JP2002147735A - 蓄熱式燃焼装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 浄化排ガスを抜き出すバイパスに設けた流量
調節弁の耐熱性を確保し、かつ一般的で入手容易な調節
弁を採用できる蓄熱式燃焼装置を提供する。 【解決手段】 蓄熱式燃焼装置は、燃焼室2に連結する
複数の蓄熱室からなる高温蓄熱槽3-1と、各蓄熱室に連
通管12を介して接続する複数の蓄熱室からなる低温蓄熱
槽3-2と、各低温蓄熱室に分配ダクト9を介して接続しＶ
ＯＣ含有排ガスの供給、浄化排ガスの排除を行う回転式
分配弁7と、各連通管12から分岐し浄化排ガスを抜き出
すバイパス管16に接続する回転式流路制御弁13と、該流
路制御弁13出側に接続するバイパスライン11に設けた流
量調節弁10とを備えており、高温の浄化排ガスを蓄熱室
3-1aで冷却した後、バイパス管16から流路制御弁13、バ
イパスライン11の流量調節弁10を経て排出する。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、揮発性有機化合物
や一酸化炭素等の有害物質を含む排ガスを燃焼処理して
浄化し、その浄化排ガスから熱を回収、蓄熱し、その蓄
熱を次に浄化すべき排ガスの加熱に再利用する蓄熱式燃
焼装置に係り、特に燃焼処理温度が過度に高くなったと
きに浄化排ガスをパイパスして放出する装置に関する。

【０００２】

【従来の技術】自動車の塗装工場、金属洗浄、印刷工
場、粘着・接着紙製造工場などからはトルエン、キシレ
ン、スチレン等を代表とする揮発性有機化合物（以下Ｖ
ＯＣという）を含んだ排気ガスが発生する。このような
ＶＯＣ含有排気ガスはせいぜい数十ppmから数％程度の
濃度であるが、環境への影響がかなり大きいことが明ら
かになってきた。ＶＯＣ含有排気ガスは、例えば (1)Ｎ
Ｏｘと反応して光化学スモッグが発生し、森林が枯死し
たり、人体へも悪影響を及ぼす、(2)発ガン性など人体
に健康障害を起こさせる、(3)光化学オキシダントの主
成分であるオゾンの対流圏内での増加により地球温暖化
を生じる。このため、上記の工場ではＶＯＣ含有排気ガ
スを浄化処理した上で、大気中に排出している。

【０００３】ＶＯＣ含有排ガスの処理方法としては、直
接燃焼式、触媒燃焼式、蓄熱燃焼方式（触媒燃焼／蓄熱
方式を含む）、吸着方式、吸着／濃縮方式、化学洗浄方
式、生物処理方式等があり、処理するＶＯＣ濃度やラン
ニングコスト、保守保全の容易性等を総合的に判定して
方式が採用されるが、近年では熱効率の高い蓄熱式燃焼
方式が有力な手段として注目されている。

【０００４】上記のようにＶＯＣ含有排気ガスを出す業
種においては、ＶＯＣ含有排ガス中のＶＯＣ濃度が時間
単位または工程単位で変化する場合が多く、その濃度変
化幅は数百ppmから数千ppmである。

