JP2000507198A - セラミック前駆体のナノ細孔性セラミックへの熱分解 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 本発明は、表面積が７０cm²／ｇを超え、高含有率の連続気泡ミクロ細孔性構造を特徴とし、ミクロ細孔の平均幅が２０Å未満であり、前記ミクロ細孔性構造が約０．０３cm³／ｇセラミックより大きい体積を含む、非晶質ナノ細孔性セラミック材料を提供する。本発明はこのようなナノ細孔性セラミックの製作方法も提供する。セラミック前駆体ポリマーまたはセラミック前駆体オリゴマーを、不活性ガスの存在下または真空で、４００℃を超え、約６５０℃までの最高温度まで徐々に加熱する。場合に応じて、この方法は、加熱工程の前に実施される、前記前駆体材料中に存在する主鎖原子との付加反応または置換反応を受けることが可能な架橋剤の存在下、約１００〜４００℃の中温で、前記前駆体材料を架橋するのに十分な時間前駆体ポリマーまたは前駆体オリゴマーを加熱する架橋工程も含むことが可能であり、続いて、架橋した材料を熱分解する。

Description

【発明の詳細な説明】 セラミック前駆体のナノ細孔性セラミックへの熱分解 発明の背景 １．発明の分野 本発明は、嵩高い微孔性構造を具有する連続気泡ナノ細孔性セラミック材料を 製作する方法に関する。 ２．関連技術の説明 多孔性材料は、多数の化学製品加工業界および化学製品加工応用分野で特に重 要な役割を果たす。膜セパレーションは、化学製品回収、精製および除湿などの 分野で重要である。多孔性酸化物（たとえば、粘土、シリカ、アルミナおよびゼ オライト）は、水素化分解、触媒分解、水素脱硫、改質、および重合など、化学 製品加工反応および石油加工反応における触媒または触媒キャリヤーとして優れ た材料である。 膜テクノロジーに関して、無機膜は、一般に約２５０℃より低い温度での使用 に限定される高分子膜にまさる多数の長所を備えている。この長所としては、ｉ ）操作温度が高いこと、ii）構造の完全性が高く、それ故、より高い差圧および 逆フラッシングに耐えることができること、およびiii）耐腐蝕性の改善などが ある。多孔性酸化物、（たとえば、酸化アルミニウム）およびカーボン膜は、上 記特徴の幾つかを備えているが、改良された強度、靭性、構造完全性、温度安定 性、耐水性および耐酸素性、耐熱衝撃性、低分子およびガスに対する分子選択性 、および高流動性には、進歩した材料が未だ必要である。 特に約５００℃より高い温度での安定性および耐熱衝撃性に関して、 同様の考えが粘土および金属酸化物型触媒または触媒キャリヤーにあてはまる。 Si−Ｃ、Si−Ｎ、Si−Ｃ−Ｎ、Si−Ｂ−Ｃ、Si−Ｂ−Ｎ、Al−Ｎ、Si−Al−Ｎ 、Ｂ−Al−Ｎおよび関連タイプのセラミック材料は、上述した特性の多くを備え ているようである。しかし、一般に多孔性酸化物膜または触媒キャリヤーの製作 に使用されるゾル−ゲル合成法は、その製作に水を使用することが必要であるた め、上述のタイプのセラミックの製作と相容れない。これらのセラミックを焼結 したり反応性焼結したりすると細孔サイズが約０．１〜約１０００μの材料が生 産されるが、この細孔サイズは不均一で一般に効果的な分子セパレーションや上 述した他の用途には大きすぎる。化学的蒸着を使用するとミクロ細孔性セラミッ ク層が生産されるが、この方法は高価な高温加工となりがちで、複雑なセラミッ ク組成物を調製する能力は限定される。 近年、研究者達は出発材料としてセラミック前駆体を使用してセラミックを製 作する改良された方法を発見した。セラミック前駆体は、不活性雰囲気で且つ高 温、たとえば、約７００℃より高温で熱分解したとき、最高熱分解温度に応じて 化学化合物、オリゴマーまたはポリマーのいずれかが化学結合の切断を受けて水 素や有機化合物等々の種を放出する材料である。結果として生じる分解生成物は 一般にSi−Ｃ結合(炭化ケイ素)、Si−Ｎ結合（窒化ケイ素）またはセラミック前 駆体の同一性の関数として変化する他の結合構造を含むセラミック、たとえば、 Si−Ｃ−Ｎ、Si−Ｎ−Ｂ、Ｂ−Ｎ、Al−Ｎおよび他の結合構造、ならびにこれら の構造の組み合わせである。通常、これらの非晶質セラミック生成物の結晶化に は、さらに高い１２００〜１６００℃の範囲の温度を必要とする。 たとえば、Ｍ.Peuckertら、「有機金属ポリマー由来のセラミックCeramics fr om Organometallic Polymers」、Adv.Mater.2,398-404(1990)には、セラミック 生成物、たとえば、炭化ケイ素および／または窒化ケイ素を生産するための、様 々なセラミック前駆体、たとえばポリカルボシラン類、ポリシラン類、ポリカル ボシロキサン類、ポリシラザン類等々の１３００℃以上の温度での熱分解が開示 されている。