JP2001009268A - 反応プロセス装置 - Google Patents
反応プロセス装置Info
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 泡が発生する反応槽の成分を近赤外分光分析
計で分析出来るようにして、正確な測定・分析が可能と
なる反応プロセス装置を提供する 【解決手段】 反応槽に泡が発生する反応プロセス装置
において、前記反応槽に並列に配管配置され加圧される
脱泡測定セルと、この脱泡測定セル内の成分を分析する
近赤外分光分析計とを具備したことを特徴とする反応プ
ロセス装置である。
計で分析出来るようにして、正確な測定・分析が可能と
なる反応プロセス装置を提供する 【解決手段】 反応槽に泡が発生する反応プロセス装置
において、前記反応槽に並列に配管配置され加圧される
脱泡測定セルと、この脱泡測定セル内の成分を分析する
近赤外分光分析計とを具備したことを特徴とする反応プ
ロセス装置である。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、泡が発生する反応
槽の成分を近赤外分光分析計で分析出来るようにして、
正確な測定・分析が可能となる反応プロセス装置に関す
るものである。
槽の成分を近赤外分光分析計で分析出来るようにして、
正確な測定・分析が可能となる反応プロセス装置に関す
るものである。
【０００２】
【従来の技術】従来においては、反応槽において、反応
生成物が生成される反応プロセス装置においては、反応
槽内の成分を近赤外分光分析計で分析し、この近赤外分
光分析計の分析結果に基づき、反応槽の反応を制御部で
制御する事が行われている。
生成物が生成される反応プロセス装置においては、反応
槽内の成分を近赤外分光分析計で分析し、この近赤外分
光分析計の分析結果に基づき、反応槽の反応を制御部で
制御する事が行われている。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、このよ
うな装置においては、近赤外分光分析計は、測定対象液
中に気泡があると、光が散乱される為に、正確な測定・
分析が出来ない。一方、近赤外分光分析計で反応のモニ
ターを行いたいものには、エステル反応の様に、反応そ
のものが水分を作り出すものが多々ある。
うな装置においては、近赤外分光分析計は、測定対象液
中に気泡があると、光が散乱される為に、正確な測定・
分析が出来ない。一方、近赤外分光分析計で反応のモニ
ターを行いたいものには、エステル反応の様に、反応そ
のものが水分を作り出すものが多々ある。
【０００４】しかも、高温（１７０〜２５０℃）で反応
させるから、この水分は水蒸気となって、ビールの栓を
抜いた時の様に泡を生じさせる。また、高温では、比較
的粘度が下がるが、反応生成物は高粘度になるものが多
いので、脱泡は容易ではない。
させるから、この水分は水蒸気となって、ビールの栓を
抜いた時の様に泡を生じさせる。また、高温では、比較
的粘度が下がるが、反応生成物は高粘度になるものが多
いので、脱泡は容易ではない。
【０００５】本発明は、このような点に鑑みてなされた
もので、泡が発生する反応槽の成分を近赤外分光分析計
で分析出来るようにして、正確な測定・分析が可能とな
る反応プロセス装置を提供することを目的としている。
もので、泡が発生する反応槽の成分を近赤外分光分析計
で分析出来るようにして、正確な測定・分析が可能とな
る反応プロセス装置を提供することを目的としている。
【０００６】
【課題を解決するための手段】このような目的を達成す
るために、本発明では、請求項１の反応プロセス装置に
おいては、反応槽に泡が発生する反応プロセス装置にお
いて、前記反応槽に並列に配管配置され加圧される脱泡
測定セルと、この脱泡測定セル内の成分を分析する近赤
外分光分析計とを具備したことを特徴とする。
るために、本発明では、請求項１の反応プロセス装置に
