JP2000356775A - 液晶表示素子とその製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 配向の乱れが生じない液晶表示装置を提供す
る。 【解決手段】 上部基板と、下部基板と、ここで、上部
基板と下部基板の少なくとも一方は透明基板であり、上
部基板の下部基板との対向面上に設けられた上部電極
と、下部基板の上部基板との対向面上に設けられた下部
電極と、ここで、上部電極と下部電極のうち、透明基板
上に設けられた電極の少なくとも一方は透明であり、上
部電極と下部電極間に保持された液晶と、下部基板の上
部基板との対向面上に設けられた走査電極線と信号電極
線と、下部電極への電圧の印加を制御するためのスイッ
チング素子と、ここで、スイッチング素子による下部電
極への電圧の印加は、走査電極線と信号電極線への電圧
の印加によって制御されており、上部基板の下部基板と
の対向面上であって、走査電極線または信号電極線上に
設けられた上部電極と同電位の導電性凸部からなる液晶
表示素子を提供する。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、液晶表示素子およ
びその製造方法に関し、さらに詳しくは、広視野角であ
って、内部の液晶の配向の乱れを減少させることが可能
な液晶表示素子およびその製造方法に関する。

【０００２】

【従来の技術】近年、液晶表示装置が普及しつつある。
液晶表示装置は、ＣＲＴ（Ｃａｔｈｏｄｅ Ｒａｙ Ｔ
ｕｂｅ）と比べて、薄形である、設置面積が少ないとい
う利点を有する。

【０００３】近年の液晶表示装置は、画像品位の点でＣ
ＲＴ（Ｃａｔｈｏｄｅ Ｒａｙ Ｔｕｂｅ）に比べて遜
色が無い。しかし、視野角という点で、液晶表示装置は
ＣＲＴと比べると視野角が狭い。従って、視野角を拡大
する事が、液晶表示装置における重要な課題となってい
る。

【０００４】ここで、視野角の拡大を目的とする技術と
して、「広視野を目的として、液晶の配向方向が異なる
領域を複数設けた液晶表示素子を用いること」が考えら
れている。ここで、液晶表示素子とは液晶表示装置を構
成する各画素を示す。このような従来技術の液晶表示素
子として以下のもの等が開示されている。特公昭５８−
４３７２３号公報に開示されている「液晶素子」。特開
昭５９−２１１０１９号公報に開示されている「液晶表
示装置」。特開昭６３−１０６６２４号公報（特許第２
６９２６９３号公報）に開示されている「液晶表示パネ
ル」。

【０００５】上記の公報群の中で特開昭６３−１０６６
２４号公報に開示されている「液晶表示パネル」を従来
例として、従来技術の説明を行う。

【０００６】図１５は、この従来例による液晶表示装置
の平面図を示す。図１５は、特開昭６３−１０６６２４
号公報に記載されている第１図に相当する図である。図
１７は、特開昭６３−１０６６２４号公報に記載の第３
図に相当する図である。図１７は、図１５のＣ−Ｃ’線
断面図であって、この従来例による液晶表示装置におけ
る１つの画素、すなわち、液晶表示素子の断面図を示
す。

【０００７】図１５，１７を参照して、この従来例によ
る液晶表示装置の構成を説明する。

【０００８】下部ガラス基板１２２上には画素単位の表
示用下部透明電極１２０、下部配向膜１１０と、この透
明電極１２０を駆動する薄膜トランジスタ１１３とが形
成されている。

【０００９】上部ガラス基板１２１上には表示用上部透
明電極１１１、上部配向膜１０９が形成されている。両
配向膜１０９，１１０は共にポリイミドで形成されてい
る。

【００１０】対向する透明電極１１１，１２０間に形成
される画素Ｂは、例えば縦横２００μｍの正方形であ
り、マトリックス状に複数配列されている。この画素Ｂ
を形成する表示用の透明電極の中央部に、ポリイミドか
らなる帯状スペーサ１２３が設けられている。この結
果、各画素Ｂは、帯状スペーサ１２３によって、領域Ｘ
１３１と領域Ｙ１３２に分割される。この分割された領
域Ｘ１３１と領域Ｙ１３２は、模式的には図１６（特開
昭６３−１０６６２４号公報に記載の第２図に相当する
図）に示すように形成される。即ち、上部ガラス基板１
２１と対向する下部ガラス基板１２２にそれぞれに示す
矢印方向にラビング処理する。

【００１１】この従来例による液晶表示装置での視角依
存性の改善効果を説明するために、図１６の観察方向を
方位角方向で４５°変えた時のラビング方向及び上下基
板間での液晶配向の捻じれ方向を示す平面透視図を図１
８に示す。図１８には、分割された領域Ｘ１３１、分割
された領域Ｙ１３２、第１の基板でのラビング方向１３
１１，１３１２、第２の基板でのラビング方向１３１
２，１３２２と、上下基板間での液晶配向の捻じれ角１
２７が示されている。

【００１２】更に図１８をｂ−ｂ’線方向に添って切断
した、基板表面での配向規制力の立ち上がり方向及び上
下基板間での液晶配向の電界による立ち上がり方向を示
す断面図を図１９に示す。図１９には、液晶物質１０
５、電界による液晶配向の立ち上がり方向１０６、上部
ガラス基板１２１、下部ガラス基板１２２、領域Ｘ１３
１、領域Ｙ１３２が示されている。

【００１３】この従来例では、分割された各々の領域で
の液晶配向は、図１８に示すように、螺旋型の捻じれ
（ツイストとも呼ばれる）の向きは同じ向きであるが、
図１９に示すように、基板表面に対する角度（プレチル
ト角とも呼ばれる）の方向が異なっている。基板表面に
対する角度の違いにより、電圧印加時には液晶分子の立
ち上がり方向１０６（チルト方向とも呼ばれる）が、図
１８で示すように異なるため、光が基板に対する鉛直方
向から傾いた斜め方向より入射する場合に、各々の領域
が互いの光学特性を補償しあう。その結果、電圧印加時
における視角依存性は上下基板間の各画素内の配向の異
なる領域同士で相殺され、視角依存性の少ない光学特性
が得られる。特に、階調表示時に視角を変化しても階調
反転の現象が見られなくなっている。

【００１４】また、この従来例と同様の原理に基づき、
この従来例より工程数が少ない従来例として、アメリカ
合衆国のエスアイディー’９２ダイジェスト（ＳＩＤ’
９２Ｄｉｇｅｓｔ）７９８頁に示されているものや、日
本のジャパンディスプレイ’９２ダイジェスト（Ｊａｐ
ａｎ Ｄｉｓｐｌａｙ’９２ Ｄｉｇｅｓｔ）５９１頁
に示されているもの、更にアメリカ合衆国のエスアイデ
ィー’９３ダイジェスト（ＳＩＤ’９３ Ｄｉｇｅｓ
ｔ）２６９頁に示されているもの等がある。

【００１５】これらの例では上記の従来例と同様に、分
割された各々の領域での液晶配向は螺旋型の捻れの向き
は同じであるが、基板表面に対する角度が異なってい
る。しかし、上記の従来例と異なる点は、基板表面で液
晶に与える配向規制力の方向やその角度の大小の構成で
ある。

【００１６】これらの例と上記の従来例との違いを明確
にするために、これらの３種類の従来例についてもラビ
ング方向及び上下基板間での液晶配向の捻じれ方向を示
す平面透視図と、基板表面での配向規制力の立ち上がり
方向及び上下基板間での液晶配向の電界による立ち上が
り方向を示す断面図をそれぞれ示す。

【００１７】図２０は、アメリカ合衆国のエスアイディ
ー’９２ダイジェスト（ＳＩＤ’９２ Ｄｉｇｅｓｔ）
７９８頁に示されている従来例でのラビング方向及び上
下基板間での液晶配向の捻じれ方向を示す平面透視図で
ある。図２１は、図２０のｃ−ｃ’線断面図であって、
基板表面での配向規制力の立ち上がり方向及び上下基板
間での液晶配向の、電界による立ち上がり方向を示す。

【００１８】図２０と図２１で示される液晶表示素子を
説明する。図２０を参照すると、この平面透視図には、
分割された領域Ｘ１３１、分割された領域Ｙ１３２、上
部ガラス基板上の領域Ｘでのラビング方向１３１１、下
部ガラス基板上の領域Ｙでのラビング方向１３１２、上
部ガラス基板上の領域Ｘでのラビング方向１３２１、下
部ガラス基板上の領域Ｙでのラビング方向１３２２、液
晶配向の捻じれ角１２７が示されている。また、図２１
を参照すると、この断面図には、上部ガラス基板１２
１、下部ガラス基板１２２、分割された領域Ｘ１３１、
分割された領域Ｙ１３２、液晶物質１０５、領域Ｘでの
電界による液晶配向の立ち上がり方向１０６ａ、領域Ｙ
での電界による液晶配向の立ち上がり方向１０６ｂが示
されている。

【００１９】この例では、上基板のラビング方向は１種
類、下基板のラビング方向は１種類であり、上下の基板
とも領域Ｘ１３１と領域Ｙ１３２で材料を変えている。
これにより図２１に示すように、領域Ｘ１３１では下部
ガラス基板１２２での液晶の基板表面に対する角度は上
部ガラス基板１２１での角度より高く、領域Ｙ１３２で
は下部ガラス基板１２２での液晶の基板表面に対する角
度は上部ガラス基板１２１での角度より低い。その結
果、この素子への電圧印加時における、領域Ｘ１３１で
の電界による液晶配向の立ち上がり方向１０６ａは、下
部ガラス基板１２２での配向規制力の方向を示し、領域
Ｙ１３２での電界による液晶配向の立ち上がり方向１０
６ｂは、上部ガラス基板１２１での配向規制力の方向を
示す。

【００２０】図２２は、日本のジャパンディスプレイ’
９２ダイジェスト（Ｊａｐａｎ Ｄｉｓｐｌａｙ’９２
Ｄｉｇｅｓｔ）５９１頁に示されている従来例でのラ
ビング方向、及び上下基板間での液晶配向の捻じれ方向
を示す平面透視図である。図２３は、図２２のｄ−ｄ’
断面図であって、基板表面での配向規制力の立ち上がり
方向及び上下基板間での液晶配向の電界による立ち上が
り方向を示す。

【００２１】図２２と図２３で示される液晶表示素子を
説明する。図２２を参照すると、この平面透視図には、
分割された領域Ｘ１３１、分割された領域Ｙ１３２、上
部ガラス基板上の領域Ｘでのラビング方向１３１１、下
部ガラス基板上の領域Ｙでのラビング方向１３１２、上
部ガラス基板上の領域Ｘでのラビング方向１３２１、下
部ガラス基板上の領域Ｙでのラビング方向１３２２、液
晶配向の捻じれ角１２７が示されている。また、図２３
を参照すると、この断面図には、上部ガラス基板１２
１、下部ガラス基板１２２、分割された領域Ｘ１３１、
分割された領域Ｙ１３２、液晶物質１０５、電界による
液晶配向の立ち上がり方向１０６が示されている。

【００２２】この例では、上基板のラビング方向は１種
類、下基板のラビング方向は２種類である。また、図２
３に示すように下基板の液晶の基板表面に対する角度は
上基板の角度より領域Ｘ１３１、領域Ｙ１３２とも高
く、下基板の領域Ｘ１３１と領域Ｙ１３２の配向規制力
の方向が異なっている。その結果、この素子への電圧印
加時における、領域Ｘ１３１、領域Ｙ１３２での電界に
よる液晶配向の立ち上がり方向１０６は、下部ガラス基
板１２２での配向規制力の方向を示す。

【００２３】図２４は、アメリカ合衆国のエスアイディ
ー’９３ダイジェスト（ＳＩＤ’９３ Ｄｉｇｅｓｔ）
２６９頁に示されている従来例でのラビング方向、及び
上下基板間での液晶配向の捻じれ方向の平面透視図であ
る。図２５は、図２４のｅ−ｅ’断面図であって、基板
表面での配向規制力の立ち上がり方向及び上下基板間で
の液晶配向の電界による立ち上がり方向を示す。

【００２４】図２４と図２５で示される液晶表示素子を
説明する。図２４を参照すると、この平面透視図には、
分割された領域Ｘ１３１、分割された領域Ｙ１３２、上
部ガラス基板上の領域Ｘでのラビング方向１３１１、下
部ガラス基板上の領域Ｙでのラビング方向１３１２、上
部ガラス基板上の領域Ｘでのラビング方向１３２１、下
部ガラス基板上の領域Ｙでのラビング方向１３２２、液
晶配向の捻じれ角１２７が示されている。また、図２５
を参照すると、この断面図には、上部ガラス基板１２
１、下部ガラス基板１２２、分割された領域Ｘ１３１、
分割された領域Ｙ１３２、液晶物質１０５、電界による
液晶配向の立ち上がり方向１０６が示されている。

【００２５】この例では、上基板のラビング方向は１種
類、下基板でのラビング方向は１種類であり、また、上
下の基板での液晶の基板表面に対する角度は同じであ
る。しかし、それぞれの領域での配向規制力の方向が上
下基板１２１，１２２で異なり、この素子への電圧無印
加時には中央部の液晶配向が水平に保たれ、この素子へ
の電圧印加時には図中に示した斜め方向の電界により液
晶配向の立ち上がり方向１０６が決定される。

【００２６】これら３種類の従来例では、図２０から図
２５に示したように構造の工夫により上記の従来例より
工程数が低減されている。しかし、どの方法でも、電圧
印加時には液晶分子の立ち上がる方向が、図２１、図２
３、図２５に示すように各領域で異なるため、光が基板
に対する鉛直方向から傾いた斜め方向より入射する場合
に各々の領域が互いの光学特性を互いに補償しあう。そ
の結果、電圧印加時における視角依存性は上下基板間の
各画素内の配向の異なる領域同士で相殺され、視角依存
性の少ない光学特性が得られる。

【００２７】一方、通常のＴＮ（ツイステッドネマチッ
ク）型液晶表示モードを用いた薄膜トランジスタ型液晶
ディスプレイにおいて、対向側基板の画素電極にスリッ
トを入れる事により液晶配向を制御した従来例として、
コンファレンス・レコード・オブ・ザ・１９９１・イン
ターナショナル・ディスプレイ・リサーチ・コンファレ
ンス（Ｃｏｎｆｅｒｅｎｃｅ Ｒｅｃｏｒｄ ｏｆ ｔ
ｈｅ １９９１ Ｉｎｔｅｒｎａｔｉｏｎａｌ Ｄｉｓ
ｐｌａｙ Ｒｅｓｅａｒｃｈ Ｃｏｎｆｅｒｅｎｃｅ）
２３９頁に示されている液晶表示装置を次に示す。