Hanら、「ポリ（オルガノシラザン）類のケイ素セラミックへの熱分 解化学Pyrolysis Chemistry of Poly(organosilazanes)to Silicon Ceramics」、 Chem.Mater.,Vol.4,No.3,pp.705-711(1992)には、アンモニア雰囲気下、１４０ ０℃までの熱分解温度でのポリオルガノシラザン類の熱分解が開示されている。 熱分解中に、上述のプレセラミック前駆体は、水素およびメタン、より高分子 の炭化水素分子、より低分子の前駆体フラグメントおよびＨ−Ｃ−Ｎ種をはじめ とする有機化合物など、様々なガス状分解種を放出する。これらのガスは、生じ るとプレセラミックマトリックス内で合一する傾向があり、結果として塊の膨大 または膨張を招く。これらの連行ガスは、プレセラミック前駆体が架橋して硬化 するにつれて、発達中のセラミック塊内での気泡形成につながる可能性があり、 その結果、有意な量の連続気泡ミクロ細孔が発生せずに、嵩高いマクロ細孔性ま たはメソ細孔性の独立気泡構造を有する低密度セラミックが生じる。 同時係属米国特許第５，６４３，９８７号および第５，５６３，２１２号には 、本質的にプレセラミック前駆体ポリマーまたはプレセラミック前駆体オリゴマ ー約３０〜９９重量部と、相応して粒子ザイズが１０μ未満の粒子材料約１〜７ ０重量部との混合物に基づくプレセラミック中間組成物の熱分解によってミクロ 細孔性セラミックを得ることができ ると開示されている。この方法の場合、熱分解は、ヘリウム、アルゴンまたは窒 素など、流動する不活性ガス条件下、またはアンモニアガス条件下、約１１００ ℃未満までの温度で実施される。上記発明は、プレセラミックマトリックス中に 粒状フィラーが存在すると、不活性ガス下またはアンモニアガス下での分解中に 分解ガスが発生するとき、分解ガスの大きな気泡の形成を防止するのに役立ち、 したがって、不活性ガス下で且つ前駆体中に粒状物質が存在しない条件下で熱分 解を実施した場合に得られる嵩密度の低い、嵩高いマクロ細孔性塊よりむしろ、 熱分解生成物にミクロ細孔性構造を生じるという理論に基づいていた。 また、１９９４年５月２４日に提出された出願番号第08／248,289号の一部継 続出願として１９９５年２月１０日に提出されたた同時係属米国特許出願番号第 08/385,299号には、管理された加熱速度で流動するアンモニアガス条件下、約１ １００℃未満、好ましくは１０００℃未満の最高加熱温度で熱分解を実施するこ とにより、プレセラミック組成物中に粒状物質を含有することを必要とせずに、 ミクロ細孔性セラミックを得ることができると開示されている。 １９９５年１２月２７日に提出された同時係属米国特許出願番号第08/579,444 号には、寸法が約１０〜５００Åの、不連続な微小金属粒子と混合したプレセラ ミック前駆体ポリマーのコロイド状分散液を含む複合中間体を最初に形成し、そ の混合物を不活性ガスまたは反応性ガスの存在下で約３００℃から１１００℃未 満までの温度まで徐々に加熱して、表面積が７０ｍ²/gを超え、連続気泡微細孔 の体積が約０．０３cm³/gより大きいミクロ細孔性セラミックを達成することに よって製作される、ミクロ細孔性セラミック材料が開示されている。１９９５年 １２月２７に提出された米国特許同時係属出願番号第08/578,084号には類似した ミクロ細孔性セラミック材料も開示されており、これは、プレセラミック前駆体 ポリマーと、希土類金属をはじめとする周期表のｂＩ族、II族、III族、IV族、 Ｖ族、VIB族、VIIA族またはVIII族の金属を含有する有機金属化合物約０．５〜 約６５重量％までとの混合物を含む複合中間体を最初に形成し、この混合物を反 応性ガスまたは不活性ガスの存在下で約３００℃〜１２００℃未満までの範囲の 最高温度に徐々に加熱することによって製作される。 しかし、上述の各用途では、プレセラミック組成物の加熱は、不活性ガス中ま たはアンモニア中で、室温から開示されている最高加熱温度までの全温度範囲で 行われる。 多孔性セラミックの製作は、Kusakabeら「ポリカルボシランの熱分解による高 温でのガスセパレーション用複合膜の製作Preparation of Supported Composite Membrane By Pyrolysis of Polycarbosilane for Gas Separation at High Tme perature」,J.Membrane Sci.103,175-180(1995)によって開示されている膜ガス セパレーション法に特に有用である。この参考文献には、キシレン溶液からαア ルミナ管の外面のγ−アルミナフィルム上に付着された、ポリカルボシランフィ ルムの熱分解による多孔性膜構造の合成および、キシレン溶液を蒸着させること によって形成された、ポリカルボシランの熱分解によって製作された嵩高い多孔 性材料が記載されている。