JP2000517003A - 包装および包装補助物の形態 - Google Patents

包装および包装補助物の形態

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Abstract

(57)【要約】 基体(10)から作られ、その基体上に単一もしくは複数の層が設けられた、最初の開口もしくは初期包装の一体保証を有する、包装もしくは包装補助物の形態。基体(10)の例は、金属ホイル、プラスチックラミネート、紙などの深くされた物質もしくはホイル形態の物質の包装からなる成形体である。前記基体は、可視光線を反射する表面(11)を特徴とする。前記反射表面(11)の上面には、例えば、化学式SiOx(式中、xは1.5〜2.0の数を表す)の化合物の1つ以上の層(12,14,16)からなる単一もしくは多重の層が設けられ、層厚は50〜2000nm(ナノメーター)の範囲であり、前記SiOx層の自由表面の上面には、可視光線に半透過性で、0.2〜60nm(ナノメーター)の厚さを有する反射層(13,15,17)が設けられている。被覆表面に当たる入射光が反射し、反射光は、観察される方向もしくは角度によって異なる色で見られる。

Description

【発明の詳細な説明】 包装および包装補助物の形態 本発明は、反射表面を有する基体を含む、最初の開口および/または初期包装 の一体保証を有する包装もしくは包装補助物の形態、ならびにそのような包装も しくは包装補助物の形態の製造方法に関する。 偽造に対して、ホログラム、カラーコードもしくは目に見えない特徴を用いて 包装もしくは包装補助物の形態を安全にすることは、公知である。許可があって あるいは許可なく、包装品がすでに開けられたかどうか決定できるようにするた めに、最初の開口の保証が、包装品そのものに設けられている。この保証により 、顧客は購入品が所望のメーカーによって現実に製造かつ包装されたもので、模 造や偽造ではないか知ることができる。最初の開口の保証は、例えば、ボトルも しくは広口グラスのキャップの上、蓋と容器とを連結する継ぎ目の上、もしくは ポーチの上の引き裂き口の上などに配置され、例えば、ラベル、スタンプもしく はシールストリップなどの形をとり得る。包装を開けると、ラベル、スタンプも しくはシールストリップが破れ、包装がすでに開けられたことを示す。再包装の 際、商品を、コピーできない特徴ある間違えようのない特徴により、どの供給者 がその商品を包装したか明らかであるように、商品を移動したり包んだりするこ とも可能である。 実際に、例えば、ホログラムは、この目的のために使用されている。この例と しては、ホログラムラベルもしくは一体ホログラムを伴う蓋ホイルが挙げられる 。しかし、ホログラムを製造することは、極めて費用がかかる。包装もしくは包 装補助物の形態はたった一度しか使用されない短命の製品に用いられるという事 実を考慮して、製造コストが見合って、しかも容易に偽造されない包装もしくは 包装補助物の形態を提供するために、努力がなされている。 この目的は、反射表面(11)の上に、化学式SiOx(式中、xは1.5〜 2.0の数を表す)を有する化合物を含む、もしくはこの化合物からなる1つ以 上のセラミック層(12,14,16)からなる単一もしくは複数の層が設けら れ、各層は50〜2000nm(ナノメーター)の厚さを有し、前記セラミック 層(単数)の表面上もしくはセラミック層(複数)の表面の少なくとも1つの上 に、可視光線に対して半透過性の層(13,15,17)が設けられ、前記層は 金属製であり、0.2〜60nm(ナノメーター)の厚さを有し、被覆された基 体に当たる光が反射し、反射光が、それが観察される方向もしくは角度によって 異なる色として見られる、本発明により達成される。 本発明による包装もしくは包装補助物についての最初の開口および/または初 期状態の一体保証は、いかなる種類の装置の助けもなく直接、日光もしくは人口 の光の下で、観察者により常に確認できる。観察者の見る色もしくは影は、包装 もしくは包装補助物が見られる方向もしくは角度に依存する。 使用される基体は、いかなる種類の包装材料でも選べる。包装材料は、剛性、 半剛性、もしくは軟質であり得、成形体あるいは、特にフィルムもしくはホイル タイプの材料であり得る。成形体の例としては、ボトル、広口容器、ビーカー、 皿もしくは押出パックの底部などの、褐色、暗褐色および/または延伸もしくは 深絞り成形体が挙げられる。ホイルタイプの材料の例としては、アルミニウム、 スチール、銅、銀もしくは金の金属ホイルが挙げられる。ホイルタイプの材料の 他の例は、単位面積につき20〜30g/m2の重量を有するテッシュペーパー 、もしくは単位面積につき40〜60g/m2の重量を有する高白色紙、厚紙、 半厚紙などの紙である。重要なのが、特に、プラスチック、例えば、ポリアルキ レン−テレフタレート、特にポリエチレン−テレフタレートなど、ポリオレフィ ン、ポリエチレンもしくはポリプロピレン、ポリアミド、ポリビニルクロリド、 ポリエステル系のプラスチックを含むフィルムである。プラスチック含有フィル ムは、プラスチックの単一フィルム、2つ以上のプラスチックフィルムのラミネ ート、金属ホイルとプラスチックフィルムのラミネート、2つ以上のプラスチッ クフィルムのラミネート、金属フィルムとプラスチックフィルムのラミネート、 紙とプラスチックフィルムのラミネート、もしくは紙と金属ホイルとプラスチッ クフィルムのラミネートであり得る。個々のプラスチックフィルムは、例えば、 12〜100μm厚さであり得、金属ホイルは、12〜100μm厚さであり得 る。基体およびラミネートは、例えば、紙、半厚紙、厚紙および金属ホイル製で もあり得る。ホイルタイプの材料の個々の層は、接着剤、貼合せ用接着剤、結合 剤およ び/または押出被覆、同時押出、もしくは積層などにより結合することができる 。 好ましい基体は、ポリアルキレン−テレフタレート、特にポリエチレン−テレ フタレートなど、ポリエチレンもしくはポリプロピレン、ポリアミド、ポリビニ ルクロリド、ポリエステルなどのポリオレフィン系の、非延伸、あるいは一軸も しくは二軸延伸単一フィルム、あるいは2つ以上の非延伸、あるいは一軸もしく は二軸延伸プラスチックフィルムのラミネートである。例えば、基礎基体として 作用する単一フィルムを本発明による層とともに設けることができ、次の加工工 程で単一フィルムは、最終基体が形成される前に別の層内に堆積される。 さらに基体の典型的な例は、下記組成を有する: a)ポリアルキレン−テレフタレート、特にポリエチレン−テレフタレートな ど、ポリエチレンもしくはポリプロピレン、ポリアミド、ポリビニルクロリド、 ポリエステルなどのポリオレフィン系の、非延伸、一軸もしくは二軸延伸単一フ ィルム、あるいは2つ以上の非延伸、一軸もしくは二軸延伸プラスチックフィル ムのラミネート、および/または単位面積につき20〜30g/m2の重量を有 するテッシュペーパーもしくは単位面積につき40〜60g/m2の重量を有す る高白色紙などの紙、もしくは有機被覆の保護層を含む第一層、 b)金属ホイル、特にアルミニウムホイルなどの第二層、 c)高温シール有機物質の堆積層の形の第三層; もしくは、 a)前記の第一層、 b)前記の第二層、 c)ポリアルキレン−テレフタレート、特にポリエチレン−テレフタレートな ど、ポリエチレンもしくはポリプロピレン、ポリアミド、ポリビニルクロリド、 ポリエステルなどのポリオレフィン系の、非延伸、一軸もしくは二軸延伸単一フ ィルム、あるいは2つ以上の非延伸、一軸もしくは二軸延伸プラスチックフィル ムのラミネート、もしくはキャストポリエチレン被覆からなる第三層; もしくは、 a)この層は省かれて、 b)金属ホイル、特にアルミニウムホイルなどの第一層、 c)ポリアルキレン−テレフタレート、特にポリエチレン−テレフタレートな ど、ポリエチレンもしくはポリプロピレン、ポリアミド、ポリビニルクロリド、 ポリエステルなどのポリオレフィン系の、1つ以上の一軸もしくは二軸延伸単一 フィルム、あるいは2つ以上の非延伸、一軸もしくは二軸延伸プラスチックフィ ルムのラミネート、および/または単位面積につき20〜30g/m2の重量を 有するテッシュペーパー、もしくは単位面積につき40〜60g/m2の重量を 有する高白色紙などの紙、もしくは保護有機被覆を含む第二層。 