JP2001019438A - 多孔質ガラス母材原料液の気化装置 - Google Patents
多孔質ガラス母材原料液の気化装置Info
- Publication number
- JP2001019438A JP2001019438A JP18485199A JP18485199A JP2001019438A JP 2001019438 A JP2001019438 A JP 2001019438A JP 18485199 A JP18485199 A JP 18485199A JP 18485199 A JP18485199 A JP 18485199A JP 2001019438 A JP2001019438 A JP 2001019438A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- raw material
- tank
- porous glass
- gas supply
- source
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
- C03B37/00—Manufacture or treatment of flakes, fibres, or filaments from softened glass, minerals, or slags
- C03B37/01—Manufacture of glass fibres or filaments
- C03B37/012—Manufacture of preforms for drawing fibres or filaments
- C03B37/014—Manufacture of preforms for drawing fibres or filaments made entirely or partially by chemical means, e.g. vapour phase deposition of bulk porous glass either by outside vapour deposition [OVD], or by outside vapour phase oxidation [OVPO] or by vapour axial deposition [VAD]
- C03B37/01413—Reactant delivery systems
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
- C03B19/00—Other methods of shaping glass
- C03B19/14—Other methods of shaping glass by gas- or vapour- phase reaction processes
- C03B19/1415—Reactant delivery systems
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
- C03B2207/00—Glass deposition burners
- C03B2207/80—Feeding the burner or the burner-heated deposition site
- C03B2207/85—Feeding the burner or the burner-heated deposition site with vapour generated from liquid glass precursors, e.g. directly by heating the liquid
- C03B2207/86—Feeding the burner or the burner-heated deposition site with vapour generated from liquid glass precursors, e.g. directly by heating the liquid by bubbling a gas through the liquid
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
- C03B2207/00—Glass deposition burners
- C03B2207/80—Feeding the burner or the burner-heated deposition site
- C03B2207/85—Feeding the burner or the burner-heated deposition site with vapour generated from liquid glass precursors, e.g. directly by heating the liquid
- C03B2207/87—Controlling the temperature