【００２８】この従来例の液晶表示素子（すなわち一画
素）の一部の断面図を図２６（当該資料の第１図（ｂ）
に相当する図）に、横方向電界の状態を表わす図を図２
７（当該資料の第７図（ａ）に相当する図）に示す。ま
た、通常のＴＮ型で用いられている液晶表示素子（すな
わち一画素）の一部の断面図を図２８（当該資料の第１
図（ａ）に相当する図）に、電界の状態を表わす図を図
２９（当該資料の第７図（ｂ）に相当する図）に示す。

【００２９】図２６と図２７で示される液晶表示素子を
説明する。図２６を参照すると、この断面図には、上部
ガラス基板２２１、下部ガラス基板２２２、信号電極線
２１５、下部透明電極（画素電極）２２０、上部透明電
極（対向電極）２１９、ブラックマスク２３１、カラー
層２３２、オーバーコート２３３、下部窒化シリコン膜
２０４、上部窒化シリコン膜２４１が示されている。

【００３０】上部ガラス基板２２１には、下部ガラス基
板２２２に対向する向きに、光を遮断するブラックマス
ク２３１、通過する光を所定の色の光にするためのカラ
ー層２３２、ブラックマスク２３１とカラー層２３２を
保護するオーバーコート２３３、対向電極２１９が設け
られている。

【００３１】下部ガラス基板２２２には、上部ガラス基
板２２１に対向する向きに、信号電極線２１５、下部ガ
ラス基板２２２と信号電極線２１５を覆う下部シリコン
窒化膜２０４、その下部シリコン窒化膜２０４上に設け
られた画素電極２２０、全体を覆う上部シリコン窒化膜
２４１が設けられている。

【００３２】図２７を参照すると、図２６で示される構
造を有する液晶表示素子への電圧印加時に発生する電界
２０２が示される。

【００３３】また、図２８と図２９で示される通常のＴ
Ｎ型の液晶表示素子を説明する。図２８を参照すると、
この断面図には、上部ガラス基板２２１、下部ガラス基
板２２２、信号電極線２１５、下部透明電極（画素電
極）２２０、上部透明電極（対向電極）２１９、ブラッ
クマスク２３１、カラー層２３２、オーバーコート２３
３、下部窒化シリコン膜２０４、上部窒化シリコン膜２
４１が示されている。

【００３４】上部ガラス基板２２１には、下部ガラス基
板２２２に対向する向きに、光を遮断するブラックマス
ク２３１、通過する光を所定の色の光にするためのカラ
ー層２３２、ブラックマスク２３１とカラー層２３２を
保護するオーバーコート２３３、対向電極２１９が設け
られている。

【００３５】下部ガラス基板２２２には、上部ガラス基
板２２１に対向する向きに、信号電極線２１５、下部ガ
ラス基板２２２と信号電極線２１５を覆う下部シリコン
窒化膜２０４、その下部シリコン窒化膜２０４上に設け
られた画素電極２２０、全体を覆う上部シリコン窒化膜
２４１が設けられている。

【００３６】図２９を参照すると、図２８で示される構
造を有する液晶表示素子への電圧印加時に発生する電界
２０２が示される。

【００３７】図２６と図２７で示される本従来例では、
画素電極と走査電極線や信号電極線等の配線電極との間
に生じる横方向の電界による発生するディスクリネーシ
ョンと呼ばれる液晶配向の乱れを減少させることが可能
である。

【００３８】ここで、上記に示す従来例における第１の
問題点は、配線電極と画素電極間の横方向電界によるデ
ィスクリネーションと呼ばれる配向の乱れが発生する点
である。その理由は、走査電極線や信号電極線等の配線
電極の電位の影響が大きく、この横方向の電界により液
晶配向が変化するためである。また、このディスクリネ
ーションを減少させるために、図２６で示されるように
対向電極をパターニングしてスリットを設ける必要があ
った。

【００３９】また、上記に示す従来例における第２の問
題点は、指で押さえたりペンで押し付けたりという外部
からの力が加えられると容易に配向が乱れ、分割配向が
崩れたり欠陥が生じる点である。

【００４０】その理由は、機械的強度がなく、素子へ加
えられる圧力により容易にセルギャップが変化し、液晶
配向の変化を起こさせるためである。

【００４１】また、その他の課題としては、配向が異な
る領域を複数設けて広い視野角を得る配向の領域分割が
容易に実現されないという点がある。

【００４２】他に、液晶表示素子に関連する過去の特許
出願に、以下のものが挙げられる。

【００４３】特開平７−１０４２８２号公報に、「液晶
表示装置およびその製造方法」という発明が開示されて
いる。この発明は、液晶領域が高分子材料によって区切
られ、液晶領域内の液晶あるいは高分子材料が配向状態
により種々のモードの液晶、または液晶領域が画素内で
軸対称に配向しているモードの液晶が表示駆動される液
晶表示装置及びその製造方法を提供する。

【００４４】この液晶装置は、それぞれ電極を有し、少
なくとも１方が透光性である一対の基板間に配置され、
高分子材料に区切られた複数の液晶領域と、少なくとも
一方の基板表面と、その基板表面上に形成されている電
極との間に配置され、透過光強度を変化させて入射光を
調光し、層厚が局所的に異なる調光層とを備え、その一
対の基板の各表面上の電極の間隔が、調光層の層厚の変
化に対応して変化している。このことによって、機械的
強度が向上され、視野特性、コントラスト及び色再現性
が向上されている。

【００４５】特開平７−３３３６１２号公報に、「液晶
表示装置」という発明が開示されている。この発明は、
光透過率の角度依存性を平均化して視野角の広い液晶表
示装置を提供するものである。この液晶表示装置は、表
面に透明電極とその透明電極上に配向膜を有する一対の
対向する基板と、その基板間に封入された液晶からなる
液晶層とを有し、透明電極に電圧を印加していない状態
で、液晶層の厚さ方向に直交する面内にて、液晶分子の
配向方向がほぼ一定の第１の液晶領域と、その第１の液
晶領域と液晶分子の配向方向が異なる第２の液晶領域を
有する。この２つの領域は、少なくとも一方の基板上に
設けられた配向膜に凹凸を設けることによって実現され
る。

【００４６】

【発明が解決しようとする課題】本発明の第１の目的
は、横方向電界の影響により生ずる、ディスクリネーシ
ョン等の配向の乱れが生じない液晶表示装置を提供する
ことである。

【００４７】本発明の第２の目的は、外力によって分割
配向の崩れが生じない液晶表示装置を提供することであ
る。

【００４８】本発明の第３の目的は、配向領域分割型液
晶表示装置を提供することである。

【００４９】

【課題を解決するための手段】上記の課題を解決するた
めに、本発明によると、上部基板と、下部基板と、ここ
で、上部基板と下部基板の少なくとも一方は透明基板で
あり、上部基板の下部基板との対向面上に設けられた上
部電極と、下部基板の上部基板との対向面上に設けられ
た下部電極と、ここで、上部電極と下部電極のうち、透
明基板上に設けられた電極の少なくとも一方は透明であ
り、上部電極と下部電極間に保持された液晶と、下部基
板の上部基板との対向面上に設けられた走査電極線と信
号電極線と、下部電極への電圧の印加を制御するための
スイッチング素子と、ここで、スイッチング素子による
下部電極への電圧の印加は、走査電極線と信号電極線へ
の電圧の印加によって制御されており、上部基板の下部
基板との対向面上であって、走査電極線または信号電極
線上に設けられた上部電極と同電位の導電性凸部からな
る液晶表示素子を提供する。

【００５０】上記の液晶表示素子において、導電性凸部
は、上部基板の下部基板との対向面上であって、走査電
極線または信号電極線上に設けられた凸部と、凸部を覆
う上部電極の一部からなることが可能である。

【００５１】上記の液晶表示素子において、導電性凸部
は、上部透明基板の下部基板との対向面上に設けられた
凸部と、凸部の側面に設けられた上部透明電極の一部か
らなることが可能である。

【００５２】上記の液晶表示素子において、凸部は、上
部透明基板の下部基板との対向面上に積層されたカラー
フィルタまたは透明樹脂からなることが可能である。

【００５３】上記の液晶表示素子において、導電性凸部
の幅は、走査電極線または信号電極線の線幅に対して、
実質的に等しい、またはより広いことを特徴とすること
が可能である。

【００５４】上記の液晶表示素子において、走査電極線
と信号電極線を覆い、導電性凸部と接触する下部絶縁膜
をさらに有することが可能である。

【００５５】上記の液晶表示素子において、上部電極と
下部電極の少なくとも一方は、導電性凸部と異なり、液
晶の配向を分割するための突起部をさらに有することが
可能である。

【００５６】上記の液晶表示素子において、上部電極と
下部電極の少なくとも一方は、液晶の配向を分割するた
めの非導電性孔部をさらに有することが可能である。

【００５７】上記の液晶表示素子において、走査電極線
と信号電極線のいずれかと導電性凸部が電気的に接続し
ていることが可能である。

【００５８】上記の液晶表示素子において、走査電極線
と信号電極線のいずれかの上部に設けられた導電性接触
部をさらに有し、導電性凸部と導電性接触部とが接触し
ていることが可能である。

【００５９】上記の液晶表示素子において、上部基板と
下部基板間に分散されたスペーサを更に有することが可
能である。

【００６０】上記の液晶表示素子において、液晶表示素
子は、走査電極線と信号電極線によって囲まれた複数の
画素領域を有し、下部電極は、各画素領域に対応して設
けられた複数の画素電極からなり、各画素領域は、所定
の対称中心点を有し、導電性凸部は、実質的に対称中心
点を中心に点対称に配置されることが可能である。

【００６１】上記の液晶表示素子において、対称中心点
は、対応する画素領域の実質的に中心であることが可能
である。

【００６２】上記の液晶表示素子において、各画素領域
は、上部電極と画素電極の少なくとも一方に、導電性凸
部と異なり、液晶の配向を分割するための突起部をさら
に有し、突起部は実質的に対称中心点を通過する所定の
線上に設けられることが可能である。

【００６３】上記の液晶表示素子において、各画素領域
は、上部電極と下部電極の少なくとも一方に、液晶の配
向を分割するための非導電性孔部をさらに有し、非導電
性孔部は実質的に対称中心点を通過する所定の線上に設
けられることが可能である。

【００６４】上記の液晶表示素子において、液晶表示素
子は、走査電極線と信号電極線によって囲まれた複数の
画素領域を有し、下部電極は、各画素領域に対応して設
けられた複数の画素電極からなり、各画素領域は、所定
の対称中心線を有し、導電性凸部は、実質的に対称中心
線を中心に線対称に配置されることが可能である。

【００６５】上記の液晶表示素子において、対称中心線
は、対応する画素領域の実質的に中心を通ることが可能
である。

【００６６】上記の液晶表示素子において、各画素領域
は、上部電極と画素電極の少なくとも一方に、導電性凸
部と異なり、液晶の配向を分割するための突起部をさら
に有し、突起部は実質的に対称中心線上に設けられるこ
とが可能である。

【００６７】上記の液晶表示素子において、各画素領域
は、上部電極と下部電極の少なくとも一方に、液晶の配
向を分割するための非導電性孔部をさらに有し、非導電
性孔部は実質的に対称中心線上に設けられることが可能
である。

【００６８】上記の液晶表示素子において、液晶は、ネ
マチック液晶、コレステリック液晶（カイラルネマチッ
ク液晶）、ディスコティック液晶のいずれかからなるこ
とが可能である。

【００６９】上記の液晶表示素子において、液晶の動作
モードは、ツイステッドネマチック、ＳＴＮスーパーツ
イステッドネマチック、ホモジニアス、ホメオトロピッ
ク、インプレーンスイッチング、パイセル、コレステリ
ック相転移、ポリマー分散、ポリマーネットワークのい
ずれかからなることが可能である。

【００７０】また、上記の課題を解決するために、本発
明によると、（ａ）下部基板の上部基板と対向する面上
に配線電極線を形成し、配線電極線を覆う絶縁膜を形成
し、絶縁膜上に下部電極を形成し、下部電極へ電圧を印
加するためのスイッチング素子を形成するステップと、
（ｂ）上部基板の下部基板と対向する面上に凸部を設け
るステップと、ここで、凸部は、下部基板と上部基板と
を対向させた時に、凸部を実質的に配線電極線の直上部
に配置するように設けられ、（ｃ）上部基板の下部基板
と対向する面と凸部全体を覆う上部電極を設けるステッ
プと、ここで、上部基板と下部基板の少なくとも一方は
透明基板であり、上部電極と下部電極のうち、透明基板
上に設けられた電極の少なくとも一方は透明であり、
（ｄ）凸部を実質的に配線電極線の直上部に配置するよ
うに下部基板と上部基板を対向させるステップと（ｅ）
下部基板と上部基板との間に液晶を注入するステップと
からなる液晶表示素子の製造方法を提供する。

【００７１】上記の液晶表示素子の製造方法において、
（ｂ）ステップは、上部基板の下部基板と対向する面上
に、複数のカラーフィルタを積層した凸部を形成するス
テップからなることが可能である。

【００７２】上記の液晶表示素子の製造方法において、
（ｂ）ステップは、上部基板の下部基板と対向する面上
に、透明樹脂を積層し、積層された透明樹脂を、凸部を
残して除去するステップからなることが可能である。

【００７３】上記の液晶表示素子の製造方法において、
凸部は、配線電極線の線幅に対して、実質的に等しい、
またはより広い幅を有することが可能である。

【００７４】上記の液晶表示素子の製造方法において、
（ｆ）上部電極と下部電極の少なくとも一方に凸部とは
異なる突起部を形成するステップをさらに有することが
可能である。

【００７５】上記の液晶表示素子の製造方法において、
（ｇ）上部電極と下部電極の少なくとも一方の一部を除
去するステップをさらに有することが可能である。

【００７６】上記の液晶表示素子の製造方法において、
（ｈ）配線電極線上に配線電極線と電気的に接続する導
電性接触部を設けるステップをさらに有し、（ｄ）ステ
ップは、導電性接触部と凸部を覆う上部電極とが接触す
るように配置するステップをさらに含むことが可能であ
る。

