JP2001039973A - ２−置換テトラヒドロチオフェン−３−オン誘導体の製造法 - Google Patents
２−置換テトラヒドロチオフェン−３−オン誘導体の製造法Info
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 農園芸用殺菌剤製造の重要中間体である２−
置換−３−チオファノン誘導体を簡便且つ安価に製造す
るルートを提供する。 【解決手段】 グリシジルエステル誘導体を原料として
用いる２−置換テトラヒドロチオフェン−３−オンの製
造ルートとその製造ルートで得られる中間体。
置換−３−チオファノン誘導体を簡便且つ安価に製造す
るルートを提供する。 【解決手段】 グリシジルエステル誘導体を原料として
用いる２−置換テトラヒドロチオフェン−３−オンの製
造ルートとその製造ルートで得られる中間体。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は農園芸用殺菌剤の合
成中間体として有用な２−置換テトラヒドロチオフェン
−３−オンの製造法に関する。
成中間体として有用な２−置換テトラヒドロチオフェン
−３−オンの製造法に関する。
【０００２】
【従来の技術】本発明者らは既にある種の３−チオフェ
ンアミン誘導体に各種作物の病原菌に対する強い防除活
性を見いだしている（特開平９−２３５２８２）。特開
平９−２３５２８２において、本発明に関わる２−置換
−３−アミノチオフェンの合成法として以下の反応スキ
ーム（１）（化２２）が例示されている。
ンアミン誘導体に各種作物の病原菌に対する強い防除活
性を見いだしている（特開平９−２３５２８２）。特開
平９−２３５２８２において、本発明に関わる２−置換
−３−アミノチオフェンの合成法として以下の反応スキ
ーム（１）（化２２）が例示されている。
【０００３】
【化２２】 しかしながらこれらの方法にはいずれも工業的なスケー
ルでの製造において更なる検討の余地がある。以下に各
方法における課題点を列挙する。
ルでの製造において更なる検討の余地がある。以下に各
方法における課題点を列挙する。
【０００４】（Ａ法）： 米国特許４３１７９１５、特
公昭４４−１２８９５に記載された方法であるが、米国
特許４３１７９１５ではＲとしては低級アルキル基と記
載がされており、更にテトラヒドロチオフェン−３−オ
ンの４位にアルコキシカルボニル基を有している。また
実施例と化合物の一覧のいずれにも本発明で扱っている
化合物は触れられていない。特公昭４４−１２８９５で
は２位の置換基は低級アルキル基と定義されており、実
施例はメチル基についてのみ記載があった。メチル基以
４外のアルキル基が入ったテトラヒドロチオフェン−３
−オン誘導体については物性、合成法いずれも記載がな
い。これらの２つの技術はいずれも、本発明者らが求め
る２−置換テトラヒドロチオフェン−３−オンの製造に
おいて原料供給の面から課題を残している。
公昭４４−１２８９５に記載された方法であるが、米国
特許４３１７９１５ではＲとしては低級アルキル基と記
載がされており、更にテトラヒドロチオフェン−３−オ
ンの４位にアルコキシカルボニル基を有している。また
実施例と化合物の一覧のいずれにも本発明で扱っている
化合物は触れられていない。特公昭４４−１２８９５で
は２位の置換基は低級アルキル基と定義されており、実
施例はメチル基についてのみ記載があった。メチル基以
４外のアルキル基が入ったテトラヒドロチオフェン−３
−オン誘導体については物性、合成法いずれも記載がな
い。これらの２つの技術はいずれも、本発明者らが求め
る２−置換テトラヒドロチオフェン−３−オンの製造に
おいて原料供給の面から課題を残している。
【０００５】（Ｂ法）〜（Ｄ法）：いずれも原料、もし
くは中間体を供給する課程でGrignard試薬などのアルキ
ル化剤を用いており、大量スケールの合成には反応操作
上、コスト上若干の困難が予想される。
くは中間体を供給する課程でGrignard試薬などのアルキ
ル化剤を用いており、大量スケールの合成には反応操作
上、コスト上若干の困難が予想される。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】上記課題点い鑑みて、
本発明の課題は２−置換−３−アミノチオフェンを工業
的スケールで供給するためにの原料となる２−置換−３
−チオファノン誘導体を簡便且つ安価に製造するルート
を提供することにある。
本発明の課題は２−置換−３−アミノチオフェンを工業
的スケールで供給するためにの原料となる２−置換−３
−チオファノン誘導体を簡便且つ安価に製造するルート
を提供することにある。
【０００７】
【課題を解決するための手段】本発明者らは上記課題を
解決するために種々の手法を検討した結果、グリシジル
エステル誘導体を原料として用いる２−置換テトラヒド
ロチオフェン−３−オンの製造ルートを見出し、本発明
を完成した。
解決するために種々の手法を検討した結果、グリシジル
エステル誘導体を原料として用いる２−置換テトラヒド
ロチオフェン−３−オンの製造ルートを見出し、本発明
を完成した。
【０００８】すなわち、本発明は以下のとおりである。 ［１］ 下記反応式Ａ（化２３）の経路で製造される２
−置換テトラヒドロチオフェン−３−オン誘導体（８）
の製造法。
−置換テトラヒドロチオフェン−３−オン誘導体（８）
の製造法。
【０００９】
【化２３】 （式中、Ｘは塩素原子、臭素原子もしくはメタンスルホ
