JP2001039046A - 無機顔料対硬膜剤の低い比率を有する無処理印刷版 - Google Patents
無機顔料対硬膜剤の低い比率を有する無処理印刷版Info
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 感度が高く、特に高いランレングスに関して
平版印刷品質が高いヒートモード記録材料のための材料
を提供すること。 【解決手段】 本発明に従えば、支持体上にＩＲ−感受
性親油性層ならびに無機顔料及び硬膜剤を含んでなる架
橋された親水性層を示した順序で含んでなり、該無機顔
料対硬膜剤の比率が７５／２５〜２５／７５（重量によ
る）を含んでなることを特徴とする平版印刷版の作製の
ための感熱材料が提供される。
平版印刷品質が高いヒートモード記録材料のための材料
を提供すること。 【解決手段】 本発明に従えば、支持体上にＩＲ−感受
性親油性層ならびに無機顔料及び硬膜剤を含んでなる架
橋された親水性層を示した順序で含んでなり、該無機顔
料対硬膜剤の比率が７５／２５〜２５／７５（重量によ
る）を含んでなることを特徴とする平版印刷版の作製の
ための感熱材料が提供される。
Description
【０００１】
【発明の分野】本発明は平版印刷において用いるための
平版印刷版の作製のためのヒートモード記録材料に関す
る。本発明はさらに、例えばレーザーを用いて該ヒート
モード記録材料を画像形成するための方法に関する。
平版印刷版の作製のためのヒートモード記録材料に関す
る。本発明はさらに、例えばレーザーを用いて該ヒート
モード記録材料を画像形成するための方法に関する。
【０００２】
【背景】平版印刷は、そのいくらかの領域がインキを受
容できるが（親油性領域）、他の領域がインキを受容し
ない（親水性領域）特別に作られた表面からの印刷の方
法である。いわゆる通常の、又は湿式印刷版に従うと、
水又は湿し液及びインキの両方を親水性及び親油性領域
を含有する版表面に適用する。親水性領域は水又は湿し
液に浸されてそれにより疎油性となるが、親油性領域は
インキを受容するであろう。
容できるが（親油性領域）、他の領域がインキを受容し
ない（親水性領域）特別に作られた表面からの印刷の方
法である。いわゆる通常の、又は湿式印刷版に従うと、
水又は湿し液及びインキの両方を親水性及び親油性領域
を含有する版表面に適用する。親水性領域は水又は湿し
液に浸されてそれにより疎油性となるが、親油性領域は
インキを受容するであろう。
【０００３】脂性インキを用いる印刷のための直接オフ
セットマスターとしてレーザーヒートモード記録材料が
用いられるべき場合、画像及び非−画像領域の親油性−
親水性マッピング（ｍａｐｐｉｎｇ）があることが必要
である。ヒートモードレーザー融蝕（ｈｅａｔ ｍｏｄ
ｅ ｌａｓｅｒ ａｂｌａｔｉｏｎ）の場合は、画像及
び非−画像領域の間に必要なインキ−受容性における差
を得るために、親水性又は親油性トップコートを画像通
りに完全に除去し、下のレーザー感受性記録材料のそれ
ぞれ親油性又は親水性表面を露出させることも必要であ
る。
セットマスターとしてレーザーヒートモード記録材料が
用いられるべき場合、画像及び非−画像領域の親油性−
親水性マッピング（ｍａｐｐｉｎｇ）があることが必要
である。ヒートモードレーザー融蝕（ｈｅａｔ ｍｏｄ
ｅ ｌａｓｅｒ ａｂｌａｔｉｏｎ）の場合は、画像及
び非−画像領域の間に必要なインキ−受容性における差
を得るために、親水性又は親油性トップコートを画像通
りに完全に除去し、下のレーザー感受性記録材料のそれ
ぞれ親油性又は親水性表面を露出させることも必要であ
る。
【０００４】例えば、ＤＥ−Ａ−２ ４４８ ３２５
は、例えば親水性表面層が設けられたポリエステルフィ
ルム支持体を含んでなるレーザーヒートモード「直接ネ
ガティブ」印刷版を開示している。開示されているヒー
トモード記録材料はアルゴンレーザーを用いて画像形成
され、それにより露出された領域が親油性となる。かく
して、さらなる処理なしで印刷機上で用いることができ
るオフセット印刷版が得られる。該版は「直接ネガティ
ブ」版と呼ばれ、それは記録材料の露出された領域がイ
ンキ受容性とされるからである。
は、例えば親水性表面層が設けられたポリエステルフィ
ルム支持体を含んでなるレーザーヒートモード「直接ネ
ガティブ」印刷版を開示している。開示されているヒー
トモード記録材料はアルゴンレーザーを用いて画像形成
され、それにより露出された領域が親油性となる。かく
して、さらなる処理なしで印刷機上で用いることができ
るオフセット印刷版が得られる。該版は「直接ネガティ
ブ」版と呼ばれ、それは記録材料の露出された領域がイ
ンキ受容性とされるからである。
【０００５】ＤＥ−Ａ−２ ４４８ ３２５における他
の開示は、例えば水溶性レーザー光（アルゴン−４８８
ｎｍ）吸収色素がコーティングされた、又は親水性ポリ
マーとレーザー光吸収色素（アルゴン−４８８ｎｍ）の
混合物に基づくコーティングを有する親水性アルミニウ
ム支持体を含む「直接ネガティブ」印刷版に関する。
「直接ネガティブ」印刷版の作製のためのヒートモード
記録材料に関するさらに別の例には、例えばＵＳ−Ａ−
４ ３４１ １８３、ＤＥ−Ａ−２ ６０７ ２０７、
ＤＤ−Ａ−２１３ ５３０、ＤＤ−Ａ−２１７ ６４５
及びＤＤ−Ａ−２１７ ９１４が含まれる。これらの文
書は、陽極酸化されたアルミニウム支持体上に親水性層
を有するヒートモード記録材料を開示している。開示さ
れているヒートモード記録材料はレーザーを用いて画像
通りに露出される。レーザー露出は露出された領域を不
溶性且つインキ受容性とするが、露出されない画像部分
は親水性且つ水溶性のままであり、印刷の間に湿し液に
より除去されて親水性支持体が露出されることを可能に
する。そのような版は処理なしで直接印刷機上で用いる
ことができる。
の開示は、例えば水溶性レーザー光（アルゴン−４８８
ｎｍ）吸収色素がコーティングされた、又は親水性ポリ
マーとレーザー光吸収色素（アルゴン−４８８ｎｍ）の
混合物に基づくコーティングを有する親水性アルミニウ
ム支持体を含む「直接ネガティブ」印刷版に関する。
「直接ネガティブ」印刷版の作製のためのヒートモード
記録材料に関するさらに別の例には、例えばＵＳ−Ａ−
４ ３４１ １８３、ＤＥ−Ａ−２ ６０７ ２０７、
ＤＤ−Ａ−２１３ ５３０、ＤＤ−Ａ−２１７ ６４５
及びＤＤ−Ａ−２１７ ９１４が含まれる。これらの文
書は、陽極酸化されたアルミニウム支持体上に親水性層
を有するヒートモード記録材料を開示している。開示さ
れているヒートモード記録材料はレーザーを用いて画像