【０００５】蓄熱式燃焼装置を計画する際、燃焼して浄
化された浄化排ガスの熱を有効に再生し、補助燃料等の
加熱熱源の使用をできる限り少なくするため、ＶＯＣ濃
度の希薄側（低濃度側）の条件、すなわち燃焼室での燃
焼温度が低く、浄化排ガスの蓄熱材入口温度も低くなる
条件を設計点として蓄熱槽の設計（蓄熱材の量、槽の寸
法決定）が行われる。このためＶＯＣ濃度が上昇して、
概ね1,000ppm以上になると燃焼室の燃焼温度が上がり、
浄化排ガスが余剰の熱を持って蓄熱槽に導入されること
になる。蓄熱槽が余剰の熱を蓄えると、蓄熱槽で蓄熱を
用いてＶＯＣ含有排気ガスを加熱する際にガス温度が上
がり過ぎ、それに伴い燃焼室での燃焼温度がさらに上昇
し、このような温度上昇を繰り返すことにより、蓄熱式
燃焼装置の運転が不安定状態となっていた。また、浄化
排ガスの蓄熱槽出口温度も上昇するため、蓄熱槽からの
浄化排ガスを排出する分配弁の温度差がＶＯＣ濃度の変
動に左右されて大きくなり、熱膨張やシール性の面で分
配弁の信頼性が損なわれ、ひいてはＶＯＣの処理効率が
低下する恐れがあった。ここで分配弁は、蓄熱槽内を仕
切って構成する複数の蓄熱室に、浄化するべきＶＯＣ含
有排気ガスを分配供給し、後に各蓄熱室槽からの浄化排
ガスを排出する弁をいう。

【０００６】この余剰熱に対処するため、現在、余剰熱
分をもつ高温燃焼ガス(浄化排ガス)を燃焼室から直接抜
き出し、蓄熱槽及び分配弁をバイパスして排出する方式
がとられている。この方式では、浄化排ガスのバイパス
ラインに廃熱ボイラ等の廃熱回収装置の設置が可能であ
るが、前記したようにＶＯＣの含有濃度が短時間で変化
するため、廃熱回収量が安定しないこと及び経済的なメ
リットも小さいことから、廃熱回収装置の設置を敬遠す
るユーザも増えている。廃熱回収をしない場合は、800
℃を超える高温の浄化排ガスのバイパス量をバイパスラ
インに設けた調節弁により直接制御する必要が生じ、材
質面、構造面で特殊な調節弁が必要となり、またその弁
の耐熱性等の信頼性にも問題があった。

【０００７】また、燃焼を完結した浄化排ガスを抜き出
す必要がある上に、蓄熱室が切り替わっても同一条件で
抜き出す必要があるため、各蓄熱室の中立位置となる燃
焼室の中央部にバイパスライン入口（抜き出し口）を設
置する。このため燃焼に必要な滞留時間を確保する上で
バイパスライン入口より下流側の燃焼室が有効に使えな
いという問題があった。

【０００８】従来のＶＯＣ処理用蓄熱式燃焼装置の構成
を図７に示す。従来の蓄熱式燃焼装置は、補助バーナ1
を備える燃焼室2と、燃焼室2に連結し並列配置された複
数の蓄熱室3aからなる蓄熱槽3と、各蓄熱室3aにＶＯＣ
含有排気ガス4、浄化排ガス5及びパージガス6の3種類の
ガスを順次切り替えて供給・排気・供給する回転式分配
弁7と、分配弁7を低速回転させるモータを含む駆動装置
8と、回転式分配弁7と各蓄熱室3aとを連絡する各分配ダ
クト9と、燃焼室2から浄化排ガスを直接抜き出すバイパ
スライン11に設けた調節弁10と、から構成される。

【０００９】回転式分配弁7に供給したＶＯＣ含有排ガ
ス4は、分配弁7により流路を制御し、分配ダクト9を通
って蓄熱室3aに供給する。回転式分配弁7は１〜2 rpm程
度の低速で連続回転しており、分配流路を切り替えて行
く。この流路切替えにより、順次各蓄熱室3aのガスが切
り替わっている。蓄熱室3aに供給したＶＯＣ含有排ガス
4は蓄熱している浄化排ガス5の熱を再生し加熱される。
加熱し着火温度に達したＶＯＣ含有排気ガスは燃焼室2
で必要な滞留時間の下で燃焼し、浄化排ガス5となって
蓄熱室3aに導入される。蓄熱室3aで熱を蓄熱し温度の下
がった浄化排ガス5は、分配ダクト9を通って回転式分配
弁7から排気される。前記した如くＶＯＣ含有濃度の変
動によりＶＯＣ濃度が上昇して余剰の熱が発生した場合
は、燃焼温度の制御のため、800℃を超える高温の浄化
排ガス5を燃焼室2中央部（各蓄熱室3aの中立位置）から
バイパスライン11を通じて調節弁10により抜き出し、回
転分配弁7の下流の排気側へバイパスする。