【００７７】さらに、上記の課題を解決するために、本
発明によると、液晶表示素子を構成する複数の画素領域
において、（ａ）下部基板の上部基板に対向する面上の
各画素領域毎に、各画素領域を囲むように配線電極線を
形成し、配線電極線を覆う絶縁膜を形成し、各画素領域
に配線電極線と接続しない画素電極と画素電極への電圧
の印加を制御する複数のスイッチング素子を形成するス
テップと、（ｂ）上部基板の下部基板に対向する面上の
各画素領域毎に、所定の対称中心点を有し、対称中心点
を中心とする点対称の位置であって、下部基板と対向さ
せる時に配線電極線の実質的に直上にあたる位置に凸部
を形成するステップと、（ｃ）上部基板と凸部全体を覆
う上部電極を形成するステップと、（ｄ）凸部を実質的
に配線電極線の直上部に配置し、各画素領域を形成する
ように下部基板と上部基板を対向させるステップと、
（ｆ）下部基板と上部基板との間に液晶を注入するステ
ップとからなる液晶表示素子の製造方法を提供する。

【００７８】上記の液晶表示素子の製造方法において、
対称中心点は、対応する画素領域の実質的に中心である
ことが可能である。

【００７９】上記の液晶表示素子の製造方法において、
（ｇ）上部基板の下部基板に対向する面上に、凸部とは
異なる突起部を形成するステップをさらに含み、（ｃ）
ステップは、上部基板の下部基板と対向する面と凸部と
突起部全体を覆う上部透明電極を形成するステップから
なることが可能である。

【００８０】上記の液晶表示素子の製造方法において、
（ｇ）ステップは、上部基板の下部基板と対向する面上
に、凸部とは異なる突起部を、実質的に対称中心点を通
過する所定の線上に形成するステップからなることが可
能である。

【００８１】上記の液晶表示素子の製造方法において、
（ｈ）上部電極のうち、凸部を除いた一部を除去するス
テップをさらに含むことが可能である。

【００８２】上記の液晶表示素子の製造方法において、
（ｈ）ステップは、実質的に対称中心点を通過する所定
の線上にある上部電極を除去するステップからなること
が可能である。

【００８３】上記の液晶表示素子の製造方法において、
（ｉ）下部電極の一部を除去するステップをさらに含む
ことが可能である。

【００８４】上記の液晶表示素子の製造方法において、
（ｉ）ステップは、実質的に対称中心点を通過する所定
の線上にある下部電極を除去するステップからなること
が可能である。

【００８５】加えて、上記の課題を解決するために、本
発明によると、液晶表示素子を構成する複数の画素領域
において、（ａ）下部基板の上部基板に対向する面上の
各画素領域毎に、各画素領域を囲むように配線電極線を
形成し、配線電極線を覆う絶縁膜を形成し、各画素領域
に配線電極線と接続しない画素電極と画素電極への電圧
の印加を制御する複数のスイッチング素子を形成するス
テップと、（ｂ）上部基板の下部基板に対向する面上の
各画素領域毎に、所定の対称中心線を有し、対称中心線
を中心とする線対称の位置であって、下部基板と対向さ
せる時に配線電極線の実質的に直上にあたる位置に凸部
を形成するステップと、（ｃ）上部基板と凸部全体を覆
う上部電極を形成するステップと、（ｄ）凸部を実質的
に配線電極線の直上部に配置し、各画素領域を形成する
ように下部基板と上部基板を対向させるステップと、
（ｆ）下部基板と上部基板との間に液晶を注入するステ
ップとからなる液晶表示素子の製造方法を提供する。

【００８６】上記の液晶表示素子の製造方法において、
対称中心線は、対応する画素領域の実質的に中心を通る
ことが可能である。

【００８７】上記の液晶表示素子の製造方法において、
（ｇ）上部基板の下部基板に対向する面上に、凸部とは
異なる突起部を形成するステップをさらに含み、（ｃ）
ステップは、上部基板の下部基板に対向する面と凸部と
突起部全体を覆う上部透明電極を形成するステップから
なることが可能である。

【００８８】上記の液晶表示素子の製造方法において、
（ｇ）ステップは、上部基板の下部基板に対向する面上
に、凸部とは異なる突起部を、実質的に対称中心線上に
形成するステップからなることが可能である。

【００８９】上記の液晶表示素子の製造方法において、
（ｈ）上部電極のうち、凸部を除いた一部を除去するス
テップをさらに含むことが可能である。

【００９０】上記の液晶表示素子の製造方法において、
（ｈ）ステップは、実質的に対称中心線上にある上部電
極を除去するステップからなることが可能である。

【００９１】上記の液晶表示素子の製造方法において、
（ｉ）下部電極の一部を除去するステップをさらに含む
ことが可能である。

【００９２】上記の液晶表示素子の製造方法において、
（ｉ）ステップは、実質的に対称中心線上にある下部電
極を除去するステップからなることが可能である。

【００９３】上記の液晶表示素子の製造方法において、
上部基板と下部基板間にスペーサを設けるステップをさ
らに有することが可能である。

【００９４】上記の液晶表示素子の製造方法において、
液晶は、ネマチック液晶、コレステリック液晶（カイラ
ルネマチック液晶）、ディスコティック液晶のいずれか
からなることが可能である。

【００９５】上記の液晶表示素子の製造方法において、
液晶の動作モードは、ツイステッドネマチック、ＳＴＮ
スーパーツイステッドネマチック、ホモジニアス、ホメ
オトロピック、インプレーンスイッチング、パイセル、
コレステリック相転移、ポリマー分散、ポリマーネット
ワークのいずれかからなることが可能である。

【００９６】本発明の液晶表示装置の作用を以下に示
す。

【００９７】本発明の液晶表示装置によると、対向基板
側にセルギャップを保つための凹凸構造を有し、凹凸の
側面に対向電極と同電位の電極を有する。

【００９８】本発明の液晶表示装置は、凹凸構造の存在
により、機械的強度が増し、外力がかかった場合でも配
向の変化が生じない。また、配向が異なる複数の領域を
有する構造とした場合でも、外力による配向の変化が少
ない。

【００９９】また、本発明の液晶表示装置は、凹凸構造
の側面に電極を有するので、電極線と画素電極間の強い
横方向の電界が発生せず、対向電極と同電位の側面電極
と画素電極間の弱い横方向電界のみとなる。その結果、
ディスクリネーションの画素内への深い侵入が抑えら
れ、良好な表示が得られる。

【０１００】さらに、本発明の液晶表示装置は、凹凸構
造の側面に有する電極を有効に使用し、良好な配向分割
が得られる。

【０１０１】

【発明の実施の形態】本発明の実施の形態について図面
を参照して説明する。

【０１０２】まず、本発明の第１の実施の形態における
液晶表示素子を説明する。

【０１０３】図１は、本発明の第１の実施の形態におけ
る液晶表示素子の断面を示す。

【０１０４】図１を参照して、本発明の液晶表示素子に
おける第１の実施の形態の構成を説明する。

【０１０５】本発明の液晶表示素子における第１の実施
の形態の構成は、一対の対向する透明基板２１，２２
と、その一対の透明基板２１，２２の間に保持されてい
る液晶５からなる。ここで、一対の対向する透明基板２
１，２２は、上部基板２１と下部基板２２とからなる。

【０１０６】液晶５としては、ネマチック液晶、コレス
テリック液晶（カイラルネマチック液晶）、ディスコテ
ィック液晶のいずれかが使用される。

【０１０７】液晶５の液晶動作モードとしては、ＴＮ
（Twisted Nematic：ツイステッドネマチック）、ＳＴ
Ｎ（Super Twisted Nematic：スーパーツイステッドネ
マチック）、ホモジニアス、ホメオトロピック、ＩＰＳ
（In-Plain Switching：インプレーンスイッチング）、
π（パイ）セル（ＯＣＢ（Optically Compensated Ben
d）ともいう）、コレステリック相転移、ポリマー分
散、ポリマーネットワーク等の液晶動作モードのうちい
ずれかが用いられる。

【０１０８】また、液晶５のプレチルド角５１（液晶分
子と基板面とのなす角度をいう）は、任意の値を有する
ことが可能である。

【０１０９】下部基板２２上であって、上部基板２１と
対向する面には、配線電極１５と絶縁層４と画素電極２
０が設けられている。配線電極１５は走査電極線または
信号電極線である。画素電極２０は透明な材質からな
る。絶縁層４によって、配線電極１５と画素電極２０は
絶縁されている。また、スイッチング素子（図示しな
い）を有し、画素電極２０への電圧の印加は、スイッチ
ング素子によって制御される。このスイッチング素子の
例として、走査電極線がゲート電極であって、信号電極
線がソース電極と接続しており、画素電極２０がドレイ
ン領域と接続しているＴＦＴ（Thin Film Transistor）
が挙げられる。

【０１１０】上部基板２１上であって、下部基板２２と
対向する面には、対向電極１９と凹凸構造１とが設けら
れている。凹凸構造１は、配線電極１５の上方に設けら
れている。対向電極１９は透明な材質からなる。また、
対向電極１９は、上部基板２１と凹凸構造１全体を覆う
ように設けられている。

【０１１１】ここで、凹凸構造１は、すべての配線電極
１５上に設けてもよい。また、凹凸構造１は、何本かの
配線電極１５の内いすれか１本の配線電極１５上に設け
てもよい。例えば、赤・青・緑の３画素に対応して３本
の配線電極を有する液晶表示素子において、その配線電
極のうち、いずれか１本の配線電極上に凹凸構造１をに
設けてもよい。

【０１１２】また、図１で示される本発明の液晶表示素
子における第１の実施の形態において、凹凸構造１下部
に設けられた透明電極１９は、下部基板２２と接する。
この透明電極１９と下部基板２２とが接する部分の幅
が、配線電極１５の有する幅より広い構成を有する。ま
た、この透明電極１９と下部基板２２とが接する部分の
幅と、配線電極１５の有する幅が実質的に等しい構成も
可能である。但し、この透明電極１９と下部基板２２と
が接する部分の幅が配線電極１５の有する幅より広い構
成のほうが、この透明電極１９と下部基板２２とが接す
る部分の幅と配線電極１５の有する幅が実質的に等しい
構成よりも、液晶表示装置内で発生する横方向の電界の
制御をより効果的に行うことができる。

【０１１３】次に、本発明の液晶表示素子における第１
の実施の形態の製造方法の例を以下に示す。

【０１１４】下部透明基板２２上に従来知られた方法で
電極配線１５を形成する。一例として、下部透明基板２
２上にスパッタ法にてクロム層を形成し、その形成され
たクロム層をパタンニングして電極配線１５を形成す
る。

【０１１５】次に、電極配線１５の形成された下部透明
基板２２全体を覆うように絶縁膜４を形成する。

【０１１６】次に、絶縁膜４上に所定のパタンからなる
複数の画素領域の各々に、従来知られた方法で画素電極
である下部透明電極２０を形成する。また、この下部透
明電極形成工程で、電極配線１５から下部透明電極２０
に電圧を印加するためのスイッチング素子を従来知られ
た方法で形成する。

【０１１７】また、必要に応じて、従来知られた方法に
よって、下部透明基板２２にラビングを行っても良い。

【０１１８】上部透明基板２１上に凹凸構造（凸部）１
を設ける。この凸部１の形成方法の例を以下に示す。上
部透明基板上にカラーフィルタ（図示せず）を形成する
場合に、この凸部１を形成すべき領域にカラーフィルタ
を積層させたものを形成する。また、上部透明基板２１
上のこの凸部１を形成すべき領域に透明樹脂材料を積層
させる。または所定の厚さの透明樹脂材料をパターンニ
ングしてこの凸部１を形成すべき領域に凸部１を残す。

【０１１９】次に、上部透明基板２１と凸部１全体を覆
う上部透明電極１９を従来知られた方法で形成する。

【０１２０】また、必要に応じて、従来知られた方法に
よって、上部透明基板２１にラビングを行っても良い。

【０１２１】次に、下部透明基板２２と上部透明基板２
１を、下部透明電極２０と上部透明電極１９とを対向さ
せて配置する。

【０１２２】最後に、下部透明基板２２と上部透明基板
２１との間に真空注入法を用いて液晶５を注入する。

【０１２３】上記の工程によって、本発明の液晶表示素
子における第１の実施の形態が形成される。

【０１２４】次に、本発明の液晶表示素子における第１
の実施の形態の動作を説明する。

【０１２５】図２は、本発明の液晶表示素子における第
１の実施の形態の動作を示す断面図である。図２は、図
１で示される断面図に、本発明の液晶表示素子における
第１の実施の形態の動作時に生じる横方向電界２とディ
スクリネーションライン３が付加された断面図である。
ここで、ディスクリネーションライン３は、異なる液晶
の結晶配向を有する、隣接する複数の領域の境界におい
て生ずる結晶配向の欠陥の一種である。図２を参照する
と、ディスクリネーションライン３は、画素電極２０上
に存在しない。

【０１２６】一方、図３０は、従来技術による液晶表示
素子の動作を示す断面図である。

【０１２７】ここで、図３０で示される従来技術による
液晶表示素子の構成は、一対の対向する透明基板３２
１，３２２と、その一対の透明基板３２１，３２２の間
に保持されている液晶３０５からなる。ここで、一対の
対向する透明基板３２１，３２２は、上部基板３２１と
下部基板３２２とからなる。

【０１２８】下部基板３２２上であって、上部基板３２
１と対向する面には、配線電極３１５と絶縁層３０４と
画素電極３２０が設けられている。配線電極３１５は走
査電極線または信号電極線である。画素電極３２０は透
明な材質からなる。絶縁層３０４によって、配線電極３
１５と画素電極３２０は絶縁されている。

【０１２９】上部基板３２１上であって、下部基板３２
２と対向する面には、対向電極３１９が設けられてい
る。対向電極３１９は透明な材質からなる。また、対向
電極３１９は、上部基板３２１全体を覆うように設けら
れている。

【０１３０】さらに、図３０に示すように、従来技術に
よる液晶表示素子の動作時に生じる横方向電界３０２と
ディスクリネーションライン３０３を加えて示す。図３
０を参照すると、従来技術による液晶表示素子におい
て、ディスクリネーションライン３０３は、画素電極３
２０上に存在する。