通りに露出される。レーザー露出は露出された領域を不
溶性且つインキ受容性とするが、露出されない画像部分
は親水性且つ水溶性のままであり、印刷の間に湿し液に
より除去されて親水性支持体が露出されることを可能に
する。そのような版は処理なしで直接印刷機上で用いる
ことができる。
【０００６】ＤＤ−Ａ−１５５ ４０７は、親水性酸化
アルミニウム層が直接レーザーヒートモード画像形成に
より親油性にされるレーザーヒートモード「直接ネガテ
ィブ」印刷版を開示している。これらの印刷版をさらな
る処理なしで印刷機上で用いることもできる。
アルミニウム層が直接レーザーヒートモード画像形成に
より親油性にされるレーザーヒートモード「直接ネガテ
ィブ」印刷版を開示している。これらの印刷版をさらな
る処理なしで印刷機上で用いることもできる。
【０００７】上記から、レーザーヒートモード記録によ
る「直接ネガティブ」オフセット印刷版の作製のための
複数の提案が成されてきたことがわかる。それらは、低
い記録スピード（ｒｅｃｏｒｄｉｎｇ ｓｐｅｅｄ）及
び／又は得られる版が劣った品質のものであるというよ
うな欠点を有する。
る「直接ネガティブ」オフセット印刷版の作製のための
複数の提案が成されてきたことがわかる。それらは、低
い記録スピード（ｒｅｃｏｒｄｉｎｇ ｓｐｅｅｄ）及
び／又は得られる版が劣った品質のものであるというよ
うな欠点を有する。
【０００８】直接平版印刷版を作製する他の方法はレー
ザー融蝕による。
ザー融蝕による。
【０００９】ＥＰ−Ａ−５８０ ３９３は、レーザー放
電により直接に画像形成することができる平版印刷版を
開示しており、版は最上第１層及び第１層の下の第２層
を含み、ここで第１層は赤外線の有効な吸収を特徴とし
ており、第１層及び第２層は少なくとも１種の印刷液に
関して異なる親和性を示す。
電により直接に画像形成することができる平版印刷版を
開示しており、版は最上第１層及び第１層の下の第２層
を含み、ここで第１層は赤外線の有効な吸収を特徴とし
ており、第１層及び第２層は少なくとも１種の印刷液に
関して異なる親和性を示す。
【００１０】ＥＰ−Ａ−６８３ ７２８はインキ受容性
表面を有するか、又はインキ受容性層がコーティングさ
れた支持体上に、光を熱に変換できる物質及び３μｍ以
下の厚さを有する硬膜された親水性表面層を含むヒート
モード記録材料を開示している。該材料の平版印刷性は
あまり良くはない。
表面を有するか、又はインキ受容性層がコーティングさ
れた支持体上に、光を熱に変換できる物質及び３μｍ以
下の厚さを有する硬膜された親水性表面層を含むヒート
モード記録材料を開示している。該材料の平版印刷性は
あまり良くはない。
【００１１】
【発明の目的】本発明の目的は、感度が高く、特に高い
ランレングスに関して平版印刷の品質が高いヒートモー
ド記録材料のための材料を提供することである。
ランレングスに関して平版印刷の品質が高いヒートモー
ド記録材料のための材料を提供することである。
【００１２】
【発明の概略】本発明に従えば、支持体上にＩＲ−感受
性親油性層ならびに無機顔料及び硬膜剤を含んでなる架
橋された親水性層を示した順序で含んでなり、該無機顔
料対硬膜剤の比率が７５／２５〜２５／７５（重量によ
る）を含んでなることを特徴とする平版印刷版の作製の
ための感熱材料が提供される。
性親油性層ならびに無機顔料及び硬膜剤を含んでなる架
橋された親水性層を示した順序で含んでなり、該無機顔
料対硬膜剤の比率が７５／２５〜２５／７５（重量によ
る）を含んでなることを特徴とする平版印刷版の作製の
ための感熱材料が提供される。
【００１３】
【発明の詳細な記述】本発明において、親水性層におけ
る無機顔料対硬膜剤の低い比率と組み合わされた平版ベ
ースを用いることにより、高いランレングスが得られる
ことが見いだされた。ＩＲ−感受性親油性層は好ましく
は０．１０〜０．７５ｇ／ｍ2、より好ましくは０．１
５〜０．５ｇ／ｍ2の乾燥重量の量である。
る無機顔料対硬膜剤の低い比率と組み合わされた平版ベ
ースを用いることにより、高いランレングスが得られる
ことが見いだされた。ＩＲ−感受性親油性層は好ましく
は０．１０〜０．７５ｇ／ｍ2、より好ましくは０．１
５〜０．５ｇ／ｍ2の乾燥重量の量である。
【００１４】ＩＲ−感受性親油性層は結合剤及び光を熱
に変換しうる化合物を含んでなる。
に変換しうる化合物を含んでなる。
【００１５】光を熱に変換しうる適した化合物は、好ま
しくは画像通りの露出に用いられる光源の波長領域内に
吸収を有する赤外吸収成分である。特に有用な化合物
は、例えば染料、そして特にＥＰ−Ａ−９０８ ３０７
に開示されているような赤外染料、ならびに顔料、そし
て特に赤外顔料、例えばカーボンブラック、金属炭化
物、ホウ化物、窒化物、炭化窒化物、ブロンズ−構造酸
化物及び構造的にブロンズ群に関連するがＡ成分がない
酸化物、例えばＷＯ2.9である。導電性ポリマー分散
液、例えばポリピロール又はポリアニリンに基づく導電
性ポリマー分散液を用いることもできる。得られる平版
印刷性能、そして特に印刷耐久性は中でも画像形成要素
の感熱性に依存する。これに関し、カーボンブラック又
はグラファイトが非常に優れ且つ好ましい結果を与える
ことが見いだされた。
しくは画像通りの露出に用いられる光源の波長領域内に
吸収を有する赤外吸収成分である。特に有用な化合物
は、例えば染料、そして特にＥＰ−Ａ−９０８ ３０７
に開示されているような赤外染料、ならびに顔料、そし
て特に赤外顔料、例えばカーボンブラック、金属炭化
物、ホウ化物、窒化物、炭化窒化物、ブロンズ−構造酸
化物及び構造的にブロンズ群に関連するがＡ成分がない
酸化物、例えばＷＯ2.9である。導電性ポリマー分散
液、例えばポリピロール又はポリアニリンに基づく導電
性ポリマー分散液を用いることもできる。得られる平版
印刷性能、そして特に印刷耐久性は中でも画像形成要素
の感熱性に依存する。これに関し、カーボンブラック又
はグラファイトが非常に優れ且つ好ましい結果を与える
ことが見いだされた。
【００１６】好ましくは、結合剤はポリ塩化ビニル、ポ
リエステル、ポリウレタン、ノボラック、ポリビニルカ
ルバゾールなど、それらのコポリマー又は混合物から成
る群より選ばれる。
リエステル、ポリウレタン、ノボラック、ポリビニルカ
ルバゾールなど、それらのコポリマー又は混合物から成
る群より選ばれる。
【００１７】最も好ましくは、記録層中のポリマー性結
合剤は感熱性であり：例えば硝酸エステル基を含有する
ポリマー（例えばＧＢ−Ｐ−１ ３１６ ３９８及びＤ
Ｅ−Ａ−２ ５１２ ０３８に開示されているような自
己酸化性結合剤である硝酸セルロース）；例えばカーボ