【００１０】

【発明が解決しようとする課題】上述したごとく、従来
の蓄熱式燃焼装置において、高温の浄化排ガスがもつ余
剰熱の抜き出し部に高温用の特殊な調節弁を使用せざる
を得ず、信頼性の面で配慮がなされておらず、調節弁の
変形や寿命低下や配管のホットスポット発生などの問題
があった。

【００１１】本発明の目的は、上記従来技術の問題点を
解消するために、燃焼室から出る浄化排ガスが余剰熱を
持って高温になったとき、高温の浄化排ガスを蓄熱材で
ある程度まで冷却してから排出バイパスラインに抜き出
すことにより、排出バイパスラインに設けた調節弁に必
要な耐熱性を確保し、かつ一般化して入手容易な調節弁
を用いても、安定した運転ができる蓄熱式燃焼装置を提
供することにある。

【００１２】

【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に、本発明の蓄熱式燃焼装置は、揮発性有機化合物等を
含有する排ガス（ＶＯＣ含有排ガス）を燃焼して浄化排
ガスとする燃焼室と、燃焼室から排出される浄化排ガス
から吸熱する蓄熱材を貯蔵する複数の高温蓄熱室からな
る高温蓄熱槽と、各高温蓄熱室からそれぞれ連通管を介
して排出される浄化排ガスから吸熱する蓄熱材を貯蔵す
る複数の低温蓄熱室からなる低温蓄熱槽と、各低温蓄熱
室から分配ダクトを介して導入する浄化排ガスを排出す
る共に各低温蓄熱室にＶＯＣ含有排ガスを分配ダクトを
介して供給する分配弁と、各連通管から分岐し浄化排ガ
スを抜き出すバイパス管と、各バイパス管を介して浄化
排ガスを導入する流路制御弁と、流路制御弁から排出す
る浄化排ガスを送るバイパスラインに設けられた流量調
節弁と、からなることを特徴とする。

【００１３】上記のように構成された蓄熱式燃焼装置に
おいて、ＶＯＣを燃焼処理した高温の浄化排ガス全量が
高温蓄熱槽を通る、即ちいずれかの高温蓄熱室を通っ
て、各高温蓄熱室内に備えた蓄熱材により吸熱、蓄熱さ
れ、高温蓄熱室出口で浄化排ガスの温度は中温域まで低
下する。高温蓄熱室を出た中温の浄化排ガスは、一部が
連結管からバイパス管、流路制御弁、排出ラインの流量
調節弁を通じて放出され、他部は連結管から低温蓄熱室
に入って蓄熱材により吸熱、蓄熱されてさらに温度低下
して、排出される。浄化排ガスの余剰熱を除去するため
に、上記のように高温蓄熱室から出た中温域の浄化排ガ
スをバイパスすれば、排出ラインの流量調節弁は、従来
のような高温用の特殊な弁を必要とせず、一般的な調節
弁が使用できる。また低温蓄熱室においては、低温蓄熱
室上流側で浄化排ガスの一部をバイパスしているためガ
ス量の減少し、それに伴い低温蓄熱室の温度勾配が急降
下して、各低温蓄熱室から分配ダクトを通じて分配弁に
戻る浄化排ガスの温度は、分配弁の耐熱に支障のない温
度まで低下する。

