JP2001017489A - 廃棄物処理システム - Google Patents

廃棄物処理システム

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JP2001017489A
JP2001017489A JP11181641A JP18164199A JP2001017489A JP 2001017489 A JP2001017489 A JP 2001017489A JP 11181641 A JP11181641 A JP 11181641A JP 18164199 A JP18164199 A JP 18164199A JP 2001017489 A JP2001017489 A JP 2001017489A
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waste
waste material
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liquid
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JP11181641A
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English (en)
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C Wilber Laurence
ローレンス・シィ・ウィルバー
Regura Peter
ピーター・レグラ
William M Doran
ウィリアム・エム・ドラン
H Darin Philippe Jr
フィリップ・エイチ・ダーリン・ジュニア
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American Immuno Technology LLC
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 限定的にではないが典型的には外科手術環境
における煙抽出システムおよび廃棄物(典型的には液
体)収集システムの機能を組合せた廃液および煙処分シ
ステムを提供する。 【解決手段】 煙抽出システムおよび液体廃棄物収集シ
ステムは、収集した廃棄物質を廃棄物処理(たとえば汚
染除去および/または殺菌)および処分システムに与え
るように接続され、処理された廃棄物は、安全に環境に
戻すことができる。ある実施例では、このシステムをカ
ートに載置された装置として設けて移動性を得る。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の分野】本発明は、一般的には医療廃棄物収集お
よび処理システムに関し、特定的には単一の移動システ
ムに統合されたシステムに関する。
【0002】
【従来の技術】外科手術の処置中に、患者の手術部位に
対し、たとえば焼灼処置を含むいくつかのプロトコルを
施すことがある。焼灼は、悪臭を放つ揮発性物質を含む
煙、および潜在的に感染性で空気で運ばれる粒子を生じ
させる。衛生上の理由から、この煙は、特に焼灼部位を
直接的に取巻いている空気の塊から除去しなければなら
ない。
【0003】焼灼によって生じた煙を除去する一方で、
その他のデトリタス、排出物などの除去も典型的かつ頻
繁に行なわれる。この物質は一般的には「廃棄物質」と
呼ばれているが、汚染しており、かつ/または有毒であ
ることが多い。
【0004】現在は、この廃棄物質を無公害性のやり方
で処分することは非常に環境上の注意を要することであ
り、かつ/または政治的に妥当なことである。この文脈
における無公害性の定義もまた非常に微妙である。結局
のところ、非常に慎重な技術およびプロトコルを用いて
こうした廃棄物質を処分することが必要である。
【0005】
【発明の概要】本発明の移動外科手術廃液および煙処分
システムは、煙抽出システム(特に焼灼処置中に発生し
た煙の除去のためのもの)と、手術部位からの液体廃棄
物または排出物を収集するための液体廃棄物収集システ
ムと、液体廃棄物処理(すなわち汚染除去および/また
は殺菌)および処分システムとの機能を組合せて、単一
で、統合されておりかつ移動可能な(たとえばカートに
取付けられた)システムにしたものである。このシステ
ムにより、手術チームは、最少の手術部品を用いて手術
部位を元のままの状態に迅速に、容易に、かつ効率的に
保つことができる。この移動性により、システムを簡単
かつ効率的に配置する(かつ再配置する)ことができ
る。本発明の処分装置を用いて廃棄物質を処理すること
により、廃棄物質を容易にかつ安全に処分することがで
きる。
【0006】
【好ましい実施例の説明】図1を参照すると、移動手術
廃液および煙処分および/または処理システム装置10
の外観斜視図が示されている。この装置10は、煙抽出
システム20、液体廃棄物収集システム30、ならびに
液体廃棄物処理(すなわち汚染除去または殺菌)および
処分システム40の機能を組合せて一体化したシステム
にしたものである。これらの構成部品については以下で
詳細に説明する。
【0007】好ましい実施例では、装置10は、適切な
車輪91を備えたカート90を含み、これによりこの装
置にピボット96で移動性が与えられる。ハンドル95
が装置に旋回可能に取付けられて、カート90およびこ
の上に載置された装置の移動を容易にしている。
【0008】好ましい実施例では、処理および処分シス
テム40は、熱交換器を含み、ここで廃棄物質を所定の
期間加熱して予め定められた温度にする。水の入口84
および廃棄物出口86が熱交換器システム41に接続さ
れる。ポンプ56は廃棄物収集システム30からの物質
を選択的に廃棄物処理システム40に移動させる。殺菌
されていない産物も与えられる。
【0009】液体廃棄物収集システム30は、キャップ
38が被せられた取付シリンダ34を含む。キャップ3
8は、洗浄スプレー管(以下参照)を挿入するために用
いられる開口部62Aを含む。キャップ38はまた、選
択的に焼灼器具などに接続されるポート118および1
18Aを含む。
【0010】さらに、キャップ38には、限定的にでは