【０１３１】本発明の液晶表示装置における第１の実施
の形態は、図３０で示される従来技術による液晶表示素
子に加えて、凹凸構造１を有する。

【０１３２】ここで、本発明の液晶表示装置における第
１の実施の形態において発生する横方向電界２の強さ
は、図３０で示される従来技術による液晶表示素子にお
いて発生する横方向電界３０２の強さと比べると、極め
て弱い。この結果、上記に示すように、本発明の液晶表
示装置における第１の実施の形態では、ディスクリネー
ションライン３が画素電極２０上に存在しない。

【０１３３】次に、本発明の第２の実施の形態における
液晶表示素子を説明する。

【０１３４】図３は、本発明の第２の実施の形態におけ
る液晶表示素子の断面を示す。

【０１３５】図３を参照して、本発明の液晶表示素子に
おける第２の実施の形態の構成を説明する。

【０１３６】本発明の液晶表示素子における第２の実施
の形態の構成は、一対の対向する透明基板２１，２２
と、その一対の透明基板２１，２２の間に保持されてい
る液晶５からなる。ここで、一対の対向する透明基板２
１，２２は、上部基板２１と下部基板２２とからなる。

【０１３７】この液晶５は、本発明の液晶表示素子にお
ける第１の実施の形態で使用される液晶と、その液晶の
動作モードが適応可能である。また、液晶の動作モード
は、視野角の改善や欠陥の減少等の必要性から、液晶の
配向方向が異なる分割を行った配向分割方式にも使用可
能である。

【０１３８】また、液晶５のプレチルド角（液晶分子と
基板面とのなす角度をいう）５１は、ほぼ０度である。

【０１３９】下部基板２２上であって、上部基板２１と
対向する面には、配線電極１５と絶縁層４と画素電極２
０が設けられている。配線電極１５は走査電極線または
信号電極線である。画素電極２０は透明な材質からな
る。絶縁層４によって、配線電極１５と画素電極２０は
絶縁されている。また、画素電極２０と配線電極１５が
画素の中央を中心にしてほぼ対称になるように設けられ
ている。

【０１４０】上部基板２１上であって、下部基板２２と
対向する面には、対向電極１９と凹凸構造１とが設けら
れている。凹凸構造１は、配線電極１５の上方に設けら
れている。対向電極１９は透明な材質からなる。また、
対向電極１９は、上部基板２１と凹凸構造１全体を覆う
ように設けられている。

【０１４１】ここで、凹凸構造１は、すべての配線電極
１５上に設けられている。また、凹凸構造１上に設けら
れた対向電極１９が下部基板２２と接する。この凹凸構
造１上に設けられた対向電極１９と下部基板２２と接す
る部分の幅は、任意の広さを有することが可能である。
配線電極１５と対向電極１９への電圧の印加に基づいて
生じる横方向電界によって、液晶５の保持されている領
域を、液晶配向の異なる複数の領域に分割する。

【０１４２】次に、本発明の液晶表示素子における第２
の実施の形態の製造方法を説明する。本発明の液晶表示
素子における第２の実施の形態の製造方法は、上記の本
発明の液晶表示素子における第１の実施の形態の製造方
法とほぼ同じである。

【０１４３】次に、本発明の液晶表示素子における第２
の実施の形態の動作を説明する。

【０１４４】図４は、本発明の液晶表示素子における第
２の実施の形態の動作を示す断面図である。図４は、図
３で示される断面図に、本発明の液晶表示素子における
第２の実施の形態の動作時に生じる横方向電界２とディ
スクリネーションライン３が付加された断面図である。

【０１４５】配線電極１５と対向電極１９が画素の中心
に対してほぼ対称に配置されている。このために、配線
電極１５と対向電極１９への電圧の印加に基づいて生じ
る横方向電界２の強さが、画素電極２０の中心を対称と
してほぼ等しくなる。

【０１４６】また、液晶５のプレチルト角１５が０度で
あるために、この電界により画素中央部を境界として結
晶配向が異なる２つの領域が自発的に発生する。この領
域を分割する境界がディスクリネーションライン３であ
って、ほぼ画素電極２０の中心に発生する。

【０１４７】次に、本発明の液晶表示素子における第３
の実施の形態を説明する。

【０１４８】本発明の液晶表示素子における第３の実施
の形態の構成は、本発明の液晶表示素子における第２の
実施の形態の構成と同じである。

【０１４９】ここで、上部基板２１と下部基板２２の少
なくとも一方に、ＵＶ処理などからなる光処理が行われ
ている。この光処理によって、液晶と光処理の行われた
基板との界面において、液晶５の配向が異なる領域を得
るための配向規制力を生じさせることも可能である。ま
た、液晶５のプレチルド角は、任意の角度を取ることが
可能である。更に、本発明の液晶表示素子における第３
の実施の形態と同様に、凹凸構造１上に設けられた対向
電極１９と下部基板２２と接する部分の幅は、任意の広
さを有することが可能である。配線電極１５と対向電極
１９への電圧の印加に基づいて生じる横方向電界２によ
って、液晶５の保持されている領域を、液晶配向の異な
る複数の領域に分割する。

【０１５０】次に、本発明の液晶表示素子における第３
の実施の形態の製造方法を説明する。本発明の液晶表示
素子における第３の実施の形態の製造方法は、上記の本
発明の液晶表示素子における第１の実施の形態の製造方
法とほぼ同じである。

【０１５１】次に、本発明の液晶表示素子における第３
の実施の形態の動作を説明する。

【０１５２】本発明の液晶表示素子における第３の実施
の形態の動作は、液晶５のプレチルト角５１がほぼ０度
になる場合は、本発明の液晶表示素子における第２の実
施形態と同様の動作を行う。また、光処理により液晶と
の光処理の行われた基板との界面に配向規制力が生ずる
場合、この配向規制力によって液晶は配向方向が定めら
れる。この配向規制力と横方向電界２とによって、液晶
の配向方向が等しい領域が定められる。

【０１５３】次に、本発明の第４の実施の形態における
液晶表示素子を説明する。

【０１５４】図５は、本発明の第４の実施の形態におけ
る液晶表示素子の断面を示す。

【０１５５】図５を参照して、本発明の液晶表示素子に
おける第４の実施の形態の構成を説明する。

【０１５６】本発明の液晶表示素子における第４の実施
の形態の構成は、一対の対向する透明基板２１，２２
と、その一対の透明基板２１，２２の間に保持されてい
る液晶５からなる。ここで、一対の対向する透明基板２
１，２２は、上部基板２１と下部基板２２とからなる。

【０１５７】この液晶５は、本発明の液晶表示素子にお
ける第１の実施の形態で使用される液晶と、その液晶の
動作モードが適応可能である。また、液晶の動作モード
は、視野角の改善や欠陥の減少等の必要性から、液晶の
配向方向が異なる分割を行った配向分割方式にも使用可
能である。

【０１５８】また、液晶５のプレチルド角５１は、任意
の角度を取ることが可能である。

【０１５９】下部基板２２上であって、上部基板２１と
対向する面には、配線電極１５と絶縁層４と画素電極２
０が設けられている。配線電極１５は走査電極線または
信号電極線である。画素電極２０は透明な材質からな
る。絶縁層４によって、配線電極１５と画素電極２０は
絶縁されている。また、画素電極２０と配線電極１５が
画素の中央を中心にしてほぼ対称になるように設けられ
ている。

【０１６０】上部基板２１上であって、下部基板２２と
対向する面には、対向電極１９と凹凸構造１と突起構造
３０とが設けられている。凹凸構造１と突起構造３０
は、配線電極１５の上方に設けられている。凹凸構造１
と突起構造３０は、互いに異なる。また、対向電極１９
は透明な材質からなる。また、対向電極１９は、上部基
板２１と凹凸構造１と突起構造３０全体を覆うように設
けられている。

【０１６１】ここで、凹凸構造１は、すべての配線電極
１５上に設けられている。また、凹凸構造１上に設けら
れた対向電極１９が下部基板２２と接する。この凹凸構
造１上に設けられた対向電極１９と下部基板２２と接す
る部分の幅は、任意の広さを有することが可能である。
配線電極１５と対向電極１９への電圧の印加に基づいて
生じる横方向電界によって、液晶５の保持されている領
域を、液晶配向の異なる複数の領域に分割する。

【０１６２】また、突起構造３０は、画素に含まれる液
晶５の液晶配向が異なる領域を形成することを補助する
ために設けられる。

【０１６３】また、本実施例において、突起構造３０が
上部基板２１上でなく、下部基板２２上に設けられてい
る構成も可能である。

【０１６４】次に、本発明の液晶表示素子における第４
の実施の形態の製造方法を説明する。本発明の液晶表示
素子における第４の実施の形態の製造方法は、上記の本
発明の液晶表示素子における第１の実施の形態の製造方
法に加えて、突起構造３０の形成方法をさらに含む。こ
の突起構造３０の製造方法は、上部透明基板上での凸部
１の製造方法とほぼ同様である。ただし、この突起構造
３０の高さは、凸部１の高さよりも低い。

【０１６５】次に、本発明の液晶表示素子における第４
の実施の形態の動作を説明する。

【０１６６】図６は、本発明の液晶表示素子における第
４の実施の形態の動作を示す断面図である。図６は、図
５で示される断面図に、本発明の液晶表示素子における
第２の実施の形態の動作時に生じる横方向電界２とディ
スクリネーションライン３が付加された断面図である。

【０１６７】配線電極１５と対向電極１９が画素の中心
に対してほぼ対称に配置されている。このために、配線
電極１５と対向電極１９への電圧の印加に基づいて生じ
る横方向電界２の強さが、画素電極２０の中心を対称と
してほぼ等しくなる。

【０１６８】また、液晶５において、突起構造３０の設
けられている位置と実質的に同じ位置にディスクリネー
ションライン３が形成される。この突起構造３０が液晶
５の配向領域の分割を補助するために、ディスクリネー
ションライン３の変動が少ない、良好な配向領域の分割
が得られる。

【０１６９】次に、本発明の第５の実施の形態における
液晶表示素子を説明する。

【０１７０】本発明の液晶表示素子における第５の実施
の形態の断面構成は、図３で示される、本発明の液晶表
示素子における第２の実施の形態の断面構成とほぼ同じ
であって、一部、凹凸構造１の存在しない構成を含む。

【０１７１】また、図７は、本発明の第５の実施の形態
における液晶表示素子を上面から見た透視平面図を示
す。

【０１７２】図７を参照して、本発明の液晶表示素子に
おける第５の実施の形態の構成を説明する。

【０１７３】下部基板（図示せず）上に、画素電極２０
と、一対の走査電極線１５１と、走査電極線１５１に直
交する一対の信号電極線１５２とが設けられている。ま
た、上部基板（図示せず）上に形成された一対の凹凸構
造１ａ，１ｂが、各信号電極線１５２上に設けられてい
る。この一対の凹凸構造１ａ，１ｂは、実質的に素子の
ほぼ中心を対称中心とする点対称に設けられている。ま
た、この対称中心点は、本実施例に限定されず、画素の
設計に合わせて任意に設定することが可能である。

【０１７４】次に、本発明の液晶表示素子における第５
の実施の形態の製造方法を説明する。本発明の液晶表示
素子における第５の実施の形態の製造方法は、上記の本
発明の液晶表示素子における第１の実施の形態の製造方
法とほぼ同じであるが、凹凸構造１の形成場所が画素の
設計に合わせて設定されている。

【０１７５】次に、本発明の液晶表示素子における第５
の実施の形態の動作を説明する。

【０１７６】図７には、本実施例の液晶表示素子の動作
時に生ずるディスクリネーションライン３が記載されて
いる。図７で示されるディスクリネーションライン３
は、液晶のプレチルド角を０度とした場合に上記の対称
中心線とほぼ一致する。また、本実施例の液晶表示素子
の動作において、図７で示されるディスクリネーション
ライン３を対称中心として、ほぼ対称に電界が生じる。
なお、図７に示すディスクリネーションライン３の位置
は、液晶のプレチルド角を任意に変更することによっ
て、任意に変えることが可能である。この生じた電界に
よって、本実施例の液晶表示素子は、液晶に対する所定
の分割配向を得ることが可能である。

【０１７７】次に、本発明の第６の実施の形態における
液晶表示素子を説明する。

【０１７８】本発明の液晶表示素子における第６の実施
の形態の断面構成は、図３で示される、本発明の液晶表
示素子における第２の実施の形態の断面構成とほぼ同じ
であって、一部、凹凸構造１の存在しない構成を含む。

【０１７９】また、図８は、本発明の第６の実施の形態
における液晶表示素子を上面から見た透視平面図を示
す。

【０１８０】図８を参照して、本発明の液晶表示素子に
おける第５の実施の形態の構成を説明する。

【０１８１】下部基板（図示せず）上に、画素電極２０
と、一対の走査電極線１５１と、走査電極線１５１に直
交する一対の信号電極線１５２とが設けられている。ま
た、上部基板（図示せず）上に形成された一対の凹凸構
造１ｃ，１ｄが、各信号電極線１５２上に設けられてい
る。また、また、上部基板（図示せず）上に形成された
一対の凹凸構造１ｅ，１ｆが、各走査電極線１５１上に
設けられている。この一対の凹凸構造１ｃ，１ｄは、実
質的に素子のほぼ中心を通り、信号電極線１５２とほぼ
平行な第１の中心線を対称中心とする線対称に設けられ
ている。また、一対の凹凸構造１ｅ，１ｆは、実質的に
素子のほぼ中心を通り、走査電極線１５１とほぼ平行な
第２の中心線を対称中心とする線対称に設けられてい
る。これらの凹凸構造１ｃ，１ｄ，１ｅ，１ｆは、第１
と第２の中心線が交わる、実質的に素子のほぼ中心を対
称中心とする点対称に設けられている。また、この対称
中心点は、本実施例に限定されず、画素の設計に合わせ
て任意に設定することが可能である。

【０１８２】次に、本発明の液晶表示素子における第６
の実施の形態の製造方法を説明する。本発明の液晶表示
素子における第６の実施の形態の製造方法は、上記の本
発明の液晶表示素子における第１の実施の形態の製造方
法とほぼ同じであるが、凹凸構造１の形成場所が画素の
設計に合わせて設定されている。

