JP2000505061A - マトリックスにおける液体の分散液中での結晶形成を防止するための改良された方法 - Google Patents

マトリックスにおける液体の分散液中での結晶形成を防止するための改良された方法

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Abstract

(57)【要約】 水性又は非水性マトリックス中の液体の液体分散物を含む経皮医薬送り出しデバイスの改良された製造方法が開示される。さらに特定的には、本発明はこれらのデバイス製造中に、フィルム形成および(または)積層化の直後に列式でフィルムおよび積層物をアニーリングすることによりそのような液体分散物中での結晶構造物の形成を防止することに関する。

Description

【発明の詳細な説明】 マトリックスにおける液体の分散液中での結晶形成を防止するための 改良された方法発明の分野 この発明は、水性または非水性マトリックス中の液体の分散物の製造およびこ れらの液体分散物を使用する医薬送り出しデバイス(device)に関する。さらに 詳しくは、本発明はフィルム形成および(または)積層化の直後にフィルムおよ び(または)積層物をアニーリングすることによりそのような液体分散物を含む フィルムまたは積層物中での結晶構造物の形成および(または)成長を防止する ことに関する。結晶の存在しないフィルムまたは積層物は、次に医薬送り出しデ バイスのような種々の物品に形成されることが出来る。発明の背景 本明細書に用いられる用語として“アニーリング”とは液体分散物またはそれ から形成された物品を、所定の最小時間期間にわたって特定の高められた温度に 付しそして次にその分散物または物品を周囲の条件まで冷却させる処理を言う。 種々の水性または非水性マトリックス中の医薬または他の生物学的製剤の分散 物を含む経皮送り出しデバイスは、米国特許第3,598,122号、同第3, 598,123号、同第4,031,894号、同第4,144,317号、同 第4,201,211号、同第4,262,003号、同第4,379,454 号および同第4,436,741号(これらの全ての特許を、それらの全体にお いて参照することにより、本明細書に組み入れる)に記載されているように当業 界において既知である。これらの特許に開示されているように、水性マトリック スは典型的に水または水/エタノール、およびヒドロキシエチルセルロースのよ うなゲル化剤の1〜5重量%を含む。非水性マトリックスは典型的にはエチレン 酢酸ビニルの共重合体あるいは低分子量および高分子量のポリイソブテンのよう な重合体材料からなる。医薬は固体形であってもまたは液体分散物の形であって もよい。本発明はそのような液体医薬分散物に関する。 上に述べられた特許に加えて、米国特許第5,370,924号(この特許を その全体において参照することにより本明細書に組み入れる)は、経皮医薬送り 出しデバイスを製造するための方法を開示している。この特許に開示された方法 は、経皮デバイスの種々の構成部品を別々に造りそして最終製造工程において一 緒に合体させる方法を記載している。 本発明を、特にスコポラミン送り出しデバイスに関してこの後で記載するけれ ども、本発明は、結晶構造物が形成される可能性がある、マトリックスにおける 任意の他の医薬または生物学的製剤の分散物にも適用されることが出来ることが 認識されるべきである。そのような医薬または薬剤、例えばニコチン、セコベリ ン(secoverine)およびベンズトロピンは、それらが結晶構造物を形成するので あれば、本発明に従ってスコポラミン塩基の分散液が処理される方法に類似の方 法で処理されることが出来る。 上に引用された米国特許第4,031,894号に開示されたタイプのスコポ ラミンの投与のための経皮送り出しデバイスは、乗物酔いの防止のために広く用 いられている。不透過性ウェブ上に、ポリイソブテン(PIB)および鉱油(M O)中のスコポラミン塩基のクロロホルム溶液を溶媒キャスティング(casting )して医薬液貯め(reservoir)を形成し、接着剤フィルムを接触させることに よるその製品の本来の製造は、その特許に記載されている。クロロホルムの蒸発 の際、PIB/MOマトリックス中に液体スコポラミン塩基の分散物が形成され る。