おいては、反応槽に泡が発生する反応プロセス装置にお
いて、前記反応槽に並列に配管配置され加圧される脱泡
測定セルと、この脱泡測定セル内の成分を分析する近赤
外分光分析計とを具備したことを特徴とする。
【０００７】この結果、反応槽に泡が発生し、近赤外分
光分析計による正確な測定・分析が出来ない場合にも、
反応槽に並列に配管配置された脱泡測定セルにて加圧脱
泡するようにし、脱泡測定セル内の成分を近赤外分光分
析計で測定分析するようにした。
光分析計による正確な測定・分析が出来ない場合にも、
反応槽に並列に配管配置された脱泡測定セルにて加圧脱
泡するようにし、脱泡測定セル内の成分を近赤外分光分
析計で測定分析するようにした。
【０００８】従って、反応槽に泡が発生する場合にも、
近赤外分光分析計による正確な測定・分析が可能となる
反応プロセス装置が得られる。
近赤外分光分析計による正確な測定・分析が可能となる
反応プロセス装置が得られる。
【０００９】本発明の請求項２においては、請求項ｌ記
載の反応プロセス装置において、前記近赤外分光分析計
の分析結果に基づき前記反応槽の反応を制御する制御部
を具備したことを特徴とする。この結果、精度が良好な
反応プロセス装置が得られる。
載の反応プロセス装置において、前記近赤外分光分析計
の分析結果に基づき前記反応槽の反応を制御する制御部
を具備したことを特徴とする。この結果、精度が良好な
反応プロセス装置が得られる。
【００１０】本発明の請求項３においては、請求項１又
は請求項２記載の反応プロセス装置において、前記脱泡
測定セルの頂部が前記反応槽の液面より下面に配置され
ている事を特徴とする。
は請求項２記載の反応プロセス装置において、前記脱泡
測定セルの頂部が前記反応槽の液面より下面に配置され
ている事を特徴とする。
【００１１】この結果、サンプリングポンプを必要とせ
ず、安価で、メンテナンス費用が低減出来る反応プロセ
ス装置が得られる。高温の液体をサンプリングするため
のポンプは高価であり、かつまた、メンテナンスも大変
である。
ず、安価で、メンテナンス費用が低減出来る反応プロセ
ス装置が得られる。高温の液体をサンプリングするため
のポンプは高価であり、かつまた、メンテナンスも大変
である。
【００１２】本発明の請求項４においては、請求項１乃
至請求項3の何れかに記載の反応プロセス装置におい
て、前記脱泡測定セルの外面に保温手段が設けられた事
を特徴とする。
至請求項3の何れかに記載の反応プロセス装置におい
て、前記脱泡測定セルの外面に保温手段が設けられた事
を特徴とする。
【００１３】この結果、脱泡測定セルを保温手段付きに
する事で、脱泡測定セル内の液体温度を変える事が出来
るので、近赤外分光分析計で問題となる、測定液体の温
度を一定に保つ事も出来るし、逆に、この温度を変える
事で温度係数を測定することも可能な反応プロセス装置
が得られる。
する事で、脱泡測定セル内の液体温度を変える事が出来
るので、近赤外分光分析計で問題となる、測定液体の温
度を一定に保つ事も出来るし、逆に、この温度を変える
事で温度係数を測定することも可能な反応プロセス装置
が得られる。
【００１４】本発明の請求項５においては、請求項４記
載の反応プロセス装置において、前記保温手段として、
温度ジャケットが使用されたことを特徴とする。
載の反応プロセス装置において、前記保温手段として、
温度ジャケットが使用されたことを特徴とする。
【００１５】この結果、市販の温度ジャケットを採用す
る事が出来るので、安価な反応プロセス装置が得られ
る。
る事が出来るので、安価な反応プロセス装置が得られ
る。
【００１６】本発明の請求項６においては、請求項１乃
至請求項５の何れかに記載の反応プロセス装置におい
て、前記脱泡測定セルに設けられ前記脱泡測定セル内に
設けられた前記近赤外分光分析計の測定プローブの光学
窓を洗浄する洗浄手段を具備したことを特徴とする。こ
の結果、光学窓を容易に洗浄出来るので、正確で精度の
