JP2000354578A - 前もって湿らせたクリーニングワイパー - Google Patents
前もって湿らせたクリーニングワイパーInfo
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 揮発性有機化学物質と不揮発性残留物の少な
い、殊に清浄な表面が求められる分野での表面クリーニ
ングに好適な前もって湿らせたクリーニングワイパーを
提供する。 【解決手段】 高純度の水と有効量のアセチレン列アル
コール界面活性剤との水性溶液で湿潤されたワイパー基
材を含むようにする。界面活性剤は好ましくはアセチレ
ン列ジオールであり、より好ましくはアセチレン列グリ
コールである。好ましいアセチレン列ジオールにはジメ
チルオクチンジオールとテトラメチルデシンジオールが
含まれる。
い、殊に清浄な表面が求められる分野での表面クリーニ
ングに好適な前もって湿らせたクリーニングワイパーを
提供する。 【解決手段】 高純度の水と有効量のアセチレン列アル
コール界面活性剤との水性溶液で湿潤されたワイパー基
材を含むようにする。界面活性剤は好ましくはアセチレ
ン列ジオールであり、より好ましくはアセチレン列グリ
コールである。好ましいアセチレン列ジオールにはジメ
チルオクチンジオールとテトラメチルデシンジオールが
含まれる。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、殊に清浄な表面が
求められる分野での表面クリーニング用に好適な前もっ
て湿らせたクリーニングワイパーに関する。
求められる分野での表面クリーニング用に好適な前もっ
て湿らせたクリーニングワイパーに関する。
【０００２】
【従来の技術及び発明が解決しようとする課題】エレク
トロニクス製造業は一般に、コンピュータチップやメモ
リーデバイスにおいて典型的に見られる集積回路等のよ
うな電子回路の顧客により今日要望される極めて小さい
電気配線やデバイス、そして配線及びデバイスの密度の
ために、製作領域、例えばクリーンルームのような領域
において、超清浄な表面を必要としている。
トロニクス製造業は一般に、コンピュータチップやメモ
リーデバイスにおいて典型的に見られる集積回路等のよ
うな電子回路の顧客により今日要望される極めて小さい
電気配線やデバイス、そして配線及びデバイスの密度の
ために、製作領域、例えばクリーンルームのような領域
において、超清浄な表面を必要としている。
【０００３】電子製造産業用機械や、それらの機械と作
業領域を取り巻く表面は一般に、タオル、ワイパーや、
種々の溶剤、湿潤剤及びクリーニング液で前もって湿ら
せたワイパーで表面を拭いてきれいにすることで清浄に
される。
業領域を取り巻く表面は一般に、タオル、ワイパーや、
種々の溶剤、湿潤剤及びクリーニング液で前もって湿ら
せたワイパーで表面を拭いてきれいにすることで清浄に
される。
【０００４】イソプロピルアルコール（ＩＰＡ）の水溶
液が、クリーンルームの機器や表面、例えば作業台の上
面などを効率的にクリーニングするのに必要な湿り気を
もたらすために使用されている。これらの溶液は、残留
物を残さず、且つ約６ｗｔ％ＩＰＡで約４５ｄｙｎｅ／
ｃｍの表面張力を提供する。これらの溶液は十分に働く
とは言うものの、半導体産業は揮発性有機化学物質（Ｖ
ＯＣ）の放出を低減するという増大する圧力にさらされ
ている。
液が、クリーンルームの機器や表面、例えば作業台の上
面などを効率的にクリーニングするのに必要な湿り気を
もたらすために使用されている。これらの溶液は、残留
物を残さず、且つ約６ｗｔ％ＩＰＡで約４５ｄｙｎｅ／
ｃｍの表面張力を提供する。これらの溶液は十分に働く
とは言うものの、半導体産業は揮発性有機化学物質（Ｖ
ＯＣ）の放出を低減するという増大する圧力にさらされ
ている。
【０００５】揮発性有機化学物質の放出を低減すること
への強力な圧力は、比較的最近のものである。米国特許
