JP2001043733A - 導電体組成物 - Google Patents

導電体組成物

Info

Publication number
JP2001043733A
JP2001043733A JP11215457A JP21545799A JP2001043733A JP 2001043733 A JP2001043733 A JP 2001043733A JP 11215457 A JP11215457 A JP 11215457A JP 21545799 A JP21545799 A JP 21545799A JP 2001043733 A JP2001043733 A JP 2001043733A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
powder
conductor
solder
copper
coprecipitated
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP11215457A
Other languages
English (en)
Inventor
Shigeo Hasegawa
成雄 長谷川
Yuichi Baba
雄一 馬場
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Ishifuku Metal Industry Co Ltd
Original Assignee
Ishifuku Metal Industry Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Ishifuku Metal Industry Co Ltd filed Critical Ishifuku Metal Industry Co Ltd
Priority to JP11215457A priority Critical patent/JP2001043733A/ja
Publication of JP2001043733A publication Critical patent/JP2001043733A/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Parts Printed On Printed Circuit Boards (AREA)
  • Conductive Materials (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【目的】基体上に所望の導電被膜を形成するが、半田の
接合力を向上し、濡れ性アップを図るようにする。 【手段】導電体として銀、パラジウム、白金を所定量含
有する導電体組成物において、銅を1〜3重量%を含む
銀、銅の共沈殿粉末に、パラジウム、又は、白金粉末の
一種以上を0.1〜1重量%を含み、結合材としてガラ
スフリットを含有して、該導電体組成物において、銅粉
末の1〜3重量%、及び、マンガン粉末の1〜3重量%
を添加する。 【効果】Ag粉末にCuを共沈澱粉末化させて、Ag−
Cu共沈澱粉末を用いることにより、低濃度Pd、又
は、低濃度Ptでもエージング強度が大で、濡れ性を有
し、食われ耐性が向上する。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】開示技術は、例えば、電気回路を
作成するに当たり、半田付けをした状態を高温下で放置
したエージングの接着強度大きく、半田濡れ性、及び、
半田食われ耐性に優れたようにした導電体組成物の技術
分野に属する。
【0002】
【従来の技術】例えば、セラミックス基体上に導電回路
や電極等の導電性被膜を形成するため例示するに、特公
昭55ー33788号公報や特開平10−106349
号公報、特開平1−137516号公報に見られる如
く、導電体粉末として、Ag,Pd,Pt等の単体、合
金、混合物を80〜98重量%、軟化点400〜760
℃のガラス粉末2〜10重量%、及び、酸化ビスマス粉
末2〜10重量%を含有する固形分を有機質のビヒクル
に分散させたぺースト状組成物が用いられている。
【0003】このような組成物を、前記他の特許発明と
してセラミックス基体上に所望のパターンで、スクリー
ン印刷法、転写法等の手段により塗布し、600〜90
0℃の温度で焼成することにより所望の導電性被膜を形
成させるようにしているが、上記組成物中のガラス粉末
は導電体粉末をセラミックス基体上に固着するための結
合材として機能し、酸化ビスマス粉末は導電体粉末とガ
ラス、及び、ガラスとセラミックス基体との濡れ性を改
善すると共に導電性被膜とセラミックス基体との接着強
度を向上させる機能を有してはいる。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】これら従来の導電性被
膜は半田付けをした状態で高温度で放置(エージングと
呼ぶ)した場合、被膜とセラミックス基体との接合力が
低下するのが正常で、Agのみではエージング後の接合
強度が0近く迄低下することが分かっており、これに対
しPd、又は、Ptの添加はエージング後の接合強度の
改善に効果はあるが、その使用はコスト的に高価であ
り、コスト上昇のデメリットを招くために極力Pd、又
は、Ptの所定量の使用を抑制し、少量の添加でも同様
の改善が得られる組成物を開発することが求められてい
る。
【0005】
【発明の目的】この出願の発明の目的は上述従来技術に
基づくPd、又は、Pt添加の問題点を解決すべき技術
的課題とし、少量1%以下のPd、又は、Ptを混合し
た導電体粉末を用いた場合でも、より充分なエージング
強度や半田性に優れた被膜形成組成物を得ることが出来
るようにして導電体産業に於ける基本技術利用分野に益
する優れた導電体組成物を提供せんとするものである。
【0006】
【課題を解決するための手段】上述目的に沿い先述特許
請求の範囲を要旨とするこの出願の発明の構成は、前述
課題を解決するために、導電体として銀、パラジウム、
白金を所定量含有する導電体組成物において銅を1〜3
重量%を含む銀、銅の共沈澱粉末にパラジウム粉末又は
白金粉末を一種以上の0.1〜1重量%を含み、結合材
としてガラスフリットを含有していることを基幹とし、
更に、該導電体組成物において、銅粉末の1〜3重量
%、及び、マンガン粉末の1〜3重量%を添加するよう
にした技術的手段をも講じたものである。。
【0007】
【作用】導電体粉末のうちAg粉末中のCuを1〜3%
としたAg−Cu共沈澱粉末としたところにポイントが
あり、さらにこれらの共沈澱粉末にCu粉末1〜3%マ
ンガン粉末1〜3%との添加混合した点にもポイントが
ある。
【0008】上記構成において、Ag粉末中にCuを分