一般に、第一層a)は、包装の外側に面しているか、それ自体包装の外側であ る。したがって、反射表面は層a)の自由表面上にあるか、もしくは層b)の自 由表面が反射表面となる。例えばブリスターパックの透明な基部もしくは透明な ビーカーなどの被覆透明容器用蓋材料として入手可能な包装材料を使用する際、 その上に蒸着される本発明による反射表面および一連の層を包装の内部に向ける ことが可能であり、またこれらは透明な基部、ビーカーなどを通して目で見るこ とができる。 基体は、可視光線を反射する外面を示さなければならない。そのために、紙、 厚紙もしくは半厚紙、単一フィルムもしくは外側プラスチック層を有するラミネ ートが、反射表面層を有することが必要である。金属ホイルの場合、反射層は、 金属ホイルそのものであり得る。反射層として作用する金属ホイルは、高反射表 面としてすでに光沢を示すことができる。もしそのような金属ホイルが基体上に 存在しなければ、あるいはもし金属ホイルが他の層の間に埋封されていれば、あ るいはもし金属ホイルの反射特性が不十分ならば、反射層を、例えば、金属の化 学的、湿化学的、もしくは物理的蒸着により堆積することができる。金属の堆積 は、好ましくは化学蒸着(CVD)もしくは物理蒸着(PVD)、あるいはスパッ タリングなどの真空薄膜蒸着法により行うことができる。もし基体が曲げられる 物質ならば、この被覆はコイル処理法で連続的に実施できる。 反射表面上には、化学式SiOx(式中、xは1.5〜2.0の数、普通1. 5〜1.9の数、好ましくは1.5〜1.8の数である)の化合物からなる、も しくは化学式SiOxの化合物を含む1つまたは2つ以上のセラミック層がある 。そのようなセラミック層は、低屈折率、好ましくは1.6よりも小さい値の 屈折率を有する。セラミック層は、普通、例えば、ターゲット物質もしくはター ゲットとして知られている気化させる物質の電子ビーム気化、あるいは抵抗加熱 、あるいは誘導加熱に基づく、真空薄膜蒸着技術などの方法により得ることがで きる。好ましいのは電子ビーム気化である。上記方法は、イオンビーム衝撃によ り反応性となり、かつ/または補助される。これらの方法は、気化される物質、 例えば、二酸化珪素と金属珪素の混合物が真空室内で真空で気化するような方法 で実施される。真空室で、化学式SiOxの化合物からなる、もしくはこの化合 物を含むセラミック層が、基体の表面全体に蒸着され、気化された物質に暴露さ れる基体の側にセラミック層を形成する。所望の値xは、例えば、SiO2対S i、もしくはSiO2対Siおよび他の添加物の化学量論比を調整することによ り達成できる。酸素含有化合物対半金属Siの量比は、本発明にしたがって、気 化物質中の純酸化物に対して10〜30%に達する酸素の不足を示す。 したがって、本発明は反射表面を有する基体を含む、最初の開口および/また は初期の一体保証を有する包装および/もしくは包装補助物の形態の製造方法に 関する。本方法によれば、真空薄膜蒸着法は、反射表面上に(同時に真空で)、気 化される物質として二酸化珪素(SiO2)および半金属珪素(Si)、および化 学式SiOx(式中、xは1.5〜2.0の数を表す)の化合物からなる、もし くはこれを含んでなる少なくとも50〜2000nm(ナノメーター)の厚さの セラミック層を蒸着するために用いられる。ついで、可視光線に対して半透過性 の、0.2〜60nm(ナノメーター)厚さの金属反射層が、(例えば、スパッ タリングにより)セラミック層の自由表面の上に蒸着される。 Al23、B23および/またはMgOなどの添加物を、さらにSiO2の量 に対して、例えば、50モル%以下、有用には少なくとも5モル%、好ましくは 30モル%以下の量で、気化されるSiO2に添加できる。気化のためにSiO2 に添加できる他の物質は、純粋な形のAl、および/またはMg、もしくはAl 、Bおよび/またはMgを含むSi合金としての物質である。Al、Bおよび/ またはMgの添加は、Siに対して、例えば、50モル%以下、有用には少なく とも5モル%、好ましくは30モル%以下の量であり得る。金属もしくは半金属 に対するSiO2、Al23、B23およびMgOなどの酸素含有化合物の定 量比は、例えば、気化物質中に純酸化物(SiO2およびおそらくはAl23、 B23および/またはMgO)の総量に対して10〜30%の酸素の化学量論的 不足があるように選ばれる。 被覆法は、るつぼ中の物質の気化速度、基体上の蒸着速度、および基体が真空 室中の雰囲気に暴露される時間により制御され、50nm(ナノメーター)〜2 000nm厚さ、有用には100〜1000nm厚さ、好ましくは150〜50 0nm厚さのセラミック物質の層が蒸着されるようにする。これらの層の厚さが 、達成される色効果を決定する。 第一セラミック層の表面全体もしくは一部の上に、上記セラミック物質、例え ば、一般式SiOxの化合物からなる、もしくはこれを含んでなる物質からなる 第二層(単数または複数)(各層は第一セラミック層に与えられる厚さ内の厚さ を有する)を蒸着することができる。部分的被覆の場合、第二層は、ロゴ、文字 、一連の線などのパターンの形を有することができる。目に見える効果を、異な る厚さの層による入射放射線の反射によりもたらすことができる。 さらに、0.2〜60nm(ナノメーター)厚さ、有用には1〜40nm厚さ 、好ましくは2〜20nm厚さの金属層が、セラミック層(単数または複数)の 上に設けられる。この追加層は、半透過性の形態で可視光線を反射し、例えば下 記金属、すなわち、ステンレス鋼、Ni、Al、Cu、Ag、Auおよび好まし くはCrの1つ以上からなる、もしくはこれらを含む。金属半透過性層を、前記 金属の1つを気化される物質として上述したような真空薄膜蒸着法を用いて、も しくは前記金属の1つをターゲットとしてスパッターすることにより、蒸着する ことができる。ターゲットは、例えば下記金属、すなわち、ステンレス鋼、ニッ ケル、アルミニウム、銅、銀、金および好ましくはクロム、あるいは前記金属を 含むか、これらからなる混合物もしくは合金の1つであり得る。連続被覆法にお いて、基体を、第一室でセラミック層で被覆し、ついでスリット型のゲートを通 過させ、金属半透過性層がスパッタリングにより蒸着される次のチャンバーに送 られる。 さらに、金属半透過性反射層の一部の上に、選ばれた着色印刷材料を用いてプ リントすることも可能である。プリントは、1色以上で、ロゴ、文字、線パター ンなどの像の形をとり得る。本発明による層系の効果を達成するために、印刷画 像を表面積の一部のみに蒸着し得る。 包装および包装補助物を特徴づけ、かつそれを偽造から保護するための印刷画 像を、他のもしくは追加の方法で、基体の反射層の上に直接蒸着し得る。印刷は 、白色を用いないという条件で、1色以上で、ロゴ、文字、線パターンなどの像 の形をとり得る。透明印刷着色剤および透明有機物質が特に適切で、少量の顔料 もしくは着色剤を使用することによって、透明もしくは半透過性の被覆を形成す る。好ましくは透明印刷材料を用いて反射表面の上に直接プリントされた像は、 1つ以上の色調をとり得、色調は、特定の角度で観察されたときに、本発明によ る層系により造り出される色に特に相当する。