第４３２８２７９号明細書には、クリーニング用のワイ
パーにおいて繊維の湿り気を増大させるために完全に不
揮発性のアニオン界面活性剤と非イオン界面活性剤を使
用することが記載されている。これらの界面活性剤は、
クリーンルームの表面に残留物を残すことが予期されよ
う。
への強力な圧力は、比較的最近のものである。米国特許
第４３２８２７９号明細書には、クリーニング用のワイ
パーにおいて繊維の湿り気を増大させるために完全に不
揮発性のアニオン界面活性剤と非イオン界面活性剤を使
用することが記載されている。これらの界面活性剤は、
クリーンルームの表面に残留物を残すことが予期されよ
う。
【０００６】アセチレン列のアルコールとグリコール
が、比較的大量の低級アルコール、例えばエタノール
等、とアンモニアの存在下において、鏡やレンズをクリ
ーニングする際の添加剤として有効であることが報告さ
れている。米国特許第４０５４５３４号明細書参照。
が、比較的大量の低級アルコール、例えばエタノール
等、とアンモニアの存在下において、鏡やレンズをクリ
ーニングする際の添加剤として有効であることが報告さ
れている。米国特許第４０５４５３４号明細書参照。
【０００７】米国特許第３９７９３１７号明細書に記載
のように、同様の溶液が光受容体をクリーニングするの
に効果的であることが分かった。
のように、同様の溶液が光受容体をクリーニングするの
に効果的であることが分かった。
【０００８】米国特許第３７２８２６９号明細書には、
少量の３，５−ジメチル−１−ヘキシン−３−オールを
含む、一連のアルコールの混合物を表面クリーニング用
に使用することが記載されている。
少量の３，５−ジメチル−１−ヘキシン−３−オールを
含む、一連のアルコールの混合物を表面クリーニング用
に使用することが記載されている。
【０００９】同様に、米国特許第４６８９１６８号明細
書には、３，５−ジメチル−１−ヘキシン−３−オール
をその他の界面活性剤とともに含有する溶液を硬質表面
のクリーニング用配合物において使用することが記載さ
れている。この開示は、このクリーニング溶液は撹拌で
エマルションを形成しなくてはならないと明確に述べて
いる。
書には、３，５−ジメチル−１−ヘキシン−３−オール
をその他の界面活性剤とともに含有する溶液を硬質表面
のクリーニング用配合物において使用することが記載さ
れている。この開示は、このクリーニング溶液は撹拌で
エマルションを形成しなくてはならないと明確に述べて
いる。
【００１０】米国特許第３８１９５２２号明細書には、
曇り止め用の窓クリーナーでエトキシル化したアセチレ
ン列グリコールを使用することが記載されているが、こ
れはグリコールを許容可能にするのにアニオン系の硫酸
塩を必要とする。
曇り止め用の窓クリーナーでエトキシル化したアセチレ
ン列グリコールを使用することが記載されているが、こ
れはグリコールを許容可能にするのにアニオン系の硫酸
塩を必要とする。
【００１１】オーストリア特許第２５７０１５号明細書
（ケミカルアブストラクト６７：１１８４６４）には、
ガラスのクリーニング用に３，５−ジメチル−１−ヘキ
シン−３−オールをアミン及び不揮発性界面活性剤とと
もに使用することが開示されている。
（ケミカルアブストラクト６７：１１８４６４）には、
ガラスのクリーニング用に３，５−ジメチル−１−ヘキ
シン−３−オールをアミン及び不揮発性界面活性剤とと
もに使用することが開示されている。
【００１２】最後に、一つの技術論文が、クリーンルー
ムにおける高揮発性有機化合物のクリーニング用配合物
の代替物として低揮発性及び不揮発性有機化合物の溶液
の評価を検討している。ケミカルアブストラクト１２
１：１５９７５０， Ａｌｌｉｓｏｎ ｅｔ ａｌ．，
Ｃｈａｒａｃｔｅｒｉｚａｔｉｏｎ ｏｆ Ｌｏｗａ
ｎｄ Ｎｏｎ Ｖｏｌａｔｉｌｅ Ｏｒｇａｎｉｃ Ｃ
ｏｍｐｏｕｎｄ Ｃｏｎｔａｉｎｉｎｇ Ｃｌｅａｎｅ