ネート基を含有するポリマー（例えばポリアルキレンカ
ーボネート）；例えば共有結合した塩素を含有するポリ
マー（例えばポリ塩化ビニリデン）である。加熱すると
Ｎ2を放出することができるアゾ又はアジド基を含有す
る物質も好適に用いられる。
合剤は感熱性であり：例えば硝酸エステル基を含有する
ポリマー（例えばＧＢ−Ｐ−１ ３１６ ３９８及びＤ
Ｅ−Ａ−２ ５１２ ０３８に開示されているような自
己酸化性結合剤である硝酸セルロース）；例えばカーボ
ネート基を含有するポリマー（例えばポリアルキレンカ
ーボネート）；例えば共有結合した塩素を含有するポリ
マー（例えばポリ塩化ビニリデン）である。加熱すると
Ｎ2を放出することができるアゾ又はアジド基を含有す
る物質も好適に用いられる。
【００１８】本発明と関連して種々の硬膜された親水性
表面層が適している。親水性コーティングは好ましく
は、例えばヒドロキシル、カルボキシル、ヒドロキシエ
チル、ヒドロキシプロピル、アミノ、アミノエチル、ア
ミノプロピル、カルボキシメチルなどを含む遊離の反応
性基を有する親水性結合剤を、例えば親水性有機チタン
試薬、アルミノホルミルアセテート、ジメチロールウレ
ア、メラミン、アルデヒド、加水分解されたテトラアル
キルオルトシリケートなどを含む適した架橋剤又は改質
剤と一緒に含有する水性組成物から流延される。
表面層が適している。親水性コーティングは好ましく
は、例えばヒドロキシル、カルボキシル、ヒドロキシエ
チル、ヒドロキシプロピル、アミノ、アミノエチル、ア
ミノプロピル、カルボキシメチルなどを含む遊離の反応
性基を有する親水性結合剤を、例えば親水性有機チタン
試薬、アルミノホルミルアセテート、ジメチロールウレ
ア、メラミン、アルデヒド、加水分解されたテトラアル
キルオルトシリケートなどを含む適した架橋剤又は改質
剤と一緒に含有する水性組成物から流延される。
【００１９】親水性層のための適したポリマーは、アラ
ビアゴム、カゼイン、ゼラチン、デンプン誘導体、カル
ボキシメチルセルロース及びそのＮａ塩、酢酸セルロー
ス、アルギン酸ナトリウム、酢酸ビニル−マレイン酸コ
ポリマー、スチレン−マレイン酸コポリマー、ポリアク
リル酸及びその塩、ポリメタクリル酸及びその塩、ヒド
ロキシエチレンポリマー、ポリエチレングリコール、ヒ
ドロキシプロピレンポリマー、ポリビニルアルコール及
び少なくとも６０重量％、より好ましくは少なくとも８
０重量％の加水分解度を有する加水分解されたポリ酢酸
ビニルより成る群から選ぶことができる。例えばＵＳ−
Ｐ−３ ４７６ ９３７に開示されているような、テト
ラアルキルオルトシリケート、例えばテトラエチルオル
トシリケート又はテトラメチルオルトシリケートを用い
て硬膜されたポリビニルアルコール又は少なくとも６０
重量％の程度まで加水分解されたポリ酢酸ビニルを含有
する親水性層が特に好ましく、それは本ヒートモード記
録材料におけるその使用が優れた平版印刷性を生ずるか
らである。
ビアゴム、カゼイン、ゼラチン、デンプン誘導体、カル
ボキシメチルセルロース及びそのＮａ塩、酢酸セルロー
ス、アルギン酸ナトリウム、酢酸ビニル−マレイン酸コ
ポリマー、スチレン−マレイン酸コポリマー、ポリアク
リル酸及びその塩、ポリメタクリル酸及びその塩、ヒド
ロキシエチレンポリマー、ポリエチレングリコール、ヒ
ドロキシプロピレンポリマー、ポリビニルアルコール及
び少なくとも６０重量％、より好ましくは少なくとも８
０重量％の加水分解度を有する加水分解されたポリ酢酸
ビニルより成る群から選ぶことができる。例えばＵＳ−
Ｐ−３ ４７６ ９３７に開示されているような、テト
ラアルキルオルトシリケート、例えばテトラエチルオル
トシリケート又はテトラメチルオルトシリケートを用い
て硬膜されたポリビニルアルコール又は少なくとも６０
重量％の程度まで加水分解されたポリ酢酸ビニルを含有
する親水性層が特に好ましく、それは本ヒートモード記
録材料におけるその使用が優れた平版印刷性を生ずるか
らである。
【００２０】本実施態様に従って用いられる感熱層中の
架橋された親水性結合剤は、層の機械的強度及び多孔度
を向上させるコロイド性無機顔料、例えば二酸化チタン
又は他の金属酸化物の粒子である金属酸化物粒子も含有
する。これらの粒子の導入は、微視的な丘と谷から成る
均一な粗いきめを架橋された親水性層の表面に与える。
好ましくは、これらの粒子はベリリウム、マグネシウム、
アルミニウム、ケイ素、ガドリニウム、ゲルマニウム、
ヒ素、インジウム、錫、アンチモン、テルリウム、鉛、
ビスマス、チタン又は遷移金属の酸化物又は水酸化物で
ある。特に好ましいコロイド粒子はアルミニウム、ケイ
素、ジルコニウム又はチタンの酸化物又は水酸化物であ
り、これらは最高で親水性層の７５重量％において用い
られる。
架橋された親水性結合剤は、層の機械的強度及び多孔度
を向上させるコロイド性無機顔料、例えば二酸化チタン
又は他の金属酸化物の粒子である金属酸化物粒子も含有
する。これらの粒子の導入は、微視的な丘と谷から成る
均一な粗いきめを架橋された親水性層の表面に与える。
好ましくは、これらの粒子はベリリウム、マグネシウム、
アルミニウム、ケイ素、ガドリニウム、ゲルマニウム、
ヒ素、インジウム、錫、アンチモン、テルリウム、鉛、
ビスマス、チタン又は遷移金属の酸化物又は水酸化物で
ある。特に好ましいコロイド粒子はアルミニウム、ケイ
素、ジルコニウム又はチタンの酸化物又は水酸化物であ
り、これらは最高で親水性層の７５重量％において用い
られる。
【００２１】架橋された親水性層は好ましくは０．３〜
５μｍの乾燥厚さ、より好ましくは０．５〜３μｍの乾
燥厚さにおいてコーティングされる。
５μｍの乾燥厚さ、より好ましくは０．５〜３μｍの乾
燥厚さにおいてコーティングされる。
【００２２】本発明に従うと、硬膜された親水性層は例
えば可塑剤、顔料、染料などのような追加の物質を含ん
でなることができる。架橋された親水性層はさらに、Ｉ
Ｒ−感度を向上させるためにＩＲ−吸収化合物を含有す
ることができる。本発明に従って用いるために適した架
橋された親水性層の特定の例は、ＥＰ−Ａ−６０１２４
０、ＧＢ−Ｐ−１ ４１９ ５１２、ＦＲ−Ｐ−２ ３
００ ３５４、ＵＳ−Ｐ−３ ９７１ ６６０、ＵＳ−
Ｐ−４ ２８４ ７０５及びＥＰ−Ａ ５１４ ４９０
に開示されている。
えば可塑剤、顔料、染料などのような追加の物質を含ん
でなることができる。架橋された親水性層はさらに、Ｉ
Ｒ−感度を向上させるためにＩＲ−吸収化合物を含有す
ることができる。本発明に従って用いるために適した架
橋された親水性層の特定の例は、ＥＰ−Ａ−６０１２４
０、ＧＢ−Ｐ−１ ４１９ ５１２、ＦＲ−Ｐ−２ ３