次に、医薬液貯め及び接触接着剤フィルムは、鉱油含浸された微細孔質フィ ルムから形成された放出速度制御膜の反対側に積層されて、除去出来る剥離性ラ ィナー、接着剤層、速度制御膜層、医薬液貯め層及び不透過性支持用薄層からな る最終積層物が形成される。次に最終積層物は、それぞれのシステムにダイス切 断されそしてそれぞれの熱密封されたパウチ(pouch)中に包入される。 この方法での製品の製造は医薬液貯め又は接着剤のいずれかの中に結晶の形成 を何ら示すことなしに約5年間行われた。その後に、スコポラミン水和物の小さ な結晶が稀に観察されたがしかしこれは、デバイスからの医薬の放出速度が、生 じた少数の小さな結晶の存在により影響されなかったので、問題とはならなかっ た。結晶が少ないこと及びそのサイズが小さいことに加えて、放出速度が影響さ れなかった他の理由は、結晶寸法がパウチ中で時間とともに認識出来る程度には 変化しなかった(即ち、もし存在するとしても結晶成長が最小)ことに起因して いる。 約2年後に、多数の迅速に成長する結晶が医薬液貯め中に観察されるとともに 、低い濃度のスコポラミン塩基を含有する接触接着剤層においても低い発生が観 察された。当時、結晶の大きさおよび結晶の発生する頻度は、それらがデバイス からのスコポラミンの放出速度に重大な悪影響を生ずる点にまで増大した。その 後、製造された各ロットは許容出来ない程度に大きなサイズを有する結晶を高い 頻度を発現しそして商業的生産は、その問題が解決出来るまで停止しなければな らなかった。 結晶化は、最終積層フィルムがそれぞれのデバイスに切断される工程の後に最 も著しかった。最終積層フィルムが、それぞれの経皮送り出し単位の形成のため のダイス切断機中に供給された後に、切断された製品の端の周りに結晶化が始ま りそしてその後に、液貯めの全体中そして或る場合においては接着剤層中に迅速 に結晶成長が拡がった。切断工程の直後には肉眼的に観察できる結晶は必ずしも 現れなかった:その代わりにそれらは数日の期間にわたって典型的に成長した。 これらの結晶はスコポラミン塩基の水和物形として確認された。 その問題を排除するために種々の試みが次の数カ月にわたって試みられて、す べて有効でなかった。例えば、医薬液貯めフィルム、接着剤フィルムおよび最終 積層フィルムが一夜加熱されたが、なおダイス切断後に結晶化がいぜんとして起 こった。同様に、キャスティング溶液が加熱されそして長期間放置されたが、ま た効果がなかった。無水硫酸ナトリウムおよび硫酸マグネシウムのような乾燥剤 の余分な量を用いて乾燥することによりスコポラミン塩基のクロロホルム溶液中 の残留水の量を減少させようとする試みも、結晶化がいぜんとして起こったので また成功しなかった。接触用表面の広範囲にわたる清浄化は、ダイス切断後の結 晶の存在を減少させたがしかし排除はしなかった。 スコポラミン水和物結晶の形成を防止するための首尾のよい方法が究極的に発 見されそして米国特許第4,832,953号(この特許を全体において参照す ることにより本明細書に組み入れる)に記載されている。その発明によれば、も し非水性の、典型的には重合体マトリックス中での水和可能な液体の液体分散物 が、それらの包装品中に包入された後に、結晶性水和物の融点以上の温度にその 物品を加熱し、或る時間の期間その温度に維持しそして次に周囲の条件に冷却さ せたならば、前記液体分散液中において結晶性水和物の形成が防止されることが 出来る。この方法を成功させるために、ダイス切断し、パウチに入れそしてアニ ーリングする前に、キャスティングされたフィルムおよび積層物の保持時間は結 晶成長の速度に打ち勝つための努力で、最小にされた。そのように処理されたと き、初期に存在した結晶が消え、周囲の条件に冷却した際に再形成せず、そして 周囲の条件での貯蔵後および数カ月の促進エージング条件下に、結晶の形成また は成長の追加の徴候がなかったことが見い出された。 次に、その米国特許第4,832,953号に記載されたとおりのパウチに包 入されたシステムをアニーリングする工程を包含する製品の商業的製造は、約7 年間実施された後に、現在の結晶化問題が発現しそして再び、商業的生産は停止 されなければならなかった。