JP2001043378A - 繰り返しパターン消去方法及びパターン欠陥検査装置 - Google Patents
繰り返しパターン消去方法及びパターン欠陥検査装置Info
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- JP2001043378A JP2001043378A JP11218606A JP21860699A JP2001043378A JP 2001043378 A JP2001043378 A JP 2001043378A JP 11218606 A JP11218606 A JP 11218606A JP 21860699 A JP21860699 A JP 21860699A JP 2001043378 A JP2001043378 A JP 2001043378A
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- G06T7/0004—Industrial image inspection
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- G06T2207/00—Indexing scheme for image analysis or image enhancement
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- Investigating Materials By The Use Of Optical Means Adapted For Particular Applications (AREA)
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 電子機器デバイスに含まれる繰り返しパター
ンの中の欠陥判定を自動的に高速にて行えるように、簡
単なアルゴリズムにて繰り返しパターンを適切に消去す
る。 【解決手段】 予め定めてある基準サイズ及びその整数
倍のサイズで注目画素と複数比較画素との間の濃度差を
求める複数濃度差検出工程と、複数濃度差から最も０に
近い濃度差を検出する特定濃度差決定工程と、特定濃度
差をパターン消去画像における基準濃度に対して加える
パターン消去画像生成工程とを有する。
ンの中の欠陥判定を自動的に高速にて行えるように、簡
単なアルゴリズムにて繰り返しパターンを適切に消去す
る。 【解決手段】 予め定めてある基準サイズ及びその整数
倍のサイズで注目画素と複数比較画素との間の濃度差を
求める複数濃度差検出工程と、複数濃度差から最も０に
近い濃度差を検出する特定濃度差決定工程と、特定濃度
差をパターン消去画像における基準濃度に対して加える
パターン消去画像生成工程とを有する。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、液晶パネル、プラ
ズマディスプレイパネル、半導体ウエハ等の電子機器デ
バイスに含まれる繰り返しパターン中の欠陥判定を行う
際の画像中における繰り返しパターン消去方法及びパタ
ーン欠陥検査装置に関するものである。
ズマディスプレイパネル、半導体ウエハ等の電子機器デ
バイスに含まれる繰り返しパターン中の欠陥判定を行う
際の画像中における繰り返しパターン消去方法及びパタ
ーン欠陥検査装置に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】従来、液晶パネル、プラズマディスプレ
イパネル、半導体ウエハ等の電子機器デバイス製造にお
けるパターン欠陥の検査工程は、人手で目視検査する
か、自動機で画像処理を行うかの何れかで実施されてい
た。
イパネル、半導体ウエハ等の電子機器デバイス製造にお
けるパターン欠陥の検査工程は、人手で目視検査する
か、自動機で画像処理を行うかの何れかで実施されてい
た。
【０００３】人手の場合は、機種が変換された場合でも
容易に対応可能で、立ち上がりが早いが、欠陥の詳細位
置を特定するには時間がかかり、スループットが悪いと
いう欠点があった。また、検査感度の維持・統一にも課
題があった。
容易に対応可能で、立ち上がりが早いが、欠陥の詳細位
置を特定するには時間がかかり、スループットが悪いと
いう欠点があった。また、検査感度の維持・統一にも課
題があった。
【０００４】一方、自動機の場合は、欠陥位置の特定情
報を素早く認識でき、また検査感度の維持・統一を図れ