【００１４】本発明の蓄熱式燃焼装置において、分配弁
は、回転しながら分配ダクトそれぞれをＶＯＣ含有排ガ
スの供給経路及び浄化排ガスの排出経路に順次切り替え
る回転式分配弁から構成するのが好ましく、また流路制
御弁は分配弁と同一軸で回転し浄化排ガスの排出経路に
切り替えられた分配ダクトに通じる連通管から分岐する
バイパス管と排ガスの排出ラインとの間のみを開路する
回転式流路制御弁から構成することが好ましい。

【００１５】また分配弁から排出する浄化排ガスの温度
を検出する温度検出手段と、温度検出手段の検出値によ
り調節弁の開度を調節する制御手段とを設けることが好
ましい。

【００１６】

【発明の実施の形態】以下、本発明の蓄熱式燃焼装置を
図面に基づいて具体的に説明する。図１は本発明の実施
の形態となる蓄熱式燃焼装置の構成図、図２は図1のA-A
矢視図で燃焼装置を構成する角形蓄熱室からなる蓄熱槽
を示す図、図３は図1のA-A矢視図で図2の角形タイプと
異なる扇形蓄熱室からなる蓄熱槽を示す図である。

【００１７】本発明による蓄熱式燃焼装置は、概して、
揮発性有機化合物（ＶＯＣ）含有排ガスを直接燃焼ある
いは触媒燃焼して浄化し、その浄化排ガスの熱を蓄熱材
により回収、蓄熱し、その蓄熱を次に浄化するべきＶＯ
Ｃ含有排ガスの加熱に再利用する装置であって、特に従
来装置の蓄熱槽を高低温用に2分割し、浄化排ガスが過
度の高温になったときに、高温蓄熱槽で浄化排ガスから
余剰熱を回収して冷却した後にバイパスを通じて放出す
るように構成したものである。

【００１８】この蓄熱式燃焼装置は、図１に示すよう
に、補助バーナ1を有する燃焼室2と、燃焼室2に直接連
結する複数の高温蓄熱室3-1aからなる高温蓄熱槽3-1
と、各高温蓄熱室3-1aにそれぞれ連通管12を介して接続
する複数の低温蓄熱室3-2aからなる低温蓄熱槽3-2と、
各低温蓄熱室3-2aに分配ダクト9を介して接続し、ＶＯ
Ｃ含有排ガスの供給、浄化排ガスの排除等を行う回転式
分配弁7と、回転式分配弁7を回転させるモータを含む駆
動装置8と、各連通管12から分岐して浄化排ガスの一部
を抜き出すバイパス管16に入口を接続する回転式流路制
御弁13と、回転式流路制御弁13の出口に接続して浄化排
ガスを排出するバイパスライン11に設けた流量調節弁10
と、から構成される。さらに分配弁７の浄化排ガス出口
で温度測定する温度検出器14（温度検出手段）と、その
温度検出値にしたがってバイパスライン11の流量調節弁
10を制御する制御器15（制御手段）とを設けている。回
転式流路制御弁13と回転式分配弁7は同一回転軸8aによ
り駆動されて、同期回転する。

【００１９】上記の構成において、回転式分配弁7は駆
動装置8により駆動されて1〜2 rpm程度の低速で連続回
転しながら、分配弁7内部の円盤または円筒ロータの組
合わせにより各分配ダクト9との接続を切り替えてい
き、その分配ダクト9に順次つながる低温蓄熱室3-2a及
び高温蓄熱室3-1aに対して、揮発性有機物（ＶＯＣ）含
有排ガス4の供給、浄化排ガス5の排出及びパージガス6
の供給を順次切り替える。