空気中で２００℃に加熱し、その温度で１時間維持し た後、窒素中または空気中で３５０〜５５０℃の範囲の温度に２時間加熱するこ とによって熱分解を行い、続いて室温まで冷却した。細孔サイズが２０Å〜１０ ０Åであることを示すデータが表示されている。この参考文献には、細孔寸法が ２０Å（２ナノメートル）未満であるミクロ細孔体積がかなりの含有率を占める 多孔性セラミックの 製作について詳細に記載されていない。発明の概要 本発明は、ａ）数平均分子量が約２００〜約１００，０００ｇ／モルの範囲内 であるセラミック前駆体オリゴマー材料またはセラミック前駆体ポリマー材料で 本質的に構成される組成物を提供することと、ｂ）任意の工程として、前記前駆 体材料を架橋するのに十分な時間、前記前駆体を約１００℃〜４００℃の中温（ Ｔ_int）まで徐々に加熱しながら、前記セラミック前駆体組成物を、前記前駆体 材料中に存在する主鎖原子との付加反応または置換反応を受けることができる架 橋剤と接触させることと、ｃ）前記工程（ａ）の組成物または前記工程（ｂ）の 架橋された前駆体材料を、流動している非反応性不活性ガスの存在下または真空 で、４００℃を超え、最高温度（Ｔ_max）約６５０℃までの温度まで徐々に加熱 して、前記ナノ細孔性セラミック生成物を形成することと、ｄ）前記ナノ細孔性 セラミック生成物を徐々に冷却することとを含む、表面積が７０ｍ²／ｇを超え 、平均直径が２０Å未満である連続気泡ミクロ細孔性の体積が約０．０３cm³／ ｇより大きいナノ細孔性セラミック生成物の製作方法を提供する。 任意の工程（ｂ）で使用される好ましい架橋剤は、構造Ｈ−Ｒ−Ｈを有し、式 中ＲはＯ、Ｓ、ＮＨおよび炭素原子を１〜４０個含有する官能化有機基から成る 群から選択される多価基である、気体、固体または液体である。 本発明に従って製作されるナノ細孔性セラミックは一般に、非晶質相の重量を 基準にして、約７０ｍ²／ｇを超え、好ましくは少なくとも１００ｍ²／ｇ、さら に好ましくは少なくとも２００ｍ²／ｇで最高約６０ ０ｍ²／ｇの範囲の表面積を示し、非晶質相ミクロ細孔体積は０．０３cm³／ｇよ り大きく、好ましくは０．０５cm³／ｇより大きく、さらに好ましくは０．０８c m³／ｇより大きく、約０．２５cm³／ｇまでであり、セラミック生成物中の体積 分率は約８％〜約３６％の範囲である。 本発明によるセラミック生成物は、吸収における活性材料、膜セパレーション 構造物の活性相および触媒キャリヤーとして特に有用である。発明の詳細な説明 本願明細書で使用する用語「ナノ細孔性 nanoporous」は、細孔の平均幅（直 径）が約１００オングストローム（Å）までである多孔性構造を有する連続気泡 非晶質架橋セラミックを指す。平均幅が約２〜２０Åである細孔を有するミクロ 細孔性セラミック構造ならびに細孔サイズが約２０Åより大きく１００Åまでの 超ミクロ細孔性セラミック構造がこの定義の範囲内に含まれる。これらの用語は 、平均幅が約５００Åまでである細孔を指す用語「メソ細孔性」および平均幅が ５００Å以上である細孔を指す「マクロ細孔性」と区別されなければならない。 本発明に従って製作されたナノ細孔材料は、７０m²/gを超える、さらに好まし くは１００m²/gを超える、さらに好ましくは２００m²/gを超える、最も好ましく は３００m²/gを超える表面積を有する。これらの材料は、ミクロ細孔性連続気泡 構造の含有率もかなりであり、一般に０．０３cm³/gより大きく、さらに好まし くは０．０８cm³/gより大きく、最も好ましくは０．１２cm³/gより大きい。 表面積およびミクロ細孔体積は、自動連続フロー装置を使用して７７°Ｋで測 定される、窒素吸着等温線から算出される。総表面積はＢＥＴ法を使用して算出 され、ミクロ細孔体積およびメソ細孔／マクロ細孔 表面積はS.J.GreggおよびK.S.W.Sing，「吸着、表面積および多孔性Adsorption,S urface Areaand Porosity」、Academic Press,New York,1982およびS．Lowell an d J.F.Shields，「粉体表面積および多孔率Powder Surface Area and Porosity" ,Chapman and Hall,New York,3rd Edition，1984に記載されているＴ−プロット 法を使用して算出される。総表面積からメソ細孔／マクロ細孔表面積を減算する と、ミクロ細孔表面積の推定値が得られる。 本発明に従って熱分解される組成物は、数平均分子量が約２００〜約１００， ０００ｇ／モルの範囲内であるセラミック前駆体オリゴマー材料またはポリマー 材料で本質的に構成される。