ニルオキシ基を表す）［２］ 式（１）（化２４）で表
されるグリシジルエステル誘導体を異性化させて式
（２）（化２５）で表される３，４−不飽和−２−ヒド
ロキシエステル誘導体を得る製造法。
ニルオキシ基を表す）［２］ 式（１）（化２４）で表
されるグリシジルエステル誘導体を異性化させて式
（２）（化２５）で表される３，４−不飽和−２−ヒド
ロキシエステル誘導体を得る製造法。
【００１０】
【化２４】
【００１１】
【化２５】 ［３］ 式（２）（化２６）で表される３，４−不飽和
−２−ヒドロキシエステル誘導体を還元して式（３）
（化２７）で表される２−ヒドロキシエステル誘導体を
得る製造法。
−２−ヒドロキシエステル誘導体を還元して式（３）
（化２７）で表される２−ヒドロキシエステル誘導体を
得る製造法。
【００１２】
【化２６】
【００１３】
【化２７】 ［４］ 式（３）（化２８）で表される２−ヒドロキシ
エステル誘導体を変換して式（４）（化２９）（式中Ｘ
は塩素原子、臭素原子もしくはメタンスルホニルオキシ
基を表す）で表されるα−置換カルボン酸エステル誘導
体を得る製造法。
エステル誘導体を変換して式（４）（化２９）（式中Ｘ
は塩素原子、臭素原子もしくはメタンスルホニルオキシ
基を表す）で表されるα−置換カルボン酸エステル誘導
体を得る製造法。
【００１４】
【化２８】
【００１５】
【化２９】 ［５］ 式（４）（化３０）で表されるα-置換カルボ
ン酸エステル誘導体に式（５）（化３１）で表される３
−メルカプトプロピオン酸メチルとを反応させて式
（６）（化３２）で表されるチオエーテル誘導体を得る
製造法。
ン酸エステル誘導体に式（５）（化３１）で表される３
−メルカプトプロピオン酸メチルとを反応させて式
（６）（化３２）で表されるチオエーテル誘導体を得る
製造法。
【００１６】
【化３０】
【００１７】
【化３１】
【００１８】
【化３２】 ［６］ 式（６）（化３３）で表されるチオエーテル誘
導体を環化させて式（７）（化３４）で表される２−置
換テトラヒドロチオフェン−３−オン−４−エステル誘
導体を得る製造法。
導体を環化させて式（７）（化３４）で表される２−置
換テトラヒドロチオフェン−３−オン−４−エステル誘
導体を得る製造法。
【００１９】
【化３３】
【００２０】
【化３４】 ［７］ 式（７）（化３５）で表される２−置換テトラ
ヒドロチオフェン−３−オン−４−エステル誘導体を加
水分解、脱炭酸の後、式（８）（化３６）で表される２
−置換テトラヒドロチオフェン−３−オンを得る製造
法。
ヒドロチオフェン−３−オン−４−エステル誘導体を加
水分解、脱炭酸の後、式（８）（化３６）で表される２
−置換テトラヒドロチオフェン−３−オンを得る製造
法。
【００２１】
【化３５】
【００２２】
【化３６】 ［８］ 式（１）（化３７）で表されるグリシジルエス
テル誘導体。
テル誘導体。
【００２３】
【化３７】 ［９］ 式（２）（化３８）で表される３，４−不飽和
−２−ヒドロキシカルボン酸エステル誘導体。
−２−ヒドロキシカルボン酸エステル誘導体。
【００２４】
【化３８】 ［１０］ 式（３）（化３９）で表される２−ヒドロキ
シエステル誘導体。
シエステル誘導体。
【００２５】
【化３９】 ［１１］ 式（４）（化４０）
【００２６】
【化４０】 （式中Ｘは塩素原子、臭素原子もしくはメタンスルホニ
ルオキシ基を表す）で表されるα−置換カルボン酸エス
テル。 ［１２］ 式（６）（化４１）で表されるチオエーテル
誘導体。
ルオキシ基を表す）で表されるα−置換カルボン酸エス
テル。 ［１２］ 式（６）（化４１）で表されるチオエーテル
誘導体。
【００２７】
【化４１】 ［１３］ 式（７）（化４２）で表される２−置換テト
ラヒドロチオフェン−３−オン−４−エステル誘導体。
ラヒドロチオフェン−３−オン−４−エステル誘導体。
【００２８】
【化４２】 ［１４］ 式（８）（化４３）で表される２−置換テト
ラヒドロチオフェン−３−オン。
ラヒドロチオフェン−３−オン。
【００２９】
【化４３】
【００３０】
【発明の実施の形態】以下に本発明の製造法について詳
しく説明する。本発明の製造法は反応式（Ａ）（化４
４）に示された経路により行われる。
しく説明する。本発明の製造法は反応式（Ａ）（化４
４）に示された経路により行われる。
【００３１】
【化４４】 式（１）で表されるグリシジルエステルはクロロ酢酸エ
ステルと４‐メチル−２−ペンタノンとのDarzens反応
やメチルイソブチルケトンとリン酸誘導体の縮合の後、
エポキシ環を形成させることにより得られる。反応式
（Ｂ）（化４５）にその概要を示す。
ステルと４‐メチル−２−ペンタノンとのDarzens反応
やメチルイソブチルケトンとリン酸誘導体の縮合の後、
エポキシ環を形成させることにより得られる。反応式
（Ｂ）（化４５）にその概要を示す。
【００３２】
【化４５】
【００３３】更に本発明の各工程について詳しく説明す
る。第１工程の式（１）の化合物のオキシラン環の開裂
反応は反応に不活性な溶媒中適当な酸触媒を作用させて
進行させる。溶媒としてはベンゼン、トルエン、キシレ
ン等の炭化水素系溶媒、酢酸エチル等のエステル系溶
媒、ジエチルエーテル、ジオキサン等のエーテル系溶媒
を用いることができ、望ましくは炭化水素系溶媒さらに
望ましくはトルエンである。酸触媒としては塩化アルミ
ニウム、三臭化ホウ素、過塩素酸リチウム等のルイス
酸、流酸,塩酸のような鉱酸、メタンスルホン酸、p-ト
ルエンスルホン酸等の有機酸を用いることが出来、酸の