ないが洗浄装置、吸入管などといったさらなる機器に選
択的に接続するための多ポートマニホルド131が設け
られている。
【0011】タワーハウジング120は、煙抽出システ
ム20および制御パネル220を支持する。システム2
0は、ファンすなわち送風機ユニットハウジング21お
よび煙排出管133を含む。煙排出管133は、以下で
述べるように煙抽出システム20を煙排出口に接続す
る。空気管27は、キャップ38から送風機システム2
0に接続される。(図2で詳細に示す。)制御パネル2
20は送風機ハウジング21における送風機の動作速度
を示す適切なディスプレイ210を含み、これが煙抽出
器20における真空の量を表わしている。ある実施例で
は、制御ノブ211(所望であればその他のもの)を設
けて送風機の速度を制御することができる。
【0012】さらに、制御パネルの都合のいい場所に、
適切周囲光センサ212およびIR信号検出器406
(以下で説明する)を、従来のパワースイッチ214と
ともに配置することができる。
【0013】次に図2を参照すると、装置10の煙抽出
システム20、液体廃棄物収集器30、および処理/処
分システム40をより詳細に示した図が示されている。
【0014】典型的には、手術部位12を有する患者1
4は、焼灼処置を受ける。この処置中に生じる煙は、典
型的には、焼灼部位を直接的に取巻いている空気の塊か
ら除去しなければならない、悪臭を放つ揮発性物質およ
び潜在的に感染性の空気で運ばれる粒子を含む。煙抽出
システム20を用いてこの除去を行なうことができる。
【0015】システム20は、ファンハウジング21と
その中に載置されたファン24とを含む。ファン24
は、典型的には通常または待機モードでは比較的低速で
動作するように設計されている。しかしながら、焼灼機
器26の電源をオンにすると、ファン24は図3におい
て概略的に示されこの図との関連で詳細に述べられるI
R電流センサスイッチ400によって、待機状態の低速
から比較的高速に切換えられる。
【0016】ファン24の高速動作により、ハウジング
21に接合された管27を通る気流が発生する。この気
流の方向は矢印27Aで示される。この気流がフィルタ
分離器22によりキャップ38の下に形成された入口チ
ャンバ29および59において適切な真空を生み出す
(詳細については図6参照)。特に、ファン24(また
は送風機)は、この実施例では典型的には9インチの水
銀柱のオーダ(最大)で、真空を生み出すのに十分に速
い速度で運転する。このチャンバ29からの気流(ハウ
ジング21におけるファン24によって生まれる)は、
キャップ38内のチャンバ59および29間に配置され
たフィルタ22を通過する。この実施例では、フィルタ
22は約10ミクロンよりも大きな粒子を濾過し、ファ
ン24を保護する役割を果たす。
【0017】チャンバ29内の真空が煙の流れを管18
を介して手術部位12からチャンバ29へ、チャンバ5
9へ、次に管27を通して送風機24へと誘導する。1
0ミクロンのプリフィルタ22がカバー38のチャンバ
29および59を分離させ、送風機24への煙の流れか
ら大きな粒子を取除く。
【0018】焼灼の煙が煙抽出システム20に捕えられ
るときは、管18からチャンバ29へと導かれる。ここ
から気流はフィルタ素子22を横切り(または通り)チ
ャンバ59へと向かい、それから上記のように管27を
通過する。この管27からの気流は送風機24を通過す
る。
【0019】煙は送風機24を通して流れ、次に効率の
高いフィルタ28を通過し、このフィルタが0.2ミク
ロンまでの粒子を除去する。煙は引続き活性化されたカ
ーボンフィルタ32を通過し、このフィルタが不快な香
りのもとになる揮発性の有機分子および化合物を吸収す
る。この濾過処理の組合せによって排気(矢印31で示
す)には実質的に粒子および香りがなくなる。排気31
は次に冷却の必要な種々のシステム構成部品のまわりに
排気管133を介して導かれ、最終的には大気に放出さ
れる。
【0020】先に示唆したように、焼灼中には、創傷部
位12からいくらかの液体がチャンバ29に流れる可能
性がある。たとえば、焼灼中に煙16の中で運ばれる液
滴および蒸気は、チャンバ29内で凝縮し集まる。しか
しながら、焼灼中は、チャンバ29内の圧力は先に述べ
たように収集容器39内の圧力よりも低い。この圧力の
不均衡がボール65を上向きに押し、フィルタ分離器2
2の開口64を封止し、チャンバ29および収集チャン
バ39間の通路を閉鎖する。
【0021】焼灼器具26の電源をオフにすると、送風
機24は低速に切換わり、適当に配置された気流オリフ
ィスを通して冷気を他のシステム構成部品に与える。焼
灼器の電源をオフにすると、チャンバ29の圧力は容器
39の圧力を超える(すなわちフィルタ分離器22下の
チャンバ)。この圧力の不均衡が、ボール65を下向き
に押し、以下で述べるように、チャンバ29内の液体は
液体廃棄物収集システム30の容器34の収集チャンバ
39に流出する。
【0022】真空またはコネクタ管42は、手術室(ま
たはその他の設備)内の既存の従来の真空システムに接
続される。利用できるおよそ2インチの水銀柱の真空が
タンクカバー38を通して導かれ、マニホルド131
(図1参照)のところにあるような入力オリフィスを通
して調節されて、ライナ36とシリンダ34の内面との
間に形成された空間に与えられ、ライナ36の外側には
完全な真空を生み出し、ライナ36の内側にはそれより
もわずかに程度の低い真空を生み出す。この空間は、シ
リンダの内面のスペーサリブ間で定められる。この配置
により、ライナ36はタンク34の内側の壁に対し完全
に膨張した状態を保つ。
【0023】この真空はまた、ソース42から、多ポー
トマニホルド131および1つ以上の管44を通して、
1つ以上の吸引ノズル46に送られ、ノズルが開放され
たときに液体廃棄物が手術部位12から引出される。部
位12からの液体およびその他の廃棄物は、ノズル4
6、管44およびマニホルド131を通過してチャンバ
39に集まる。もし容器36内の廃液レベルがフロート
弁52に到達すると、フロート52Aが上昇し真空コネ
クタ管42へのポートを閉じて、廃液が屋内真空システ
ムに流れないようにする。液体廃棄物収集システムは、
