｒに設けてもよ
い。

【００４６】また、純水導入管１１Ｐに設けた単体の流
量調節弁１３Ｐ及び単体の開閉弁１４Ｐに代えて、開閉
弁２１Ａ、２１Ｂと同様に、流量調節弁１３Ｐの機能を
兼用した開閉弁１４Ｐを集合管４０に一体的に設けても
よいし、図４、図６に示す開閉弁１４Ｑ１、１４Ｑ２、
１４Ｒと同様に、開閉の機能のみを有する開閉弁１４Ｐ
を集合管４０に一体的に設けてもよい。

【００４７】さらに、図４に示す構成では、流量調節弁
２２Ａ、２２Ｂの機能を兼用した開閉弁２１Ａ、２１Ｂ
を集合管４０に一体的に設けたが、開閉弁２１Ａ、２１
Ｂを図４、図６に示す開閉弁１４Ｑ１、１４Ｑ２、１４
Ｒと同様に開閉の機能のみを有するように構成し、単体
の流量調節弁２２Ａ、２２Ｂを第１、第２の処理液供給
管２０Ａ、２０Ｂに設けてもよい。

【００４８】図７に示すように、濃度検知機構３０は、
２つの連結部３１などによって集合管４０の管路途中に
嵌め込まれた、少なくとも一部が石英などで透光性を有
するように形成された検知用管部（フローセル）３２
と、検知用管部３２内を流れる処理液ＱＭに透光性部分
から測定光ＳＬを投光する投光部３３と、処理液ＱＭを
通過した測定光ＳＬを上記透光性部分から受光する受光
部３４と、受光部３４で受光した測定光ＳＬの強度に基
づき、処理液ＱＭの濃度を割り出して制御部６に与える
濃度特定部４５とを備えている。なお、図７中の符号３
３ａは光源、３４ａはフォトダイオードなどの受光素
子、３３ｂ、３４ｂは光ファイバー、３３ｃは光源３３
ａからの測定光ＳＬを光ファイバー３３ｂの導入口に集
光するレンズ、３４ｃは光ファイバー３４ｂから放出さ
れる測定光ＳＬを受光素子３４ａに集光するレンズをそ
れぞれ示す。

【００４９】なお、最も下流側で集合管４０に導入され
る液（図４では、再利用処理液ＱＭＲ）の導入位置と、
測定光ＳＬが処理液ＱＭを通過する位置との間に、捩じ
り板などの撹拌機構を設けて濃度を検知する前に処理液
の濃度の一層の均一化を図るように構成してもよい。

【００５０】次に、処理部５の構成例を図８ないし図１
０を参照して説明する。なお、以下の処理部５では、基
板Ｗの表裏各面に向けてそれぞれ処理液ＱＭを供給する
方向を本発明における第１、第２の方向としている。

【００５１】図８に示す処理部５は、基板Ｗを保持して
回転させるスピンチャック５０と、スピンチャック５０
に保持された基板Ｗの下面（通常は裏面）の回転中心付
近に向けて処理液ＱＭを供給する第１の処理液供給部Ｓ
１に相当する下部ノズルと、スピンチャック５０に保持
された基板Ｗの上面（通常は表面）の回転中心付近に向
けて処理液ＱＭを供給する第２の処理液供給部Ｓ２に相
当する上部ノズルと、処理に使用された後の処理液ＱＭ
を回収する回収部５１とを備えている。

【００５２】このスピンチャック５０は、例えば、モー
ターＭＴによって鉛直方向の軸芯周りで回転される回転
軸５０ａの上端部に星型のスピンベース５０ｂが一体回
転可能に連結され、スピンベース５０ｂの各アーム部分
の先端にそれぞれ基板保持部材５０ｃが設けられ、各基
板保持部材５０ｃによって基板Ｗの外周部が支持される
とともに、基板Ｗの外周端縁が押圧保持され、スピンベ
ース５０ｂの上面から離間された状態で基板Ｗを保持す
る。なお、基板保持部材５０ｃの少なくとも１つは、基
板Ｗの外周端縁を押圧保持する状態と基板Ｗの外周端縁
から離れて基板Ｗの保持を解除する状態とで切換え可能
に構成されている。

【００５３】また、下部ノズルＳ１は、例えば、回収部
５１内に設けられ、上部ノズルＳ２は、保持された基板
Ｗの上面に処理液ＱＭを供給する位置（図の実線で示す
位置）とそこから外れた退避位置（図の二点鎖線で示す
位置）との間で移動可能に構成されている。

【００５４】回収部５１は、回転に伴って基板Ｗの周囲
に飛散された使用後の処理液ＱＭを受け止めて回収し、
下方の排出口５１ａに案内する。回収した使用後の処理
液ＱＭは、回収管６０を介して処理液帰還系４に送られ
る。なお、スピンチャック５０と回収部５１とは相対的
に昇降可能に構成され、図８（ｂ）の二点鎖線で示すよ
うに、回収部５１の上方にスピンチャック５０を突出さ
せて基板Ｗの搬入／搬出が行える。

【００５５】図９に示す処理部５は、基板Ｗを保持して
回転させるスピンチャック５２と、スピンチャック５２
に保持された基板Ｗに近接配置される上部雰囲気遮断部
材５３と、図８と同様の回収部（図示省略）とを備えて
いる。

【００５６】このスピンチャック５２は、モーターＭＴ
により回転軸５２ａとともに回転されるスピンベース５
２ｂを円板状のものとし、その上面周辺部に３つ以上の
基板保持部材５２ｃが設けられた以外は、図８に示すス
ピンチャック５０と同様の構成を有する。

【００５７】スピンベース５２ｂの中心付近には、保持
された基板Ｗの下面の回転中心付近に向けて処理液ＱＭ
を供給する第１の処理液供給部Ｓ１に相当する下部処理
液供給口が設けられている。中空状の回転軸５２ｂ内に
挿入された下部処理液供給管５２ｄの先端開口を上記下
部処理液供給口Ｓ１としている。第１の処理液供給管２
０Ａは、スピンチャック５２（回転軸５２ａ）の回転中
にも処理液ＱＭを下部処理液供給管５２ｄに供給可能に
接続する回転シール機構付き連結部５２ｅを介して、下
部処理液供給口Ｓ１と処理液生成部１０とを連通接続し
ている。

【００５８】上部雰囲気遮断部材５３は、支持アーム５
３ａの先端部に懸垂支持された支持軸５３ｂの下端部に
連結されている。上部雰囲気遮断部材５３の中心付近に
は、保持された基板Ｗの上面の回転中心付近に向けて処
理液ＱＭを供給する第２の処理液供給部Ｓ２に相当する
上部処理液供給口が設けられている。中空状の支持軸５
３ｂ内に挿入された上部処理液供給管５３ｃの先端開口
を上部処理液供給口Ｓ２としている。第２の処理液供給
管２０Ｂは、上部処理液供給管５３ｃに連通接続され
て、上部処理液供給口Ｓ２と処理液生成部１０とを連通
接続している。

【００５９】なお、支持アーム５３ａは昇降可能に構成
され、保持された基板Ｗの上面に近接配置された処理位
置と、保持された基板Ｗの上面から離間された退避位置
との間で移動可能に構成されている。また、支持アーム
５３ａにモーターを設けて、支持軸５３ｂとともに上部
雰囲気遮断部材５３を鉛直方向の軸芯周りで回転可能に
構成してもよい。この場合には、回転シール機構付き連
結部などを介して、上部雰囲気遮断部材５３（支持軸５
３ｂ）の回転中にも第２の処理液供給管２０Ｂから上部
処理液供給管５３ｃに処理液ＱＭを供給可能に構成す
る。

