JP2001034938A - マスター情報担体およびその製造方法ならびに磁気記録媒体の製造方法、ならびに磁気記録再生装置およびハードディスクドライブ - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 （修正有） 【課題】 磁気記録媒体全面に亘って均一に安定して高
密度の情報信号を記録できるマスター情報担体およびそ
の製造方法を提供する。 【解決手段】 基体１０と、磁化パターンに対応する配
列パターンを形成するように基体１０上に配置された強
磁性薄膜１１とを備え、強磁性薄膜１１の表面が略平坦
であることを特徴とする。また、基体１０は、磁化パタ
ーンに対応する位置に形成された凹部１０ａを備え、強
磁性薄膜１１は、その表面１１ａが基体１０の表面１０
ｂよりも突出するように凹部１０ａに形成されているこ
とが好ましい。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、磁気記録媒体に所
定の情報信号を記録するためのマスター情報担体および
その製造方法、ならびにこれを用いた磁気記録媒体の製
造方法、ならびに磁気記録再生装置およびハードディス
クドライブに関する。

【０００２】

【従来の技術】現在、磁気記録再生装置は、小型でかつ
大容量のものを実現するために、高記録密度化の傾向に
ある。代表的な磁気記録再生装置であるハードディスク
ドライブの分野においては、すでに面記録密度が１５．
５Ｍｂｉｔ／ｍｍ²（１０Ｇｂｉｔ／ｉｎ²）を超える装
置が商品化されており、数年後には、面記録密度が３
１．０Ｍｂｉｔ／ｍｍ²（２０Ｇｂｉｔ／ｉｎ²）の装置
の実用化が予測されるほどの急峻な技術の進歩が認めら
れる。

【０００３】このような高記録密度化には、記録再生ヘ
ッドのトラッキングサーボ技術が重要な役割を果たして
いる。現在の磁気記録媒体のトラッキングサーボ技術で
は、磁気記録媒体に一定の角度間隔でトラッキング用サ
ーボ信号やアドレス情報信号、再生クロック信号等が記
録された領域を設け（以下、プリフォーマット記録とい
う）、磁気ヘッドが、一定間隔でこれらの信号を再生す
ることによって、磁気ヘッドの位置を確認、修正しなが
ら正確にトラック上を走査している（例えば、山口：磁
気ディスク装置の高精度サーボ技術、日本応用磁気学会
誌、Ｖｏｌ．２０，Ｎｏ．３，ｐｐ７７１，１９９
６）。

【０００４】トラッキング用サーボ信号やアドレス情報
信号、再生クロック信号等は、磁気ヘッドが正確にトラ
ック上を走査するための基準信号となるので、その記録
時には、正確な位置決め精度が要求される。このため、
従来は、磁気記録媒体および磁気ヘッドを搭載したハー
ドディスクドライブを専用のサーボ記録装置にセット
し、厳密に位置制御された磁気ヘッドによりプリフォー
マット記録を行っていた（例えば、植松、他：メカ・サ
ーボ、ＨＤＩ技術の現状と展望、日本応用磁気学会第９
３回研究会資料、９３−５，ｐｐ．３５，１９９６）。

【０００５】しかしながら、専用のサーボ記録装置を用
いてプリフォーマット記録を行う従来の方法において
は、以下のような課題があった。

【０００６】まず第１に、磁気ヘッドによる記録は、基
本的に磁気ヘッドと磁気記録媒体との相対移動に基づく
線記録であるため、上記従来の方法では、プリフォーマ
ット記録に多くの時間を要するとともに、高価な専用の
サーボ記録装置が必要であり、プリフォーマット記録が
高コストとなっていた。

【０００７】また、第２に、ヘッドと媒体間のスペーシ
ングや記録ヘッドのポール形状による記録磁界の広がり
のため、プリフォーマット記録されたトラック端部の磁
化遷移が急峻性にかけるという問題があった。磁化遷移
が急峻性に欠ける場合には、正確なトラッキングサーボ
技術の実現が困難になる。

【０００８】そこで、磁気ヘッドを用いた上記従来のプ
リフォーマット記録の課題を解決する手段として、以下
のような方法が提案されている。

【０００９】例えば、特開平７−７８３３７号公報に
は、マスター媒体とスレーブ媒体（被転写媒体）とを対
接させた状態で、弾性体よりなる圧接手段によりマスタ
ー媒体とスレーブ媒体とを全面的に圧着させる方法が開
示されている。

【００１０】また、特開平１０−４０５４４号公報に
は、基体の表面に、情報信号に対応するパターン形状で
強磁性材料からなる磁性部を形成してマスター情報担体
とし、このマスター情報担体の表面を、強磁性薄膜ある
いは強磁性粉塗布層が形成されたシート状もしくはディ
スク状磁気記録媒体の表面に接触させ、所定の磁界をか
けることにより、マスター情報担体に形成した情報信号
に対応するパターン形状の磁化パターンを磁気記録媒体
に記録する方法が開示されている。

【００１１】

【発明が解決しようとする課題】ところで、このような
磁気転写技術を用いた情報信号の記録においては、マス
ター情報担体に設けられた情報信号に対応する配列パタ
ーンを磁化パターンとして磁気記録媒体に一度に転写記
録する方法であるため、磁気記録媒体全面に亘って均一
に安定して高密度の情報信号が記録されることが重要で
ある。

【００１２】本発明は、このような現状に鑑みなされた
もので、磁気記録媒体全面に亘って均一に安定して高密
度の情報信号を記録できるマスター情報担体およびその
製造方法を提供することを目的とする。また、本発明
は、上記マスター情報担体を用いた磁気記録媒体の製造
方法、ならびに磁気記録再生装置およびハードディスク
を提供することを目的とする。

【００１３】

【課題を解決するための手段】上記目的を達成するた
め、本発明の第１のマスター情報担体は、所定の情報信
号の磁化パターンを磁気記録媒体に転写記録するための
マスター情報担体であって、基体と、前記磁化パターン
に対応する配列パターンを形成するように前記基体上に
配置された強磁性薄膜とを備え、前記強磁性薄膜の表面
が略平坦であることを特徴とする。上記第１のマスター
情報担体では、磁気記録媒体との密着性が良好であるた
め、転写記録を信頼性よく行えるマスター情報担体が得
られる。

【００１４】また、本発明の第２のマスター情報担体
は、所定の情報信号の磁化パターンを磁気記録媒体に転
写記録するためのマスター情報担体であって、基体と、
前記磁化パターンに対応する配列パターンを形成するよ
うに前記基体上に形成された強磁性薄膜とを備え、前記
強磁性薄膜は、その表面が前記基体の表面から突出する
ように形成されていることを特徴とする。上記第２のマ
スター情報担体によれば、第１のマスター情報担体と同
様の効果が得られる。