００ ３５４、ＵＳ−Ｐ−３ ９７１ ６６０、ＵＳ−
Ｐ−４ ２８４ ７０５及びＥＰ−Ａ ５１４ ４９０
に開示されている。
【００２３】本発明に従う支持体は寸法的に安定な支持
体、例えばアルミニウム又は他の金属もしくは合金であ
ることができるか、あるいはそれは柔軟性支持体、例え
ばポリエチレンテレフタレートであることができる。好
ましくは、支持体は親水性表面を有する平版ベースであ
る。
体、例えばアルミニウム又は他の金属もしくは合金であ
ることができるか、あるいはそれは柔軟性支持体、例え
ばポリエチレンテレフタレートであることができる。好
ましくは、支持体は親水性表面を有する平版ベースであ
る。
【００２４】本発明に従うと、平版ベースは陽極酸化さ
れたアルミニウム支持体であることができる。特に好ま
しい平版ベースは電気化学的に研磨され、陽極酸化され
たアルミニウム支持体である。陽極酸化されたアルミニ
ウム支持体を処理してその表面の親水性を向上させるこ
とができる。例えば、アルミニウム支持体を例えば９５
℃などの高められた温度でケイ酸ナトリウム溶液を用い
てその表面を処理することによりケイ酸塩化することが
できる。別の場合、リン酸塩処理を施すことができ、そ
れは酸化アルミニウム表面をリン酸塩溶液で処理するこ
とを含み、リン酸塩溶液はさらに無機フッ化物を含有し
ていることができる。さらに、酸化アルミニウム表面を
クエン酸又はクエン酸塩溶液で濯ぐことができる。この
処理は室温で行うことができるか、又は約３０〜５０℃
のわずかに高められた温度で行うことができる。さらに
興味深い処理は酸化アルミニウム表面を重炭酸塩溶液で
濯ぐことを含む。さらに、酸化アルミニウム表面をポリ
ビニルホスホン酸、ポリビニルメチルホスホン酸、ポリ
ビニルアルコールのリン酸エステル、ポリビニルスルホ
ン酸、ポリビニルベンゼンスルホン酸、ポリビニルアル
コールの硫酸エステル及びスルホン化脂肪族アルデヒド
との反応により生成するポリビニルアルコールのアセタ
ールを用いて処理することができる。これらの後処理の
１つ又はそれより多くを単独で又は組み合わせて行うこ
とができることはさらに明らかである。これらの処理の
もっと詳細な記載は、ＧＢ−Ａ−１ ０８４ ０７０、
ＤＥ−Ａ−４ ４２３ １４０、ＤＥ−Ａ−４ ４１７
９０７、ＥＰ−Ａ−６５９９０９、ＥＰ−Ａ−５３７
６３３、ＤＥ−Ａ−４ ００１ ４６６、ＥＰ−Ａ−
２９２ ８０１、ＥＰ−Ａ−２９１ ７６０及びＵＳ−
Ｐ−４ ４５８ ００５に示されている。
れたアルミニウム支持体であることができる。特に好ま
しい平版ベースは電気化学的に研磨され、陽極酸化され
たアルミニウム支持体である。陽極酸化されたアルミニ
ウム支持体を処理してその表面の親水性を向上させるこ
とができる。例えば、アルミニウム支持体を例えば９５
℃などの高められた温度でケイ酸ナトリウム溶液を用い
てその表面を処理することによりケイ酸塩化することが
できる。別の場合、リン酸塩処理を施すことができ、そ
れは酸化アルミニウム表面をリン酸塩溶液で処理するこ
とを含み、リン酸塩溶液はさらに無機フッ化物を含有し
ていることができる。さらに、酸化アルミニウム表面を
クエン酸又はクエン酸塩溶液で濯ぐことができる。この
処理は室温で行うことができるか、又は約３０〜５０℃
のわずかに高められた温度で行うことができる。さらに
興味深い処理は酸化アルミニウム表面を重炭酸塩溶液で
濯ぐことを含む。さらに、酸化アルミニウム表面をポリ
ビニルホスホン酸、ポリビニルメチルホスホン酸、ポリ
ビニルアルコールのリン酸エステル、ポリビニルスルホ
ン酸、ポリビニルベンゼンスルホン酸、ポリビニルアル
コールの硫酸エステル及びスルホン化脂肪族アルデヒド
との反応により生成するポリビニルアルコールのアセタ
ールを用いて処理することができる。これらの後処理の
１つ又はそれより多くを単独で又は組み合わせて行うこ
とができることはさらに明らかである。これらの処理の
もっと詳細な記載は、ＧＢ−Ａ−１ ０８４ ０７０、
ＤＥ−Ａ−４ ４２３ １４０、ＤＥ−Ａ−４ ４１７
９０７、ＥＰ−Ａ−６５９９０９、ＥＰ−Ａ−５３７
６３３、ＤＥ−Ａ−４ ００１ ４６６、ＥＰ−Ａ−
２９２ ８０１、ＥＰ−Ａ−２９１ ７６０及びＵＳ−
Ｐ−４ ４５８ ００５に示されている。
【００２５】本発明と関連する他の様式に従うと、親水
性表面を有する平版ベースは柔軟性支持体、例えば架橋
された親水性層が設けられた紙又はプラスチックフィル
ムを含んでなる。特に適した架橋された親水性層は、ホ
ルムアルデヒド、グリオキサル、ポリイソシアナート又
は加水分解されたテトラ−アルキルオルトシリケートの
ような架橋剤を用いて架橋された親水性結合剤から得る
ことができる。後者が特に好ましい。
性表面を有する平版ベースは柔軟性支持体、例えば架橋
された親水性層が設けられた紙又はプラスチックフィル
ムを含んでなる。特に適した架橋された親水性層は、ホ
ルムアルデヒド、グリオキサル、ポリイソシアナート又
は加水分解されたテトラ−アルキルオルトシリケートの
ような架橋剤を用いて架橋された親水性結合剤から得る
ことができる。後者が特に好ましい。
【００２６】親水性結合剤として親水性（コ）ポリマ
ー、例えばビニルアルコール、アクリルアミド、メチロ
ールアクリルアミド、メチロールメタクリルアミド、ア
クリレート酸（ａｃｒｙｌａｔｅ ａｃｉｄ）、メタク
リレート酸（ｍｅｔｈａｃｒｙｌａｔｅ ａｃｉｄ）、
ヒドロキシエチルアクリレート、ヒドロキシエチルメタ
クリレートのホモポリマー及びコポリマーあるいは無水
マレイン酸／ビニルメチルエーテルコポリマーを用いる
ことができる。用いられる（コ）ポリマー又は（コ）ポ
リマー混合物の親水度は好ましくは、少なくとも６０重
量パーセント、好ましくは８０重量パーセントの程度ま
で加水分解されたポリ酢酸ビニルの親水度と同じか又は
それより高い。
ー、例えばビニルアルコール、アクリルアミド、メチロ
ールアクリルアミド、メチロールメタクリルアミド、ア
クリレート酸（ａｃｒｙｌａｔｅ ａｃｉｄ）、メタク
リレート酸（ｍｅｔｈａｃｒｙｌａｔｅ ａｃｉｄ）、
ヒドロキシエチルアクリレート、ヒドロキシエチルメタ
クリレートのホモポリマー及びコポリマーあるいは無水
マレイン酸／ビニルメチルエーテルコポリマーを用いる
ことができる。用いられる（コ）ポリマー又は（コ）ポ
リマー混合物の親水度は好ましくは、少なくとも６０重
量パーセント、好ましくは８０重量パーセントの程度ま
で加水分解されたポリ酢酸ビニルの親水度と同じか又は
それより高い。
【００２７】架橋剤、特にテトラアルキルオルトシリケ
ートの量は好ましくは親水性結合剤の重量部当たり少な