屋内真空42が保たれる限り、電力の故障が起こっても
機能し続けるであろう。
【0024】手術の処置中は、焼灼プロトコルにかかわ
らず、液体を患者から頻繁に除去しなければならないこ
とも認識されている。こうした液体は管44を介して使
い捨て可能な容器39に導かれる。マニホルド131に
おける各ポートは独立した真空源である。複数の真空ラ
インを同時に用いることができるが、1つのみを示して
いる。このようにして、病院の真空では、マニホルド3
3および管44を通して吸引ノズル46に導かれる。し
たがってこの実施例では、廃液は吸引ノズル管44およ
びマニホルド33から容器39へと流れる。
【0025】液体廃棄物は、出口54(シリンダ34の
下部)を介して容器39から、ポンプ56によって汚染
除去または殺菌(処理)システム40へと、またはもし
適切であれば弁58を通してユーザの設備に設けられた
殺菌されていない排水ライン58Aへと回収される。
【0026】この実施例では、液体廃棄物処理および処
分システム40は、電力を用いて加熱し、廃棄物の流れ
を汚染除去するかまたは殺菌する。電力は、20アンペ
アで110ボルトまたは2200ワットの従来の電源と
係合したプラグ66を通してシステム10全体で利用可
能となる。好ましくは60−70°Fで十分な量および
圧力の局部水が水入口84を通してユーザの設備に供給
される(図1も参照のこと)。
【0027】容器39からの液体廃棄物は処理および処
分システム40に与えられる。このシステム40をプロ
グラミングして、以下で述べるように制御パネル220
での適切な設定を選択することによって廃液を汚染除去
するまたは殺菌することができる。その他すべてのプロ
セス変数を自動的に調整してプロセスの条件を満たす。
【0028】たとえばある実施例では、システム40
は、廃棄物の流れを、最低5秒間215°Fに上昇させ
ることによってその汚染を除去する。その代わりとして
は、システム40は最低5秒間廃棄物の流れの温度を2
90°Fに上昇させることによって殺菌する。以下の都
合上、汚染除去または殺菌システムまたはプロセスを、
「処理」システムまたはプロセスと呼ぶことにする。
【0029】図2に示した処理および処分システム40
では、廃棄物の流れは熱リザーバ68を1回以上通すこ
とによって処理温度まで加熱される。この温度は、廃棄
物の流れが適切な長さの絶縁管74を通過する間維持さ
れ、少なくとも5秒間という滞留時間を確保する。
【0030】熱リザーバは典型的には、400°Fを上
回る温度に到達することが可能な1つ以上の電気抵抗素
子72によって加熱されるアルミニウム(または同様
の)ブロックである。廃棄物の流れはポンプ56からリ
ザーバ68を通して1つ以上の直列通路74へと向か
い、ここでこの流れは汚染除去または殺菌温度まで加熱
される。次にこの廃棄物の流れは、処理のために適切な
滞留時間が生じるようにする、たとえばステンレス鋼か
らなる滞留ライン78に送られる。滞留ライン78の下
流部分に配置されたたとえば熱電対などの温度センサ7
6が接続され、廃棄物流れポンプ56のポンピング速度
を制御し、滞留ライン78を通して汚染除去または殺菌
終了点温度を維持する。すなわち、廃棄物質の温度が所
定の温度を下回った場合にポンプ56の速度を低下させ
る。
【0031】下流圧力調整弁79は、リザーバにおける
熱伝達を容易にするために、滞留ライン78における圧
力を調整して廃棄物の流れをさらに液体層に保つように
する。典型的には、調整弁79はオリフィスの形状をと
ることが可能である。
【0032】熱い(汚染除去されたまたは殺菌された)
廃棄物の流れは、滞留ライン78から導管84およびソ
レノイド弁85を介して水源に接続された混合器82に
送られる。廃棄物の流れは十分な量の水と混合されて、
混合された流れの温度を、温度センサ92で測定され
る、140°Fという法定温度を下回るように減少させ
る。このようにして、処理温度および時間が満たされた
後、廃棄物の流れは、水との直接接触混合により135
°Fを下回るまで冷却される。組合された流れは次に、
出口導管86を介して下水溝88に排出される。
【0033】収集された液体廃棄物48を部分的に(ま
たはすべて)容器39から除去した後、水(またはその
他の適切な物質)は自動的に、導管62およびスプレー
ヘッド64を通り、ボール65に衝突する、またはその
代わりに横のスロットを介してヘッド64から出る。い
ずれの実施例でも水は水平面に均一的に噴霧され、ライ
ナ36の壁、ならびに使い捨て容器39の内側からおよ
びポンプ56を介したシステム40の廃棄物通路から勢
いよく流れる廃棄物を洗浄する。典型的には、流水は、
適切な量で利用できる70°Fの蛇口の水である。
【0034】約1ガロンの水の噴霧の後、導管62を通
る水流を停止させる。このすすぎの水は効果的に容器3
9およびシステム内部のすべての濡れた通路を洗浄す
る。
【0035】多くの外科手術処置が規定するパラメータ
のため、本発明の手術への応用例については20リット
ルの廃棄物を約15分で汚染除去することが好ましい。
熱リザーバ68の大きさは、リザーバの温度が非常に低
い流量でのみ可能な効果的な熱伝達を行なわせるレベル
に低下する前に、その(またはその他の)条件に見合う
ようにされている。熱リザーバ68が約250°Fとい
う最低設定点を下回った後、このブロックは新しいプロ
セスサイクル間加熱され、その後新しい処理サイクルを
開始させることができる。
【0036】次に図3を参照すると、IR電流センサス
イッチ400の概略図が示される。具体的には、ピック
アップコイル402が既存の焼灼電力ケーブル26A
(図1参照)のまわりに設けられ、その電流を検知す
る。(電力ケーブルを何らかの態様で変形または修正す
る必要はない。) 典型的なプロトコルでは、焼灼マシンが活性化されると
ケーブルには「待機」電流が存在する。この電流(典型
的にはケーブルにおいては60Hz humに基づく)
は、「待機」電流を表わす出力信号を生成する高利得増
幅器403に与えられる。この信号は、基準増幅器40
5および比較器407の一方入力に与えられる。比較器
407は、トリガ信号を生成し、トリガ信号は、「待
機」電流状態を表わすIR符号周波数信号を生成する周