【００１５】上記第２のマスター情報担体では、前記基
体は、前記磁化パターンに対応する位置に形成された凹
部を備え、前記強磁性薄膜は、その表面が前記基体の表
面よりも突出するように前記凹部に形成されていること
が好ましい。上記構成によれば、特に信頼性よく転写記
録を行えるマスター情報担体が得られる。

【００１６】上記第２のマスター情報担体では、前記基
体の表面と前記強磁性薄膜の表面との間の距離が２００
ｎｍ以下であることが好ましい。

【００１７】上記第２のマスター情報担体では、前記強
磁性薄膜の表面が略平坦であることが好ましい。

【００１８】また、本発明の第３のマスター情報担体
は、所定の情報信号の磁化パターンを磁気記録媒体に転
写記録するためのマスター情報担体であって、前記磁化
パターンに対応する位置に凹部が形成された基体と、表
面が前記凹部の内部に配置されるように前記凹部内に形
成された強磁性薄膜とを備え、前記基体の前記凹部側の
表面と前記強磁性薄膜の表面との間の距離が１００ｎｍ
以下であることを特徴とする。上記第３のマスター情報
担体によれば、第１のマスター情報担体と同様の効果が
得られる。

【００１９】また、本発明のマスター情報担体の製造方
法は、磁気記録媒体に情報信号を転写記録するためのマ
スター情報担体の製造方法であって、基体上に、前記情
報信号に対応する配列パターンを形成するように凹部を
形成する第１の工程と、前記凹部内に強磁性薄膜を形成
したのち、前記基体の前記凹部が形成された一主面側を
研磨する第２の工程とを含むことを特徴とする。上記マ
スター情報担体の製造方法によれば、本発明のマスター
情報担体を容易に製造できる。

【００２０】上記マスター情報担体の製造方法では、前
記第２の工程は、前記強磁性薄膜を研磨するよりも速い
速度で前記基体を研磨する研磨液を用いて前記一主面側
を研磨する工程を含むことが好ましい。

【００２１】上記マスター情報担体の製造方法では、前
記第２の工程は、前記基体を研磨するよりも速い速度で
前記強磁性薄膜を研磨する研磨液を用いて前記一主面側
を研磨する工程と、その後、前記強磁性薄膜を研磨する
よりも速い速度で前記基体を研磨する研磨液を用いて前
記一主面側を研磨する工程とを含んでもよい。

【００２２】上記マスター情報担体の製造方法では、前
記第２の工程は、表面が略平坦な弾性体上に前記基体を
固定したのち、前記一主面側を研磨テープで研磨する工
程を含んでもよい。

【００２３】上記マスター情報担体の製造方法では、前
記第２の工程において、前記一主面側を研磨する際に、
前記基体と前記研磨テープとの間に液状潤滑剤を供給す
ることが好ましい。

【００２４】また、本発明の磁気記録媒体の製造方法
は、所定のパターンの情報信号が記録された磁気記録媒
体の製造方法であって、前記情報信号に対応する配列パ
ターンを形成するように配置された強磁性薄膜からなる
磁性部を備えるマスター情報担体を、前記磁性部が磁気
記録媒体側になるように前記磁気記録媒体に重ね合わせ
るとともに、前記磁性部を磁化することによって、前記
配列パターンを前記磁気記録媒体に転写記録する工程を
含み、前記マスター情報担体が上記本発明のマスター情
報担体であることを特徴とする。上記磁気記録媒体の製
造方法では、本発明のマスター情報担体を用いるため、
情報信号を信頼性よく転写記録できる。なお、別の見方
によれば、本発明は、磁気記録媒体に、所定のパターン
の情報信号を転写記録するための記録方法であって、前
記パターンに対応する配列パターンを形成するように配
置された強磁性薄膜からなる磁性部を備えるマスター情
報担体を、前記磁性部が磁気記録媒体側になるように前
記磁気記録媒体に重ね合わせるとともに、前記磁性部を
磁化することによって、前記配列パターンを前記磁気記
録媒体に転写記録する工程を含み、前記マスター情報担
体が上記本発明のマスター情報担体であることを特徴と
する記録方法を含む。

【００２５】また、本発明の磁気記録再生装置は、プリ
フォーマット記録された磁気記録媒体を用いる磁気記録
再生装置であって、前記磁気記録媒体が上記本発明の磁
気記録媒体の製造方法によって製造された磁気記録媒体
であることを特徴とする。

【００２６】また、本発明のハードディスクドライブ
は、ディスク状の磁気記録媒体を有するハードディスク
ドライブであって、前記磁気記録媒体が上記本発明の磁
気記録媒体の製造方法によって製造された磁気記録媒体
であることを特徴とする。

【００２７】

【発明の実施の形態】以下、本発明による実施の形態の
一例について、図面を参照しながら説明する。

【００２８】図１に、本発明の磁気記録媒体の製造方法
を実施するための記録装置の概要を示す。図１におい
て、ディスク状磁気記録媒体としての円盤状のハードデ
ィスク１は、中心孔１ａを有するドーナツ円盤状のアル
ミニウム基板の表面に、Ｃｏ等からなる強磁性薄膜をス
パッタリング法によって成膜することにより構成されて
いる。

【００２９】２は上記ハードディスク１の強磁性薄膜な
どからなる磁性膜表面に接触するように重ね合わされて
配置された円盤状のマスター情報担体で、このマスター
情報担体２は、上記ハードディスク１より径が大きい形
状で、ハードディスク１に接触する側の表面には、ハー
ドディスク１に磁気転写すべき情報信号に対応した微細
な配列パターン形状の強磁性薄膜からなる信号領域２ａ
（図では、模式的に膜のように示す）が設けられてい
る。すなわち、マスター情報担体２は、所定の磁化パタ
ーンをハードディスク１に転写記録するためのマスター
情報担体であって、基体と、上記磁化パターンに対応す
る配列パターンを形成するように基体上に配置された強
磁性薄膜とを備える。

【００３０】３はハードディスク１を保持するディスク
保持体であり、このディスク保持体３の先端部にはハー
ドディスク１を位置決め保持するチャック部３ａが設け
られている。また、ディスク保持体３内部には、ハード
ディスク１の中心孔１ａに連通しかつ一端が排気ダクト
４に接続される吸引孔３ｂが設けられている。