散混入させた共沈澱粉末を利用することで、Cuが分散
混入されたAg粉末はAg、及び、Cuを含む酸性溶液
を中和してAg、及び、Cuの水酸化物を共沈澱させ、
その共沈澱物を液中で還元することにより得られた水溶
液中のAg、及び、Cu濃度を適宜選択することで任意
のCu含有率のAg粉末が得られるようにし、例えば、
硝酸銀、及び、硝酸銅を所定の割合で含有する水溶液に
炭酸ソーダを添加して、PH10とすれば、Ag、及
び、Cuの水酸化物が共沈澱するようにしたものであ
る。
【0009】次いで、この溶液にナトリウムボロハライ
ド等を加えれば還元されて、Cuが分散混入されたAg
粉末が得られるようになり、この方法によれば、Cuは
メタルの形でAg粉末中に分散混入した状態で得られ
る。
【0010】この時、Ag粉末中にCuが1〜3重量%
になるように含有される必要があるが、Cuが1%以下
ではエージング性が低下し、3%以上で半田の濡れ性が
悪くなるからということが実験により知見されたからで
ある。
【0011】尚、Ag−Cu共沈澱粉末にCu粉末とマ
ンガン粉末を添加することによって半田の有するもう一
つの特性である所謂半田食われ性の改善する効果があ
り、エージング特性、半田濡れ性を維持しながら半田の
食われ性をも向上させるためには、猶、固形分中の導電
体粉末以外のガラスフリット、Cu粉末、Mn粉末、及
び、その他の組成を含む金属酸化物からなるフリットの
合計の量が多い場合は半田性、特に、半田の濡れ性が低
下するので、15重量%以下がよいものである。
【0012】更に、固形分中Cuメタル粉末の1〜3
%、及び、Mn粉末の1〜3%の添加組合わせがよく、
導電体粉末とガラス粉末、及び、その他の添加物は有機
ビヒクルと混練されてペースト状の組成となり、この組
成物は200メッシュのステンレスクリーンで基体に所
定に塗布印刷される。
【0013】したがって、用いる粉末は10μm以下の
粒径からなる、平均で2μm以下が適しているものであ
る。
【0014】尚、有機ビヒクルとしてはターピネオール
等の溶媒にエチルセルローズを溶かしたものを使用す
る。
【0015】又、上述構成において、エージング強度が
低下する原因としては半田成分の錫が被膜中に拡散して
Ag金属間化合物を形成して、Sn−Agの化合物が生
長してガラス層を破壊するものと考えられているが、こ
の出願の発明の方法によると、CuがAg粉末中に取り
込まれているためにSn−Agの化合物の形成を阻害し
て、その結果としてエージング強度の低下が防がれて改
善されるものと思考される。
【0016】
【発明が実施しようとする形態】次に、この出願の発明
の実施しようとする形態を実施例の態様として説明すれ
ば以下の通りである。
【0017】導電体粉末として、Cuの0.5〜5.0
重量%を含有する各種共沈澱粉末Ag−Cuと少量のP
d、又は、Ptの0.5重量%、及びフリットとしては
軟化点580℃の硼珪酸ガラスの粉末にビスマスを主成
分とした他の金属酸化物からなるフリット、並びに、C
u、Mnの粉末を用いて、これら固形分を各種の割合で
配合し、固形分配合を80重量部、有機ビヒクル20重
量部のペーストを作成した。
【0018】有機ビヒクルには溶媒としてターピネオー
ルを樹脂としてエチルセルローズを用い、又、本願発明
との比較のために従来組成のAg粉末にCuとMn粉末
を混合したペーストを作成した。
【0019】上記ペースト組成物をアルミナ基板上にテ
ストパターンでスクリーン印刷し、ピーク温度850
℃、ピーク時間10分、全焼成サイクル60分でベルト
式焼成炉で焼成し、テストパターン焼成膜について次ぎ
のような試験を行った。 (イ)接着強度 2mm角のパターン上に直径0.6mmφの錫メッキ銅線を
37Pb/63Sn半田を用いて半田付けをして垂直方
向へ引張って、剥離して剥離時に引張力を得る。
(ロ)エージング強度 上述と同様にして錫メッキ銅線を半田付けした基板を1
50℃恒温槽中に24〜200時間放置した後に前記と
同様の剥離試験に供する。 (ハ)半田の濡れ性 10mm角のパターン上にフラックス(タムラ化研FAL
ー4)(商品名)を塗布して直径2mmφの37Pb/6
3Snd半田ボールをのせ、220℃の半田浴上に浮か
べて半田が溶け始めてから20秒保持した後、冷却して
から拡大鏡下ノギスで2ケ所の径の測定を行い、平均値
χより拡がりの面積を次式より求める。 χ−2.0/2.0×100=拡がり(%) (ニ)半田食れ耐性 850℃焼成したテストピースを複数枚作製して試験に
供した。テストピースの一つを220℃に設定した37
Pb/63Sn半田浴上に置き、余熱してから半田浴に
浸漬する。浸漬時間を1回1秒として、浸漬回数毎に導
体回路の抵抗値を測定する。抵抗値が無限大になった時
の浸漬回数で食れ耐性の比較をした。各試験の項目にお
ける合格点は、接着強度4・以上、エージング強度2・
以上(200時間)、半田濡れ性70%以上、半田食わ
れ耐性は10回以上である。
【0020】以上、ぺースト組成、及び、試験結果をま
とめて、次の表1に示した。
【表1】
【0021】表1より、Ag−Cu共沈澱粉末中のCu
%が0.5%ではエージング強度低く(試料No.1
0)、又、Cuが4%を超えると、半田濡れ性が低下し
てくるので(試料No.12)、Cu1〜3%が良い。
(試料No.1〜3)
【0022】更に、Ag−Cu共沈澱粉末のCuが1〜
3%の導電体粉末に、Cu、及び、更にMn粉末の添加
をすると、添加しない場合より半田食われ耐性が向上す
ることが分かる。(試料No.4〜9) この場合、CuとMnの添加の合計が6%を超えると、
半田濡れ性は低下する。(試料No.11) 又、Pdの代わりにPtを加えた場合もPd混合と同様
に高い特性が得られた。(試料No.9) 比較例としてAg粉末にCu、及び、Mnと粉末を混合
した場合は本願発明よりエージング特性が劣る。(試料
No.13)
【0023】
【発明の効果】以上、この出願の発明によれば、Ag粉
末にCuを共沈澱粉末化させてからなるAg−Cu共沈
澱粉末を用いた導電体組成物と、更に、この組成物にC
u粉末、及び、Mn粉末を添加組合わせることにより、
低濃度Pd、又は、低濃度のPtでもエージング強度大
きく、半田濡れ性や半田食われ耐性に優れた導電体組成
物が得られた。
【0024】尚、この出願の発明が従来の高Pd、高P
tでも、又は、AgやPd、及び、AgやPtの合金の
形での添加でも同様の効果を有することは言うまでもな
い。
フロントページの続き Fターム(参考) 4E351 AA07 BB01 BB31 CC12 CC22 DD04 DD05 DD18 DD20 DD21 DD52 EE02 EE10 EE27 GG15 GG16 5G301 DA03 DA06 DA08 DA11 DA12 DA34 DD01