波数発生器409に与えられる。IRソース404は、
発生器409からの信号に応答してIR出力信号を生成
する。
【0037】焼灼機器26(図2参照)がオンになる
と、ケーブル26Aの電流がコイル402により検知さ
れ、ソース404からの符号化された赤外線(IR)信
号をトリガする。すなわち、ケーブル26Aにおける高
電流レベルが検出されると、増幅器403は、「待機」
状態よりも高い(または低い)出力信号を生成する。こ
の出力信号は増幅器405および比較器407に供給さ
れる。しかしながら、回路に遅延があるため、「活性」
出力信号は初めに比較器407が受取る。比較器407
は次に、符号発生器409に、「待機」状態と異なるト
リガ信号を与える。このようにして、発生器409は、
異なる信号をIRソース404に供給し、このソースも
また異なる周波数のIR出力信号を生成する。この動作
によってファン24は相対的に速い速度に切換わる。反
対に、焼灼機器26がオフになると、ソース404から
の信号はこれに応じて止まり(または変化し)、ファン
24は低速に戻る。
【0038】ソース405が生成するIR信号(各動作
モードにおける)は、典型的にはシステムの制御パネル
220に配置されたIR受信機406によってピックア
ップされるまで、手術室の壁(またはその他の場所)か
らはね上がる。受信機406は信号を弁別器410に与
え、この弁別器は、煙抽出システム20におけるファン
24の速度を決定するコンピュータ411に入力データ
を与える。ある実施例では、ファンの速度を、図1の制
御パネル220のノブ211で表わされた手動入力41
2によって手動で設定または制御することができる。
【0039】周囲光センサ408は、手術室の光がオフ
になるとき(すなわち手術室が使用されていないとき)
を検出する。センサ408は電力調整器415を不能に
することによってバッテリ416を切断し、送信器バッ
テリ電力を節約する。
【0040】次に図4を参照すると、所望の熱回収能力
を有する代替例の処理および処分システム50が示され
ている。このシステムでは、システム40における構成
部品と同様の部品には便宜上同様の参照番号が付されて
いる。したがって、アルミニウムの(またはその他の適
切な)熱リザーバ68を用いて熱をシステム50に供給
する。しかしながら、この実施例では、熱伝達媒体の役
割を果たす水のみが熱リザーバ68におけるチャネル7
4を通過する。液体廃棄物は下流に向かってリザーバ6
8から導かれ、湯を用いた直接的な加熱(すなわち混
合)によって加熱されて、熱リザーバを汚す潜在的な源
を除去する。システム50の液体通路は、各焼灼期間の
最後に自動的に蒸気および湯を流すことによる自浄式と
なっている。
【0041】図示のように、水はソース94(上記のソ
ース84と同様である)からシステム50に入り、水源
への逆流を防止する逆止め弁96を通過する。圧力調整
器98は、入ってくる水の圧力の変動にかかわらずシス
テムに一定の圧力をもたらす。
【0042】入ってくる水の一部は、弁102により適
切なときに活性化される廃棄物収集タンク34の洗浄弁
64に与えられる。
【0043】逆に、処理熱伝達のために用いられる水
は、流量制御弁またはオリフィス132および管104
を通して熱回収熱交換器108の入口106に送られ
る。この水は次に、熱交換器108を通過し、出口11
2および管114を通って熱リザーバ68の通路74の
入口116へと流れる。この水はリザーバ68を通過
し、ここで適切な処理温度を上回るまで加熱される。加
熱された水はリザーバ出口118および背圧弁124を
通って処理管122へと流れる。この場合、弁124
は、リザーバから水流へ最適の熱交換をもたらすため
に、リザーバ68における加熱中の蒸気と水との比率を
制御する。
【0044】水の流れは、以下で述べる処理温度で必要
とされる滞留時間を確保するのに適切な長さを有する処
理管122に与えられる。管122において加熱された
水は次に、湯管122の一部を囲む実際ジャケットであ
る熱回収交換器108を通過する。水の熱のほとんどが
こうして伝達され、入口106から出口112へと熱回
収交換器118を通して流れる冷水を加熱する。水の流
れは出口112から管114を通って熱リザーバ68の
入口116へと戻り、ここではプロセスが継続してい
る。熱および回収ループの動作が一旦確立すると、リザ
ーバ68への入口116での水の温度は出口118での
温度に近くなる。したがって、混合された流れがシステ
ムから出るときのシステムの損失および効果的なプロセ
ス熱損失は、熱リザーバ68に熱を加えることによって
埋め合わされねばならない。
【0045】温度センサ126が、殺菌管122を通し
て汚染除去または殺菌のための適切な水温に到達したと
検出すると、ポンプ56が、リレースイッチなどの適切
な制御システム126Aを介して活性化される。ポンプ
56は、入口128を介して、タンク34から管122
への液体廃棄物48のポンピングを開始する。蒸気と廃
棄物の混合されたものが管122を通過するとき、温度
センサ126および制御器126Aは、ポンプ56の速
度を制御して、汚染除去または殺菌温度が確実に維持さ
れるようにする。熱く、汚染除去されまたは殺菌された
廃棄物および水の混合物は次に、熱回収交換器108に
送られ、ここで回収された熱は入ってくる水に伝達され
て、次に管114を通りリザーバ68の入口116へと
向かう。
【0046】汚染除去されまたは殺菌された廃棄物の流
れおよび水の流れは次に、入口84を介して冷水が導入
される流れ制御オリフィス134を介して混合器82に
入る。冷水は、出ていく流れの温度が温度センサ92で
測定したときに135°Fを確実に下回るようになるよ
う、十分な量で供給されて廃棄物の流れと混合される。
この混合された流れは次に出口86を通して下水溝88
へと流れる。
【0047】上記のように、汚れていない水は容器39
およびシステム構成部品を通って流れる。液体廃棄物と
接触するシステムのすべての部分はこのようにして水で
洗浄される。これは、弁102を開放して水がソース9
4から廃液容器に向けて噴霧されるようにすることによ
って可能である。水は一定の圧力で供給され、適切な大