高い反応プロセス装置が得られる。
至請求項５の何れかに記載の反応プロセス装置におい
て、前記脱泡測定セルに設けられ前記脱泡測定セル内に
設けられた前記近赤外分光分析計の測定プローブの光学
窓を洗浄する洗浄手段を具備したことを特徴とする。こ
の結果、光学窓を容易に洗浄出来るので、正確で精度の
高い反応プロセス装置が得られる。
【００１７】本発明の請求項７においては、請求項６記
載の反応プロセス装置において、前記洗浄手段として洗
浄液が使用された事を特徴とする。
載の反応プロセス装置において、前記洗浄手段として洗
浄液が使用された事を特徴とする。
【００１８】この結果、洗浄液を光学窓に流す構成を用
意するだけで良く、安価な反応プロセス装置が得られ
る。
意するだけで良く、安価な反応プロセス装置が得られ
る。
【００１９】本発明の請求項８においては、請求項１乃
至請求項７の何れかに記載の反応プロセス装置におい
て、前記脱泡測定セルに設けられ前記脱泡測定セルに校
正液を注入して前記近赤外分光分析計の校正校正を行う
校正液注入手段を具備したことを特徴とする。
至請求項７の何れかに記載の反応プロセス装置におい
て、前記脱泡測定セルに設けられ前記脱泡測定セルに校
正液を注入して前記近赤外分光分析計の校正校正を行う
校正液注入手段を具備したことを特徴とする。
【００２０】この結果、校正が容易に出来るので、正確
で精度の高い反応プロセス装置が得られる。
で精度の高い反応プロセス装置が得られる。
【００２１】
【発明の実施の形態】以下図面を用いて本発明を詳しく
説明する。図１は本発明の一実施例を説明した反応プロ
セス装置のシステム構成説明図である。図ｌにおいて、
脱泡測定セル１は、反応槽２に並列に配管配置され加圧
されている。
説明する。図１は本発明の一実施例を説明した反応プロ
セス装置のシステム構成説明図である。図ｌにおいて、
脱泡測定セル１は、反応槽２に並列に配管配置され加圧
されている。
【００２２】この場合は、脱泡測定セル１と反応槽２に
おいては、酢酸とアルコールとが高温で反応され、酢酸
エチルと水とが生成される。化学反応式を下記に示す。
CH3COOH＋C2H5OH→CH3COOC2H5+H2O↑
おいては、酢酸とアルコールとが高温で反応され、酢酸
エチルと水とが生成される。化学反応式を下記に示す。
CH3COOH＋C2H5OH→CH3COOC2H5+H2O↑
【００２３】近赤外分光分析計３は、この脱泡測定セル
１内の成分を分析する。制御部４は、近赤外分光分析計
３の分析結果に基づき、反応槽２の反応を制御する
１内の成分を分析する。制御部４は、近赤外分光分析計
３の分析結果に基づき、反応槽２の反応を制御する
【００２４】この場合は、脱泡測定セル１の頂部が、反
応槽２の液面より下面に配置されている。圧力源５は、
配管Ｐに接続され、反応槽２の液置換、及び脱泡測定セ
ル１の加圧脱泡用に使用される。この場合は、窒素が使
用されている。
応槽２の液面より下面に配置されている。圧力源５は、
配管Ｐに接続され、反応槽２の液置換、及び脱泡測定セ
ル１の加圧脱泡用に使用される。この場合は、窒素が使
用されている。
【００２５】バルブＶ１は、脱泡測定セル１と反応槽２
の一方端間の配管Ｐに配置されている。バルブＶ２は、
脱泡測定セル１と反応槽２の他方端間の配管Ｐに配置さ
れている。バルブＶ３は、圧力源５の出力側の配管Ｐ
に、減圧弁ＲＰと共に配置されている。
の一方端間の配管Ｐに配置されている。バルブＶ２は、
脱泡測定セル１と反応槽２の他方端間の配管Ｐに配置さ
れている。バルブＶ３は、圧力源５の出力側の配管Ｐ
に、減圧弁ＲＰと共に配置されている。
【００２６】以上の構成において、図２に示す如く、バ
ルブＶ１，Ｖ２が開、バルブＶ３が閉になると、脱泡測
定セル１に、酢酸とアルコールとが導入される。次に、
バルブＶ１，Ｖ２が閉、バルブＶ３が開になると、圧力
源５より窒素が脱泡測定セル１に導入され、加圧脱泡さ
