JP2001004127A - 揮発性有機化合物の処理装置 - Google Patents

揮発性有機化合物の処理装置

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利文 向井
Shigeru Tominaga
成 冨永
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 VOCの処理においてコンパクトでしかも上
流側に悪影響を及ぼさないVOC処理装置を提供する。 【解決手段】 揮発性有機化合物(VOC)を直接また
は触媒燃焼処理して浄化するとともに、その排ガスの熱
を回収する装置であって、VOCを燃焼させる熱源を内
蔵する炉と、該炉に連結された固定蓄熱部と、該固定蓄
熱部に連結された、VOC含有ガスおよびパージガスの
供給ラインならびに処理済みガスの排出ラインと、該供
給ラインおよび排出ラインにそれぞれ連結されるととも
に、前記各ラインの流路を、前記VOC含有ガスを前記
固定蓄熱部を介して炉に供給する流路、炉で焼却処理さ
れた処理済みガスを前記固定蓄熱部を介して排出する流
路および前記蓄熱部および炉にパージガスを供給する流
路に順次切替える分配弁とを有する。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、揮発性有機化合物
の処理装置に関し、特に揮発性有機化合物を含むガスを
燃焼処理し、さらにその熱を再生する燃焼蓄熱式VOC
処理装置のガス分配弁の改良に関するものである。
【0002】
【従来の技術】自動車等の塗装工場、金属洗浄、印刷工
場などからは、トルエン、キシレン、スチレン等の揮発
性有機化合物(以下、VOCという)を含んだ排ガスが
発生する。このようなVOCガスはせいぜい数十ppm か
ら数%程度の濃度であるが、環境への影響がかなり大き
いことが明らかになってきた。例えば(1)NOxと反
応して光化学スモッグが発生し、森林が枯死したり人体
への悪影響を及ぼす、(2)発ガン性など人体に健康障
害を起こさせる、(3)光化学オキシダントの主成分で
あるオゾンの対流圏内での増加により地球温暖化が生じ
る、等である。このため前記業界ではVOC排ガスを処
理した上で大気中に排出している。従来、VOCの処理
方法としては、直接燃焼式、触媒燃焼式、蓄熱燃焼方
式、触媒燃焼/蓄熱方式、濃縮方式、生物処理方式があ
るが、VOC濃度量変動への対応、ランニングコスト、
保守保全を考慮すると蓄熱燃焼式が有力視されている。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】現時点でのVOC処理
設備の中でも最も熱経済性、高除去率を達成できるもの
として、蓄熱燃焼方式と蓄熱触媒燃焼方式が挙げられ
る。しかし、これらの方式も完全というわけではなく、
蓄積層が大きい。蓄熱材の熱の出し入れのための切替バ
ルブが多く、それに伴って開閉時の圧力変動が生じ、上
流側の塗装等のブースに悪影響を及ぼすといった問題が
生じることもある。本発明の目的は、VOCの処理にお
いてコンパクトでしかも上流側に悪影響を及ぼさないV
OC処理装置を提供することにある。
【0004】
【課題を解決するための手段】本願で特許請求される発
明は以下のとおりである。 (1)揮発性有機化合物(VOC)を直接または触媒燃
焼処理して浄化するとともに、その排ガスの熱を回収す
る装置であって、VOCを燃焼させる熱源を内蔵する炉
と、該炉に連結された固定蓄熱部と、該固定蓄熱部に連
結された、VOC含有ガスおよびパージガスの供給ライ
ンならびに処理済みガスの排出ラインと、該供給ライン
および排出ラインにそれぞれ連結されるとともに、前記
各ラインの流路を、前記VOC含有ガスを前記固定蓄熱
部を介して炉に供給する流路、炉で焼却処理された処理
済みガスを前記固定蓄熱部を介して排出する流路および
前記蓄熱部および炉にパージガスを供給する流路に順次
切替える分配弁とを有することを特徴とする揮発性有機
化合物の処理装置。
【0005】(2)VOC含有ガスとパージガスと処理
済みガスの3種類のガスをそれぞれ導くための3重管ヘ
ッダと、該3重管ヘッダと当接してガスを前記のように
順次切り替えて分配するための回転弁と、該回転弁の背
面に当接し、前記固定蓄熱部に対してガスを供給および
排出するための固定弁からなることを特徴とする(1)
記載の揮発性有機化合物の処理装置。
【0006】(3)前記回転弁が中心部に回転軸を有す
る円盤状回転板であり、前記3重管ヘッダの端面が回転
弁の円盤と当接して3トラックを形成し、その背面には
所定の角度に仕切られた固定弁が当接して6セクターを
