JP2001011437A - 蛍光体の製造方法及びプラズマディスプレイパネル - Google Patents
蛍光体の製造方法及びプラズマディスプレイパネルInfo
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 より簡便な方法で蛍光体を製造する方法を提
供することを課題とする。 【解決手段】 蛍光体の構成元素の脂肪族酸塩を加熱又
は光照射により分解して蛍光体を得ることを特徴とする
蛍光体の製造方法により上記課題を解決する。
供することを課題とする。 【解決手段】 蛍光体の構成元素の脂肪族酸塩を加熱又
は光照射により分解して蛍光体を得ることを特徴とする
蛍光体の製造方法により上記課題を解決する。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、蛍光体の製造方法
及びプラズマディスプレイパネル（以下、ＰＤＰ）に関
する。更に詳しくは、本発明は、原料を熱や光で分解す
るだけの簡便な方法で形成することができる蛍光体の製
造方法及びＰＤＰに関する。
及びプラズマディスプレイパネル（以下、ＰＤＰ）に関
する。更に詳しくは、本発明は、原料を熱や光で分解す
るだけの簡便な方法で形成することができる蛍光体の製
造方法及びＰＤＰに関する。
【０００２】
【従来の技術】蛍光体は、種々の分野で広く使用されて
いる。例えば、ランプ用蛍光体、表示装置用蛍光体、Ｘ
線撮像管用蛍光体として使用されている。
いる。例えば、ランプ用蛍光体、表示装置用蛍光体、Ｘ
線撮像管用蛍光体として使用されている。
【０００３】この内、蛍光体を使用する表示装置として
ＰＤＰが知られている。ＰＤＰは、視認性に優れ、高速
表示が可能であり、更に比較的大画面の作製が容易であ
り、薄く形成することができるという特性と有してい
る。
ＰＤＰが知られている。ＰＤＰは、視認性に優れ、高速
表示が可能であり、更に比較的大画面の作製が容易であ
り、薄く形成することができるという特性と有してい
る。
【０００４】ＰＤＰはマトリクス表示方式を採用してお
り、例えば面放電型のＰＤＰの場合、駆動電圧の印加に
際して対となる表示電極が同一基板上に配置されてい
る。
り、例えば面放電型のＰＤＰの場合、駆動電圧の印加に
際して対となる表示電極が同一基板上に配置されてい
る。
【０００５】ＰＤＰでは蛍光体は、蛍光体膜として存在
する。また、蛍光体膜の形成は、一般に次の方法で行わ
れている。まず、原料粉末（一般的には酸化物）を所望
の比率で混合し、得られた混合物を高温で焼成し、粉砕
することにより蛍光体粉末を得る。この粉末を樹脂バイ
ンダー、溶剤等の有機成分と混合してペーストとし、ス
クリーン印刷法により、予め複数の隔壁が形成された基
板の隔壁間にペーストを充填する。この後焼成すること
により、有機成分を分解して蛍光体膜（正確には蛍光体
粉末膜）を得ることができる。
する。また、蛍光体膜の形成は、一般に次の方法で行わ
れている。まず、原料粉末（一般的には酸化物）を所望
の比率で混合し、得られた混合物を高温で焼成し、粉砕
することにより蛍光体粉末を得る。この粉末を樹脂バイ
ンダー、溶剤等の有機成分と混合してペーストとし、ス
クリーン印刷法により、予め複数の隔壁が形成された基
板の隔壁間にペーストを充填する。この後焼成すること
により、有機成分を分解して蛍光体膜（正確には蛍光体
粉末膜）を得ることができる。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】上記方法で蛍光体膜を
形成すると、蛍光体を構成する結晶が偏析するため、発
光効率が低下する問題があった。この問題は、ＰＤＰ以
外の表示装置用蛍光体、ランプ用蛍光体、Ｘ線撮像管用
蛍光体でも同様に生じていた。
形成すると、蛍光体を構成する結晶が偏析するため、発
光効率が低下する問題があった。この問題は、ＰＤＰ以
外の表示装置用蛍光体、ランプ用蛍光体、Ｘ線撮像管用
蛍光体でも同様に生じていた。
【０００７】更に、表示装置では更なる高解像度が求め
られているため、表示装置を構成する蛍光体膜にも更な
る薄膜化が求められているが、ペーストを高密度に薄く
形成することが困難であった。そのため、余分な蛍光体
が使用されることと、発光効率が低下するという問題も
あった。
られているため、表示装置を構成する蛍光体膜にも更な
る薄膜化が求められているが、ペーストを高密度に薄く
形成することが困難であった。そのため、余分な蛍光体
が使用されることと、発光効率が低下するという問題も
あった。
【０００８】
【課題を解決するための手段】かくして、本発明によれ
ば、蛍光体の構成元素の脂肪族酸塩を加熱又は光照射に
より分解して蛍光体を得ることを特徴とする蛍光体の製
造方法が提供される。
ば、蛍光体の構成元素の脂肪族酸塩を加熱又は光照射に
より分解して蛍光体を得ることを特徴とする蛍光体の製
造方法が提供される。
【０００９】更に、本発明によれば、放電空間内に蛍光
体を有するプラズマディスプレイパネルであって、前記
蛍光体が上記方法により製造された膜状の蛍光体で構成
されていることを特徴とするプラズマディスプレイパネ
ルが提供される。
体を有するプラズマディスプレイパネルであって、前記
蛍光体が上記方法により製造された膜状の蛍光体で構成
されていることを特徴とするプラズマディスプレイパネ
ルが提供される。
【００１０】
【発明の実施の形態】以下、本発明を説明する。まず、
本発明では、蛍光体の構成元素の脂肪族酸塩が使用され
る。脂肪族酸塩は、熱や光で分解しやすく、溶剤溶解性
が高く、分解後の膜が緻密であり、取り扱いが容易（安
全性も含めて）であり、安価であり、多くの塩の合成が
容易であるという性質を有している。
本発明では、蛍光体の構成元素の脂肪族酸塩が使用され