特定の角度で包装および包装補助 物を見ると、像の色と、異なる層を通る光の反射により造り出される色とが同じ であると、画像は消失する。 反射層は、エッチングなどの化学的手段により、ロゴ、文字、線パターンなど で設けることもできる。ついで、セラミック層が、印刷画像もしくはエッチング パターン上に形成される。層を蒸着する前または後に、ロゴ、文字、線パターン などのパターンを、基体内に型押することも可能であり、これは特に、金属ホイ ル基体を用いる場合、すなわち、例えば、エンボスロールもしくはエンボススタ ンプを使用する場合そうである。本発明によるプリントの前または後に、例えば 、基体がフィルムの形である場合、例えば、深絞り成形もしくは延伸成形、ある いは深絞り成形および延伸成形を組み合わせた方法を用いて、基体を包装の形に 延伸させて造形することも可能である。エンボスおよび延伸法は、色効果に影響 を与えず、もし与えてもほんのわずかで、色効果は依然保持される。 電子ビーム気化およびスパッタリングに基づく真空薄膜蒸着のすでに述べた方 法は、当の基体を被覆するために改良され得る。被覆された基体の反射スペクト ル、およびそれとともに基体上の層系の色を連続的に測定することにより、電子 ビームの出力を、所望の層厚もしくは色が達成されるまで所望されるように上げ たり下げたりできる。制御は、自動制御系によりなされ得る。連続法において、 蒸着速度は、ある場合には基体の成長速度により制御できる。前記方法および気 化用物質もしくは前記セラミック物質の層を造るために用いられるターゲット物 質の選択は、例えば、ストリップに成形された基体を被覆しながら100m/分 以下の処理速度、もしくは200m2/分以下の被覆速度を可能とする。特に、 黄色度のない透明セラミック層は、気化物質もしくはターゲット物質を適切に選 び、一般式SiOx(式中、xは1.5〜2.0の値を表す)の化合物からなる セラミック層、もしくはそれらを含む層を形成することにより得られる。酸素形 成(これは真空を維持するために連続的にポンプオフしなければならない)は、 気化すべき物質中のSi、Al、BもしくはMgの画分の結果減少する。これは 、全体として高気化速度をもたらす。 本発明による一連の層を、例えば摩耗などによる損傷から守るために、最終的 に保護外層もしくは高温シール層、あるいは特に透明なプラスチックフィルムも しくはラミネート、あるいはプラスチック押出品で被覆することができる。この 目的のための典型的なフィルム、ラミネートもしくは押出品は、例えば、ポリプ ロピレンなどのポリオレフィンを含む。 上記のように処理した基体は、本発明による包装もしくは包装補助物を形成す ることができる。例えば、型押および密封により、例えば、パウチ、サッシェ、 ラップ、バッグなどを、フィルム成形基体から製造することが可能である。深絞 り成形および/または延伸成形法を用いて、フィルムを、押出パックもしくはブ リスターパック、あるいは広口容器、メニュー皿、ゴブレット、ビーカーなどの 底部のような有形包装体に成形できる。例えば、有形の包装体のためのチューブ (ラミネートチューブ)もしくは蓋を、フィルムから製造できる。例えばカート ン紙などの基体から、組立て箱などの箱を作ることが可能である。基体としてブ ロー成形したプラスチックからのボトルもしくは予備成形した包装体を用い、本 発明による一連の層をその上に蒸着することも可能である。キャップ、開口部、 シーム、底部と蓋との間の継ぎ目などが、本発明による包装補助物を用いて、ラ ベル、シールストリップ、スタンプ、保証シール、もしくはカバーシールの形で 設けられる。一般に、後者の包装補助物はフィルムの形であり、容器に、容器の 開口部を横切って、また容器の周囲部分に、接着、溶接、フランジ止め、もしく は締り嵌めなどにより取り付けられる。包装補助物は、偽造に対して保護する本 発明による層構造を特徴とする。この層構造は、ある場合には、印刷パターンも しくはエッチングパターンの追加処理を含み、例えば、メーカー固有の包装品上 に付けた容易に認知できる識別マークを示す。層構造は、視角に応じて入射光の 所望の反射および反射光の色変位を生じる。包装補助物を写真コピーすることに よる偽造、ならびにオリジナルパックおよびメーカーの保証としての写真コピー の使用は、反射および色変位が消失すると、すぐにかつ容易に認知できるであろ う。包装補助物、例えば、シールストリップもしくはスタンプを消費者がもっと 容易に破れるように、補助物に弱い部分、切り込み、はがしタブなどの引き裂き を与えることは好都合であろう。基体として、充填剤物質を含むプラスチックフ ィルム、もしくは2つの適合しにくいプラスチックのフィルムなどの、引き裂き やすい、もしくは押し出すフィルムを用いることも可能である。その他の基体は 、収縮フィルムである。 図1〜3は、本発明による包装および包装補助物の層の断面図を例として示す 。 図1に示されるのは、例えば、層、例えばスパッタリングにより蒸着されたア ルミニウム層で被覆された反射表面(11)を有するプラスチックのラミネート などの基体(10)である。反射層(11)の上面には、化学式SiOx(式中 、xは1.5〜2.0の数である)の化合物の2つの層(12,16)からなる 、各層が50〜2000nm(ナノメーター)の範囲の厚さを有する一連の層が あり、SiOx層(12,16)の自由表面の上面には、可視光線範囲の電磁線 に半透過性の、0.2〜60nm厚さの金属反射層(17)がある。化学式Si Oxの化合物の層(16)は、線パターンなどのパターンの形でほんの部分的に 被覆している蒸着層を示す。第一の処理段階で、層(12)は、表面全体の上に 蒸着され、第二の段階で、第一層(12)の部分が、油(コンデンサーホイルの メーカーに知られているものなど)の組織化蒸着によりマスクされるか、もしく はテンプレートなどで被覆され、第二層(16)が、その上に蒸着される。被覆 を除去する際、層(16)は、被覆と第一層(12)との間の空間の画像として 保持される。 図2は、基体(10)、例えば、プラスチックのラミネート、反射表面(11 )、例えば、スパッターにより形成されるアルミニウムの反射層を示す。反射表 面(11)の上には、化学式SiOx(式中、xは1.5〜2.0の数である) の化合 物の50〜2000nm(ナノメーター)厚さの層(12)からなる一連の層が あり、SiOx層の自由表面の上面には、可視光線範囲の電磁線に半透過性の、 0.2〜60nm(ナノメーター)厚さの金属反射層(13)がある。 図3に示されるのは、基体(10)、例えば、反射表面(11)としてアルミ ニウムの反射層により被覆されるプラスチックのラミネートである。反射表面( 11)の上面には、化学式SiOx(式中、xは1.5〜2.0の数である)の 化合物の50〜2000nm(ナノメーター)厚さの層(12、14)を含んで なる2回反復される一連の層があり、SiOx層の自由表面の上面には、可視光 線範囲の電磁線に半透過性の、0.2〜60nm(ナノメーター)厚さの金属反 射層(13、15)がある。 実施例に記述したラミネートの代わりに、その他の上述の基体のいずれかを用 いることも可能である。反射表面(11)を有する基体(10)が用いられるな ら、反射層は、省くことができる。着色印刷画像および/またはいくつかの追加 層、例えば、ポリエチレンもしくはエチルアクリル酸(EAA)を有するポリマ ーなどの透明物質のフィルムもしくは押出物を、一番上の半透過性の反射層(1 3,15,17)の自由側に堆積してもよい。画像を、層(12)に面する反射 表面(11)の上に直接設けることができ、前記画像は、透明な有機被膜もしく は特に透明な印刷材料を使用して作られる。反射表面(11)は、また型押もし くはエッチング像によっても特徴づけられる。