形成し、前記3重管を流れる各流体が少なくとも固定弁
を通過しないように、前記円盤状回転板に前記順序に従
って開口部および閉塞部を配置したことを特徴とする
(2)記載の揮発性有機化合物の処理装置。
【0007】以下、本発明を図面により具体的に説明す
る。図1は、本発明装置の概略を示す説明図である。図
2は、本発明に用いる分配弁20の正面断面図、図3
は、図2の分配弁を下から見た底面図、図4は、本発明
の分配弁の固定弁6のA−A線に沿った矢視面図であ
る。
【0008】図1において、この装置は、VOCを燃焼
させるための熱源25を内蔵した炉24と、それと連結
され、互いに独立隔離された固定蓄熱室26(触媒蓄熱
燃焼方式の場合は蓄熱部と触媒部)と、この固定蓄熱室
26にVOC含有ガス、処理済みガスおよびVOC含有
ガスから処理済みガスに切替えるときに蓄熱部流路に残
ったVOC含有ガスを吐き出すためのパージガス、の3
種類のガスを切替えるための分配弁20とから主として
構成される。
【0009】この装置でのガスの流れは次のとおりであ
る。すなわち、VOC含有ガスは分配弁20から互いに
隔離された複数室の固定蓄熱室26に供給される。その
後、その流路端部に形成された熱源内蔵の炉24に入
り、そこで所定の温度に加熱されながら180°方向展
開して供給時に通過した蓄熱室26とは別流路から排出
され、分配弁8を介して排出流路から大気へ放出され
る。また、1つの蓄熱室に着目すれば、先にVOC含有
ガスが入り続いてガス停止、パージガス、ガス停止、そ
の後流れが逆転して処理済みガス、ガス停止、再びVO
C含有ガスという順にガスが通過する。なお、この場合
の熱収支を蓄熱体21側から見ると、炉から排出流路に
向かう蓄熱層ではガス温度が蓄熱材温度より高く蓄熱、
逆に炉に向かう蓄熱層ではガス温度が蓄熱材温度より低
く放熱となる。
【0010】この装置の重要なコンポーネントとなる分
配弁20の詳細を図2〜6によって説明する。VOC含
有ガスと、パージガスおよび処理済みガスの3種類のガ
スを導くための3重管ヘッダ1で形成されるトラック
(端面は図6で表わされる)と、その面に接しそれらの
ガスを分配するための回転弁5(断面は図5で表わされ
る)と、その面に接し等角度で仕切られた固定弁6およ
びマニホールドヘッダ7(端面は図5で表わされる)
と、それと蓄熱室をつなぐマニホールド8とからなる。
この分配弁の心臓部となる回転弁5は、3重管ヘッダの
トラックと固定部のセクターを順次切替える機能を持た
せるために図5の構造を有する。すなわち、回転によっ
てVOC含有ガスが入り、続いてガス停止、パージガ
ス、ガス停止、その後流れが逆転して処理済みガス、ガ
ス停止、再びVOC含有ガスという順に流路がつながる
ように開口部と閉塞部が配列されている。なお、回転動
力は3重管の中心に位置する回転軸14にベルト15ま
たはチェーン、歯車等の機械要素によってモータから伝
達される。ここで重要なことは、1つのマニホールドヘ
ッダにおいて一瞬たりとも複数のガス流路がつながって
はならないことである。例えば1つのマニホールドヘッ
ダにVOCガスと処理済みガスの流路がつながったとす
れば、ガスはVOCガス流路から処理済みガス流路へと
ショートパスし、VOC含有ガスがそのまま大気に放出
されることになる。このほかパージガス流路と処理済み
ガス流路がつながると、パージガスは蓄熱層よりも流動
抵抗の小さい処理済みガス流路に流れ、パージガスがむ
だになる。また、VOCガスとパージガスの流路がつな
がると、その間パージガスの目的が達成しなくなる。こ
れらのことから、1つのマニホールドヘッダに同時に複
数ガスが混入しないように回転弁の開口部の間に閉塞部
が配設されている。
【0011】回転弁における各ガスのシール構成は次の
とおりである。すなわち、3重管ヘッダ1と固定弁6に
挟み込んだ回転部弁を締め付けて漏れを防止する。ただ
し、しゅう動には弾性体を配しており、3重管ヘッダ1
の端面の周方向と固定弁6の各流路の仕切部にパッキン
13を埋め込まれている。したがって、回転弁5の開口
部はそれらパッキンより内側、閉塞部はパッキンの外側
に接するように回転弁5の開口部と閉塞部を配設されて
いる。
【0012】
【発明の実施の形態】
【実施例】図1に概略を示す装置において、蓄熱/触媒
室を8室、各室の断面形状150mm角、高さ600mmL
とし、その上部に300mmLの加熱バーナ付きヘッダを
設けた。この蓄熱室にガスを分配するための図2から図
6に示す分配弁を設置した。蓄熱/触媒室にコーディエ
ライトハニカム製蓄熱材とその上部に同基材に貴金属を
担持した触媒を充填した。