くとも０．２重量部、より好ましくは０．５〜５重量
部、最も好ましくは１．０重量部〜３重量部である。
ートの量は好ましくは親水性結合剤の重量部当たり少な
くとも０．２重量部、より好ましくは０．５〜５重量
部、最も好ましくは１．０重量部〜３重量部である。
【００２８】本実施態様に従って用いられる平版ベース
の架橋された親水性層は好ましくは、層の機械的強度及
び多孔度を向上させる物質も含有する。この目的でコロ
イドシリカを用いることができる。用いられるコロイド
シリカは例えば最高で４０ｎｍ、例えば２０ｎｍの平均
粒度を有するコロイドシリカのいずれの商業的に入手可
能な水−分散液の形態であることもできる。さらに、コ
ロイドシリカより大きな寸法の不活性粒子、例えばＪ．
Ｃｏｌｌｏｉｄ ａｎｄ ＩｎｔｅｒｆａｃｅＳｃ
ｉ．，Ｖｏｌ．２６，１９６８，ｐａｇｅｓ ６２ ｔ
ｏ ６９に記載されている通りＳｔＯＥｂｅｒに従って
調製されるシリカあるいはアルミナ粒子あるいは二酸化
チタン又は他の重金属酸化物の粒子である少なくとも１
００ｎｍの平均直径を有する粒子を加えることができ
る。これらの粒子の導入により、架橋された親水性層の
表面に微視的丘と谷から成る均一な粗いきめが与えら
れ、それは背景領域における水のための保存場所として
働く。
の架橋された親水性層は好ましくは、層の機械的強度及
び多孔度を向上させる物質も含有する。この目的でコロ
イドシリカを用いることができる。用いられるコロイド
シリカは例えば最高で４０ｎｍ、例えば２０ｎｍの平均
粒度を有するコロイドシリカのいずれの商業的に入手可
能な水−分散液の形態であることもできる。さらに、コ
ロイドシリカより大きな寸法の不活性粒子、例えばＪ．
Ｃｏｌｌｏｉｄ ａｎｄ ＩｎｔｅｒｆａｃｅＳｃ
ｉ．，Ｖｏｌ．２６，１９６８，ｐａｇｅｓ ６２ ｔ
ｏ ６９に記載されている通りＳｔＯＥｂｅｒに従って
調製されるシリカあるいはアルミナ粒子あるいは二酸化
チタン又は他の重金属酸化物の粒子である少なくとも１
００ｎｍの平均直径を有する粒子を加えることができ
る。これらの粒子の導入により、架橋された親水性層の
表面に微視的丘と谷から成る均一な粗いきめが与えら
れ、それは背景領域における水のための保存場所として
働く。
【００２９】本実施態様に従う平版ベースの架橋された
親水性層の厚さは０．２〜２５μｍの範囲内で変化する
ことができ、好ましくは１〜１０μｍである。
親水性層の厚さは０．２〜２５μｍの範囲内で変化する
ことができ、好ましくは１〜１０μｍである。
【００３０】本発明に従って用いるために適した架橋さ
れた親水性層の特定の例は、ＥＰ−Ａ−６０１ ２４
０、ＧＢ−Ｐ−１ ４１９ ５１２、ＦＲ−Ｐ−２ ３
００３５４、ＵＳ−Ｐ−３ ９７１ ６６０、ＵＳ−Ｐ
−４ ２８４ ７０５及びＥＰ−Ａ ５１４ ４９０に
開示されている。
れた親水性層の特定の例は、ＥＰ−Ａ−６０１ ２４
０、ＧＢ−Ｐ−１ ４１９ ５１２、ＦＲ−Ｐ−２ ３
００３５４、ＵＳ−Ｐ−３ ９７１ ６６０、ＵＳ−Ｐ
−４ ２８４ ７０５及びＥＰ−Ａ ５１４ ４９０に
開示されている。
【００３１】本実施態様と関連する平版ベースの柔軟性
支持体として、プラスチックフィルム、例えば基質化ポ
リエチレンテレフタレートフィルム、基質化ポリエチレ
ンナフタレートフィルム、酢酸セルロースフィルム、ポ
リスチレンフィルム、ポリカーボネートフィルムなどを
用いるのが特に好ましい。プラスチックフィルム支持体
は不透明又は透明であることができる。１．２ｍｍ未満
の厚さ及び５ｘ１０7に等しいかそれより高い破壊応力
（引張応力下）を有するガラスも柔軟性支持体として適
している。
支持体として、プラスチックフィルム、例えば基質化ポ
リエチレンテレフタレートフィルム、基質化ポリエチレ
ンナフタレートフィルム、酢酸セルロースフィルム、ポ
リスチレンフィルム、ポリカーボネートフィルムなどを
用いるのが特に好ましい。プラスチックフィルム支持体
は不透明又は透明であることができる。１．２ｍｍ未満
の厚さ及び５ｘ１０7に等しいかそれより高い破壊応力
（引張応力下）を有するガラスも柔軟性支持体として適
している。
【００３２】接着促進層が設けられたポリエステルフィ
ルム支持体を用いるのが特に好ましい。本発明に従って
用いるのに特に適した接着促進層は、ＥＰ−Ａ−６１９
５２４、ＥＰ−Ａ−６２０ ５０２及びＥＰ−Ａ−６
１９ ５２５に開示されているように親水性結合剤及び
コロイドシリカを含んでなる。好ましくは接着促進層中
のシリカの量は２００ｍｇ／ｍ2〜７５０ｍｇ／ｍ2であ
る。さらに、シリカ対親水性結合剤の比率は好ましくは
１より高く、コロイドシリカの表面積は好ましくは少な
くとも３００ｍ2／ｇ、より好ましくは少なくとも５０
０ｍ2／ｇである。
ルム支持体を用いるのが特に好ましい。本発明に従って
用いるのに特に適した接着促進層は、ＥＰ−Ａ−６１９
５２４、ＥＰ−Ａ−６２０ ５０２及びＥＰ−Ａ−６
１９ ５２５に開示されているように親水性結合剤及び
コロイドシリカを含んでなる。好ましくは接着促進層中
のシリカの量は２００ｍｇ／ｍ2〜７５０ｍｇ／ｍ2であ
る。さらに、シリカ対親水性結合剤の比率は好ましくは
１より高く、コロイドシリカの表面積は好ましくは少な
くとも３００ｍ2／ｇ、より好ましくは少なくとも５０
０ｍ2／ｇである。
【００３３】本発明に従い、画像形成要素は画像通りに
露出される。該露出の間に、架橋された親水性層は露出
された領域において除去されることができ、該領域は親
油性領域に転換するが、非露出領域は親水性のままであ
る。短かい画素滞留時間（例えば１〜１００ｎ秒）を用
いるとほとんどの場合にこうである。しかしながら、も
っと長い画素滞留時間（例えば１〜２０μ秒）を用いる
と、親水性層は露出されても除去されないか、もしくは
部分的にしか除去されない。親水性層の残りの部分は、
印刷機上で湿し液及びインキとの接触により、あるいは
ＩＲ−レーザー露出と印刷過程の開始の間の追加の湿式
もしくは乾式処理段階により除去することができる。
露出される。該露出の間に、架橋された親水性層は露出
された領域において除去されることができ、該領域は親
油性領域に転換するが、非露出領域は親水性のままであ
る。短かい画素滞留時間（例えば１〜１００ｎ秒）を用
いるとほとんどの場合にこうである。しかしながら、も
っと長い画素滞留時間（例えば１〜２０μ秒）を用いる
と、親水性層は露出されても除去されないか、もしくは
部分的にしか除去されない。親水性層の残りの部分は、
印刷機上で湿し液及びインキとの接触により、あるいは
ＩＲ−レーザー露出と印刷過程の開始の間の追加の湿式
もしくは乾式処理段階により除去することができる。