る。脂肪族酸塩は、熱や光で分解しやすく、溶剤溶解性
が高く、分解後の膜が緻密であり、取り扱いが容易（安
全性も含めて）であり、安価であり、多くの塩の合成が
容易であるという性質を有している。
【００１１】ここで、蛍光体の構成元素としては、脂肪
族酸との塩を形成し得る元素であれば、特に限定される
ことなく、殆どの元素を使用することができる。具体的
には、Ｅｕ、Ｙ、Ｇｄ、Ｂ、Ｚｎ、Ｓｉ、Ｍｎ、Ｂａ、
Ｍｇ、Ａｌ、Ｌａ、Ｐ、Ｃｅ、Ｔｂ、Ｃａ、Ｗ、Ｔｂ等
が挙げられる。
族酸との塩を形成し得る元素であれば、特に限定される
ことなく、殆どの元素を使用することができる。具体的
には、Ｅｕ、Ｙ、Ｇｄ、Ｂ、Ｚｎ、Ｓｉ、Ｍｎ、Ｂａ、
Ｍｇ、Ａｌ、Ｌａ、Ｐ、Ｃｅ、Ｔｂ、Ｃａ、Ｗ、Ｔｂ等
が挙げられる。
【００１２】次に、脂肪族酸も特に限定されない。例え
ば、脂肪族モノカルボン酸や、脂肪族ジカルボン酸、脂
肪族トリカルボン酸、脂肪族テトラカルボン酸等の脂肪
族ポリカルボン酸が挙げられる。また、脂肪族酸を構成
する炭素鎖は、飽和でも、不飽和でもよい。更に、炭素
鎖には置換基が存在していてもよい。置換基の種類は特
に限定されないが、脂肪族酸の分解時に残存しやすいも
のは好ましくない。
ば、脂肪族モノカルボン酸や、脂肪族ジカルボン酸、脂
肪族トリカルボン酸、脂肪族テトラカルボン酸等の脂肪
族ポリカルボン酸が挙げられる。また、脂肪族酸を構成
する炭素鎖は、飽和でも、不飽和でもよい。更に、炭素
鎖には置換基が存在していてもよい。置換基の種類は特
に限定されないが、脂肪族酸の分解時に残存しやすいも
のは好ましくない。
【００１３】より具体的に、飽和脂肪族モノカルボン酸
として、ギ酸、酢酸、プロピオン酸、酪酸、吉草酸、カ
プロン酸、エナント酸、カプリル酸、ペラルゴン酸、カ
プリン酸、ｎ−ウンデシレン酸、ラウリン酸、ｎ−トリ
デシレン酸、ミリスチン酸、ｎ−ペンタデシレン酸、パ
ルミチン酸、マーガリン酸、ステアリン酸等が挙げられ
る。
として、ギ酸、酢酸、プロピオン酸、酪酸、吉草酸、カ
プロン酸、エナント酸、カプリル酸、ペラルゴン酸、カ
プリン酸、ｎ−ウンデシレン酸、ラウリン酸、ｎ−トリ
デシレン酸、ミリスチン酸、ｎ−ペンタデシレン酸、パ
ルミチン酸、マーガリン酸、ステアリン酸等が挙げられ
る。
【００１４】不飽和脂肪族モノカルボン酸としては、ア
クリル酸、ブテン酸、クロトン酸、イソクロトン酸、ビ
ニル酢酸、メタクリル酸、ペンテン酸、ヘキセン酸、ヘ
プテン酸、オクテン酸、デセン酸、ウンデセン酸、ドデ
セン酸、テトラデセン酸、ヘキサデセン酸、オクタデセ
ン酸等のオレフィンモノカルボン酸、プロピオール酸、
テトロール酸、エチルプロピオール酸、プロピルプロピ
オール酸、ブチルプロピオール酸、アミルプロピオール
酸、ウンデシン酸、ステアロール酸等のアセチレンモノ
カルボン酸、ペンタジエン酸、ジアリル酢酸、ゲラニウ
ム酸、デカジエン酸等のジオレフィンモノカルボン酸、
オクタトリエン酸、リノレン酸、オレイン酸等の高度不
飽和モノカルボン酸が挙げられる。
クリル酸、ブテン酸、クロトン酸、イソクロトン酸、ビ
ニル酢酸、メタクリル酸、ペンテン酸、ヘキセン酸、ヘ
プテン酸、オクテン酸、デセン酸、ウンデセン酸、ドデ
セン酸、テトラデセン酸、ヘキサデセン酸、オクタデセ
ン酸等のオレフィンモノカルボン酸、プロピオール酸、
テトロール酸、エチルプロピオール酸、プロピルプロピ
オール酸、ブチルプロピオール酸、アミルプロピオール
酸、ウンデシン酸、ステアロール酸等のアセチレンモノ
カルボン酸、ペンタジエン酸、ジアリル酢酸、ゲラニウ
ム酸、デカジエン酸等のジオレフィンモノカルボン酸、
オクタトリエン酸、リノレン酸、オレイン酸等の高度不
飽和モノカルボン酸が挙げられる。
【００１５】飽和脂肪族ジカルボン酸としては、シュウ
酸、マロン酸、コハク酸、グルタル酸、アジピン酸、ピ
メリン酸、スベリン酸、セバシン酸等が挙げられる。
酸、マロン酸、コハク酸、グルタル酸、アジピン酸、ピ
メリン酸、スベリン酸、セバシン酸等が挙げられる。
【００１６】不飽和脂肪族ジカルボン酸としては、ブテ
ン二酸、イタコン酸、シトラコン酸、メサコン酸、グル
タコン酸、ジヒドロムコン酸等のオレフィンジカルボン
酸、ムコン酸のようなジオレフィンジカルボン酸が挙げ
られる。
ン二酸、イタコン酸、シトラコン酸、メサコン酸、グル
タコン酸、ジヒドロムコン酸等のオレフィンジカルボン
酸、ムコン酸のようなジオレフィンジカルボン酸が挙げ
られる。
【００１７】上記脂肪族酸は、炭素数が大きいほど常温
で固体となる（例えば、飽和脂肪族モノカルボン酸の場
合、炭素数が１０以上の場合固体となる）が、固体の脂
肪族酸を使用する場合は、塩の形成時の製造工程での作
業性を高めるために、溶剤（水、アルコール等）に溶解
しておくことが好ましい。常温で液体の場合、溶剤を使
用する必要ないが、作業性を高める観点から、使用して
もよい。
で固体となる（例えば、飽和脂肪族モノカルボン酸の場
合、炭素数が１０以上の場合固体となる）が、固体の脂
肪族酸を使用する場合は、塩の形成時の製造工程での作
業性を高めるために、溶剤（水、アルコール等）に溶解
しておくことが好ましい。常温で液体の場合、溶剤を使
用する必要ないが、作業性を高める観点から、使用して
もよい。
【００１８】上記脂肪族酸の内、飽和脂肪族モノカルボ
ン酸を使用することが好ましい。更に、飽和脂肪族モノ
カルボン酸の内、炭素数２〜１０個のものが、分解後の
緻密性の観点からより好ましい。特に、エナント酸、カ
プロン酸、吉草酸、酪酸が好ましい。
ン酸を使用することが好ましい。更に、飽和脂肪族モノ
カルボン酸の内、炭素数２〜１０個のものが、分解後の
緻密性の観点からより好ましい。特に、エナント酸、カ
プロン酸、吉草酸、酪酸が好ましい。