れる。
ルブＶ１，Ｖ２が開、バルブＶ３が閉になると、脱泡測
定セル１に、酢酸とアルコールとが導入される。次に、
バルブＶ１，Ｖ２が閉、バルブＶ３が開になると、圧力
源５より窒素が脱泡測定セル１に導入され、加圧脱泡さ
れる。
【００２７】即ち、反応により生成された水分は、蒸気
圧以上に加圧される事で、液体の水分のままとなり、気
泡にならない。この状態では、近赤外分光分析計３は、
脱泡測定セル１内の成分を分析する事が出来る。制御部
４は、近赤外分光分析計３の分析結果に基づき、反応槽
２の反応を制御する。
圧以上に加圧される事で、液体の水分のままとなり、気
泡にならない。この状態では、近赤外分光分析計３は、
脱泡測定セル１内の成分を分析する事が出来る。制御部
４は、近赤外分光分析計３の分析結果に基づき、反応槽
２の反応を制御する。
【００２８】次に、バルブＶ３が開のまま、バルブＶ
１，Ｖ２が交互に開閉を繰り返すと、窒素により、脱泡
測定セル１内がパージされ、脱泡測定セル１内が清浄さ
れる。上記の繰り返しが、この場合は、約１０分の間隔
で繰り返される。即ち、この場合は、測定周期は約１０
分となる。
１，Ｖ２が交互に開閉を繰り返すと、窒素により、脱泡
測定セル１内がパージされ、脱泡測定セル１内が清浄さ
れる。上記の繰り返しが、この場合は、約１０分の間隔
で繰り返される。即ち、この場合は、測定周期は約１０
分となる。
【００２９】この結果、反応槽２に泡が発生し、近赤外
分光分析計３による正確な測定・分析が出来ない場合に
も、反応槽２に並列に配管配置された脱泡測定セル１に
て、加圧脱泡するようにし、脱泡測定セル１内の成分を
近赤外分光分析計３で測定分析するようにした。
分光分析計３による正確な測定・分析が出来ない場合に
も、反応槽２に並列に配管配置された脱泡測定セル１に
て、加圧脱泡するようにし、脱泡測定セル１内の成分を
近赤外分光分析計３で測定分析するようにした。
【００３０】従って、反応槽２に泡が発生する場合に
も、近赤外分光分析計３による正確な測定・分析が可能
となる反応プロセス装置が得られる。
も、近赤外分光分析計３による正確な測定・分析が可能
となる反応プロセス装置が得られる。
【００３１】また、近赤外分光分析計３の分析結果に基
づき、反応槽２の反応を制御する制御部４が設けられた
ので、精度が良好な反応プロセス装置が得られる。
づき、反応槽２の反応を制御する制御部４が設けられた
ので、精度が良好な反応プロセス装置が得られる。
【００３２】また、脱泡測定セル１の頂部が、反応槽２
の液面より下面に配置されているようにした。即ち、原
理的には、サンプルの自然（重力）流入を利用するよう
にした。
の液面より下面に配置されているようにした。即ち、原
理的には、サンプルの自然（重力）流入を利用するよう
にした。
【００３３】従って、サンプリングポンプを必要とせ
ず、安価で、メンテナンス費用が低減出来る反応プロセ
ス装置が得られる。高温の液体をサンプリングするため
のポンプは高価であり、かつまた、メンテナンスも大変
である。
ず、安価で、メンテナンス費用が低減出来る反応プロセ
ス装置が得られる。高温の液体をサンプリングするため
のポンプは高価であり、かつまた、メンテナンスも大変
である。
【００３４】尚、加圧脱泡とパージ用に窒素を使用して
いるが、反応槽２の中ではエステル化を促進する為に、
水分を取り除く為に、乾燥窒素のバブリングを利用して
いるから、この窒素ガスの反応槽２への進入は一般的に
は問題にならない。
いるが、反応槽２の中ではエステル化を促進する為に、
水分を取り除く為に、乾燥窒素のバブリングを利用して
いるから、この窒素ガスの反応槽２への進入は一般的に
は問題にならない。
【００３５】図３は本発明の他の実施例の要部構成説明
図である。本実施例においては、脱泡測定セル１の外面
に、保温手段１０が設けられたものである。
図である。本実施例においては、脱泡測定セル１の外面
