JP2000345037A - 複合体とその調製法および処理法 - Google Patents

複合体とその調製法および処理法

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Abstract

(57)【要約】 【課題】 安定性、耐熱性、発光強度を高める。 【解決手段】 ゾル−ゲル法により得た発光体分散ORMO
SIL 複合体を、ヘキサメチルジシラザンで撥水化処理、
あるいはアンモニウム処理する。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、ORMOSIL (Organi
cally Modified Silicates) 複合体に関する。詳しく
は、湿式ゾル−ゲル法により誘導される有機成分と無機
成分とがハイブリッド化した複合光学材料を中心に適用
される。特に、優れた発光特性を有する希土類錯体およ
び有機色素を導入した発光材料の発光効率、安定性およ
び耐久性の向上に効果があり、高輝度蛍光体、レーザー
発振用ロッドもしくは微小球、蛍光を利用した太陽光の
集光板、光ファイバ用増幅器、などに主として適用でき
る。また、湿式ゾルーゲル法により誘導される無機−有
機複合体は、シラノールと有機シラノールから誘導され
るORMOSIL を中心にこれまで盛んに研究され、その良好
な透明性から新しいガラス材料として注目され、酸素透
過能を有するコンタクトレンズなどとして既に一部のも
のは実用化されている。また、未だ研究段階ではある
が、これらに優れた発光特性を有する希土類錯体および
有機色素分子を導入した複合体は、良好な機械的強度を
兼ね備えることから新規な光学材料、例えば蛍光体、レ
ーザ材料として注目されている。
【0002】
【従来の技術】しかしながら、ゾル−ゲル法を用いて作
製されるシリカ系ガラスは、内部にシラノール基が残存
するため、水などを吸収し易く、マトリックスとしての
安定性や透光性の低下、および内部に導入した色素や金
属錯体の発光効率の低下原因となっていた。また、これ
らの複合体は湿式ゾルーゲル法により誘導されることに
加え、系内に希土類錯体や色素分子などの有機化合物を
含むことから加熱処理を施すことができず、多数のシラ
ノール基が脱水縮重合されることなく依然として内部に
残存する。このため既存の方法で得られた複合体は、こ
のシラノール基のために熱、湿度、薬品などに侵され易
く、本来の優れた光学的機能を十分に発揮するまでには
至っていなかった。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、湿式ゾル−
ゲル法により誘導されるORMOSIL マトリックスに、優れ
た発光特性を有する希土類錯体および有機色素分子を導
入した複合体を中心に、発光輝度の低下ならびに水、溶
媒に対する耐久性の低下の原因となる複合体内部に存在
するシラノール基を、ヘキサメチルジシラザン等を用い
て、液相もしくは気相で処理することで[化1]に示す
反応を誘発せしめ、複合体表面の効果的な撥水化によ
り、所望の発光性能、安定性、耐久性を実現しようとす
るものである。
【0004】
【化1】
【0005】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するた
め、本発明の構成は以下のとおりである。 (1)複合体は、ヘキサメチルジシラザンで処理され
た、ユウロピウムフェナントロリン錯体分散ORMOSIL 複
合体である。 (2)複合体は、ジシラザンで処理された、ユウロピウ
ムβ−ジケトン錯体分散ORMOSIL 複合体である。 (3)複合体は、希土類β−ジケトン錯体を含有するOR
MOSIL 複合体である。 (4)複合体の調製法は、希土類β−ジケトン錯体をド
ープした無機−有機ハイブリッド発光材料をゾル−ゲル
法により調製することを特徴とする。 (5)複合体の処理法は、希土類β−ジケトン錯体結合
ORMOSIL 複合体をアンモニウム水溶液で表面処理するこ
とを特徴とする。
【0006】