【手続補正書】特許法第184条の8第1項 【提出日】平成11年4月15日(1999.4.15) 【補正内容】 明細書 包装および包装補助物の形態 本発明は、反射表面を有する基体を含む、最初の開口および/または初期包装 の一体保証を有する包装もしくは包装補助物の形態、ならびにそのような包装も しくは包装補助物の形態の製造方法に関する。 偽造に対して、ホログラム、カラーコードもしくは目に見えない特徴を用いて 包装もしくは包装補助物の形態を安全にすることは、公知である。許可があって あるいは許可なく、包装品がすでに開けられたかどうか決定できるようにするた めに、最初の開口の保証が、包装品そのものに設けられている。この保証により 、顧客は購入品が所望のメーカーによって現実に製造かつ包装されたもので、模 造や偽造ではないか知ることができる。最初の開口の保証は、例えば、ボトルも しくは広口グラスのキャップの上、蓋と容器とを連結する継ぎ目の上、もしくは ポーチの上の引き裂き口の上などに配置され、例えば、ラベル、スタンプもしく はシールストリップなどの形をとり得る。包装を開けると、ラベル、スタンプも しくはシールストリップが破れ、包装がすでに開けられたことを示す。再包装の 際、商品を、コピーできない特徴ある間違えようのない特徴により、どの供給者 がその商品を包装したか明らかであるように、商品を移動したり包んだりするこ とも可能である。 実際に、例えば、ホログラムは、この目的のために使用されている。この例と しては、ホログラムラベルもしくは一体ホログラムを伴う蓋ホイルが挙げられる 。しかし、ホログラムを製造することは、極めて費用がかかる。包装もしくは包 装補助物の形態はたった一度しか使用されない短命の製品に用いられるという事 実を考慮して、製造コストが見合って、しかも容易に偽造されない包装もしくは 包装補助物の形態を提供するために、努力がなされている。 この目的は、金属からなる反射表面(11)の上または金属質の反射表面(1 1)の上に、化学式SiOx(式中、xは1.5〜2.0の数を表す)を有する 化合物を含む、もしくはこの化合物からなる1つ以上のセラミック層(12,1 4,16)からなる単一もしくは複数の層が設けられ、各層は50〜2000n m(ナノメーター)の厚さを有し、前記セラミック層(単数)の表面上もしくは セラミック層(複数)の表面の少なくとも1つの上に、可視光線に対して半透過 性の層(13,15,17)が設けられ、前記層は金属製であり、0.2〜60 nm(ナノメーター)の厚さを有し、被覆された基体に当たる光が反射し、反射 光が、それが観察される方向もしくは角度によって異なる色として見られる、本 発明により達成される。 本発明による包装もしくは包装補助物についての最初の開口および/または初 期状態の一体保証は、いかなる種類の装置の助けもなく直接、日光もしくは人口 の光の下で、観察者により常に確認できる。観察者の見る色もしくは影は、包装 もしくは包装補助物が見られる方向もしくは角度に依存する。 使用される基体は、いかなる種類の包装材料でも選べる。包装材料は、剛性、 半剛性、もしくは軟質であり得、成形体あるいは、特にフィルムもしくはホイル タイプの材料であり得る。成形体の例としては、ボトル、広口容器、ビーカー、 皿もしくは押出パックの底部などの、褐色、暗褐色および/または延伸もしくは 深絞り成形体が挙げられる。ホイルタイプの材料の例としては、アルミニウム、 スチール、銅、銀もしくは金の金属ホイルが挙げられる。ホイルタイプの材料の 他の例は、単位面積につき20〜30g/m2の重量を有するテッシュペーパー 、もしくは単位面積につき40〜60g/m2の重量を有する高白色紙、厚紙、 半厚紙などの紙である。重要なのが、特に、プラスチック、例えば、ポリアルキ レン−テレフタレート、特にポリエチレン−テレフタレートなど、ポリオレフィ ン、ポリエチレンもしくはポリプロピレン、ポリアミド、ポリビニルクロリド、 ポリエステル系のプラスチックを含むフィルムである。プラスチック含有フィル ムは、プラスチックの単一フィルム、2つ以上のプラスチックフィルムのラミネ ート、金属ホイルとプラスチックフィルムのラミネート、2つ以上のプラスチッ クフィルムのラミネート、金属フィルムとプラスチックフィルムのラミネート、 紙とプラスチックフィルムのラミネート、もしくは紙と金属ホイルとプラスチッ クフィ ルムのラミネートであり得る。個々のプラスチックフィルムは、例えば、12〜 100μm厚さであり得、金属ホイルは、12〜100μm厚さであり得る。基 体およびラミネートは、例えば、紙、半厚紙、厚紙および金属ホイル製でもあり 得る。ホイルタイプの材料の個々の層は、接着剤、貼合せ用接着剤、結合剤およ び/または押出被覆、同時押出、もしくは積層などにより結合することができる 。 好ましい基体は、ポリアルキレン−テレフタレート、特にポリエチレン−テレ フタレートなど、ポリエチレンもしくはポリプロピレン、ポリアミド、ポリビニ ルクロリド、ポリエステルなどのポリオレフィン系の、非延伸、あるいは一軸も しくは二軸延伸単一フィルム、あるいは2つ以上の非延伸、あるいは一軸もしく は二軸延伸プラスチックフィルムのラミネートである。例えば、基礎基体として 作用する単一フィルムを本発明による層とともに設けることができ、次の加工工 程で単一フィルムは、最終基体が形成される前に別の層内に堆積される。 さらに基体の典型的な例は、下記組成を有する: a)ポリアルキレン−テレフタレート、特にポリエチレンーテレフタレートな ど、ポリエチレンもしくはポリプロピレン、ポリアミド、ポリビニルクロリド、 ポリエステルなどのポリオレフィン系の、非延伸、一軸もしくは二軸延伸単一フ ィルム、あるいは2つ以上の非延伸、一軸もしくは二軸延伸プラスチックフィル ムのラミネート、および/または単位面積につき20〜30g/m2の重量を有 するテッシュペーパーもしくは単位面積につき40〜60g/m2の重量を有す る高白色紙などの紙、もしくは有機被覆の保護層を含む第一層、 b)金属ホイル、特にアルミニウムホイルなどの第二層、 c)高温シール有機物質の堆積層の形の第三層; もしくは、 a)前記の第一層、 b)前記の第二層、 c)ポリアルキレン−テレフタレート、特にポリエチレン−テレフタレートな ど、ポリエチレンもしくはポリプロピレン、ポリアミド、ポリビニルクロリド、 ポリエステルなどのポリオレフィン系の、非延伸、一軸もしくは二軸延伸単一フ ィルム、あるいは2つ以上の非延伸、一軸もしくは二軸延伸プラスチックフィル ムのラミネート、もしくはキャストポリエチレン被覆からなる第三層; もしくは、 a)この層は省かれて、 b)金属ホイル、特にアルミニウムホイルなどの第一層、 c)ポリアルキレン−テレフタレート、特にポリエチレンーテレフタレートな ど、ポリエチレンもしくはポリプロピレン、ポリアミド、ポリビニルクロリド、 ポリエステルなどのポリオレフィン系の、1つ以上の一軸もしくは二軸延伸単一 フィルム、あるいは2つ以上の非延伸、一軸もしくは二軸延伸プラスチックフィ ルムのラミネート、および/または単位面積につき20〜30g/m2の重量を 有するテッシュペーパー、もしくは単位面積につき40〜60g/m2の重量を 有する高白色紙などの紙、もしくは保護有機被覆を含む第二層。 一般に、第一層a)は、包装の外側に面しているか、それ自体包装の外側であ る。したがって、反射表面は層a)の自由表面上にあるか、もしくは層b)の自 由表面が反射表面となる。