【００３１】また、排気ダクト４の端部には排気装置５
が装着されており、この排気装置５を始動させることに
より、排気ダクト４、ディスク保持体３の吸引孔３ｂを
通して、ハードディスク１とマスター情報担体２との間
の空間が負圧状態となり、この結果マスター情報担体２
がハードディスク１の方向に吸引され、マスター情報担
体２にハードディスク１が位置決めされた状態で重ね合
わされる。なお、この時、ハードディスク１とマスター
情報担体２の間には若干の隙間があり、その隙間を通し
て、図１の矢印で示すように外部から空気が吸引され
る。

【００３２】着磁用ヘッド６は、マスター情報担体２か
らハードディスク１に転写記録するためのもので、この
着磁用ヘッド６が発生する磁界により、マスター情報担
体２に形成された情報信号に対応した強磁性薄膜パター
ンを磁化しハードディスク１に情報信号が記録される。

【００３３】この着磁用ヘッド６は、図２に示すよう
に、コイル６ａを具備した磁気コア半体６ｂ、および磁
気コア半体６ｃとを対向させてギャップ６ｄを形成した
ものであり、コイル６ａに電流を印加することによっ
て、ギャップ６ｄには、矢印で示すように磁気コア半体
６ｂから磁気コア半体６ｃに向かう磁界が発生し、また
印加する電流の向きを変えることによってギャップ６ｄ
に発生する磁界の方向を変えることができる。

【００３４】また、着磁用ヘッド６のギャップ６ｄの形
状は、マスター情報担体２に対向する面において、記録
再生用磁気ヘッドのトラッキング走査軌道と同じ円弧に
なっている。従って、ギャップ６ｄに発生する磁界の方
向は、トラッキング走査軌道と常に垂直となり、マスタ
ー情報担体２の強磁性薄膜は、全てのトラックにおい
て、記録再生用磁気ヘッドのトラッキング走査方向と垂
直な方向に磁化される。すなわち、記録再生用磁気ヘッ
ドのヘッドギャップ長方向と同じ方向に磁化されるので
ある。

【００３５】次に、本発明の記録方法に使用するマスタ
ー情報担体の一例について説明する。

【００３６】図３にマスター情報担体２の一例の平面を
模式的に示しており、図３に示すように、マスター情報
担体２の一主面、すなわちハードディスク１の強磁性薄
膜表面に接触する側の表面には、略放射状に信号領域２
ａが形成されている。

【００３７】図３の点線で囲んだ部分Ａの拡大図を、図
４に模式的に示す。図４に示すように、信号領域２ａに
は、磁気記録媒体に記録される情報信号、例えばプリフ
ォーマット情報信号に対応する位置に、上記情報信号に
対応したパターン形状で強磁性薄膜からなる磁性部によ
るマスター情報パターンが形成されている。図４におい
て、ハッチングを施した部分が強磁性薄膜によって構成
された磁性部である。この図４に示すマスター情報パタ
ーンは、クロック信号、トラッキング用サーボ信号、ア
ドレス情報信号等の各々の領域をトラック長さ方向に順
次配列したものである。なお、図４に示すマスター情報
パターンは一例であり、磁気記録媒体に記録される情報
信号に応じて、マスター情報パターンの構成や配置等を
適宜決定することとなる。

【００３８】例えば、ハードディスクドライブにおい
て、ハードディスクの磁性膜に、まずリファレンス信号
を記録し、そのリファレンス信号に基づいてトラッキン
グ用サーボ信号などのプリフォーマット記録を行う場合
には、本発明によるマスター情報担体を用いてハードデ
ィスクの磁性膜に、あらかじめプリフォーマット記録に
用いるリファレンス信号のみを転写記録し、そしてその
ハードディスクをドライブの筐体内に組み込み、トラッ
キング用サーボ信号などのプリフォーマット記録は、ハ
ードディスクドライブの磁気ヘッドを使用して行うよう
にしてもよい。この場合、最終的なプリフォーマット記
録は、従来の方法と同様にドライブ内に搭載された磁気
ヘッドによって行われる。しかしながら、高価な専用の
サーボ記録装置を用いることなく、ドライブ自体が転写
記録されたリファレンス信号を参照して最終的なプリフ
ォーマット記録を自己完結することができるので、最終
的なプリフォーマット情報信号を直接転写記録する場合
と同様に、従来の方法に比べてコストメリットが大き
い。

【００３９】図３、図４に示した領域の一部断面を図５
に示す。

【００４０】図５に示すように、マスター情報担体２
は、Ｓｉ基板、ガラス基板、プラスチック基板などの非
磁性材料からなる円盤状の基体１０（ハッチングは省略
する）の一主面１０ｂ、すなわちハードディスク１の表
面が接触する側の表面に、情報信号に対応する複数の微
細な配列パターン形状を形成するように凹部１０ａを形
成し、その基体１０の凹部１０ａに磁性部である強磁性
薄膜１１を埋め込む形態で形成することにより構成され
ている。

【００４１】ここで、強磁性薄膜１１としては、硬質磁
性材料、半硬質磁性材料、軟質磁性材料を問わず、多く
の種類の磁性材料を用いることができ、磁気記録媒体に
情報信号を転写記録できるものであればよい。例えば、
Ｆｅ、Ｃｏ、Ｆｅ−Ｃｏ合金などを用いることができ
る。なお、マスター情報が記録される磁気記録媒体の種
類によらずに十分な記録磁界を発生させるためには、磁
性材料の飽和磁束密度が大きいほどよい。特に、１５９
ｋＡ／ｍ（２０００エルステッド）を超える高保磁力の
磁気ディスクや磁性層の厚みの大きいフレキシブルディ
スクに対しては、飽和磁束密度が０．８テスラ以下にな
ると十分な記録を行うことができない場合があるので、
一般的には、０．８テスラ以上、好ましくは１．０テス
ラ以上の飽和磁束密度を有する磁性材料が用いられる。

【００４２】また、強磁性薄膜１１の厚さは、ビット長
や磁気記録媒体の飽和磁化や磁性層の膜厚によるが、例
えばビット長約１μｍ、磁気記録媒体の飽和磁化５００
ｋＡ／ｍ（約５００ｅｍｕ／ｃｃ）、磁気記録媒体の磁
性層の厚さが約２０ｎｍの場合では、５０ｎｍ〜５００
ｎｍ程度あればよい。

【００４３】次に、マスター情報担体に形成したパター
ン形状に対応した情報信号を、ディスク状磁気記録媒体
であるハードディスクに記録する手順について説明す
る。

【００４４】まず、図６に示すように、着磁用ヘッド６
をハードディスク１に近づけた状態で、ハードディスク
１の中心軸を回転軸としてハードディスク１と平行に回
転させることにより、図７の矢印で示すようにハードデ
ィスク１を予め一方向に磁化する（初期磁化）。