ｒｓ ｆｏｒ Ｃｌｅａｎｒｏｏｍ ＷｏｒｋＳｕｒｆ
ａｃｅｓ， １ｓｔ Ｉｎｔ． ＳＡＭＰＥ Ｅｎｖｉ
ｒｏｎ． Ｃｏｎｆ．， Ｍａｙ ２１−２３， １９
９１参照。
ムにおける高揮発性有機化合物のクリーニング用配合物
の代替物として低揮発性及び不揮発性有機化合物の溶液
の評価を検討している。ケミカルアブストラクト１２
１：１５９７５０， Ａｌｌｉｓｏｎ ｅｔ ａｌ．，
Ｃｈａｒａｃｔｅｒｉｚａｔｉｏｎ ｏｆ Ｌｏｗａ
ｎｄ Ｎｏｎ Ｖｏｌａｔｉｌｅ Ｏｒｇａｎｉｃ Ｃ
ｏｍｐｏｕｎｄ Ｃｏｎｔａｉｎｉｎｇ Ｃｌｅａｎｅ
ｒｓ ｆｏｒ Ｃｌｅａｎｒｏｏｍ ＷｏｒｋＳｕｒｆ
ａｃｅｓ， １ｓｔ Ｉｎｔ． ＳＡＭＰＥ Ｅｎｖｉ
ｒｏｎ． Ｃｏｎｆ．， Ｍａｙ ２１−２３， １９
９１参照。
【００１３】アセチレン列アルコールは、米国特許第４
１１７２４９号明細書に記載されるように、既知の界面
活性剤である。
１１７２４９号明細書に記載されるように、既知の界面
活性剤である。
【００１４】エトキシル化アセチレン列グリコールは、
米国特許第５６５０５４３号明細書に効果的な界面活性
剤であるとして開示されている。
米国特許第５６５０５４３号明細書に効果的な界面活性
剤であるとして開示されている。
【００１５】先行技術は、種々の有機物質の放出に関す
るエレクトロニクス製造工業の基準並びに自治体及び国
家の環境規則の要件を満足する効果的な予備湿潤ワイパ
ーを提供するために、米国特許第４３２８２７９号明細
書に代表されるような効果的なクリーンルームワイパー
の提供を試みてきたが、洗浄力（泡立ち）の影響を避け
ながら、揮発性有機化学物質を少なく、且つ不揮発性残
留物を少なくすることはできないでいる。本発明は、先
行技術の欠点を克服し、そして下記でもっと詳しく説明
されるように、思いも寄らない優れた性能を有する新た
な予備湿潤ワイパーでもってエレクトロニクス製造工業
並びに自治体及び国家の環境規則の要件を達成する。
るエレクトロニクス製造工業の基準並びに自治体及び国
家の環境規則の要件を満足する効果的な予備湿潤ワイパ
ーを提供するために、米国特許第４３２８２７９号明細
書に代表されるような効果的なクリーンルームワイパー
の提供を試みてきたが、洗浄力（泡立ち）の影響を避け
ながら、揮発性有機化学物質を少なく、且つ不揮発性残
留物を少なくすることはできないでいる。本発明は、先
行技術の欠点を克服し、そして下記でもっと詳しく説明
されるように、思いも寄らない優れた性能を有する新た
な予備湿潤ワイパーでもってエレクトロニクス製造工業
並びに自治体及び国家の環境規則の要件を達成する。
【００１６】
【課題を解決するための手段】本発明は、水と有効量の
アセチレン列アルコール界面活性剤との水性溶液で湿潤
させたワイパー基材を含み、低揮発性有機化学物質と低
不揮発性残留物の特性を有する、表面クリーニング用の
前もって湿らせたクリーニングワイパーである。
アセチレン列アルコール界面活性剤との水性溶液で湿潤
させたワイパー基材を含み、低揮発性有機化学物質と低
不揮発性残留物の特性を有する、表面クリーニング用の
前もって湿らせたクリーニングワイパーである。
【００１７】好ましくは、界面活性剤はアセチレン列ジ
オールである。より好ましくは、界面活性剤はアセチレ
ン列グリコールである。あるいはまた、界面活性剤はア
ルコキシル化したアセチレン列ジオール、より好ましく
はエトキシル化したアセチレン列ジオールである。
オールである。より好ましくは、界面活性剤はアセチレ
ン列グリコールである。あるいはまた、界面活性剤はア
ルコキシル化したアセチレン列ジオール、より好ましく
はエトキシル化したアセチレン列ジオールである。
【００１８】好ましくは、界面活性剤はジメチルオクチ
ンジオールである。あるいはまた、界面活性剤はテトラ
メチルデシンジオールである。
ンジオールである。あるいはまた、界面活性剤はテトラ