該米国特許第4,832,953号特許に教示され たとおりの水和物の形成を防止するために使用された手段は新しく観察される結 晶の形成を防止するのに有効ではなく、その理由は、即ち、1)新しい結晶がそ の特許において特定されたアニーリング温度で溶融しない;そして2)新しい結 晶の成長の速度が非常に速く、重大な結晶成長を排除するのに十分に速い速度で 製造工程中フィルムを実際的に移動させることが出来ないからである。結晶はフ ィルムキャスティング後のほんの4時間で観察されそして最終製品中に観察され た。 原料、処理機器および結晶化の源を単離するための処置の調査を含む広範囲な 検討が行われ、その間に、結晶形成は製品の製造に使用される処置、機器または 原料の特定の特徴に何ら起因する可能性がないことが決定された。迅速な結晶化 はスコポラミンフィルムおよび積層物を包含するいずれかの製造工程の後に始ま る可能性があったことが確認された。生産は、その問題がこの発明に従って解決 されるまで停止された。発明の概要 新しい結晶は無水スコポラミン塩基の結晶形として確認された。はじめの水和 形からの一層安定な無水結晶形への変化の原因は未知である。最終積層物および パウチに包入されたシステムに加えて、すべてのそれぞれのスコポラミン含有フ ィルムおよびラミネートのアニーリングによって現在観察されていたスコポラミ ン結晶構造物の形成および成長が首尾よく防止できることを本発明者は見い出し た。本発明は実際的方法での結晶成長速度(kinetics)を有効に打ち勝つ方法を 提供する。 したがって、この発明の一面は水性または非水性マトリックスにおける液体の 分散物中の結晶構造物の形成および(又は)成長を防止することである。 この発明の他の面は非水性マトリックスでのスコポラミン塩基の分散物中での スコポラミンの結晶構造物の形成及び(又は)成長を防止することである。 この発明の他の面はスコポラミンの結晶を含有しないスコポラミン塩基の制御 された送り出しのための経皮治療システムを製造することである。 この発明のなお他の面は水性または非水性マトリックスでの液体の分散物中で の結晶構造物の形成および(または)成長を防止する、経皮治療システムの製造 の改良された方法を提供することである。 この発明のこれらのおよび他の面は、本発明の以下の記載から容易に明らかと なるだろう。図面の簡単な記載 図1はこの発明の好ましい態様に従う医薬液貯め/支持用(backing)層を形 成する方法を描いている流れ図である。 図2はこの発明の好ましい態様に従う速度制御膜/接触接着剤層を形成する方 法を描いている流れ図である。 図3はこの発明の好ましい態様に従う最終積層物を形成する方法を描いている 流れ図である。 図4は本発明の目的のために有用な列式形(in-line)アニーリング用オーブ ンの等軸投影図である。発明の開示 この発明に従えば、もし分散液の各々のそしてすべてのフィルムまたは積層物 の形成直後に、液体分散液を含有する層(単層または複数層)が非多孔質フィル ム間にサンドイッチされそしてそれらが十分な時間、十分な温度に加熱されそし て次に冷却されるアニーリング処理に付されたならば、水性または非水性マトリ ックスでの液体の分散液中での結晶構造物の形成および(または)成長が防止さ れることが出来る。好ましくは各々のアニーリング工程において、以下の条件が 満たされる:1)結晶の溶融点温度を超える;2)結晶を溶融させるのに十分な 時間が提供される;3)分散物は、次の製造(およびアニーリング)工程まで環 境への露出から保護される;そして4)アニーリング工程はフィルム形成および (または)積層化後にすみやかに始められる。このアニーリング法により処理さ れたフィルムおよび積層物は安定でありそして少なくとも90日間周囲の条件で の貯蔵後、結晶が存在しないままの状態であることが観察された。 この発明の好ましい態様は、経皮送り出しデバイスの製造に向けられている。 この発明に従って製造された経皮送り出しデバイスは、結晶が存在せずそしてそ の製品のために適用可能な仕様書内の放出速度を示すことが見い出された。この 発明は、スコポラミンの制御された送り出しのための経皮送り出しデバイスの製 造に関する特定の例に関して記載されるけれども、この発明は結晶構造物を形成 する可能性があるすべての液体薬剤の分散物の処理に適用されることが出来るこ とが認識されるべきである。 