るという利点があるが、機種が変換されると調整に多く
の時間を要するという問題があった。
報を素早く認識でき、また検査感度の維持・統一を図れ
るという利点があるが、機種が変換されると調整に多く
の時間を要するという問題があった。
【０００５】しかし、近年の部品の高精細化・高性能化
に伴い、目視検査に関しては、ますますスループットが
悪いことが顕著化してきた。そのため、自動機の性能向
上に大きな期待が寄せられている。
に伴い、目視検査に関しては、ますますスループットが
悪いことが顕著化してきた。そのため、自動機の性能向
上に大きな期待が寄せられている。
【０００６】ところで、液晶パネル、プラズマディスプ
レイパネル、半導体ウエハ等の電子機器デバイスは、高
精細化・高性能化が著しく、自動機の性能向上要求が高
いが、これらのデバイスは部分的なパターンと同じもの
が繰り返し全体に形成されているものが多く、その繰り
返しパターンの中の欠陥を対象として検出する場合、次
の処理により検出していた。
レイパネル、半導体ウエハ等の電子機器デバイスは、高
精細化・高性能化が著しく、自動機の性能向上要求が高
いが、これらのデバイスは部分的なパターンと同じもの
が繰り返し全体に形成されているものが多く、その繰り
返しパターンの中の欠陥を対象として検出する場合、次
の処理により検出していた。
【０００７】１）何らかの形で画像入力した繰り返しパ
ターンを含んだ原画像に対して、繰り返しパターンの基
準ピッチで、 ｇout ＝ｇin−ｇ(in+size) ＋offset という処理を処理領域の全画素で行い、パターン消去を
行う。ここで、ｇout は処理後画像の各画素の濃度、ｇ
inは原画像の各画素の濃度、ｇ(in+size) は原画像の注
目画素から基準ピッチ離れた画素の濃度、offsetは処理
後画像において基準濃度として加えるもので、８ビット
２５６階調の場合、中央の１２８階調とすることが多
い。この処理をパターン消去処理と呼び、ここで得られ
た画像をパターン消去処理後の画像あるいは背景画像と
呼ぶ。
ターンを含んだ原画像に対して、繰り返しパターンの基
準ピッチで、 ｇout ＝ｇin−ｇ(in+size) ＋offset という処理を処理領域の全画素で行い、パターン消去を
行う。ここで、ｇout は処理後画像の各画素の濃度、ｇ
inは原画像の各画素の濃度、ｇ(in+size) は原画像の注
目画素から基準ピッチ離れた画素の濃度、offsetは処理
後画像において基準濃度として加えるもので、８ビット
２５６階調の場合、中央の１２８階調とすることが多
い。この処理をパターン消去処理と呼び、ここで得られ
た画像をパターン消去処理後の画像あるいは背景画像と
呼ぶ。
【０００８】２）背景画像の背景濃度と逸脱する塊を検
出し、欠陥とする。この処理を欠陥検出処理と呼ぶ。
出し、欠陥とする。この処理を欠陥検出処理と呼ぶ。
【０００９】図５を参照して説明すると、図５（ａ）が
長細いパターンが繰り返されるパターン消去処理前の画
像、図５（ｂ）が処理後の画像で、パターンピッチに最
も近い２１画素をパターン消去処理のサイズ（size）と
する。処理は、処理領域５０の範囲でなされ、パターン
が消去されていることが分かる。
長細いパターンが繰り返されるパターン消去処理前の画
像、図５（ｂ）が処理後の画像で、パターンピッチに最
も近い２１画素をパターン消去処理のサイズ（size）と
する。処理は、処理領域５０の範囲でなされ、パターン
が消去されていることが分かる。
【００１０】また、図５（ａ）、（ｂ）の下部には、パ
ターン処理前の画像及び処理後の画像におけるチェック
ライン５１、５２における濃度プロファイル５３、５４
を示している。明るい方向が２５５階調に近く、暗い方
が０階調に近い。
ターン処理前の画像及び処理後の画像におけるチェック
ライン５１、５２における濃度プロファイル５３、５４
を示している。明るい方向が２５５階調に近く、暗い方
が０階調に近い。
【００１１】欠陥検出処理は、図５（ｂ）の処理後の画
像に対して、一定濃度条件を満たすものを欠陥としてと
らえる。ここで、チェックライン５２での濃度プロファ
イル５４を例にとると、規定濃度階調１３５以上を白欠
陥、規定濃度階調１２０以下を黒欠陥とすると、ここで
は黒欠陥５５が検出される。
像に対して、一定濃度条件を満たすものを欠陥としてと
らえる。ここで、チェックライン５２での濃度プロファ
イル５４を例にとると、規定濃度階調１３５以上を白欠
陥、規定濃度階調１２０以下を黒欠陥とすると、ここで