用語「本質的に構成される」は、上記特許出願に記 載されている添加物、たとえば、出願番号第08/579,444号に記載の金属粒子や米 国特許第５，６４３，９８７号および第５，５６３，２１２号に記載のフィラー など、熱分解後生成物におけるミクロ細孔構造の発生に影響を及ぼす可能性があ る他の添加物を組成物から除外することを意味する。 本発明のために調製されるセラミック前駆体材料は、ポリシラザン類、ポリカ ルボシラザン類、ポリカルボ−シラン類、ビニル系ポリシラン類、アミンボラン 類、ポリフェニル−ボラザン類、カルボランシロキサン類、ポリシラスチレン、 ポリチタノ−カルボシラン類および同様の材料、ならびにその混合物などのオリ ゴマーおよびポリマーを含み、その熱分解生成物はSi−Ｃ、Si−Ｎ、Si−Ｃ−Ｎ 、Si−Ｂ、Si−Ｂ−Ｎ、Si−Ｂ−Ｃ、Si−Ｃ−Ｎ−Ｂ、Ｂ−ＮおよびＢ−Ｎ−Ｃ から選択された結合、ならびにSi−Ｏ−ＮやTi−Ｏ−Ｃなどの炭化酸素や窒化酸 素結合を有する構造単位を含むセラミック組成物を生じる。好ましい前駆体は、 数平均分子量が約２００〜約１００，０００ｇ／モル、さらに好ましくは 約４００〜約２０，０００ｇ／モルの範囲であるオリゴマーおよびポリマーであ る。研究論文「無機ポリマーInorganic Polymers」、J.E.Mark,H.R.Allock,and R.West,PrenticeHall,1992には、これらのオリゴマー前駆体およびポリマー前駆 体の化学がさらに開示されている。 特に好ましいポリシラザン類は、米国特許第４，９３７，３０４号および第４ ，９５０，３８１号に開示されているものであり、その全開示内容を本願明細書 に援用する。上記物質は、たとえば、循環する−Si(H)(CH₃)−NH−単位や−Si(C H₃）₂−NH−単位を含有し、無水溶剤中の式R₁SiHX₂およびR₂R₃SiX₂を有するモノ マー１種またはモノマー混合物をアンモニアと反応させることによって調製され る。上式で、R₁、R₂およびR₃はヒドロカルビル、アルキルシリルまたはアルキル アミノから選択された同一の基であっても異なる基であってもよく、Ｘはハロゲ ンである。好ましいポリシラザン類は、メチルジクロロシランまたはメチルジク ロロシランとジメチルジクロロシランとの混合物を、アンモニアとのモノマー反 応物として使用する。この前駆体の主たる高温熱分解生成物（＞１３００℃）は 窒化ケイ素(Si₃N₄)および炭化ケイ素(SiC)である。これらの前駆体は日本のChis so Corporation（チッソ株式会社）からNCP-100およびNCP-200の商品名で市販さ れており、その数平均分子量はそれぞれ６３００および１３００である。 別のクラスのポリシラザン前駆体は、［(RSiHNH)_x(R₁SiH)_1.5N］_1-xの構造単 位を有し、式中、R₁は同一のまたは異なるヒドロカルビル、アルキルシリル、ア ルキルアミノまたはアルコキシであり、且つ０．４＜Ｘ＜１であるポリオルガノ （ヒドロ）シラザン類である。これらの物質は米国特許第４，６５９，８５０号 に開示されており、その全開示内容を本願明細書に援用する。 別の好ましいセラミック前駆体は、日本のNippon Soda（日本曹達）から「Pol ysilasturen-120」の商品名で市販されている構造［-(フェニル)(メチル)Si-Si( メチル)_2-］_nを有するポリシラスチレンである。この物質の数平均分子量は約２ ０００であり、不活性雰囲気でのこの前駆体の主たる熱分解生成物は炭化ケイ素 および炭素である。 その他の好ましいセラミック前駆体は、（Si(CH₃)₂CH₂）_nおよび／または（Si H(CH₃)CH₂）_n構造単位を有し、数平均分子量が約１０００〜７０００の範囲であ るポリカルボシラン類である。適当なポリカルボシラン類は、Dow CorningからP C-X9-6348（Ｍｎ＝１４２０ｇ／モル）の商品名で、また日本のNippon Carbon（ 日本カーボン）からPC-X9-6348（Ｍｎ＝１４２０ｇ／モル）の商品名で市販され ている。不活性雰囲気でのこれらの物質の主な熱分解生成物（＞１３００℃）は 炭化ケイ素および過剰の炭素である。 本発明に有用なビニル系ポリシラン類は、Union Carbide CorporationからY-1 2044の商品名で市販されている。これらは、高温で(＞１３００℃)、不活性雰囲 気での主な熱分解生成物として過剰の炭素と一緒に炭化ケイ素を産生する。 その他の適当なプレセラミック前駆体、特にSiC、Si₃N₄、Si−Ｃ−Ｎ、ＢＮ、 Si−Ｂ−Ｎ、Ｂ₄Ｃ−ＢＮ−ＣおよびSi−Ｂ−Ｃを熱分解生成物として生じる物 は、当業者に明白であろう。 