【００４５】次に、図１に示すように、ハードディスク
１にマスター情報担体２を位置決めして重ね合わせた状
態で、排気装置５を始動させることにより、ハードディ
スク１の中心孔１ａを通してマスター情報担体２が吸引
され、マスター情報担体２の強磁性薄膜１１が形成され
ている面とハードディスク１とが均一に密着するように
重ね合わされる。

【００４６】その後、図８に示すように、着磁用ヘッド
６による磁界の方向を初期磁化とは逆方向に発生するよ
うに電流の向きを逆にし、かつディスク保持体３に保持
されているハードディスク１の中心を回転中心として、
マスター情報担体２と平行に回転させることにより、マ
スター情報担体２に直流励磁磁界を印加する。これによ
り、マスター情報担体２の強磁性薄膜１１が磁化され、
そしてマスター情報担体２に重ね合わせたハードディス
ク１の所定の領域１ｂに、図９に示すように強磁性薄膜
１１による磁性部のパターン形状に対応した情報信号が
記録される。なお、図９に示す矢印は、この時ハードデ
ィスク１に転写記録される磁化パターンの磁界の方向を
示している。

【００４７】図１０にその磁化処理時の様子を示してお
り、図１０に示すように、マスター情報担体２を磁気記
録媒体であるハードディスク１に密着させた状態で、マ
スター情報担体２に外部から磁界を印加して強磁性薄膜
１１を磁化することによって、ハードディスク１の強磁
性薄膜からなる磁気記録層１ｃに情報信号を記録するこ
とができる。すなわち、非磁性の基体１０に所定のパタ
ーン形状で強磁性薄膜１１を形成して構成したマスター
情報担体２を用いることにより、ディジタル情報信号を
磁気記録媒体であるハードディスク１に磁気的に転写記
録することができる。

【００４８】なお、図６および図８に示した着磁用ヘッ
ド６は、図２に示した着磁用ヘッドとは異なる構成を有
するものであって、所定の方向に着磁された永久磁石ブ
ロックよりなる構成を示している。図６および図８で
は、直方体形状の着磁用ヘッドを示しているが、マスタ
ー情報担体２に対向する面形状が、記録再生用磁気ヘッ
ドのトラッキング走査軌道と一致するよう、円弧状に湾
曲させる構成としてもよい。このような円弧状の湾曲形
状を有する永久磁石ブロックよりなる着磁ヘッドとする
ことにより、図２に示した着磁用ヘッドと同様に、マス
ター情報担体に印加される磁界の方向は、トラッキング
走査軌道と常に垂直となり、マスター情報担体２の強磁
性薄膜は、全てのトラックにおいて、記録再生用磁気ヘ
ッドのトラッキング走査方向と垂直な方向に磁化され
る。

【００４９】また、マスター情報担体２のパターンをハ
ードディスク１に転写記録する際の方法として、上述の
ようにマスター情報担体２をハードディスク１に接触さ
せた状態で外部磁界を印加する方法以外に、マスター情
報担体２の強磁性薄膜１１をあらかじめ磁化させてお
き、その状態でマスター情報担体２をハードディスク１
に密着するように接触させる方法であってもディジタル
情報信号を記録することができる。

【００５０】ところで、本発明のようなマスター情報担
体から磁気記録媒体に転写記録する方法においては、マ
スター情報担体に、磁気記録媒体に記録させたい所定の
ディジタル情報信号に対応するような配列パターン形状
で強磁性薄膜による磁性部をあらかじめ形成しておき、
そしてそのマスター情報担体に磁気記録媒体を接触さ
せ、マスター情報担体に形成された配列パターン形状を
磁化パターンとして転写記録するため、マスター情報担
体に形成した磁性部の配列パターンに対応する磁化パタ
ーンとしていかに信頼性良く正確に転写できるかが重要
である。特に、磁気記録媒体がハードディスクの場合、
ハードディスク基板は金属、ガラス、シリコンあるいは
炭素といった高強度の剛体であるので、マスター情報担
体、特にマスター情報担体の強磁性薄膜を、ハードディ
スク全面に亘って均一にかつ安定に接触させることが必
要である。

【００５１】ところが、マスター情報担体からディジタ
ル情報信号を磁気記録媒体に転写記録すると、磁化パタ
ーンのエッジ部分や磁化反転領域ににじみが現れ、その
磁気記録媒体に転写記録された磁化パターンによる信号
を磁気ヘッドにより再生すると、再生信号のノイズ特性
が悪くなる現象が生じてしまう場合があることが判明し
た。

【００５２】本発明者らはこの課題に対して、種々の実
験と検討を繰り返し行った結果、転写記録時におけるマ
スター情報担体と磁気記録媒体との接触状態が影響を与
えることを見出した。

【００５３】すなわち、マスター情報担体に形成した強
磁性薄膜の表面にバリ等の突起形状が残ると、その突起
により磁気記録媒体との接触状態が悪くなり、再生信号
のノイズ特性が悪くなってしまう。

【００５４】そこで、本発明においては、図５に示すよ
うに、マスター情報担体２に形成される強磁性薄膜１１
の表面１１ａを略平坦に構成しており、これによってマ
スター情報担体２に形状パターンとして形成した情報信
号を信頼性よくハードディスク１などの磁気記録媒体に
転写記録できる。

【００５５】また、マスター情報担体２の構成におい
て、基体１０に情報信号に対応した凹部１０ａを形成
し、その凹部１０ａに強磁性薄膜１１を形成することに
より磁性部を設ける場合、基体１０の表面と強磁性薄膜
１１の表面との間の段差によっても、転写記録時におけ
るマスター情報担体と磁気記録媒体との接触状態に影響
を及ぼすことを見出した。

【００５６】図５において、凹部１０ａが形成されてい
る基体１０の一主面１０ｂと強磁性薄膜１１の表面１１
ａとの間の距離Ｘとし、そして強磁性薄膜１１の表面１
１ａが凹部１０ａの内部にある時の距離Ｘの値を負、強
磁性薄膜１１の表面１１ａが凹部１０ａより外部に突出
している時の距離Ｘの値を正とした時、距離Ｘが正の
値、すなわち強磁性薄膜１１が基体１０から突出してい
る状態では、強磁性薄膜１１は被転写媒体とよく密着す
るため、転写状態は良好であるが、距離Ｘが負の大きな
値、すなわち強磁性薄膜１１が基体１０の一主面１０ｂ
よりも大きくへこんだ状態の時は、その転写効率も低下
し、転写が十分でなかったり、被転写媒体上の信号のエ
ッジがにじんだりして、その再生信号のノイズ特性を悪
化させることが判明した。