は黒欠陥５５が検出される。
【００１２】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記従
来のパターン消去処理においては、以下の３つの問題が
ある。
来のパターン消去処理においては、以下の３つの問題が
ある。
【００１３】１）背景画像にパターン正常部分が残る。
【００１４】２）もともと白欠陥であろうと、黒欠陥で
あろうと、背景画像に白欠陥と黒欠陥の両方が発生し、
もともとどちらかが容易に分からなくなる。
あろうと、背景画像に白欠陥と黒欠陥の両方が発生し、
もともとどちらかが容易に分からなくなる。
【００１５】３）周辺パターンの処理が正常にできな
い。
い。
【００１６】以下、詳しく説明すると、１）は、パター
ンピッチがどの部分も全く整数値になれば問題がない。
しかし、画像が全面にわたって同じピッチであることは
あり得ない。これは、多くの画像入力に用いられるレン
ズを通しての撮像の際に、レンズ収差の影響のため、レ
ンズ中央と周辺で全く同じピッチで撮像することができ
ないためである。また、全く誤差のない整数値にするこ
とも困難である。図５（ｂ）の残存部分５８、５９がそ
の例である。
ンピッチがどの部分も全く整数値になれば問題がない。
しかし、画像が全面にわたって同じピッチであることは
あり得ない。これは、多くの画像入力に用いられるレン
ズを通しての撮像の際に、レンズ収差の影響のため、レ
ンズ中央と周辺で全く同じピッチで撮像することができ
ないためである。また、全く誤差のない整数値にするこ
とも困難である。図５（ｂ）の残存部分５８、５９がそ
の例である。
【００１７】２）は前後比較のため起こり得る現象であ
る。図５（ａ）の処理領域５０の中央部の白欠陥５６
は、図５（ｂ）では欠陥部分５６、５７に背景濃度より
も高い濃度及び低い濃度として現れる。画素５６と画素
５７の距離はパターン消去処理のサイズとなるのは言う
までもない。したがって、単独の欠陥部分だけでは、も
ともと白欠陥であったか、黒欠陥であったかは分からな
い。
る。図５（ａ）の処理領域５０の中央部の白欠陥５６
は、図５（ｂ）では欠陥部分５６、５７に背景濃度より
も高い濃度及び低い濃度として現れる。画素５６と画素
５７の距離はパターン消去処理のサイズとなるのは言う
までもない。したがって、単独の欠陥部分だけでは、も
ともと白欠陥であったか、黒欠陥であったかは分からな
い。
【００１８】３）は２）と同様に前後比較のため起こり
得る現象である。入力された画像全面にわたって処理を
する場合、図６に示すように、領域の右側においてパタ
ーン消去処理のサイズ分の領域６０が正常な処理結果と
して得られない。これは比較する画素がないためであ
る。
得る現象である。入力された画像全面にわたって処理を
する場合、図６に示すように、領域の右側においてパタ
ーン消去処理のサイズ分の領域６０が正常な処理結果と
して得られない。これは比較する画素がないためであ
る。
【００１９】本発明は、上記課題を解決し、繰り返しパ
ターンに対する検査ができる繰り返しパターン消去方法
を提供することを目的としている。
ターンに対する検査ができる繰り返しパターン消去方法
を提供することを目的としている。
【００２０】
【課題を解決するための手段】本発明の繰り返しパター
ン消去方法は、繰り返しパターンの存在する被検査体に
対してその欠陥判定を行う際に、被検査体を撮像して得
られた濃淡画像中における繰り返しパターンを消去する
方法であって、予め定めてある基準サイズ及びその整数
倍のサイズで注目画素と複数比較画素との間の濃度差を
求める複数濃度差検出工程と、複数濃度差から最も０に
近い濃度差又は平均濃度差を特定濃度差として検出する
特定濃度差決定工程と、特定濃度差をパターン消去画像
における基準濃度に対して加えるパターン消去画像生成
工程とを有するものであり、複数の比較画素との間での
濃度差を用いて特定濃度差を検出することにより、複雑
なアルゴリズムを用いることなく、上記問題を解消して
繰り返しパターンを適切に消去することができる。
ン消去方法は、繰り返しパターンの存在する被検査体に
対してその欠陥判定を行う際に、被検査体を撮像して得
られた濃淡画像中における繰り返しパターンを消去する
方法であって、予め定めてある基準サイズ及びその整数
倍のサイズで注目画素と複数比較画素との間の濃度差を
求める複数濃度差検出工程と、複数濃度差から最も０に
近い濃度差又は平均濃度差を特定濃度差として検出する