この好ましい態様に従えば、マトリックス中の液体の分散物並びに最終の積層 物およびパウチに入れられたシステムを含む、経皮治療システムのそれぞれのフ ィルムおよび積層物は、フィルムまたは積層物の形成直後にアニーリング処理に 付される。アニーリング処理は、大気へのフィルムの露出を最小にするためにフ ィルムを2つの非多孔質基材の間に置いた直後に行われる。このように処理され たフィルムまたは積層物は、環境へのアニーリングされたフィルムの露出がコン トロールされれば次の処理工程まで結晶成長に関して安定である。 スコポラミンを含有する経皮送り出しデバイスの製造に向けられた特に好まし い態様において、速度制御膜/接触接着剤フィルム、医薬液貯めフィルムおよび 最終積層物フィルムは2つの非多孔質基材の間で保護されそして積層化の直後に アニーリング処理に付されそして以後の結晶形成および成長を防止するために、 十分な時間、十分な温度に加熱されそして次に周囲の条件に冷却される。次に最 終積層物はそれぞれのシステムに切断され、密封された容器に入れられそして次 に追加のアニーリング工程に付される。 フィルムおよび積層物の形成は当業界に既知の任意の手段により達成されるこ とが出来る。この発明は種々のフィルムを形成するために溶媒キャスティング法 を使用する例に関して記載されるけれどもは、押し出しまたは反転ロールコーテ ィングのようなフィルムを形成するための他の方法がこの発明の実施において使 用されることが出来ることが認識されるべきである。例えば、もし押し出し方法 が種々のフィルムを形成するために使用されるならば、製造処理の配列に乾燥用 オーブンを使用することは必ずしも必要でなくそして押し出されたフィルムはア ニーリング用オーブン中に直接に進むかあるいは積層化段階に進み、その直後に この発明のアニーリング工程に進む。 フィルムおよび積層物のアニーリングは種々の手段により達成されることが出 来る。例えば、フィルムが溶媒キャスティングにより形成されるときは、アニー リングは初期フィルムを乾燥するために用いられる乾燥用オーブン中へもう一度 通過させることにより行われることが出来る。これは、フィルムの最後の部分が 最初にオーブンを出るときまでに、最初にオーブンを出たフィルムの部分が結晶 化し始めていないことを必要とする。別法として、フィルムキャスティングは、 すべてのフィルムまたはラミネートがキャスティングまたは積層化の2、3時間 内にアニーリングに付されるように小さい小口ロットに分けられてもよい。好ま しくは、アニーリングはフィルム形成および(または)積層化の直後に、列式 (in-line)で起こる。最も好ましくはアニーリング用オーブンは積層化段階の 直後に置かれる。 溶媒キャスティング法を用いる経皮送り出しデバイスの製造は、今から図面に 関連して記載される。医薬液貯め層の形成のための方法が図1に示される。医薬 液貯めのキャスティング溶液は供給源ロール11から供給された不透過性支持用 (backing)層21上にキャスティングされて不透過性支持用層上に医薬液貯め 層22からなるフィルムを形成する。そのフィルムは次に乾燥用オーブン20中 を通過して溶媒を蒸発させる。次に乾燥されたフィルムは積層化機30中を通過 し、そこで非多孔質介在(interleaving)層32が、医薬液貯め層22の表面に 適用される。次に積層物は図4において詳細に示される列式形(in-line)アニ ーリングオーブン40を通過する。アニーリングオーブンを出た後に、積層物は 積層化機の巻き取りロール31上に巻き取られる。 速度制御膜/接触接着剤層は図2に示された方法と同様な方法により形成され る。接触接着剤溶液51は剥離性ライナー50上にキャスティングされそして乾 燥用オーブン20中を通過する。次に、速度制御膜52は接触接着剤層の表面に 積層されそして非多孔質介在層53は速度制御膜の表面に積層される。次に積層 物は列式形アニーリング用オーブン40中を通過し、その後に積層化機の巻き取 りロール31上に巻き取られる。 最終積層物は図3に示されるとおりにして製造される。医薬液貯め積層物およ び速度制御膜/接触接着剤積層物ロールは積層化機において組み立てられる。