きさのオリフィスを通過し、約0.5gpmの流れを供
給する。この水洗サイクルは2分間続く。次に、ユニッ
トとの間のすべての水流が停止する。ポンプ56は、プ
ロセスサイクルの終了時またはタンク34が空になった
ときにオフになる。
【0048】次に図5を参照すると、溶液ディスペンサ
システム200が示されている。このドーム型のディス
ペンサ204は、プロセス補助溶液をベンチュリ動作に
よって廃棄物の流れに供給する。ベンチュリ動作は、プ
ロセス補助溶液および廃棄物の流れの液体が確実に十分
に混合されかつ一定の体積比率を有するようにする。デ
ィスペンサ200は、フレーム201に気密接着された
プロセス補助溶液のための可撓性のドーム型の容器20
4を含む。フレーム201における通路は、容器20
4、ベンチュリ管205、およびベンチュリホール20
3間に通じている。
【0049】すなわち、廃棄物の流れは水平にディスペ
ンサ200の底201と底ディスク37の上面との間の
ギャップ208を通して流れる。この流れは次にベンチ
ュリ管205と底ディスク37の貫通孔206との間の
アニュラス209を通る。このアニュラス209におい
て廃棄物の流れは加速し、廃棄物の流れの速度に比例し
て廃棄物の流れにおける圧力を減少させ、これによっ
て、適切な量のプロセス補助溶液は可撓性容器204か
らベンチュリホール203を通って廃棄物の流れへと導
かれる。
【0050】可動シール202はベンチュリ管205上
で上下移動し、使用前にベンチュリホール203を下側
の位置で封止し、プロセス補助溶液が不注意で漏れるこ
とを防止する。ディスペンスシステム200は、シール
202を上向きに押してベンチュリホール203を廃棄
物の流れに露出させる図6に示したループ302を通る
水のわずかな逆流によって活性化される。この逆流を停
止させると廃液は流れ始めベンチュリホール203を通
過する。
【0051】典型的な基本のプロセス補助水溶液206
は、限定的にではないが重量比で以下の活性成分を含み
得る。すなわち、1の炭酸ナトリウム、1/2のリン酸
三ナトリウム、1/2の硫酸ナトリウムである。濃縮溶
液のpHを調整して、廃棄物の流れによる希釈後、廃棄
物の流れが市街の下水ラインに導入されたときにpHが
確実に6から10の範囲になるようにする。
【0052】次に図6を参照すると、取外し可能容器1
39を囲む廃棄物収集タンク34を含む液体廃棄物収集
システム30をより詳細に表わしたものが示されてい
る。好ましい実施例では、容器139は使い捨てとなる
ように構成されており、便宜上、透明プラスチックから
なる管またはシリンダを含み得る。容器139は、蓋3
8と、蓋に封止されたライナ36と、底ディスク37と
を含む。蓋38および底37は、ABSプラスチックの
ような熱可塑性材料からなり、典型的にはPVCの薄膜
からなるライナ36に気密的に接合されている。ライナ
36およびカバー38の内側が収集チャンバ139を定
めている。
【0053】タンクカバー38およびこのカバーに接合
された取付部品、タンクライナ36、底ディスク37、
粗いフィルタ35、ならびにディスペンサシステム20
0は使い捨て可能であり単体として廃棄される。
【0054】好ましい実施例では、溶液ディスペンサ2
00は容器139内に配置される。たとえば界面活性剤
のような水溶液中の物質をディスペンサ200によっ
て、導管54を介して収集チャンバ139から出る廃棄
物の流れに加えて、下流の熱交換器40(または50)
が汚れること、および/または図1に示した廃棄物の流
れのシステムにおける有機物質の凝固を防止する。
【0055】使い捨て可能な容器139の底には、洗浄
器、ディスクなどの形状の軟鋼素子67が取付けられて
いる。収集容器139をタンク34の中へ下げたとき、
タンクの底のリング磁石168が容器139内の鉄のリ
ング67を引付ける。この引付ける力が、約5ポンドの
力で容器の底を下に引張る。タンクの底の2つのエラス
トマシールは、容器の5ポンドの力で変形するので、容
器の底37とタンクライナ36の内側の底の面との間が
接触し続けかつ漏れないシールが形成される。シールは
液体がタンク34の底に沿って横方向に漏れないように
する。約500ミクロンよりも大きな粒子の物質を濾過
する粗いフィルタ35は、底のディスク37の上に設け
られる。このフィルタは、廃棄物の流れにおける大きな
粒子がポンプ56に達しないようにする。
【0056】真空コネクタ管42は、キャップ38のポ
ート42Aを通っている。ポート42Aは、上記のよう
にライナ36のどちらかの側で真空が生じるように動作
する角度のあるオリフィス42Bを含む。
【0057】このようにして、医療廃棄物収集および処
理システムの独自の設計およびコンセプトを示し説明し
てきた。本明細書で示しかつ説明した特定的な構造は、
単一の移動システムに統合されるようなシステムに関す
るものである。この説明は具体的な実施例に向けられた
ものであるが、当業者であれば本明細書で示しかつ説明
した特定的な実施例に対する変形および/または修正を
考案し得ることが理解される。この説明の範囲内のこう
した変形または修正もここに含まれることを意図してい
る。本明細書における記載は例示にすぎず、限定を意図
するものではないことを理解されたい。むしろ、本明細
書に記載した発明の範囲は、前掲の特許請求の範囲によ
ってのみ限定されるものである。
【図面の簡単な説明】
【図1】 本発明の装置の斜視図である。
【図2】 本発明の装置のいくつのか構成部品の概略図
である。
【図3】 本発明のIR電流センサスイッチの概略図で
ある。
【図4】 本発明の処理および処分システムの代替例の
概略図である。
【図5】 図2に示したディスペンサシステムを詳細に
示した図である。
【図6】 本発明の装置の使い捨て可能な部品のアセン
ブリの一実施例を示す図である。
【符号の説明】
10 廃液および煙処分および/または処理システム装
置、20 煙抽出システム、30 液体廃棄物収集シス
テム、40 液体廃棄物処理および処分システム、22
0 制御パネル。
─────────────────────────────────────────────────────
【手続補正書】
【提出日】平成11年12月9日(1999.12.