に、保温手段１０が設けられたものである。
【００３６】脱泡測定セル１を保温手段１０付きにする
事で、脱泡測定セル１内の液体温度を変える事が出来
る。従って、近赤外分光分析計３で問題となる、測定液
体の温度を一定に保つ事も出来るし、逆に、この温度を
変える事で、温度係数を測定することも可能な反応プロ
セス装置が得られる。
事で、脱泡測定セル１内の液体温度を変える事が出来
る。従って、近赤外分光分析計３で問題となる、測定液
体の温度を一定に保つ事も出来るし、逆に、この温度を
変える事で、温度係数を測定することも可能な反応プロ
セス装置が得られる。
【００３７】この場合は、保温手段１０として、温度ジ
ャケット１１が使用されている。市販の温度ジャケット
を採用する事が出来るので、安価な反応プロセス装置が
得られる。
ャケット１１が使用されている。市販の温度ジャケット
を採用する事が出来るので、安価な反応プロセス装置が
得られる。
【００３８】図４は本発明の他の実施例の要部構成説明
図である。本実施例においては、脱泡測定セル１内に設
けられた近赤外分光分析計３の測定プローブ３０１の光
学窓を洗浄する洗浄手段２０が、脱泡測定セル１に設け
られたものである
図である。本実施例においては、脱泡測定セル１内に設
けられた近赤外分光分析計３の測定プローブ３０１の光
学窓を洗浄する洗浄手段２０が、脱泡測定セル１に設け
られたものである
【００３９】具体的には、脱泡測定セル１に、バルブV
４を介して洗浄液２１が充たされた供給槽２２と、バル
ブV５を介して洗浄液廃液２３が充たされた廃液槽２４
とが接続されている。
４を介して洗浄液２１が充たされた供給槽２２と、バル
ブV５を介して洗浄液廃液２３が充たされた廃液槽２４
とが接続されている。
【００４０】近赤外分光分析計３の測定プローブ３０１
の光学窓の汚れが激しく、指示に近赤外分光分析計３の
測定プローブ３０１の影響が出る場合。脱泡測定セル１
に適切な洗浄液２１を導入し、光学窓の汚れの溶出の後
に、窒素パージを行い、オンライン測定に戻す事が出来
る。
の光学窓の汚れが激しく、指示に近赤外分光分析計３の
測定プローブ３０１の影響が出る場合。脱泡測定セル１
に適切な洗浄液２１を導入し、光学窓の汚れの溶出の後
に、窒素パージを行い、オンライン測定に戻す事が出来
る。
【００４１】この結果、測定結果に信頼性の高い反応プ
ロセス装置が得られる。なお、洗浄液２１の代わりに校
正液３１を使用して、必要に応じて装置の校正を行え
ば、正確で、精度の高い反応プロセス装置が得られる。
ロセス装置が得られる。なお、洗浄液２１の代わりに校
正液３１を使用して、必要に応じて装置の校正を行え
ば、正確で、精度の高い反応プロセス装置が得られる。
【００４２】また、以上の説明は、本発明の説明および
例示を目的として特定の好適な実施例を示したに過ぎな
い。したがって本発明は、上記実施例に限定されること
なく、その本質から逸脱しない範囲で更に多くの変更、
変形をも含むものである。
例示を目的として特定の好適な実施例を示したに過ぎな
い。したがって本発明は、上記実施例に限定されること
なく、その本質から逸脱しない範囲で更に多くの変更、
変形をも含むものである。
【００４３】
【発明の効果】以上説明したように、本発明の請求項ｌ
によれば、次のような効果がある。反応槽に泡が発生す
る反応プロセス装置において、前記反応槽に並列に配管
配置され加圧される脱泡測定セルと、この脱泡測定セル
内の成分を分析する近赤外分光分析計とを具備したこと
を特徴とする反応プロセス装置を構成した。
によれば、次のような効果がある。反応槽に泡が発生す
る反応プロセス装置において、前記反応槽に並列に配管
配置され加圧される脱泡測定セルと、この脱泡測定セル
内の成分を分析する近赤外分光分析計とを具備したこと
を特徴とする反応プロセス装置を構成した。
【００４４】この結果、反応槽に泡が発生し、近赤外分
光分析計による正確な測定・分析が出来ない場合にも、