介 在層53は速度制御膜/接触接着剤積層物から取り除かれそして介在層32は医 薬液貯め積層物から取り除かれて、速度制御膜52と医薬液貯め22とをそれぞ れ露出し、これらは次に一緒に積層されて最終積層物を形成する。不透過性剥離 性ライナー50、接触接着剤層51、速度制御膜52、医薬液貯め層22および 不透過性支持用層21からなる最終積層物は、次に列式形(in-line)アニーリ ングオーブン40中を通過し、その後に積層化機の巻き取りロール31上にもう 一度巻き取られる。最終の処理工程(図示せず)において、それぞれのシステム が最終積層物からダイス切断される。システムはそれぞれのパウチ(pouch)内 に入れられ、パウチは加熱密封されそしてパウチに入れられたシステムは、次に 最終アニーリング処理のために列式形アニーリング用オーブン中に入れられる。 図4は、より詳細にアニーリング用オーブン40を描いている。積層物は、最 初にアニーリング用オーブンに入り、そこで、それは積層物を直ちに加熱する加 熱化されたロール41と接触する。積層物はアイドラ(idler)ロール42およ びテンション(tension)ロール43上に通過しそして所定の温度に予め加熱さ れているアニーリング室44中に通過する。アニーリング室中の積層物の滞留時 間は積層物のために適当な線速度(line speed)を設定することにより調節され ることが出来る。アニーリング用オーブン40はまた、空気量調節ハンドル (air handler)45および点検窓(access door)46を備えている。 上記記載において見られるように、各々のフィルム形成用/積層用工程におい て、アニーリングが行われた後に、結晶種による追加の汚染が次の処理操作まで に可能でないように、接着剤は非多孔質基材間にサンドイッチされる。各々の中 間フィルムまたは積層物がアニーリングされた後は、大気に露出されない限り次 の操作まで生成物は安定である。 列式形アニーリング用オーブンの使用はそれぞれのフィルムおよび積層物をア ニーリングする別の方法にとって幾つかの利点を提供する。最初に、それはフィ ルム露出の時間を減少させるために小さな小口ロットに生産を分ける必要性を排 除して、はじめの全体のロット容量能力での生産を可能にする。そのような方法 はまた、一層有効にフィルム露出時間を減少させて瞬時の時間とする。さらに列 式形アニーリング用オーブンの使用はキャスティング用オーブンのより良好な使 用を可能にしそしてもし積層物が2度キャスティング用オーブン中に走行しなけ ればならなかったならば必要とされるような積層物の取り扱いの困難性を避ける 。この発明の列式アニーリング方法を用いて、フィルムがキャスティング用オー ブンを出てそしてアニーリング用オーブンに入る時間の間にほんの数秒だけが経 過し、結晶形成および(または)成長のために利用されるすべての時間を排除す ることにより結晶成長速度に有効に打ち勝つので、結晶形成のより良好な防止が 観察される。 温度および時間は、それらが冷却後に結晶の形成を防止するために適当であり そして各々のフィルムまたは積層物に損傷を起こさせるほどに高くないことを条 件として、臨界的ではない。もし結晶が初期に存在するならば、温度は結晶の融 点温度、そして好ましくはそれ以上でなければならずそして時間は存在するすべ ての結晶を溶融させるのに十分であるべきである。もし結晶が加熱工程の時間で 存在しなければ、結晶の融点より低い温度も有効であろう。しかし、結晶形成を 防止することが望まれる、結晶の融点以上に加熱することが、品質確保および処 理条件の均一性の点から好ましい。 スコポラミン含有経皮治療システムの製造中にスコポラミン結晶の形成の防止 に向けられているこの発明の好ましい態様において、それぞれのそして最終の積 層物が加熱される温度は、2〜10分の持続時間の間、75〜90℃の範囲内が 好ましい。最終のパウチに入れられたシステムは、4〜24時間の期間にわたっ て75℃の温度に加熱されるのが好ましい。他の材料のための実際の温度は、結 晶の融点を測定することにより容易に決定される。 かくして、本発明を一般的に記載したが、以下の特定の例は本発明を例示する ために提供される。それらの例はどんなやり方であっても本発明の範囲を限定す ることが意図されない。