等量数としては基質のグリシジルエステルに対して０．
１から２倍モル、望ましくは０．２から０．８倍モル、
更に望ましくは０．４倍モルを使用する。反応温度は０
℃付近から溶媒の沸点まで用いることが出来、望ましく
は室温付近である。
る。第１工程の式（１）の化合物のオキシラン環の開裂
反応は反応に不活性な溶媒中適当な酸触媒を作用させて
進行させる。溶媒としてはベンゼン、トルエン、キシレ
ン等の炭化水素系溶媒、酢酸エチル等のエステル系溶
媒、ジエチルエーテル、ジオキサン等のエーテル系溶媒
を用いることができ、望ましくは炭化水素系溶媒さらに
望ましくはトルエンである。酸触媒としては塩化アルミ
ニウム、三臭化ホウ素、過塩素酸リチウム等のルイス
酸、流酸,塩酸のような鉱酸、メタンスルホン酸、p-ト
ルエンスルホン酸等の有機酸を用いることが出来、酸の
等量数としては基質のグリシジルエステルに対して０．
１から２倍モル、望ましくは０．２から０．８倍モル、
更に望ましくは０．４倍モルを使用する。反応温度は０
℃付近から溶媒の沸点まで用いることが出来、望ましく
は室温付近である。
【００３４】第２工程は触媒存在下に適当な溶媒中で水
素ガスを作用させて式（２）の化合物の二重結合を還元
するものであり、溶媒としてはベンゼン、トルエン、キ
シレン等の炭化水素系溶媒、酢酸エチル等のエステル系
溶媒、ジエチルエーテル、ジオキサン等のエーテル系溶
媒、メタノール,エタノール等のアルコール系溶媒を用
いることが出来、望ましくはメタノールである。水素ガ
スは常圧もしくは加圧条件下で反応させることが出来、
望ましくは１０〜２０気圧の加圧条件下である。反応温
度は室温から溶媒の沸点付近の範囲までを選択すること
が出来、望ましくは室温である。
素ガスを作用させて式（２）の化合物の二重結合を還元
するものであり、溶媒としてはベンゼン、トルエン、キ
シレン等の炭化水素系溶媒、酢酸エチル等のエステル系
溶媒、ジエチルエーテル、ジオキサン等のエーテル系溶
媒、メタノール,エタノール等のアルコール系溶媒を用
いることが出来、望ましくはメタノールである。水素ガ
スは常圧もしくは加圧条件下で反応させることが出来、
望ましくは１０〜２０気圧の加圧条件下である。反応温
度は室温から溶媒の沸点付近の範囲までを選択すること
が出来、望ましくは室温である。
【００３５】第３工程は式（３）であらわされる化合物
の２位水酸基を修飾して脱離基とするものであり、塩素
化剤でＸが塩素原子のものを、臭素化剤でＸが臭素のも
の、メタンスルホニルクロリドを作用させてＸがメタン
スルホニルオキシ基のものを得る。尚、塩素化剤として
は塩化チオニル、ホスゲン等が、臭素化剤としては三臭
化リン、臭化水素等が挙げられるが本発明はこれに限定
されるものではない。
の２位水酸基を修飾して脱離基とするものであり、塩素
化剤でＸが塩素原子のものを、臭素化剤でＸが臭素のも
の、メタンスルホニルクロリドを作用させてＸがメタン
スルホニルオキシ基のものを得る。尚、塩素化剤として
は塩化チオニル、ホスゲン等が、臭素化剤としては三臭
化リン、臭化水素等が挙げられるが本発明はこれに限定
されるものではない。
【００３６】第４工程は適当な溶媒中、塩基の存在下３
−メルカプトプロピオン酸メチルと式（４）で表される
化合物の縮合反応である。溶媒としてはベンゼン、トル
エン、キシレン等の炭化水素系溶媒、酢酸エチル等のエ
ステル系溶媒、ジエチルエーテル、ジオキサン等のエー
テル系溶媒、メタノール,エタノール等のアルコール系
溶媒、ＤＭＦ等の極性溶媒を用いることが出来、塩基と
しては水素化ナトリウム、ナトリウムメトキシド等の強
塩基、ピリジン、トリエチルアミン等の有機塩基、炭酸
カリウム、炭酸ナトリウム等の無機塩基を用いることが
出来,望ましくは塩基は炭酸カリウム,溶媒はトルエンも
しくはメタノールである。反応温度は−３０℃付近から
溶媒の沸点までを用いることができ、望ましくは０℃付
近である。
−メルカプトプロピオン酸メチルと式（４）で表される
化合物の縮合反応である。溶媒としてはベンゼン、トル
エン、キシレン等の炭化水素系溶媒、酢酸エチル等のエ
ステル系溶媒、ジエチルエーテル、ジオキサン等のエー
テル系溶媒、メタノール,エタノール等のアルコール系
溶媒、ＤＭＦ等の極性溶媒を用いることが出来、塩基と
しては水素化ナトリウム、ナトリウムメトキシド等の強
塩基、ピリジン、トリエチルアミン等の有機塩基、炭酸
カリウム、炭酸ナトリウム等の無機塩基を用いることが
出来,望ましくは塩基は炭酸カリウム,溶媒はトルエンも
しくはメタノールである。反応温度は−３０℃付近から
溶媒の沸点までを用いることができ、望ましくは０℃付
近である。
【００３７】第５工程は式（６）の化合物のDieckmann
縮合であり、適当な溶媒中塩基を作用させて環化させ、
式（７）の化合物を得る。溶媒としてはベンゼン、トル
エン、キシレン等の炭化水素系溶媒、酢酸エチル等のエ
ステル系溶媒、ジエチルエーテル、ジオキサン等のエー
テル系溶媒、メタノール,エタノール等のアルコール系
溶媒、ＤＭＦ等の極性溶媒を用いることが出来、用いる
塩基としては水素化ナトリウム、ナトリウムメトキシド
等の強塩基、ピリジン、トリエチルアミン等の有機塩
基、炭酸カリウム、炭酸ナトリウム等の無機塩基を用い
ることが出来る。望ましくは塩基はナトリウムメトキシ
ド、溶媒はトルエン等の炭化水素を用いる。
縮合であり、適当な溶媒中塩基を作用させて環化させ、
式（７）の化合物を得る。溶媒としてはベンゼン、トル