【００６０】図１０に示す処理部５は、基板Ｗを保持し
て回転させるスピンチャック５４と、スピンチャック５
４に保持された基板Ｗの下面をブラシ洗浄する下部ブラ
シ洗浄機構５５と、スピンチャック５４に保持された基
板Ｗの上面をブラシ洗浄する上部ブラシ洗浄機構５６
と、図５と同様の回収部（図示省略）とを備えている。

【００６１】スピンチャック５４は、複数（図では３
つ）の回転ローラー５４ａを備えた複数（図では２つ）
のローラー支持体５４ｂを接離可能に構成し、各ローラ
ー支持体５４ｂを近接させて各回転ローラー５４ａで基
板Ｗを挟持し、各ローラー支持体５４ｂを離間させて基
板Ｗの保持を解除する。回転ローラー５４ａのうちの一
部の回転ローラー５４ａを主動ローラー５４ａａ、残り
を従動ローラー５４ａｂとし、主動ローラー５４ａａに
モーターＭＴを連動連結し、モーターＭＴで主動ローラ
ー５４ａａを回転させることで、基板Ｗを保持した状態
で回転させる。

【００６２】各ブラシ洗浄機構５５、５６はそれぞれ、
支持アーム５５ａ、５６ａの先端部に懸垂支持された支
持軸５５ｂ、５６ｂの下端部に洗浄ブラシ５５ｃ、５６
ｃが取り付けられている。支持アーム５５ａ、５６ａは
それぞれ洗浄ブラシ５５ｃ、５６ｃを昇降させたり水平
移動させたりするように動作し、洗浄ブラシ５５ｃ、５
６ｃを基板Ｗの上下面に当接または若干浮かせた処理位
置Ｐ１と、基板Ｗの横側方の退避位置Ｐ２との間で移動
できるとともに、処理位置Ｐ１において、少なくとも基
板Ｗの回転中心と外周部とを含む移動範囲ＭＨで、洗浄
ブラシ５５ｃ、５６ｃを基板Ｗの上下面に沿って水平移
動して基板Ｗの上下面全体を同時にブラシで洗浄できる
ように構成している。

【００６３】なお、各支持軸５５ｂ、５６ｂは、支持ア
ーム５５ａ、５６ａに対して回転可能に構成され、各洗
浄ブラシ５５ｃ、５６ｃ側も回転させて基板Ｗを洗浄で
きるように構成されている。

【００６４】洗浄ブラシ５５ｃの中心には、第１の処理
液供給部Ｓ１に相当する下部処理液供給口が設けられて
いる。支持軸５５ｂに挿入された下部処理液供給管５５
ｄの先端開口を上記下部処理液供給口Ｓ１としている。
第１の処理液供給管２０Ａは、図示を省略した回転シー
ル機構付き連結部などを介して下部処理液供給管５５ｄ
と連通接続して、洗浄ブラシ５５ｃ（支持軸５５ｂ）の
回転中にも第１の処理液供給管２０Ａから処理液ＱＭを
下部処理液供給管５５ｄに供給可能に構成し、下部処理
液供給口Ｓ１と処理液生成部１０とを連通接続してい
る。

【００６５】上部洗浄ブラシ機構５６側も同様に、洗浄
ブラシ５６ｃの中心に、第２の処理液供給部Ｓ２に相当
する上部処理液供給口を設けている。すなわち、支持軸
５６ｂに挿入された上部処理液供給管５６ｄの先端開口
が上部処理液供給口Ｓ２となっている。第２の処理液供
給管２０Ｂは、回転シール機構付き連結部など（図示省
略）を介して上部処理液供給管５６ｄと連通接続され、
上部処理液供給口Ｓ２と処理液生成部１０とを連通接続
している。

【００６６】なお、図１０に示す処理部５のように洗浄
ブラシ５５ｃ、５６ｃを処理に用いる場合、第１、第２
の処理液供給部Ｓ１、Ｓ２は洗浄ブラシ５５ｃ、５６ｃ
の中に設ける以外にも、例えば、図８に示すように下部
及び上部ノズルを第１、第２の処理液供給部Ｓ１、Ｓ２
として構成してもよい。

【００６７】処理部５内の動作制御は制御部６により行
われる。なお、図８ないし図１０は処理部５の一例を示
すものであって、本発明が適用できる処理部５はこれら
構成に限定されるものではない。

【００６８】図２に戻って、処理液帰還系４は、回収管
６０を介して送られてきた使用後の処理液ＱＭ（再利用
処理液ＱＭＲ）を貯留する処理液貯留手段に相当する処
理液タンク６１を備えている。

【００６９】この処理液タンク６１には、静電容量セン
サなどで構成される液面検知用のセンサ６２ａ〜６２ｃ
が設けられている。最も高い位置に設けられた上限セン
サ６２ａは処理液タンク６１に再利用処理液ＱＭＲが上
限液位にまで貯留されたことを検知するために、また、
最も低い位置に設けられた下限センサ６２ｃは処理液タ
ンク６１に貯留されている再利用処理液ＱＭＲが下限液
位にまで減少したことを検知するために、さらに、中間
位置に設けられた定量センサ６２ｂは処理液タンク６１
に貯留される再利用処理液ＱＭＲが定量になったことを
検知するためにそれぞれ設けている。

【００７０】各センサ６２ａ〜６２ｃからの検知信号は
制御部６に与えられる。例えば、処理液タンク６１に再
利用処理液ＱＭＲが上限液位にまで貯留されて上限セン
サ６２ａが「ＯＦＦ」から「ＯＮ」に切り換わると処理
液タンク６１から再利用処理液ＱＭＲが溢れ出す危険が
あり、また、処理液タンク６１に貯留されている再利用
処理液ＱＭＲが下限液位にまで減少して下限センサ６２
ｃが「ＯＮ」から「ＯＦＦ」に切り換わると処理液生成
部１０に戻す再利用処理液ＱＭＲが不足する危険がある
ので、このような場合には、制御部６は、例えば、警報
器７を作動させて（例えば、警報ランプを点灯したり、
警報ブザーを鳴動させたりして）異常が発生したことを
作業者に知らせる警報処理を実行する（図３参照）。

【００７１】また、処理液タンク６１には、再利用処理
液導入管１１Ｒの基端部が挿入され、処理液タンク６１
に貯留された再利用処理液ＱＭＲを処理液生成部１０に
戻すように構成している。再利用処理液導入管１１Ｒに
は、処理液タンク６１に貯留された再利用処理液ＱＭＲ
を再利用処理液導入管１１Ｒに送り出す定量ポンプ６３
や、定量ポンプ６３により送り出される再利用処理液Ｑ
ＭＲの脈動を抑制するパルスダンパ６４、再利用処理液
導入管１１Ｒに流れる再利用処理液ＱＭＲの流量を検知
する流量センサ６５、再利用処理液ＱＭＲ内の不要物な
どを除去するフィルター６６、開閉弁６７も設けられて
いる。なお、処理部５内に設けられた回収部５１や回収
管６０、処理液帰還系４（特に、処理液タンク６１や定
量ポンプなど）、再利用処理液導入管１１Ｒは、請求項
４に記載の発明における処理液帰還手段を構成する。