【発明の実施の形態】本発明は、湿式ゾル−ゲル法によ
り誘導されるORMOSIL マトリックスに、優れた発光特性
を有する希土類錯体および有機色素分子を導入した複合
体内部に残存するシラノール基を、ヘキサメチルジシラ
ザンを用いて液相もしくは気相で処理することで[化
1]に示す反応を誘発せしめ、複合体表面の効果的な撥
水化を促し、所望の発光性能と耐久性を実現する。
【0007】本発明は、π電子共役部位を有するビピリ
ジル(bpy) 、フェナントロリン(phen)およびこれらの誘
導体、または、β−ジケトン系化合物を配位子とするテ
ルビウム(Tb)、ユウロピウム(Eu)などの希土類
錯体、または、ローダミンなどの有機色素を、湿式ゾル
−ゲル法により誘導され、優れた透光性と多様な屈折率
を発現するORMOSIL に代表されるシリカまたは有機シロ
キサンを主要成分とした無機−有機ハイブリッドマトリ
ックスに導入、分散した複合体に残存するシラノール基
を、ヘキサメチルジシラザンに代表される撥水化剤で希
土類錯体および有機色素の本来の光学機能を損なうこと
なく処理し、トリメチルシロキサン基に変換すること
で、それら複合体の水、水蒸気もしくは溶媒に対する耐
久性を飛躍的に向上させるものであり、上記に関連した
撥水化処理を、ヘキサメチルジシラザンの液相または気
相で行うことができる。
【0008】また、ヘキサメチルジシラザンなどの撥水
化剤を用いた処理の際発生するアンモニアあるいは付加
的に加えたアンモニアにより、希土類錯体配位子または
有機色素分子のπ電子共役部位を安定化することで、希
土類錯体あるいは有機色素の発光性能を促進することが
できる。
【0009】本発明では、湿式ゾル−ゲル法により希土
類錯体と有機色素をORMOSIL などの無機−有機マトリッ
クスに分散した複合体を、ヘキサメチルジシラザンのア
ルコール溶液中あるいは同蒸気中で[化1]の反応を進
行させることにより、複合体の外あるいは内表面のシラ
ノール基を効果的にトリメチルシロキサン基に変換し、
水、水蒸気あるいは溶媒に対する複合体の安定性を飛躍
的に向上させることができる。また、この撥水化処理に
よりシラノール基濃度が減少し、希土類錯体および有機
色素分子の消光の原因となっていた、O−H基の伸縮振
動に基づく無輻射遷移の割合を効果的に低減することが
でき、複合体の発光強度の大幅な増大をはかることが可
能となる。さらに、撥水化処理の際に発生するアンモニ
アにより、希土類錯体の配位子および有機色素分子のπ
電子共役部位が安定化され、同様に複合体の発光強度を
大幅に増大させることができる。
【0010】
【実施例】以下に本発明の実施例を示すが、本発明はこ
れに限定されるものではない。図1は、π電子共役部位
を有するビピリジル、フェナントロリンおよびこれらの
誘導体、または、β−ジケトン系化合物を配位子とする
テルビウム、ユウロピウムなどの希土類錯体、または、
ローダミンなどの有機色素を、湿式ゾル−ゲル法により
ORMOSIL に代表されるシリカまたは有機シロキサンを主
要成分とした有機−無機ハイブリッドマトリックスに分
散、導入した複合体を、ヘキサメチルジシラザンのアル
コール溶液を乾燥雰囲気中、室温から60℃で数日間処
理する(湿式法)、または、乾燥雰囲気あるいは真空封
管中、室温から120℃で数日間処理する(乾式法)こ
とで、[化1]に示す反応に従い、シラノール基を希土
類錯体および有機色素の本来の光学機能を損なうことな
くトリチメルシロキサン基に変換し、複合体に撥水性を
付与する工程図を示したものである。ここで、湿式法は
マトリックス内に分散、導入した希土類錯体または有機
色素が、ヘキサメチルジシラザン溶液の作製に使用する
アルコールなどの溶媒に可溶でない場合に有効であり、
簡便で温和な条件で[化1]に示す反応を進行させるこ
とができる。一方、希土類錯体または有機色素が溶媒に
可溶な場合は乾式法が有効であり、複合体の乾燥と[化
1]に示す反応を同時に行うことができる。
【0011】図2は、ゾル−ゲル法によりテトラエトキ