他のように示さない限り、部は重量による。例 1: スコポラミン塩基溶液の製造 水性重炭酸ナトリウム−炭酸ナトリウム緩衝溶液中にスコポラミン臭化水素酸 塩を溶解することによりスコポラミン塩基を形成した。約9.6のpHに到達す るまで水酸化ナトリウムを加え、この点でスコポラミン塩基が溶液から沈殿しそ してクロロホルムで抽出された。キャスティング溶液の製造 20.0部の高分子量PIB(Vistanex L−100:1,200, 000粘度平均分子量)、26.1部の低分子量PIB(Vistanex L M−MS:35,000粘度平均分子量)、41.7部の鉱油(25℃で1 0cp)および11.3部のスコポラミン塩基を、ミキサー中のクロロホルム中 に溶解して医薬液貯めフィルムを形成するのに使用される医薬液貯めキャスティ ング溶液を造った。 接触接着剤キャスティング溶液を造るために、23.1部の前記高分子量PI B、28.8部の前記低分子量PIB、46.1部の前記鉱油および2.0部の 前記スコポラミン塩基の溶液をミキサー中のクロロホルムに溶解した。フィルムおよび積層物の製造 次に、医薬液貯めのキャスティング溶液を溶媒キャスティングしてアルミニウ ムメッキされたポリエチレンテレフタレート(ScotchpakR)の約65マイクロメ ーターの支持材(backing)上に約50マイクロメーター乾燥厚さに医薬液貯め フィルムを形成した。医薬液貯めフィルムをオーブン中に通過させてクロロホル ムを蒸発させ、支持用基材上に医薬含有接着剤フィルムを後に残した。オーブン を出た後に、フィルムを積層化機に移動させ、そこで、介在フィルム (interleaving film)を適用した。次に、積層化機の直後に置かれた第2オー ブン中に積層物を通過させ、そこで、積層物を9〜10分間80〜85℃の温度 に加熱した。その後、積層物を積層化機上の巻き取りロールに戻した。 75マイクロメーターの珪素処理されたポリエチレンテレフタレートフィルム 上に、接触接着剤キャスティング溶液の50マイクロメーター乾燥厚さの接着剤 層を溶媒キャスティングすることにより速度制御膜/接触接着剤積層物を同様に 造った。キャスティングの後に、フィルムをオーブン中に通過させてクロロホル ム溶媒を蒸発させ、剥離性ライナー上に医薬含有接着剤を後に残した。このフィ ルムを積層化機に移動させ、そこで、鉱油で飽和された細孔を有する微細孔質ポ リプロピレン速度制御膜を、接着剤表面に積層した。制御膜の上面を保護するた めに介在(Interleaving)フィルムを加えそしてその直後に全体の積層物を第2 オーブン中に導入しそして5〜6分間80〜85℃の温度に加熱した。 速度制御膜/接触接着剤積層物の速度制御膜表面を、次に医薬液貯め積層物の 医薬液貯め表面に積層して最終積層物を製造した。次にこの最終積層物を積層化 機の直後のアニーリング用オーブン中にまた通過させそして約2分間80〜85 ℃の温度に加熱した。得られた5層積層物から、2.5cm2円板形システムを パンチ切断した。次に各々のシステムを加熱密封されたホィル内張りのパウチ中 に包入した。次にそのパウチを4〜24時間75℃に、追加のアニーリング用オ ーブン中で加熱しそして周囲の条件に冷却させることにより処理した。 本発明に従って造られたシステムの中には結晶を含有することが観察されたシ ステムはなかった。さらに、本発明に従って造られたシステムは製品のために適 用出来る仕様書内の放出速度を示した。 かくして本発明を記載したが、本発明の範囲を離れることなしに種々の変更を 当業者により行うことが出来ることは容易に明らかであろう。本発明は以下の請 求の範囲内のこれらの均等性事項を包含することが意図される。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (81)指定国 EP(AT,BE,CH,DE, DK,ES,FI,FR,GB,GR,IE,IT,L U,MC,NL,PT,SE),OA(BF,BJ,CF ,CG,CI,CM,GA,GN,ML,MR,NE, SN,TD,TG),AP(KE,LS,MW,SD,S Z,UG),UA(AM,AZ,BY,KG,KZ,MD ,RU,TJ,TM),AL,AM,AT,AU,AZ ,BB,BG,BR,BY,CA,CH,CN,CZ, DE,DK,EE,ES,FI,GB,GE,HU,I L,IS,JP,KE,KG,KP,KR,KZ,LK ,LR,LS,LT,LU,LV,MD,MG,MK, MN,MW,MX,NO,NZ,PL,PT,RO,R U,SD,SE,SG,SI,SK,TJ,TM,TR ,TT,UA,UG,UZ,VN

