JP2001017371A - 清浄布及びディスプレイパネルの製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 ディスプレイデバイスのパネル表面に低反射
コートを形成する際に行われるパネル表面の清浄工程時
に生ずる静電気による、塵の吸着を減少させる。 【解決手段】 ＣＲＴのパネル１のベースとなる素材
（ガラス）に対して、帯電列上においてそれぞれ正及び
負の帯電傾向を発生する２種の素材（例えばウールと
絹）の各々で構成される経糸Ａ及び緯糸Ｂで織布された
清浄布７を用いて、パネル表面の清浄作業を行う。これ
により、低反射コート形成時の帯電による塵の吸着の発
生の可能性を減少させて、低反射コートの良品率を上げ
ることができる。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】この発明は、ブラウン管を用
いたテレビ受像用あるいはコンピュータ端末用のカラー
受像管、又は液晶ディスプレイ（ＬＣＤ）やプラズマデ
ィスプレイ（ＰＤＰ）のようなフラットパネルの表面上
に反射防止膜（低反射コート）を作成する際に行われる
パネル表面の清浄工程で使用される清浄布、及びそれを
用いた清浄技術に関するものである。

【０００２】

【従来の技術】図５は、従来の展張タイプのカラー受像
管（以下、ＣＲＴと称する）を示す側面図である（尚、
一部に破断面を有する）。同図において、１はＣＲＴの
外囲器を構成するパネル、２はパネル１と共にＣＲＴの
外周囲を構成するファンネル、３はパネル１の内面に
赤、青、緑の蛍光体が順序良く配列されて成るストライ
プ状の蛍光スクリーン、４は電子銃、５は電子銃４から
出射される電子ビーム、６は電子ビーム５を電磁的に偏
向する偏向ヨークである。

【０００３】最近のＣＲＴの基本的な傾向としては、見
易さの追求である。その最たる技術は、ＣＲＴ表面に外
光が当たった時の反射光を減ずるための反射防止処理技
術である。そこで、この処理技術の典型的な一つとし
て、パネル１の表面に屈折率の異なる２層以上の薄膜を
コーティングする、あるいは同薄膜を蒸着によって形成
し、この低反射コートによって反射光を減らすことが一
般的に行われている。

【０００４】ＣＲＴの製造工程における最終工程で、こ
のような低反射コートをＣＲＴのパネル表面に施す際に
は、一般的に次の様な工程が行われている。即ち、「Ｃ
ＲＴのパネル表面の清浄」→「ＣＲＴの温度調節」→
「スピンコート（第１面）」→乾燥「スピンコート（第
２面）」→「焼き付け」→「検査」→完了。この工程は
ＣＲＴ製造の最終工程に設けられるために、特に良品率
に配慮する必要がある。そのために、特に塵対策として
は、クリンルーム、フード、クリーン保管庫、防塵作業
着、クリーン手袋、湿度、温度などの対策が一般的に行
われる。また、この工程での基本的な考え方として、
「ＣＲＴのパネル表面の清浄」は重要な項目である。我
々の経験によれば、この工程で生じた塵は最終的な欠点
として低反射膜の不均一性、即ち、シミとして検知され
るものとなる。この場合の欠点の大きさは、例えば０．
４ｍｍが限度である。このような欠点をさらに調査して
みると、この欠点は、０．０２０ｍｍ程度の大きさの核
が２０倍程度の大きさまでにしみ状として拡大されるこ
とによって形成されていることが判明している。即ち、
ＣＲＴパネル表面の清浄工程においては、２０ミクロン
メータ程度の塵の付着が問題となる。

【０００５】

【発明が解決しようとする課題】ところで、従来技術に
よれば、低反射コートの形成工程中の清浄工程において
は、明らかに研磨が必要な場合には、バフ材を使用して
のバフ研磨を行い、次にエタノール＋無塵ウェスを使用
しての清浄を行い、更に晒し木綿での拭き取りを行うな
どが主たる清浄作業として行われており、この際、雰囲
気を“無塵化する”という点にのみ注意が払われてき
た。にも拘わらず、結果として、塵によるシミの不良が
不定期に発生するという不都合があった。

【０００６】ここで、本願発明者は、清浄作業にあたっ
て無塵対策を施しているにも拘わらず依然としてシミが
発生する原因の重要な一つは、清浄作業での拭き取りに
よってパネル表面に不要な静電気が発生し、この不要な
静電気が塵を吸着する点にあると考える。この着眼点に
従うならば、清浄時の拭き取りで発生するであろう静電
気の量を出来る限り減少させる必要がある。