エン、キシレン等の炭化水素系溶媒、酢酸エチル等のエ
ステル系溶媒、ジエチルエーテル、ジオキサン等のエー
テル系溶媒、メタノール,エタノール等のアルコール系
溶媒、ＤＭＦ等の極性溶媒を用いることが出来、用いる
塩基としては水素化ナトリウム、ナトリウムメトキシド
等の強塩基、ピリジン、トリエチルアミン等の有機塩
基、炭酸カリウム、炭酸ナトリウム等の無機塩基を用い
ることが出来る。望ましくは塩基はナトリウムメトキシ
ド、溶媒はトルエン等の炭化水素を用いる。
【００３８】第６工程は酸存在下、式（７）の化合物の
エステル部の加水分解、脱炭酸により目的物式（８）の
化合物を得るもので酸としては塩酸、硫酸等の鉱酸、ｐ
−トルエンスルホン酸等の有機酸を用いることができ、
溶媒としてはベンゼン、トルエン、キシレン等の炭化水
素系溶媒、酢酸エチル等のエステル系溶媒、ジエチルエ
ーテル、ジオキサン等のエーテル系溶媒、メタノール、
エタノール等のアルコール系溶媒、ＤＭＦ等の極性溶媒
を用いることが出来る。反応は室温付近から溶媒の沸点
付近の温度で進行し、望ましくは溶媒をトルエン、酸に
硫酸を用いて沸点近くの温度で反応させる。
エステル部の加水分解、脱炭酸により目的物式（８）の
化合物を得るもので酸としては塩酸、硫酸等の鉱酸、ｐ
−トルエンスルホン酸等の有機酸を用いることができ、
溶媒としてはベンゼン、トルエン、キシレン等の炭化水
素系溶媒、酢酸エチル等のエステル系溶媒、ジエチルエ
ーテル、ジオキサン等のエーテル系溶媒、メタノール、
エタノール等のアルコール系溶媒、ＤＭＦ等の極性溶媒
を用いることが出来る。反応は室温付近から溶媒の沸点
付近の温度で進行し、望ましくは溶媒をトルエン、酸に
硫酸を用いて沸点近くの温度で反応させる。
【００３９】
【実施例】以下、実施例を挙げて本発明の製造法とその
中で扱っている化合物を説明する。 実施例１ ２−ヒドロキシ−３，５−ジメチル−３−ヘ
キセン酸メチルの合成 ３−イソブチル−３−メチルオキシランカルボン酸メチ
ル２４０ｇ（１．１５ｍｏｌ）と過塩素酸リチウム２
２．２ｇ（２０９ｍｍｏｌ）にトルエン５００ｍｌを加
え、８０℃で８時間加熱撹拌下反応させた。室温まで冷
却し、反応混合物に水を加え、有機層を分液した。溶媒
を減圧下に留去し減圧下に蒸留して目的物を無色液体と
して１４９ｇ（収率７１％）を得た。 b.p.100-102℃/12mmHg NMR(CDCl3 δppm):二重結合に関するE-Z混合物でmajor
体とminor体の比は約10対1 Major:0.95-1.01(6h,m) 1.59(3H,d J=1.5Hz) 2.54(1H,
m) 3.15(1H,bs) 3.79(3H,s) 4.48(1H,s) 5.36(1H,d J=
9.5Hz) Minor:0.87-0.93(6H,m) 1.59(3H,d J=1.5Hz) 2.54(1H,
m) 3.15(1H,bs) 3.86(3H,s) 4.48(1H,s) 5.05(1H,d J=1
6Hz)
中で扱っている化合物を説明する。 実施例１ ２−ヒドロキシ−３，５−ジメチル−３−ヘ
キセン酸メチルの合成 ３−イソブチル−３−メチルオキシランカルボン酸メチ
ル２４０ｇ（１．１５ｍｏｌ）と過塩素酸リチウム２
２．２ｇ（２０９ｍｍｏｌ）にトルエン５００ｍｌを加
え、８０℃で８時間加熱撹拌下反応させた。室温まで冷
却し、反応混合物に水を加え、有機層を分液した。溶媒
を減圧下に留去し減圧下に蒸留して目的物を無色液体と
して１４９ｇ（収率７１％）を得た。 b.p.100-102℃/12mmHg NMR(CDCl3 δppm):二重結合に関するE-Z混合物でmajor
体とminor体の比は約10対1 Major:0.95-1.01(6h,m) 1.59(3H,d J=1.5Hz) 2.54(1H,
m) 3.15(1H,bs) 3.79(3H,s) 4.48(1H,s) 5.36(1H,d J=
9.5Hz) Minor:0.87-0.93(6H,m) 1.59(3H,d J=1.5Hz) 2.54(1H,
m) 3.15(1H,bs) 3.86(3H,s) 4.48(1H,s) 5.05(1H,d J=1
6Hz)
【００４０】実施例２ ２−ヒドロキシ−３，５−ジメ
チルヘキサン酸メチルの合成 実施例１で合成した２−ヒドロキシ−３，５−ジメチル
−３−ヘキセン酸メチル２０ｇ（４１ｍｍｏｌ）をメタ
ノール８０ｍｌに溶解し、５％Ｐｄ−炭素１ｇを加えて
オートクレーブ中水素ガスを２０ｋｇｆ／ｃｍ2、反応
温度50℃で2時間反応させた。触媒を濾去し、溶媒を減
圧下に留去し目的物を無色液体として２０ｇ（定量的）
得た。 NMR(CDCl3 δppm):0.78-0.99(9H,m) 1.18(1H,m) 1.26(1
H,m) 1.66(1H,m) 2.02(1H,m) 2.77(1H,m) 3.80(3H,s)
4.14(1H,m)
チルヘキサン酸メチルの合成 実施例１で合成した２−ヒドロキシ−３，５−ジメチル
−３−ヘキセン酸メチル２０ｇ（４１ｍｍｏｌ）をメタ
ノール８０ｍｌに溶解し、５％Ｐｄ−炭素１ｇを加えて
オートクレーブ中水素ガスを２０ｋｇｆ／ｃｍ2、反応
温度50℃で2時間反応させた。触媒を濾去し、溶媒を減
圧下に留去し目的物を無色液体として２０ｇ（定量的）
得た。 NMR(CDCl3 δppm):0.78-0.99(9H,m) 1.18(1H,m) 1.26(1
H,m) 1.66(1H,m) 2.02(1H,m) 2.77(1H,m) 3.80(3H,s)
4.14(1H,m)