【００５７】そこで、本発明においては、マスター情報
担体２の基体１０の一主面１０ｂより強磁性薄膜１１の
表面１１ａが突出するように構成しており、これによっ
てより高い信頼性でディジタル情報信号を転写記録でき
る。

【００５８】なお、本発明者らの実験によれば、本発明
によるマスター情報担体において、基体１０の一主面１
０ｂと強磁性薄膜１１の表面１１ａとの間の距離Ｘは２
００ｎｍ以下であることが好ましく、距離Ｘを２００ｎ
ｍ以下とすることによって、マスター情報担体内の距離
Ｘのバラツキを考慮しても安定に転写記録が可能であっ
た。

【００５９】さらに、本発明の記録方法において、上述
したように、マスター情報担体２の距離Ｘが負の大きな
値、すなわち強磁性薄膜１１が基体１０の一主面１０ｂ
よりも大きくへこんだ状態の時は、その転写効率も低下
し、転写が十分でなかったり、被転写媒体上の信号のエ
ッジがにじんだりして、その再生信号のノイズ特性を悪
化させるが、距離Ｘを適切な範囲に調整することによ
り、転写効率を低下させることなく、十分に転写記録が
行えることも見出した。

【００６０】図１１は、ビット長約２μｍ〜３μｍのデ
ィジタル情報信号を転写する場合について、距離Ｘと転
写効率との関係をシミュレーションした結果を示す図で
ある。

【００６１】本発明の記録方法において、転写効率が
０．７以上で実用上問題のない信号特性が得られること
が本発明者らの検証により把握しているが、図１１に示
すように、０．７以上の転写効率を得るためには、距離
Ｘが−１００ｎｍ以上であれば良い、すなわち−１００
ｎｍ≦Ｘの関係を満たすように構成すればよいことがわ
かる。

【００６２】すなわち、本発明の記録方法におけるマス
ター情報担体の構成において、基体に情報信号に対応し
た凹部を形成し、その凹部に強磁性薄膜をその表面が凹
部の内部にくるように形成することにより磁性部を設け
る場合、基体の一主面と強磁性薄膜の表面との間の距離
を１００ｎｍ以下とすることにより、実用上、問題なく
ディジタル情報信号を磁気記録媒体に転写記録できる。

【００６３】このように、本発明の構成とすることによ
り、高密度の情報信号を信頼性よく磁気記録媒体に記録
することができる。

【００６４】次に、マスター情報担体を製造する方法に
ついて説明する。

【００６５】本発明の記録方法に用いるマスター情報担
体は、Ｓｉ基板などの基体表面に、レジスト膜を成膜
し、紫外線光源あるいはレーザビームあるいは電子ビー
ムを用いたリソグラフィ技術によってレジスト膜を露
光、現像してパターニングした後、ドライエッチング等
によってエッチングして、情報信号に対応した微細な凹
凸形状を形成し、その後Ｃｏ等からなる強磁性薄膜をス
パッタリング法、真空蒸着法、イオンプレーティング
法、ＣＶＤ法、めっき法等により成膜した後、いわゆる
リフトオフ法によってレジスト膜とその上に形成された
不要な強磁性薄膜を除去することにより、凹部に強磁性
薄膜が埋め込まれた形態でかつ情報信号に対応した磁性
部を備えたマスター情報担体を得ることができる。

【００６６】なお、マスター情報担体の表面に凹凸形状
を形成する方法は上述の方法に限定されるものではな
く、例えば、レーザ、電子ビームまたはイオンビームを
用いて微細な凹凸形状を直接形成したり、機械加工によ
って微細な凹凸形状を直接形成してもよい。

【００６７】さらに、本発明の記録方法に用いるマスタ
ー情報担体の具体的な製造方法の一例を用いて説明す
る。まず、第１の例による製造方法について、図１２を
参照しながら説明する。

【００６８】図１２（ａ）に示すように、非磁性材料か
らなる円盤状の基板２０上に、所定のパターンのレジス
ト膜２１を形成する。レジスト膜２１には、例えばフォ
トレジストを用いることができる。レジスト膜２１は、
その後に形成されるマスター情報パターン（磁気記録媒
体に転写される磁化パターンに対応した配列パターン）
に対応したフォトマスクを用いて所定のパターンに露
光、現像が行われる。

【００６９】その後、図１２（ｂ）に示すように、レジ
スト膜２１が形成されていない部分の基板２０をエッチ
ングすることによって、凹部１０ａを備える基体１０を
形成する。エッチングには、ＲＩＥ（Ｒｅａｃｔｉｖｅ
Ｉｏｎ Ｅｔｃｈｉｎｇ（リアクティブイオンエッチ
ング））などのドライエッチングやウェットエッチング
を用いることができる。

【００７０】次に、図１２（ｃ）に示すように、強磁性
材料からなる強磁性薄膜１１を基体１０上に形成するこ
とによって、凹部１０ａに強磁性薄膜１１を形成する。
強磁性薄膜１１は、例えば蒸着法、スパッタリング法、
メッキ法などで形成できる。また、強磁性薄膜１１は、
凹部１０ａの深さと同程度の膜厚で形成する。その後、
図１２（ｄ）に示すように、レジスト膜２１を除去す
る。レジスト膜２１の除去は、例えば強磁性薄膜１１が
形成された基体１０をリムーバ等に浸漬し、超音波処理
すればよい。

【００７１】このレジスト膜２１を除去することによっ
て、レジスト膜２１上の強磁性薄膜１１がリフトオフさ
れる。この時、図１２（ｄ）に示すように、強磁性薄膜
１１には、突起１１ｂが形成される場合がある。

【００７２】その後、図１２（ｅ）に示すように、基体
１０の凹部１０ａが形成されている一主面１０ｂ側を研
磨することによって、強磁性薄膜１１の表面１１ａをほ
ぼ平坦とするとともに、基体１０の一主面１０ｂとの距
離Ｘが所定の間隔を満たすようにする。このようにし
て、マスター情報担体を製造することができる。