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
- C03B2207/00—Glass deposition burners
- C03B2207/80—Feeding the burner or the burner-heated deposition site
- C03B2207/85—Feeding the burner or the burner-heated deposition site with vapour generated from liquid glass precursors, e.g. directly by heating the liquid
- C03B2207/88—Controlling the pressure
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- General Chemical & Material Sciences (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- General Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Geochemistry & Mineralogy (AREA)
- Glass Melting And Manufacturing (AREA)
- Manufacture, Treatment Of Glass Fibers (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】多孔質ガラス母材の原料液を気化させて酸水素
バーナに供給する際に、気化した原料とキャリアガスと
の組成比を一定に維持し、原料液の純度を低下させるこ
となく長期間継続使用が可能な気化装置を提供する。 【解決手段】気化装置は、原料液体供給源、キャリアガ
ス供給源１１、および気体供給先２１に各々連結する密
閉系のタンク５を備えた多孔質ガラス母材原料液の気化
装置であって、タンク５内の原料液体４を加熱する加熱
源８と、原料液体４を検温する温度センサ９と、温度セ
ンサ９の検温温度により加熱源８へのエネルギー供給量
を増減する制御回路１０、およびタンクの内圧を計測す
る圧力計１６と、キャリアガス供給源１１からタンク５
に至る途中に配置される流量調整弁１４と、圧力計１６
の計測内圧により流量調整弁１４を開閉する制御回路１
５、を有している。
バーナに供給する際に、気化した原料とキャリアガスと
の組成比を一定に維持し、原料液の純度を低下させるこ
となく長期間継続使用が可能な気化装置を提供する。 【解決手段】気化装置は、原料液体供給源、キャリアガ
ス供給源１１、および気体供給先２１に各々連結する密
閉系のタンク５を備えた多孔質ガラス母材原料液の気化
装置であって、タンク５内の原料液体４を加熱する加熱
源８と、原料液体４を検温する温度センサ９と、温度セ
ンサ９の検温温度により加熱源８へのエネルギー供給量
を増減する制御回路１０、およびタンクの内圧を計測す
る圧力計１６と、キャリアガス供給源１１からタンク５
に至る途中に配置される流量調整弁１４と、圧力計１６
の計測内圧により流量調整弁１４を開閉する制御回路１
５、を有している。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、光ファイバーの原
材となる多孔質ガラス母材の製造の際に用いられる、多
孔質ガラス母材原料液を気化させる装置に関するもので
ある。
材となる多孔質ガラス母材の製造の際に用いられる、多
孔質ガラス母材原料液を気化させる装置に関するもので
ある。
【０００２】
【従来の技術】光ファイバは、多孔質ガラス母材を原材
としており、これを焼結、延伸、線引きして得られるも
のである。多孔質ガラス母材は、テトラクロロシランや
テトラクロロゲルマニウムを気化して水素火炎バーナに
供給し、水素火炎中で加水分解して生成したガラス微粒
子が堆積したものである。
としており、これを焼結、延伸、線引きして得られるも
のである。多孔質ガラス母材は、テトラクロロシランや
テトラクロロゲルマニウムを気化して水素火炎バーナに
供給し、水素火炎中で加水分解して生成したガラス微粒
子が堆積したものである。
【０００３】原料液のテトラクロロシランやテトラクロ
ロゲルマニウムを気化させるために、常圧で沸点以上に
加熱する原料液蒸発装置が、特公昭６３−２０７７２号
公報に開示されている。原料液蒸発装置を継続使用する
と、原料液が長期間高温に晒されるため、自己分解、不
純物として存在する極少量の水による部分加水分解、ゲ
ル化、不純物結晶の析出等を誘発し、原料液の純度の低
下を引き起こしていた。
ロゲルマニウムを気化させるために、常圧で沸点以上に
加熱する原料液蒸発装置が、特公昭６３−２０７７２号