9)
【手続補正1】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正内容】
【特許請求の範囲】
【請求項17】 廃棄物処理システムであって、 活動部位から廃棄物質を受取るための廃棄物受取器を含
み、 前記廃棄物受取器は、実質的に剛性の取付シリンダと、 前記取付シリンダ内に配置された実質的に柔弱な廃棄物
容器と、 前記取付シリンダの上端に取付けられ前記廃棄物容器の
一端と係合しかつこの一端を支持するキャップとを有
し、前記廃棄物処理システムはさらに、 前記活動部位から前記廃棄物受取器への導管と、 前記導管における気流を生成することにより廃棄物質が
前記活動部位から前記廃棄物受取器に搬送されるように
するための送風機装置と、 前記廃棄物受取器から廃棄物質を受取りかつ処理して廃
棄物質を環境的に安全なやり方で容易に処分できるよう
にするための廃棄物処理ユニットとを含み、 前記廃棄物処理ユニットは、通過する前記廃棄物質の温
度を上昇させてその廃棄物質の殺菌および/または汚染
除去を行なうための少なくとも1つの熱交換器を含む、
廃棄物処理システム。 ─────────────────────────────────────────────────────
【手続補正書】
【提出日】平成12年7月25日(2000.7.2
5)
【手続補正1】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正内容】
【特許請求の範囲】
【手続補正2】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】0007
【補正方法】変更
【補正内容】
【0007】好ましい実施例では、装置10は、適切な
車輪91を備えたカート90を含み、これによりこの装
置に移動性が与えられる。ハンドル95が装置に旋回可
能に取付けられて、カート90およびこの上に載置され
た装置の移動を容易にしている。
【手続補正3】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】0012
【補正方法】変更
【補正内容】
【0012】さらに、制御パネルの都合のいい場所に、
適切周囲光センサ212およびIR信号検出器406
(以下で説明する)を、従来のパワースイッチ214と
ともに配置することができる。
【手続補正4】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】0024
【補正方法】変更
【補正内容】
【0024】手術の処置中は、焼灼プロトコルにかかわ
らず、液体を患者から頻繁に除去しなければならないこ
とも認識されている。こうした液体は管44を介して使
い捨て可能な容器39に導かれる。マニホルド131に
おける各ポートは独立した真空源である。複数の真空ラ
インを同時に用いることができるが、1つのみを示して
いる。このようにして、病院の真空では、マニホルド
31および管44を通して吸引ノズル46に導かれる。
したがってこの実施例では、廃液は吸引ノズル管44お
よびマニホルド131から容器39へと流れる。
【手続補正5】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】0032
【補正方法】変更
【補正内容】
【0032】熱い(汚染除去されたまたは殺菌された)
廃棄物の流れは、滞留ライン78から導管84および
ソレノイド弁85を介して水源に接続された混合器82
に送られる。廃棄物の流れは十分な量の水と混合され
て、温度センサ92で測定される、混合された流れの温
度を、140°Fという法定温度を下回るように減少さ
せる。このようにして、処理温度および時間が満たされ
た後、廃棄物の流れは、水との直接接触混合により13
5°Fを下回るまで冷却される。組合された流れは次
に、出口導管86を介して下水溝88に排出される。
【手続補正6】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】0036
【補正方法】変更
【補正内容】
【0036】次に図3を参照すると、IR電流センサス
イッチ400の概略図が示される。具体的には、ピック
アップコイル402が既存の焼灼電力ケーブル26A
(図参照)のまわりに設けられ、その電流を検知す
る。(電力ケーブルを何らかの態様で変形または修正す
る必要はない。) 典型的なプロトコルでは、焼灼マシンが活性化されると
ケーブルには「待機」電流が存在する。この電流(典型
的にはケーブルにおいては60Hz humに基づく)
は、「待機」電流を表わす出力信号を生成する高利得増
幅器403に与えられる。この信号は、基準増幅器40
5および比較器407の一方入力に与えられる。比較器
407は、トリガ信号を生成し、トリガ信号は、「待
機」電流状態を表わすIR符号周波数信号を生成する周
波数発生器409に与えられる。IRソース404は、
発生器409からの信号に応答してIR出力信号を生成
する。
【手続補正7】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】0038
【補正方法】変更
【補正内容】
【0038】ソース404が生成するIR信号(各動作
モードにおける)は、典型的にはシステムの制御パネル
220に配置されたIR受信機406によってピックア
ップされるまで、手術室の壁(またはその他の場所)か
らはね上がる。受信機406は信号を弁別器410に与
え、この弁別器は、煙抽出システム20におけるファン
24の速度を決定するコンピュータ411に入力データ
を与える。ある実施例では、ファンの速度を、図1の制
御パネル220のノブ211で表わされた手動入力41
2によって手動で設定または制御することができる。
【手続補正8】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】0044
【補正方法】変更
【補正内容】
【0044】水の流れは、以下で述べる処理温度で必要
とされる滞留時間を確保するのに適切な長さを有する処
理管122に与えられる。管122において加熱された
水は次に、湯管122の一部を囲む実際ジャケットであ
る熱回収交換器108を通過する。水の熱のほとんどが
こうして伝達され、入口106から出口112へと熱回
収交換器108を通して流れる冷水を加熱する。水の流
れは出口112から管114を通って熱リザーバ68の
入口116へと戻り、ここではプロセスが継続してい
る。熱および回収ループの動作が一旦確立すると、リザ
ーバ68への入口116での水の温度は出口118での
温度に近くなる。したがって、混合された流れがシステ
ムから出るときのシステムの損失および効果的なプロセ