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1. a)フィルム形成または積層化の直後に、マトリックス中の下記液体医 薬の分散物を含む経皮送り出しデバイスの各々それぞれのフィルムまたは積層物 を所定の温度に加熱し; b)すべてのフィルムまたは積層物中での結晶構造物の形成および(または) 成長を防止するのに十分な時間の期間、その所望の温度で各々のフィルムまたは 積層物を維持し;そして c)各々のフィルムまたは積層物を周囲の条件に冷却させる、 ことを包含する、結晶構造物を形成する可能性がある液体医薬の経皮投与のため の送り出しデバイスを製造するための改良された方法。 2. マトリックス中の前記液体医薬の各々の分散物が、加熱の前に2つの非 多孔質基材の間に置かれる工程を提供することをさらに含む、請求項1に記載の 方法。 3. c)それぞれのフィルムまたは積層物を積層して最終積層物を形成し; d)積層化直後に、該最終積層物を前記所定の温度に加熱しそして最終積層物 中に結晶構造物の形成および(または)成長を防止するのに十分な時間の期間、 該最終積層物をその温度に維持し;そして e)該最終積層物を周囲の条件に冷却させる; 工程をさらに含む、請求項2に記載の方法。 4. e)前記最終積層物からサブユニットを切断しそして送り出しデバイス を形成し; f)密封された容器中に前記送り出しデバイスを包入し; g)前記容器中の該デバイスを所定の温度に加熱しそしてデバイス中での結晶 構造物の形成および(または)成長を防止するのに十分な時間の期間その温度に 該デバイスを維持し;そして h)密封されたデバイスを周囲の条件に冷却させる; 諸工程をさらに含む、請求項3に記載の方法。 5. 所定の温度が結晶構造物の融点以上でありそして時間の期間が分散物中 に存在するすべての結晶を溶融するのに十分である、請求項3に記載の方法。 6. デバイスが、不透過性支持用薄層、医薬液貯め層、放出速度制御層およ び接着剤層および剥離性ライナー層を含みそして前記分散物が前記医薬液貯め層 を形成する、請求項1に記載の方法。 7. 分散物が前記接着剤層を形成する、請求項6の方法。 8. 医薬がスコポラミンである、請求項2の方法。 9. 所定の温度が75〜90℃の範囲内でありそして時間の期間が2〜10 分である、請求項8の方法。 10. 液体医薬がスコポラミンでありそして容器内に封入されたデバイスが 約4〜24時間の期間、約75℃の温度に加熱される、請求項4の方法。 11. a)マトリックス中に液体医薬の分散物を含む各々それぞれのフィル ムまたは薄層の積層物を形成し、形成または積層化の直後に、所定の温度に加熱 し; b)すべてのフィルムまたは薄層中の結晶構造物の形成および(または)成長 を防止するのに十分な時間の期間、各々のフィルムまたは薄層を該所望の温度に 維持し;そして c)各々のフィルムまたは薄層を周囲の条件に冷却させる; ことを含む、マトリックス内に分散された液体医薬の結晶構造物の形成を防止す る方法。 12. マトリックス中の前記液体医薬の各々の分散液が、加熱のまえに、2 つの非多孔質基剤の間に置かれる工程を提供することをさらに含む、請求項11 に記載の方法。 13. 所定の温度が結晶構造物の融点以上でありそして時間期間が分散物中 に存在するすべての結晶を溶融するのに十分である、請求項12に記載の方法。 