メチルデシンジオールである。
【００１９】
【発明の実施の形態】規則による強制のために、エレク
トロニクス製造業は揮発性有機化学物質の放出を低減す
るという増大する圧力のもとにある。本発明は、アセチ
レン列アルコールを水溶液でもって使用することが非常
に低下した揮発性有機化学物質（ＶＯＣ）及び不揮発性
残留物（ＮＶＲ）レベルで効率的な表面の湿潤を可能に
するということを驚くべきことに見いだしたものであ
る。
トロニクス製造業は揮発性有機化学物質の放出を低減す
るという増大する圧力のもとにある。本発明は、アセチ
レン列アルコールを水溶液でもって使用することが非常
に低下した揮発性有機化学物質（ＶＯＣ）及び不揮発性
残留物（ＮＶＲ）レベルで効率的な表面の湿潤を可能に
するということを驚くべきことに見いだしたものであ
る。
【００２０】歴史的には、イソプロピルアルコール（Ｉ
ＰＡ）の水溶液が、クリーンルームの機器や作業台の上
面を効率的にクリーニングするのに必要な湿り気を提供
するのに使用されてきた。これらの溶液は、残留物を残
さず、６％のＩＰＡで約４５ｄｙｎｅ／ｃｍの表面張力
を提供する。
ＰＡ）の水溶液が、クリーンルームの機器や作業台の上
面を効率的にクリーニングするのに必要な湿り気を提供
するのに使用されてきた。これらの溶液は、残留物を残
さず、６％のＩＰＡで約４５ｄｙｎｅ／ｃｍの表面張力
を提供する。
【００２１】そのようなクリーニングを行うための過去
の試みは、大部分が、残留物又は不揮発性残留物（ＮＶ
Ｒ）を残しかねない伝統的な界面活性剤を使用するもの
であった。アセチレン列のジオール類とそれらの種々の
誘導体は揮発性であり、且つＮＶＲ残留物の蓄積に至る
ことがない。同時に、アセチレン列ジオールとそれらの
誘導体は、発泡する特性なしに非常に界面活性の特性を
有し、以前の界面活性剤よりもずっと低濃度でそれらを
水溶液中で使用するのを可能にし、かくして揮発性有機
化学物質（ＶＯＣ）をずっと少なくすることになる。
の試みは、大部分が、残留物又は不揮発性残留物（ＮＶ
Ｒ）を残しかねない伝統的な界面活性剤を使用するもの
であった。アセチレン列のジオール類とそれらの種々の
誘導体は揮発性であり、且つＮＶＲ残留物の蓄積に至る
ことがない。同時に、アセチレン列ジオールとそれらの
誘導体は、発泡する特性なしに非常に界面活性の特性を
有し、以前の界面活性剤よりもずっと低濃度でそれらを
水溶液中で使用するのを可能にし、かくして揮発性有機
化学物質（ＶＯＣ）をずっと少なくすることになる。
【００２２】本発明は、完全に揮発性の高界面活性湿潤
剤をワイパーを前もって濡らした超純粋な水とともに使
用しようというものである。表１は、クリーニング用途
のために必要な湿り気をもたらす水の表面張力を低下さ
せるのに、種々のアセチレン列アルコール、好ましくは
ジオール、例えば米国ペンシルバニア州アレンタウン
（Ａｌｌｅｎｔｏｗｎ）のエアー・プロダクツ・アンド
・ケミカルズ・インコーポレイティドより入手できるＳ
ｕｒｆｙｎｏｌ ６１、８２及び１０４といったような
もの、が有効なことを示している。表面張力を低下させ
るのに、これらの化学物質はイソプロピルアルコールの
場合よりもはるかに少ない量が必要とされる。比較のた
めに言うと、４ｗｔ％ＩＰＡの表面張力は５０ｄｙｎｅ
／ｃｍ（Ｊ．Ｌｉｑ．Ｃｈｒｏｍ．， Ｖｏｌ．１０，
１９８７， ｐｐ５６１−５８１）である。
剤をワイパーを前もって濡らした超純粋な水とともに使
用しようというものである。表１は、クリーニング用途
のために必要な湿り気をもたらす水の表面張力を低下さ
せるのに、種々のアセチレン列アルコール、好ましくは
ジオール、例えば米国ペンシルバニア州アレンタウン
（Ａｌｌｅｎｔｏｗｎ）のエアー・プロダクツ・アンド
・ケミカルズ・インコーポレイティドより入手できるＳ
ｕｒｆｙｎｏｌ ６１、８２及び１０４といったような
もの、が有効なことを示している。表面張力を低下させ