本発明のナノ細孔性セラミックは、一工程加熱法（上記工程Ｃ）または前駆体 材料を先ず架橋工程（上記工程ｂ）に供した後、不活性ガスの存在下または真空 でさらに加熱する（上記工程Ｃ）二工程法を使用して製作することが可能である 。方法の熱分解加熱工程（工程Ｃ）では、不活性雰囲気または真空で、セラミッ ク前駆体を約４００℃を超え最高温 度（Ｔ_max）約６００℃までの温度に、さらに好ましくは約４２５〜６２５℃ま でのＴ_max、に、最も好ましくは約４７５℃〜６００℃の範囲のTmaxに加熱して 熱分解する。この工程中に、プレセラミック構造に存在する反応基が分解して揮 発し、その結果、硬質プレセラミックポリマーマトリックス内にミクロ細孔性構 造が生じる。温度上昇率は一般に約１℃〜７℃／分、さらに好ましくは約５℃／ 分未満であり、その方法は、約４００〜６５０℃の加熱範囲の温度で１つ以上の 保持時間、たとえば、ミクロ細孔性セラミックを室温に冷却する前に約３０分か ら６時間までの保持時間を含んでもよい。 加熱工程は、流動する不活性ガスの存在下または真空で行われる。好ましい不 活性ガスは、ヘリウム、アルゴン、窒素およびネオンから成る群から選択される 。熱分解を受ける試料を貫流するガスの速度は一般に約１００〜１０００cc／分 の範囲と考えられる。 表面積および微孔質の程度に影響を及ぼす因子は、セラミックが加熱される最 高熱分解温度（Ｔ_max）である。一般に、Ｔ_maxが約６５０℃より高いとき、微孔 質は消失または減少する。ほとんどのプレセラミックポリマーの場合、Ｔ_maxの が約４７５〜６００℃のとき、微孔質が最高レベルになる傾向がある。 本発明のナノ細孔性は、二工程加熱法を使用して製作することもできる。第１ 工程（上記工程ｂ）で、プレセラミック前駆体ポリマーを先ず、前駆体材料を架 橋するのに十分な時間、前駆体を約１００℃〜４００℃の範囲の中温（Ｔ_int） まで徐々に加熱しながら、前駆体材料中に存在する主鎖原子との付加反応または 置換反応を受けることができる反応性架橋剤と接触させるか、同剤に曝露する。 架橋剤は、プレセラミックポリマーの粘度、融点およびガラス転移温度（Ｔｇ） の上昇、ならびに水素、 水および数種の有機分解生成物などの副生成物種の放出に反映される。 適当な架橋剤は気体の化合物であるか、１００℃より高い温度で液体または固 体であり得る化合物である。好ましい化合物は一般式Ｈ−Ｒ−Ｈを有し、式中Ｒ はＯ、Ｓ、ＮＨおよび炭素原子を１〜４０個含有する官能化有機基、すなわち、 少なくとも２個の反応性官能化基を含有する有機基から成る群から選択される多 価基である。適当な化合物としては水（ＲはＯである）、アンモニア(ＲはＮＨ である)、硫化水素(ＲはＳである)、ならびに尿素（ＲはHNCONHである)、エチレ ングリコール、グリセロール、ポリアルキレングリコール類およびポリエステル ジオール類など、C₂−Ｃ₄₀の脂肪族、脂環式または芳香族ポリオール類、エチレ ンジアミンやヘキサメチレンジアミンなどのポリアミン類、およびプレセラミッ クポリマーマトリックス中に存在するか、または最初の加熱工程中にプレセラミ ックポリマーマトリックス中に発生する、ケイ素に結合した水素（Si−Ｈ）また は金属原子に結合した水素(Me−Ｈ)、たとえば、Al−Ｈ、Ｂ−ＨまたはTi−Ｈと 反応性である類似の化合物などがある。結果として生じる架橋反応によって、水 素は窒素、酸素またはＲ基と置換され、その結果、架橋ポリマー網状構造全体に Si−Ｎ−Si、Si−Ｏ−Si、Si−Ｒ−Si、Me−Ｎ−Me、Me−Ｏ−Me、またはMe−Ｒ −Me結合が形成されると考えられるが、他の架橋メカニズムも含まれる可能性が ある。さらに、炭素原子が１〜４０個の範囲内のＲ鎖長を選択すると、Ｒ結合が 鋳型作用を示すため、第２の加熱工程中に発生するミクロス細孔のサイズを調節 することができる。 架橋剤が約１００℃で気体または蒸気の形を取る場合、たとえば、アンミニア や水（水蒸気）場合、架橋剤とプレセラミックポリマーとの接触は、第１工程の 少なくとも一部の間、流動する気体または蒸気を、プ レセラミックの上またはプレセラミック中を連続的に通過させることによって行 うことが可能である。一般に、所望の架橋プレセラミック材料の発生には、約２ ５〜１０００cc／分の範囲の気体または蒸気の流速で十分である。架橋工程また は熱分解工程の前に、プレセラミックポリマーを有機溶剤、たとえば、トルエン またはキシレンに溶解して他のポリマーとの混合物としてもよく、下記の通りに 被膜または膜としてもよい。その後、溶剤を蒸発除去させる。 架橋剤が１００℃より高い温度で液体または固体の場合、プレセラミックポリ マーと架橋剤との接触は、第１加熱工程の前に、プレセラミックポリマーと架橋 剤との混合物を作ることによって行われる。一般に、プレセラミックと架橋剤を 合せた重量を基準にして、約０．