【００２０】図2、図3に２つのタイプの固定式蓄熱槽を
示す。図2に示す低温蓄熱槽3-2は、それぞれ蓄熱材を内
蔵する複数の角形蓄熱室3-2aから構成されており、槽を
3×3に仕切ってなる9室のうち中央の室の周囲の8室を互
いに独立した低温蓄熱室3-2aとしている。高温蓄熱槽3-
1は低温蓄熱槽3-2と同様に角形で8室の高温蓄熱室3-1a
からなり、低温蓄熱室3-2aと高温蓄熱室3-1aは連通管12
で接続される。この角形の高温蓄熱槽3-1は角形の燃焼
炉2と組み合わされる。各連通管12から分岐するバイパ
ス管16は槽の中心軸に位置する回転式流路制御弁13に集
まっている。また図3に示す低温蓄熱槽3-2は、円筒状槽
の軸心部に設けた小円筒部を除いて半径方向に仕切って
なる扇形の8室を互いに独立した低温蓄熱室3-2aとして
有しており、各低温蓄熱室3-2aに蓄熱材が内蔵されてい
る。高温蓄熱槽3-1は低温蓄熱槽3-2と同様に８つの扇形
の高温蓄熱室3-1aからなり、低温蓄熱室3-2aと高温蓄熱
室3-1aは連通管12で接続されている。円形の高温蓄熱槽
3-1は円形の燃焼炉2と組み合わされる。なお、蓄熱槽に
設ける蓄熱室の数は8つに限定されず、適宜数にすれば
よい。上記のように、高温蓄熱槽3-1と低温蓄熱槽3-2の
接続を連通管方式としたことにより角形蓄熱槽又は円形
蓄熱槽のいずれを採用しても、連通管12、バイパス管1
6、回転式流路制御弁13の同一バイパス構造が設置可能
である。回転式流路制御弁13の構造を図５及び図６によ
り説明する。図5は回転式流路制御弁13の縦断面図、図
６は図５のB-B断面図である。回転式流路制御弁13は、
概略、円筒形のケーシング17と、ケーシング17内に設け
られたロータ16と、ロータ16の回転軸8aとから構成され
ている。ケーシング17は、上部外周の八方に各バイパス
管16と接続する8個の浄化排ガス入口18を有し、下部外
周に一つの浄化排ガス出口19を有している。ロータ16
は、ケーシング17内上部に設置されており、そしてケー
シング17の浄化排ガス入口18のうち隣り合う2個に対応
する2個の開口21とケーシング17の浄化排ガス出口19に
出る２個の流路22とを有している。回転軸8aはケーシン
グ17の上下面に設置されたベアリング20により支持され
ている。またケーシング17とロータ16の間には、ガス漏
れを防ぐシール23が設けられている。回転式流路制御弁
13は、回転式分配弁7と同一回転し、そして回転式分配
弁7により切り替えられて浄化排ガスを排出する分配ダ
クト７からバイパス管16、排出パスライン11へと延びる
経路を開路する。この円筒型のロータ16は、浄化排ガス
5排出側のみを常に回路し、ＶＯＣ排ガス4等の供給側は
常に閉路する。