るのに、これらの化学物質はイソプロピルアルコールの
場合よりもはるかに少ない量が必要とされる。比較のた
めに言うと、４ｗｔ％ＩＰＡの表面張力は５０ｄｙｎｅ
／ｃｍ（Ｊ．Ｌｉｑ．Ｃｈｒｏｍ．， Ｖｏｌ．１０，
１９８７， ｐｐ５６１−５８１）である。
【００２３】
【表１】
【００２４】本発明のアセチレン列アルコールには、ジ
メチルオクチンジオール（Ｓｕｒｆｙｎｏｌ ８２）、
テトラメチルデシンジオール（Ｓｕｒｆｙｎｏｌ １０
４）、エトキシル化テトラメチルオクチンジオール、
２，６，９，１３−テトラメチル−２，１２−テトラデ
カジエン−７−イン−６，９−ジオール、２，６，９−
トリメチル−２−デセン−７−イン−６，９−ジオー
ル、２，６，９，１３−テトラメチル−２，７，１２−
テトラデカトリエン−６，９−ジオール、２，６，９−
トリメチル−２，７−デカジエン−６，９−ジオール、
２，６，９，１３−テトラメチルテトラデカン−６，９
−ジオール、２，６，９−トリメチルデカン−６，９−
ジオール、７，１０−ジメチル−８−ヘキサデシン−
７，１０−ジオール、２，４，７，９−テトラメチル−
５−デシン−４，７−ジオール、４，７−ジメチル−５
−デシン−４，７−ジオール、３，６−ジエチル−４−
オクチン−３，６−ジオール、２，５−ジシクロプロピ
ル−３−ヘキシン−２，５−ジオール、２，５−ジフェ
ニル−３−ヘキシン−２，５−ジオール、５，８−ジメ
チル−６−ドデシン−５，８−ジオール、及び、エトキ
シル化した部分が１〜３０単位であるこのほかの種々の
エトキシル化誘導体が含まれる。このようなアセチレン
列アルコールの混合物を使用してもよい。
メチルオクチンジオール（Ｓｕｒｆｙｎｏｌ ８２）、
テトラメチルデシンジオール（Ｓｕｒｆｙｎｏｌ １０
４）、エトキシル化テトラメチルオクチンジオール、
２，６，９，１３−テトラメチル−２，１２−テトラデ
カジエン−７−イン−６，９−ジオール、２，６，９−
トリメチル−２−デセン−７−イン−６，９−ジオー
ル、２，６，９，１３−テトラメチル−２，７，１２−
テトラデカトリエン−６，９−ジオール、２，６，９−
トリメチル−２，７−デカジエン−６，９−ジオール、
２，６，９，１３−テトラメチルテトラデカン−６，９
−ジオール、２，６，９−トリメチルデカン−６，９−
ジオール、７，１０−ジメチル−８−ヘキサデシン−
７，１０−ジオール、２，４，７，９−テトラメチル−
５−デシン−４，７−ジオール、４，７−ジメチル−５
−デシン−４，７−ジオール、３，６−ジエチル−４−
オクチン−３，６−ジオール、２，５−ジシクロプロピ
ル−３−ヘキシン−２，５−ジオール、２，５−ジフェ
ニル−３−ヘキシン−２，５−ジオール、５，８−ジメ
チル−６−ドデシン−５，８−ジオール、及び、エトキ
シル化した部分が１〜３０単位であるこのほかの種々の
エトキシル化誘導体が含まれる。このようなアセチレン
列アルコールの混合物を使用してもよい。
【００２５】水中におけるアセチレン列アルコール又は
ジオールの量は、およそ０．００１〜０．５ｗｔ％の範
囲であり、好ましくはおよそ０．０１〜０．３ｗｔ％の
範囲、最も好ましくはおよそ０．０５〜０．２ｗｔ％の
範囲である。
ジオールの量は、およそ０．００１〜０．５ｗｔ％の範
囲であり、好ましくはおよそ０．０１〜０．３ｗｔ％の
範囲、最も好ましくはおよそ０．０５〜０．２ｗｔ％の
範囲である。
【００２６】水性アセチレン列ジオールで前もって湿潤
されるワイパー又はタオル（ｔｏｗｅｌｅｔｔｅ）基材
は、製織した又は不製織の繊維質のシートでよい。繊維
は天然繊維、例えば綿又はマニラ麻のようなものでよ
く、あるいは繊維は合成繊維、例えばポリエステル、ナ
イロン、ポリエステル／セルロース、レーヨン、ポリプ
ロピレン、レーヨン／ポリエステル、ポリプロピレン／
セルロース、ポリウレタン、綿／ポリエステルといった
ものでよく、またそれらの混合物でもよい。ワイパー又