【００７２】また、フィルター６６と開閉弁６７の間の
再利用処理液導入管１１Ｒの管路途中から循環管６８が
分岐され、定量ポンプ６３によって再利用処理液導入管
１１Ｒに送り出した再利用処理液ＱＭＲをフィルター６
６を通過させてから処理液タンク６１に戻す内部循環が
行えるように構成している。循環管６８には開閉機能を
兼用した流量調節弁６９が設けられている。開閉弁６７
を開、流量調節弁６９を閉とすれば、再利用処理液ＱＭ
Ｒを処理液生成部１０に導入することができ、一方、開
閉弁６７を閉、流量調節弁６９を所定の開口度で開とす
れば、再利用処理液ＱＭＲを内部循環させることができ
る。なお、流量調節弁６９は、多量の再利用処理液ＱＭ
Ｒが内部循環されるのを防止するために設けている。ま
た、再利用処理液導入管１１Ｒや、定量ポンプ６３、フ
ィルター６６、開閉弁６７、循環管６８、流量調節弁６
９は、請求項６に記載の発明における内部循環手段を構
成する。

【００７３】定量ポンプ６３の駆動制御や、開閉弁６７
の開閉制御、流量調節弁６９の開閉及び流量調節の制御
は制御部６により行われる。また、流量センサ６５から
の検知信号は制御部６に与えられる。

【００７４】次に、図１１を参照してキャビネット部２
の構成を説明する。純水導入管１１Ｐは、基端部が工場
のユーティリティなどで構成される純水供給源ＰＳに連
通接続され、その管１１Ｐの一部がキャビネット部２内
に取り込まれている。純水導入管１１Ｐには、純水中の
不要物などを除去するフィルター７０Ｐと、純水導入管
１１Ｐに流れる純水の流量を検知する流量センサ７１Ｐ
とが設けられている。流量センサ７１Ｐからの検知信号
は制御部６に与えられる。

【００７５】また、キャビネット部２内には、各薬液Ｑ
１、Ｑ２を各々貯留する薬液タンク７２（７２Ｑ１、７
２Ｑ２）が設けられている。各薬液導入管１１Ｑ１、１
１Ｑ２の基端部は、それぞれ各薬液タンク７２Ｑ１、７
２Ｑ２内に挿入され、その管路途中には、薬液中の不要
物などを除去するフィルター７０Ｑ１、７０Ｑ２と、薬
液導入管１１Ｑ１、１１Ｑ２に流れる薬液の流量を検知
する流量センサ７１Ｑ１、７１Ｑ２と、圧力センサ７３
Ｑ１、７３Ｑ２とがそれぞれ設けられている。流量セン
サ７１Ｑ１、７１Ｑ２及び圧力センサ７３Ｑ１、７３Ｑ
２からの各検知信号は制御部６に与えられる。

【００７６】各薬液タンク７２Ｑ１、７２Ｑ２は密閉式
のタンクで構成され、各薬液タンク７２Ｑ１、７２Ｑ２
内に気体（窒素ガスなどの不活性ガスなど）を供給し
て、ガス圧送方式で、各薬液導入管１１Ｑ１、１１Ｑ２
に各薬液Ｑ１、Ｑ２を送り出すように構成している。

【００７７】第２の薬液タンク７２Ｑ２は、気体供給管
７４を介して工場のユーティリティなどで構成される気
体供給源ＧＳと連通接続され、第１の薬液タンク７２Ｑ
１は、気体供給管７４及び分岐管７４Ｂを介して気体供
給源ＧＳと連通接続されている。第２の薬液タンク７２
Ｑ２への気体の供給とその停止は、気体供給管７４に設
けられた開閉弁７５Ｑ２の開閉により行われ、第１の薬
液タンク７２Ｑ１への気体の供給とその停止は、分岐管
７４Ｂに設けられた開閉弁７５Ｑ１の開閉により行われ
る。各開閉弁７５Ｑ１、７５Ｑ２の開閉制御は制御部６
により行われる。

【００７８】また、気体供給管７４には、気体中の不要
物などを除去するフィルター７６と、気体供給源ＧＳか
ら各薬液タンク７２Ｑ１、７２Ｑ２に供給する気体の供
給圧力を調節する圧力調節器７７と、圧力調節器７７の
一次側の圧力（気体供給源ＧＳから供給される気体の元
圧）を検知する圧力センサ７８が設けられている。圧力
調節器７７の調節制御は制御部６により行われ、圧力セ
ンサ７８からの検知信号は制御部６に与えられる。

【００７９】制御部６は、圧力センサ７３Ｑ１、７３Ｑ
２からの検知信号によって、各薬液導入管１１Ｑ１、１
１Ｑ２への各薬液Ｑ１、Ｑ２の送り出し圧力を監視し、
送り出し圧力が正常範囲から外れると、気体の供給系な
どの異常が発生したものとして、例えば、警報器７を作
動させて警報処理を実行する。また、制御部６は、圧力
センサ７８からの検知信号によって、気体供給源ＧＳか
ら供給される気体の元圧を監視し、気体供給源ＧＳから
供給される気体の元圧が正常範囲から外れると、気体の
供給系などの異常が発生したものとして、例えば、警報
器７を作動させて警報処理を実行する。

【００８０】第１の薬液タンク７２Ｑ１には、薬液供給
管８０Ｑ１を介して、工場側で用意された第１の薬液供
給源Ｑ１Ｓから第１の薬液Ｑ１が供給される。第１の薬
液タンク７２Ｑ１への第１の薬液Ｑ１の供給とその停止
は、薬液供給管８０Ｑ１に設けられた開閉弁８１Ｑ１の
開閉により行われる。また、加圧状態の第１の薬液タン
ク７２Ｑ１への第１の薬液Ｑ１の供給を可能にするため
に、第１の薬液タンク７２Ｑ１は、排気管８２Ｑ１を介
して排気部と連通接続されている。第１の薬液タンク７
２Ｑ１の排気とその停止（加圧状態の解除と加圧状態の
維持）は排気管８２Ｑ１に設けられた開閉弁８３Ｑ１の
開閉により行われる。

【００８１】第２の薬液タンク７２Ｑ２も同様に、薬液
供給管８０Ｑ２を介して、工場側で用意された第２の薬
液供給源Ｑ２Ｓから第２の薬液Ｑ２が供給でき、第２の
薬液タンク７２Ｑ２への第２の薬液Ｑ２の供給とその停
止は、薬液供給管８０Ｑ２に設けられた開閉弁８１Ｑ２
の開閉により行われるとともに、排気管８２Ｑ２を介し
て第２の薬液タンク７２Ｑ２と排気部とが連通接続さ
れ、第２の薬液タンク７２Ｑ２の排気とその停止は排気
管８２Ｑ２に設けられた開閉弁８３Ｑ２の開閉により行
われる。

【００８２】上記各開閉弁８１Ｑ１、８３Ｑ１、８１Ｑ
２、８３Ｑ２の開閉制御は制御部６により行われる。

【００８３】各薬液タンク７２Ｑ１、７２Ｑ２にはそれ
ぞれ、静電容量センサなどで構成される液面検知用のセ
ンサ８５ａ〜８５ｄ及び８６ａ〜８６ｄが設けられてい
る。最も高い位置に設けられた上限センサ８５ａ、８６
ａは薬液タンク７２Ｑ１、７２Ｑ２に薬液Ｑ１、Ｑ２が
上限液位にまで貯留されたことを検知するために、ま
た、最も低い位置に設けられた下限センサ８５ｄ、８６
ｄは薬液タンク７２Ｑ１、７２Ｑ２に貯留されている薬
液Ｑ１、Ｑ２が下限液位にまで減少したことを検知する
ために、さらに、中間位置に設けられた定量範囲センサ
８５ｂ、８５ｃ及び８６ｂ、８６ｃは薬液タンク７２Ｑ
１、７２Ｑ２に貯留される薬液Ｑ１、Ｑ２が定量範囲内
にあることを検知するためにそれぞれ設けている。