例えばブリスターパックの透明な基部もしくは透明な ビーカーなどの被覆透明容器用蓋材料として入手可能な包装材料を使用する際、 その上に蒸着される本発明による反射表面および一連の層を包装の内部に向ける ことが可能であり、またこれらは透明な基部、ビーカーなどを通して目で見るこ とができる。 基体は、可視光線を反射する外面を示さなければならない。そのために、紙、 厚紙もしくは半厚紙、単一フィルムもしくは外側プラスチック層を有するラミネ ートが、反射表面層を有することが必要である。金属ホイルの場合、反射層は、 金属ホイルそのものであり得る。反射層として作用する金属ホイルは、高反射表 面としてすでに光沢を示すことができる。もしそのような金属ホイルが基体上に 存在しなければ、あるいはもし金属ホイルが他の層の間に埋封されていれば、あ るいはもし金属ホイルの反射特性が不十分ならば、反射層を、例えば、金属の化 学的、湿化学的、もしくは物理的蒸着により堆積することができる。金属の堆積 は、好ましくは化学蒸着(CVD)もしくは物理蒸着(PVD)、あるいはスパッ タリングなどの真空薄膜蒸着法により行うことができる。もし基体が曲げられる 物質ならば、この被覆はコイル処理法で連続的に実施できる。 反射表面上には、化学式SiOx(式中、xは1.5〜2.0の数、普通1. 5〜1.9の数、好ましくは1.5〜1.8の数である)の化合物からなる、も しくは化学式SiOxの化合物を含む1つまたは2つ以上のセラミック層がある 。そのようなセラミック層は、低屈折率、好ましくは1.6よりも小さい値の屈 折率を有する。セラミック層は、普通、例えば、ターゲット物質もしくはターゲ ットとして知られている気化させる物質の電子ビーム気化、あるいは抵抗加熱、 あるいは誘導加熱に基づく、真空薄膜蒸着技術などの方法により得ることができ る。好ましいのは電子ビーム気化である。上記方法は、イオンビーム衝撃により 反応性となり、かつ/または補助される。これらの方法は、気化される物質、例 えば、二酸化珪素と半金属珪素の混合物が真空室内で真空で気化するような方法 で実施される。真空室で、化学式SiOxの化合物からなる、もしくはこの化合 物を含むセラミック層が、基体の表面全体に蒸着され、気化された物質に暴露さ れる基体の側にセラミック層を形成する。所望の値xは、例えば、SiO2対S i、もしくはSiO2対Siおよび他の添加物の化学量論比を調整することによ り達成できる。酸素含有化合物対半金属Siの量比は、本発明にしたがって、気 化物質中の純酸化物に対して10〜30%に達する酸素の不足を示す。 したがって、本発明は、可視光線を反射する表面を有する基体を含む、最初の 開口および/または初期の一体保証を有する包装および/もしくは包装補助物の 形態の製造方法に関する。本方法によれば、真空薄膜蒸着法を用いることによっ て、反射表面上に(同時に真空で)、気化される物質として二酸化珪素(SiO2 )および半金属珪素(Si)、および化学式SiOx(式中、xは1.5〜2.0 の数を表す)の化合物からなる、もしくはこれを含んでなる少なくとも50〜2 000nm(ナノメーター)の厚さのセラミック層が蒸着され、次いで、可視光 線に対して半透過性の、0.2〜60nm(ナノメーター)厚さの金属反射層が 、(例えば、スパッタリングにより)セラミック層の自由表面の上に蒸着される 。 Al23、B23および/またはMgOなどの添加物を、さらにSiO2の量 に対して、例えば、50モル%以下、有用には少なくとも5モル%、好ましくは 30モル%以下の量で、気化されるSiO2に添加できる。気化のためにSiO2 に添加できる他の物質は、純粋な形のAl、Bおよび/またはMg、もしくはA l、Bおよび/またはMgを含むSi合金としての物質である。Al、Bおよび /またはMgの添加は、Siに対して、例えば、50モル%以下、有用には少な くとも5モル%、好ましくは30モル%以下の量であり得る。金属もしくは半金 属に対するSiO2、Al23、B23およびMgOなどの酸素含有化合物の定 量比は、例えば、気化物質中に純酸化物(SiO2およびおそらくはAl23、 B23および/またはMgO)の総量に対して10〜30%の酸素の化学量論的 不足があるように選ばれる。 被覆法は、るつぼ中の物質の気化速度、基体上の蒸着速度、および基体が真空 室中の雰囲気に暴露される時間により制御され、50nm(ナノメーター)〜2 000nm厚さ、有用には100〜1000nm厚さ、好ましくは150〜50 0nm厚さのセラミック物質の層が蒸着されるようにする。これらの層の厚さが 、達成される色効果を決定する。 第一セラミック層の表面全体もしくは一部の上に、上記セラミック物質、例え ば、一般式SiOxの化合物からなる、もしくはこれを含んでなる物質からなる 第二層(単数または複数)(各層は第一セラミック層に与えられる厚さ内の厚さ を有する)を蒸着することができる。部分的被覆の場合、第二層は、ロゴ、文字 、一連の線などのパターンの形を有することができる。目に見える効果を、異な る厚さの層による入射放射線の反射によりもたらすことができる。 さらに、0.2〜60nm(ナノメーター)厚さ、有用には1〜40nm厚さ 、好ましくは2〜20nm厚さの金属層が、セラミック層(単数または複数)の 上に設けられる。この追加層は、半透過性の形態で可視光線を反射し、例えば下 記金属、すなわち、ステンレス鋼、Ni、Al、Cu、Ag、Auおよび好まし くはCrの1つ以上からなる、もしくはこれらを含む。金属半透過性層を、前記 金属の1つを気化される物質として上述したような真空薄膜蒸着法を用いて、も しくは前記金属の1つをターゲットとしてスパッターすることにより、蒸着する ことができる。ターゲットは、例えば下記金属、すなわち、ステンレス鋼、ニッ ケル、アルミニウム、銅、銀、金および好ましくはクロム、あるいは前記金属を 含むか、これらからなる混合物もしくは合金の1つであり得る。連続被覆法にお いて、基体を、第一室でセラミック層で被覆し、ついでスリット型のゲートを通 過 させ、金属半透過性層がスパッタリングにより蒸着される次のチャンバーに送ら れる。 さらに、金属半透過性反射層の一部の上に、選ばれた着色印刷材料を用いてプ リントすることも可能である。プリントは、1色以上で、ロゴ、文字、線パター ンなどの像の形をとり得る。本発明による層系の効果を達成するために、印刷画 像を表面積の一部の上のみに蒸着し得る。 包装および包装補助物を特徴づけ、かつそれを偽造から保護するための印刷画 像を、他のもしくは追加の方法で、基体の反射層の上に直接蒸着し得る。印刷は 、白色を用いないという条件で、1色以上で、ロゴ、文字、線パターンなどの像 の形をとり得る。透明印刷着色剤および透明有機物質が特に適切で、少量の顔料 もしくは着色剤を使用することによって、透明もしくは半透過性の被覆を形成す る。好ましくは透明印刷材料を用いて反射表面の上に直接プリントされた像は、 1つ以上の色調をとり得、色調は、特定の角度で観察されたときに、本発明によ る層系により造り出される色に特に相当する。特定の角度で包装および包装補助 物を見ると、像の色と、異なる層を通る光の反射により造り出される色とが同じ であると、画像は消失する。 反射層は、エッチングなどの化学的手段により、ロゴ、文字、線パターンなど で設けることもできる。ついで、セラミック層が、印刷画像もしくはエッチング パターン上に形成される。層を蒸着する前または後に、ロゴ、文宇、線パターン などのパターンを、基体内に型押することも可能であり、これは特に、金属ホイ ル基体を用いる場合、すなわち、例えば、エンボスロールもしくはエンボススタ ンプを使用する場合そうである。本発明によるプリントの前または後に、例えば 、基体がフィルムの形である場合、例えば、深絞り成形もしくは延伸成形、ある いは深絞り成形および延伸成形を組み合わせた方法を用いて、基体を包装の形に 延伸させて造形することも可能である。