シシランとジフェニルジエトキシシランから作製したOR
MOSIL マトリックス中に、塩化ユウロピウムフェナント
ロリン錯体を分散、導入した複合体粉末を、ヘキサメチ
ルジシラザンのエタノール溶液中、室温で3日間処理し
た後、その蛍光スペクトル強度の初期値に対する経時変
化を、未処理の試料のそれと併せて示したものである。
撥水化処理した複合体粉末は、処理前のものに比べ大気
中での発光強度の低下が著しく抑制された。これは、複
合体内部に残存していたシラノール基が[化1]に示す
反応に従い、トリメチルシロキサンに変換されることに
より、試料が効果的に撥水化され、外部から錯体の無輻
射遷移を誘発する水等の侵入が効果的に抑制されたため
と考えられる。
【0012】さらに、ユウロピウムフェナントロリン錯
体(Eu(phen)2Cl3)を分散したORMOSIL 複合体をヘキサメ
チルジシラザンで、エタノール溶液中、60℃で 1日間
処理し、室温で、大気中に放置した場合にも、同様の結
果が得られた。
【0013】また、ユウロピウムβ−ジケトン錯体(Eu
(TTA)3phen) を分散したORMOSIL 複合体では、ジシラザ
ンで処理することによりマトリックス内に残存する水が
除去され、発光強度がさらに増大することが明らかとな
った。
【0014】図3は、ゾル−ゲル法によりテトラエトキ
シシランとジフェニルジエトキシシランから作製したOR
MOSIL マトリックス中に、塩化ユウロピウムトリテノイ
ルトリフルオロアセトンモノフェナントロリン錯体
([化2]参照)を導入した複合体粉末を、ヘキサメチ
ルジシラザンのエタノール溶液中、室温で3日間処理
後、空気中、50℃で5時間乾燥して得られた試料の蛍
光スペクトルを、処理前のものと併せて示したものであ
る。
【0015】
【化2】
【0016】励起スペクトルに見られる幅広いピークは
錯体の配位子によるものであり、配位子からユウロピウ
ムイオンへの効率的なエネルギー移動により、複合体は
良好な赤色の発光を示した。特に、ヘキサメチルジシラ
ザンで処理した複合体は、未処理のものと比べ発光強度
がおよそ50%近くも増大した。これは、酸を触媒とし
て得られたORMOSIL 複合体マトリックス中でケト型に異
性化した希土類錯体の配位子が、撥水化処理の際発生す
るアンモニアのために当初のエノール型に戻り、これに
より励起エネルギーの吸収、伝達に有利なπ電子共役部
位が効果的に安定化されたためと考えられる。
【0017】図4は、図3で示した複合体粉末を大気
中、5時間乾燥あるいは加熱処理した試料の、市販のラ
ンプ用蛍光体Y(P,V)O4 :Euに対する相対発光
強度を、処理温度に対して図示したものである。
【0018】この図より、ヘキサメチルジシラザンによ
り撥水化処理された複合体は、未処理のものと比べ熱安
定性も向上した。特に、150℃での処理でも相対発光
強度はおよそ60%の高い値を維持していた。これよ
り、得られた複合体の可視光域における高い透光性と良
好な成型加工性は、これら複合体本来の優れた発光特性
に基づく新規な光学材料を提供することができる。
【0019】希土類β−ジケトン錯体含有ORMOSIL 複合
体を調製して、その発光特性を調べた。ユウロピウム
(III)β−ジケトン錯体と結合した透明ORMOSIL 複合体
バルク材料を調製し、それらの発光特性を調べた結果、
適当な条件下でアンモニウム水溶液で複合体粉末をに表
面処理した場合、高相対発光強度の蛍光体が得られた
(70%対Y(P,V)O4:Eu)。ゾル−ゲル法は、
[Eu(phen)2]Cl3と[Tb(bpy)2]Cl3 等の希土類錯体をドー
プした特殊な光発光無機−有機ハイブリッド材料、例え
ばORMOSIL 複合体を調製するのに効果的な方法であるこ
とがわかり、これらの複合体は高発光強度および耐熱性
を示すことが分かった。しかし、ランタノイドβ−ジケ
トンキレート含有ORMOSIL 複合体材料に関しては少数の
研究者が研究したに過ぎなかった。実験では、テトラエ
トキシシラン(TEOS) 、トリエトキシフェニルシラン(T