【００１９】脂肪族酸塩は、特に限定されず、公知の方
法で形成することができる。例えば、蛍光体の構成元素
の水酸化物と脂肪族酸とを脱水反応させる方法が挙げら
れる。
法で形成することができる。例えば、蛍光体の構成元素
の水酸化物と脂肪族酸とを脱水反応させる方法が挙げら
れる。
【００２０】得られた脂肪族酸塩は、加熱又は光照射さ
れて分解し、その結果蛍光体に変換される。脂肪族酸
は、分解することにより、炭酸ガス、メタンガス、水蒸
気等として気化するものと考えられる。
れて分解し、その結果蛍光体に変換される。脂肪族酸
は、分解することにより、炭酸ガス、メタンガス、水蒸
気等として気化するものと考えられる。
【００２１】加熱は、例えば、３００〜４５０℃で、
０．５〜２時間行うことが好ましい。加熱の雰囲気は、
形成を所望する蛍光体の酸素含有割合に応じて、大気以
外にも、窒素等の還元性ガス、不活性ガス等が挙げられ
るが、初回の大気加熱は必須であり、加熱を２回以上行
う時にこれら雰囲気を組合わせてもよい。
０．５〜２時間行うことが好ましい。加熱の雰囲気は、
形成を所望する蛍光体の酸素含有割合に応じて、大気以
外にも、窒素等の還元性ガス、不活性ガス等が挙げられ
るが、初回の大気加熱は必須であり、加熱を２回以上行
う時にこれら雰囲気を組合わせてもよい。
【００２２】光照射に使用される光は、紫外線を使用す
ることが好ましい。光照射は、波長が１８５〜２５４ｎ
ｍの光を、５〜１００分間照射することが好ましい。
ることが好ましい。光照射は、波長が１８５〜２５４ｎ
ｍの光を、５〜１００分間照射することが好ましい。
【００２３】なお、上記加熱又は光照射後に、結晶化の
ための熱処理を行ってもよい。この熱処理は、例えば、
８００〜１５００℃で０．５〜２時間の条件で行うこと
ができる。
ための熱処理を行ってもよい。この熱処理は、例えば、
８００〜１５００℃で０．５〜２時間の条件で行うこと
ができる。
【００２４】本発明の方法では、粒子状及び膜状の蛍光
体をいずれも製造することができる。粒子状の蛍光体の
場合、例えば、次のようにして形成することができる。
即ち、脂肪族酸塩を、任意の形状の容器に充填し、加熱
又は光照射することにより蛍光体を形成する。次いで、
蛍光体を粉砕及び分級することにより、所定粒子径の蛍
光体を得ることができる。
体をいずれも製造することができる。粒子状の蛍光体の
場合、例えば、次のようにして形成することができる。
即ち、脂肪族酸塩を、任意の形状の容器に充填し、加熱
又は光照射することにより蛍光体を形成する。次いで、
蛍光体を粉砕及び分級することにより、所定粒子径の蛍
光体を得ることができる。
【００２５】ここで、蛍光体が発光する部分はその表面
層であり、中心部の蛍光体は発光に寄与していない。そ
こで、以下の工程を経ることにより、発光に寄与しない
中心部を無機粒子で置き換えた粒子状の蛍光体を得るこ
とができる。即ち、脂肪族酸塩と所定粒子径の無機粒子
（例えば、アルミナ、シリカ等）とを混合することによ
り、無機粒子の表面を脂肪族酸塩で被覆する。次いで、
得られた無機粒子を加熱又は光照射することにより粒子
状の蛍光体を形成することができる。
層であり、中心部の蛍光体は発光に寄与していない。そ
こで、以下の工程を経ることにより、発光に寄与しない
中心部を無機粒子で置き換えた粒子状の蛍光体を得るこ
とができる。即ち、脂肪族酸塩と所定粒子径の無機粒子
（例えば、アルミナ、シリカ等）とを混合することによ
り、無機粒子の表面を脂肪族酸塩で被覆する。次いで、
得られた無機粒子を加熱又は光照射することにより粒子
状の蛍光体を形成することができる。
【００２６】膜状の蛍光体の場合、例えば次のようにし
て形成することができる。即ち、基板上に公知の塗布方
法により脂肪族酸塩を塗布する。この塗布膜を加熱又は
光照射することにより膜状の蛍光体を形成することがで
きる。ここで、所定パターンの膜状の蛍光体を製造する
場合、塗布膜に、所定パターンの開口部を有するマスク
を介して光照射した後、未照射部の塗布膜を溶媒で除去
する方法、所定パターン以外の部分が開口したマスクを
使用して塗布膜の不必要部分を除去した後、加熱又は光
照射する方法等が挙げられる。これら以外にも、塗布方
法に、スクリーン印刷法のような予め所定の形状に塗布
することができる方法を使用すれば、塗布とパターニン
グを同時に行うことができるので好ましい。
て形成することができる。即ち、基板上に公知の塗布方
法により脂肪族酸塩を塗布する。この塗布膜を加熱又は
光照射することにより膜状の蛍光体を形成することがで
きる。ここで、所定パターンの膜状の蛍光体を製造する
場合、塗布膜に、所定パターンの開口部を有するマスク
を介して光照射した後、未照射部の塗布膜を溶媒で除去
する方法、所定パターン以外の部分が開口したマスクを
使用して塗布膜の不必要部分を除去した後、加熱又は光
照射する方法等が挙げられる。これら以外にも、塗布方
法に、スクリーン印刷法のような予め所定の形状に塗布
することができる方法を使用すれば、塗布とパターニン
グを同時に行うことができるので好ましい。
【００２７】なお、本発明の方法は、原理上構成元素の
酸化物からなる蛍光体が形成される。形成できる蛍光体
の具体例としては、Ｙ2Ｏ3：Ｅｕ、ＬａＰＯ4：Ｃｅ,Ｔ
ｂ等のランプ用蛍光体、（Ｙ，Ｇｄ）ＢＯ3：Ｅｕ、Ｚ
ｎ2ＳｉＯ4：Ｍｎ、ＢａＭｇＡｌ10Ｏ17：Ｅｕ、Ｙ
2Ｏ3：Ｅｕ等のＰＤＰ用蛍光体、Ｙ2Ｏ3：Ｅｕ、Ｙ2Ｏ3
Ｓ：Ｅｕ等のＣＲＴ用蛍光体、ＺｎＯ：Ｚｎのような蛍
光表示管用蛍光体、ＣａＷＯ4、Ｙ2Ｏ2Ｓ：Ｔｂ等のＸ
線撮像管用蛍光体が挙げられる。
酸化物からなる蛍光体が形成される。形成できる蛍光体
の具体例としては、Ｙ2Ｏ3：Ｅｕ、ＬａＰＯ4：Ｃｅ,Ｔ