公報に開示されている。原料液蒸発装置を継続使用する
と、原料液が長期間高温に晒されるため、自己分解、不
純物として存在する極少量の水による部分加水分解、ゲ
ル化、不純物結晶の析出等を誘発し、原料液の純度の低
下を引き起こしていた。
【０００４】また、減圧下、低温で加熱しつつ、アルゴ
ンや酸素などのキャリアガスを原料液中でバブリングさ
せ、平衡蒸気圧の分圧を有する気化原料とするバブラー
と呼ばれる装置も用いられている。バブラーでは、気化
原料の水素火炎バーナへの供給量の変動によりバブラー
内部の圧力が変化したり、長期間継続使用により水素火
炎バーナへの供給管、フィルター、バルブの目詰まり等
を起こして圧力が増加してしまう。そのため、原料液の
平衡蒸気圧が変動し気化原料とキャリアガスとの組成比
が一定とならず、均質にガラス微粒子が堆積しないとい
う問題があった。
ンや酸素などのキャリアガスを原料液中でバブリングさ
せ、平衡蒸気圧の分圧を有する気化原料とするバブラー
と呼ばれる装置も用いられている。バブラーでは、気化
原料の水素火炎バーナへの供給量の変動によりバブラー
内部の圧力が変化したり、長期間継続使用により水素火
炎バーナへの供給管、フィルター、バルブの目詰まり等
を起こして圧力が増加してしまう。そのため、原料液の
平衡蒸気圧が変動し気化原料とキャリアガスとの組成比
が一定とならず、均質にガラス微粒子が堆積しないとい
う問題があった。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】本発明は前記の課題を
解決するためなされたもので、多孔質ガラス母材の原料
液を気化させて酸水素バーナに供給する際に、気化原料
とキャリアガスとの組成比を一定に維持し、原料液の純
度を低下させることなく長期間継続使用が可能な気化装
置を提供することを目的とする。
解決するためなされたもので、多孔質ガラス母材の原料
液を気化させて酸水素バーナに供給する際に、気化原料
とキャリアガスとの組成比を一定に維持し、原料液の純
度を低下させることなく長期間継続使用が可能な気化装
置を提供することを目的とする。
【０００６】
【課題を解決するための手段】前記の目的を達成するた
めになされた本発明の多孔質ガラス母材原料液の気化装
置は、実施例に対応する図面を参照して説明すると以下
のとおりである。
めになされた本発明の多孔質ガラス母材原料液の気化装
置は、実施例に対応する図面を参照して説明すると以下
のとおりである。
【０００７】気化装置は、図１に示すとおり、原料液体
供給源、キャリアガス供給源１１、および気体供給先２
１、２２に各々連結する密閉系のタンク５を備えた多孔
質ガラス母材原料液の気化装置であって、タンク５内の
原料液体４を加熱する加熱源８と、原料液体４を検温す
る温度センサ９と、温度センサ９の検温温度により加熱
源８へのエネルギー供給量を増減する制御回路１０、お
よびタンク５の内圧を計測する圧力計１６と、キャリア
ガス供給源１１からタンク５に至る途中に配置される流
量調整弁１４と、圧力計１６の計測内圧により流量調整
弁１４を開閉する制御回路１５、を有している。
供給源、キャリアガス供給源１１、および気体供給先２
１、２２に各々連結する密閉系のタンク５を備えた多孔
質ガラス母材原料液の気化装置であって、タンク５内の
原料液体４を加熱する加熱源８と、原料液体４を検温す
る温度センサ９と、温度センサ９の検温温度により加熱
源８へのエネルギー供給量を増減する制御回路１０、お
よびタンク５の内圧を計測する圧力計１６と、キャリア
ガス供給源１１からタンク５に至る途中に配置される流
量調整弁１４と、圧力計１６の計測内圧により流量調整
弁１４を開閉する制御回路１５、を有している。
【０００８】気体供給先が複数の水素火炎バーナ２１、
２２であってもよい。気体供給先２１、２２への経路途
中に気体供給量制御弁１８、１９を有していることが好
ましい。気体供給先２１、２２での所望量を適宜供給す
るために、気体供給量制御弁１８、１９へ繋がった流量
制御装置を有していてもよい。
２２であってもよい。気体供給先２１、２２への経路途
中に気体供給量制御弁１８、１９を有していることが好
ましい。気体供給先２１、２２での所望量を適宜供給す
るために、気体供給量制御弁１８、１９へ繋がった流量
制御装置を有していてもよい。
【０００９】この気化装置を用いると、加熱源８へのエ
ネルギー供給量を増減することにより原料液体４の温度
を一定に維持し、流量調整弁１４を開閉することにより
タンク５の内圧を一定に維持することができる。そのた
め原料液体４の平衡蒸気圧が一定となり、気化原料とキ
ャリアガスとの組成比が変動しない。水素火炎バーナ２
１、２２へ一定の組成比の気化原料を供給することがで
きる。原料液体４の温度と、タンク５の内圧とは任意に
設定することができる。
ネルギー供給量を増減することにより原料液体４の温度
を一定に維持し、流量調整弁１４を開閉することにより