５〜約３０重量％の架橋剤が混合物に含まれる ような重量比で、架橋剤をプレセラミックポリマーと混合する。 セラミックマトリックス中に架橋剤が確実に均一に分散される任意の方法で混 合を実施することが可能である。それ故、成分を乾燥状態で一緒に粉砕するか、 ボールミルにかけるか、または微粉化して微粉末混合物としてもよく、あるいは 乾燥状態で混合して溶融混合物の形成に十分な温度まで加熱し、この溶融混合物 を冷却してから微粉化してもよい。この溶融を使用して架橋成形品を直接形成し てもよく、膜を形成した後、これを後述の通り熱分解してセラミック造形品を作 ってもよい。あるいは、場合に応じて架橋剤を含有する前駆体オリゴマーまたは 前駆体ポリマーを、成分が溶解する有機溶剤、たとえばトルエンまたはキシレン に溶解し、続いて蒸発により溶剤を除去し、結果として得られた乾燥生成物を粉 砕して微粉末としてもよい。溶剤溶液をゲル化させて造形品とするか、基材に適 用して溶剤を蒸発させ、薄いフィルムまたは膜を形成す ることによって、溶剤溶液を使用して造形品を直接形成することも可能である。 熱分解の前に、プレセラミックポリマー組成物を、ペレット、円盤、繊維、薄 膜、膜層または他の立体形など、任意の所望の形に形成することが可能である。 加熱するかまたは加熱せずに、押出機または液圧プレスを使用して、あるいは、 プレセラミックポリマー組成物が入っている適当な金型キャビティ内で熱分解を 実施することによって、適当な乾燥前駆体を造形することが可能である。組成物 溶融または組成物溶液の押出または紡糸によって、繊維を製作することが可能で ある。繊維が押出機ダイまたは紡糸ダイから出たとき、繊維を切り刻むことによ ってペレットを形成することが可能である。組成物溶融または組成物溶液を、別 のセラミックなど、適当な基材の表面に適用し、周知の紡糸技術または旋回塗布 技術に供して、組成物の均一な薄膜を基材表面上に形成し、続いて、溶剤が存在 する場合には加熱することによって溶剤を蒸発させることにより、セパレーショ ン用薄膜を形成することが可能である。 好ましい実施態様で、任意の架橋工程（工程ｂ）は、加熱炉内で、４００℃ま で、さらに好ましくは約３５０℃まで、最も好ましくは約２００〜３５０℃の範 囲の中温（Ｔ_int）まで、管理された温度上昇速度で前駆体ポリマー組成物を徐 々に加熱することによって行われる。 加熱工程Ｃの場合と同様、温度上昇速度は一般に約１〜７℃／分、さらに好ま しくは約５℃／分未満である。架橋工程も、Ｔ_intより低い温度で、約３０分か ら６時間までの保持時間を１つ以上含んでもよい。架橋前駆体ポリマー組成物を 後続のより高温の熱分解工程に供する前に、Ｔ_intで約３０分から６時間の保持 時間を含むことも好ましい。 架橋剤が気体または蒸気状態の場合、純粋な架橋剤またはヘリウムなどの不活 性ガスと組合せた架橋剤のいずれかを、前駆体組成物中または前駆体組成物の上 を通過させてもよい。活性な気体または蒸気と不活性ガスの相対比を変えること によって、架橋の程度を調節することが可能である。アンモニアや水蒸気などの 反応性ガスを架橋工程で使用する場合、架橋工程の完了後、そのガスの流れを停 止し、不活性ガスまたは真空を熱分解工程に使用する。 本発明に従って熱分解されたセラミック前駆体ポリマーは一般に、出発前駆体 の重量の少なくとも約５０重量％、さらに好ましくは少なくとも６５重量％の熱 分解後セラミック収率を示す。 温度６５０℃以下、不活性雰囲気で、架橋剤の存在下での中間工程を含むまた は含まない熱分解は、より高い温度および／または反応性雰囲気を使用する以前 の方法よりすぐれた重大な長所を提供する。これによって、膜または構造が６５ ０℃までの高い温度範囲で反応性雰囲気に曝露することによって悪影響を受ける 膜またはセパレーション支持構造と関連または接触したプレセラミックポリマー 中間体の熱分解が可能になる。 これらのミクロ細孔性材料およびミクロ細孔性構造の便利な用途としては、収 着、セパレーション、反応性セパレーション、化学センサーおよび環境センサー などがある。 熱分解工程にも任意の架橋工程にも使用することが可能な適当な装置は、セラ ミックるつぼ内の試薬が置かれる内部金属レトルト付き電気的加熱炉である。レ トルトへの標準金属付属部品は、使用するガスの入口になり、使用済みガスおよ び反応生成物の出口になる。時間−温度プロフィールはコンピューターで制御さ れ、レトルト内の温度は金属シース 内の熱電対によって報告される。 以下の実施例は、本発明の例示である。実施例および表に使用する次の呼称は 次の意味を有する：NCP-100 −日本のChisso Corporation（チッソ株式会社）から入手可能な、 数平均分子量約６３００ｇ／モル、融点約２００℃のポリシラザンポリ マー。