【００８４】各センサ８５ａ〜８５ｄ及び８６ａ〜８６
ｄからの検知信号は制御部６に与えられる。処理液タン
ク６１に設けられた上限センサ６２ａ及び下限センサ６
２ｃと同様に、各薬液タンク７２Ｑ１、７２Ｑ２に設け
た上限センサ８２ａ、８３ａが「ＯＦＦ」から「ＯＮ」
に切り換わったり、下限センサ８２ｄ、８３ｄが「Ｏ
Ｎ」から「ＯＦＦ」に切り換わったりすると、制御部６
は、例えば、警報器７を作動させて警報処理を実行す
る。

【００８５】また、薬液タンク７２Ｑ１への薬液Ｑ１の
補充と、薬液タンク７２Ｑ２への薬液Ｑ２の補充とは同
様の制御で行われる。制御部６は、薬液タンク７２Ｑ１
（７２Ｑ２）への薬液Ｑ１（Ｑ２）の補充を、例えば、
以下のように行う。

【００８６】まず、薬液タンク７２Ｑ１（７２Ｑ２）が
空の状態での薬液Ｑ１（Ｑ２）の補充について説明す
る。このとき、制御部６は、開閉弁７５Ｑ１（７５Ｑ
２）を閉、開閉弁８１Ｑ１及び８３Ｑ１（８１Ｑ２及び
８３Ｑ２）を開にして、薬液タンク７２Ｑ１（７２Ｑ
２）に薬液Ｑ１（Ｑ２）を供給していく。そして、上方
側の定量範囲センサ８５ｂ（８６ｂ）の液位まで薬液Ｑ
１（Ｑ２）が貯留されてその定量範囲センサ８５ｂ（８
６ｂ）が「ＯＦＦ」から「ＯＮ」に切り換わると、制御
部６は、開閉弁８１Ｑ１及び８３Ｑ１（８１Ｑ２及び８
３Ｑ２）を閉に切り換えて、薬液タンク７２Ｑ１（７２
Ｑ２）への薬液Ｑ１（Ｑ２）の供給を停止する。以上の
処理は非処理期間中に行われ、上記補充処理を終えた
後、薬液タンク７２Ｑ１（７２Ｑ２）に貯留した薬液Ｑ
１（Ｑ２）を処理液生成部１０に導入することが可能と
なる。

【００８７】次に、処理期間中の薬液タンク７２Ｑ１
（７２Ｑ２）への薬液Ｑ１（Ｑ２）の補充を説明する。
すなわち、薬液Ｑ１（Ｑ２）を処理液生成部１０に導入
するごとに、薬液タンク７２Ｑ１（７２Ｑ２）に貯留さ
れている薬液Ｑ１（Ｑ２）が減少していく。そして、薬
液タンク７２Ｑ１（７２Ｑ２）に貯留されている薬液Ｑ
１（Ｑ２）が下方側の定量範囲センサ８５ｃ（８６ｃ）
の液位まで減少して、その定量範囲センサ８５ｂ（８６
ｂ）が「ＯＮ」から「ＯＦＦ」に切り換わると、制御部
６は、開閉弁８１Ｑ１及び８３Ｑ１（８１Ｑ２及び８３
Ｑ２）を開にして、薬液タンク７２Ｑ１（７２Ｑ２）に
薬液Ｑ１（Ｑ２）を供給していき、上方側の定量範囲セ
ンサ８５ｂ（８６ｂ）の液位まで薬液Ｑ１（Ｑ２）が貯
留されてその定量範囲センサ８５ｂ（８６ｂ）が「ＯＦ
Ｆ」から「ＯＮ」に切り換わると、開閉弁８１Ｑ１及び
８３Ｑ１（８１Ｑ２及び８３Ｑ２）を閉に切り換えて、
薬液タンク７２Ｑ１（７２Ｑ２）への薬液Ｑ１（Ｑ２）
の供給を停止する。処理期間中、薬液Ｑ１（Ｑ２）が処
理液生成部１０に導入されて、薬液タンク７２Ｑ１（７
２Ｑ２）に貯留されている薬液Ｑ１（Ｑ２）が減少する
のに応じて、上記補充処理を実施する。

【００８８】なお、基板Ｗへの処理を優先するために、
上記補充処理を実施している間に、薬液Ｑ１（Ｑ２）を
処理液生成部１０に導入するタイミングになると、上記
補充処理を中断して、処理液生成部１０への薬液Ｑ１
（Ｑ２）の導入を優先して行うように構成することが好
ましい。すなわち、上記補充処理を実施している間に、
薬液Ｑ１（Ｑ２）を処理液生成部１０に導入するタイミ
ングになると、開閉弁８１Ｑ１及び８３Ｑ１（８１Ｑ２
及び８３Ｑ２）を閉に切り換えて、薬液タンク７２Ｑ１
（７２Ｑ２）への薬液Ｑ１（Ｑ２）の補充を一時停止
し、処理液生成部１０への薬液Ｑ１（Ｑ２）の導入を終
えると、開閉弁８１Ｑ１及び８３Ｑ１（８１Ｑ２及び８
３Ｑ２）を開に切り換えて、薬液タンク７２Ｑ１（７２
Ｑ２）への薬液Ｑ１（Ｑ２）の補充を再開する動作を繰
り返して、定量範囲センサ８５ｂ（８６ｂ）の液位まで
薬液Ｑ１（Ｑ２）が貯留されるまで薬液Ｑ１（Ｑ２）の
補充を行う。

【００８９】また、メンテナンスなどの際に、各薬液タ
ンク７２Ｑ１、７２Ｑ２に貯留されている薬液Ｑ１、Ｑ
２を全て排出できるように、本実施例では、薬液Ｑ１、
Ｑ２の排液手段も設けている。

【００９０】第２の薬液タンク７２Ｑ２側の排液手段
は、開閉弁８７Ｑ２を設けた排液管８８を薬液導入管１
１Ｑ２の管路途中から分岐させて構成している。第２の
薬液タンク７２Ｑ２に貯留されている第２の薬液Ｑ２を
排出する場合、制御部６は、開閉弁１４Ｑ２（図２参
照）を閉、開閉弁７５Ｑ２及び８７Ｑ２を開にして、ガ
ス圧送方式で、第２の薬液タンク７２Ｑ２に貯留されて
いる第２の薬液Ｑ２を排液管８８を介して排出する。

【００９１】第１の薬液タンク７２Ｑ１側の排液手段
は、薬液導入管１１Ｑ１と排液管８８とを連通接続する
連通管８９を設け、この連通管８９に開閉弁８７Ｑ１を
設けて構成している。第１の薬液タンク７２Ｑ１に貯留
されている第１の薬液Ｑ１を排出する場合、制御部６
は、開閉弁１４Ｑ１（図２参照）を閉、開閉弁７５Ｑ１
及び８７Ｑ１を開にして、ガス圧送方式で、第１の薬液
タンク７２Ｑ１に貯留されている第１の薬液Ｑ１を連通
管８９及び排液管８８を介して排出する。