反応槽に並列に配管配置された脱泡測定セルにて加圧脱
泡するようにし、脱泡測定セル内の成分を近赤外分光分
析計で測定分析するようにした。
光分析計による正確な測定・分析が出来ない場合にも、
反応槽に並列に配管配置された脱泡測定セルにて加圧脱
泡するようにし、脱泡測定セル内の成分を近赤外分光分
析計で測定分析するようにした。
【００４５】従って、反応槽に泡が発生する場合にも、
近赤外分光分析計による正確な測定・分析が可能となる
反応プロセス装置が得られる。
近赤外分光分析計による正確な測定・分析が可能となる
反応プロセス装置が得られる。
【００４６】本発明の請求項２によれば、次のような効
果がある。前記近赤外分光分析計の分析結果に基づき前
記反応槽の反応を制御する制御部を具備したことを特徴
とする請求項1記載の反応プロセス装置を構成したの
で、精度が良好な反応プロセス装置が得られる。
果がある。前記近赤外分光分析計の分析結果に基づき前
記反応槽の反応を制御する制御部を具備したことを特徴
とする請求項1記載の反応プロセス装置を構成したの
で、精度が良好な反応プロセス装置が得られる。
【００４７】本発明の請求項３によれば、次のような効
果がある。前記脱泡測定セルの頂部が前記反応槽の液面
より下面に配置されている事を特徴とする請求項1又は
請求項2記載の反応プロセス装置を構成した。
果がある。前記脱泡測定セルの頂部が前記反応槽の液面
より下面に配置されている事を特徴とする請求項1又は
請求項2記載の反応プロセス装置を構成した。
【００４８】この結果、サンプリングポンプを必要とせ
ず、安価で、メンテナンス費用が低減出来る反応プロセ
ス装置が得られる。高温の液体をサンプリングするため
のポンプは高価であり、かつまた、メンテナンスも大変
である。
ず、安価で、メンテナンス費用が低減出来る反応プロセ
ス装置が得られる。高温の液体をサンプリングするため
のポンプは高価であり、かつまた、メンテナンスも大変
である。
【００４９】本発明の請求項４によれば、次のような効
果がある。前記脱泡測定セルの外面に保温手段が設けら
れた事を特徴とする請求項1乃至請求項3の何れかに記載
の反応プロセス装置を構成した。
果がある。前記脱泡測定セルの外面に保温手段が設けら
れた事を特徴とする請求項1乃至請求項3の何れかに記載
の反応プロセス装置を構成した。
【００５０】この結果、脱泡測定セルを保温手段付きに
する事で、脱泡測定セル内の液体温度を変える事が出来
るので、近赤外分光分析計で問題となる、測定液体の温
度を一定に保つ事も出来るし、逆に、この温度を変える
事で温度係数を測定することも可能な反応プロセス装置
が得られる。
する事で、脱泡測定セル内の液体温度を変える事が出来
るので、近赤外分光分析計で問題となる、測定液体の温
度を一定に保つ事も出来るし、逆に、この温度を変える
事で温度係数を測定することも可能な反応プロセス装置
が得られる。
【００５１】本発明の請求項５によれば、次のような効
果がある。保温手段として、温度ジャケットが使用され
た事を特徴とする請求項４記載の反応プロセス装置が設
けられたので、市販の温度ジャケットを採用する事が出
来るので、安価な反応プロセス装置が得られる。
果がある。保温手段として、温度ジャケットが使用され
た事を特徴とする請求項４記載の反応プロセス装置が設
けられたので、市販の温度ジャケットを採用する事が出
来るので、安価な反応プロセス装置が得られる。
【００５２】本発明の請求項６によれば、次のような効
果がある。脱泡測定セルに設けられ、脱泡測定セル内に
設けられた近赤外分光分析計の測定プローブの光学窓を
洗浄する洗浄手段を具備したことを特徴とする請求項1
乃至請求項５の何れかに記載の反応プロセス装置を構成
したので、光学窓を容易に洗浄出来、正確で精度の高い
反応プロセス装置が得られる。
果がある。脱泡測定セルに設けられ、脱泡測定セル内に
設けられた近赤外分光分析計の測定プローブの光学窓を