ｂ等のランプ用蛍光体、（Ｙ，Ｇｄ）ＢＯ3：Ｅｕ、Ｚ
ｎ2ＳｉＯ4：Ｍｎ、ＢａＭｇＡｌ10Ｏ17：Ｅｕ、Ｙ
2Ｏ3：Ｅｕ等のＰＤＰ用蛍光体、Ｙ2Ｏ3：Ｅｕ、Ｙ2Ｏ3
Ｓ：Ｅｕ等のＣＲＴ用蛍光体、ＺｎＯ：Ｚｎのような蛍
光表示管用蛍光体、ＣａＷＯ4、Ｙ2Ｏ2Ｓ：Ｔｂ等のＸ
線撮像管用蛍光体が挙げられる。
【００２８】本発明の製造方法により得られた蛍光体
は、上記にも記載したように、ランプ、ＰＤＰ、ＣＲ
Ｔ、蛍光表示管、Ｘ線撮像管等の用途に用いることがで
きる。以下では、図１のＰＤＰに本発明の製造方法によ
り得られた蛍光体を適用した例について述べる。
は、上記にも記載したように、ランプ、ＰＤＰ、ＣＲ
Ｔ、蛍光表示管、Ｘ線撮像管等の用途に用いることがで
きる。以下では、図１のＰＤＰに本発明の製造方法によ
り得られた蛍光体を適用した例について述べる。
【００２９】図１のＰＤＰは、３電極ＡＣ型面放電ＰＤ
Ｐである。なお、本発明は、このＰＤＰに限らず、蛍光
体を含むＰＤＰであればどのような構成にも適用するこ
とができる。例えば、ＡＣ型に限らずＤＣ型でもよく、
反射型及び透過型のいずれのＰＤＰにも使用することが
できる。
Ｐである。なお、本発明は、このＰＤＰに限らず、蛍光
体を含むＰＤＰであればどのような構成にも適用するこ
とができる。例えば、ＡＣ型に限らずＤＣ型でもよく、
反射型及び透過型のいずれのＰＤＰにも使用することが
できる。
【００３０】図１のＰＤＰ２０は、前面基板と背面基板
とから構成される。まず、前面基板は、一般的に、基板
２７上に形成された複数本のストライプ状の表示電極、
表示電極を覆うように形成された誘電体層２４、誘電体
層２４上に形成され放電空間に露出する保護層２９とか
らなる。
とから構成される。まず、前面基板は、一般的に、基板
２７上に形成された複数本のストライプ状の表示電極、
表示電極を覆うように形成された誘電体層２４、誘電体
層２４上に形成され放電空間に露出する保護層２９とか
らなる。
【００３１】基板２７は、特に限定されず、ガラス基
板、石英ガラス基板、シリコン基板等が挙げられる。
板、石英ガラス基板、シリコン基板等が挙げられる。
【００３２】表示電極は、ＩＴＯのような透明電極２５
からなる。また、表示電極の抵抗を下げるために、透明
電極２５上にバス電極（例えば、Ｃｒ／Ｃｕ／Ｃｒの３
層構造）２６を形成してもよい。
からなる。また、表示電極の抵抗を下げるために、透明
電極２５上にバス電極（例えば、Ｃｒ／Ｃｕ／Ｃｒの３
層構造）２６を形成してもよい。
【００３３】誘電体層２４は、ＰＤＰに通常使用されて
いる材料から形成される。具体的には、低融点ガラスと
バインダとからなるペーストを基板上に塗布し、焼成す
ることにより形成することができる。
いる材料から形成される。具体的には、低融点ガラスと
バインダとからなるペーストを基板上に塗布し、焼成す
ることにより形成することができる。
【００３４】保護層２９は、表示の際の放電により生じ
るイオンの衝突による損傷から誘電体層２４を保護する
ために設けられる。保護層２９は、例えば、ＭｇＯ、Ｃ
ａＯ、ＳｒＯ、ＢａＯ等からなる。
るイオンの衝突による損傷から誘電体層２４を保護する
ために設けられる。保護層２９は、例えば、ＭｇＯ、Ｃ
ａＯ、ＳｒＯ、ＢａＯ等からなる。
【００３５】次に、背面基板は、一般的に、基板２３上
に形成された複数本のストライプ状のアドレス電極Ａ、
アドレス電極Ａを覆う誘電体層２８、隣接するアドレス
電極Ａ間で誘電体層２８上に形成された複数本のストラ
イプ状の隔壁２１、隔壁２１間に壁面を含めて形成され
た蛍光体膜２２とからなる。
に形成された複数本のストライプ状のアドレス電極Ａ、
アドレス電極Ａを覆う誘電体層２８、隣接するアドレス
電極Ａ間で誘電体層２８上に形成された複数本のストラ
イプ状の隔壁２１、隔壁２１間に壁面を含めて形成され
た蛍光体膜２２とからなる。
【００３６】基板２３及び誘電体層２８には、前記前面
基板を構成する基板２７及び誘電体層２４と同種類のも
のを使用することができる。
基板を構成する基板２７及び誘電体層２４と同種類のも
のを使用することができる。
【００３７】アドレス電極Ａは、例えば、Ａｌ、Ｃｒ、
Ｃｕ等の金属層や、Ｃｒ／Ｃｕ／Ｃｒの３層構造からな
る。
Ｃｕ等の金属層や、Ｃｒ／Ｃｕ／Ｃｒの３層構造からな
る。
【００３８】隔壁２１は、低融点ガラスとバインダとか
らなるペーストを誘電体層２８上に塗布し、焼成した
後、サンドブラスト法で切削することにより形成するこ
とができる。また、バインダに感光性の樹脂を使用した
場合、所定形状のマスクを使用して露光及び現像した
後、焼成することにより形成することも可能である。
らなるペーストを誘電体層２８上に塗布し、焼成した
後、サンドブラスト法で切削することにより形成するこ
とができる。また、バインダに感光性の樹脂を使用した
場合、所定形状のマスクを使用して露光及び現像した
後、焼成することにより形成することも可能である。
【００３９】図１では、隔壁２１間に蛍光体膜２２が形
成されているが、上記で説明した本発明の製造方法の
内、膜状の蛍光体を形成する方法は、この蛍光体膜２２
の形成にそのまま使用することができる。具体的には、
隔壁２１間に脂肪族酸塩を塗布し、加熱又は光照射によ
り、膜状の蛍光体、即ち蛍光体膜２２を形成することが
できる。
成されているが、上記で説明した本発明の製造方法の
内、膜状の蛍光体を形成する方法は、この蛍光体膜２２
の形成にそのまま使用することができる。具体的には、
隔壁２１間に脂肪族酸塩を塗布し、加熱又は光照射によ
り、膜状の蛍光体、即ち蛍光体膜２２を形成することが
できる。
【００４０】また、本発明の方法で得られた粒子状の蛍
光体を使用する場合、公知の方法で蛍光体膜２２を形成