【００７３】上記の製造方法において、基体１０および
強磁性薄膜１１の研磨には、様々な方法を用いることが
できる。

【００７４】例えば、図１２（ｃ）において、凹部１０
ａの深さと同程度以上の膜厚の強磁性薄膜１１を形成し
た場合には、強磁性薄膜１１を集中的に研磨するような
研磨方法で、基体１１および強磁性薄膜１１を研磨すれ
ばよい。すなわち、基体１０を研磨するよりも速い速度
で強磁性薄膜１１を研磨する研磨液を用いて一主面１０
ｂ側を研磨すればよい。このときの研磨液として、ダイ
ヤモンド粒子を分散させた研磨液などを用いることがで
きる。

【００７５】一方、図１２（ｃ）において、凹部１０ａ
の深さよりも膜厚が薄い強磁性薄膜１１を形成した場合
には、基体１０を集中的に研磨するような研磨方法で、
基体１０および強磁性薄膜１１を研磨すればよい。すな
わち、強磁性薄膜１１を研磨するよりも速い速度で基体
１０を研磨する研磨液を用いて一主面１０ｂ側を研磨す
ればよい。このときの研磨液として、例えば基体１０が
Ｓｉからなる場合には、コロイダルシリカを分散させた
水溶液にアルミナ粒子を混ぜた研磨液を用いることがで
きる。

【００７６】なお、基体１０を集中的に研磨する研磨方
法、強磁性薄膜１１を集中的に研磨する研磨方法、およ
び基体１０と強磁性薄膜１１とを同様に研磨する方法を
必要に応じて組み合わせてもよい。例えば、まず強磁性
薄膜１１を集中的に研磨してから、基体１０を集中的に
研磨してもよく、またその逆でもよい。

【００７７】次に、第２の例による製造方法について、
図１３を参照しながら説明する。

【００７８】本実施例の製造方法では、図１３（ａ）に
示すように、非磁性材料からなる基板２０上に、レジス
ト膜２１を形成し、レジスト膜２１が形成されていない
部分の基板２０をエッチングすることによって、凹部１
０ａを備える基体１０を形成する。この工程について
は、図１２を参照して説明した上述の第１の例と同様で
ある。

【００７９】その後、図１３（ｂ）に示すように、レジ
スト膜２１を除去した後、図１３（ｃ）に示すように、
基体１０上に強磁性材料からなる強磁性薄膜１１を形成
することによって、凹部１０ａに強磁性薄膜１１を形成
する。強磁性薄膜１１は、例えば蒸着法、スパッタリン
グ法、メッキ法などで形成できる。また、強磁性薄膜１
１は、凹部１０ａの深さと同程度の膜厚で形成する。

【００８０】次に、図１３（ｄ）および図１３（ｅ）に
示すように、基体１０の凹部１０ａが形成されている一
主面１０ｂ側を研磨することによって、強磁性薄膜１１
の表面１１ａをほぼ平坦とするとともに、基体１０の一
主面１０ｂとの距離Ｘが所定の間隔を満たすようにす
る。このようにして、マスター情報担体を製造すること
ができる。

【００８１】なお、上記説明では、まず強磁性薄膜１１
を集中的に研磨してから、基体１０を集中的に研磨する
場合を示しているが、これに限らず上記実施例で説明し
たように、様々な研磨方法を用いることができる。

【００８２】次に、本発明の磁気記録再生装置およびハ
ードディスクドライブについて説明する。本発明の磁気
記録再生装置は、プリフォーマット記録された磁気記録
媒体を用いる磁気記録再生装置であって、磁気記録媒体
が上記本発明の製造方法によって製造された磁気記録媒
体である。

【００８３】また、本発明のハードディスクドライブ
は、ディスク状の磁気記録媒体を有するハードディスク
ドライブであって、磁気記録媒体が上記本発明の製造方
法によって製造された磁気記録媒体である。

【００８４】

【実施例】以下、本発明のマスター情報担体の製造方法
について、より具体的に説明する。

【００８５】（実施例１）まず、直径約１０ｃｍ（４イ
ンチ）のＳｉウェハーからなる基板上にフォトレジスト
を塗布し、フォトマスクを用いて所定のパターンを露
光、現像してレジスト膜を形成した（図１２（ａ）参
照）。その後、リアクティブイオンエッチング（ＲＩ
Ｅ）装置でレジストパターン通りにＳｉウェハーをエッ
チングすることによって、凹部を有する基体を形成した
（図１２（ｂ）参照）。この時、エッチング深さは５０
０ｎｍとした。

【００８６】次に、レジスト膜を形成したままの状態
で、基体上にＣｏ薄膜（強磁性薄膜１１）をスパッタ成
膜した（図１２（ｃ）参照）。この時のスパッタ条件
は、スパッタガス圧（Ａｒガス）約０．６６５Ｐａ（約
５ｍＴｏｒｒ）、成膜速度約５０ｎｍ／ｍｉｎであっ
た。

【００８７】その後、Ｃｏ薄膜を成膜した基体をレジス
ト膜のリムーバに浸け、超音波を用いてリフトオフした
（図１２（ｄ）参照）。これによって、レジスト膜の上
に形成されたＣｏ薄膜はレジスト膜とともに除去される
が、一部パターンのエッジ部にはバリとして、突起が発
生した。

【００８８】次に、Ｃｏ薄膜が形成された側の面を研磨
するのであるが、この時の工程を図１４に示す。

【００８９】図１４に示すように、研磨クロス３０（エ
ンギス社製、Ｄ−１００）を貼った定盤３１上に、Ｃｏ
成膜面が研磨クロス３０側に位置するように基体１０を
配置し、研磨液を用いて研磨を行った。研磨液には、コ
ンポール８０（マブチ・エスアンド ティー社、コロイ
ダルシリカおよびアルミナ粒子を樹脂系アミンに分散さ
せた研磨液）を用いた。研磨時間は約５分であった。こ
の実施例１の研磨では、基体１０の表面に軟質の水和膜
が形成されると同時に形成された水和膜が拭い取られ、
Ｃｏ薄膜よりも速い研磨速度で基体１０が研磨された。
また、Ｃｏ薄膜に形成された突起も研磨されて除去され
た。その後、超音波洗浄を行うことによって、基体１１
やＣｏ薄膜に付着した研磨粒子を除去した。

【００９０】以上のプロセスにより作製されたマスター
情報担体は、基体であるＳｉウェハーの表面から、Ｃｏ
からなる強磁性薄膜の表面が約１０ｎｍ飛び出していた
（距離Ｘが１０（ｎｍ）であった）。また、Ｃｏからな
る強磁性薄膜の表面は略平坦であった。

【００９１】（実施例２）まず、直径約１０ｃｍ（４イ
ンチ）のＳｉウェハーからなる基板上にレジスト膜を形
成したのち、レジストパターン通りにＳｉウェハーをエ
ッチングすることによって、凹部を有する基体を形成し
た（図１３（ａ）参照）。この時、エッチング深さは５
００ｎｍとした。なお、レジスト膜の形成方法およびＳ
ｉウェハーのエッチング方法については、実施例１と同
様であるため、重複する説明は省略する。