【００４１】実施例３ ２−メタンスルホニルオキシ−
３，５−ジメチルヘキサン酸メチルの合成 実施例２で得られた２−ヒドロキシ−３，５−ジメチル
ヘキサン酸メチル９９．３ｇ（０．５７ｍｏｌ）をトル
エン５００ｍｌに溶解し、室温撹拌下にトリエチルアミ
ン６４．４ｇ（０．６３ｍｏｌ）を加えた。氷で冷却
し、内温を２０℃以下に保ちながらメタンスルホニルク
ロリド７２．２ｇ（０．６３ｍｏｌ）を滴下した。徐々
に室温に戻しながら5時間撹拌の後、反応混合物を水中
に注ぎ込み、有機層を水洗し、分液した。有機層を硫酸
マグネシウムで乾燥し、溶媒を減圧下に留去して目的物
を無色液体として１４０ｇ（収率９８％）得た。 NMR(CDCl3 δppm):ジアステレオマー混合物でその比は
約2対1 Major 0.83-0.97(9H,m) 1.21(1H,m) 1.65-1.75(2H,m)
2.23(1H,m) 3.16(3H,s) 4.23(3H,s) 4.96(1H,d J=2.94) Minor 0.83-0.97(9H,m) 1.21(1H,m) 1.65-1.75(2H,m)
2.23(1H,m) 3.15(3H,s) 4.23(3H,s) 4.93(1H,d J=3.7H
z)
３，５−ジメチルヘキサン酸メチルの合成 実施例２で得られた２−ヒドロキシ−３，５−ジメチル
ヘキサン酸メチル９９．３ｇ（０．５７ｍｏｌ）をトル
エン５００ｍｌに溶解し、室温撹拌下にトリエチルアミ
ン６４．４ｇ（０．６３ｍｏｌ）を加えた。氷で冷却
し、内温を２０℃以下に保ちながらメタンスルホニルク
ロリド７２．２ｇ（０．６３ｍｏｌ）を滴下した。徐々
に室温に戻しながら5時間撹拌の後、反応混合物を水中
に注ぎ込み、有機層を水洗し、分液した。有機層を硫酸
マグネシウムで乾燥し、溶媒を減圧下に留去して目的物
を無色液体として１４０ｇ（収率９８％）得た。 NMR(CDCl3 δppm):ジアステレオマー混合物でその比は
約2対1 Major 0.83-0.97(9H,m) 1.21(1H,m) 1.65-1.75(2H,m)
2.23(1H,m) 3.16(3H,s) 4.23(3H,s) 4.96(1H,d J=2.94) Minor 0.83-0.97(9H,m) 1.21(1H,m) 1.65-1.75(2H,m)
2.23(1H,m) 3.15(3H,s) 4.23(3H,s) 4.93(1H,d J=3.7H
z)
【００４２】実施例３と同じ基質を用いて水酸基を塩素
もしくは臭素に変換した。以下にその物性を記す。 ２−ブロム−３，５−ジメチルヘキサン酸メチル NMR(CDCl3 δppm):ジアステレオマー混合物でその比は
約２対１ Major 0.89(6H,m) 1.00(3H,d J=6.6Hz) 1.09-1.19(2H,
m) 1.65(1H,m) 2.12(1H,m)3.78(3H,s) 4.12(1H,d J=6.6
Hz) Minor 0.89(6H,m) 1.03(3H,d J=6.6Hz) 1.09-1.19(2H,
m) 1.65(1H,m) 2.12(1H,m)3.78(3H,s) 4.19(1H,d J=7.3
Hz)
もしくは臭素に変換した。以下にその物性を記す。 ２−ブロム−３，５−ジメチルヘキサン酸メチル NMR(CDCl3 δppm):ジアステレオマー混合物でその比は
約２対１ Major 0.89(6H,m) 1.00(3H,d J=6.6Hz) 1.09-1.19(2H,
m) 1.65(1H,m) 2.12(1H,m)3.78(3H,s) 4.12(1H,d J=6.6
Hz) Minor 0.89(6H,m) 1.03(3H,d J=6.6Hz) 1.09-1.19(2H,
m) 1.65(1H,m) 2.12(1H,m)3.78(3H,s) 4.19(1H,d J=7.3
Hz)
【００４３】２−クロロ−３，５−ジメチルヘキサン酸
メチル NMR(CDCl3 δppm):0.81-1.02(9H,m) 1.22(11H,m) 1.64
(1H,m) 2.22(1H,m) 4.15(1H,m) 4.23(3H,s) （約２対１のジアステレオマー混合物でMin
or体はδ4.25(3H,s)のシグナルを与える）
メチル NMR(CDCl3 δppm):0.81-1.02(9H,m) 1.22(11H,m) 1.64
(1H,m) 2.22(1H,m) 4.15(1H,m) 4.23(3H,s) （約２対１のジアステレオマー混合物でMin
or体はδ4.25(3H,s)のシグナルを与える）
【００４４】実施例４ ２−（２−メトキシカルボニル
エチルチオ）−３，５−ジメチルヘキサン酸メチルの合
成 実施例３で得られた２−メタンスルホニルオキシ−３，
５−ジメチルヘキサン酸メチル１４１ｇ（０．５６ｍｏ
ｌ）、炭酸カリウム１０９ｇ（０．７９ｍｏｌ）、テト
ラブチルアンモニウムブロミド１８ｇ（２８ｍｍｏｌ）
にトルエン６００ｍｌを加え、窒素雰囲気下水５ｍｌを
加えた。室温撹拌下に３−メルカプトプロピオン酸メチ
ル７７．１ｇ（０．６３ｍｏｌ）を滴下し、３０℃で２
２時間加熱撹拌した。反応混合物を水中に注ぎ込み、有
機層を水洗し、分液した。有機層を硫酸マグネシウムで
乾燥し、溶媒を減圧下に留去して目的物を無色液体とし
て１２６ｇ（収率８１％）得た。 NMR(CDCl3 δppm):0.83-0.93(6h,m) 0.99(3H,m) 1.11-
1.29(2H,m) 1.53-1.72(1H,m) 1.94-2.07(1H,m) 2.57-2.