することができる。具体的には、溶媒中にバインダが溶
解された溶液に粒子状の蛍光体を分散させたペースト
を、隔壁２１間に塗布し、不活性雰囲気下で焼成するこ
とにより蛍光体膜２２を形成することができる。また、
粒子状の蛍光体の内、無機粒子の表面に形成したものを
使用すれば、発光に寄与しない蛍光体を節約することが
できるので、製造コストを抑えることができる。
光体を使用する場合、公知の方法で蛍光体膜２２を形成
することができる。具体的には、溶媒中にバインダが溶
解された溶液に粒子状の蛍光体を分散させたペースト
を、隔壁２１間に塗布し、不活性雰囲気下で焼成するこ
とにより蛍光体膜２２を形成することができる。また、
粒子状の蛍光体の内、無機粒子の表面に形成したものを
使用すれば、発光に寄与しない蛍光体を節約することが
できるので、製造コストを抑えることができる。
【００４１】上記蛍光体膜２２の形成方法の内、膜状の
蛍光体を形成する方法の方が、蛍光体膜の厚さを薄くす
ることができることから、放電空間が広がり、その結果
放電効率を改善できるので好ましい。なお、膜状の蛍光
体を形成する方法では、蛍光体膜の厚さを０．１〜２μ
ｍ程度（好ましくは０．１〜１μｍ程度）にできるが、
従来の方法では３〜３０μｍ程度の範囲でかつムラのあ
る厚さの蛍光体膜しか形成することができない。また、
本発明では、発光中心を極めて均一に存在させることが
できる。
蛍光体を形成する方法の方が、蛍光体膜の厚さを薄くす
ることができることから、放電空間が広がり、その結果
放電効率を改善できるので好ましい。なお、膜状の蛍光
体を形成する方法では、蛍光体膜の厚さを０．１〜２μ
ｍ程度（好ましくは０．１〜１μｍ程度）にできるが、
従来の方法では３〜３０μｍ程度の範囲でかつムラのあ
る厚さの蛍光体膜しか形成することができない。また、
本発明では、発光中心を極めて均一に存在させることが
できる。
【００４２】次に、上記前面基板と背面基板を、表示電
極（２５、２６）とアドレス電極Ａが直交するように、
両電極を内側にして対向させ、隔壁２１により囲まれた
空間に放電ガスを充填することによりＰＤＰ２０を形成
することができる。
極（２５、２６）とアドレス電極Ａが直交するように、
両電極を内側にして対向させ、隔壁２１により囲まれた
空間に放電ガスを充填することによりＰＤＰ２０を形成
することができる。
【００４３】なお、上記ＰＤＰでは放電空間を規定する
隔壁、誘電体層及び保護膜の内、隔壁と誘電体層上に蛍
光体膜を形成しているが、同様の方法により保護膜上に
も蛍光体膜を形成してもよい。更に、保護膜を構成する
材料を粉末化し、これを脂肪族酸塩中に分散させ、誘電
体層上に塗布した後、加熱又は光照射することにより、
蛍光体を含む保護膜を形成することも可能である。
隔壁、誘電体層及び保護膜の内、隔壁と誘電体層上に蛍
光体膜を形成しているが、同様の方法により保護膜上に
も蛍光体膜を形成してもよい。更に、保護膜を構成する
材料を粉末化し、これを脂肪族酸塩中に分散させ、誘電
体層上に塗布した後、加熱又は光照射することにより、
蛍光体を含む保護膜を形成することも可能である。
【００４４】
【実施例】以下、本発明の実施例について説明する。な
お、本発明は以下の実施例に限定されるものではない。
お、本発明は以下の実施例に限定されるものではない。
【００４５】実施例１ エナント酸イットリウム（Ｒ3Ｙ：Ｒ＝Ｃ6Ｈ13ＣＯＯ、
以下Ｒは同じ意味を示す）とエナント酸ユーロピウム
（Ｒ3Ｅｕ）を９９．８：０．２（モル比）の割合で混
合した。得られた混合物５０重量部を溶媒（水５００重
量部と酢酸５０重量部の混合物）に溶解することで溶液
を得た。溶液をアルミナ製容器に入れ、溶媒を大気中７
０℃で３０分間加熱することにより除去した後、更に大
気中１３００℃で１時間焼成した。得られた焼成物を粉
砕及び分級することにより、Ｙ2Ｏ3：Ｅｕからなる蛍光
体（平均粒子径３．５μｍ）を製造することができた。
以下Ｒは同じ意味を示す）とエナント酸ユーロピウム
（Ｒ3Ｅｕ）を９９．８：０．２（モル比）の割合で混
合した。得られた混合物５０重量部を溶媒（水５００重
量部と酢酸５０重量部の混合物）に溶解することで溶液
を得た。溶液をアルミナ製容器に入れ、溶媒を大気中７
０℃で３０分間加熱することにより除去した後、更に大
気中１３００℃で１時間焼成した。得られた焼成物を粉
砕及び分級することにより、Ｙ2Ｏ3：Ｅｕからなる蛍光
体（平均粒子径３．５μｍ）を製造することができた。
【００４６】実施例２ エナント酸イットリウムとエナント酸ユーロピウムを９
９．８：０．２（モル比）の割合で混合した。得られた
混合物５０重量部を溶媒（水５００重量部と酢酸５０重
量部の混合物）に溶解することで溶液を得た。溶液を平
均粒子径３μｍのアルミナ粉末（高融点・低蒸気圧無機
粒子）と混合しながら溶媒を乾燥させた。
９．８：０．２（モル比）の割合で混合した。得られた
混合物５０重量部を溶媒（水５００重量部と酢酸５０重
量部の混合物）に溶解することで溶液を得た。溶液を平
均粒子径３μｍのアルミナ粉末（高融点・低蒸気圧無機
粒子）と混合しながら溶媒を乾燥させた。
【００４７】得られた粉末を大気中１３００℃で１時間
焼成した。得られた焼成物を、その凝集をほどく程度に
粉砕し、その後分級に付した。この結果、表面に膜厚約
０．３μｍのＹ2Ｏ3：Ｅｕからなる蛍光体膜が付着した
アルミナ粉末（平均粒子径３．５μｍ）を製造すること
ができた。
焼成した。得られた焼成物を、その凝集をほどく程度に
粉砕し、その後分級に付した。この結果、表面に膜厚約
０．３μｍのＹ2Ｏ3：Ｅｕからなる蛍光体膜が付着した
アルミナ粉末（平均粒子径３．５μｍ）を製造すること
ができた。
【００４８】比較例１ Ｙ2（ＣＯ3）3粉末とＥｕ2Ｏ3粉末を９９．８：０．２