特定濃度差決定工程と、特定濃度差をパターン消去画像
における基準濃度に対して加えるパターン消去画像生成
工程とを有するものであり、複数の比較画素との間での
濃度差を用いて特定濃度差を検出することにより、複雑
なアルゴリズムを用いることなく、上記問題を解消して
繰り返しパターンを適切に消去することができる。
【００２１】また、本発明のパターン欠陥検査装置は、
被検査体を撮像する撮像素子と、被検査体を撮像して得
られた濃淡画像データを格納・処理してパターン欠陥を
検出する処理装置とを備え、処理装置は、予め定めてあ
る基準サイズ及びその整数倍のサイズで注目画素と複数
比較画素との間の濃度差を求める複数濃度差検出部と、
複数濃度差から最も０に近い濃度差を検出する特定濃度
差決定部と、特定濃度差をパターン消去画像における基
準濃度に対して加えるパターン消去画像生成部と、欠陥
検出部とを有するものであり、上記のように適切に繰り
返しパターンを消去してパターン欠陥を検出することが
できる。
被検査体を撮像する撮像素子と、被検査体を撮像して得
られた濃淡画像データを格納・処理してパターン欠陥を
検出する処理装置とを備え、処理装置は、予め定めてあ
る基準サイズ及びその整数倍のサイズで注目画素と複数
比較画素との間の濃度差を求める複数濃度差検出部と、
複数濃度差から最も０に近い濃度差を検出する特定濃度
差決定部と、特定濃度差をパターン消去画像における基
準濃度に対して加えるパターン消去画像生成部と、欠陥
検出部とを有するものであり、上記のように適切に繰り
返しパターンを消去してパターン欠陥を検出することが
できる。
【００２２】
【発明の実施の形態】以下、本発明の繰り返しパターン
消去方法及びパターン欠陥検査装置を、被検査体が液晶
アレイパネルにおける電極配線ガラスパネルの検査に適
用した一実施形態を、図１〜図４を参照して説明する。
消去方法及びパターン欠陥検査装置を、被検査体が液晶
アレイパネルにおける電極配線ガラスパネルの検査に適
用した一実施形態を、図１〜図４を参照して説明する。
【００２３】パターン欠陥検査装置の概略構成を示す図
１において、被検査体１が設置され、落射照明２により
照明が与えられ、ＣＣＤエリアセンサなどからなる撮像
素子３にて撮像される。撮像素子３の中のセンサ画素か
らの画像データは１対１に対応づけられて処理装置とし
てのコンピュータ４の中の画像メモリ５に転送される。
コンピュータ４の中には、この画像メモリ５の画像デー
タを読み取り、所定の処理を行う処理プログラム６が格
納されていることは言うまでもない。ここでは、画像濃
度は０〜２５５の２５６階調で扱われる。
１において、被検査体１が設置され、落射照明２により
照明が与えられ、ＣＣＤエリアセンサなどからなる撮像
素子３にて撮像される。撮像素子３の中のセンサ画素か
らの画像データは１対１に対応づけられて処理装置とし
てのコンピュータ４の中の画像メモリ５に転送される。
コンピュータ４の中には、この画像メモリ５の画像デー
タを読み取り、所定の処理を行う処理プログラム６が格
納されていることは言うまでもない。ここでは、画像濃
度は０〜２５５の２５６階調で扱われる。
【００２４】図２に、繰り返しパターンを消去して欠陥
を検出する方法の処理フローを示す。図２において、ま
ずステップ＃１の画像入力工程で、撮像素子３からの取
り込み画像データがコンピュータ４の画像メモリ５に格
納される。次に、ステップ＃２の複数濃度差検出工程
で、予めパターンピッチから求めてあるサイズ（size）
（２１画素）で以下の処理を行う。これは、その整数倍
のサイズで注目画素と複数比較画素との間の濃度差を求
めるものである。
を検出する方法の処理フローを示す。図２において、ま
ずステップ＃１の画像入力工程で、撮像素子３からの取
り込み画像データがコンピュータ４の画像メモリ５に格
納される。次に、ステップ＃２の複数濃度差検出工程
で、予めパターンピッチから求めてあるサイズ（size）
（２１画素）で以下の処理を行う。これは、その整数倍
のサイズで注目画素と複数比較画素との間の濃度差を求
めるものである。
【００２５】 ｇout-n ＝ｇin−ｇ（in+size*n ） ・・・（１） 注目画素及び比較画素をフィルタエレメントと呼ぶ。図
３は、ある注目画素の位置におけるフィルタエレメント
の関係を示している。注目画素１０に対してサイズで比
較画素１１、１２、１３、１４が設定されている。式
（１）で、４つの濃度差が得られる。ここではｇout-1
、ｇout-2 、ｇout-3 、ｇout-4 とする。