64(2H,m) 2.81-2.87(2H,m) 3.09(1H,d J=8.8Hz) 3.70(3
H,s) 3.75(3H,s)
エチルチオ）−３，５−ジメチルヘキサン酸メチルの合
成 実施例３で得られた２−メタンスルホニルオキシ−３，
５−ジメチルヘキサン酸メチル１４１ｇ（０．５６ｍｏ
ｌ）、炭酸カリウム１０９ｇ（０．７９ｍｏｌ）、テト
ラブチルアンモニウムブロミド１８ｇ（２８ｍｍｏｌ）
にトルエン６００ｍｌを加え、窒素雰囲気下水５ｍｌを
加えた。室温撹拌下に３−メルカプトプロピオン酸メチ
ル７７．１ｇ（０．６３ｍｏｌ）を滴下し、３０℃で２
２時間加熱撹拌した。反応混合物を水中に注ぎ込み、有
機層を水洗し、分液した。有機層を硫酸マグネシウムで
乾燥し、溶媒を減圧下に留去して目的物を無色液体とし
て１２６ｇ（収率８１％）得た。 NMR(CDCl3 δppm):0.83-0.93(6h,m) 0.99(3H,m) 1.11-
1.29(2H,m) 1.53-1.72(1H,m) 1.94-2.07(1H,m) 2.57-2.
64(2H,m) 2.81-2.87(2H,m) 3.09(1H,d J=8.8Hz) 3.70(3
H,s) 3.75(3H,s)
【００４５】実施例５ ４−メトキシカルボニル−２−
（１，３−ジメチルブチル）テトラヒドロチオフェン−
３−オンの合成 実施例４で得られた２−（２−メトキシカルボニルエチ
ルチオ）−３，５−ジメチルヘキサン酸メチル１２１ｇ
（０．４４ｍｏｌ）をトルエン５００ｍｌに溶解し、ナ
トリウムメトキシド３６．３ｇ（０．６６ｍｏｌ）を少
しずつ加えた。室温で2時間撹拌後、反応混合物を水中
に注ぎ込み、有機層を水洗し、分液した。有機層を硫酸
マグネシウムで乾燥し、溶媒を減圧下に留去し、シリカ
ゲルカラムクロマトグラフィー(溶出溶媒：ヘキサン/酢
酸エチル＝４／１(v/v)）で精製し、目的物を８６．５
ｇ（収率８１％）得た。 NMR(CDCl3 δppm):0.82-1.67(12H,m) 2.28(1H,m) 3.25
(1H,m) 3.74(1H,m) 3.80(3H,m) 4.30(1H,m)
（１，３−ジメチルブチル）テトラヒドロチオフェン−
３−オンの合成 実施例４で得られた２−（２−メトキシカルボニルエチ
ルチオ）−３，５−ジメチルヘキサン酸メチル１２１ｇ
（０．４４ｍｏｌ）をトルエン５００ｍｌに溶解し、ナ
トリウムメトキシド３６．３ｇ（０．６６ｍｏｌ）を少
しずつ加えた。室温で2時間撹拌後、反応混合物を水中
に注ぎ込み、有機層を水洗し、分液した。有機層を硫酸
マグネシウムで乾燥し、溶媒を減圧下に留去し、シリカ
ゲルカラムクロマトグラフィー(溶出溶媒：ヘキサン/酢
酸エチル＝４／１(v/v)）で精製し、目的物を８６．５
ｇ（収率８１％）得た。 NMR(CDCl3 δppm):0.82-1.67(12H,m) 2.28(1H,m) 3.25
(1H,m) 3.74(1H,m) 3.80(3H,m) 4.30(1H,m)
【００４６】実施例６ ２−（１，３−ジメチルブチ
ル）テトラヒドロチオフェン−３−オンの合成 実施例５で得られた４−メトキシカルボニル−２−
（１，３−ジメチルブチル）テトラヒドロチオフェン−
３−オン９０ｇ（０．３７ｍｏｌ）をトルエン５００ｍ
ｌに溶解し、農硫酸５２３ｇ（１．６ｍｏｌ）を加え、
１００℃で１２時間加熱撹拌した。室温まで放冷し、二
層に分離してきた上層を分液した。下層をトルエンで抽
出し、先の上層と併せて飽和食塩水で洗浄し、硫酸マグ
ネシウムで乾燥した。溶媒を減圧下に留去して減圧下に
蒸留し目的物を無色液体として５６０ｇ(収率８２％)得
た。 b.p.:89-93℃/1.5mmHg NMR(CDCl3 δppm):0.83-1.07(9H,m) 1.16(1H,m) 1.21-
1.35(2H,m) 1.63(1H,m) 2.58-2.70(2H,m) 2.90-2.95(2
H,m) 3.48(1H,d J=3.7Hz)* (*環構造に由来する異性体のシグナルがδ3.39(1H,d J=
4.4Hz)に見られる） 実施例１で用いた式（１）の化合物の合成例を参考とし
て以下に示す。
ル）テトラヒドロチオフェン−３−オンの合成 実施例５で得られた４−メトキシカルボニル−２−
（１，３−ジメチルブチル）テトラヒドロチオフェン−
３−オン９０ｇ（０．３７ｍｏｌ）をトルエン５００ｍ
ｌに溶解し、農硫酸５２３ｇ（１．６ｍｏｌ）を加え、
１００℃で１２時間加熱撹拌した。室温まで放冷し、二
層に分離してきた上層を分液した。下層をトルエンで抽
出し、先の上層と併せて飽和食塩水で洗浄し、硫酸マグ
ネシウムで乾燥した。溶媒を減圧下に留去して減圧下に
蒸留し目的物を無色液体として５６０ｇ(収率８２％)得
た。 b.p.:89-93℃/1.5mmHg NMR(CDCl3 δppm):0.83-1.07(9H,m) 1.16(1H,m) 1.21-
1.35(2H,m) 1.63(1H,m) 2.58-2.70(2H,m) 2.90-2.95(2
H,m) 3.48(1H,d J=3.7Hz)* (*環構造に由来する異性体のシグナルがδ3.39(1H,d J=
4.4Hz)に見られる） 実施例１で用いた式（１）の化合物の合成例を参考とし
て以下に示す。
【００４７】参考例１ クロロ酢酸メチル１６ｇ（０．１５ｍｏｌ）とメチルイ
ソブチルケトン１４．８ｇ（０．１４ｍｏｌ）を窒素気
流中氷冷撹拌下にカリウムｔｅｒｔ−ブトキシド１７．
２ｇ（０．１５ｍｏ）をｔｅｒｔ−ブタノール１２０ｍ
ｌに溶解した溶液を内温を１５℃以下に保ちながら滴下
していった。滴下終了後更に氷冷下に２時間撹拌した。
反応容器から大部分の溶媒を減圧下に留去し、１００℃
に加熱した。放冷後油状残渣にジエチルエーテルを加
え、水洗した。有機層を硫酸マグネシウムで乾燥したの
ち、溶媒を減圧下に留去し減圧下に蒸留して目的物を無
色液体として１４．２ｇ（収率５６％）得た。 b.p.:102-110℃/20mmHg NMR(CDCl3 δppm):オキシラン環に関するtrans-cis混合
物でMajor体とMinor体の比は約５対１。 Major:0.94-0.98(6H,m) 1.29(1H,m) 1.31(3H,s) 1.57-
1.69(2H,m) 3.31(1H,s) 3.81(3H,s) Minor:0.83(6H,dd J=6.6Hz) 1.29(1H,m) 1.40(3H,s) 1.