タンク５の内圧を一定に維持することができる。そのた
め原料液体４の平衡蒸気圧が一定となり、気化原料とキ
ャリアガスとの組成比が変動しない。水素火炎バーナ２
１、２２へ一定の組成比の気化原料を供給することがで
きる。原料液体４の温度と、タンク５の内圧とは任意に
設定することができる。
【００１０】本発明の多孔質ガラス母材の製造方法は、
前記気化装置を用いて気化した多孔質ガラス母材原料が
火炎中で加水分解されて生成したガラス微粒子を、堆積
させるものである。気化原料の組成比が一定なので、ガ
ラス微粒子は均質である。
前記気化装置を用いて気化した多孔質ガラス母材原料が
火炎中で加水分解されて生成したガラス微粒子を、堆積
させるものである。気化原料の組成比が一定なので、ガ
ラス微粒子は均質である。
【００１１】
【発明の実施の形態】以下、本発明の実施例を詳細に説
明する。図１には、本発明を適用する多孔質ガラス母材
原料液の気化装置の実施例のブロック図が示されてい
る。
明する。図１には、本発明を適用する多孔質ガラス母材
原料液の気化装置の実施例のブロック図が示されてい
る。
【００１２】図１に示すように、多孔質ガラス母材原料
液の気化装置は、外界と遮断され内容物が遺漏しないよ
うに気密となっているタンク５を有している。タンク５
は、キャリアガス供給源であるアルゴンガスボンベ１１
に繋がったガス導入管１２が底近傍まで挿入されてい
る。ガス導入管１２の途中に、加圧エアー源を駆動源と
する流量調整弁１４が配置されている。タンク５の圧力
計１６は比例積分微分制御（ＰＩＤ制御）回路１５の入
力に接続されている。このＰＩＤ制御回路１５は流量調
整弁１４に接続している。
液の気化装置は、外界と遮断され内容物が遺漏しないよ
うに気密となっているタンク５を有している。タンク５
は、キャリアガス供給源であるアルゴンガスボンベ１１
に繋がったガス導入管１２が底近傍まで挿入されてい
る。ガス導入管１２の途中に、加圧エアー源を駆動源と
する流量調整弁１４が配置されている。タンク５の圧力
計１６は比例積分微分制御（ＰＩＤ制御）回路１５の入
力に接続されている。このＰＩＤ制御回路１５は流量調
整弁１４に接続している。
【００１３】タンク５の外周には加熱源である電熱ヒー
タ８が配置されている。タンク５の内部に熱伝対からな
る温度センサ９が挿入されている。温度センサ９はＰＩ
Ｄ制御回路１０の入力に接続されている。このＰＩＤ制
御回路１０は電源から電熱ヒータ８への電流回路上のサ
イリスタ７に接続されている。
タ８が配置されている。タンク５の内部に熱伝対からな
る温度センサ９が挿入されている。温度センサ９はＰＩ
Ｄ制御回路１０の入力に接続されている。このＰＩＤ制
御回路１０は電源から電熱ヒータ８への電流回路上のサ
イリスタ７に接続されている。
【００１４】テトラクロロシラン供給源に繋がった原料
液供給管２がタンク５に挿入されている。原料液供給管
２には原料液供給量調整弁３が配置されている。タンク
５の上方に気体供給管１７が接続されている。気体供給
管１７は分岐され複数の酸水素火炎バーナ２１、２２へ
繋がっている。気体供給管１７の経路途中には気体供給
量制御弁１８、１９が配置されている。
液供給管２がタンク５に挿入されている。原料液供給管
２には原料液供給量調整弁３が配置されている。タンク
５の上方に気体供給管１７が接続されている。気体供給
管１７は分岐され複数の酸水素火炎バーナ２１、２２へ
繋がっている。気体供給管１７の経路途中には気体供給
量制御弁１８、１９が配置されている。
【００１５】なお、タンク５、ガス導入管１２、原料液
供給管２、気体供給管１７がステンレス製であると耐久
性に優れているため好ましい。
供給管２、気体供給管１７がステンレス製であると耐久
性に優れているため好ましい。
【００１６】多孔質ガラス母材原料液の気化装置は、以
下のように使用される。原料液供給量調整弁３を開放
し、液体のテトラクロロシランをタンク５に充填する。
水素と酸素とを酸水素火炎バーナ２１、２２に流し点火
する。アルゴンガスボンベ１１の元栓を開放し、アルゴ
ンガスをテトラクロロシラン４液中でバブリングする。
電源に通電された電熱ヒータ８からの熱によりテトラク
ロロシランは気化する。気体供給量制御弁１８、１９を
開く。すると気化したテトラクロロシランとアルゴンガ
スとは、気体供給管１７を経て、気体供給量制御弁１
８、１９により所望量に調整されて、バーナ２１、２２
へ流される。
下のように使用される。原料液供給量調整弁３を開放
し、液体のテトラクロロシランをタンク５に充填する。
水素と酸素とを酸水素火炎バーナ２１、２２に流し点火
する。アルゴンガスボンベ１１の元栓を開放し、アルゴ
ンガスをテトラクロロシラン４液中でバブリングする。
電源に通電された電熱ヒータ８からの熱によりテトラク
ロロシランは気化する。気体供給量制御弁１８、１９を
開く。すると気化したテトラクロロシランとアルゴンガ