【０００７】なる程、清浄工程では通常アルコール類の
ような液体も併用して清浄作業が行われており、この類
の液体の存在は著しく帯電を発生せしめないが、実際問
題としては、作業の持続により徐々に該液体がなくな
り、場合によっては帯電を発生せしめ、数ミクロンメー
タの塵の吸着を生ぜしめるものである。

【０００８】この様な問題点は、図５で例示したＣＲＴ
パネルの表面の清浄工程においてのみならず、ＬＣＤや
ＰＤＰやＦＥＤ（Field Emission Display）の様なフラ
ットパネルディスプレイ（ＦＰＤ）のパネル表面に低反
射コートを形成するに先立って行われるパネル表面清浄
工程においても同様に問題となりうる。

【０００９】本発明は以上に説明した問題点を克服する
ためになされたものであり、低反射コート形成工程中の
パネル表面清浄工程においてパネル表面に付着する塵を
減少させるための一つの対策として、清浄作業での不要
な静電気発生による塵の吸着の可能性を減少せしめるこ
とを目的とする。

【００１０】

【課題を解決するための手段】請求項１に係る発明は、
ディスプレイパネルの表面の清浄時に用いられる清浄布
であって、静電気の帯電列上に於いて前記ディスプレイ
パネルのベース素材を基準にしてそれぞれ正と負の帯電
傾向を有する少なくとも２種の素材で構成されたことを
特徴とする。

【００１１】請求項２に係る発明は、請求項１記載の清
浄布であって、前記少なくとも２種の素材のそれぞれの
前記帯電列上に於ける位置が前記ベース素材の位置から
見て等距離にあることを特徴とする。

【００１２】請求項３に係る発明は、請求項１又は２記
載の清浄布であって、前記少なくとも２種の素材の内で
少なくとも１種の素材に帯電防止処理が施されているこ
とを特徴とする。

【００１３】請求項４に係る発明は、請求項１乃至３の
何れかに記載の前記清浄布を用いてディスプレイパネル
の表面を清浄した上で、前記ディスプレイパネルの前記
表面に低反射コートを形成することを特徴とする。

【００１４】

【発明の実施の形態】（実施の形態１）以下、本発明の
実施の形態１に係る清浄布及びそれを用いた清浄方法に
ついて、図１を用いて説明する。尚、本実施の形態で
は、ディスプレイデバイスとしてＣＲＴが適用され、Ｃ
ＲＴのパネル１のベース素材としてガラスが用いられる
場合を扱う。

【００１５】ＣＲＴのパネル表面（即ち、外面）（尚、
内面には蛍光スクリーン３が形成されている）に低反射
膜（低反射コート）を形成するために先立って行われる
ガラスパネル表面の清浄工程は、例えば、次の順序で行
われる。即ち、(i)先ず、必要に応じてのバフ研磨を行
い、(ii)次にエタノール＋無塵ウエスを使用しての清浄
を行い、(iii)更に図１に示す清浄布７を用いた拭き取
りによる清浄作業を行う。この内、本実施の形態では、
上記(iii)の作業が核心部にあたる。

【００１６】本工程(iii)で用いられる清浄布７は、図
１に示す様に、経糸Ａ及び緯糸Ｂで以て織られた織布の
形態をしている。しかも、経糸Ａ及び緯糸Ｂは、静電気
の帯電列上において、パネルのベース素材を基準にして
それぞれ相対的に正と負の帯電を起こす傾向の素材より
成る。例えば、経糸Ａはベース素材を中心に相対的に正
の帯電傾向を示す帯電列上のある種の素材から成る一
方、緯糸Ｂは逆にベース素材を中心に相対的に負の帯電
傾向を示す帯電列上のある種の素材から成る。又は、そ
の逆の関係として、両糸Ａ，Ｂの素材を選定しても良
い。

【００１７】本実施の形態はベース素材にガラスを用い
る場合であるので、この場合の一般的な「帯電列」を、
即ち、ガラスと接触することによって正／負のそれぞれ
の静電気を帯びる各種の素材がガラスを中心として帯電
量の少ないものから多いものへと順次に配列表示されて
成る帯電列を図２に示す。同図に示す通り、ガラスを基
準として左側に順次に位置するウール及びアクリルは正
の帯電を帯びる傾向を示す素材であり、ウールよりもア
クリルの方がその正の帯電量は多くなる。他方、右側に
順次に位置する絹、エボナイト、ナイロン及び塩化ビニ
ールは、この順序で負の帯電量が多くなる傾向を示す素
材である。