NCP-200 −日本のChisso Corporation（チッソ株式会社）から入手可能な、数 平均分子量約１３００ｇ／モル、融点約１００℃のポリシラザンポリマーPCS −日本のNippon Carbon Company（日本カーボン(株)）から入手可能な( 米国販売Dow Chemical Company)、数平均分子量約２０００ｇ／モル、融点約１ ００℃のポリカルボシランプレセラミックポリマー。PSS-100 −日本のNippon Soda（日本曹達）から入手可能な、数平均分子量 が約２０００ｇ／モルのポリシラスチレンポリマー。実施例 表１に記載のプレセラミックポリマーの出発試料（各３〜６ｇ）を酸化アルミ ニウムボートに入れ、加熱処理炉のスチールライナーに挿入し、最初に、表に記 載の活性化ガスで約３０分間パージした。試料を表に記載の条件下、表示の活性 化ガス気流下（流速約３００〜１０００cc／分）で加熱した。記載の熱分解条件 下でヘリウムを不活性熱分解ガスとして使用して、各試料をさらに加熱した。 このようにして得られた各事例のセラミック生成物の重量を測定して窒素吸収 等温線を決定し、ＢＥＴ法で分析して表面積を求め、ｔ−プロ ット法でミクロ細孔体積およびメソ／マクロ表面積を求めた。各試料のミクロ細 孔体積、総表面積およびメソ細孔および／またはマクロ細孔による表面積を表１ に記載する。多孔性関連の表面積は、第８列と第９列の差にほぼ等しい。熱分解 の前後に試料の重量を測定することにより、幾つかの試料の％減量も求めた。 表１−Ａ中のコントロール試料ＪＡ２０−１の標準ｔ−Ｔは次の通りである： 室温（約３０度）で３０分間、Ｈｅの流れ、２００℃まで６０分加熱、２００℃ で２４０分加熱、３００℃まで１２０分加熱、３００℃で３００分加熱、４００ ℃まで１２０分加熱、４００℃で３００分加熱、５００℃まで１２０分加熱、５ ００℃で１２０分加熱、７００℃まで１２０分加熱、７００℃で１２０分加熱、 流動するヘリウムガス中で室温まで冷却。使用した場合、この手順の変更を、表 １−Ａ〜１−Ｆに示す。 表中の記号「xylene ev．またはxylene evap．（キシレン蒸発）」は、プレセ ラミックポリマーをキシレン中に溶解して３０〜５０重量％溶液とし、続いて溶 剤を蒸発させた手順を指す。熱処理前に残留物を微粉化して粉末とする。 表１−Ａ〜１−Ｇに記載のプレセラミックポリマーの活性化熱分解で、ポリシ ラザンプレセラミックポリマーおよびポリカルボシランプレセラミックポリマー を、中温、一般に２００〜３００℃で、架橋分子、特にＮＨ₃およびＨ₂Ｏで処理 することにより活性化し、次に不活性雰囲気He中で、より高い最高温度、一般に ４２５〜７００℃に加熱する。活性化処理の前に、プレセラミックポリマーを先 ずキシレンに溶解し、空中で蒸発させる場合もある。プレセラミックポリマーを 、製造会社から供給されたまま使用する場合もある。表１−Ｈおよび１−Ｉは、 ヘリウムを熱分解ガスとして使用し、且つ架橋ガスで前処理しない熱分解の結果 を 示す。 コントロール試料ＪＡ２０−１からわかるように、表示の加熱スケジュールと 最終温度７００℃を使用して、ポリシラザンプレセラミックポリマーNCP-200をH e雰囲気で加熱すると、低表面積材料（７ｍ²／cm）が生じた。対照的に表１−Ｈ および１−Ｉの試料ＪＡ３６−１、ＪＡ３７−１、Ｂ２１−１およびＪＢ２２− １からわかるように、Ｔ_maxが４２５〜６２５℃の範囲内の場合、He雰囲気で熱 分解したNCP-200プレセラミックポリマーで、相当の多孔性およびより大きい表 面積が発生した。 比較のために試料ＪＡ２４−１、ＪＡ２４−２、ＪＭＴ１−５、ＪＭＴ１−６ およびＪＭＴ１−７の試験結果を表１−Ｂに複写し、やはり比較のために試料Ｊ Ａ２６−１、ＪＡ２６−２およびＪＡ２６−３の結果を表１−Ｄ、１−Ｅおよび １−Ｆに複写した。 表１のNH₃活性化に示した通り、ポリシラザンプレセラミックポリマーNCP-200 （受け取ったまま）を中温２００℃で４時間活性化し、続いて７００℃、He雰囲 気で熱分解することによって得た試料ＪＡ２２−１は、結果として中等度の表面 積のミクロ細孔性材料が生じた。ポリカルボシランプレセラミックポリマーＰＣ Ｓ（受け取ったまま）を同じ反応条件および熱分解条件で活性化することによっ て得られた試料ＪＡ２２−２は、結果として非ミクロ細孔性材料が生じた。ＪＡ ２２−１およびＪＡ２２−２と同じ条件で処理したが、Ｔ_max、５５０℃まで加 熱した試料JA24-1およびJA24-2は、高度ミクロ細孔性になり、それぞれ、表面積 は３７４ｍ²／ｇおよび５０７ｍ²／ｇ、ミクロ細孔体積は０．１５７０cc／ｇお よび０．２０８５cc／ｇであった。 活性化の温度および時間の影響をさらに試験するために、２００℃で の時間に加えて、３００℃、NH₃中でさらに活性化して、試料ＪＡ２６−１、Ｊ Ａ２６−２、ＪＡ２６−３を実施した。