【００３４】本発明と関連する画像通りの露出は、好ま
しくはレーザー又はＬ．Ｅ．Ｄの使用を含む画像通りの
走査露出である。好適に用いられるのは赤外もしくは近
赤外、すなわち７００〜１５００ｎｍの波長領域内で働
くレーザーである。最も好ましいのは０．１ｍＷ／μｍ
2より強い強度を以て近赤外で発光するレーザーダイオ
ードである。
しくはレーザー又はＬ．Ｅ．Ｄの使用を含む画像通りの
走査露出である。好適に用いられるのは赤外もしくは近
赤外、すなわち７００〜１５００ｎｍの波長領域内で働
くレーザーである。最も好ましいのは０．１ｍＷ／μｍ
2より強い強度を以て近赤外で発光するレーザーダイオ
ードである。
【００３５】本発明に従うと、次いで版はさらなる現像
なしで印刷のための準備ができており、印刷機上に搭載
することができる。
なしで印刷のための準備ができており、印刷機上に搭載
することができる。
【００３６】さらに別の方法に従うと、画像形成要素を
最初に印刷機の印刷胴上に搭載し、次いで印刷機上で直
接画像通りに露出する。露出後、画像形成要素は印刷の
ための準備ができている。
最初に印刷機の印刷胴上に搭載し、次いで印刷機上で直
接画像通りに露出する。露出後、画像形成要素は印刷の
ための準備ができている。
【００３７】本発明の印刷版を印刷過程においてシーム
レススリーブ印刷版として用いることもできる。この選
択肢の場合、印刷版はレーザーを用いて円筒形にはんだ
付けされる。通常の印刷版を搭載する代わりに、直径と
して印刷胴の直径を有するこの円筒状印刷版を印刷胴上
で滑らせる。スリーブに関するさらなる詳細は“Ｇｒａ
ｆｉｓｃｈ Ｎｉｅｕｗｓ”，１５，１９９５，ｐａｇ
ｅ ４ ｔｏ ６に示されている。
レススリーブ印刷版として用いることもできる。この選
択肢の場合、印刷版はレーザーを用いて円筒形にはんだ
付けされる。通常の印刷版を搭載する代わりに、直径と
して印刷胴の直径を有するこの円筒状印刷版を印刷胴上
で滑らせる。スリーブに関するさらなる詳細は“Ｇｒａ
ｆｉｓｃｈ Ｎｉｅｕｗｓ”，１５，１９９５，ｐａｇ
ｅ ４ ｔｏ ６に示されている。
【００３８】以下の実施例は本発明を例示するものであ
り、本発明をそれに制限するものではない。すべての部
及びパーセンテージは特に規定しなければ重量による。
り、本発明をそれに制限するものではない。すべての部
及びパーセンテージは特に規定しなければ重量による。
【００３９】
【実施例】平版ベースの製造 厚さが０．３０ｍｍのアルミニウム箔を、５０℃におい
て５ｇ／ｌの水酸化ナトリウムを含有する水溶液に箔を
沈め、脱イオン水で濯ぐことにより脱脂した。次いで３
５℃の温度及び１２００Ａ／ｍ2の電流密度において交
流を用い、４ｇ／ｌの塩酸、４ｇ／ｌの硼酸及び５ｇ／
ｌのアルミニウムイオンを含有する水溶液中で箔を電気
化学的に研磨し、０．５ｍｍの平均中心線粗さＲａを有
する表面トポロジーを形成した。
て５ｇ／ｌの水酸化ナトリウムを含有する水溶液に箔を
沈め、脱イオン水で濯ぐことにより脱脂した。次いで３
５℃の温度及び１２００Ａ／ｍ2の電流密度において交
流を用い、４ｇ／ｌの塩酸、４ｇ／ｌの硼酸及び５ｇ／
ｌのアルミニウムイオンを含有する水溶液中で箔を電気
化学的に研磨し、０．５ｍｍの平均中心線粗さＲａを有
する表面トポロジーを形成した。
【００４０】脱イオン水で濯いだ後、次いで３００ｇ／
ｌの硫酸を含有する水溶液を用い、６０℃において１８
０秒間、アルミニウム箔をエッチングし、２５℃におい
て３０秒間、脱イオン水で濯いだ。
ｌの硫酸を含有する水溶液を用い、６０℃において１８
０秒間、アルミニウム箔をエッチングし、２５℃におい
て３０秒間、脱イオン水で濯いだ。
【００４１】続いて箔を２００ｇ／ｌの硫酸を含有する
水溶液中で、４５℃の温度、約１０Ｖの電圧及び１５０
Ａ／ｍ2の電流密度において約３００秒間、陽極酸化に
供し、３．００ｇ／ｍ2のＡｌ2Ｏ3の陽極酸化フィルム
を形成し、次いで脱イオン水で洗浄し、ポリビニルホス
ホン酸を含有する溶液及び続いて三塩化アルミニウムを
含有する溶液を用いて後処理し、脱イオン水を用いて２
０℃で１２０秒間濯ぎ、乾燥した。
水溶液中で、４５℃の温度、約１０Ｖの電圧及び１５０
Ａ／ｍ2の電流密度において約３００秒間、陽極酸化に
供し、３．００ｇ／ｍ2のＡｌ2Ｏ3の陽極酸化フィルム
を形成し、次いで脱イオン水で洗浄し、ポリビニルホス
ホン酸を含有する溶液及び続いて三塩化アルミニウムを
含有する溶液を用いて後処理し、脱イオン水を用いて２
０℃で１２０秒間濯ぎ、乾燥した。
【００４２】該平版ベースの上に以下の組成を有する溶
液から２０μｍの湿潤コーティング厚さまでＩＲ−感受
性層をコーティングした： ５２ｇ 以下の組成のカーボンブラック分散液 ６．５ｇのＳｐｅｃｉａｌ ＳｃｈｗａｒｚTM（Ｄｅｇ
ｕｓｓａ） ０．６５ｇのニトロセルロースＥ９５０TM（Ｗｏｌｆ
Ｗａｌｓｒｏｄｅ） ０．７８ｇの分散剤 ４４．０７ｇのメチルエチルケトン １５．７ｇ 以下の組成のニトロセルロース溶液 １．５７ｇのニトロセルロースＥ９５０TM １４．１３ｇの酢酸エチル ２．１２ｇ 以下の組成のＣｙｍｅｌ溶液 ０．４２ｇのＣｙｍｅｌ ３０１TM １．７０ｇの酢酸エチル ０．７７ｇ 以下の組成のｐ−トルエンスルホン酸溶液 ０．０８ｇのｐ−トルエンスルホン酸 ０．６９ｇの酢酸エチル ＩＲ−感受性層の乾燥の後、これは０．３ｇ／ｍ2の乾
燥層を生じた。次いで以下の組成を有する溶液から２０
μｍの湿潤コーティング厚さまで親水性層をコーティン
グした。 要素１ ７８．３ｇ Ｐｏｌｙｖｉｏｌ ＷＸ ４８TM（Ｗａｃ
ｋｅｒからのポリビニルアルコール）で安定化された水
中のＳｉＯ2−分散液（ＳｉＯ2に対して１０％ｗ／ｗの
ポリビニルアルコール）（平均粒度０．３〜０．５μ
ｍ）−６．２５％ｗ／ｗ ２１．７ｇ 水／エタノール中の加水分解されたテトラ
メチルオルトシリケート−６．２５％ｗ／ｗ １．２ｇ 水中の湿潤剤−５％ｗ／ｗ 要素２ ６７．７ｇ Ｐｏｌｙｖｉｏｌ ＷＸ ４８TM（Ｗａｃ
ｋｅｒからのポリビニルアルコール）で安定化された水
中のＳｉＯ2−分散液（ＳｉＯ2に対して１０％ｗ／ｗの
ポリビニルアルコール）（平均粒度０．３〜０．５μ
ｍ）−６．２５％ｗ／ｗ ３２．３ｇ 水／エタノール中の加水分解されたテトラ
メチルオルトシリケート−６．２５％ｗ／ｗ １．２ｇ 水中の湿潤剤−５％ｗ／ｗ 要素３ ５７．４ｇ Ｐｏｌｙｖｉｏｌ ＷＸ ４８TM（Ｗａｃ
ｋｅｒからのポリビニルアルコール）で安定化された水
中のＳｉＯ2−分散液（ＳｉＯ2に対して１０％ｗ／ｗの
ポリビニルアルコール）（平均粒度０．３〜０．５μ