スとは、気体供給管１７を経て、気体供給量制御弁１
８、１９により所望量に調整されて、バーナ２１、２２
へ流される。
【００１７】消費された液体のテトラクロロシラン４を
補充するために、原料液供給量調整弁３により調整され
た量のテトラクロロシランが、テトラクロロシラン供給
源からタンク５へ注入される。
補充するために、原料液供給量調整弁３により調整され
た量のテトラクロロシランが、テトラクロロシラン供給
源からタンク５へ注入される。
【００１８】圧力計１６の計測内圧値はＰＩＤ制御回路
１５に入力される。計測内圧値が所定圧力より高いと、
ＰＩＤ制御回路１５が流量調整弁１４での流量を下げる
信号を出し、加圧エアー源の圧力によりアルゴンガスの
流量調整弁１４を絞る。すると気化したテトラクロロシ
ランのバーナ２１への吸引によりタンク５内の内圧は低
下する。一方、計測内圧値が所定圧力より低いと、ＰＩ
Ｄ制御回路１５が流量調整弁１４での流量を上げる信号
を出し、流量調整弁４を緩める。すると導入されたアル
ゴンガスによりタンク５内の内圧は上昇する。この繰り
返しによりタンク５内の内圧は常に所定圧力に維持され
る。
１５に入力される。計測内圧値が所定圧力より高いと、
ＰＩＤ制御回路１５が流量調整弁１４での流量を下げる
信号を出し、加圧エアー源の圧力によりアルゴンガスの
流量調整弁１４を絞る。すると気化したテトラクロロシ
ランのバーナ２１への吸引によりタンク５内の内圧は低
下する。一方、計測内圧値が所定圧力より低いと、ＰＩ
Ｄ制御回路１５が流量調整弁１４での流量を上げる信号
を出し、流量調整弁４を緩める。すると導入されたアル
ゴンガスによりタンク５内の内圧は上昇する。この繰り
返しによりタンク５内の内圧は常に所定圧力に維持され
る。
【００１９】温度センサ９の検温値はＰＩＤ制御回路１
０に入力される。検温値が所定温度より高いと、ＰＩＤ
制御回路１５が電源から電熱ヒータ８への電力量を下げ
る信号を出し、サイリスタ７により電熱ヒータ８への供
給電力量を低下させる。するとテトラクロロシランの気
化熱により温度は低下する。一方、検温値が所定温度よ
り低いと、ＰＩＤ制御回路１５が、電源から電熱ヒータ
８への電力量を上げる信号を出し、サイリスタ７により
電熱ヒータ８への供給電力量を上昇させる。すると電熱
ヒータ８からの供給熱量が増加し温度は上昇する。この
繰り返しによりテトラクロロシラン４の液温は常に所定
温度に維持される。
０に入力される。検温値が所定温度より高いと、ＰＩＤ
制御回路１５が電源から電熱ヒータ８への電力量を下げ
る信号を出し、サイリスタ７により電熱ヒータ８への供
給電力量を低下させる。するとテトラクロロシランの気
化熱により温度は低下する。一方、検温値が所定温度よ
り低いと、ＰＩＤ制御回路１５が、電源から電熱ヒータ
８への電力量を上げる信号を出し、サイリスタ７により
電熱ヒータ８への供給電力量を上昇させる。すると電熱
ヒータ８からの供給熱量が増加し温度は上昇する。この
繰り返しによりテトラクロロシラン４の液温は常に所定
温度に維持される。
【００２０】タンク５の内圧とテトラクロロシラン４の
液温が一定であると、テトラクロロシラン４の平衡蒸気
圧も常時一定となる。そのため気化したテトラクロロシ
ランとアルゴンガスとは分圧が変動せず組成比が一定と
なる。酸水素火炎バーナ２１、２２に供給された気化し
たテトラクロロシランを火炎中で加水分解させると均質
なガラス微粒子が形成されるので、均一に堆積した多孔
質ガラス母材２３が得られる。
液温が一定であると、テトラクロロシラン４の平衡蒸気
圧も常時一定となる。そのため気化したテトラクロロシ
ランとアルゴンガスとは分圧が変動せず組成比が一定と
なる。酸水素火炎バーナ２１、２２に供給された気化し
たテトラクロロシランを火炎中で加水分解させると均質
なガラス微粒子が形成されるので、均一に堆積した多孔
質ガラス母材２３が得られる。
【００２１】なお、制御回路１０、１５は、ＰＩＤ制御
回路であることが好ましいが、オンオフ制御回路であっ
てもよい。
回路であることが好ましいが、オンオフ制御回路であっ
てもよい。
【００２２】本発明の多孔質ガラス母材原料液の気化装
置を用いて多孔質ガラス母材を試作した。内容量１０Ｌ
のステンレス製タンク５に液体のテトラクロロシラン４
を充填する。アルゴンガスにより、タンク５内の圧力を
常時ゲージ圧で０．６ｋｇ／ｃｍ ２Ｇに調整する。テト
ラクロロシラン４の液温は常時４０℃に調整する。気化
したテトラクロロシランとアルゴンガスとを１３台の酸
水素火炎バーナに供給する。１本の多孔質ガラス母材は
１台のバーナを約４０時間連続稼動する１バッチの工程
で製造される。１バッチの工程が終了するとそのバーナ
のバルブを閉鎖し稼動を停止する。次の多孔質ガラス母
材の製造開始時にバルブを開放しバーナを再稼動する。
バーナのいずれかを常に使用しながら、４０００時間連
続して気化装置を稼動したところ、気化したテトラクロ