３は、ある注目画素の位置におけるフィルタエレメント
の関係を示している。注目画素１０に対してサイズで比
較画素１１、１２、１３、１４が設定されている。式
（１）で、４つの濃度差が得られる。ここではｇout-1
、ｇout-2 、ｇout-3 、ｇout-4 とする。
【００２６】次に、ステップ＃３の特定濃度差決定工程
で、式（１）の４つの濃度差ｇout-1 、ｇout-2 、ｇou
t-3 、ｇout-4 から最終的な出力濃度を決定する。パタ
ーン消去を目的とする場合、上記の値において、最も０
に近いものを選択する。例えば、ｇout-1 ＝３、ｇout-
2 ＝−２、ｇout-3 ＝１０、ｇout-4 ＝−９の場合、ｇ
out-2 が特定濃度差として選択される。
で、式（１）の４つの濃度差ｇout-1 、ｇout-2 、ｇou
t-3 、ｇout-4 から最終的な出力濃度を決定する。パタ
ーン消去を目的とする場合、上記の値において、最も０
に近いものを選択する。例えば、ｇout-1 ＝３、ｇout-
2 ＝−２、ｇout-3 ＝１０、ｇout-4 ＝−９の場合、ｇ
out-2 が特定濃度差として選択される。
【００２７】次に、ステップ＃４の消去画像作成工程
で、特定濃度差決定部工程で得られた特定濃度差をパタ
ーン消去画像における基準濃度に対して加える。基準濃
度は、従来例で触れたoffsetと考え方が同じであり、基
準濃度は０〜２５５階調の８ビット、２５６階調の場
合、１２８階調とする場合が多い。
で、特定濃度差決定部工程で得られた特定濃度差をパタ
ーン消去画像における基準濃度に対して加える。基準濃
度は、従来例で触れたoffsetと考え方が同じであり、基
準濃度は０〜２５５階調の８ビット、２５６階調の場
合、１２８階調とする場合が多い。
【００２８】図４（ａ）が長細いパターンが繰り返され
るパターン消去処理前、図４（ｂ）が処理後の画像であ
る。入力画像全面に広がる画像に対して、従来例におけ
る課題の１）〜３）が解決されている。白欠陥２０及び
黒欠陥２１、２２、２３、２４は処理後でも白欠陥単
独、黒欠陥単独で対応し、また全面にわたって正常な処
理が可能であり、パターンも確実に消去されている。
るパターン消去処理前、図４（ｂ）が処理後の画像であ
る。入力画像全面に広がる画像に対して、従来例におけ
る課題の１）〜３）が解決されている。白欠陥２０及び
黒欠陥２１、２２、２３、２４は処理後でも白欠陥単
独、黒欠陥単独で対応し、また全面にわたって正常な処
理が可能であり、パターンも確実に消去されている。
【００２９】なお、上記実施形態の説明では、特定濃度
差決定部で、最も０に近いものを選択したが、場合によ
っては複数の濃度差の平均値を特定濃度としてもよい。
差決定部で、最も０に近いものを選択したが、場合によ
っては複数の濃度差の平均値を特定濃度としてもよい。
【００３０】
【発明の効果】本発明の繰り返しパターン消去方法及び
パターン欠陥検査装置によれば、以上のように予め定め
てある基準サイズ及びその整数倍のサイズで注目画素と
複数比較画素との間の濃度差を求める複数濃度差検出工
程と、複数濃度差から最も０に近い濃度差又は平均濃度
差を特定濃度差として検出する特定濃度差決定工程と、
特定濃度差をパターン消去画像の基準画像に対して加え
るパターン消去画像生成工程とを有するので、従来例の
課題の１）〜３）を解消し、複雑なアルゴリズムを用い
ることなく、繰り返しパターンを適切に消去し、パター
ン欠陥を検査することができる。
パターン欠陥検査装置によれば、以上のように予め定め
てある基準サイズ及びその整数倍のサイズで注目画素と
複数比較画素との間の濃度差を求める複数濃度差検出工
程と、複数濃度差から最も０に近い濃度差又は平均濃度
差を特定濃度差として検出する特定濃度差決定工程と、
特定濃度差をパターン消去画像の基準画像に対して加え
るパターン消去画像生成工程とを有するので、従来例の
課題の１）〜３）を解消し、複雑なアルゴリズムを用い
ることなく、繰り返しパターンを適切に消去し、パター
ン欠陥を検査することができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の繰り返しパターン消去方法の一実施形
態が適用される欠陥検査装置の概略構成図である。
態が適用される欠陥検査装置の概略構成図である。
【図２】同実施形態の繰り返しパターン消去方法の処理
フロー図である。
フロー図である。
【図３】同実施形態におけるフィルタエレメントの説明