【０１８３】次に、本発明の液晶表示素子における第６
の実施の形態の動作を説明する。

【０１８４】図８には、本実施例の液晶表示素子の動作
時に生ずるディスクリネーションライン３が記載されて
いる。液晶のプレチルド角を０度とした場合、本実施例
の液晶表示素子に電圧を印加すると、一対の凹凸構造１
ｃ，１ｄによって、第１の中心線を対称中心として、ほ
ぼ対称に電界が生じる。また、同様に、一対の凹凸構造
１ｅ，１ｆによって、第２の中心線を対称中心として、
ほぼ対称に電界が生じる。この電界によって生ずるディ
スクリネーションライン３が図８に示される。このディ
スクリネーションライン３によって分割された４つの領
域で液晶が異なる配向を示す。従って、本実施例の液晶
表示素子は、液晶に対する所定の分割配向を得ることが
可能である。なお、図８に示すディスクリネーションラ
イン３の位置は、液晶のプレチルド角を任意に変更する
ことによって、任意に変えることが可能である。また、
本発明の第６の実施の形態における液晶表示素子に、本
発明の第２から第５の実施の形態を複合した構成を持た
せることによって、本発明の第６の実施の形態において
得られる効果と本発明の第２から第５の実施の形態おい
て得られる効果とによる相乗的な効果を有する液晶表示
素子を得ることも可能である。

【０１８５】さらに、本発明の第６の実施の形態におけ
る液晶表示素子の変形例を以下に示す。この変形例は、
上面から見た画素の形状が６角形である場合に、本発明
の第６の実施の形態を適応した場合である。

【０１８６】図９は、本発明の第６の実施の形態におけ
る液晶表示素子の変形例を上面から見た透視平面図を示
す。

【０１８７】下部基板（図示せず）上に、画素電極２０
と、一対の走査電極線１５１と、一対の信号電極線１５
２とが設けられている。また、上部基板（図示せず）上
に形成された複数の凹凸構造１ｇ，１ｈ，１ｉ，１ｊ，
１ｋ，１ｌが、走査電極線１５１または信号電極線１５
２上に設けられている。この複数の凹凸構造１ｇ，１
ｈ，１ｉ，１ｊ，１ｋ，１ｌは、６角形状の画素の各辺
にあって、周囲を走る走査電極線１５１または信号電極
線１５２上に設けられている。また、実質的に素子のほ
ぼ中心を対称中心点として、凹凸構造１ｇ，１ｌの対
と、凹凸構造１ｈ，１ｊの対と、凹凸構造１ｉ，１ｋの
対が対称に設けられている。また、この対称中心点は、
本実施例に限定されず、画素の設計に合わせて任意に設
定することが可能である。

【０１８８】次に、本発明の液晶表示素子における第６
の実施の形態の変形例の動作を説明する。

【０１８９】図８には、本実施例の液晶表示素子の動作
時に生ずるディスクリネーションライン３が記載されて
いる。液晶のプレチルド角を０度とした場合、本実施例
の液晶表示素子に電圧を印加すると、一対の凹凸構造１
ｇ，１ｌによって、対称中心点を通り、凹凸構造１ｇ，
１ｌがある画素の辺に平行な第１の中心線を対称中心と
して、ほぼ対称に電界が生じる。また、同様に、一対の
凹凸構造１ｈ，１ｊによって、対称中心点を通り、凹凸
構造１ｈ，１ｊがある画素の辺に平行な第２の中心線を
対称中心として、ほぼ対称に電界が生じる。一対の凹凸
構造１ｈ，１ｊによって、対称中心点を通り、凹凸構造
１ｈ，１ｊがある画素の辺に平行な第３の中心線を対称
中心として、ほぼ対称に電界が生じる。これらの電界に
よって生ずるディスクリネーションライン３が図８に示
される。このディスクリネーションライン３によって分
割された６つの領域で液晶が異なる配向を示す。従っ
て、本実施例の液晶表示素子は、液晶に対する所定の分
割配向を得ることが可能である。なお、図８に示すディ
スクリネーションライン３の位置は、液晶のプレチルド
角を任意に変更することによって、任意に変えることが
可能である。また、本発明の第６の実施の形態の変形例
における液晶表示素子に、本発明の第２から第５の実施
の形態を複合した構成を持たせることによって、本発明
の第６の実施の形態の変形例において得られる効果と本
発明の第２から第５の実施の形態おいて得られる効果と
による相乗的な効果を有する液晶表示素子を得ることも
可能である。

【０１９０】さらに、他の変形例として、画素電極中に
設定された対称中心点を対称に、複数の凹凸構造が設け
られる構成が可能である。この場合、凹凸構造によって
もたらされる電極配置が対称なため、画素電極の周囲に
対称中心点を対称とする電界が生じる。この電界によっ
て、この液晶表示素子は多数の画素分割が可能である。

【０１９１】次に、本発明の第７の実施の形態における
液晶表示素子を説明する。

【０１９２】図１０は、本発明の第７の実施の形態にお
ける液晶表示素子の断面を示す。

【０１９３】図１０を参照して、本発明の液晶表示素子
における第７の実施の形態の構成を説明する。

【０１９４】本発明の液晶表示素子における第７の実施
の形態の構成は、一対の対向する透明基板２１，２２
と、その一対の透明基板２１，２２の間に保持されてい
る液晶５からなる。ここで、一対の対向する透明基板２
１，２２は、上部基板２１と下部基板２２とからなる。

【０１９５】この液晶５は、本発明の液晶表示素子にお
ける第１の実施の形態で使用される液晶と、その液晶の
動作モードが適応可能である。また、液晶の動作モード
は、視野角の改善や欠陥の減少等の必要性から、液晶の
配向方向が異なる分割を行った配向分割方式にも使用可
能である。

【０１９６】また、液晶５のプレチルド角（液晶分子と
基板面とのなす角度をいう）５１は、任意であって、ほ
ぼ０度であっても、他の角度を有していても良い。

【０１９７】下部基板２２上であって、上部基板２１と
対向する面には、配線電極１５と絶縁層４と画素電極２
０が設けられている。配線電極１５は走査電極線または
信号電極線である。画素電極２０は透明な材質からな
る。絶縁層４によって、配線電極１５と画素電極２０は
絶縁されている。また、画素電極２０と配線電極１５が
画素の中央を中心にしてほぼ対称になるように設けられ
ている。

【０１９８】上部基板２１上であって、下部基板２２と
対向する面には、対向電極１９と凹凸構造１とが設けら
れている。凹凸構造１は、配線電極１５の上方に設けら
れている。対向電極１９は透明な材質からなる。また、
対向電極１９は、上部基板２１と凹凸構造１全体を覆う
ように設けられている。さらに、対向電極１９の一部に
スリット状孔４０が設けられている。

【０１９９】ここで、凹凸構造１は、すべての配線電極
１５上に設けられている。また、凹凸構造１上に設けら
れた対向電極１９が下部基板２２と接する。この凹凸構
造１上に設けられた対向電極１９と下部基板２２と接す
る部分の幅は、任意の広さを有することが可能である。
配線電極１５と対向電極１９への電圧の印加に基づいて
生じる横方向電界によって、液晶５の保持されている領
域を、液晶配向の異なる複数の領域に分割する。

【０２００】本発明の液晶表示素子における第７の実施
の形態の構成は、本発明の液晶表示素子における第２の
実施の形態の構成に加えて、対向電極１９の一部にスリ
ット状孔４０が設けられている構成を有する。

【０２０１】次に、本発明の液晶表示素子における第５
の実施の形態の製造方法を説明する。本発明の液晶表示
素子における第５の実施の形態の製造方法は、上記の本
発明の液晶表示素子における第１の実施の形態の製造方
法に加えて、対向電極１９の一部にスリット状孔４０が
形成される。このスリット状孔４０の形成方法は、レジ
スト法等の従来知られた方法で、対向電極１９からスリ
ット状に電極要素を除去する工程からなる。

【０２０２】次に、本発明の液晶表示素子における第７
の実施の形態の動作を説明する。

【０２０３】図１１は、本発明の液晶表示素子における
第７の実施の形態の動作を示す断面図である。図１１
は、図１０で示される断面図に、本発明の液晶表示素子
における第７の実施の形態の動作時に生じる横方向電界
２とディスクリネーションライン３が付加された断面図
である。

【０２０４】配線電極１５と対向電極１９が画素の中心
に対してほぼ対称に配置されている。このために、配線
電極１５と対向電極１９への電圧の印加に基づいて生じ
る横方向電界２の強さが、画素電極２０の中心を対称と
してほぼ等しくなる。

【０２０５】また、対向電極１９の一部であって、ほぼ
中央部にスリット状孔４０が設けられているために、本
実施例による液晶表示素子の動作時に生じる電界が画素
中央部を境界として結晶配向が異なる２つの領域が自発
的に発生する。この領域を分割する境界がディスクリネ
ーションライン３であって、ほぼ画素電極２０の中心に
発生する。

【０２０６】また、本発明の第７の実施の形態における
液晶表示素子に、本発明の第２から第６の実施の形態を
複合した構成を持たせることによって、本発明の第７の
実施の形態において得られる効果と本発明の第２から第
６の実施の形態において得られる効果とによる相乗的な
効果を有する液晶表示素子を得ることも可能である。

【０２０７】次に、本発明の第８の実施の形態における
液晶表示素子を説明する。

【０２０８】図１２は、本発明の第８の実施の形態にお
ける液晶表示素子の断面を示す。

【０２０９】図１２を参照して、本発明の液晶表示素子
における第８の実施の形態の構成を説明する。

【０２１０】本発明の液晶表示素子における第７の実施
の形態の構成は、一対の対向する透明基板２１，２２
と、その一対の透明基板２１，２２の間に保持されてい
る液晶５からなる。ここで、一対の対向する透明基板２
１，２２は、上部基板２１と下部基板２２とからなる。

【０２１１】この液晶５は、本発明の液晶表示素子にお
ける第１の実施の形態で使用される液晶と、その液晶の
動作モードが適応可能である。また、液晶の動作モード
は、視野角の改善や欠陥の減少等の必要性から、液晶の
配向方向が異なる分割を行った配向分割方式にも使用可
能である。

【０２１２】また、液晶５のプレチルド角（液晶分子と
基板面とのなす角度をいう）５１は、任意であって、ほ
ぼ０度であっても、他の角度を有していても良い。

【０２１３】下部基板２２上であって、上部基板２１と
対向する面には、配線電極１５と絶縁層４と画素電極２
０と上部絶縁層５０が設けられている。配線電極１５は
走査電極線または信号電極線である。画素電極２０は透
明な材質からなる。絶縁層４によって、配線電極１５と
画素電極２０は絶縁されている。さらに、全体を覆うよ
うに上部絶縁層５０が設けられている。

【０２１４】上部基板２１上であって、下部基板２２と
対向する面には、対向電極１９と凹凸構造１とが設けら
れている。凹凸構造１は、配線電極１５の上方に設けら
れている。対向電極１９は透明な材質からなる。また、
対向電極１９は、上部基板２１と凹凸構造１全体を覆う
ように設けられている。さらに、対向電極１９は、上部
基板２１と下部基板２２を対向させた時に、下部基板上
２２にある上部絶縁層５０と接する。

【０２１５】ここで、凹凸構造１は、すべての配線電極
１５上に設けてもよい。また、凹凸構造１は、何本かの
配線電極１５の内いすれか１本の配線電極１５上に設け
てもよい。例えば、赤・青・緑の３画素に対応して３本
の配線電極を有する液晶表示素子において、その配線電
極のうち、いずれか１本の配線電極上に凹凸構造１をに
設けてもよい。

【０２１６】本発明の液晶表示素子における第８の実施
の形態の構成は、本発明の液晶表示素子における第１の
実施の形態の構成に加えて、下部基板２２を覆う上部絶
縁層５０が設けられている構成を有する。

【０２１７】次に、本発明の液晶表示素子における第５
の実施の形態の製造方法を説明する。本発明の液晶表示
素子における第５の実施の形態の製造方法は、上記の本
発明の液晶表示素子における第１の実施の形態の製造方
法に加えて、電極配線１５や下部透明電極２０が形成さ
れた下部透明基板２２全体を覆うように上部絶縁膜５０
を形成する工程を含む。

【０２１８】次に、本発明の液晶表示素子における第８
の実施の形態の動作を説明する。

【０２１９】本発明の液晶表示素子における第８の実施
の形態に電圧が印加された時に、上部電極１９と配線電
極１５との間、もしくは上部電極１９と画素電極２０と
の間に蓄積容量が設けられる。これは、上部電極１９と
配線電極１５との間、もしくは上部電極１９と画素電極
２０との間に上部絶縁層５０が接して設けられているた
めである。

【０２２０】また、本発明の第８の実施の形態における
液晶表示素子に、本発明の第２から第７の実施の形態を
複合した構成を持たせることによって、本発明の第８の
実施の形態において得られる効果と本発明の第２から第
７の実施の形態において得られる効果とによる相乗的な
効果を有する液晶表示素子を得ることも可能である。

【０２２１】次に、本発明の第９の実施の形態における
液晶表示素子を説明する。

【０２２２】本発明の第９の実施の形態における液晶表
示素子は、本発明の第１から８の実施の形態に使用可能
な、対向電極１９の電位を下部基板２２側から供給する
ためのコンタクト部分を示す。

【０２２３】図１３は、本発明の第９の実施の形態にお
ける液晶表示素子の断面を示す。

【０２２４】図１３を参照して、本発明の液晶表示素子
における第９の実施の形態の構成を説明する。

【０２２５】本発明の液晶表示素子における第９の実施
の形態の構成は、一対の対向する透明基板２１，２２
と、その一対の透明基板２１，２２の間に保持されてい
る液晶５からなる。ここで、一対の対向する透明基板２
１，２２は、上部基板２１と下部基板２２とからなる。

【０２２６】この液晶５は、本発明の液晶表示素子にお
ける第１の実施の形態で使用される液晶と、その液晶の
動作モードが適応可能である。また、液晶の動作モード
は、視野角の改善や欠陥の減少等の必要性から、液晶の
配向方向が異なる分割を行った配向分割方式にも使用可
能である。

【０２２７】また、液晶５のプレチルド角（液晶分子と
基板面とのなす角度をいう）５１は、任意であって、ほ
ぼ０度であっても、他の角度を有していても良い。

【０２２８】上部基板２１上であって、下部基板２２と
対向する面には、対向電極１９と凹凸構造１とが設けら
れている。凹凸構造１は、配線電極１５の上方に設けら
れている。対向電極１９は透明な材質からなる。また、
対向電極１９は、上部基板２１と凹凸構造１全体を覆う
ように設けられている。さらに、所定の凹凸構造１は、
所定の走査電極線または信号電極線上に設けられてい
る。本実施例では、所定の凹凸構造１上に設けられた対
向電極１９は、所定の走査電極線コンタクト部１５１ａ
と電気的に接続するように設けられる。