【００２１】次に、低温蓄熱槽3-2及び高温蓄熱槽3-1が
内部に配置された蓄熱材により蓄熱された状態における
蓄熱式燃焼装置の動作について説明する。回転式分配弁
7に供給されＶＯＣ含有排ガス4は、回転式分配弁7によ
って切り替えられてＶＯＣ含有排ガスの供給経路となる
分配ダクトから低温蓄熱室3-2a、高温蓄熱室3-1aを通っ
て燃焼室2に送り込まれる。このときＶＯＣ含有排ガス4
は、低温蓄熱室3-2aの蓄熱により予熱され、次いで高温
蓄熱室3-1aの蓄熱により高温に加熱され、そして燃焼室
2内で必要な滞留時間の下で燃焼して例えば約800℃の浄
化排ガス5となる。ＶＯＣ含有排ガス4が高温蓄熱室3-1a
で十分加熱されず着火温度に達しない場合は、そのＶＯ
Ｃ含有排ガス4を燃焼室2の補助バーナ1によりさらに加
熱して燃焼させ、浄化する。燃焼室2中の浄化排ガス5
は、回転式分配弁7によって切り替えられて浄化排ガス
の排出経路となる高温蓄熱室3-1aから低温蓄熱室3-2a、
分配ダクト9を通って回転式分配弁7から排出される。こ
のとき、浄化排ガス５は、高温蓄熱室3-1aに内蔵された
蓄熱材の吸熱、蓄熱により300〜500℃の中温域まで低下
し、次に低温蓄熱室3-2aに内蔵された蓄熱材の吸熱、蓄
熱によりさらに温度低下する。これらの蓄熱は、次に供
給されるＶＯＣ含有排ガス4が低温蓄熱室3-2a及び高温
蓄熱室3-1aを通過するときに、そのガスを予熱、加熱す
る。かくして各高温蓄熱室3-1a及び各低温蓄熱室3-2aに
おいて蓄熱及びその再利用が繰り返されることになる。
上記のＶＯＣ含有排ガスの処理サイクルにおいて、ＶＯ
Ｃ含有排ガス4を供給する分配ダクト9から分岐するバイ
パス管16は回転式制御弁13により閉止されているので、
バイパス管16にはＶＯＣ含有排ガスの流れが生じない。

【００２２】ＶＯＣ含有排ガス4中のＶＯＣ濃度が高い
ために燃焼室2内温度が800℃を超えて異常上昇して、浄
化排ガス5が余剰の熱をもつ場合は、燃焼室2から排出し
た浄化排ガス5は、高温蓄熱室3-1aで放熱して温度降下
した後、一部が連通管12からバイパス管16、流路制御弁
13を経て、バイパスライン11を通じて排出され、他部が
低温蓄熱室3-2a、分配ダクト9を通って回転式分配弁7か
ら排出される。バイパスライン11を通じて排出された浄
化排ガス5は、回転式分配弁7から排出される浄化排ガス
5と合流して放出される。浄化排ガス5のバイパス量は流
量調節弁10により調節される。即ち流量調節弁10は、分
配弁7出口で温度検出器14により測定された浄化排ガス
温度と制御器15の設定温度との偏差信号により開度制御
され、その開度は分配弁7出口における浄化排ガス温度
が所定値より高くなるほど大きくなる。

【００２３】図4は燃焼室から排出される浄化排ガス5が
高温蓄熱室3-1a及び低温蓄熱室3-2aを通過する時に起き
る浄化排ガスの温度変化を模式的に示す。例えば800℃
の浄化排ガスは高温蓄熱室3-1aを進むにつれて温度降下
し300〜500℃になって連通管12に入り、その浄化排ガス
の一部は連通管12からバイパスして排出され、他部は低
温蓄熱室3-2aに入ってさらに温度降下し、分配ダクト9
から分配弁9を通って排出される。

【００２４】このように高温蓄熱室3-1a出口の浄化排ガ
ス5の一部を抜き出せば、300〜500℃の中温域で浄化排
ガス5の余剰熱分をバイパスすることが可能となる。こ
れによりバイパスライン11の流量調節弁10は低温化でき
一般的な調節弁が使用できる。また上流側で浄化排ガス
の一部をバイパスするため、低温蓄熱室3-2aに流入する
ガス量が減少しそれに伴い低温蓄熱室3-2aの温度が急勾
配で降下するので、各低温蓄熱室3-2aから分配ダクト9
を通じて分配弁7に戻る浄化排ガス5の温度は、分配弁7
の耐熱に支障のない温度まで低下させることができる。
また低温蓄熱室3-2aに蓄える熱量を低減するので、ＶＯ
Ｃ含有排ガスの予熱温度を下げることができ、したがっ
て燃焼室でＶＯＣ含有排ガスが過度に温度上昇すること
を防止できる。