図である。
図である。
【図４】同実施形態における処理前後の画像の説明図で
ある。
ある。
【図５】従来例の繰り返しパターン消去方法での処理前
後の画像の説明図である。
後の画像の説明図である。
【図６】同従来例における処理不可能な領域を示す処理
前後の画像の説明図である。
前後の画像の説明図である。
１ 被検査体 ３ 撮像素子 ４ コンピュータ（処理装置） ５ 画像メモリ ６ 処理プログラム
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 綾木 之裕 大阪府門真市大字門真1006番地 松下電器 産業株式会社内 Ｆターム(参考） 2G051 AA51 AA73 AB20 BA20 CA03 CA04 EA14 EB01 EB02 EC03 5B057 CA08 CA12 CA16 CB08 CB12 CB16 CC01 CE08 CE20 CH08 CH20 DA03 DB02 DB09 DC22
Claims (2)
- 【請求項１】 繰り返しパターンの存在する被検査体に
対してその欠陥判定を行う際に、被検査体を撮像して得
られた濃淡画像中における繰り返しパターンを消去する
方法であって、予め定めてある基準サイズ及びその整数
倍のサイズで注目画素と複数比較画素との間の濃度差を
求める複数濃度差検出工程と、複数濃度差から最も０に
近い濃度差又は平均濃度差を特定濃度差として検出する
特定濃度差決定工程と、特定濃度差をパターン消去画像
における基準濃度に対して加えるパターン消去画像生成
工程とを有することを特徴とする繰り返しパターン消去
方法。 - 【請求項２】 被検査体を撮像する撮像素子と、被検査
体を撮像して得られた濃淡画像データを格納・処理して
パターン欠陥を検出する処理装置とを備え、処理装置
は、予め定めてある基準サイズ及びその整数倍のサイズ
で注目画素と複数比較画素との間の濃度差を求める複数
濃度差検出部と、複数濃度差から最も０に近い濃度差又
は平均濃度差を特定濃度差として検出する特定濃度差決
定部と、特定濃度差をパターン消去画像における基準濃
度に対して加えるパターン消去画像生成部と、欠陥検出
部とを有することを特徴とするパターン欠陥検査装置。
Priority Applications (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP21860699A JP3907874B2 (ja) | 1999-08-02 | 1999-08-02 | 欠陥検査方法 |
| US09/629,141 US6909798B1 (en) | 1999-08-02 | 2000-07-31 | Method of erasing repeated patterns and pattern defect inspection device |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP21860699A JP3907874B2 (ja) | 1999-08-02 | 1999-08-02 | 欠陥検査方法 |
Publications (3)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2001043378A true JP2001043378A (ja) | 2001-02-16 |
| JP2001043378A5 JP2001043378A5 (ja) | 2004-12-09 |
| JP3907874B2 JP3907874B2 (ja) | 2007-04-18 |
Family
ID=16722602
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP21860699A Expired - Lifetime JP3907874B2 (ja) | 1999-08-02 | 1999-08-02 | 欠陥検査方法 |
Country Status (2)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US6909798B1 (ja) |
| JP (1) | JP3907874B2 (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
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