ロシランの全バーナへの単位時間当りの供給量は、稼動
しているバーナ台数の増減により、平均供給量に対し±
３０％変動した。しかし気化したテトラクロロシランと
キャリアガスとはその組成比が変動せずに各バーナへ安
定して供給された。
置を用いて多孔質ガラス母材を試作した。内容量１０Ｌ
のステンレス製タンク５に液体のテトラクロロシラン４
を充填する。アルゴンガスにより、タンク５内の圧力を
常時ゲージ圧で０．６ｋｇ／ｃｍ ２Ｇに調整する。テト
ラクロロシラン４の液温は常時４０℃に調整する。気化
したテトラクロロシランとアルゴンガスとを１３台の酸
水素火炎バーナに供給する。１本の多孔質ガラス母材は
１台のバーナを約４０時間連続稼動する１バッチの工程
で製造される。１バッチの工程が終了するとそのバーナ
のバルブを閉鎖し稼動を停止する。次の多孔質ガラス母
材の製造開始時にバルブを開放しバーナを再稼動する。
バーナのいずれかを常に使用しながら、４０００時間連
続して気化装置を稼動したところ、気化したテトラクロ
ロシランの全バーナへの単位時間当りの供給量は、稼動
しているバーナ台数の増減により、平均供給量に対し±
３０％変動した。しかし気化したテトラクロロシランと
キャリアガスとはその組成比が変動せずに各バーナへ安
定して供給された。
【００２３】なお、この気化装置は、テトラクロロシラ
ンやテトラクロロゲルマニウムの多孔質ガラス母材原料
液を気化させるものであるが、ハロゲン化アルキルシラ
ンやハロゲン化アルコキシシランを気化させるために用
いることもできる。また、多孔質ガラス母材を製造する
際に用いることが好ましいが、合成石英を製造する際に
用いることもできる。
ンやテトラクロロゲルマニウムの多孔質ガラス母材原料
液を気化させるものであるが、ハロゲン化アルキルシラ
ンやハロゲン化アルコキシシランを気化させるために用
いることもできる。また、多孔質ガラス母材を製造する
際に用いることが好ましいが、合成石英を製造する際に
用いることもできる。
【００２４】
【発明の効果】以上、詳細に説明したように本発明の多
孔質ガラス母材原料液の気化装置を用い、多孔質ガラス
母材を製造する際、複数の水素火炎バーナのうち、一部
の稼動を停止したり再稼動したときでも、タンク内の圧
力と、原料液の温度とを一定に維持することができる。
原料液の平衡蒸気圧が一定となり気化原料とキャリアガ
スとの組成比が常に一定に維持されるので、均質に多孔
質ガラス微粒子を堆積させて高品質な多孔質ガラス母材
を得ることができる。原料液を低い温度で気化させるこ
とができ原料液の自己分解等が抑制されるので、気化装
置を長期間継続して使用することができる。
孔質ガラス母材原料液の気化装置を用い、多孔質ガラス
母材を製造する際、複数の水素火炎バーナのうち、一部
の稼動を停止したり再稼動したときでも、タンク内の圧
力と、原料液の温度とを一定に維持することができる。
原料液の平衡蒸気圧が一定となり気化原料とキャリアガ
スとの組成比が常に一定に維持されるので、均質に多孔
質ガラス微粒子を堆積させて高品質な多孔質ガラス母材
を得ることができる。原料液を低い温度で気化させるこ
とができ原料液の自己分解等が抑制されるので、気化装
置を長期間継続して使用することができる。
【図１】本発明を適用する多孔質ガラス母材原料液の気
化装置の実施例を示すブロック図である。
化装置の実施例を示すブロック図である。
２は原料液供給管、３は原料液供給量調整弁、４は液体
のテトラクロロシラン、５はタンク、７はサイリスタ、
８は電熱ヒータ、９は温度センサ、１０はＰＩＤ制御回
路、１１はアルゴンガスボンベ、１２はガス導入管、１
４は流量調整弁、１５はＰＩＤ制御回路、１６は圧力
計、１７は気体供給管、１８・１９は気体供給量制御
弁、２１・２２は酸水素バーナ、２３は多孔質ガラス母
材である。
のテトラクロロシラン、５はタンク、７はサイリスタ、
８は電熱ヒータ、９は温度センサ、１０はＰＩＤ制御回
路、１１はアルゴンガスボンベ、１２はガス導入管、１
４は流量調整弁、１５はＰＩＤ制御回路、１６は圧力
計、１７は気体供給管、１８・１９は気体供給量制御
弁、２１・２２は酸水素バーナ、２３は多孔質ガラス母
材である。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 小出 弘行 群馬県安中市磯部２丁目13番１号 信越化 学工業株式会社精密機能材料研究所内 (72)発明者 平沢 秀夫 群馬県安中市磯部２丁目13番１号 信越化 学工業株式会社精密機能材料研究所内 Ｆターム(参考） 3E072 AA01 DB03 GA30 4G014 AH12 4G021 EA00 EB22 EB26
Claims (4)
- 【請求項１】 原料液体供給源、キャリアガス供給
源、および気体供給先に各々連結する密閉系のタンクを
備えた多孔質ガラス母材原料液の気化装置であって、タ
ンク内の原料液体を加熱する加熱源と、該原料液体を検