EPS)、THF 、エタノール、および水を、1−x:x:
4:2:4(x=0.3−0.8)のモル比で混合した
ものを、希塩酸で触媒して、1時間還流し、DMF 中に溶
解したEu(III)β−ジケトン錯体を種々の量で、得られ
た均一なゾル溶液に添加した。その後、錯体ドープゾル
溶液を50℃で数日間維持し、固体化したORMOSIL 複合
体材料を得た。スペクトロメータで、得られた蛍光体の
発光特性を調べた。その結果、UV照射によりシャープ
な赤色発光を示す透明なORMOSIL 複合体バルク材料を、
最適な調製条件下に得た。図5に、ORMOSIL マトリック
スのTEOSとTEPSの前駆体組成物に対して、種々の量のEu
(TTA)3phen(TTA:テノイルトリフルオロアセトン)と結
合した複合体材料の相対発光強度依存性を示す。複合体
材料の発光強度は有機シランの量に応じて変動し、TEOS
/(TEOS+TEPS) が0.4のとき、最大値であった。図
中、Eu(TTA)3phenの量をxmol%とし、aはx=1mol%、
bはx=2mol%、cはx=3mol%の場合を示す。熱処理
した試料の発光強度は250℃までの温度の上昇につれ
て徐々に減少した。しかし、ORMOSIL :Eu(TTA)3phen複
合体材料をアンモニウム水溶液で表面処理すると、発光
強度が上昇した(〜70%対従来のランプ用蛍光体Y
(P,V)O4:Eu)。
【0020】
【発明の効果】本発明によると、複合体内部に残存して
いたシラノール基が撥水化され、外部から錯体の無輻射
遷移を誘発する水等の侵入が効果的に抑制されると共
に、マトリックス内に残存する水が除去される結果、処
理前のものに比べ、大気中での発光強度の低下が著しく
抑制され、かつ発光強度がさらに増大することが明らか
となった。また、アンモニウム水溶液で複合体の表面処
理を行うことにより、発光強度が増大した。
【図面の簡単な説明】
【図1】 希土類錯体または有機色素分子を分散、導入
した無機−有機複合体の粉末あるいは成形体を撥水化処
理する工程を示す図である。
【図2】 ヘキサメチルジシラザンで処理した複合体粉
末について、蛍光スペクトル強度の初期値に対する経時
変化を、未処理の試料のそれと併せて示した図である。
【図3】 ヘキサメチルジシラザンで処理した複合体の
蛍光スペクトル(b)を、処理前のもの(a)と併せて
示した図である。
【図4】 図3で示した複合体粉末について、市販のラ
ンプ用蛍光体Y(P,V)O4 :Euに対する相対発光
強度を、処理温度に対して示した図である。
【図5】 TEOS/(TEOS+TEPS) および錯体量に対するOR
MOSIL 複合体の相対発光強度依存性を示す。
フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 FI テーマコート゛(参考) H01S 3/06 H01S 3/06 B // C07D 471/04 112 C07D 471/04 112 C07F 5/00 C07F 5/00 D 7/18 7/18 Y

Claims (5)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】ヘキサメチルジシラザンで処理された、ユ
    ウロピウムフェナントロリン錯体分散ORMOSIL 複合体。
  2. 【請求項2】ジシラザンで処理された、ユウロピウムβ
    −ジケトン錯体分散ORMOSIL 複合体。
  3. 【請求項3】希土類β−ジケトン錯体を含有するORMOSI
    L 複合体。
  4. 【請求項4】希土類β−ジケトン錯体をドープした無機
    −有機ハイブリッド発光材料をゾル−ゲル法により調製
    することを特徴とする複合体の調製法。
  5. 【請求項5】希土類β−ジケトン錯体結合ORMOSIL 複合
    体をアンモニウム水溶液で表面処理することを特徴とす
    る複合体の処理法。
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