はタオルは、多層のものでも単一層のものでもよい。ワ
イパー又はタオルは、ミシン目の分離シームのある連続
ロールであってもよく、あるいはそれらはパッケージ又
はシールされた容器内に積み重ねた形で包装された個別
のシートでもよい。各ワイパー又はタオルは、使用前の
高純度での保管のためにスリーブ又は外被に個別にパッ
ケージすることができる。あるいは、前もって湿潤した
基材は天然又は合成のスポンジ又はパッドの形であるこ
とができる。
されるワイパー又はタオル（ｔｏｗｅｌｅｔｔｅ）基材
は、製織した又は不製織の繊維質のシートでよい。繊維
は天然繊維、例えば綿又はマニラ麻のようなものでよ
く、あるいは繊維は合成繊維、例えばポリエステル、ナ
イロン、ポリエステル／セルロース、レーヨン、ポリプ
ロピレン、レーヨン／ポリエステル、ポリプロピレン／
セルロース、ポリウレタン、綿／ポリエステルといった
ものでよく、またそれらの混合物でもよい。ワイパー又
はタオルは、多層のものでも単一層のものでもよい。ワ
イパー又はタオルは、ミシン目の分離シームのある連続
ロールであってもよく、あるいはそれらはパッケージ又
はシールされた容器内に積み重ねた形で包装された個別
のシートでもよい。各ワイパー又はタオルは、使用前の
高純度での保管のためにスリーブ又は外被に個別にパッ
ケージすることができる。あるいは、前もって湿潤した
基材は天然又は合成のスポンジ又はパッドの形であるこ
とができる。
【００２７】高純度の水は、一般には脱イオン水であ
り、あるいはそれは高純度用にろ過及び蒸留することが
できる。
り、あるいはそれは高純度用にろ過及び蒸留することが
できる。
【００２８】本発明は、これらのアセチレン列アルコー
ル、好ましくはジオール又はグリコールと、それらのエ
トキシル化した種々の誘導体の、従前用いられていた界
面活性剤と比べて水の表面張力を大きく低下かさせる一
方で不揮発性の残留物を残さず、且つまた揮発性有機化
学物質の放出レベルを相当に減少させる能力を利用する
ことにより、揮発性有機化学物質及び不揮発性残留物の
両方を減少させるのに思いも寄らない性能を達成する。
これらのアセチレン列アルコール、好ましくはジオール
は、界面活性能力が非常に高く、水の表面張力を４０ｄ
ｙｎｅ／ｃｍより十分低く低下させることができ、且つ
濃度を１ｗｔ％未満にすることができる。この高い界面
活性の特性は、それに応じて少量の界面活性剤を使用し
てクリーニング用途にとって必要な界面活性剤の性能を
達成するのを可能にする。その上、アセチレン列アルコ
ール類、好ましくはジオール類の発泡特性は非常に低
い。
ル、好ましくはジオール又はグリコールと、それらのエ
トキシル化した種々の誘導体の、従前用いられていた界
面活性剤と比べて水の表面張力を大きく低下かさせる一
方で不揮発性の残留物を残さず、且つまた揮発性有機化
学物質の放出レベルを相当に減少させる能力を利用する
ことにより、揮発性有機化学物質及び不揮発性残留物の
両方を減少させるのに思いも寄らない性能を達成する。
これらのアセチレン列アルコール、好ましくはジオール
は、界面活性能力が非常に高く、水の表面張力を４０ｄ
ｙｎｅ／ｃｍより十分低く低下させることができ、且つ
濃度を１ｗｔ％未満にすることができる。この高い界面
活性の特性は、それに応じて少量の界面活性剤を使用し
てクリーニング用途にとって必要な界面活性剤の性能を
達成するのを可能にする。その上、アセチレン列アルコ
ール類、好ましくはジオール類の発泡特性は非常に低
い。
【００２９】このアプローチは、クリーニング配合物に
おいて揮発性有機化学物質と不揮発性残留物のレベルを
低下させるので、当該技術分野で知られているものより
も優れている。これは特に、エレクトロニクス製造業に
とって、例えば半導体材料の製造、シリコン結晶の成
長、電子デバイスの製造、光ファイバーの製造、集積回
路の製造、及び回路基板の製造、組み立てそして包装等