【００９２】次に、上記構成を有する実施例装置の動作
を説明する。なお、初期状態として、処理液タンク６１
は空であり、上述した非処理期間中の補充処理によって
各薬液タンク７２Ｑ１、７２Ｑ２には、所定量の薬液Ｑ
１、Ｑ２が貯留されているものとする。

【００９３】また、基板Ｗに供給する混合処理液ＱＭの
濃度は、予め決めておいてもよいし、図示を省略した設
定器などから作業者が設定できるように構成してもよ
い。

【００９４】まず、処理部５に基板Ｗが搬入されると、
スピンチャック５０、５２、５４に基板Ｗを保持する。

【００９５】そして、保持した基板Ｗを回転させ、第
１、第２の処理液供給部Ｓ１、Ｓ２から基板Ｗに混合処
理液ＱＭを供給して処理を行う。このとき、図１０に示
す処理部５では、洗浄ブラシ５５ｃ、５６ｃで基板Ｗが
ブラシ洗浄される。

【００９６】なお、上述したように初期状態では、処理
液タンク６１は空であるので、開閉弁１４Ｐ、１４Ｑ
１、１４Ｑ２を開にして、処理液生成部１０に純水と各
薬液Ｑ１、Ｑ２を導入して混合処理液ＱＭを生成する。
また、このとき、開閉弁１４Ｒは閉であり、定量ポンプ
６３は駆動されていないものとする。

【００９７】ここで、処理液生成部１０に導入する純水
と各薬液Ｑ１、Ｑ２の流量について説明する。

【００９８】例えば、処理液生成部１０に導入する純水
の流量を予め決めた流量とし、制御部６は、その流量を
純水の導入流量の目標値として、流量センサ７１Ｐで検
知する流量がその目標値となるように、ＰＩＤ制御で圧
力調節器１２Ｐに与えるパイロット圧を調節する。

【００９９】また、処理液生成部１０に導入する純水の
流量と混合処理液ＱＭの濃度が決まれば、その濃度の混
合処理液ＱＭを生成するための各薬液Ｑ１、Ｑ２の導入
流量が決まる。制御部６は、処理液生成部１０に導入す
る純水の流量と混合処理液ＱＭの濃度に基づき、各薬液
Ｑ１、Ｑ２の処理液生成部１０への導入流量を算出し、
求められた各薬液Ｑ１、Ｑ２の導入流量を目標値とし
て、流量センサ７１Ｑ１、７１Ｑ２で検知する各流量が
各目標値となるように、ＰＩＤ制御で圧力調節器１２Ｑ
１、１２Ｑ２に与えるパイロット圧を調節して、所望の
濃度の混合処理液ＱＭを処理液生成部１０で生成する。

【０１００】そして、第１、第２の処理液供給部Ｓ１、
Ｓ２から処理液を供給するタイミングになると、開閉弁
２１Ａ、２１Ｂを閉から開に切換えることで、混合処理
液ＱＭを第１、第２の処理液供給部Ｓ１、Ｓ２から基板
Ｗに供給することができる。基板Ｗへの混合処理液ＱＭ
の供給を停止する場合には、開閉弁２１Ａ、２１Ｂを開
から閉に切換える。

【０１０１】なお、例えば、処理に進行状況の違いなど
により、いずれか一方の処理液供給部（例えば、Ｓ１）
から処理液を供給する時間を、他方の処理液供給部（例
えば、Ｓ２）から処理液を供給する時間よりも長くする
ような場合には、上記他方の処理液供給部（Ｓ２）への
処理液の供給／停止を切換える開閉弁（２１Ｂ）を先に
開から閉に切換え、その後、供給時間差をあけて、上記
一方の処理液供給部（Ｓ１）への処理液の供給／停止を
切換える開閉弁（２１Ａ）を開から閉に切換えればよ
い。

【０１０２】また、処理液生成部１０で生成される混合
処理液ＱＭの濃度は、濃度検知機構３０で検知され制御
部６に与えられて制御部６で監視されている。そして、
現在生成している混合処理液ＱＭの濃度が所望の濃度か
ら外れていると、制御部６は、例えば、警報器７を作動
させて警報処理を実行する。また、例えば、現在生成し
ている混合処理液ＱＭの濃度と目標の濃度との差から、
各薬液Ｑ１、Ｑ２の導入流量の目標値を補正して、目標
の濃度の混合処理液ＱＭを生成するように調節制御して
もよい。

【０１０３】基板Ｗに供給された混合処理液ＱＭは、回
収部５１で回収され、回収管６０を介して処理液タンク
６１に貯留されていく。

【０１０４】１枚の基板Ｗに対する処理を終えると、ス
ピンチャック５０、５２、５４による基板Ｗの保持が解
除され、処理済の基板Ｗが処理部５から搬出され、次の
基板Ｗを処理部５に搬入して、上記と同様に動作してそ
の基板Ｗを処理する。以後、同様にして基板Ｗが次々に
処理される。

【０１０５】基板Ｗの処理が次々に行われるに伴って、
処理液タンク６１に貯留される再使用処理液ＱＭＲの量
が徐々に増えてくる。そして、定量センサ６２ｂの液位
まで再使用処理液ＱＭＲが処理液タンク６１に貯留され
てその定量センサ６２ｂが「ＯＦＦ」から「ＯＮ」に切
り換わると、制御部６は、開閉弁６７を閉、流量調節弁
６９を所定の開口度で開にし、定量ポンプ６３の駆動を
開始して、処理液タンク６１に貯留された再利用処理液
ＱＭＲを内部循環させる。

【０１０６】そして、以後に処理する基板Ｗに対して
は、処理液タンク６１に貯留された再使用処理液ＱＭＲ
を基板Ｗに供給する。すなわち、開閉弁１４Ｐ、１４Ｑ
１、１４Ｑ２を閉、開閉弁１４Ｒを開にし、基板Ｗに再
使用処理液ＱＭＲを供給するときは、流量調節弁６９を
開から閉、開閉弁６７を閉から開に切換えて再使用処理
液ＱＭＲを処理液制せ部１０に導入するとともに、開閉
弁２１Ａ、２１Ｂを閉から開に切換えて再使用処理液Ｑ
ＭＲを基板Ｗに供給する。基板Ｗに再使用処理液ＱＭＲ
を供給しないときには、処理液タンク６１に貯留された
再使用処理液ＱＭＲは内部循環される。

【０１０７】なお、基板Ｗに再使用処理液ＱＭＲを供給
する間も、その再使用処理液ＱＭＲの濃度が濃度検知機
構３０で検知され、制御部６で監視される。これは、処
理液を何回も再使用しているうちに、濃度が変動するこ
とが考えられるからである。

【０１０８】そして、再使用処理液ＱＭＲの濃度が所望
の濃度から外れると、制御部６は、純水や薬液Ｑ１、Ｑ
２を処理液生成部１０に導入、例えば、再使用処理液Ｑ
ＭＲの濃度が目的の濃度を上回ると純水を導入し、再使
用処理液ＱＭＲの濃度が目的の濃度を下回ると薬液Ｑ１
または／およびＱ２を導入して、処理液生成部１０で純
水や薬液Ｑ１、Ｑ２と再使用処理液ＱＭＲとを混合させ
て所望の濃度の混合処理液ＱＭを生成して基板Ｗに供給
する。