エンボスおよび延伸法は、色効果に影響 を与えず、もし与えてもほんのわずかで、色効果は依然保持される。 電子ビーム気化およびスパッタリングに基づく真空薄膜蒸着のすでに述べた方 法は、当の基体を被覆するために改良され得る。被覆された基体の反射スペクト ル、およびそれとともに基体上の層系の色を連続的に測定することにより、電子 ビームの出力を、所望の層厚もしくは色が達成されるまで所望されるように上げ たり下げたりできる。制御は、自動制御系によりなされ得る。連続法において、 蒸着速度は、ある場合には基体の成長速度により制御できる。前記方法および気 化用物質もしくは前記セラミック物質の層を造るために用いられるターゲット物 質の選択は、例えば、ストリップに成形された基体を被覆しながら100m/分 以下の処理速度、もしくは200m2/分以下の被覆速度を可能とする。特に、 黄色度のない透明セラミック層は、気化物質もしくはターゲット物質を適切に選 び、一般式SiOx(式中、xは1.5〜2.0の値を表す)の化合物からなる セラミック層、もしくはそれらを含む層を形成することにより得られる。酸素形 成(これは真空を維持するために連続的にポンプオフしなければならない)は、 気化すべき物質中のSi、Al、BもしくはMgの画分の結果減少する。これは 、全体として高気化速度をもたらす。 本発明による一連の層を、例えば摩耗などによる損傷から守るために、最終的 に保護外層もしくは高温シール層、あるいは特に透明なプラスチックフィルムも しくはラミネート、あるいはプラスチック押出品で被覆することができる。この 目的のための典型的なフィルム、ラミネートもしくは押出品は、例えば、ポリプ ロピレンなどのポリオレフィンを含む。 上記のように処理した基体は、本発明による包装もしくは包装補助物を形成す ることができる。例えば、型押および密封により、例えば、パウチ、サッシェ、 ラップ、バッグなどを、フィルム成形基体から製造することが可能である。深絞 り成形および/または延伸成形法を用いて、フィルムを、押出パックもしくはブ リスターパック、あるいは広口容器、メニュー皿、ゴブレット、ビーカーなどの 底部のような有形包装体に成形できる。例えば、有形の包装体のためのチューブ (ラミネートチューブ)もしくは蓋を、フィルムから製造できる。例えばカート ン紙などの基体から、組立て箱などの箱を作ることが可能である。基体としてブ ロー成形したプラスチックからのボトルもしくは予備成形した包装体を用い、本 発明による一連の層をその上に蒸着することも可能である。キャップ、開口部、 シーム、底部と蓋との間の継ぎ目などが、本発明による包装補助物を用いて、ラ ベル、シールストリップ、スタンプ、保証シール、もしくはカバーシールの形で 設けられる。一般に、後者の包装補助物はフィルムの形であり、容器に、容器の 開口部を横切って、また容器の周囲部分に、接着、溶接、フランジ止め、もしく は締り嵌めなどにより取り付けられる。包装補助物は、偽造に対して保護する本 発明による層構造を特徴とする。この層構造は、ある場合には、印刷パターンも しくはエッチングパターンの追加処理を含み、例えば、メーカー固有の包装品上 に付けた容易に認知できる識別マークを示す。層構造は、視角に応じて入射光の 所望の反射および反射光の色変位を生じる。包装補助物を写真コピーすることに よる偽造、ならびにオリジナルパックおよびメーカーの保証としての写真コピー の使用は、反射および色変位が消失すると、すぐにかつ容易に認知できるであろ う。包装補助物、例えば、シールストリップもしくはスタンプを消費者がもっと 容易に破れるように、補助物に弱い部分、切り込み、はがしタブなどの引き裂き を与えることは好都合であろう。基体として、充填剤物質を含むプラスチックフ ィルム、もしくは2つの適合しにくいプラスチックのフィルムなどの、引き裂き やすい、もしくは押し出すフィルムを用いることも可能である。その他の基体は 、収縮フィルムである。 図1〜3は、本発明による包装および包装補助物の層の断面図を例として示す 。 図1に示されるのは、例えば、層、例えばスパッタリングにより蒸着されたア ルミニウム層で被覆された反射表面(11)を有するプラスチックのラミネート などの基体(10)である。反射層(11)の上面には、化学式SiOx(式中 、xは1.5〜2.0の数である)の化合物の2つの層(12,16)からなる 、各層が50〜2000nm(ナノメーター)の範囲の厚さを有する一連の層が あり、SiOx層(12,16)の自由表面の上面には、可視光線範囲の電磁線 に半透過性の、0.2〜60nm厚さの金属反射層(17)がある。化学式Si Oxの化合物の層(16)は、線パターンなどのパターンの形でほんの部分的に 被覆している蒸着層を示す。第一の処理段階で、層(12)は、表面全体の上に 蒸着され、第二の段階で、第一層(12)の部分が、油(コンデンサーホイルの メーカーに知られているものなど)の組織化蒸着によりマスクされるか、もしく はテンプレートなどで被覆され、第二層(16)が、その上に蒸着される。被覆 を除去する際、層(16)は、被覆と第一層(12)との間の空間の画像として 保 持される。 図2は、基体(10)、例えば、プラスチックのラミネート反射表面(11) 、例えば、スパッターにより形成されるアルミニウムの反射層を示す。反射表面 (11)の上には、化学式SiOx(式中、xは1.5〜2.0の数である)の 化合物の50〜2000nm(ナノメーター)厚さの層(12)からなる一連の 層があり、SiOx層の自由表面の上面には、可視光線範囲の電磁線に半透過性 の、0.2〜60nm(ナノメーター)厚さの金属反射層(13)がある。 図3に示されるのは、基体(10)、例えば、反射表面(11)としてアルミ ニウムの反射層により被覆されるプラスチックのラミネートである。反射表面( 11)の上面には、化学式SiOx(式中、xは1.5〜2.0の数である)の 化合物の50〜2000nm(ナノメーター)厚さの層(12、14)を含んで なる2回反復される一連の層があり、SiOx層の自由表面の上面には、可視光 線範囲の電磁線に半透過性の、0.2〜60nm(ナノメーター)厚さの金属反 射層(13、15)がある。 実施例に記述したラミネートの代わりに、その他の上述の基体のいずれかを用 いることも可能である。反射表面(11)を有する基体(10)が用いられるな ら、反射層は、省くことができる。着色印刷画像および/またはいくつかの追加 層、例えば、ポリエチレンもしくはエチルアクリル酸(EAA)を有するポリマ ーなどの透明物質のフィルムもしくは押出物を、一番上の半透過性の反射層(1 3,15,17)の自由側に堆積してもよい。画像を、層(12)に面する反射 表面(11)の上に直接設けることができ、前記画像は、透明な有機被膜もしく は特に透明な印刷材料を使用して作られる。反射表面(11)は、また型押もし くはエッチング像によっても特徴づけられる。 請求の範囲 1.反射表面(11)を有する基体(10)を含む、最初の開口および/また は初期包装の一体保証を有する、下記を特徴とする包装もしくは包装補助物の形 態: 金属からなる反射表面(11)の上または金属質の反射表面(11)の上には 、化学式SiOx(式中、xは1.5〜2.0の数を表す)の化合物を含む、も しくはこの化合物からなる1つ以上のセラミック層(12,14,16)の単一 もしくは複数の層が設けられ、各層は50〜2000nm(ナノメーター)の厚 さを有し、前記セラミック層(12)の表面もしくはセラミック層(12,14 ,16)の表面の少なくとも1つの上に、可視光線に半透過性の反射層(13, 15,17)が設けられ、前記層(13,15,17)は金属製であり、0.2 〜60nm(ナノメーター)の厚さを有し、被覆基体に当たる光が反射し、反射 光が、それが観察される方向もしくは角度によって異なる色として見られる。 