【００９２】次に、レジスト膜をリムーバで処理して除
去した（図１３（ｂ）参照）後、Ｃｏからなる強磁性薄
膜１１をスパッタ成膜した。この時のスパッタ条件は、
実施例１の場合と同じである。

【００９３】その後、図１４に示すように、研磨クロス
３０（エンギス社製、Ｄ−１００）を貼った定盤３１上
にＣｏ成膜面が研磨クロス側に位置するように基体１０
を配置し、基体１０の表面が露出するまでＣｏ成膜面を
研磨した。この時、研磨液として、平均粒径１μｍのダ
イヤモンド粒子を分散させた研磨液（エンギス社製、ハ
イプレスダイヤモンド、１ＳＴＤ）を用い、研磨時間は
約２０分とした。この時の研磨では、基体１０よりも速
い研磨速度でＣｏ薄膜が研磨された。

【００９４】その後、研磨した基体１０を超音波洗浄す
ることによって、残留した研磨粒子を取り除いた。この
時、凹部内のＣｏ薄膜は、Ｓｉウェハーの一主面（凹部
が形成されている側の主面）から約８０ｎｍへこんだ状
態になっていた。また、Ｓｉウェハーの所々には研磨に
よるスクラッチ傷が認められた。

【００９５】次に、図１４に示すように、研磨クロス３
０を貼った定盤３１上で、基体１０のＣｏ成膜面をさら
に研磨した。研磨液には、コンポール８０（マブチ・エ
スアンド ティー社、コロイダルシリカおよびアルミナ
粒子を樹脂系アミンに分散させた研磨液）を用い、研磨
時間は約７分とした。この時の研磨では、Ｃｏ薄膜より
も速い研磨速度で基体１０が研磨された。その後、超音
波洗浄を行って、残留した研磨粒子を除去した。

【００９６】以上のプロセスにより作製されたマスター
情報担体は、基体であるＳｉウェハーの表面から、Ｃｏ
からなる強磁性薄膜の表面が約１０ｎｍ飛び出してい
た。また、Ｃｏからなる強磁性薄膜の表面は略平坦であ
った。

【００９７】（実施例３）本実施例３では、図１２
（ｄ）のリフトオフの工程までは、実施例１と同様であ
るので重複する説明を省略する。

【００９８】レジスト膜を除去してリフトオフした後、
図１５に示す方法で、Ｓｉウェハーからなる基体１０の
一主面を研磨した。すなわち、まずＳｉウェハーの一主
面とは反対側の他面を、略平坦な弾性体４０の上に固定
した。そして、弾性体４０を回転させることによって基
体１０を回転させるとともに、ダイヤモンド研磨テープ
４１を接触させることによって基体１０の一主面側を研
磨した。ダイヤモンド研磨テープ４１は、剛性体ロール
４２でＳｉウェハーの方に押圧しながら剛性体ロール４
２の円周方向に沿ってＳｉウェハーに対して相対移動さ
せた。なお、ダイヤモンド研磨テープ４１と剛性体ロー
ル４２は、図１５の矢印で示すように、Ｓｉウェハーの
略径方向にも移動させた。その後、超音波洗浄によっ
て、基体１０に残留した研磨粒子を取り除いた。

【００９９】以上のプロセスにより作製されたマスター
情報担体は、Ｃｏからなる強磁性薄膜の表面が基体の表
面から約５ｎｍへこんでいた（距離Ｘが−５（ｎ
ｍ））。また、Ｃｏからなる強磁性薄膜の表面は略平坦
であった。

【０１００】この本実施例３の製造方法では、弾性体４
０上にＳｉウェハーを固定することによって、Ｓｉウェ
ハーの全面を略均一に研磨することができ、また剛性体
ロール４２を用いてダイヤモンド研磨テープ４１を押圧
することによって、Ｃｏ薄膜が研磨されすぎることを防
止できた。

【０１０１】なお、本実施例３の製造方法において、ダ
イヤモンド研磨テープ４１を酸化クロムテープに変更
し、さらに研磨時に研磨面に潤滑剤を供給した場合も、
上記と同様にマスター情報担体を製造することができ
た。この時の潤滑剤には、フォンブリン・Ｚ−ＤＯＬ
（アウジモント社製）を用いたが、他の潤滑剤を用いる
こともできる。また、研磨時に潤滑剤を供給することに
よって、ダイヤモンド研磨テープ４１が基体１０に焼き
付くのを防止することができた。

【０１０２】以上、本発明の実施の形態について例を挙
げて説明したが、本発明は上記実施形態に限定されず、
本発明の技術的思想に基づいて他の実施形態に適用する
ことができる。

【０１０３】例えば、基体の凹部に強磁性薄膜を形成す
る方法は、上記実施形態の方法に限定されず、他の方法
を用いてもよい。また、基体を研磨する方法は、上記実
施形態の方法に限定されず、他の方法を用いてもよい。

【０１０４】

【発明の効果】以上説明したように、本発明のマスター
情報担体によれば、磁気記録媒体、特に固定ハードディ
スク媒体、リムーバブルハードディスク媒体、大容量フ
レキシブル媒体等のディスク状磁気記録媒体に、短時間
に生産性良く、しかも磁気記録媒体全面に亘って均一に
かつ安定して高密度の情報信号を記録することができる
マスター情報担体が得られる。

【０１０５】また、本発明のマスター情報担体の製造方
法によれば、本発明のマスター情報担体を容易に製造で
きる。

【０１０６】また、本発明の磁気記録媒体の製造方法に
よれば、磁気記録媒体、特に固定ハードディスク媒体、
リムーバブルハードディスク媒体、大容量フレキシブル
媒体等のディスク状磁気記録媒体に、短時間に生産性良
く、しかも磁気記録媒体全面に亘って均一にかつ安定し
て高密度の情報信号を記録することができる。

【０１０７】また、本発明の磁気記録再生装置によれ
ば、高密度の情報信号が予め記録された磁気記録媒体を
備えた磁気記録再生装置を、安価かつ生産性よく供給す
ることができる。

【０１０８】また、本発明のハードディスクドライブに
よれば、高密度記録が可能でかつサーボトラッキング性
能に優れたハードディスクドライブを、安価かつ生産性
よく提供することができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】 本発明の実施の形態による磁気記録媒体への
記録方法を実施するための装置の一例の概要を示す断面
図である。