洗浄する洗浄手段を具備したことを特徴とする請求項1
乃至請求項５の何れかに記載の反応プロセス装置を構成
したので、光学窓を容易に洗浄出来、正確で精度の高い
反応プロセス装置が得られる。
【００５３】本発明の請求項７によれば、次のような効
果がある。前記洗浄手段として洗浄液が使用された事を
特徴とする請求項６記載の反応プロセス装置を構成した
ので、洗浄液を光学窓に流す構成を用意するだけで良
く、安価な反応プロセス装置が得られる。
果がある。前記洗浄手段として洗浄液が使用された事を
特徴とする請求項６記載の反応プロセス装置を構成した
ので、洗浄液を光学窓に流す構成を用意するだけで良
く、安価な反応プロセス装置が得られる。
【００５４】本発明の請求項８によれば、次のような効
果がある。前記脱泡測定セルに設けられ前記脱泡測定セ
ルに校正液を注入して前記近赤外分光分析計の校正を行
う校正液注入手段を具備したことを特徴とする請求項1
乃至請求項７の何れかに記載の反応プロセス装置を構成
したので、校正が容易に出来、正確で精度の高い反応プ
ロセス装置が得られる。
果がある。前記脱泡測定セルに設けられ前記脱泡測定セ
ルに校正液を注入して前記近赤外分光分析計の校正を行
う校正液注入手段を具備したことを特徴とする請求項1
乃至請求項７の何れかに記載の反応プロセス装置を構成
したので、校正が容易に出来、正確で精度の高い反応プ
ロセス装置が得られる。
【００５５】従って、本発明によれば、泡が発生する反
応槽の成分を近赤外分光分析計で分析出来るようにし
て、正確な測定・分析が可能となる反応プロセス装置を
実現することが出来る。
応槽の成分を近赤外分光分析計で分析出来るようにし
て、正確な測定・分析が可能となる反応プロセス装置を
実現することが出来る。
【図１】本発明の一実施例の要部構成説明図である。
【図２】図1の動作説明図である。
【図３】本発明の他の実施例の要部構成説明図である。
【図４】本発明の他の実施例の要部構成説明図である。
ｌ 脱泡測定セル ２ 反応槽 ３ 近赤外分光分析計 ３０１ 測定プローブ ４ 制御部 ５ 圧力源 １０ 保温手段 １１ 温度ジャケット ２０ 洗浄手段 ２１ 洗浄液 ２２ 供給槽 ２３ 洗浄液廃液 ２４ 廃液槽 ３１ 校正液 Ｖ１ バルブ Ｖ２ バルブ Ｖ３ バルブ Ｖ４ バルブ Ｖ５ バルブ Ｐ 配管 ＰＲ 減圧弁
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き Ｆターム(参考） 2G057 AA01 AB02 AC01 AD17 BA05 DC07 EA05 JA03 2G059 AA01 BB04 CC09 CC13 DD17 EE01 HH01 KK10 NN07 PP01 4G075 AA57 AA62 AA65 CA34 EB01 EB32
Claims (8)
- 【請求項１】反応槽に泡が発生する反応プロセス装置に
おいて、 前記反応槽に並列に配管配置され加圧される脱泡測定セ
ルと、 この脱泡測定セル内の成分を分析する近赤外分光分析計
とを具備したことを特徴とする反応プロセス装置。 - 【請求項２】前記近赤外分光分析計の分析結果に基づき
前記反応槽の反応を制御する制御部を具備したことを特
徴とする請求項1記載の反応プロセス装置。 - 【請求項３】前記脱泡測定セルの頂部が前記反応槽の液
面より下面に配置されている事を特徴とする請求項1又
は請求項2記載の反応プロセス装置。 - 【請求項４】前記脱泡測定セルの外面に保温手段が設け
られた事を特徴とする請求項1乃至請求項3の何れかに記
載の反応プロセス装置。 - 【請求項５】前記保温手段として、温度ジャケットが使
用された事を特徴とする請求項４記載の反応プロセス装
置。 - 【請求項６】前記脱泡測定セルに設けられ前記脱泡測定
セル内に設けられた前記近赤外分光分析計の測定プロー
ブの光学窓を洗浄する洗浄手段を具備したことを特徴と
する請求項1乃至請求項５の何れかに記載の反応プロセ