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】導電体として銀、パラジウム、白金を所定
    量含有する導電体組成物において、銅を1〜3重量%を
    含む銀、銅の共沈殿粉末に、パラジウム、又は、白金粉
    末の一種以上を0.1〜1重量%を含み、結合材として
    ガラスフリットを含有して成ることを特徴とする導電体
    組成物。
  2. 【請求項2】上記請求項1記載の導電体組成物におい
    て、銅粉末の1〜3重量%、及び、マンガン粉末の1〜
    3重量%を添加したことを特徴とする導電体組成物。
JP11215457A 1999-07-29 1999-07-29 導電体組成物 Pending JP2001043733A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP11215457A JP2001043733A (ja) 1999-07-29 1999-07-29 導電体組成物

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP11215457A JP2001043733A (ja) 1999-07-29 1999-07-29 導電体組成物

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JP2001043733A true JP2001043733A (ja) 2001-02-16

Family

ID=16672699

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP11215457A Pending JP2001043733A (ja) 1999-07-29 1999-07-29 導電体組成物

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP2001043733A (ja)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2015067492A (ja) * 2013-09-30 2015-04-13 京セラ株式会社 金属層付きセラミック体、および金属層付きセラミック体の製造方法

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2015067492A (ja) * 2013-09-30 2015-04-13 京セラ株式会社 金属層付きセラミック体、および金属層付きセラミック体の製造方法

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP3209089B2 (ja) 導電性ペースト
JP4291857B2 (ja) 銅導体ペースト、導体回路板及び電子部品
CA1278912C (en) Overprint copper composition
JPH0350365B2 (ja)
US3838071A (en) High adhesion silver-based metallizations
JP5488282B2 (ja) 導電性ペースト
CA1192062A (en) Conductor compositions
JP2000048642A (ja) 導電性ペースト及びガラス回路基板
JPH01192781A (ja) 銅厚膜導体組成物
JP3297531B2 (ja) 導電性ペースト
JP2005317432A (ja) 導電性ペースト及びガラスフリット
JP2001043733A (ja) 導電体組成物
JP2008218022A (ja) 銅導体ペースト、導体回路板及び電子部品
JP3318299B2 (ja) Pbフリー低温焼成型導電塗料
JPH0514363B2 (ja)
JP2931450B2 (ja) 導体ペースト
JPH0541110A (ja) 導体ペースト
JP2001266641A (ja) 導電体組成物
JPS62263894A (ja) 銅導電ペ−スト
JP2941002B2 (ja) 導体組成物
JPH0793051B2 (ja) 銅導体組成物
JP6836184B2 (ja) 厚膜導体形成用組成物および厚膜導体の製造方法
JPH01137516A (ja) 導電性被膜形成用組成物
JP2004362862A (ja) 厚膜導体用導電性ペースト組成物
JPH10106346A (ja) 銀系導体ペースト