において、重要である。
おいて揮発性有機化学物質と不揮発性残留物のレベルを
低下させるので、当該技術分野で知られているものより
も優れている。これは特に、エレクトロニクス製造業に
とって、例えば半導体材料の製造、シリコン結晶の成
長、電子デバイスの製造、光ファイバーの製造、集積回
路の製造、及び回路基板の製造、組み立てそして包装等
において、重要である。
【００３０】本発明をいくつかの好ましい態様に関して
説明したが、本発明の完全な範囲は特許請求の範囲によ
って確かめられるべきである。
説明したが、本発明の完全な範囲は特許請求の範囲によ
って確かめられるべきである。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 デビット アレン ロバーツ アメリカ合衆国，カリフォルニア 92024, エンシニタス，カントリーヘイブン 280 (72)発明者 ジョン アンソニー マーセラ アメリカ合衆国，ペンシルベニア 18104, アレンタウン，ノース ブロード ストリ ート 744 (72)発明者 ロバート エドワード スティーブンス アメリカ合衆国，ペンシルベニア 18106, ウエスコスビル，セリア ドライブ 5400
Claims (22)
- 【請求項１】 水と有効量のアセチレン列アルコール界
面活性剤との水性溶液で湿潤されたワイパー基材を含
む、低揮発性有機化学物質と低揮発性残留物の特性を有
する表面クリーニング用の前もって湿らせたクリーニン
グワイパー。 - 【請求項２】 前記界面活性剤がアセチレン列ジオール
である、請求項１記載のクリーニングワイパー。 - 【請求項３】 前記界面活性剤がアセチレン列グリコー
ルである、請求項１記載のクリーニングワイパー。 - 【請求項４】 前記界面活性剤がアルコキシル化したア
セチレン列ジオールである、請求項１記載のクリーニン
グワイパー。 - 【請求項５】 前記アルコキシル化したアセチレン列ジ
オールが１〜３０単位の範囲のエトキシル化部分を有す
るエトキシル化したアセチレン列ジオールである、請求
項４記載のクリーニングワイパー。 - 【請求項６】 前記界面活性剤がジメチルオクチンジオ
ールである、請求項１記載のクリーニングワイパー。 - 【請求項７】 前記界面活性剤がテトラメチルデシンジ
オールである、請求項１記載のクリーニングワイパー。 - 【請求項８】 前記ワイパー基材が綿、マニラ麻、ポリ
エステル、ナイロン、ポリエステル／セルロース、レー
ヨン、ポリプロピレン、レーヨン／ポリエステル、ポリ
プロピレン／セルロース、ポリウレタン、綿／ポリエス
テル及びそれらの混合物からなる群より選ばれる、請求
項１から７までのいずれか一つに記載のクリーニングワ
イパー。 - 【請求項９】 前記界面活性剤が、エトキシル化したテ
トラメチルオクチンジオール、２，６，９，１３−テト
ラメチル−２，１２−テトラデカジエン−７−イン−
６，９−ジオール、２，６，９−トリメチル−２−デセ
ン−７−イン−６，９−ジオール、２，６，９，１３−
テトラメチル−２，７，１２−テトラデカトリエン−
６，９−ジオール、２，６，９−トリメチル−２，７−
デカジエン−６，９−ジオール、２，６，９，１３−テ
トラメチルテトラデカン−６，９−ジオール、２，６，
９−トリメチルデカン−６，９−ジオール、７，１０−
ジメチル−８−ヘキサデシン−７，１０−ジオール、
２，４，７，９−テトラメチル−５−デシン−４，７−
ジオール、４，７−ジメチル−５−デシン−４，７−ジ
オール、３，６−ジエチル−４−オクチン−３，６−ジ
オール、２，５−ジシクロプロピル−３−ヘキシン−
２，５−ジオール、２，５−ジフェニル−３−ヘキシン
−２，５−ジオール、５，８−ジメチル−６−ドデシン
−５，８−ジオール及びそれらの混合物からなる群より
選ばれる、請求項１記載のクリーニングワイパー。 - 【請求項１０】 界面活性剤の水に対する比率がおよそ