ス装置。 - 【請求項７】前記洗浄手段として洗浄液が使用された事
を特徴とする請求項６記載の反応プロセス装置。 - 【請求項８】前記脱泡測定セルに設けられ前記脱泡測定
セルに校正液を注入して前記近赤外分光分析計の校正を
行う校正液注入手段を具備したことを特徴とする請求項
1乃至請求項７の何れかに記載の反応プロセス装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP18786799A JP2001009268A (ja) | 1999-07-01 | 1999-07-01 | 反応プロセス装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP18786799A JP2001009268A (ja) | 1999-07-01 | 1999-07-01 | 反応プロセス装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2001009268A true JP2001009268A (ja) | 2001-01-16 |
Family
ID=16213616
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP18786799A Pending JP2001009268A (ja) | 1999-07-01 | 1999-07-01 | 反応プロセス装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2001009268A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2019058971A1 (ja) | 2017-09-19 | 2019-03-28 | 横河電機株式会社 | 検査方法及び検査システム |
| JP2019174225A (ja) * | 2018-03-28 | 2019-10-10 | 株式会社日立製作所 | 反応システム及び反応方法 |
| KR20230106439A (ko) | 2022-01-06 | 2023-07-13 | 서강대학교산학협력단 | 기포분리장치 및 이를 포함하는 광학분석장치 |
-
1999
- 1999-07-01 JP JP18786799A patent/JP2001009268A/ja active Pending
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2019058971A1 (ja) | 2017-09-19 | 2019-03-28 | 横河電機株式会社 | 検査方法及び検査システム |
| JP2019056560A (ja) * | 2017-09-19 | 2019-04-11 | 横河電機株式会社 | 検査方法及び検査システム |
| US11150182B2 (en) | 2017-09-19 | 2021-10-19 | Yokogawa Electric Corporation | Testing method and testing system |
| JP2019174225A (ja) * | 2018-03-28 | 2019-10-10 | 株式会社日立製作所 | 反応システム及び反応方法 |
| US10983051B2 (en) | 2018-03-28 | 2021-04-20 | Hitachi, Ltd. | Reaction system and reaction method |
| KR20230106439A (ko) | 2022-01-06 | 2023-07-13 | 서강대학교산학협력단 | 기포분리장치 및 이를 포함하는 광학분석장치 |
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