（モル比）の割合で混合した。得られた混合物を大気中
１３００℃で５時間焼成した。得られた焼成物を、その
凝集をほどく程度に粉砕し、その後分級に付した。この
結果、Ｙ2Ｏ3：Ｅｕからなる蛍光体（平均粒子径３．５
μｍ）を製造することができた。
（モル比）の割合で混合した。得られた混合物を大気中
１３００℃で５時間焼成した。得られた焼成物を、その
凝集をほどく程度に粉砕し、その後分級に付した。この
結果、Ｙ2Ｏ3：Ｅｕからなる蛍光体（平均粒子径３．５
μｍ）を製造することができた。
【００４９】実施例１及び２と比較例１の蛍光体の輝度
を測定した。輝度の測定は、サンプルを真空チャンバー
内に置き、チャンバー外にあるエキシマランプ（ウシオ
電機社製）からＭｇＦ2窓を通して波長１４６ｎｍの光
でサンプルを励起し、サンプルからの発光をチャンバー
外の輝度計（トプコン製ＢＭ−７）でサファイア窓を通
して測定した。結果を表１に示す。なお、表中、輝度
は、比較例１の輝度を１００とした場合の相対的な輝度
に換算されている。
を測定した。輝度の測定は、サンプルを真空チャンバー
内に置き、チャンバー外にあるエキシマランプ（ウシオ
電機社製）からＭｇＦ2窓を通して波長１４６ｎｍの光
でサンプルを励起し、サンプルからの発光をチャンバー
外の輝度計（トプコン製ＢＭ−７）でサファイア窓を通
して測定した。結果を表１に示す。なお、表中、輝度
は、比較例１の輝度を１００とした場合の相対的な輝度
に換算されている。
【００５０】
【表１】
【００５１】表１から、実施例１及び２の蛍光体は、比
較例１と比べて輝度が大きいことが分かった。これは、
微量に添加した発光中心（Ｅｕ）の分散が、比較例１の
乾式法では十分でなかったためであると考えられる。
較例１と比べて輝度が大きいことが分かった。これは、
微量に添加した発光中心（Ｅｕ）の分散が、比較例１の
乾式法では十分でなかったためであると考えられる。
【００５２】実施例３ エナント酸バリウム（Ｒ2Ｂａ）、エナント酸マグネシ
ウム（Ｒ2Ｍｇ）、エナント酸アルミニウム（Ｒ3Ａｌ）
及びエナント酸ユーロピウムを９９．６：１００：１０
００：０．４（モル比）の割合で混合した。得られた混
合物５０重量部を溶媒（水５００重量部と酢酸５０重量
部の混合物）に溶解することで溶液を得た。溶液をアル
ミナ製容器に入れ、溶媒を大気中７０℃で３０分間加熱
することにより除去した後、更に大気中５００℃で１時
間及び窒素＋２％水素からなる還元雰囲気下１４００℃
１時間焼成した。得られた焼成物を粉砕及び分級するこ
とにより、ＢａＭｇＡｌ10Ｏ17：Ｅｕからなる蛍光体
（平均粒子径３．５μｍ）を製造することができた。
ウム（Ｒ2Ｍｇ）、エナント酸アルミニウム（Ｒ3Ａｌ）
及びエナント酸ユーロピウムを９９．６：１００：１０
００：０．４（モル比）の割合で混合した。得られた混
合物５０重量部を溶媒（水５００重量部と酢酸５０重量
部の混合物）に溶解することで溶液を得た。溶液をアル
ミナ製容器に入れ、溶媒を大気中７０℃で３０分間加熱
することにより除去した後、更に大気中５００℃で１時
間及び窒素＋２％水素からなる還元雰囲気下１４００℃
１時間焼成した。得られた焼成物を粉砕及び分級するこ
とにより、ＢａＭｇＡｌ10Ｏ17：Ｅｕからなる蛍光体
（平均粒子径３．５μｍ）を製造することができた。
【００５３】実施例４ エナント酸ユーロピウム５０重量部を溶媒（水５００重
量部と酢酸５０重量部の混合物）に溶解することで溶液
を得た。溶液をスピナーでガラス上に塗布した。次に、
低圧水銀ランプにより３０ｍＷ／ｃｍ2の強度の紫外線
を、所定形状のパターンを有するマスクを介して、塗布
膜に選択的に１分間照射した。この後、溶媒（水５００
重量部と酢酸５０重量部の混合物）で未照射部をエッチ
ング除去することにより、所定形状のパターンの蛍光体
膜を形成した。更に、蛍光体膜を４００℃で３０分間焼
成することにより、厚さ０．２μｍの赤色蛍光体膜（Ｅ
ｕ 2Ｏ3）を製造することができた。
量部と酢酸５０重量部の混合物）に溶解することで溶液
を得た。溶液をスピナーでガラス上に塗布した。次に、
低圧水銀ランプにより３０ｍＷ／ｃｍ2の強度の紫外線
を、所定形状のパターンを有するマスクを介して、塗布
膜に選択的に１分間照射した。この後、溶媒（水５００
重量部と酢酸５０重量部の混合物）で未照射部をエッチ
ング除去することにより、所定形状のパターンの蛍光体
膜を形成した。更に、蛍光体膜を４００℃で３０分間焼
成することにより、厚さ０．２μｍの赤色蛍光体膜（Ｅ
ｕ 2Ｏ3）を製造することができた。
【００５４】実施例５ エナント酸ユーロピウムの代わりにエナント酸亜鉛（Ｒ
2Ｚｎ）を使用すること以外は、実施例４と同様にし
て、厚さ０．２μｍの緑色蛍光体膜（ＺｎＯ）を製造す
ることができた。
2Ｚｎ）を使用すること以外は、実施例４と同様にし
て、厚さ０．２μｍの緑色蛍光体膜（ＺｎＯ）を製造す
ることができた。
【００５５】実施例６ 図１に示すＡＣ駆動面放電型のＰＤＰ２０の蛍光体膜２
２の製造に本発明を使用した。まず、実施例１と同様に
して、エナント酸イットリウムとエナント酸ユーロピウ
ムを含む溶液を得た。この溶液を背面基板の放電空間を
構成する隔壁２１間に充填した。次に、４０℃で３０分
間乾燥させて溶媒を除去した後、４００℃で１時間焼成
することにより、隔壁２１間に厚さ０．２μｍの蛍光体
膜２２を形成することができた。
２の製造に本発明を使用した。まず、実施例１と同様に
して、エナント酸イットリウムとエナント酸ユーロピウ
ムを含む溶液を得た。この溶液を背面基板の放電空間を
構成する隔壁２１間に充填した。次に、４０℃で３０分
間乾燥させて溶媒を除去した後、４００℃で１時間焼成
することにより、隔壁２１間に厚さ０．２μｍの蛍光体