【0013】この装置にトルエン100ppm を含有する
5m3 /minのVOCガスを投入し、回転弁を1rp
mで回転させ、触媒層反応温度350℃に制御しながら
運転した。その結果、VOC処理装置の性能は浄化率9
5%以上、熱回収率95%以上、圧力損失200〜25
0mmAqで圧力変動は50mmAq程度に抑えることがで
きた。
【0014】
【発明の効果】本発明によれば、分配弁の部品数が少な
く、単純な構造として装置をコンパクト化できるため、
弁開閉時の圧力変動等が少なく、例えばVOC含有ガス
の処理済みガスへのリーク量を5%以下、入口出口での
圧力損失を10mmAq以下に抑えることができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の蓄熱燃焼式VOC処理装置の概要を示
す図。
【図2】本発明の分配弁の正面図。
【図3】本発明の分配弁の底から見た矢視面図。
【図4】本発明の分配弁の固定弁6のA−A線に沿った
矢視面図。
【図5】本発明の分配弁の回転弁5のB−B線に沿った
矢視面図。
【図6】本発明の分配弁の3重管ヘッダ1のC−C線に
沿った矢視面図。
【符号の説明】
1…3重管ヘッダ、2…VOC含有ガス流路、3…処理
済ガス流路、4…パージガス流路、5…回転弁、6…固
定弁、7…マニホールドヘッダ、8…マニホールド、9
…VOC含有ガス開弁、10…処理済ガス開弁、11…
パージガス開弁、12…ガス開弁、13…パッキン、1
4…回転軸、15…ベルト、16…プーリ、20…分配
弁、21…蓄熱材、22…蓄熱材仕切板、23…触媒、
24…炉、25…熱源、26…固定蓄熱室。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 一柳 宏 広島県呉市宝町6番9号 バブコック日立 株式会社呉工場内 Fターム(参考) 3K023 QA12 QB01 QC06

Claims (3)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 揮発性有機化合物(VOC)を直接また
    は触媒燃焼処理して浄化するとともに、その排ガスの熱
    を回収する装置であって、VOCを燃焼させる熱源を内
    蔵する炉と、該炉に連結された固定蓄熱部と、該固定蓄
    熱部に連結された、VOC含有ガスおよびパージガスの
    供給ラインならびに処理済みガスの排出ラインと、該供
    給ラインおよび排出ラインにそれぞれ連結されるととも
    に、前記各ラインの流路を、前記VOC含有ガスを前記
    固定蓄熱部を介して炉に供給する流路、炉で焼却処理さ
    れた処理済みガスを前記固定蓄熱部を介して排出する流
    路および前記蓄熱部および炉にパージガスを供給する流
    路に順次切替える分配弁とを有することを特徴とする揮
    発性有機化合物の処理装置。
  2. 【請求項2】 VOC含有ガスとパージガスと処理済み
    ガスの3種類のガスをそれぞれ導くための3重管ヘッダ
    と、該3重管ヘッダと当接してガスを前記のように順次
    切り替えて分配するための回転弁と、該回転弁の背面に
    当接し、前記固定蓄熱部に対してガスを供給および排出
    するための固定弁からなることを特徴とする請求項1記
    載の揮発性有機化合物の処理装置。
  3. 【請求項3】 前記回転弁が中心部に回転軸を有する円
    盤状回転板であり、前記3重管ヘッダの端面が回転弁の
    円盤と当接して3トラックを形成し、その背面には所定
    の角度に仕切られた固定弁が当接して6セクターを形成
    し、前記3重管を流れる各流体が少なくとも固定弁を通
    過しないように、前記円盤状回転板に前記順序に従って
    開口部および閉塞部を配置したことを特徴とする請求項
    2記載の揮発性有機化合物の処理装置。
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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JP2003170024A (ja) * 2001-12-05 2003-06-17 Babcock Hitachi Kk 蓄熱式触媒燃焼法による排ガス浄化方法

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* Cited by examiner, † Cited by third party
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