【図２】 図1の主要部を示す斜視図である。

【図３】 本発明の記録方法に用いるマスター情報担体
の一例を示す平面図である。

【図４】 マスター情報担体に形成される情報信号の配
列パターンの一例を説明するための模式図である。

【図５】 本発明によるマスター情報担体の一例を示す
一部断面図である。

【図６】 本発明による磁気記録媒体の製造方法におい
て、ハードディスクに一方向磁界を印加している状況を
示す斜視図である。

【図７】 図６に示す工程により一方向に着磁されたハ
ードディスクの状況を模式的に示す斜視図である。

【図８】 本発明による記録方法によりハードディスク
に情報信号を転写記録している状況を示す斜視図であ
る。

【図９】 図８に示す工程により情報信号が記録された
ハードディスクの状況を模式的に示す斜視図である。

【図１０】 図８に示す工程によりハードディスクに情
報信号を転写記録した場合の磁化パターンの様子を説明
するための模式図である。

【図１１】 本発明による記録方法に用いるマスター情
報担体において、基体の表面と強磁性薄膜の表面との間
の距離Ｘに対する転写効率の変化を示すグラフである。

【図１２】 本発明の記録方法に用いるマスター情報担
体の製造方法の一実施例を示す工程図である。

【図１３】 本発明の記録方法に用いるマスター情報担
体の製造方法の他の実施例を示す工程図である。

【図１４】 本発明の記録方法に用いるマスター情報担
体の製造方法において、その一工程の例を示す斜視図で
ある。

【図１５】 本発明の記録方法に用いるマスター情報担
体の製造方法において、その一工程の他の例を示す斜視
図である。

【符号の説明】

１ ハードディスク ２ マスター情報担体 ２ａ 信号領域 ６ 着磁用ヘッド １０ 基体 １０ａ 凹部 １０ｂ 一主面 １１ 強磁性薄膜 １１ａ 表面 ２０ 基板 ２１ レジスト膜 ３０ 研磨クロス ４０ 弾性体 ４１ ダイヤモンド研磨テープ ４２ 剛性体ロール

Claims (14)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 情報信号の磁化パターンを磁気記録媒体
   に転写記録するためのマスター情報担体であって、 基体と、前記磁化パターンに対応する配列パターンを形
   成するように前記基体上に配置された強磁性薄膜とを備
   え、 前記強磁性薄膜の表面が略平坦であることを特徴とする
   マスター情報担体。
2. 【請求項２】 情報信号の磁化パターンを磁気記録媒体
   に転写記録するためのマスター情報担体であって、 基体と、前記磁化パターンに対応する配列パターンを形
   成するように前記基体上に形成された強磁性薄膜とを備
   え、 前記強磁性薄膜は、その表面が前記基体の表面から突出
   するように形成されていることを特徴とするマスター情
   報担体。
3. 【請求項３】 前記基体は、前記磁化パターンに対応す
   る位置に形成された凹部を備え、 前記強磁性薄膜は、その表面が前記基体の表面よりも突
   出するように前記凹部に形成されている請求項２に記載
   のマスター情報担体。
4. 【請求項４】 前記基体の表面と前記強磁性薄膜の表面
   との間の距離が２００ｎｍ以下である請求項２または３
   に記載のマスター情報担体。
5. 【請求項５】 前記強磁性薄膜の表面が略平坦である請
   求項２または３に記載のマスター情報担体。
6. 【請求項６】 情報信号の磁化パターンを磁気記録媒体
   に転写記録するためのマスター情報担体であって、 前記磁化パターンに対応する位置に凹部が形成された基
   体と、表面が前記凹部の内部に配置されるように前記凹
   部内に形成された強磁性薄膜とを備え、 前記基体の前記凹部側の表面と前記強磁性薄膜の表面と
   の間の距離が１００ｎｍ以下であることを特徴とするマ
   スター情報担体。
7. 【請求項７】 磁気記録媒体に情報信号を転写記録する
   ためのマスター情報担体の製造方法であって、 基体上に、前記情報信号に対応する配列パターンを形成
   するように凹部を形成する第１の工程と、 前記凹部内に強磁性薄膜を形成したのち、前記基体の前
   記凹部が形成された一主面側を研磨する第２の工程とを
   含むことを特徴とするマスター情報担体の製造方法。
8. 【請求項８】 前記第２の工程は、前記強磁性薄膜を研
   磨するよりも速い速度で前記基体を研磨する研磨液を用
   いて前記一主面側を研磨する工程を含む請求項７に記載
   のマスター情報担体の製造方法。
9. 【請求項９】 前記第２の工程は、 前記基体を研磨するよりも速い速度で前記強磁性薄膜を
   研磨する研磨液を用いて前記一主面側を研磨する工程
   と、 その後、前記強磁性薄膜を研磨するよりも速い速度で前
   記基体を研磨する研磨液を用いて前記一主面側を研磨す
   る工程とを含む請求項７に記載のマスター情報担体の製
   造方法。
10. 【請求項１０】 前記第２の工程は、表面が略平坦な弾
    性体上に前記基体を固定したのち、前記一主面側を研磨
    テープで研磨する工程を含む請求項７に記載のマスター
    情報担体の製造方法。
11. 【請求項１１】 前記第２の工程において、前記一主面
    側を研磨する際に、前記基体と前記研磨テープとの間に
    液状潤滑剤を供給する請求項１０に記載のマスター情報
    担体の製造方法。
12. 【請求項１２】 情報信号が記録された磁気記録媒体の
    製造方法であって、 前記情報信号に対応する配列パターンを形成するように
    配置された強磁性薄膜からなる磁性部を備えるマスター
    情報担体を、前記磁性部が磁気記録媒体側になるように
    前記磁気記録媒体に重ね合わせるとともに、前記磁性部
    を磁化することによって、前記配列パターンを前記磁気
    記録媒体に転写記録する工程を含み、 前記マスター情報担体が請求項１ないし６のいずれかに
    記載のマスター情報担体であることを特徴とする磁気記
    録媒体の製造方法。
13. 【請求項１３】 プリフォーマット記録された磁気記録
    媒体を用いる磁気記録再生装置であって、 前記磁気記録媒体が請求項１２に記載の製造方法によっ
    て製造された磁気記録媒体であることを特徴とする磁気
    記録再生装置。
14. 【請求項１４】 ディスク状の磁気記録媒体を有するハ
    ードディスクドライブであって、 前記磁気記録媒体が請求項１２に記載の製造方法によっ
    て製造された磁気記録媒体であることを特徴とするハー
    ドディスクドライブ。