キシレンから蒸発させたＮＣＰ−２００ を使用した試料ＪＡ２６−１の表面積は４７３ｍ₂／ｇに増加し、ミクロ細孔体 積は０．２０３３cc／ｇに増加した。受け取ったままのＮＣＰ−２００を使用し た試料ＪＡ２６−３は、試料ＪＡ２６−１とほぼ同じ表面積およびミクロ細孔体 積を有し、ＮＣＰ−２００を溶解してキシレンから蒸発させる初期工程は、ほと んど影響しないことがわかる。キシレンから蒸発させたＰＣＳで製作された試料 ＪＡ２６−２の表面積およびミクロ細孔体積は、２００℃で活性化しただけの試 料ＪＡ２４−２と比較して、約３０％減少した。 表１−Ｇからわかるように、H₂O（５０℃）蒸気で飽和したHe雰囲気をバブラ ーを通過させることによって使用してＮＣＰ−２００およびＰＣＳを活性化する 場合、中温２００℃または３００℃で活性化し、続いて最高温度５００℃または ５５０℃まで加熱することによってミクロ細孔材料を得た。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 ジョンソン・ジャック・ダブリュ アメリカ合衆国、ニュージャージー州 08809、クリントン、サンライズ サーク ル ９ (72)発明者 ピズリ・ジェイムズ・エル アメリカ合衆国、ニュージャージー州 08889、ホワイトハウス ステイション、 チャムバーブロック ロード ２

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １．表面積が７０cm²／ｇを超え、平均直径が２０Å未満である連続気泡ミク ロ細孔の体積が約０．０３cm³／ｇより大きいナノ細孔性セラミック生成物を製 造する方法であって、 ａ）数平均分子量が約２００〜約１００，０００ｇ／モルの範囲内である セラミック前駆体オリゴマー材料またはセラミック前駆体ポリマー材料で本質的 に構成される組成物を提供することと、 ｂ）任意の工程として、前記前駆体材料を架橋するのに十分な時間、前記 前駆体を約１００℃〜４００℃の範囲の中温（Ｔ_int）まで徐々に加熱しながら 、前記セラミック前駆体組成物を、前記前駆体材料中に存在する主鎖原子と付加 反応または置換反応することができる架橋剤と接触させることと、 ｃ）前記工程（ａ）の組成物または前記工程（ｂ）の架橋された前駆体材 料を、流動している非反応性不活性ガスの存在下または真空で、４００℃を超え 、最高温度（Ｔ_max）約６５０℃までの温度まで徐々に加熱して、前記ナノ細孔 性セラミック生成物を形成することと、及び ｄ）前記ナノ細孔性セラミック生成物を徐々に冷却することとを含む方法 。 ２．前記架橋剤が構造Ｈ−Ｒ−Ｈを有し、式中ＲはＯ、Ｓ、ＮＨ、および１〜 ４０個の炭素原子を含有する官能化有機基、から成る群から選択される多価基で ある、請求の範囲１に記載の方法。 ３．前記架橋剤は気体または蒸気の形であり、前記工程（ｂ）での接触は、前 記加熱工程中に、前記気体または蒸気を、前記セラミック前駆体材料中または前 記セラミック前駆体材料の上を通過させることによっ て遂行される、請求の範囲２に記載の方法。 ４．前記架橋剤は１００℃より高い温度で固体または液体であり、前記工程（ ｂ）での接触は前記架橋剤と前記セラミック前駆体材料との混合物を形成するこ とによって遂行される、請求の範囲２に記載の方法。 ５．前記加熱工程（ｃ）は、ヘリウム、アルゴン、窒素およびネオンから成る 群から選択された非反応性の不活性ガスの存在下で行われる、請求の範囲１に記 載の方法。 ６．前記ミクロ細孔性セラミック生成物の表面積は１００ｍ²／ｇを超え、連 続気泡ミクロ細孔の体積は約０．０８cm³/ｇより大きい、請求の範囲１に記載の 方法。 ７．前記工程（ｃ）の最高加熱温度が約６２５℃である、請求の範囲１に記載 の方法。 ８．工程（ｂ）の加熱速度が５℃／分未満である、請求の範囲１に記載の方法 。 ９．前記混合物が、前記セラミック前駆体と前記架橋剤を有機溶剤に溶解し、 前記溶剤を蒸発させることによって形成される、請求の範囲６に記載の方法。 １０．前記セラミック前駆体がポリシラザン類、ポリシロキサザン類、ポリカ ルボシラザン類、ペルヒドロポリシラザン類、ポリカルボシラン類、ビニル系ポ リシラン類、アミンボラン類、ポリフェニルボラゾン類、カルボランシロキサン 類、ポリシラスチレン類、ポリチタノーカルボシラン類およびその混合物から成 る群から選択される、請求の範囲１に記載の方法。 １１．表面積が７０cm²／ｇを超え、平均幅が２０Å未満である連続気泡ミク ロ細孔の体積が約０．０３cm³／ｇより大きいナノ細孔性セラ ミック生成物であって、請求の範囲１に記載の方法によって製造される生成物。 １２．表面積が約２００cm²／gを超えミクロ細孔体積が約０．０８cm³／ｇよ り大きい請求の範囲１１に記載のセラミック生成物。