【０２２９】下部基板２２上であって、上部基板２１と
対向する面には、配線電極１５と絶縁層４と画素電極２
０が設けられている。また、配線電極１５は走査電極線
または信号電極線である。画素電極２０は透明な材質か
らなる。絶縁層４によって、配線電極１５と画素電極２
０は絶縁されている。さらに下部基板２２上であって、
凹凸構造１下部の対向電極１９と接続する部分には、配
線電極１５である走査電極線コンタクト部１５１ａの上
部に、走査電極線コンタクト部１５１ａと接続された信
号電極線コンタクト部１５２ａが設けられ、さらにその
上部に信号電極線コンタクト部１５２ａと接続された画
素電極コンタクト部２０ａが設けられ、さらにその上部
に画素電極コンタクト部２０ａと接続された導電性接着
層６０が設けられている。この導電性接着層６０と、凹
凸構造１下部の対向電極とが接続する構成を有する。

【０２３０】本実施例では、走査電極層を電位供給層と
する、走査電極線コンタクト部１５１ａが配線電極１５
である構成を示す。他に、信号電極層を電位供給層とす
る、信号電極線コンタクト部１５２ａが配線電極１５で
ある構成も可能である。この場合、走査電極線コンタク
ト部１５１ａをもたない構成が望ましい。

【０２３１】本発明の第９の実施の形態における液晶表
示素子では、凹凸構造を有しない従来の液晶表示装置と
比べ、導電性接着層で満たすコンタクト部分が少ないた
め、良好なコンタクトを得ることが可能となる。

【０２３２】次に、本発明の液晶表示素子における第９
の実施の形態の製造方法の例を以下に示す。

【０２３３】下部透明基板２２上に従来知られた方法で
走査電極層１５１ａを形成する。一例として、下部透明
基板２２上にスパッタ法にてクロム層を形成し、その形
成されたクロム層をパタンニングして走査電極層１５１
ａを形成する。

【０２３４】次に、走査電極層１５１ａの形成された下
部透明基板２２全体を覆うように絶縁膜４を形成する。

【０２３５】次に、走査電極層１５１ａ上部の絶縁層４
を除去し、信号電極層１５２ａを走査電極層１５１ａ上
に形成する。

【０２３６】次に、絶縁膜４上に所定のパタンからなる
複数の画素領域の各々に、従来知られた方法で画素電極
である下部透明電極２０を形成する。この時、信号電極
層１５２ａ上にも信号電極層１５２ａと接続された下部
透明電極２０の一部を形成する。

【０２３７】また、必要に応じて、従来知られた方法に
よって、下部透明基板２２上にラビングを行っても良
い。

【０２３８】上部透明基板２１上に凸部１を設ける。こ
の凸部１の形成方法の例を以下に示す。上部透明基板２
１上にカラーフィルタ（図示せず）を形成する場合に、
この凸部１を形成すべき領域にカラーフィルタを積層さ
せたものを形成する。また、上部透明基板２１上のこの
凸部１を形成すべき領域に透明樹脂材料を積層させる。
または所定の厚さの透明樹脂材料をパターンニングして
この凸部１を形成すべき領域に凸部１を残す。

【０２３９】次に、上部透明基板２１と凸部１全体を覆
う上部透明電極１９を従来知られた方法で形成する。

【０２４０】次に、凸部１上に導電性接着層６０を形成
する。この導電性接着層６０の例として、導電性の樹脂
が挙げられる。

【０２４１】また、必要に応じて、従来知られた方法に
よって、上部透明基板２１上にラビングを行っても良
い。

【０２４２】次に、下部透明基板１９と上部透明基板２
０を、下部透明電極２２と上部透明電極２１とを対向さ
せて配置する。この時、導電性接着層６０と、走査電極
層１５１ａ上部にある下部透明電極２２とを接続させ
る。

【０２４３】最後に、下部透明基板２０と上部透明基板
１９との間に真空注入法を用いて液晶５を注入する。

【０２４４】上記の工程によって、本発明の液晶表示素
子における第９の実施の形態が形成される。

【０２４５】また、導電性接着層６０の形成に関して、
上記に示された形成方法の代わりに、下部透明基板２０
上であって、走査電極層１５１ａ上部にある下部透明電
極２２上に形成することも可能である。この場合、下部
透明基板２０と上部透明基板１９を、下部透明電極２２
と上部透明電極２１とを対向させて配置する時に、導電
性接着層６０と、凸部１上の上部透明電極２１とを接続
させる。

【０２４６】次に、本発明の液晶表示素子における第１
０の実施の形態を説明する。

【０２４７】本発明の液晶表示素子における第１０の実
施の形態は、本発明の液晶表示素子における第１から第
９の実施の形態における、凹凸構造１と、対向電極１９
の作成方法である。

【０２４８】まず、上部基板２１上に凹凸構造１を設け
る。次に、全体に対向電極１９を、その対向電極１９が
断線しない膜厚となるように設ける。このような工程を
経て、凹凸構造１の側面に電極を得ることができる。ま
た、対向電極１９は、必要に応じてパターンニングして
も良い。

【０２４９】次に、本発明の第１１の実施の形態におけ
る液晶表示素子を説明する。

【０２５０】本発明の第１１の実施の形態における液晶
表示素子は、本発明の液晶表示素子における第１から第
１０の実施の形態において用いられる液晶５を、強誘電
性液晶もしくは反強誘電性液晶もしくはエレクトロクリ
ニック液晶等のスメクッチク相の液晶を使用する形態で
ある。

【０２５１】スメクチック相の使用により、ネマチック
と異なる転傾等の欠陥を減少させることが可能である。
スメクチック相の弱点である機械的強度も増す。また、
本発明の液晶表示素子における第２から第９の実施の形
態との組み合わせにより、層構造の分割も可能である。

【０２５２】また、以下に、本発明の液晶表示素子にお
ける具体例を示す。

【０２５３】まず、本発明の液晶表示素子における第１
の具体例を以下に示す。

【０２５４】本発明の液晶表示素子における第１の具体
例は、ＭＶＡ（マルチドメイン・バーティカル・アライ
ンド・ネマチック）という配向分割型ホメオトロピック
配向ネマチック液晶表示装置に本発明を適用した例であ
る。

【０２５５】４８０本のゲートバスライン（走査電極
線）及び６４０本のドレインバスライン（信号電極線）
はスパッタ法で形成されたクロミウム（Ｃｒ）を用い、
線幅を１０μｍとし、ゲート絶縁膜には窒化シリコン
（ＳｉＮｘ）を用いた。一単位画素の大きさは縦３３０
μｍ、横１１０μｍとし、アモルファスシリコンを用い
ＴＦＴ（薄膜トランジスタ）を形成し、画素電極は透明
電極である酸化インジウム錫（ＩＴＯ）を用い、スパッ
タ法で形成した。このようにＴＦＴをアレイ状に形成し
たガラス基板を第１の基板とした。

【０２５６】この第１の基板と対向する第２の基板に
は、クロミウムを用いた遮光膜を形成した後、カラーフ
ィルタを染色法によりマトリクス状に形成した。このカ
ラーフィルタの形成時に各色のカラーフィルタは１．５
μｍとし、カラーフィルタを３色重ねることで４．５μ
ｍの凹凸構造を得た。凹凸構造はＴＦＴ基板と対向させ
た時に、図３で示される構造となるように画素開口部以
外の領域に形成した。その上にＩＴＯを用いた透明電極
（共通電極）を形成した。

【０２５７】その後、第１の基板と第２の基板の両方に
印刷法により可溶性ポリイミドを印刷し１８０℃でベー
キングして溶媒を除去した。接触段差計で測定した配向
膜の厚さは約５００Åであり、クリスタルローテーショ
ン法で測定したプレチルト角は９０度であった。

【０２５８】このような一対のガラス基板の一方に約
４．７μｍ径の円柱状のガラス製ロッドスペーサを分散
させた熱硬化性のシール材を塗布した。これらの基板を
対向させて配置し熱処理によりシール材を硬化させてギ
ャップ４．５μｍのパネルを組み立てた。このパネル
に、誘電異方性が負のネマチック液晶を真空下で注入し
た。このようにして作製した液晶パネルに、駆動用のド
ライバＩＣを取り付け液晶表示装置とした。

【０２５９】本発明の液晶表示素子における第１の具体
例では、良好な２領域の分割配向が得られ、広い視野角
が得られた。

【０２６０】次に、本発明の液晶表示素子における第２
の具体例を以下に示す。

【０２６１】本発明の液晶表示素子における第２の具体
例は、本発明の液晶表示素子における第１の具体例の凹
凸構造の配置を、図８で示される配置に変えて、本発明
の液晶表示素子における第１の具体例と同様に液晶表示
素子を作成した。

【０２６２】本発明の液晶表示素子における第２の具体
例では、良好な４領域の分割配向が得られ、本発明の液
晶表示素子における第１の具体例より広い視野角が得ら
れた。

【０２６３】次に、本発明の液晶表示素子における第３
の具体例を以下に示す。

【０２６４】本発明の液晶表示素子における第３の具体
例は、本発明の液晶表示素子における第２の具体例に加
えて、図５で示される突起構造を第２の基板に設けて、
本発明の液晶表示素子における第２の具体例と同様に液
晶表示素子を作成した。

【０２６５】本発明の液晶表示素子における第３の具体
例では、本発明の液晶表示素子における第２の具体例よ
り更に良好な４領域の分割配向が得られた。具体的に
は、分割境界に現れるディスクリネーションラインの移
動が無く安定した表示であった。

【０２６６】次に、本発明の液晶表示素子における第４
の具体例を以下に示す。

【０２６７】本発明の液晶表示素子における第４の具体
例では、本発明の液晶表示素子における第３の具体例に
加え、図５で示される突起構造をＴＦＴ側基板にも設け
て、本発明の液晶表示素子における第３の具体例と同様
に液晶表示素子を作成した。

【０２６８】本発明の液晶表示素子における第４の具体
例では、本発明の液晶表示素子における第３の具体例よ
り更に良好な４領域の分割配向が得られた。具体的に
は、分割境界に現れるディスクリネーションラインの移
動が全く無く安定した表示であった。更に、液晶表示素
子への電圧印加に対する応答速度が本発明の液晶表示素
子における第３の具体例より高速となった。これは、液
晶が液晶パネル内で突起構造（分割のきっかけ部）に誘
起された配向をしており、電界による液晶に対する配向
の変形等が容易に生じるためと考えられる。

【０２６９】次に、本発明の液晶表示素子における第５
の具体例を以下に示す。

【０２７０】本発明の液晶表示素子における第５の具体
例は、ＯＣＢ（オプティカリー・コンペンセイテッド・
バイリフリジェンス）と呼ばれるπセルに補償板を付加
し、広視野角とした液晶表示素子に本発明を適用した例
である。

【０２７１】本発明の液晶表示素子における第５の具体
例の製造方法を以下に示す。ＴＦＴ基板およびカラーフ
ィルタ（ＣＦ）基板は本発明の液晶表示素子における第
１の具体例と同様な方法で作成した。但し、カラーフィ
ルタは、染料を用いバブルジェットによるインクジェッ
ト方式により形成した。また、凹凸構造はカラーフィル
タ以外の透明樹脂材料を用い積層することにより厚みが
６μｍとなるようにした。更に、凹凸構造はＴＦＴ基板
と対向させた時に、図１で示される構造となるように画
素開口部以外の領域に信号電極線と対向するように信号
電極線３本あたりに１本の割合で形成した。

【０２７２】第１および第２の基板に、スピンコート法
によりポリアミック酸を塗布し２００℃でベーキングし
イミド化しポリイミド膜を形成した。このポリイミド膜
上を、レーヨンを使用したバフ布を直径５０ｍｍのロー
ラーに巻き付け、ローラーの回転数６００ｒｐｍ、ステ
ージ移動速度４０ｍｍ／秒、押し込み量０．７ｍｍ、ラ
ビング回数２回でパラレルラビングとなるような方向に
ラビングした。接触段差計で測定した配向膜の厚さは約
５００Åであり、クリスタルローテーション法で測定し
たプレチルト角は７度であった。このような一対のガラ
ス基板の一方に約６μｍ径の円柱状のガラス製ロッドス
ペーサを分散させた紫外線硬化性のシール材を塗布し
た。これらの基板をラビング処理方向が互いに平行ラビ
ングとなるように両基板を対向させて配置し非接触で紫
外線を照射する処理でシール材を硬化させてギャップ６
μｍのパネルを組み立てた。このパネルに、ネマチック
液晶を注入した。

【０２７３】本発明の液晶表示素子における第５の具体
例では、エス・アイ・ディー９４・ダイジェストの９２
７頁から９３０頁に示されるＯＣＢ（オプティカリ・コ
ンペンセイティッド・バイリフリジェンス）表示モード
と同様の効果が得られるように設計した補償板を付加し
た。このようにして作製した液晶パネルに、駆動用のド
ライバを取り付け液晶表示装置とした。

【０２７４】本発明の液晶表示素子における第５の具体
例では、駆動速度が高速で広視野角を有する液晶表示装
置が得られた。更に、外部から指で押す等の外力を加え
ても表示の乱れが無かった。すなわち、従来のＯＣＢの
パネルでは外力が加えられると液晶配向がベンド配向か
らスプレイ配向に変化してしまう欠陥が生じたが、本発
明の液晶表示素子における第５の具体例では、このよう
な欠陥が全く見られなかった。このため、本発明の液晶
表示素子における第５の具体例では、液晶表示装置にタ
ッチパネルを付加しても良好に使用することができた。