2.前記反射表面(11)の上には、化学式SiOx(式中、xは1.5〜2 .0の数を表す)の化合物を含む、もしくはこの化合物からなる2つ以上のセラ ミック層(12,16)の複数の層が設けられ、各層は50〜2000nm(ナ ノメーター)の厚さを有し、前記セラミック層(12、16)の自由表面上に、 可視光線に半透過性で、金属製であり、0.2〜60nm(ナノメーター)の厚 さを有する反射層(17)が設けられていることを特徴とする、請求項1に記載 の包装もしくは包装補助物の形態。 3.前記反射表面(11)の上には、化学式SiOx(式中、xは1.5〜2 .0の数を表す)を有する化合物を含む、もしくはこの化合物からなるセラミッ ク層(12)からなる複数の層が設けられ、各層は50〜2000nm(ナノメ ーター)の厚さを有し、前記セラミック層(12)の自由表面上に、可視光線に 半透過性で、金属製であり、0.2〜60nm(ナノメーター)の厚さを有する 反射層(13)が設けられていることを特徴とする、請求項1に記載の包装もし くは包装補助物の形態。 4.前記反射表面(11)の上面には、化学式SiOx(式中、xは1.5〜 2.0の数を表す)の化合物を含む、もしくはこの化合物からなる、50〜20 00nm(ナノメーター)の厚さのセラミック層(12、14)からなる2回反 復される複数の層が設けられ、前記SiOx層それぞれの自由表面の上面には、 金属製であり、可視光線範囲の電磁放射線に半透過性の、0.2〜60nm(ナ ノメーター)の厚さを有する反射層(13、15)が設けられていることを特徴 とする、請求項1に記載の包装もしくは包装補助物の形態。 5.前記反射表面(11)が金属層を含むか、もしくは金属層からなり、前記 金属層が、好ましくはAl、Cr、Ni、AuもしくはAg、あるいはこれらの 混合物または合金を含む、もしくはこれらの混合物または合金からなることを特 徴とする、請求項1に記載の包装もしくは包装補助物の形態。 6.前記基体(10)が単一層もしくは多層の物質であり、好ましくはホイル 形態の物質であることを特徴とする、請求項1に記載の包装もしくは包装補助物 の形態。 7.前記セラミック層(12,14,16)が、真空薄膜蒸着法で製造された 層であり、SiOxを含むか、もしくはSiOxからなり、前記セラミック層が、 SiO2およびSiを含む混合物を真空で気化源から同時に気化させることによ り製造されることを特徴とする、請求項1に記載の包装もしくは包装補助物の形 態。 8.第一セラミック層(12)が、反射表面(11)を完全に覆い、第二セラ ミック層、もしくは第二およびさらなるセラミック層(16)が、前記第一セラ ミック層を完全もしくは部分的に覆い、それによりパターンが形成されているこ とを特徴とする、請求項1に記載の包装もしくは包装補助物の形態。 9.前記半透過性の反射層(13,15,17)が、金属、すなわち、ステン レス鋼、Al、Cu、Ag、Au、および好ましくはCrを含む、もしくはこれ らの金属からなることを特徴とする、請求項1に記載の包装もしくは包装補助物 の形態。 10.好ましくは透明な印刷材料の画像が、1つ以上の色調の反射表面(11 )上に直接蒸着され、そのうちの1つか、いくつか、もしくはすべてが、視角に 応じて蒸着層の系により造られる色に相当し、特定の角度で包装もしくは包装補 助 物を目視する際、印刷画像の色および異なる層による反射光の色が同じであると 、印刷画像が観察者の視界から消えることを特徴とする、請求項1に記載の包装 もしくは包装補助物の形態。 11.1つ以上の印刷色の画像が、前記金属製半透過性反射層(13,15, 17)の自由側に蒸着されることを特徴とする、請求項1に記載の包装もしくは 包装補助物の形態。 12.請求項1に記載の、可視光線を反射する表面(11)を有する基体(1 0)を含む、最初の開口もしくは初期包装の一体保証を有する、下記を特徴とす る包装もしくは包装補助物の形態を製造する方法: 少なくとも50〜2000nm厚さを有し、化学式SiOx(式中、xは1. 5〜2.0の数である)の化合物を含む、もしくはこの化合物からなるセラミッ ク層が、真空薄膜蒸着法を用いて、気化すべき物質として二酸化珪素(SiO2 )および金属質珪素を真空で同時に気化することにより金属からなる反射表面( 11)の上または金属質の反射表面(11)の上に蒸着され、次いで、厚さが0 .2〜60nmで可視光線に対して半透過性の金属層がセラミック層の自由表面 の上に蒸着される。 13.さらに、有用にはAl23、B23および/またはMgOが、SiO2 に対して50モル%以下、好ましくは少なくとも5モル%、有用には30モル% 以下の量で、気化すべき物質に添加されることを特徴とする、請求項12に記載 の包装もしくは包装補助物の形態を製造する方法。 14.さらに有用にAl、Bおよび/またはMgが、SiO2に対して50モ ル%以下、有利には少なくとも5モル%、有用には30モル%以下の量で、気化 すべき物質に添加されることを特徴とする、請求項12に記載の包装もしくは包 装補助物の形態を製造する方法。 15.Siの量に対する酸素含有化合物SiO2の量比が、気化物質中の純酸 素に対して化学量論的に10〜30%の酸素の不足を示すことを特徴とする、請 求項12に記載の包装もしくは包装補助物の形態を製造する方法。 16.金属もしくは半金属Si、Al、およびMgに対する酸素含有化合物S iO2、Al23、B23およびMgOの量比が、気化物質中の純酸化物の総 量に対して化学量論的に10〜30%の酸素の不足を示すことを特徴とする、請 求項13に記載の包装もしくは包装補助物の形態を製造する方法。 17.可視光線に半透過性である反射層が、セラミック層(単数または複数) 上に蒸着されており、ステンレス鋼、ニッケル、アルミニウム、銅、金および好 ましくはクロム、あるいはこれらの混合物または合金を含む、もしくはこれらの 混合物または合金からなる前記反射層が、これらの金属を含むターゲットをスパ ッタリングすることにより蒸着されることを特徴とする、請求項12に記載の包 装もしくは包装補助物の形態を製造する方法。 18.好ましくは透明な印刷材料の画像が、1つ以上の色調で前記反射表面上 に直接蒸着されており、これらの色調の1つか、いくつか、もしくはすべてが、 視角に応じて蒸着層の系により造られる色に相当し、特定の角度で包装もしくは 包装補助物を目視する際、画像の色および異なる層による反射光の色が同じであ ると、画像が観察者の視界から消えることを特徴とする、請求項12に記載の包 装もしくは包装補助物の形態を製造する方法。 19.被覆工程が連続的に実施され、基体が第一のチャンバーでセラミック層 を得、スリット型のゲートを通過し、さらに金属層がスパッタリングにより蒸着 されるチャンバーに入ることを特徴とする、請求項12および17に記載の包装 もしくは包装補助物の形態を製造する方法。 20.基体、特に金属ホイルを含む基体が、層を蒸着する前または後に型押さ れることを特徴とする、請求項12に記載の包装もしくは包装補助物の形態を製 造する方法。 21.基体、特に金属ホイルを含む基体が、型押されることを特徴とする、請 求項1に記載の包装もしくは包装補助物の形態。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1.