【０１０９】なお、処理液タンク６１に貯留されている
再使用処理液ＱＭＲを廃棄する廃棄手段を設けてもよ
い。この廃棄手段は、例えば、定量ポンプ６３の下流側
で三方弁などの切換え手段を介して再使用処理液導入管
１１Ｒから廃棄管を分岐させ、上記切換え手段を切換え
て、定量ポンプ６３で送り出される再使用処理液ＱＭＲ
を廃棄管側に流しながら、処理液タンク６１に貯留され
ている再使用処理液ＱＭを廃棄するように構成すること
もできるし、処理液タンク６１の底に開閉弁を設けた廃
棄管を連通接続して、開閉弁を閉から開に切換えて処理
液タンク６１に貯留されている再使用処理液ＱＭＲを廃
棄管を介して廃棄するように構成することもできる。

【０１１０】そして、再使用処理液ＱＭの濃度と目的の
濃度との差がある程度大きくなると、処理液タンク６１
に貯留された再使用処理液ＱＭＲを廃棄して上述した初
期状態に戻し、純水と薬液Ｑ１、Ｑ２とで混合処理液Ｑ
ＭＲを生成して基板Ｗに供給し、処理液タンク６１に新
たな再使用処理液ＱＭＲが所定量貯留されると、その再
使用処理液ＱＭＲを基板Ｗの処理に用いる動作を繰り返
してもよい。

【０１１１】また、回収管６０の管路途中に、三方弁な
どで構成される切換え手段を設けて、回収した処理液を
処理液タンク６１に送るか、廃棄するかを切換え可能に
構成してもよい。そして、例えば、処理液タンク６１内
の再使用処理液ＱＭＲの貯留量が多くなり過ぎる（例え
ば、上限センサ６２ａが「ＯＦＦ」から「ＯＮ」に切り
換わる）と、回収した処理液を廃棄するように切換えて
もよい。

【０１１２】ところで、装置の休止中など基板Ｗへの処
理を行わない間、本実施例ではスローリークを行う。す
なわち、請求項７に記載の発明における制御手段に相当
する制御部６は、基板Ｗへの処理を行わない間、開閉弁
１４Ｐ、２１Ａ、２１Ｂを開、開閉弁１４Ｑ１、１４Ｑ
２、１４Ｒを閉にし、切換え器１６を切り換えて、バイ
パス管１５、流量調節弁１７を介して少ない流量で純水
を処理液生成部１０に導入し、処理液生成部１０、第
１、第２の処理液供給管２０Ａ、２０Ｂ、第１、第２の
処理液供給部Ｓ１、Ｓ２に少ない流量で純水を常時流す
ように制御する。これにより、基板Ｗへの処理を行わな
い間でも処理液生成部１０、第１、第２の処理液供給管
２０Ａ、２０Ｂ、第１、第２の処理液供給部Ｓ１、Ｓ２
などの配管系に純水が常時流れるので、それら配管系で
のバクテリアの発生などを抑制することができる。

【０１１３】また、従来装置の構成でスローリークを行
う場合、表面用処理液供給ユニット１３０から表面用処
理液供給部１１０に小流量で純水を流すととともに、裏
面用処理液供給ユニット１４０から裏面用処理液供給部
１２０に小流量で純水を流さなければならず、スローリ
ークに使用する純水の量が増大することになる。これに
対して、本実施例によれば、単一の処理液生成部１０に
小流量の純水を導入すればスローリークを実現できるの
で、従来装置でスローリークを実現する場合に比べて、
スローリークに使用する純水の量を低減することもでき
る。

【０１１４】ところで、上記実施例では、処理液生成部
１０への各液の導入を個別に切換えるように構成してい
るので、例えば、基板Ｗに供給する処理液を混合処理液
ＱＭと純水とで切り換えることもできる。

【０１１５】すなわち、純水と薬液Ｑ１、Ｑ２とで混合
処理液ＱＭを生成している状態で、開閉弁１４Ｐを開に
したまま、開閉弁１４Ｑ１、１４Ｑ２を開から閉に切り
換えれば、処理液生成部１０に純水のみが導入されて、
基板Ｗに供給する処理液を混合処理液ＱＭから純水に切
換えることができ、また、開閉弁１４Ｑ１、１４Ｑ２を
閉から開に戻せば、処理液生成部１０に純水と薬液Ｑ
１、Ｑ２とが導入されて、基板Ｗに供給する処理液を純
水から混合処理液ＱＭに切換えることができる。また、
再使用処理液ＱＭＲを処理液生成部１０に導入している
ときには、開閉弁１４Ｒを開から閉、開閉弁１４Ｐを閉
から開に切り換えれば、処理液生成部１０に純水のみが
導入されて、基板Ｗに供給する処理液を混合処理液ＱＭ
（再使用処理液ＱＭＲ）から純水に切換えることがで
き、また、開閉弁１４Ｒを閉から開、開閉弁１４Ｐを開
から閉に切り換えれば、処理液生成部１０に再使用処理
液ＱＭＲのみが導入されて、基板Ｗに供給する処理液を
純水から混合処理液ＱＭ（ＱＭＲ）に切換えることがで
きる。

【０１１６】このように動作させれば、例えば、まず、
基板Ｗに混合処理液ＱＭを供給して薬液洗浄などの第１
の処理を行い、それに続いて、同じ処理部５内で、基板
Ｗに純水のみを供給して薬液を洗い流すリンス洗浄等の
第２の処理を行うことができる。なお、基板Ｗへの純水
の供給を停止した後、基板Ｗの回転を継続すれば、基板
Ｗに付着している処理液を振り切って基板Ｗを乾燥させ
ることもできる。

【０１１７】ところで、上述したように、基板Ｗに供給
する処理液を混合処理液ＱＭと純水とで切り換えた場
合、処理に使用された後の混合処理液ＱＭは再利用でき
るが、処理に使用された後の純水は、再利用できないの
で廃棄される。

【０１１８】そのため、混合処理液ＱＭを再利用する場
合は、使用後の混合処理液ＱＭだけを処理液タンク６１
に送り、使用後の純水を廃棄するように構成する必要が
ある。これは、例えば、上述したように回収管６０の管
路途中に切換え手段を設けて、回収した処理液を処理液
タンク６１に送るか、廃棄するかを切換え可能に構成
し、使用後の混合処理液ＱＭを回収するときは、処理液
タンク６１に送るように切換え手段を切換え、使用後の
純水を回収するときは、廃棄するように切換え手段を切
換えることでも実現することができる。

【０１１９】なお、上記構成では、処理部５内の回収部
から上記切換え手段までの間で、使用後の混合処理液Ｑ
Ｍと使用後の純水が混ざって、再使用処理液ＱＭＲの濃
度変動が起き易くなる。

【０１２０】そこで、処理部５で、使用後の混合処理液
ＱＭと使用後の純水とを分離して回収するように構成す
ることが好ましい。

【０１２１】このような分離回収可能な回収部は、例え
ば、図１２や図１３に示すように構成すればよい。な
お、図１２、図１３では、スピンチャックなどの処理機
構部の構成を図８に示す処理機構部としているが、図
９、図１０に示す処理機構部としてもよい。

【０１２２】図１２に示す回収部９０は、回転に伴って
基板Ｗの周囲に飛散された使用後の処理液を受け止めて
下方に案内する案内部９０ａと、案内部９０ａで案内さ
れた使用後の処理液を回収する回収槽９０ｂとを備え
る。案内部９０ａには第１の案内部９０ａａと第２の案
内部９０ａｂとが上下に分けて設けられている。また、
回収槽９０ｂには第１の案内部９０ａａで案内された使
用後の処理液（図では純水）を回収する第１の回収槽９
０ｂａと、第２の案内部９０ａｂで案内された使用後の
処理液（図では混合処理液ＱＭ）を回収する第２の回収
槽９０ｂｂとを分けて同芯状に設けられている。そし
て、案内部９０ａと回収槽９０ｂとスピンチャック５０
とを相対的に昇降可能に構成し、図１２（ａ）、（ｂ）
に各々示す状態として、種類の異なる処理液（混合処理
液ＱＭと純水のみ）を分離して回収する。なお、図１２
（ｃ）は基板Ｗの搬入／搬出状態を示す。また、図１
２、図１３中の符号９５は廃棄管を示す