膜２２を形成することができた。
【００５６】実施例７ 図１に示すＡＣ駆動面放電型のＰＤＰ２０の蛍光体膜２
２の製造に本発明を使用した。まず、実施例１と同様に
して、Ｙ2Ｏ3：Ｅｕからなる蛍光体（平均粒子径３．５
μｍ）を製造した。得られた蛍光体を、溶媒に分散させ
た後、この分散液を背面側基板の放電空間を構成する隔
壁２１間にスクリーン印刷法で充填した。次に、５００
℃で１時間焼成することにより、隔壁間に厚さ０．２μ
ｍの蛍光体膜２２を形成することができた。
２の製造に本発明を使用した。まず、実施例１と同様に
して、Ｙ2Ｏ3：Ｅｕからなる蛍光体（平均粒子径３．５
μｍ）を製造した。得られた蛍光体を、溶媒に分散させ
た後、この分散液を背面側基板の放電空間を構成する隔
壁２１間にスクリーン印刷法で充填した。次に、５００
℃で１時間焼成することにより、隔壁間に厚さ０．２μ
ｍの蛍光体膜２２を形成することができた。
【００５７】
【発明の効果】本発明によれば、脂肪族塩の加熱又は光
照射による分解という極めて単純な方法により、所望す
る蛍光体を製造することができるので、製造コストを低
減することができる。また、得られた蛍光体は、均一な
組成を有しているので、安定した高発光効率を得ること
ができる。更に、薄く均一な組成の蛍光体を形成できる
ので、例えばＰＤＰに使用した場合、パネル内での発光
ばらつきを小さくすることができる。更にまた、膜状の
蛍光体をＰＤＰの蛍光体膜に使用した場合、薄く形成で
きるので、放電空間が広くなり、その結果発光効率を向
上させることができる。
照射による分解という極めて単純な方法により、所望す
る蛍光体を製造することができるので、製造コストを低
減することができる。また、得られた蛍光体は、均一な
組成を有しているので、安定した高発光効率を得ること
ができる。更に、薄く均一な組成の蛍光体を形成できる
ので、例えばＰＤＰに使用した場合、パネル内での発光
ばらつきを小さくすることができる。更にまた、膜状の
蛍光体をＰＤＰの蛍光体膜に使用した場合、薄く形成で
きるので、放電空間が広くなり、その結果発光効率を向
上させることができる。
【図１】本発明のＰＤＰの概略斜視図である。
２０ ＰＤＰ ２１ 隔壁 ２２ 蛍光体膜 ２３、２７ 基板 ２４、２８ 誘電体層 ２５ 透明電極 ２６ バス電極 ２９ 保護層 Ａ アドレス電極
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 ＦＩ テーマコート゛(参考） Ｃ０９Ｋ 11/78 ＣＰＢ Ｃ０９Ｋ 11/78 ＣＰＢ ＣＰＫ ＣＰＫ 11/81 ＣＰＷ 11/81 ＣＰＷ 11/84 ＣＰＤ 11/84 ＣＰＤ Ｇ０３Ｂ 42/04 Ｇ０３Ｂ 42/04 Ｇ２１Ｋ 4/00 Ｇ２１Ｋ 4/00 Ｈ０１Ｊ 11/02 Ｈ０１Ｊ 11/02 Ｂ Ｆターム(参考） 2G083 AA04 AA10 BB01 CC02 DD01 DD02 DD06 EE03 EE10 4H001 CF01 XA05 XA08 XA12 XA13 XA14 XA15 XA16 XA20 XA30 XA39 XA56 XA57 XA64 XA74 YA25 YA30 YA58 YA63 YA65 5C040 FA01 GA03 GB02 GG08 JA12 KA14 MA03 MA23 MA26
Claims (9)
- 【請求項１】 蛍光体の構成元素の脂肪族酸塩を加熱又
は光照射により分解して蛍光体を得ることを特徴とする
蛍光体の製造方法。 - 【請求項２】 蛍光体の構成元素の脂肪族酸塩と無機粉
末を混合した後、得られた混合物を加熱又は光照射し
て、無機粉末を内包した蛍光体又は無機粉末の表面に被
覆された蛍光体を得る請求項１に記載の蛍光体の製造方
法。 - 【請求項３】 脂肪族酸塩を溶剤に溶解し、得られた溶
液を基板上に塗布及び乾燥させることにより塗布膜を
得、次いで塗布膜を加熱又は光照射により分解して膜状
の蛍光体を得る請求項１に記載の蛍光体の製造方法。 - 【請求項４】 所定の開口部を有するマスクを用いて、
塗布膜に光を照射することにより所定パターンの膜状の
蛍光体を形成し、光未照射部の塗布膜を溶剤で除去する
請求項３に記載の蛍光体の製造方法。 - 【請求項５】 加熱又は光照射後、得られた蛍光体を粉
砕することにより粒子状とする請求項１に記載の蛍光体
の製造方法。 - 【請求項６】 脂肪族酸塩が、炭素数２〜１９個の飽和
脂肪族モノカルボン酸と、Ｅｕ、Ｙ、Ｇｄ、Ｂ、Ｚｎ、
Ｓｉ、Ｍｎ、Ｂａ、Ｍｇ、Ａｌ、Ｌａ、Ｐ、Ｃｅ、Ｔ
ｂ、Ｃａ、Ｗ及びＴｂから選択される蛍光体の構成元素
との塩である請求項１〜５のいずれかに記載の蛍光体の
製造方法。 - 【請求項７】 蛍光体が、Ｙ2Ｏ3：Ｅｕ、ＬａＰＯ4：
Ｃｅ，Ｔｂ、（Ｙ，Ｇｄ）ＢＯ3：Ｅｕ、Ｚｎ2Ｓｉ
Ｏ4：Ｍｎ、ＢａＭｇＡｌ10Ｏ17：Ｅｕ、ＺｎＯ：Ｚ
ｎ、Ｙ2Ｏ3：Ｅｕ、Ｙ2Ｏ3Ｓ：Ｅｕ、ＣａＷＯ4又はＹ2
Ｏ2Ｓ：Ｔｂである請求項１〜６のいずれかに記載の蛍
光体の製造方法。 - 【請求項８】 光が紫外線である請求項１〜７のいずれ
かに記載の蛍光体の製造方法。 - 【請求項９】 放電空間内に蛍光体を有するプラズマデ
ィスプレイパネルであって、前記蛍光体が請求項３又は
４に記載の膜状の蛍光体で構成されていることを特徴と
するプラズマディスプレイパネル。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP18370899A JP2001011437A (ja) | 1999-06-29 | 1999-06-29 | 蛍光体の製造方法及びプラズマディスプレイパネル |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP18370899A JP2001011437A (ja) | 1999-06-29 | 1999-06-29 | 蛍光体の製造方法及びプラズマディスプレイパネル |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2001011437A true JP2001011437A (ja) | 2001-01-16 |