57-1.69(2H,m) 3.33(1H,s) 3.78(3H,s)
ソブチルケトン１４．８ｇ（０．１４ｍｏｌ）を窒素気
流中氷冷撹拌下にカリウムｔｅｒｔ−ブトキシド１７．
２ｇ（０．１５ｍｏ）をｔｅｒｔ−ブタノール１２０ｍ
ｌに溶解した溶液を内温を１５℃以下に保ちながら滴下
していった。滴下終了後更に氷冷下に２時間撹拌した。
反応容器から大部分の溶媒を減圧下に留去し、１００℃
に加熱した。放冷後油状残渣にジエチルエーテルを加
え、水洗した。有機層を硫酸マグネシウムで乾燥したの
ち、溶媒を減圧下に留去し減圧下に蒸留して目的物を無
色液体として１４．２ｇ（収率５６％）得た。 b.p.:102-110℃/20mmHg NMR(CDCl3 δppm):オキシラン環に関するtrans-cis混合
物でMajor体とMinor体の比は約５対１。 Major:0.94-0.98(6H,m) 1.29(1H,m) 1.31(3H,s) 1.57-
1.69(2H,m) 3.31(1H,s) 3.81(3H,s) Minor:0.83(6H,dd J=6.6Hz) 1.29(1H,m) 1.40(3H,s) 1.
57-1.69(2H,m) 3.33(1H,s) 3.78(3H,s)
【００４８】本発明で得られた２−置換テトラヒドロチ
オフェン−３−オンを特開平９−２３５２８２に関わる
チオフェンアミン誘導体へ導く反応例を以下に例示す
る。 参考例２ ３−ケト−２−（１，３−ジメチルブチル）
テトラヒドロチオフェンオキシムの合成 実施例６で得られた２−（１，３−ジメチルブチル）テ
トラヒドロチオフェン−３−オン４０．０ｇ（０．２２
ｍｏｌ）と塩酸ヒドロキシルアミン２０ｇ（０．２９ｍ
ｏｌ）をエタノール２５０ｍｌに溶解し、水酸化バリウ
ム８水和物７０ｇ（０．２２ｍｏｌ）を加えて４時間加
熱還流した。冷却、ろ過後溶媒を減圧下に留去し、残渣
にエチルエーテルを加え、水洗し、有機層を硫酸マグネ
シウムで乾燥した。溶媒を減圧下に留去し目的物を38.5
g(収率89.1%)得た。 NMR(CDCl3 δppm):0.81-0.98(9H,m) 1.11-1.30(2H,m)
1.63(1H,m) 2.00-2.62(1H,m) 2.73-3.09(4H,m) 3,77-4.
44(1H,m) 9,99(1H,bs)
オフェン−３−オンを特開平９−２３５２８２に関わる
チオフェンアミン誘導体へ導く反応例を以下に例示す
る。 参考例２ ３−ケト−２−（１，３−ジメチルブチル）
テトラヒドロチオフェンオキシムの合成 実施例６で得られた２−（１，３−ジメチルブチル）テ
トラヒドロチオフェン−３−オン４０．０ｇ（０．２２
ｍｏｌ）と塩酸ヒドロキシルアミン２０ｇ（０．２９ｍ
ｏｌ）をエタノール２５０ｍｌに溶解し、水酸化バリウ
ム８水和物７０ｇ（０．２２ｍｏｌ）を加えて４時間加
熱還流した。冷却、ろ過後溶媒を減圧下に留去し、残渣
にエチルエーテルを加え、水洗し、有機層を硫酸マグネ
シウムで乾燥した。溶媒を減圧下に留去し目的物を38.5
g(収率89.1%)得た。 NMR(CDCl3 δppm):0.81-0.98(9H,m) 1.11-1.30(2H,m)
1.63(1H,m) 2.00-2.62(1H,m) 2.73-3.09(4H,m) 3,77-4.