０．００１〜０．５ｗｔ％の範囲内である、請求項１か
ら９までのいずれか一つに記載のクリーニングワイパ
ー。 - 【請求項１１】 界面活性剤の水に対する比率がおよそ
０．０１〜０．３ｗｔ％の範囲内である、請求項１から
９までのいずれか一つに記載のクリーニングワイパー。 - 【請求項１２】 界面活性剤の水に対する比率がおよそ
０．０５〜０．２ｗｔ％の範囲内である、請求項１から
９までのいずれか一つに記載のクリーニングワイパー。 - 【請求項１３】 前記ワイパー基材が繊維質の基材であ
る、請求項１から１２までのいずれか一つに記載のクリ
ーニングワイパー。 - 【請求項１４】 前記ワイパー基材が製織した繊維基材
である、請求項１から１２までのいずれか一つに記載の
クリーニングワイパー。 - 【請求項１５】 前記ワイパー基材が不織繊維基材であ
る、請求項１から１２までのいずれか一つに記載のクリ
ーニングワイパー。 - 【請求項１６】 前記ワイパー基材がスポンジである、
請求項１から１２までのいずれか一つに記載のクリーニ
ングワイパー。 - 【請求項１７】 前記水が高純度の水である、請求項１
から１６までのいずれか一つに記載のクリーニングワイ
パー。 - 【請求項１８】 前記水が脱イオン水である、請求項１
から１６までのいずれか一つに記載のクリーニングワイ
パー。 - 【請求項１９】 前記水が蒸留した水である、請求項１
から１６までのいずれか一つに記載のクリーニングワイ
パー。 - 【請求項２０】 電子材料の製造分野において表面をク
リーニングするための前もって湿らせたクリーニングワ
イパーであり、低揮発性有機化学物質と低不揮発性残留
物の特性を有するクリーニングワイパーであって、蒸留
水及び脱イオン水からなる群より選ばれた高純度の水
と、ジメチルオクチンジオール、テトラメチルデシンジ
オール及びそれらの混合物からなる群より選ばれた有効
量のアセチレン列ジオール界面活性剤との水性溶液で湿
潤されたポリエステル／セルロースの製織繊維ワイパー
基材を含み、界面活性剤の水に対する比率がおよそ０．
００１〜０．５ｗｔ％の範囲内である、前もって湿らせ
たクリーニングワイパー。 - 【請求項２１】 界面活性剤の水に対する比率がおよそ
０．０１〜０．３ｗｔ％の範囲内である、請求項２０記
載のクリーニングワイパー。 - 【請求項２２】 界面活性剤の水に対する比率がおよそ
０．０５〜０．２ｗｔ％の範囲内である、請求項２０記
載のクリーニングワイパー。
Applications Claiming Priority (4)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| US13309499P | 1999-05-07 | 1999-05-07 | |
| US60/133094 | 1999-05-07 | ||
| US54492100A | 2000-04-07 | 2000-04-07 | |
| US09/544921 | 2000-04-07 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2000354578A true JP2000354578A (ja) | 2000-12-26 |
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Family
ID=26831038
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2000138236A Expired - Fee Related JP3433156B2 (ja) | 1999-05-07 | 2000-05-02 | 前もって湿らせたクリーニングワイパー |
Country Status (6)
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