14. a)医薬液貯め/支持用フィルムを形成し、前記医薬液貯めは結晶構 造物を形成する可能性がある液体医薬を含み; b)医薬液貯め/支持用フィルムの形成直後に、該医薬液貯め/支持用フィル ムが結晶構造物の形成および(または)成長を防止するのに十分な時間の期間、 所定の温度に加熱されそしてその後に周囲の条件に冷却される第1のアニーリン グ工程を行い; c)接触接着剤/剥離性ライナーフィルムを形成し、前記接触接着剤は結晶構 造物を形成する可能性がある液体医薬を含み; d)接触接着剤/剥離性ライナーフィルムの形成直後に、該接触接着剤/剥離 性ライナーフィルムが結晶構造物の形成および(または)成長を防止するのに十 分な時間の期間、所定の温度に加熱されそしてその後、周囲の条件に冷却される 第2のアニーリング工程を行い; e)医薬液貯め/支持用フィルムの医薬液貯め表面を、接触接着剤/剥離性ラ イナーフィルムの接触接着剤表面に積層して最終積層物を形成し; f)最終積層物の形成直後に、最終積層物が所定の温度に加熱され、そして最 終積層物中に結晶構造物の形成および(または)成長を防止するのに十分な時間 の期間、その温度に維持しそしてその後、最終積層物を周囲の条件に冷却させる 第3のアニーリング工程を行う; ことを包含する、結晶構造物を形成する可能性がある液体医薬の経皮投与のため の送り出しデバイスを製造する改良された方法。 15. 前記第1のアニーリング工程のまえに、前記医薬液貯め/支持用フィ ルムの医薬液貯め表面上に非多孔質基剤を置き; 前記接触接着剤/剥離性ライナーの接触接着剤表面上に、非多孔質基材を置 き;そして 前記医薬液貯め/支持用フィルムからそして前記接触接着剤/剥離性ライナー フィルムから非多孔質基剤を取り除き、その後に医薬液貯め/支持用フィルムの 医薬液貯め表面を、接触接着剤/剥離性ライナーフィルムの接触接着剤表面に積 層して最終積層物を形成する; 工程をさらに含む、請求項14に記載の方法。 16. 所定の温度が結晶構造物の融点以上でありそして時間の期間が分散液 中に存在する全ての結晶を溶融するのに十分である、請求項15に記載の方法。 17. 前記最終積層物から、サブユニットを切断しそして送り出しデバイス を形成し: 密封された容器中に前記送り出しデバイスを包入し: 前記容器中の該デバイスを所定の温度に加熱しそして該デバイス中での結晶構 造物の形成および(または)成長を防止するのに十分な時間の期間その温度に該 デバイスを維持し;そして 密封されたデバイスを周囲の条件に冷却させる; 工程をさらに含む、請求項16に記載の方法。 18. 前記第2のアニーリング工程のまえに、接触接着剤/剥離性ライナー フィルムの接触接着剤表面に速度制御膜を積層して、速度制御膜/接触接着剤/ 剥離性ライナー積層物を形成する工程をさらに含む、請求項14に記載の方法。 19. 前記第1のアニーリング工程のまえに、前記医薬液貯め/支持用フィ ルムの医薬液貯め表面上に非多孔質基材を置き; 前記第2のアニーリング工程のまえに、速度制御膜の表面上に非多孔質基材を 置き;そして 前記医薬液貯め/支持用フィルムからそして前記速度制御膜/接触接着剤/剥 離性ライナー積層物から、非多孔質基材を取り除き;そして 速度制御膜/接触接着剤/剥離性ライナー積層物の速度制御膜の表面に、医薬 液貯め/支持用フィルムの医薬液貯め表面を積層して最終積層物を形成する; 工程をさらに含む、請求項18に記載の方法。 20. 所定の温度が結晶構造物の融点以上でありそして時間の期間が分散液 中に存在する全ての結晶を溶融するのに十分である、請求項19に記載の方法。 21. 前記最終積層物からサブユニットを切断しそして送り出しデバイスを 形成し; 密封された容器内に前記送り出しデバイスを包入し; 前記容器内の該デバイスを所定の温度に加熱しそしてデバイス中での結晶構造 物の形成および(または)成長を防止するのに十分な時間の期間その温度で該デ バイスを維持し;そして 密封されたデバイスを周囲の条件に冷却させる; 工程をさらに含む、請求項20に記載の方法。 22. 速度制御膜が、鉱油で飽和された微細孔質ポリプロピレン膜である、 請求項18に記載の方法。 23. 液体医薬がスコポラミン塩基である、請求項21に記載の方法。 24. 第1、第2および第3のアニーリング工程における所定の温度が約7 5〜90℃でありそして時間の期間が約2〜10分である、請求項23に記載の 方法。 25. 容器内に封入されたデバイスが約4〜24時間の期間、約75℃の温 度に加熱される、請求項24に記載の方法。 26. 請求項1、14または25のいずれか1項に記載の方法により製造さ れた、スコポラミンの経皮投与のための医薬送り出しデバイス。
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