Family
ID=16140576
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP18370899A Pending JP2001011437A (ja) | 1999-06-29 | 1999-06-29 | 蛍光体の製造方法及びプラズマディスプレイパネル |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2001011437A (ja) |
Cited By (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2002212553A (ja) * | 2001-01-19 | 2002-07-31 | Kasei Optonix Co Ltd | 真空紫外線用燐酸ランタン蛍光体及び希ガス放電ランプ |
| WO2003054110A1 (en) * | 2001-12-21 | 2003-07-03 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Phosphor and method for production thereof and plasma display device |
| EP1453064A1 (en) * | 2002-12-20 | 2004-09-01 | Agfa-Gevaert | Radiation pretreated stimulable phosphor screen or panel. |
| US7126135B2 (en) | 2002-12-20 | 2006-10-24 | Agfa-Gevaert | Radiation pretreated stimulable phosphor screen or panel |
| JP2007095436A (ja) * | 2005-09-28 | 2007-04-12 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | プラズマディスプレイパネル |
| CN1751110B (zh) * | 2003-02-19 | 2010-04-21 | Lg电子株式会社 | 用于等离子显示面板的涂覆有金属氧化物的荧光体及其制造方法 |
| JP2011021924A (ja) * | 2009-07-14 | 2011-02-03 | Konica Minolta Medical & Graphic Inc | シンチレータパネル、放射線検出装置、及びシンチレータパネルの製造方法 |
-
1999
- 1999-06-29 JP JP18370899A patent/JP2001011437A/ja active Pending
Cited By (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2002212553A (ja) * | 2001-01-19 | 2002-07-31 | Kasei Optonix Co Ltd | 真空紫外線用燐酸ランタン蛍光体及び希ガス放電ランプ |
| WO2003054110A1 (en) * | 2001-12-21 | 2003-07-03 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Phosphor and method for production thereof and plasma display device |
| US7147802B2 (en) | 2001-12-21 | 2006-12-12 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Phosphor and method for production thereof and plasma display device |
| EP1453064A1 (en) * | 2002-12-20 | 2004-09-01 | Agfa-Gevaert | Radiation pretreated stimulable phosphor screen or panel. |
| US7126135B2 (en) | 2002-12-20 | 2006-10-24 | Agfa-Gevaert | Radiation pretreated stimulable phosphor screen or panel |
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| JP2007095436A (ja) * | 2005-09-28 | 2007-04-12 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | プラズマディスプレイパネル |
| JP2011021924A (ja) * | 2009-07-14 | 2011-02-03 | Konica Minolta Medical & Graphic Inc | シンチレータパネル、放射線検出装置、及びシンチレータパネルの製造方法 |
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