温する温度センサと、該温度センサの検温温度により該
加熱源へのエネルギー供給量を増減する制御回路、およ
びタンクの内圧を計測する圧力計と、該キャリアガス供
給源から該タンクに至る途中に配置される流量調整弁
と、該圧力計の計測内圧により該流量調整弁を開閉する
制御回路、を有する気化装置。 - 【請求項２】 該気体供給先が複数の水素火炎バーナ
であることを特徴とする請求項１に記載の気化装置。 - 【請求項３】 気体供給先への経路途中に気体供給量
制御弁を有することを特徴とする請求項１に記載の気化
装置。 - 【請求項４】 請求項１〜３のいずれかに記載の気化
装置を用いて気化した多孔質ガラス母材原料が火炎中で
加水分解されて生成したガラス微粒子を、堆積させるこ
とを特徴とする多孔質ガラス母材の製造方法。
Priority Applications (6)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP18485199A JP2001019438A (ja) | 1999-06-30 | 1999-06-30 | 多孔質ガラス母材原料液の気化装置 |
| TW089110793A TW584611B (en) | 1999-06-03 | 2000-06-02 | Apparatus for manufacturing glass base material and a method for manufacturing glass base material |
| EP00250172A EP1057792B1 (en) | 1999-06-03 | 2000-06-02 | A process and apparatus for vaporizing a liquid glass precursor for the manufacture of optical fibre preforms |
| US09/585,573 US6698240B1 (en) | 1999-06-03 | 2000-06-02 | Apparatus for manufacturing glass base material and a method for manufacturing glass base material |
| DE60021955T DE60021955T2 (de) | 1999-06-03 | 2000-06-02 | Verfahren und Vorrichtung zum Verdampfen von einem flüssigen Glasvorläufer für die Herstellung von Vorformen für optische Fasern |
| KR1020000030281A KR100632879B1 (ko) | 1999-06-03 | 2000-06-02 | 유리소재의 제조장치 및 제조방법 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP18485199A JP2001019438A (ja) | 1999-06-30 | 1999-06-30 | 多孔質ガラス母材原料液の気化装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2001019438A true JP2001019438A (ja) | 2001-01-23 |
Family
ID=16160426
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP18485199A Pending JP2001019438A (ja) | 1999-06-03 | 1999-06-30 | 多孔質ガラス母材原料液の気化装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2001019438A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR20030005648A (ko) * | 2001-07-09 | 2003-01-23 | 주식회사 세미텔 | 자동 리필 기능을 갖는 버블러 |
| JP2015504408A (ja) * | 2011-11-25 | 2015-02-12 | ヘレーウス クヴァルツグラース ゲゼルシャフト ミット ベシュレンクテル ハフツング ウント コンパニー コマンディートゲゼルシャフトＨｅｒａｅｕｓ Ｑｕａｒｚｇｌａｓ ＧｍｂＨ ＆ Ｃｏ． ＫＧ | スート法に従って合成石英ガラスを製造する方法 |
| JP2018193273A (ja) * | 2017-05-17 | 2018-12-06 | 住友電気工業株式会社 | ガラス原料容器 |
-
1999
- 1999-06-30 JP JP18485199A patent/JP2001019438A/ja active Pending