【０２７５】次に、本発明の液晶表示素子における第６
の具体例を以下に示す。

【０２７６】本発明の液晶表示素子における第６の具体
例は、本発明の液晶表示素子の第１１の実施の形態で用
いられるスメクチック液晶に本発明を適用した例であ
る。

【０２７７】本発明の液晶表示素子における第６の具体
例の製造方法を以下に示す。ＴＦＴ基板およびカラーフ
ィルタ（ＣＦ）基板は本発明の液晶表示素子における第
１の具体例と同様な方法で作成した。但し、カラーフィ
ルタの各色の内１色の膜厚を１．６μｍとし、この相の
みを使用して凹凸構造を形成した。また、表示領域の外
部にも凹凸構造を表示領域を取り囲み、且つ、一部領域
のみ開いた形状に設けた。この表示領域の外部の凹凸構
造がシール材の壁の代わりをなし、口が開いた領域が液
晶注入口となる。また、図１３で示される本発明の液晶
表示素子における第９の実施の形態を採用し、コンタク
ト部の絶縁層はパターニングし除去した。その後、両基
板にスピンコート法によりポリアミック酸を塗布し、１
８０℃でベーキングしイミド化しポリイミド膜を形成し
た。このポリイミド膜をナイロンを使用したバフ布を直
径５０ｍｍのローラーに巻き付け、ローラーの回転数６
００ｒｐｍ、ステージ移動速度４０ｍｍ／秒、押し込み
量０．７ｍｍ、ラビング回数２回で１０°クロスラビン
グとなるような方向にラビングした。接触段差計で測定
した配向膜の厚さは約５００Åであり、クリスタルロー
テーション法で測定したプレチルト角は１．５度であっ
た。このような一対のガラス基板をラビング処理方向が
互いに１０°クロスラビングとなるように両基板を対向
させて配置し、２２０℃の熱処理により配向膜に用いた
ポリイミドを更に硬化させて接着性を持たせ、ギャップ
１．６μｍのパネルを組み立てた。

【０２７８】このパネルに、アジア・ディスプレイ９５
の６１頁から６４頁に示されるＶ字型スイッチングをす
る反強誘電性液晶組成物と同様の液晶組成物を、真空中
において８５℃の等方相（Ｉｓｏ）の状態で注入した。
この液晶の自発分極値を三角波を印加して測定したとこ
ろ、１６５ｎＣ／ｃｍ^２であった。また、応答速度は階
調電圧によって異なったが、２００マイクロ秒から８０
０マイクロ秒の間であった。８５℃のまま、任意波形発
生器と高出力アンプを用いてパネル全面に周波数が３ｋ
Ｈｚで振幅が±１０Ｖの矩形波を印加し、電界を印加し
ながら、室温まで０．１℃／ｍｉｎの速度で徐冷した。
このようにして作製した液晶パネルに、駆動用のドライ
バＩＣを取り付け液晶表示装置とした。

【０２７９】得られた液晶パネルの表示は、十分なコン
トラストが確保されており（コントラスト比２００以
上）、広い視野角を有しており、かつ、焼き付きや残像
の無い良好な表示であった。液晶配向は１０°のクロス
ラビングの中央、すなわち、おのおののラビング方向か
ら５°ずれた位置に配向していた。また、従来に比べて
極めて外力に強かった。

【０２８０】次に、本発明の液晶表示素子における第７
の具体例を以下に示す。

【０２８１】本発明の液晶表示素子における第７の具体
例は、本発明の液晶表示素子における第６の具体例と同
様であるが、本発明の液晶表示素子における第１１の実
施の形態において分割した領域を制御して得られるよう
にした例である。

【０２８２】本発明の液晶表示素子における第７の具体
例の製造方法を以下に示す。ＴＦＴ基板およびカラーフ
ィルタ（ＣＦ）基板は本発明の液晶表示素子における第
６の具体例と同様な方法で作成した。但し、ラビング方
向は１００°のクロスラビングとした。また、凹凸構造
は図７で示される本発明の液晶表示素子における第５の
実施の形態とほぼ等しい形状に配置した。その他の点
は、本発明の液晶表示素子における第６の実施例と同様
に作成した。

【０２８３】図１４に本発明の液晶表示素子における第
７の具体例の画素部の平面透視図とラビング方向の模式
図を示す。図１４には、図７で示される本発明の液晶表
示素子における第５の実施の形態に加えて、上部基板
（図示せず）のラビング方向７１と下部基板のラビング
方向７２と、本発明の液晶表示素子における第７の具体
例に電圧を印加した時に生ずるディスクリネーションラ
イン３ａを示す。

【０２８４】本発明の液晶表示素子における第７の具体
例では、各画素内にディスクリネーションライン３ａで
分割された２種類の異なった配向方向が得られた。これ
は次にような原因による。１００°のクロスラビングか
ら各々から５°ずつずれた方向に配向に液晶は配向しや
すい。そのため、徐冷の条件を最適化すると、各基板の
配向規制力に従った２種類の配向の領域がちょうど９０
°ずれた方向にランダムに得られる。本実施例では、こ
のような２種類の配向領域が得られやすい条件下と共
に、凹凸構造の存在自身と徐冷時の電界印加により液晶
の配向が制御され、配向領域がランダムでなく２領域に
分割されたと考えられる。

【０２８５】本発明の液晶表示素子における第７の具体
例では、強誘電性液晶や反強誘電性液晶を用いた場合に
しばしば見られる、斜め方向から観察した場合のフリッ
カが見られなかった。これは、９０°異なった液晶配向
領域が互いに補償しあうためと考えられる。

【０２８６】ここで、本発明の実施により得られる効果
を以下に示す。

【０２８７】本発明の第１の効果は、横方向電界の影響
により生ずる、ディスクリネーション等の配向の乱れが
生じない液晶表示装置を得ることが可能である。本発明
による液晶表示装置は、横方向電界を制御することが可
能であるためである。

【０２８８】本発明の第２の効果は、液晶表示装置表面
に加えられた外力によって、素子の有する分割配向の崩
れが生じない液晶表示装置を得ることが可能である。本
発明による液晶表示装置は、凹凸構造を有し、この凹凸
構造により機械的強度が増しているためである。また、
スペーサを入れることにより、さらに機械的強度を強く
することが可能である。

【０２８９】本発明の第３の効果は、配向領域分割が容
易に得ることが可能である。本発明による液晶表示装置
の製造方法は、従来例における製造方法と比較して、凹
凸構造を設けるプロセス以外のプロセスを増加させるこ
となく、液晶の配向分割を実現可能であるためである。

【０２９０】本発明の第４の効果は、コンタクトが容易
に取れることである。本発明による液晶表示装置は、凹
凸構造を有し、この凹凸構造によって導電性接着層の占
める体積を減少させることが可能であるためである。

【０２９１】本発明の第５の効果は、良好な表示が可能
な強誘電・反強誘電性液晶表示装置が得られることであ
る。本発明による液晶表示装置は、機械的強度が強く、
欠陥が発生しないこと、また、製造時の設計に応じて所
定の分割配向が得られるためである。

【０２９２】

【発明の効果】本発明の第１の効果は、横方向電界の影
響により生ずる、ディスクリネーション等の配向の乱れ
が生じない液晶表示装置を得ることが可能である。

【０２９３】本発明の第２の効果は、液晶表示装置表面
に加えられた外力によって、素子の有する分割配向の崩
れが生じない液晶表示装置を得ることが可能である。

【０２９４】本発明の第３の効果は、配向領域分割が容
易に得ることが可能である。

【０２９５】本発明の第４の効果は、コンタクトが容易
に取れることである。

【０２９６】本発明の第５の効果は、良好な表示が可能
な強誘電・反強誘電性液晶表示装置が得られることであ
る。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の第１の実施の形態における液晶表示素
子の断面を示す。

【図２】本発明の液晶表示素子における第１の実施の形
態の動作を示す断面図である。

【図３】本発明の第２の実施の形態における液晶表示素
子の断面を示す。

【図４】本発明の液晶表示素子における第２の実施の形
態の動作を示す断面図である。

【図５】本発明の第４の実施の形態における液晶表示素
子の断面を示す。

【図６】本発明の液晶表示素子における第４の実施の形
態の動作を示す断面図である。

【図７】本発明の第５の実施の形態における液晶表示素
子を上面から見た透視平面図である。

【図８】本発明の第６の実施の形態における液晶表示素
子を上面から見た透視平面図である。

【図９】本発明の第６の実施の形態における液晶表示素
子の変形例を上面から見た透視平面図である。

【図１０】本発明の第７の実施の形態における液晶表示
素子の断面図である。

【図１１】本発明の液晶表示素子における第７の実施の
形態の動作を示す断面図である。

【図１２】本発明の第８の実施の形態における液晶表示
素子の断面図である。

【図１３】本発明の第９の実施の形態における液晶表示
素子の断面図である。

【図１４】本発明の液晶表示素子における第７の具体例
の画素部の平面透視図とラビング方向の模式図である。

【図１５】特開昭６３−１０６６２４号公報に開示され
ている従来例による液晶表示装置の平面図を示す。

【図１６】特開昭６３−１０６６２４号公報に開示され
ている従来例による液晶表示装置の斜視図を示す。

【図１７】図１５のＣ−Ｃ’線断面図を示す。

【図１８】図１６の観察方向を方位角方向で４５°変え
た時のラビング方向及び上下基板間での液晶配向の捻じ
れ方向を示す平面透視図を示す。

【図１９】図１８のｂ−ｂ’線断面図を示す。

【図２０】エスアイディー’９２ダイジェスト７９８頁
に示される従来例でのラビング方向及び上下基板間での
液晶配向の捻じれ方向を示す平面透視図である。

【図２１】図２０のｃ−ｃ’線断面図である。

【図２２】ジャパンディスプレイ’９２ダイジェスト５
９１頁に示されている従来例でのラビング方向、及び上
下基板間での液晶配向の捻じれ方向を示す平面透視図で
ある。

【図２３】図２２のｄ−ｄ’断面図である。

【図２４】エスアイディー’９２ダイジェスト２６９頁
に示されている従来例でのラビング方向、及び上下基板
間での液晶配向の捻じれ方向の平面透視図である。

【図２５】図２４のｅ−ｅ’断面図である。

【図２６】コンファレンス・レコード・オブ・ザ・１９
９１・インターナショナル・ディスプレイ・リサーチ・
コンファレンス２３９頁に示されている従来例の液晶表
示素子の一部の断面図である。

【図２７】図２６における、横方向電界の状態を表わす
図である。

【図２８】通常のＴＮ型で用いられている液晶表示素子
の一部の断面図である。

【図２９】図２８における、電界の状態を表わす図であ
る。

【図３０】従来技術による液晶表示素子の動作を示す断
面図である。

【符号の説明】

１，１ａ，１ｂ，１ｃ，１ｄ，１ｅ，１ｆ，１ｇ，１
ｈ，１ｉ，１ｊ，１ｋ，１ｌ 凹凸構造 ２ 横方向電界 ３ ディスクリネーションライン ４ 絶縁層 ５ 液晶 １５ 配線電極 １９ 対向電極 ２０ 画素電極 ２０ａ 画素電極コンタクト部 ２１ 上部基板 ２２ 下部基板 ３０ 突起構造 ４０ スリット状孔 ５０ 上部絶縁膜 ５１ プレチルド角 ６０ 導電性接着層 Ｂ 画素 １００ 液晶表示装置 １０５ 液晶物質 １０６ 電界による液晶配向の立ち上がり方向 １０６ａ 領域Ｘでの電界による液晶配向の立ち上がり
方向 １０６ｂ 領域Ｙでの電界による液晶配向の立ち上がり
方向 １０９ 配向膜 １１０ 配向膜 １１１ 上部透明電極 １１３ スイッチング素子 １２０ 下部透明電極 １２１ 上部ガラス基板 １２２ 下部ガラス基板 １２３ 帯状スペーサ １２７ 液晶配向の捻じれ角 １３１ 領域Ｘ １３２ 領域Ｙ １３１１ 上部ガラス基板上の領域Ｘでのラビング方向 １３１２ 下部ガラス基板上の領域Ｙでのラビング方向 １３２１ 上部ガラス基板上の領域Ｘでのラビング方向 １３２２ 下部ガラス基板上の領域Ｙでのラビング方向 １５１ 走査電極線 １５１ａ 走査電極線コンタクト部 １５２ 信号電極線 １５２ａ 信号電極線コンタクト部 ２０２ 電界 ２０４ 下部窒化シリコン膜 ２１５ 信号電極線 ２１９ 上部透明電極（対向電極） ２２０ 下部透明電極（画素電極） ２２１ 上部ガラス基板 ２２２ 下部ガラス基板 ２３１ ブラックマスク ２３２ カラー層 ２３３ オーバーコート ２４１ 上部窒化シリコン膜 ３０２ 横方向電界 ３０３ ディスクリネーションライン ３０４ 絶縁層 ３０５ 液晶 ３１５ 配線電極 ３１９ 対向電極 ３２０ 画素電極 ３２１ 上部基板 ３２２ 下部基板

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き Ｆターム(参考） 2H089 HA04 HA06 LA04 LA09 LA12 LA16 LA19 MA04X PA06 PA08 QA02 QA15 RA05 RA07 RA08 RA09 RA10 RA13 RA14 TA09 TA12 2H090 HB08Y HD14 JA03 JA05 JC03 KA05 KA07 KA08 KA09 KA11 KA12 KA14 KA15 LA02 LA04 LA15 MA07 MB01 2H092 JA24 JB05 JB13 JB16 JB23 JB24 JB26 JB32 JB33 JB35 JB52 KA05 KB04 MA10 NA04 NA17 PA02 PA08 PA09 QA07 QA09 QA10 QA11 QA13 QA14 QA15