ス熱損失は、熱リザーバ68に熱を加えることによって
埋め合わされねばならない。
【手続補正9】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】0046
【補正方法】変更
【補正内容】
【0046】汚染除去されまたは殺菌された廃棄物の流
れおよび水の流れは次に、流れ制御オリフィス134を
介して混合器82に入り、そこには入口84を介して冷
水が導入される。冷水は、出ていく流れの温度が温度セ
ンサ92で測定したときに135ーFを確実に下回るよ
うになるよう、十分な量で供給されて廃棄物の流れと混
合される。この混合された流れは次に出口86を通して
下水溝88へと流れる。
【手続補正10】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】0050
【補正方法】変更
【補正内容】
【0050】可動シール202はベンチュリ管205上
で上下移動し、使用前にベンチュリホール203を下側
の位置で封止し、プロセス補助溶液が不注意で漏れるこ
とを防止する。ディスペンスシステム200は、シール
202を上向きに押してベンチュリホール203を廃棄
物の流れに露出させる水のわずかな逆流によって活性化
される。この逆流を停止させると廃液は流れ始めベンチ
ュリホール203を通過する。
【手続補正11】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】全図
【補正方法】変更
【補正内容】
【図1】
【図2】
【図4】
【図6】
【図3】
【図5】
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 ローレンス・シィ・ウィルバー アメリカ合衆国、92630 カリフォルニア 州、レイク・フォレスト、アパチェ・ドラ イブ、21981 (72)発明者 ピーター・レグラ アメリカ合衆国、92870 カリフォルニア 州、プラセンティア、フレモント・アベニ ュ、2107 (72)発明者 ウィリアム・エム・ドラン アメリカ合衆国、92626 カリフォルニア 州、コスタ・メサ、ハイド・コート、901 (72)発明者 フィリップ・エイチ・ダーリン・ジュニア アメリカ合衆国、92837 カリフォルニア 州、フーラートン、ダブリュ・チェリー・ アベニュ、2619 Fターム(参考) 3E025 AA02 CA12 CA13 DB01 DF10 EA10 4C058 AA12 AA14 BB02 CC04 4C341 LL13 LL22

Claims (43)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 廃棄物処理システムであって、 活動部位から廃棄物質を受取るようにされた廃棄物受取
    手段を含み、 前記廃棄物受取手段は、実質的に剛性である支持シリン
    ダと、 実質的に柔弱であり前記支持シリンダ内に配置される廃
    棄物容器とを有し、前記廃棄物処理システムはさらに、 前記活動部位から前記廃棄物受取手段への気流を生成
    し、廃棄物質が前記廃棄物受取手段に搬送されるように
    するための気流生成手段と、 前記廃棄物受取手段で受取った廃棄物質を受取りかつ処
    理して廃棄物質を環境的に安全なやり方で容易に処分で
    きるようにするための廃棄物処理手段とを含み、 前記廃棄物処理手段は、通過する廃棄物質の温度を上昇
    させてその廃棄物質の汚染除去および/または殺菌を行
    なうための熱交換器を含む、廃棄物処理システム。
  2. 【請求項2】 前記支持シリンダの上端に取付けられて
    前記廃棄物容器の一端と係合しかつこの一端を支持する
    ようにされたキャップ手段を含む、請求項1に記載のシ
    ステム。
  3. 【請求項3】 前記気流生成手段は、前記廃棄物受取手
    段に接続され前記廃棄物受取手段において負の圧力を生
    成する送風機手段を含む、請求項1に記載のシステム。
  4. 【請求項4】 廃棄物質を前記廃棄物受取手段から前記
    廃棄物処理手段にポンピングするように接続されたポン
    プ手段を含む、請求項1に記載のシステム。
  5. 【請求項5】 前記熱交換器から廃棄物質を受取るよう
    に接続され、処分の準備としてその温度を低下させる冷
    却手段を含む、請求項1に記載のシステム。
  6. 【請求項6】 前記廃棄物質を前記熱交換器に通す前に
    廃棄物質搬送液の温度を上昇させるための第2の熱交換
    器を含む、請求項1に記載のシステム。
  7. 【請求項7】 前記廃棄物質搬送液は水を含む、請求項
    6に記載のシステム。
  8. 【請求項8】 前記気流生成手段を選択的に活性化させ
    るための活性化手段を含む、請求項1に記載のシステ
    ム。
  9. 【請求項9】 前記活性化手段はスイッチ回路に結合さ
    れた電流センサ回路を含む、請求項8に記載のシステ
    ム。
  10. 【請求項10】 前記スイッチ回路は焼灼装置を含む、
    請求項9に記載のシステム。
  11. 【請求項11】 前記廃棄物受取手段、前記気流生成手
    段、および前記廃棄物処理手段を単一の装置として運ぶ
    ための移動支持手段を含む、請求項1に記載のシステ
    ム。
  12. 【請求項12】 廃棄物処理システムであって、 活動部位から廃棄物質を受取るようにされた廃棄物受取
    手段と、 前記活動部位から前記廃棄物受取手段への第1の液体の
    流れを生成し、廃棄物質が前記廃棄物受取手段に搬送さ
    れるようにするための第1の液体流れ生成手段と、 前記廃棄物受取手段で受取った廃棄物質を受取りかつ処
    理して廃棄物質を環境的に安全なやり方で容易に処分で
    きるようにするための廃棄物処理手段と、 前記廃棄物処理手段を通過する第2の液体の流れを生成
    して、前記廃棄物受取手段からの廃棄物を前記廃棄物処
    理手段を通して搬送するための第2の液体流れ生成手段
    とを含む、廃棄物処理システム。
  13. 【請求項13】 前記第2の液体の流れにより前記廃棄
    物処理手段を通して送られる前記廃棄物質の温度を上昇
    させることにより廃棄物質を殺菌および/または汚染除
    去するための第1の熱交換器を含む、請求項12に記載
    のシステム。
  14. 【請求項14】 前記廃棄物質を前記第1の熱交換器を
    通して送る前に前記第2の液体の流れの温度を上昇させ
    るための第2の熱交換器を含む、請求項13に記載のシ
    ステム。
  15. 【請求項15】 前記第2の液体の流れは廃棄物質搬送
    液を含む、請求項14に記載のシステム。