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR20030005648A (ko) * | 2001-07-09 | 2003-01-23 | 주식회사 세미텔 | 자동 리필 기능을 갖는 버블러 |
| JP2015504408A (ja) * | 2011-11-25 | 2015-02-12 | ヘレーウス クヴァルツグラース ゲゼルシャフト ミット ベシュレンクテル ハフツング ウント コンパニー コマンディートゲゼルシャフトＨｅｒａｅｕｓ Ｑｕａｒｚｇｌａｓ ＧｍｂＨ ＆ Ｃｏ． ＫＧ | スート法に従って合成石英ガラスを製造する方法 |
| JP2018193273A (ja) * | 2017-05-17 | 2018-12-06 | 住友電気工業株式会社 | ガラス原料容器 |
| CN108947211A (zh) * | 2017-05-17 | 2018-12-07 | 住友电气工业株式会社 | 玻璃原料容器 |
| CN108947211B (zh) * | 2017-05-17 | 2022-06-21 | 住友电气工业株式会社 | 玻璃原料容器 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| KR100222344B1 (ko) | 화학 기상 성장 장치 | |
| JPH02255595A (ja) | 有機金属化合物の気化供給方法とその装置 | |
| CN103361608A (zh) | 蒸镀装置 | |
| TWI568872B (zh) | 蒸鍍裝置 | |
| JPH0610144A (ja) | 低蒸気圧材料供給装置 | |
| JP2001019438A (ja) | 多孔質ガラス母材原料液の気化装置 | |
| KR19990036635A (ko) | 합성 석영글래스 제조방법 | |
| JP2008137871A (ja) | 合成シリカガラス製造装置、合成シリカガラス製造方法 | |
| IE802663L (en) | Growing silicate glass layers | |
| JP2866374B1 (ja) | エピタキシャル成長用ガスの供給方法及びその装置 | |
| JP4038866B2 (ja) | 合成石英ガラス製造方法 | |
| JP2003013233A (ja) | 液体原料気化供給装置 | |
| JP4277574B2 (ja) | 気体材料の供給法及び装置、並びにそれを用いたガラス微粒子堆積体及びガラス材料の製造法 | |
| JP2003340265A (ja) | 液体原料気化装置、液体原料気化方法、及びガラス母材の製造装置 | |
| KR940012531A (ko) | 고유전율을 갖는 유전체박막의 제조방법 및 그 제조장치 | |
| JPS62223037A (ja) | 多孔質ガラス層の形成方法 | |
| JPH04119928A (ja) | ガラス原料ガス発生装置 | |
| KR910009178B1 (ko) | 유리원료 공급방법 및 유리원료 공급장치 | |
| JPS6023290Y2 (ja) | 原料ガス供給装置 | |
| JPH0499279A (ja) | 液体材料の気体化供給方法と供給装置 | |
| KR100682585B1 (ko) | 단결정 성장 장치의 압력제어 시스템 및 이를 사용하는단결정 성장 공정의 압력 제어방법 | |
| JP3157693B2 (ja) | シリカガラス系堆積体の製造方法 | |
| JPH0397693A (ja) | 有機金属化合物の気化供給装置 | |
| JP2000264648A (ja) | 合成石英の製造方法 | |
| JPH047847A (ja) | 気相成長装置 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A977 | Report on retrieval |
Effective date: 20050615 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Effective date: 20050620 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 |
|
| A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20050729 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20060719 |
|
| A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20061115 |