【０１２３】図１３に示す回収部９１は、上下に設けら
れた第１、第２の回収口９１ａａ、９１ａｂと、回転に
伴って基板Ｗの周囲に飛散され、第１の回収口９１ａａ
から受け入れた使用後の処理液（図では純水）を受け止
めて下方に案内して回収する第１の案内回収槽９１ｂａ
と、基板Ｗの周囲に飛散され、第２の回収口９１ａｂか
ら受け入れた使用後の処理液を受け止めて下方に案内し
て回収する第２の案内回収槽９１ｂｂとが一体的に構成
されている。この回収部９１とスピンチャック５０とを
相対的に昇降可能に構成し、図１３（ａ）、（ｂ）に各
々示す状態として、種類の異なる処理液を分離して回収
する。なお、図１３（ｃ）は、基板Ｗの搬入／搬出状態
を示す。

【０１２４】また、上記実施例では、処理液生成部１０
への各液の導入を個別に切換えるように構成しているの
で、例えば、混合する液の種類を変えて、複数種類の混
合処理液、例えば、純水と第１、第２の薬液Ｑ１、Ｑ２
を混合した第１の混合処理液や、純水と第１の薬液を混
合した第２の混合処理液などを生成してそれら各混合処
理液を切換えて基板Ｗに供給することもできる。

【０１２５】なお、複数種類の混合処理液をそれぞれ再
利用する場合には、上記実施例と同様の処理液帰還系４
を各種類の混合処理液ごとに設け、処理に使用された後
の各混合処理液を分離して回収し、各々の処理液帰還系
４（処理液タンク６１）に送るとともに、各再使用処理
液をそれぞれ処理液生成部１０に戻すように構成し、各
種類の混合処理液の処理液生成部１０への導入を個別に
切換える開閉弁などの切換え手段を各種類の混合処理液
ごとに設ければよい。

【０１２６】また、上記実施例では、２種類の薬液を処
理液生成部１０に導入する場合を例にしているが、１種
類の薬液を処理液生成部１０に導入する場合（例えば、
純水とフッ化水素[HF]などを混合する場合）にも本発明
は同様に適用することができる。さらに、３種類以上の
薬液を処理液生成部１０に導入する場合にも本発明は同
様に適用することができる。

【０１２７】以上のように、上記実施例によれば、処理
部５内に設けた第１、第２の処理液供給部Ｓ１、Ｓ２に
供給する処理液を単一の処理液生成部１０で生成するよ
うに構成したので、構造の簡略化、装置の小型化を図る
ことができるとともに、第１、第２の処理液供給部Ｓ
１、Ｓ２から基板Ｗにそれぞれ供給する処理液の濃度を
均一化できる。また、開閉弁２１Ａ、２１Ｂ（第１、第
２の出力側切換え手段）を備えているので、第１、第２
の処理液供給部Ｓ１、Ｓ２から基板Ｗへの処理液の供給
を個別に切り換えることもでき、例えば、第１、第２の
処理液供給部Ｓ１、Ｓ２から基板Ｗへの処理液の供給時
間を変えて処理することなども可能である。

【０１２８】また、処理液生成部１０への各液の導入と
その停止を個別に切換える開閉弁１４（１４Ｐ、１４Ｑ
１、１４Ｑ２、１４Ｒ）を設けたので、処理液生成部１
０へ導入する液を選択的に切換えることができ、所望の
液を混合した処理液を生成して基板Ｗに供給したり、あ
るいは、純水のみを基板Ｗに供給したりすることもでき
るし、純水及び薬液の導入と再利用処理液の導入を切換
えたりすることもできる。

【０１２９】また、生成した処理液の濃度を検知する濃
度検知機構３０を設けたので、処理液生成部１０で生成
した処理液の濃度を監視したり、さらに、処理液生成部
１０での処理液の生成にフィードバックしたりすること
が可能になる。

【０１３０】また、処理部５で処理に使用した後の処理
液を回収して処理液生成部１０に戻す処理液帰還手段を
備えたので、１度生成した処理液を再利用することがで
き、純水や薬液の使用量を低減することができる。

【０１３１】なお、例えば、従来装置で処理に使用した
後の処理液を回収して再利用しようとすれば、処理部１
００で回収した使用後の処理液を各処理液供給ユニット
１３０、１４０に分配して戻してやらなければならず、
配管系などの構造が複雑化するという問題もある。これ
に対して、上記実施例では、処理部５で処理に使用した
後の処理液を回収した後、単一の処理液生成部１０に戻
せばよいので、処理液を帰還させる配管系などを簡略化
することもできる。

【０１３２】なお、上記実施例では、処理液帰還系４に
処理液タンク６１を備えたが、処理液タンク６１を省略
して、回収した使用後の処理液を直接処理液生成部１０
に戻るように処理液帰還系４を構成してもよい。

【０１３３】ただし、通常、処理に使用された処理液を
全て回収することは実質的に不可能であるので、処理液
タンク６１を省略すると、次の基板Ｗに再利用処理液だ
けを戻しても処理液量が不足することになる。そこで、
常に、処理液生成部１０に純水と薬液を導入して再利用
処理液と混合するように動作させなければならない。こ
の場合でも純水や薬液の使用量を低減することはできる
が、制御などが煩雑になる。

【０１３４】従って、処理液帰還系４に処理液タンク６
１を備える方が好ましい。これにより、回収した処理液
を溜めておくことができるとともに、必要なときだけ回
収した処理液を処理液生成部１０に戻すこともできるな
ど、上記不都合を解消できる。

【０１３５】また、処理液タンク６１に貯留した処理液
をフィルター６６を通過させてから処理液タンク６１に
戻すように循環させる内部循環を可能に構成したので、
常時フィルター６６によって回収した処理液の不純物な
どを除去することができ、再利用する処理液での処理精
度の低下を抑制することができる。

【０１３６】なお、上記実施例では、処理液タンク６１
内の再利用処理液ＱＭＲを処理液生成部１０に戻す機構
（配管や定量ポンプなど）の一部を内部循環手段と兼用
して、構成の簡略化を図っているが、処理液タンク６１
内の再利用処理液ＱＭＲを処理液生成部１０に戻す機構
と全く別個に内部循環手段を設けてもよい。このように
構成すれば、処理液タンク６１内の再利用処理液ＱＭＲ
を処理液生成部１０に戻している間も再利用処理液ＱＭ
Ｒの内部循環を継続することができる。

【０１３７】なお、本発明は、上記実施例の構成に限定
されるものではない。処理液生成部１０やキャビネット
部２などの構成も、上記実施例の構成に限定されない。

【０１３８】また、少なくとも２方向から基板Ｗに処理
液を供給する第１、第２の処理液供給部を処理部内に設
けた基板処理装置に本発明を適用することができる。な
お、３方向以上から基板Ｗに処理液を供給する３つ以上
の処理液供給部を処理部内に設けている場合には、上記
実施例と同様の構成により、処理液生成部と各処理液供
給部とを個別に連通接続するとともに、各処理液供給部
への処理液の供給とその停止を個別に行う各出力側切換
え手段を処理液生成部に設ければよい。