ｍ）−６．２５％ｗ／ｗ ４２．６ｇ 水／エタノール中の加水分解されたテトラ
メチルオルトシリケート−６．２５％ｗ／ｗ １．２ｇ 水中の湿潤剤−５％ｗ／ｗ 要素４ ３７．５ｇ Ｐｏｌｙｖｉｏｌ ＷＸ ４８TM（Ｗａｃ
ｋｅｒからのポリビニルアルコール）で安定化された水
中のＳｉＯ2−分散液（ＳｉＯ2に対して１０％ｗ／ｗの
ポリビニルアルコール）（平均粒度０．３〜０．５μ
ｍ）−６．２５％ｗ／ｗ ６２．５ｇ 水／エタノール中の加水分解されたテトラ
メチルオルトシリケート−６．２５％ｗ／ｗ １．２ｇ 水中の湿潤剤−５％ｗ／ｗ 要素５ １８．４ｇ Ｐｏｌｙｖｉｏｌ ＷＸ ４８TM（Ｗａｃ
ｋｅｒからのポリビニルアルコール）で安定化された水
中のＳｉＯ2−分散液（ＳｉＯ2に対して１０％ｗ／ｗの
ポリビニルアルコール）（平均粒度０．３〜０．５μ
ｍ）−６．２５％ｗ／ｗ ８１．６ｇ 水／エタノール中の加水分解されたテトラ
メチルオルトシリケート−６．２５％ｗ／ｗ １．２ｇ 水中の湿潤剤−５％ｗ／ｗ 要素６、７及び８は、ＳｉＯ2をＴｉＯ2で置き換える以
外は要素１、２及び３と同じである。
液から２０μｍの湿潤コーティング厚さまでＩＲ−感受
性層をコーティングした： ５２ｇ 以下の組成のカーボンブラック分散液 ６．５ｇのＳｐｅｃｉａｌ ＳｃｈｗａｒｚTM（Ｄｅｇ
ｕｓｓａ） ０．６５ｇのニトロセルロースＥ９５０TM（Ｗｏｌｆ
Ｗａｌｓｒｏｄｅ） ０．７８ｇの分散剤 ４４．０７ｇのメチルエチルケトン １５．７ｇ 以下の組成のニトロセルロース溶液 １．５７ｇのニトロセルロースＥ９５０TM １４．１３ｇの酢酸エチル ２．１２ｇ 以下の組成のＣｙｍｅｌ溶液 ０．４２ｇのＣｙｍｅｌ ３０１TM １．７０ｇの酢酸エチル ０．７７ｇ 以下の組成のｐ−トルエンスルホン酸溶液 ０．０８ｇのｐ−トルエンスルホン酸 ０．６９ｇの酢酸エチル ＩＲ−感受性層の乾燥の後、これは０．３ｇ／ｍ2の乾
燥層を生じた。次いで以下の組成を有する溶液から２０
μｍの湿潤コーティング厚さまで親水性層をコーティン
グした。 要素１ ７８．３ｇ Ｐｏｌｙｖｉｏｌ ＷＸ ４８TM（Ｗａｃ
ｋｅｒからのポリビニルアルコール）で安定化された水
中のＳｉＯ2−分散液（ＳｉＯ2に対して１０％ｗ／ｗの
ポリビニルアルコール）（平均粒度０．３〜０．５μ
ｍ）−６．２５％ｗ／ｗ ２１．７ｇ 水／エタノール中の加水分解されたテトラ
メチルオルトシリケート−６．２５％ｗ／ｗ １．２ｇ 水中の湿潤剤−５％ｗ／ｗ 要素２ ６７．７ｇ Ｐｏｌｙｖｉｏｌ ＷＸ ４８TM（Ｗａｃ
ｋｅｒからのポリビニルアルコール）で安定化された水
中のＳｉＯ2−分散液（ＳｉＯ2に対して１０％ｗ／ｗの
ポリビニルアルコール）（平均粒度０．３〜０．５μ
ｍ）−６．２５％ｗ／ｗ ３２．３ｇ 水／エタノール中の加水分解されたテトラ
メチルオルトシリケート−６．２５％ｗ／ｗ １．２ｇ 水中の湿潤剤−５％ｗ／ｗ 要素３ ５７．４ｇ Ｐｏｌｙｖｉｏｌ ＷＸ ４８TM（Ｗａｃ
ｋｅｒからのポリビニルアルコール）で安定化された水
中のＳｉＯ2−分散液（ＳｉＯ2に対して１０％ｗ／ｗの
ポリビニルアルコール）（平均粒度０．３〜０．５μ
ｍ）−６．２５％ｗ／ｗ ４２．６ｇ 水／エタノール中の加水分解されたテトラ
メチルオルトシリケート−６．２５％ｗ／ｗ １．２ｇ 水中の湿潤剤−５％ｗ／ｗ 要素４ ３７．５ｇ Ｐｏｌｙｖｉｏｌ ＷＸ ４８TM（Ｗａｃ
ｋｅｒからのポリビニルアルコール）で安定化された水
中のＳｉＯ2−分散液（ＳｉＯ2に対して１０％ｗ／ｗの
ポリビニルアルコール）（平均粒度０．３〜０．５μ
ｍ）−６．２５％ｗ／ｗ ６２．５ｇ 水／エタノール中の加水分解されたテトラ
メチルオルトシリケート−６．２５％ｗ／ｗ １．２ｇ 水中の湿潤剤−５％ｗ／ｗ 要素５ １８．４ｇ Ｐｏｌｙｖｉｏｌ ＷＸ ４８TM（Ｗａｃ
ｋｅｒからのポリビニルアルコール）で安定化された水
中のＳｉＯ2−分散液（ＳｉＯ2に対して１０％ｗ／ｗの
ポリビニルアルコール）（平均粒度０．３〜０．５μ
ｍ）−６．２５％ｗ／ｗ ８１．６ｇ 水／エタノール中の加水分解されたテトラ
メチルオルトシリケート−６．２５％ｗ／ｗ １．２ｇ 水中の湿潤剤−５％ｗ／ｗ 要素６、７及び８は、ＳｉＯ2をＴｉＯ2で置き換える以
外は要素１、２及び３と同じである。
【００４３】コーティングの前にこれらの溶液のｐＨを
４に調整した。これらの層を６７℃／５０％Ｒ．Ｈ．に
おいて１２時間硬膜させた。この方法で種々の要素が得
られた。
４に調整した。これらの層を６７℃／５０％Ｒ．Ｈ．に
おいて１２時間硬膜させた。この方法で種々の要素が得
られた。
【００４４】得られる画像形成要素をＧｅｒｂｅｒ Ｃ
４２ ＴTM上で２４００ｄｐｉにおいて、１５０ｒｐｓ
の走査速度及び７．５ワットのレーザー出力で運転して
画像形成させた。
４２ ＴTM上で２４００ｄｐｉにおいて、１５０ｒｐｓ
の走査速度及び７．５ワットのレーザー出力で運転して
画像形成させた。
【００４５】画像形成の後、インキとしてＫ＋Ｅ ８０
０ Ｓｋｉｎｎｅｘ及び湿し液として４％ Ａｑｕａ
ａｙｄｅ＋３％ Ｔａｍｅを用いるＳａｋｕｒａｉ Ｏ
ｌｉｖｅｒ印刷機上に版を搭載した。
０ Ｓｋｉｎｎｅｘ及び湿し液として４％ Ａｑｕａ
ａｙｄｅ＋３％ Ｔａｍｅを用いるＳａｋｕｒａｉ Ｏ
ｌｉｖｅｒ印刷機上に版を搭載した。
【００４６】続いて、上に画像形成要素が搭載されてい
る印刷胴を回転させることにより印刷機を始動させた。
印刷機の湿しローラーを最初に画像形成要素上に下ろし
て湿し液を画像形成要素に供給し、印刷胴の１０回転の
後にインキローラーを下ろしてインキを供給した。さら
に１０回転の後に紙を供給した。トーニング（ｔｏｎｉ
ｎｇ）なしで印刷することができるシートの数に基づい
てランレングスを決定した。結果を表１にまとめる。
る印刷胴を回転させることにより印刷機を始動させた。
印刷機の湿しローラーを最初に画像形成要素上に下ろし
て湿し液を画像形成要素に供給し、印刷胴の１０回転の
後にインキローラーを下ろしてインキを供給した。さら
に１０回転の後に紙を供給した。トーニング（ｔｏｎｉ
ｎｇ）なしで印刷することができるシートの数に基づい
てランレングスを決定した。結果を表１にまとめる。
【００４７】
【表１】
【００４８】表から、無機顔料／硬膜剤の比率がより低
い場合に最も良い結果が得られることが明らかである。
しかしながら、比率が２５／７５未満に減少すると許容
され得ない親水度に導き、役に立たない画像形成要素を
生ずる。
い場合に最も良い結果が得られることが明らかである。
しかしながら、比率が２５／７５未満に減少すると許容
され得ない親水度に導き、役に立たない画像形成要素を