【００１８】そこで、図２の帯電列に基づき、経糸Ａ及
び緯糸Ｂの素材を選定すれば良いことになる。この様
に、ベース素材を基準として、帯電列上、一方は正の、
他方は負の帯電傾向を示す適切な２種の素材をそれぞれ
両糸Ａ，Ｂの一方に用いて織られた清浄布７を用いてガ
ラスパネル１の表面を抜き取った場合には、パネル表面
は静電気的には中立となるか、又は、若干、正又は負に
帯電した状態となり、パネル表面上の不要な静電気は消
減するか、又は、格段に低減される。

【００１９】但し、パネル１の表面に生ずる静電気の帯
電量は、清浄布７からパネル１の表面に加わる圧力等の
ファクターによっても左右されるので、抜き取り作業時
のばらつきをも考慮すると、帯電列上からそれぞれ正／
負の帯電傾向を示す２種の清浄布の素材を選択するに当
っては、ベース素材（ここではガラス）の帯電列上の位
置からあまり離れていない位置にある素材を選択するほ
うが、帯電の発生が少なくなる点で、都合が良いと言え
る。望ましくは、帯電列上の位置がベース素材のそれよ
り正／負側に等距離にある素材を各糸Ａ，Ｂの素材とし
て選択するならば、その様な２種の素材で織られて成る
清浄布を用いて清浄作業を行うときには、ガラスとの接
触によって生じる両素材の静電気の帯電量の絶対値がほ
ぼ均等となるので、パネル表面は静電気的には常に中立
の帯電状態となり得、拭き取り時の摩擦による帯電、ひ
いては、それによる塵吸着に関するばらつきの要因は著
しく低減されるという利点が得られる。図２の帯電列に
よれば、ガラスを基準にすぐ隣りに位置するウールと絹
とは、それぞれ略等量の正と負の電荷を帯びる静電誘導
の傾向を持っている。従って、例えばウールと絹とをそ
れぞれ経糸Ａ及び緯糸Ｂに選択し、これらの糸Ａ，Ｂで
織られた清浄布７を用いてガラスパネル１の表面（清浄
面）を清浄すると、清浄面は静電的には中立の帯電状態
となり得る。

【００２０】このような構成の清浄布７を用いるときに
は、清浄工程として既述した各工程(i)〜(iii)を順次に
行う必然性はなく、例えば、バフ研磨材、エタノール、
水などと一緒に、図１の清浄布７を用いて人力あるいは
ロボットにより清浄作業を行うことができる。

【００２１】（実施の形態１の変形例）本変形例で用い
られる清浄布７は図３に示す様に構成されており、実施
の形態１と同じように、パネル１のベース素材はガラス
の場合である。本変形例では、清浄布７が、織布の形態
をなしているのではなくて、経糸Ａ及び緯糸Ｂが重ね合
わされて両糸Ａ，Ｂが並べられる所々で互いに融着され
ている、いわゆる研磨用不織布より成る点に特徴があ
る。但し、経糸Ａ及び緯糸Ｂの素材の選定基準は実施の
形態１の場合と変わるところはない。従って、例えば、
経糸Ａにウール材を、緯糸Ｂには絹材を用い、繊維間結
合剤としては自己架橋型のアクリル酸エステルエマルジ
ョン、またはカメラミン樹脂などの硬化剤を併用して、
不織布の形態の清浄布７が形成される。更に、清浄布７
の各糸Ａ，Ｂの任意の位置に、カーボランダムのような
砥粒を固着せしめても良い。

【００２２】以上のように、図３に示す不織布より成る
清浄布７を用いた抜き取り作業によっても、実施の形態
１と同様な作用効果が得られ、静電的な帯電上のばらつ
きは発生しにくい。

【００２３】（実施の形態２）本形態に係る清浄布７の
構成を図４に示す。本形態では、両糸Ａ１，Ｂ１を成す
２種の素材（その選定基準は、実施の形態１の場合と同
様である）に対して、個別に前もって帯電防止処理を施
して、摩擦時の帯電の可能性をより一層減らすことを可
能としている。即ち、本形態では、実施の形態１での場
合と同じ状況の清浄方法において、清浄布７の図１の両
糸Ａ及びＢの素材に対して、個別に、例えば非イオン系
のポリオキシエチレンアルキルフェニルエーテルのよう
な帯電防止剤ないしは静電防止剤が予め添加されてお
り、これにより、図４の両糸Ａ１，Ｂ１が形成されてい
る。