  16. 【請求項16】 前記廃棄物受取手段、前記第1および
    第2の液体流れ生成手段、ならびに前記廃棄物処理手段
    を単一の装置として搬送するための移動支持手段を含
    む、請求項12に記載のシステム。
  17. 【請求項17】 前記第1の液体流れ生成手段を選択的
    に活性化するための活性化手段を含む、請求項12に記
    載のシステム。
  18. 【請求項18】 前記活性化手段はスイッチ回路に結合
    された電流センサ回路を含む、請求項17に記載のシス
    テム。
  19. 【請求項19】 前記スイッチ回路は焼灼装置を含む、
    請求項18に記載のシステム。
  20. 【請求項20】 前記廃棄物受取手段は、実質的に剛性
    の支持シリンダと、実質的に柔弱であり前記支持シリン
    ダ内に配置された廃棄物容器とを含む、請求項12に記
    載のシステム。
  21. 【請求項21】 前記支持シリンダの上端に取付けら
    れ、前記廃棄物容器の一端と係合しかつこの一端を支持
    するようにされたキャップ手段を含む、請求項20に記
    載のシステム。
  22. 【請求項22】 前記第1の液体流れ生成手段は、前記
    廃棄物受取手段に接続され前記廃棄物受取手段において
    負の圧力を生成する送風機手段を含む、請求項12に記
    載のシステム。
  23. 【請求項23】 廃棄物質を前記廃棄物受取手段から前
    記廃棄物処理手段にポンピングするように接続されたポ
    ンプ手段を含む、請求項12に記載のシステム。
  24. 【請求項24】 前記第1の熱交換器から廃棄物質を受
    取るように接続され、処分の準備としてその温度を低下
    させる冷却手段を含む、請求項13に記載のシステム。
  25. 【請求項25】 廃棄物処理システムであって、 活動部位から廃棄物質を受取るための廃棄物受取器を含
    み、 前記廃棄物受取器は、実質的に剛性の取付シリンダと、 前記取付シリンダ内に配置された実質的に柔弱な廃棄物
    容器と、 前記取付シリンダの上端に取付けられ前記廃棄物容器の
    一端と係合しかつこの一端を支持するキャップとを有
    し、前記廃棄物処理システムはさらに、 前記活動部位から前記廃棄物受取器への導管と、 前記導管における気流を生成することにより廃棄物質が
    前記活動部位から前記廃棄物受取器に搬送されるように
    するための送風機装置と、 前記廃棄物受取器からの廃棄物質を受取りかつ処理し、
    廃棄物質を環境的に安全なやり方で容易に処分できるよ
    うにするための廃棄物処理ユニットとを含み、前記廃棄
    物処理ユニットは、通過する前記廃棄物質の温度を上昇
    させることにより廃棄物質を殺菌し、および/または汚
    染除去するための少なくとも1つの熱交換器を含む、廃
    棄物処理システム。
  26. 【請求項26】 前記送風機装置はファンを含む、請求
    項25に記載のシステム。
  27. 【請求項27】 前記ファンは可変速度ファンである、
    請求項26に記載のシステム。
  28. 【請求項28】 前記廃棄物受取器は、前記廃棄物受取
    器内で第1および第2のチャンバを形成して気体の廃棄
    物および液体の廃棄物をそれぞれ収集する分離器を含
    む、請求項25に記載のシステム。
  29. 【請求項29】 前記廃棄物受取器に接続され前記第1
    のチャンバで収集された気体の廃棄物を前記送風機装置
    に送る第1の出力導管と、 前記廃棄物受取器に接続され液体の廃棄物を前記廃棄物
    処理ユニットに導く第2の出力導管とを含む、請求項2
    8に記載のシステム。
  30. 【請求項30】 前記液体の廃棄物が前記第2の出力導
    管を通して導かれるようにするためのポンプを含む、請
    求項29に記載のシステム。
  31. 【請求項31】 前記廃棄物質が前記熱交換器を通過す
    る際の温度に関連するものとして前記ポンプの動作速度
    を決定するためのポンプ制御器を含む、請求項30に記
    載のシステム。
  32. 【請求項32】 廃棄物質が前記熱交換器を通過した後
    廃棄物質を冷却するための冷却器ユニットを含む、請求
    項25に記載のシステム。
  33. 【請求項33】 前記熱交換器は、前記廃棄物質が順次
    連続して流れる熱リザーバ体と滞留ラインとを含む、請
    求項25に記載のシステム。
  34. 【請求項34】 前記キャップに取付けられ前記廃棄物
    受取器内で延在し、前記取付シリンダの内側が洗浄材料
    の噴霧により選択的に洗浄されることを可能にするスプ
    レーヘッドを含む、請求項25に記載のシステム。
  35. 【請求項35】 前記廃棄物受取器に取付けられた処理
    溶液のディスペンサを含み、前記処理溶液は、前記廃棄
    物処理ユニットにより受取られる前記廃棄物質に与えら
    れる、請求項25に記載のシステム。
  36. 【請求項36】 前記ディスペンサは可撓性のドーム形
    状の容器を含む、請求項35に記載のシステム。
  37. 【請求項37】 前記ディスペンサは、前記可撓性のド
    ーム形状の容器と連通するための少なくとも1つの通路
    を備えた支持フレームを含む、請求項36に記載のシス
    テム。
  38. 【請求項38】 前記キャップはオリフィスを含み、オ
    リフィスを通して、前記取付シリンダ内の廃棄物容器の
    各側で真空が生成される、請求項25に記載のシステ
    ム。
  39. 【請求項39】 前記送風機装置内にあり、通過する気
    流を濾過するフィルタユニットを含む、請求項25に記
    載のシステム。
  40. 【請求項40】 前記分離器に取付けられ、前記第2の
    チャンバにおける液体の廃棄物が前記第1のチャンバに
    入ることを防止する圧力感知シールを含む、請求項28
    に記載のシステム。
  41. 【請求項41】 前記システムが移動できるように支持
    するための車輪付のカートを含む、請求項25に記載の
    システム。
  42. 【請求項42】 前記送風機装置を選択的に活性化する
    ための制御パネルを含む、請求項25に記載のシステ
    ム。
  43. 【請求項43】 前記制御パネルは、前記システムの動
    作状態を示す赤外線パルスの源と、 信号を与えて送風機装置がシステムの動作状態を示すこ
    とを補助する赤外線信号受信機とを含む、請求項42に
    記載のシステム。
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