生ずる。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 ジヨアン・ベルメールシユ ベルギー・ビー2640モルトセル・セプテス トラート27・アグフア−ゲヴエルト・ナー ムローゼ・フエンノートシヤツプ内
Claims (11)
- 【請求項１】 支持体上にＩＲ−感受性親油性層ならび
に無機顔料及び硬膜剤を含んでなる架橋された親水性層
を示した順序で含んでなり、該無機顔料対硬膜剤の比率
が７５／２５〜２５／７５（重量による）を含んでなる
ことを特徴とする平版印刷版の作製のための感熱材料。 - 【請求項２】 該支持体が親水性支持体を有する平版ベ
ースである請求項１に従う感熱材料。 - 【請求項３】 該ＩＲ−感受性親油性層が０．１〜０．
７５ｇ／ｍ2の乾燥重量の量である請求項１又は２に従
う感熱材料。 - 【請求項４】 該親油性層が結合剤及び光を熱に変換し
うる化合物を含んでなる請求項１〜３のいずれかに従う
感熱材料。 - 【請求項５】 該親油性結合剤が感熱性である請求項４
に従う感熱材料。 - 【請求項６】 該光を熱に変換しうる化合物がカーボン
ブラック又はグラファイトである請求項４又は５に従う
感熱材料。 - 【請求項７】 該架橋された親水性層がベリリウム、マ
グネシウム、アルミニウム、ケイ素、ガドリニウム、ゲ
ルマニウム、ヒ素、インジウム、錫、アンチモン、テル
リウム、鉛、ビスマス、チタン又は遷移金属の酸化物又
は水酸化物を含んでなる請求項１〜６のいずれかに従う
感熱材料。 - 【請求項８】 該平版ベースが研磨され且つ陽極酸化さ
れたアルミニウム支持体である請求項２〜７のいずれか
に従う感熱材料。 - 【請求項９】 該平版ベースが柔軟性支持体上の架橋さ
れた親水性層である請求項２〜７のいずれかに従う感熱
材料。 - 【請求項１０】 親水性層が０．３〜５μｍの乾燥厚さ
を有する請求項１〜９のいずれかに従う感熱材料。 - 【請求項１１】 （ｉ）請求項１〜１０のいずれかに従
う感熱材料を、０．１ｍＷ／μｍ2より高い強度を有す
るレーザービームに画像通りに露出し；（ｉｉ）段階
（ｉ）の前又は後に版を印刷機上に搭載し；（ｉｉｉ）
版を湿し液及びインキと接触させる段階を含む平版印刷
版の作製方法。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| EP19990202112 EP1065053B1 (en) | 1999-06-29 | 1999-06-29 | Processless printing plate with low ratio of anorganic pigment over hardener |
| EP99202112.1 | 1999-06-29 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2001039046A true JP2001039046A (ja) | 2001-02-13 |
| JP2001039046A5 JP2001039046A5 (ja) | 2007-08-02 |
Family
ID=8240387
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2000191223A Withdrawn JP2001039046A (ja) | 1999-06-29 | 2000-06-26 | 無機顔料対硬膜剤の低い比率を有する無処理印刷版 |
Country Status (3)
| Country | Link |
|---|---|
| EP (1) | EP1065053B1 (ja) |
| JP (1) | JP2001039046A (ja) |
| DE (1) | DE69914589T2 (ja) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6720130B1 (en) | 2002-10-08 | 2004-04-13 | Kodak Polychrome Graphics Llc | Radiation sensitive lithographic printing plate precursors having ablation-free imageable composition and method |
Family Cites Families (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS55105560A (en) * | 1979-02-07 | 1980-08-13 | Tomoegawa Paper Co Ltd | Photoengraving by laser |
| JP3625089B2 (ja) * | 1995-09-13 | 2005-03-02 | 富士写真フイルム株式会社 | 湿し水不要平版印刷版の形成方法 |
| GB9702568D0 (en) * | 1997-02-07 | 1997-03-26 | Horsell Graphic Ind Ltd | Planographic printing |
| US6090524A (en) * | 1997-03-13 | 2000-07-18 | Kodak Polychrome Graphics Llc | Lithographic printing plates comprising a photothermal conversion material |
-
1999
- 1999-06-29 EP EP19990202112 patent/EP1065053B1/en not_active Expired - Lifetime
- 1999-06-29 DE DE1999614589 patent/DE69914589T2/de not_active Expired - Fee Related
-
2000
- 2000-06-26 JP JP2000191223A patent/JP2001039046A/ja not_active Withdrawn
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| EP1065053A1 (en) | 2001-01-03 |
| DE69914589D1 (de) | 2004-03-11 |
| DE69914589T2 (de) | 2004-12-16 |
| EP1065053B1 (en) | 2004-02-04 |
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