【００２５】また本発明の蓄熱式燃焼装置は、従来の装
置のように浄化排ガス5中の余剰熱を除去するバイパス
ライン11を燃焼室2に設けたものと異なり、バイパスラ
イン11を高温蓄熱槽3-1の下流に設けているので、ＶＯ
Ｃの燃焼に必要な滞留時間は、ＶＯＣ含有排ガス4が燃
焼室2に入ってから浄化排ガス5となって高温蓄熱槽3-1
を経て低温蓄熱槽3-2に達する間を有効に使えるため、
従来技術になる燃焼室の半分程度の燃焼室容積にコンパ
クト化でき、装置スペースが小さくできる。

【００２６】

【発明の効果】以上のように本発明の蓄熱式燃焼装置に
よれば、高温の浄化排ガスを抜き出す高温用の特殊な調
節弁を使用することなく、中温用の安定した品質の一般
的な調節弁が使用でき、装置の信頼性の改善が図れる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の実施の形態である蓄熱式燃焼装置の構
成図。

【図２】図１のA-A断面図で蓄熱槽として用いる角形蓄
熱槽を示す図。

【図３】図１のA-A断面図で別のタイプの蓄熱槽を示す
図。

【図４】高温蓄熱槽から低温蓄熱槽における浄化排ガス
の温度降下を説明するグラフ。

【図５】回転式流路制御弁の構成を示す縦断面図。

【図６】図５のB-B断面図。

【図７】従来技術の蓄熱式燃焼装置を示す構成図。

【符号の説明】

１ 補助バーナ ２ 燃焼室 ３−１ 高温蓄熱槽 ３−１ａ 高温蓄熱室 ３−２ 低温蓄熱槽 ３−２ａ 低温蓄熱室 ４ ＶＯＣ含有排ガス ５ 浄化排ガス ６ パージガス ７ 回転式分配弁 ８ 駆動装置 ９ 分配ダクト １０ 流量調節弁 １１ バイパスライン １２ 連通管 １３ 回転式流路制御弁 １４ 温度検出器 １５ 制御器 １６ バイパス管

Claims (3)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 揮発性有機化合物等を含有する排ガスを
   燃焼して浄化排ガスとする燃焼室と、前記燃焼室から排
   出される浄化排ガスから吸熱する蓄熱材を貯蔵する複数
   の高温蓄熱室からなる高温蓄熱槽と、前記各高温蓄熱室
   からそれぞれ連通管を介して排出される浄化排ガスから
   吸熱する蓄熱材を貯蔵する複数の低温蓄熱室からなる低
   温蓄熱槽と、前記各低温蓄熱室から分配ダクトを介して
   導入する浄化排ガスを排出する共に前記各低温蓄熱室に
   前記揮発性有機化合物等を含む排気ガスを分配ダクトを
   介して供給する分配弁と、前記各連通管から分岐し浄化
   排ガスを抜き出すバイパス管と、前記各バイパス管を介
   して浄化排ガスを導入する流路制御弁と、前記流路制御
   弁から排出する浄化排ガスを送るバイパスラインに設け
   られた流量調節弁と、からなることを特徴とする蓄熱式
   燃焼装置。
2. 【請求項２】 前記分配弁は回転しながら前記分配ダク
   トそれぞれを前記揮発性有機化合物等を含有する排ガス
   の供給経路及び前記浄化排ガスの排出経路に順次切り替
   える回転式分配弁からなり、前記流路制御弁は前記分配
   弁と同一軸で回転し前記浄化排ガスの排出経路に切り替
   えられた分配ダクトに通じる前記連通管から分岐する前
   記バイパス管と前記排出ラインとの間を開路する回転式
   流路制御弁からなることを特徴とする請求項1記載の蓄
   熱式燃焼装置。
3. 【請求項３】 前記分配弁から排出する浄化排ガスの温
   度を検出する温度検出手段と、該温度検出手段の検出値
   により前記調節弁の開度を調節する制御手段とを設けた
   ことを特徴とする請求項1又は２に記載の蓄熱式燃焼装
   置。