【０１３９】

【発明の効果】以上の説明から明らかなように、請求項
１に記載の発明によれば、処理部内に設けた第１、第２
の処理液供給部に供給する処理液を単一の処理液生成部
で生成するように構成したので、構造の簡略化、装置の
小型化を図ることができるとともに、第１、第２の処理
液供給部から基板にそれぞれ供給する処理液の濃度を均
一化できる。また、第１、第２の処理液供給部から基板
への処理液の供給を個別に切り換えることもできる。

【０１４０】請求項２に記載の発明によれば、処理液生
成部への各液の導入とその停止を個別に切換える複数の
導入側切換え手段を設けたので、処理液生成部へ導入す
る液を選択的に切換えることができ、所望の液を混合し
た処理液を生成して基板に供給したり、あるいは、純水
のみを基板に供給したりすることもできる。

【０１４１】請求項３に記載の発明によれば、生成した
処理液の濃度を検知する濃度検知手段を設けたので、処
理液生成部で生成した処理液の濃度を監視したり、さら
に、処理液生成部での処理液の生成にフィードバックし
たりすることが可能になる。

【０１４２】請求項４に記載の発明によれば、処理部で
処理に使用した後の処理液を回収して処理液生成部に戻
す処理液帰還手段を備えたので、１度生成した処理液を
再利用することができ、純水や薬液の使用量を低減する
ことができる。また、処理部で処理に使用した後の処理
液を回収した後、単一の処理液生成部に戻せばよいの
で、処理液を帰還させる配管系などを簡略化することも
できる。

【０１４３】請求項５に記載の発明によれば、処理液帰
還手段に、回収した使用後の処理液を貯留する処理液貯
留手段を備えたので、回収した処理液を溜めておくこと
ができるとともに、必要なときだけ回収した処理液を処
理液生成部に戻すこともできる。

【０１４４】請求項６に記載の発明によれば、処理液貯
留手段に貯留した処理液をフィルターを通過させてから
処理液貯留手段に戻すように循環させる内部循環手段を
備えたので、常時フィルターによって回収した処理液の
不純物などを除去することができ、再利用する処理液で
の処理精度の低下を抑制することができる。

【０１４５】請求項７に記載の発明によれば、必要に応
じて、小流量の純水を処理液生成部に導入して第１、第
２処理液供給部に供給する状態にすることができ、配管
系などでのバクテリアの発生を抑制することができる。
また、単一の処理液生成部に小流量の純水を導入すれば
スローリークを実現できるので、例えば、従来装置でス
ローリークを実現する場合に比べて、スローリークに使
用する純水の量を低減することもできる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の一実施例に係る基板処理装置の全体的
な構成を示す概略図である。

【図２】処理液供給系及び処理液帰還系内の構成を示す
配管図である。

【図３】制御系の構成を示すブロック図である。

【図４】処理液生成部の具体的な構成例を示す一部断面
図である。

【図５】出力側の開閉弁の一例の構成を示す縦断面図で
ある。

【図６】導入側の開閉弁の一例の構成を示す縦断面図で
ある。

【図７】濃度検知機構の一例の構成を示す正面図であ
る。

【図８】処理部の構成例を示す平面図と一部省略正面図
である。

【図９】処理部の別の構成例を示す一部省略正面図であ
る。

【図１０】処理部のさらに別の構成例を示す平面図と一
部省略正面図である。

【図１１】キャビネット部内の構成を示す配管図であ
る。

【図１２】複数種類の処理液を分離回収できる回収部の
一例の構成を示す縦断面図である。

【図１３】複数種類の処理液を分離回収できる回収部の
別の例の構成を示す縦断面図である。

【図１４】従来装置の概略構成を示す図である。

【符号の説明】

４：処理液帰還系５：処理部６：制御部１０：処理液生成部１１（１１Ｐ、１１Ｑ１、１１Ｑ２、１１Ｒ）：導入管１４（１４Ｐ、１４Ｑ１、１４Ｑ２、１４Ｒ）：開閉弁１５：バイパス管１６：切換え器１７：流量調節弁２０Ａ：第１の処理液供給管２０Ｂ：第２の処理液供給管２１Ａ、２１Ｂ：開閉弁３０：濃度検知機構５１、９０、９１：回収部６０：回収管６１：処理液タンク６３：定量ポンプ６６：フィルター６７：開閉弁６８：循環管６９：開閉機能付き流量調節弁Ｗ：基板Ｓ１：第１の処理液供給部Ｓ２：第２の処理液供給部

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者上山勉京都市上京区堀川通寺之内上る４丁目天神北町１番地の１大日本スクリーン製造株式会社内 (72)発明者山下宏二京都市上京区堀川通寺之内上る４丁目天神北町１番地の１大日本スクリーン製造株式会社内 (72)発明者藤井健二京都市上京区堀川通寺之内上る４丁目天神北町１番地の１大日本スクリーン製造株式会社内Ｆターム(参考） 3B201 AA03 AB08 AB34 AB42 BA02 BA13 BB05 BB24 BB92 BB93 BB96 CB12 CC01 CD11 CD22 CD42 CD43

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】基板に所定の処理を行う基板処理装置で
あって、基板を収容して基板に所定の処理を施す処理部と、前記処理部内に設けられ、第１の方向から基板に処理液
を供給する第１の処理液供給部と、前記処理部内に設けられ、前記第１の方向と異なる第２
の方向から基板に処理液を供給する第２の処理液供給部
と、前記第１、第２の処理液供給部に連通接続されるととも
に、前記第１の処理液供給部への処理液の供給とその停
止を切換える第１の出力側切換え手段と、前記第２の処
理液供給部への処理液の供給とその停止を切換える第２
の出力側切換え手段とを含み、かつ、純水と薬液とが導
入されて処理液を生成する処理液生成部と、を備えたことを特徴とする基板処理装置。
【請求項２】請求項１に記載の基板処理装置におい
て、前記処理液生成部への各液の導入とその停止を個別に切
換える複数の導入側切換え手段を設けたことを特徴とす
る基板処理装置。
【請求項３】請求項１または２に記載の基板処理装置
において、生成した処理液の濃度を検知する濃度検知手段を設けた
ことを特徴とする基板処理装置。
【請求項４】請求項１ないし３のいずれかに記載の基
板処理装置において、前記処理部で処理に使用した後の処理液を回収して前記
処理液生成部に戻す処理液帰還手段を備えたことを特徴
とする基板処理装置。
【請求項５】請求項４に記載の基板処理装置におい
て、前記処理液帰還手段には、回収した使用後の処理液を貯
留する処理液貯留手段を備えていることを特徴とする基
板処理装置。
【請求項６】請求項５に記載の基板処理装置におい
て、前記処理液貯留手段に貯留した処理液をフィルターを通
過させてから前記処理液貯留手段に戻すように循環させ
る内部循環手段を備えたことを特徴とする基板処理装
置。
【請求項７】請求項１ないし６のいずれかに記載の基
板処理装置において、処理液を生成するときよりも少ない導入流量で純水を前
記処理液生成部に導入する純水導入流量調節手段と、前記純水導入流量調節手段で調節される少ない導入流量
で純水のみを前記処理液生成部に導入させるとともに、
前記処理液生成部から前記第１、第２の処理液供給部に
その純水を供給するように前記第１、第２の出力側切換
え手段を切換えるように制御する制御手段と、をさらに備えたことを特徴とする基板処理装置。