Claims (47)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 上部基板と、下部基板と、ここで、前記
   上部基板と前記下部基板の少なくとも一方は透明基板で
   あり、 前記上部基板の前記下部基板との対向面上に設けられた
   上部電極と、前記下部基板の前記上部基板との対向面上
   に設けられた下部電極と、ここで、前記上部電極と前記
   下部電極のうち、前記透明基板上に設けられた電極の少
   なくとも一方は透明であり、 前記上部電極と前記下部電極間に保持された液晶と、 前記下部基板の前記上部基板との対向面上に設けられた
   走査電極線と信号電極線と、前記下部電極への電圧の印
   加を制御するためのスイッチング素子と、ここで、前記
   スイッチング素子による前記下部電極への電圧の印加
   は、前記走査電極線と前記信号電極線への電圧の印加に
   よって制御されており、 前記上部基板の前記下部基板との対向面上であって、前
   記走査電極線または前記信号電極線上に設けられた前記
   上部電極と同電位の導電性凸部からなる、液晶表示素
   子。
2. 【請求項２】 前記導電性凸部は、 前記上部基板の前記下部基板との対向面上であって、前
   記走査電極線または前記信号電極線上に設けられた凸部
   と、 前記凸部を覆う前記上部電極の一部からなる請求項１に
   記載の液晶表示素子。
3. 【請求項３】 前記導電性凸部は、 前記上部透明基板の前記下部基板との対向面上に設けら
   れた凸部と、 前記凸部の側面に設けられた前記上部透明電極の一部か
   らなる、 請求項１に記載の液晶表示素子。
4. 【請求項４】 前記凸部は、前記上部透明基板の前記下
   部基板との対向面上に積層されたカラーフィルタまたは
   透明樹脂からなる、 請求項２または３に記載の液晶表示素子。
5. 【請求項５】 前記導電性凸部の幅は、前記走査電極線
   または前記信号電極線の線幅に対して、実質的に等し
   い、またはより広いことを特徴とする、 請求項１から４に記載の液晶表示素子。
6. 【請求項６】 前記走査電極線と前記信号電極線を覆
   い、前記導電性凸部と接触する下部絶縁膜をさらに有す
   る、 請求項１から５に記載の液晶表示素子。
7. 【請求項７】 前記上部電極と前記下部電極の少なくと
   も一方は、前記導電性凸部と異なり、前記液晶の配向を
   分割するための突起部をさらに有する、 請求項１から６のいずれかに記載の液晶表示素子。
8. 【請求項８】 前記上部電極と前記下部電極の少なくと
   も一方は、前記液晶の配向を分割するための非導電性孔
   部をさらに有する、 請求項１から７のいずれかに記載の液晶表示素子。
9. 【請求項９】 前記走査電極線と前記信号電極線のいず
   れかと前記導電性凸部が電気的に接続している、 請求項２または４に記載の液晶表示素子。
10. 【請求項１０】 前記走査電極線と前記信号電極線のい
    ずれかの上部に設けられた導電性接触部をさらに有し、 前記導電性凸部と前記導電性接触部とが接触している、 請求項９に記載の液晶表示素子。
11. 【請求項１１】 前記上部基板と前記下部基板間に分散
    されたスペーサを更に有する、 請求項１から１０のいずれかに記載の液晶表示素子。
12. 【請求項１２】 前記液晶表示素子は、前記走査電極線
    と前記信号電極線によって囲まれた複数の画素領域を有
    し、 前記下部電極は、前記各画素領域に対応して設けられた
    複数の画素電極からなり、 前記各画素領域は、所定の対称中心点を有し、 前記導電性凸部は、実質的に前記対称中心点を中心に点
    対称に配置される、 請求項１から６のいずれかに記載の液晶表示素子。
13. 【請求項１３】 前記対称中心点は、対応する前記画素
    領域の実質的に中心である、 請求項１２に記載の液晶表示素子。
14. 【請求項１４】 前記各画素領域は、 前記上部電極と前記画素電極の少なくとも一方に、前記
    導電性凸部と異なり、前記液晶の配向を分割するための
    突起部をさらに有し、 前記突起部は実質的に前記対称中心点を通過する所定の
    線上に設けられる、 請求項１２または１３に記載の液晶表示素子。
15. 【請求項１５】 前記各画素領域は、 前記上部電極と前記下部電極の少なくとも一方に、前記
    液晶の配向を分割するための非導電性孔部をさらに有
    し、 前記非導電性孔部は実質的に前記対称中心点を通過する
    所定の線上に設けられる、 請求項１２または１３に記載の液晶表示素子。
16. 【請求項１６】 前記液晶表示素子は、前記走査電極線
    と前記信号電極線によって囲まれた複数の画素領域を有
    し、 前記下部電極は、前記各画素領域に対応して設けられた
    複数の画素電極からなり、 前記各画素領域は、所定の対称中心線を有し、 前記導電性凸部は、実質的に前記対称中心線を中心に線
    対称に配置される、 請求項１から６のいずれかに記載の液晶表示素子。
17. 【請求項１７】 前記対称中心線は、対応する前記画素
    領域の実質的に中心を通る、 請求項１６に記載の液晶表示素子。
18. 【請求項１８】 前記各画素領域は、 前記上部電極と前記画素電極の少なくとも一方に、前記
    導電性凸部と異なり、前記液晶の配向を分割するための
    突起部をさらに有し、 前記突起部は実質的に前記対称中心線上に設けられる請
    求項１６または１７に記載の液晶表示素子。
19. 【請求項１９】 前記各画素領域は、 前記上部電極と前記下部電極の少なくとも一方に、前記
    液晶の配向を分割するための非導電性孔部をさらに有
    し、 前記非導電性孔部は実質的に前記対称中心線上に設けら
    れる請求項１６または１７に記載の液晶表示素子。
20. 【請求項２０】 前記液晶は、 ネマチック液晶、コレステリック液晶（カイラルネマチ
    ック液晶）、ディスコティック液晶のいずれかからな
    る、 請求項１から１９のいずれかに記載の液晶表示素子。
21. 【請求項２１】 前記液晶の動作モードは、 ツイステッドネマチック、ＳＴＮスーパーツイステッド
    ネマチック、ホモジニアス、ホメオトロピック、インプ
    レーンスイッチング、パイセル、コレステリック相転
    移、ポリマー分散、ポリマーネットワークのいずれかか
    らなる、 請求項２０に記載の液晶表示素子。
22. 【請求項２２】 （ａ）下部基板の上部基板と対向する
    面上に配線電極線を形成し、前記配線電極線を覆う絶縁
    膜を形成し、前記絶縁膜上に下部電極を形成し、前記下
    部電極へ電圧を印加するためのスイッチング素子を形成
    するステップと、 （ｂ）前記上部基板の前記下部基板と対向する面上に凸
    部を設けるステップと、ここで、前記凸部は、前記下部
    基板と前記上部基板とを対向させた時に、前記凸部を実
    質的に前記配線電極線の直上部に配置するように設けら
    れ、 （ｃ）前記上部基板の前記下部基板と対向する面と前記
    凸部全体を覆う上部電極を設けるステップと、ここで、
    前記上部基板と前記下部基板の少なくとも一方は透明基
    板であり、前記上部電極と前記下部電極のうち、前記透
    明基板上に設けられた電極の少なくとも一方は透明であ
    り、 （ｄ）前記凸部を実質的に前記配線電極線の直上部に配
    置するように前記下部基板と前記上部基板を対向させる
    ステップと （ｅ）前記下部基板と前記上部基板との間に液晶を注入
    するステップと、からなる液晶表示素子の製造方法。
23. 【請求項２３】 前記（ｂ）ステップは、 前記上部基板の前記下部基板と対向する面上に、前記複
    数のカラーフィルタを積層した凸部を形成するステップ
    からなる、 請求項２２に記載の液晶表示素子の製造方法。
24. 【請求項２４】 前記（ｂ）ステップは、 前記上部基板の前記下部基板と対向する面上に、透明樹
    脂を積層し、積層された前記透明樹脂を、凸部を残して
    除去するステップからなる、 請求項２２に記載の液晶表示素子の製造方法。
25. 【請求項２５】 前記凸部は、 前記配線電極線の線幅に対して、実質的に等しい、また
    はより広い幅を有する、 請求項２２から２４のいずれかに記載の液晶表示素子の
    製造方法。
26. 【請求項２６】 （ｆ）前記上部電極と前記下部電極の
    少なくとも一方に前記凸部とは異なる突起部を形成する
    ステップをさらに有する、 請求項２２から２４のいずれかに記載の液晶表示素子の
    製造方法。
27. 【請求項２７】 （ｇ）前記上部電極と前記下部電極の
    少なくとも一方の一部を除去するステップをさらに有す
    る、 請求項２２から２４のいずれかに記載の液晶表示素子の
    製造方法。
28. 【請求項２８】 （ｈ）前記配線電極線上に前記配線電
    極線と電気的に接続する導電性接触部を設けるステップ
    をさらに有し、 前記（ｄ）ステップは、 前記導電性接触部と前記凸部を覆う前記上部電極とが接
    触するように配置するステップをさらに含む、 請求項２２から２５のいずれかに記載の液晶表示素子の
    製造方法。
29. 【請求項２９】 液晶表示素子を構成する複数の画素領
    域において、 （ａ）下部基板の上部基板に対向する面上の各画素領域
    毎に、前記各画素領域を囲むように配線電極線を形成
    し、前記配線電極線を覆う絶縁膜を形成し、前記各画素
    領域に前記配線電極線と接続しない画素電極と前記画素
    電極への電圧の印加を制御する複数のスイッチング素子
    を形成するステップと、 （ｂ）前記上部基板の前記下部基板に対向する面上の各
    画素領域毎に、所定の対称中心点を有し、前記対称中心
    点を中心とする点対称の位置であって、前記下部基板と
    対向させる時に前記配線電極線の実質的に直上にあたる
    位置に凸部を形成するステップと、 （ｃ）前記上部基板と前記凸部全体を覆う上部電極を形
    成するステップと、 （ｄ）前記凸部を実質的に前記配線電極線の直上部に配
    置し、前記各画素領域を形成するように前記下部基板と
    前記上部基板を対向させるステップと、 （ｆ）前記下部基板と前記上部基板との間に液晶を注入
    するステップと、からなる液晶表示素子の製造方法。
30. 【請求項３０】 前記対称中心点は、対応する前記画素
    領域の実質的に中心である、 請求項２９に記載の液晶表示素子の製造方法。
31. 【請求項３１】 （ｇ）前記上部基板の前記下部基板に
    対向する面上に、前記凸部とは異なる突起部を形成する
    ステップをさらに含み、 前記（ｃ）ステップは、 前記上部基板の前記下部基板と対向する面と前記凸部と
    前記突起部全体を覆う上部透明電極を形成するステップ
    からなる、 請求項２９または３０に記載の液晶表示素子の製造方
    法。
32. 【請求項３２】 前記（ｇ）ステップは、 前記上部基板の前記下部基板と対向する面上に、前記凸
    部とは異なる突起部を、実質的に前記対称中心点を通過
    する所定の線上に形成するステップからなる、 請求項３１に記載の液晶表示素子の製造方法。
33. 【請求項３３】 （ｈ）前記上部電極のうち、前記凸部
    を除いた一部を除去するステップをさらに含む、 請求項２９または３０に記載の液晶表示素子の製造方
    法。
34. 【請求項３４】 前記（ｈ）ステップは、 実質的に前記対称中心点を通過する所定の線上にある前
    記上部電極を除去するステップからなる、 請求項３３に記載の液晶表示素子の製造方法。
35. 【請求項３５】 （ｉ）前記下部電極の一部を除去する
    ステップをさらに含む請求項２９または３０に記載の液
    晶表示素子の製造方法。
36. 【請求項３６】 前記（ｉ）ステップは、 実質的に前記対称中心点を通過する所定の線上にある前
    記下部電極を除去するステップからなる、 請求項３５に記載の液晶表示素子の製造方法。
37. 【請求項３７】 液晶表示素子を構成する複数の画素領
    域において、 （ａ）下部基板の上部基板に対向する面上の各画素領域
    毎に、前記各画素領域を囲むように配線電極線を形成
    し、前記配線電極線を覆う絶縁膜を形成し、前記各画素
    領域に前記配線電極線と接続しない画素電極と前記画素
    電極への電圧の印加を制御する複数のスイッチング素子
    を形成するステップと、 （ｂ）前記上部基板の前記下部基板に対向する面上の各
    画素領域毎に、所定の対称中心線を有し、前記対称中心
    線を中心とする線対称の位置であって、前記下部基板と
    対向させる時に前記配線電極線の実質的に直上にあたる
    位置に凸部を形成するステップと、 （ｃ）前記上部基板と前記凸部全体を覆う上部電極を形
    成するステップと、 （ｄ）前記凸部を実質的に前記配線電極線の直上部に配
    置し、前記各画素領域を形成するように前記下部基板と
    前記上部基板を対向させるステップと、 （ｆ）前記下部基板と前記上部基板との間に液晶を注入
    するステップと、からなる液晶表示素子の製造方法。
38. 【請求項３８】 前記対称中心線は、対応する前記画素
    領域の実質的に中心を通る、 請求項３７に記載の液晶表示素子の製造方法。
39. 【請求項３９】 （ｇ）前記上部基板の前記下部基板に
    対向する面上に、前記凸部とは異なる突起部を形成する
    ステップをさらに含み、 前記（ｃ）ステップは、 前記上部基板の前記下部基板に対向する面と前記凸部と
    前記突起部全体を覆う上部透明電極を形成するステップ
    からなる、 請求項３７または３８に記載の液晶表示素子の製造方
    法。
40. 【請求項４０】 前記（ｇ）ステップは、 前記上部基板の前記下部基板に対向する面上に、前記凸
    部とは異なる突起部を、実質的に前記対称中心線上に形
    成するステップからなる、 請求項３９に記載の液晶表示素子の製造方法。
41. 【請求項４１】 （ｈ）前記上部電極のうち、前記凸部
    を除いた一部を除去するステップをさらに含む、 請求項３７または３８に記載の液晶表示素子の製造方
    法。
42. 【請求項４２】 前記（ｈ）ステップは、 実質的に前記対称中心線上にある前記上部電極を除去す
    るステップからなる、請求項４１に記載の液晶表示素子
    の製造方法。
43. 【請求項４３】 （ｉ）前記下部電極の一部を除去する
    ステップをさらに含む請求項３７または３８に記載の液
    晶表示素子の製造方法。
44. 【請求項４４】 前記（ｉ）ステップは、 実質的に前記対称中心線上にある前記下部電極を除去す
    るステップからなる、 請求項４３に記載の液晶表示素子の製造方法。
45. 【請求項４５】 前記上部基板と前記下部基板間にスペ
    ーサを設けるステップをさらに有する、 請求項２２から４４に記載の液晶表示素子の製造方法。
46. 【請求項４６】 前記液晶は、 ネマチック液晶、コレステリック液晶（カイラルネマチ
    ック液晶）、ディスコティック液晶のいずれかからな
    る、 請求項２２から４５に記載の液晶表示素子の製造方法。
47. 【請求項４７】 前記液晶の動作モードは、 ツイステッドネマチック、ＳＴＮスーパーツイステッド
    ネマチック、ホモジニアス、ホメオトロピック、インプ
    レーンスイッチング、パイセル、コレステリック相転
    移、ポリマー分散、ポリマーネットワークのいずれかか
    らなる、 請求項２２から４６に記載の液晶表示素子の製造方法。