反射表面(11)を有する基体(10)を含む、最初の開口および/また は初期包装の一体保証を有する、下記を特徴とする包装もしくは包装補助物の形 態: 前記反射表面(11)の上には、化学式SiOx(式中、xは1.5〜2.0 の数を表す)の化合物を含む、もしくはこの化合物からなる1つ以上のセラミッ ク層(12,14,16)の単一もしくは複数の層が設けられ、各層は50〜2 000nm(ナノメーター)の厚さを有し、前記セラミック層(12)の表面も しくはセラミック層(12,14,16)の表面の少なくとも1つの上に、可視 光線に半透過性の反射層(13,15,17)が設けられ、前記層(13,15 ,17)は金属製であり、0.2〜60nm(ナノメーター)の厚さを有し、被 覆基体に当たる光が反射し、反射光が、それが観察される方向もしくは角度によ って異なる色として見られる。 2.前記反射表面(11)の上には、化学式SiOx(式中、xは1.5〜2 .0の数を表す)の化合物を含む、もしくはこの化合物からなる2つ以上のセラ ミック層(12,16)の複数の層が設けられ、各層は50〜2000nm(ナ ノメーター)の厚さを有し、前記セラミック層(12、16)の自由表面上に、 可視光線に半透過性で、金属製であり、0.2〜60nm(ナノメーター)の厚 さを有する反射層(17)が設けられていることを特徴とする、請求項1に記載 の包装もしくは包装補助物の形態。 3.前記反射表面(11)の上には、化学式SiOx(式中xは1.5〜2. 0の数を表す)を有する化合物を含む、もしくはこの化合物からなるセラミック 層(12)からなる複数の層が設けられ、各層は50〜2000nm(ナノメー ター)の厚さを有し、前記セラミック層(12)の自由表面上に、可視光線に半 透過性で、金属製であり、0.2〜60nm(ナノメーター)の厚さを有する反 射層(13)が設けられていることを特徴とする、請求項1に記載の包装もしく は包装補助物の形態。 4.前記反射表面(11)の上面には、化学式SiOx(式中、xは1.5〜 2.0の数を表す)の化合物を含む、もしくはこの化合物からなる、50〜20 00nm(ナノメーター)の厚さのセラミック層(12、14)からなる2回反 復される複数の層が設けられ、前記SiOx層それぞれの自由表面の上面には、 金属製であり、可視光線範囲の電磁放射線に半透過性の、0.2〜60nm(ナ ノメーター)の厚さを有する反射層(13、15)が設けられていることを特徴 とする、請求項1に記載の包装もしくは包装補助物の形態。 5.前記反射表面(11)が金属層を含むか、もしくは金属層からなり、前記 金属層が、好ましくはAl、Cr、Ni、AuもしくはAg、あるいはこれらの 混合物または合金を含む、もしくはこれらの混合物または合金からなることを特 徴とする、請求項1に記載の包装もしくは包装補助物の形態。 6.前記基体(10)が単一層もしくは多層の物質であり、好ましくはホイル 形態の物質であることを特徴とする、請求項1に記載の包装もしくは包装補助物 の形態。 7.前記セラミック層(12,14,16)が、真空薄膜蒸着法で製造された 層であり、SiOxを含むか、もしくはSiOxからなり、前記セラミック層が好 ましくは、SiO2およびSiを含む混合物を真空で気化源から同時に気化させ ることにより製造されることを特徴とする、請求項1に記載の包装もしくは包装 補助物の形態。 8.第一セラミック層(12)が、反射表面(11)を完全に覆い、第二セラ ミック層、もしくは第二およびさらなるセラミック層(16)が、前記第一セラ ミック層を完全もしくは部分的に覆い、それによりパターンが形成されているこ とを特徴とする、請求項1に記載の包装もしくは包装補助物の形態。 9.前記半透過性の反射層(13,15,17)が、金属、すなわち、ステン レス鋼、Al、Cu、Ag、Au、および好ましくはCrを含む、もしくはこれ らの金属からなることを特徴とする、請求項1に記載の包装もしくは包装補助物 の形態。 10.好ましくは透明な印刷材料の画像が、1つ以上の色調の反射表面(11 )上に直接蒸着され、そのうちの1つか、いくつか、もしくはすべてが、視角に 応じて蒸着層の系により造られる色に相当し、特定の角度で包装もしくは包装補 助 物を目視する際、印刷画像の色および異なる層による反射光の色が同じであると 、印刷画像が観察者の視界から消えることを特徴とする、請求項1に記載の包装 もしくは包装補助物の形態。 11.1つ以上の印刷色の画像が、前記金属製半透過性反射層(13,15, 17)の自由側に蒸着されることを特徴とする、請求項1に記載の包装もしくは 包装補助物の形態。 12.請求項1に記載の、反射表面(11)を有する基体(10)を含む、最 初の開口もしくは初期包装の一体保証を有する、下記を特徴とする包装もしくは 包装補助物の形態を製造する方法: 少なくとも50〜2000nm厚さを有し、化学式SiOx(式中、xは1. 5〜2.0の数である)を有する化合物を含む、もしくはこの化合物からなるセ ラミック層が、気化すべき物質として二酸化珪素(SiO2)および金属珪素を 真空で同時に気化することにより、真空薄膜蒸着法を用いて反射表面(11)に 蒸着される。 13.さらに、有用にはAl23、B23および/またはMgOが、SiO2 に対して50モル%以下、好ましくは少なくとも5モル%、有用には30モル% 以下の量で、気化すべき物質に添加されることを特徴とする、請求項12に記載 の包装もしくは包装補助物の形態を製造する方法。 14.さらに有用にAl、Bおよび/またはMgが、SiO2に対して50モ ル%以下、有利には少なくとも5モル%、有用には30モル%以下の量で、気化 すべき物質に添加されることを特徴とする、請求項12に記載の包装もしくは包 装補助物の形態を製造する方法。 15.Siの量に対する酸素含有化合物SiO2の量比が、気化物質中の純酸 素に対して化学量論的に10〜30%の酸素の不足を示すことを特徴とする、請 求項12に記載の包装もしくは包装補助物の形態を製造する方法。 16.金属もしくは半金属Si、Al、BおよびMgに対する酸素含有化合物 SiO2、Al23、B23およびMgOの量比が、気化物質中の純酸化物の総 量に対して化学量論的に10〜30%の酸素の不足を示すことを特徴とする、請 求項13に記載の包装もしくは包装補助物の形態を製造する方法。 17.可視光線に半透過性である反射層が、セラミック層(単数または複数) 上に蒸着されており、ステンレス鋼、ニッケル、アルミニウム、銅、金および好 ましくはクロム、あるいはこれらの混合物または合金を含む、もしくはこれらの 混合物または合金からなる前記反射層が、これらの金属を含むターゲットをスパ ッタリングすることにより蒸着されることを特徴とする、請求項12に記載の包 装もしくは包装補助物の形態を製造する方法。 18.好ましくは透明な印刷材料の画像が、1つ以上の色調で前記反射表面上 に直接蒸着されており、これらの色調の1つか、いくつか、もしくはすべてが、 視角に応じて蒸着層の系により造られる色に相当し、特定の角度で包装もしくは 包装補助物を目視する際、画像の色および異なる層による反射光の色が同じであ ると、画像が観察者の視界から消えることを特徴とする、請求項12に記載の包 装もしくは包装補助物の形態を製造する方法。 19.被覆工程が連続的に実施され、基体が第一のチャンバーでセラミック層 を得、スリット型のゲートを通過し、さらに金属層がスパッタリングにより蒸着 されるチャンバーに入ることを特徴とする、請求項12および17に記載の包装 もしくは包装補助物の形態を製造する方法。 20.基体、特に金属ホイルを含む基体が、層を蒸着する前または後に型押さ れることを特徴とする、請求項12に記載の包装もしくは包装補助物の形態を製 造する方法。 21.基体、特に金属ホイルを含む基体が、型押されることを特徴とする、請 求項1に記載の包装もしくは包装補助物の形態。
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