【００２４】（付記） （１） 以上の説明はＣＲＴパネルの場合についてであ
ったが、実施の形態１、その変形例及び実施の形態２に
示された各清浄布７を各種のフラットパネルディスプレ
イ（ＦＰＤ）のパネル表面の清浄工程に対しても、その
まま適用可能である。

【００２５】（２） 実施の形態１の変形例に係る清浄
布７の各糸Ａ，Ｂ（図３）の素材に対しても、個別に帯
電防止処理を施しても良い。又、清浄布の形態いかんに
拘わらず、清浄布７の両糸Ａ，Ｂの内の一方にのみ、帯
電防止処理を施しても良い。更には、清浄布７は、３種
以上の素材より成る織布形態又は不織布形態のものであ
っても良く、この場合には、複数種の素材は帯電列上ガ
ラスに対して正（負）の帯電傾向を示し、残りの種類の
素材は逆に負（正）の帯電傾向を示す様に、経糸及び緯
糸を成す素材が選択される。

【００２６】（３） 本実施の形態においても、パネル
表面清浄後の低反射コート形成工程は従来技術で説明し
た場合と同一である。

【００２７】

【発明の効果】請求項１及び４の各発明によれば、清浄
作業時の静電的帯電による塵の吸着の可能性を減少させ
ているために、低反射コート膜の製造上不良の発生を減
少せしめることが出来る。特に、ＣＲＴパネルでは例え
ば厚みが１０ｍｍ程度になるが、ＣＲＴパネルよりもベ
ース素材の板厚がより小さい、すなわち帯電量がより大
きいＬＣＤやＰＤＰ（その場合には、パネルの厚みは数
ｍｍないしは１ｍｍ未満となる）等の製造工程に対して
本発明を適用する場合には、上記の効果がより一層発揮
されうる。

【００２８】請求項２及び４に係る各発明によれば、本
清浄布を用いたパネル表面の抜き取り作業によって、パ
ネル表面は静電的には中立の帯電状態となりえるので、
抜き取り時の摩擦による帯電、ひいては塵の吸着に関す
るばらつきの要因が著しく減少するという効果を奏す
る。

【００２９】請求項３及び４の各発明によれば、摩擦時
のパネル表面の帯電の可能性をより一層低減化すること
ができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】 本発明の実施の形態１に係るディスプレイパ
ネルの清浄布及び清浄方法を模式的に示す斜視図であ
る。

【図２】 ベース素材がガラスである場合の帯電列を示
す図である。

【図３】 本発明の実施の形態１の変形例に係る清浄布
の構成を示す図である。

【図４】 本発明の実施の形態２に係る清浄布を示す図
である。

【図５】 従来のカラー受像管の概略構造を示す一部破
断部を含む図である。

【符号の説明】

１ パネル、２ ファンネル、３ 蛍光スクリーン、４
電子銃、５ 電子ビーム、６ 偏向ヨーク、７ 清浄
布、Ａ，Ａ１ 経糸、Ｂ，Ｂ１ 緯糸。

Claims (4)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 ディスプレイパネルの表面の清浄時に用
   いられる清浄布であって、 静電気の帯電列上に於いて、前記ディスプレイパネルの
   ベース素材を基準にしてそれぞれ正と負の帯電傾向を有
   する少なくとも２種の素材で構成されたことを特徴とす
   る清浄布。
2. 【請求項２】 請求項１記載の清浄布であって、 前記少なくとも２種の素材のそれぞれの前記帯電列上に
   於ける位置が前記ベース素材の位置から見て等距離にあ
   ることを特徴とする清浄布。
3. 【請求項３】 請求項１又は２記載の清浄布であって、 前記少なくとも２種の素材の内で少なくとも１種の素材
   に帯電防止処理が施されていることを特徴とする清浄
   布。
4. 【請求項４】 請求項１乃至３の何れかに記載の前記清
   浄布を用いてディスプレイパネルの表面を清浄した上
   で、前記ディスプレイパネルの前記表面に低反射コート
   を形成することを特徴とするディスプレイパネルの製造
   方法。