44(1H,m) 9,99(1H,bs)
【００４９】参考例３ ３−アミノ−２−(１,３−ジメ
チルブチル）チオフェンの合成 参考例２で得られた３−ケト−２−（１，３−ジメチル
ブチル）テトラヒドロチオフェンオキシム３８．５ｇ
（０．１９ｍｏｌ）をジエチルエーテル２５０ｍｌに溶
解し、６．５Ｎ塩化水素のメタノール溶液５０ｍｌを加
え、室温でＲ３．５時間撹拌し、その後室温で１２時間
放置した。飽和炭酸水素ナトリウム水溶液で中和後、ジ
エチルエーテルで抽出し飽和食塩水で洗浄した。硫酸マ
グネシウムで乾燥後、溶媒を減圧下に留去し、減圧蒸留
することにより目的物を無色液体として28.8g(82.0%)得
た。 NMR(CDCl3 δppm):0.89(3H,d J=6.6Hz) 090(3H,d J=6.6
Hz) 2.23(3H,d J=6.6Hz)1.35-1.65(3H,m) 2.95(1H,sext
J=6.6) 3.35(2H,bs) 6.55(1H,d J=5.1Hz) 6.95(1H,,d
J=5.1Hz)
チルブチル）チオフェンの合成 参考例２で得られた３−ケト−２−（１，３−ジメチル
ブチル）テトラヒドロチオフェンオキシム３８．５ｇ
（０．１９ｍｏｌ）をジエチルエーテル２５０ｍｌに溶
解し、６．５Ｎ塩化水素のメタノール溶液５０ｍｌを加
え、室温でＲ３．５時間撹拌し、その後室温で１２時間
放置した。飽和炭酸水素ナトリウム水溶液で中和後、ジ
エチルエーテルで抽出し飽和食塩水で洗浄した。硫酸マ
グネシウムで乾燥後、溶媒を減圧下に留去し、減圧蒸留
することにより目的物を無色液体として28.8g(82.0%)得
た。 NMR(CDCl3 δppm):0.89(3H,d J=6.6Hz) 090(3H,d J=6.6
Hz) 2.23(3H,d J=6.6Hz)1.35-1.65(3H,m) 2.95(1H,sext
J=6.6) 3.35(2H,bs) 6.55(1H,d J=5.1Hz) 6.95(1H,,d
J=5.1Hz)
【００５０】
【発明の効果】本発明で示された製造法で得られる２−
置換−３−ケトテトラヒドロチオフェンは農園芸用殺菌
剤製造の重要中間体である。
置換−３−ケトテトラヒドロチオフェンは農園芸用殺菌
剤製造の重要中間体である。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 ＦＩ テーマコート゛(参考） Ｃ０７Ｃ 319/14 Ｃ０７Ｃ 319/14 323/52 323/52 Ｃ０７Ｄ 303/12 Ｃ０７Ｄ 303/12 Ｆターム(参考） 4C023 FA07 4C048 AA01 BB31 CC01 UU03 XX02 4H006 AA01 AA02 AB84 AC11 AC30 AC41 AC63 BD70 BE20 BM10 BM72 BM73 BN10 KA31
Claims (14)
- 【請求項１】 下記反応式Ａ（化１）の経路により製造
される２−置換テトラヒドロチオフェン−３−オン誘導
体（８）の製造法。 【化１】 （式中、Ｘは塩素原子、臭素原子もしくはメタンスルホ
ニルオキシ基を表す） - 【請求項２】 式（１）（化２）で表されるグリシジル
エステル誘導体を異性化させて式（２）（化３）で表さ
れる３，４−不飽和−２−ヒドロキシエステル誘導体を
得る製造法。 【化２】 【化３】 - 【請求項３】 式（２）（化４）で表される３，４−不
飽和−２−ヒドロキシエステル誘導体を還元して式
（３）（化５）で表される２−ヒドロキシエステル誘導
体を得る製造法。 【化４】 【化５】 - 【請求項４】 式（３）（化６）で表される２−ヒドロ
キシエステル誘導体を変換して式（４）（化７）（式中
Ｘは塩素原子、臭素原子もしくはメタンスルホニルオキ
シ基を表す）で表されるα−置換カルボン酸エステル誘
導体を得る製造法。 【化６】 【化７】 - 【請求項５】 式（４）（化８）で表されるα-置換カ
ルボン酸エステル誘導体に式（５）（化９）で表される
３−メルカプトプロピオン酸メチルとを反応させて式
（６）（化１０）で表されるチオエーテル誘導体を得る
製造法。 【化８】 【化９】 【化１０】 - 【請求項６】 式（６）（化１１）で表されるチオエー
テル誘導体を環化させて式（７）（化１２）で表される
２−置換テトラヒドロチオフェン−３−オン−４−エス
テル誘導体を得る製造法。 【化１１】 【化１２】 - 【請求項７】 式（７）（化１３）で表される２−置換
テトラヒドロチオフェン−３−オン−４−エステル誘導
体を加水分解、脱炭酸の後、式（８）（化１４）で表さ
れる２−置換テトラヒドロチオフェン−３−オンを得る
製造法。 【化１３】 【化１４】 - 【請求項８】 式（１）（化１５）で表されるグリシジ
ルエステル誘導体。 【化１５】 - 【請求項９】 式（２）（化１６）で表される３，４−
不飽和−２−ヒドロキシカルボン酸エステル誘導体。 【化１６】 - 【請求項１０】 式（３）（化１７）で表される２−ヒ
ドロキシエステル誘導体。 【化１７】 - 【請求項１１】 式（４）（化１８） 【化１８】 （式中Ｘは塩素原子、臭素原子もしくはメタンスルホニ
ルオキシ基を表す）で表されるα−置換カルボン酸エス
テル。 - 【請求項１２】 式（６）（化１９）で表されるチオエ
ーテル誘導体。 【化１９】 - 【請求項１３】 式（７）（化２０）で表される２−置
換テトラヒドロチオフェン−３−オン−４−エステル誘
導体。 【化２０】 - 【請求項１４】 式（８）（化２１）で表される２−置
換テトラヒドロチオフェン−３−オン。 【化２１】
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP21355799A JP4198278B2 (ja) | 1999-07-28 | 1999-07-28 | ２−置換テトラヒドロチオフェン−３−オン誘導体の製造法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP21355799A JP4198278B2 (ja) | 1999-07-28 | 1999-07-28 | ２−置換テトラヒドロチオフェン−３−オン誘導体の製造法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2001039973A true JP2001039973A (ja) | 2001-02-13 |
| JP4198278B2 JP4198278B2 (ja) | 2008-12-17 |
Family
ID=16641191
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP21355799A Expired - Lifetime JP4198278B2 (ja) | 1999-07-28 | 1999-07-28 | ２−置換テトラヒドロチオフェン−３−オン誘導体の製造法 |
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| JP (1) | JP4198278B2 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2011219398A (ja) * | 2010-04-07 | 2011-11-04 | Mitsui Chemicals Agro Inc | 分岐脂肪族アルデヒドの製造方法 |
-
1999
- 1999-07-28 JP JP21355799A patent/JP4198278B2/ja not_active Expired - Lifetime
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2011219398A (ja) * | 2010-04-07 | 2011-11-04 | Mitsui Chemicals Agro Inc | 分岐脂肪族アルデヒドの製造方法 |
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| Publication number | Publication date |
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| JP4198278B2 (ja) | 2008-12-17 |
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