JP2000343584A - 低臭架橋ポリエチレン管 - Google Patents
低臭架橋ポリエチレン管Info
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Abstract
気除去の為の洗浄時間が短時間で済む架橋ポリエチレン
管を提供する。 【解決手段】 メタロセン化合物を用いて得られた、分
子量分布(Mw/Mn)が2.0〜3.0、重量平均分
子量(Mw)が50000〜150000であるポリエ
チレン系樹脂からなる架橋ポリエチレン管。
Description
リエチレン管に関するものである。
が、給湯システムや暖房システムの給湯管として用いら
れている。この架橋ポリエチレン管を得る方法として
は、例えば、特公昭48−1711号公報に示されてい
るシラン架橋法、特公昭45−35658公報に示され
ている過酸化物架橋法が知られている。
ムに用いた場合、その中を通した湯または水にしばしば
臭いが感じられるという問題があるが、上記の従来技術
ではこの問題を解決する手段には触れられておらず、 実
際に上記従来技術で得られた製造直後の架橋ポリエチレ
ン管はかなりの臭気が感じられるものであった。
標としては、JIS K6769(架橋ポリエチレン
管)にKMnO4 消費量の規定があるが、上記の方法で
製造した直後の管では、規格上限の2ppmを超えて、
5〜10ppmとなるため、一般的には製造後に管を水
または熱水中に浸漬するなどして洗浄を行う。しかしな
がら、この洗浄工程には非常に長時間を要するという問
題があった。
鑑みてなされたものであって、低臭架橋ポリエチレン管
を製造した時に、臭気除去の為の洗浄時間が短時間で済
む架橋ポリエチレン管を提供することを目的にしてい
る。
の本発明の請求項1に記載の架橋ポリエチレン管(発明
1)は、分子量分布(Mw/Mn)が2.0〜3.0、
重量平均分子量(Mw)が50000〜150000で
あるポリエチレン系樹脂を主成分とすることを特徴とす
る架橋ポリエチレン管である。
管(発明2)は、 請求項1に記載のポリエチレン系樹
脂が、メタロセン化合物を用いて重合されたポリエチレ
ン系樹脂であることを特徴とする架橋ポリエチレン管で
ある。
て低分子量の化合物によるものとされている。従って、
低臭のポリエチレン管を得るためには、存在する低分子
量成分の量が少ないポリエチレン系樹脂を使用すること
が一つの方法である。
ィーにより測定されるが、通常分子量分布(Mw/M
n)の値でおよその存在量が推定できる。即ち、分子量
分布が広い場合には、ポリエチレンの分子量は高分子側
にも低分子側にも広がっており、従って分子量分布の狭
いポリエチレンと比較して低分子量化合物の存在量が多
いと推定されるのである。
2.0〜3.0であるポリエチレン系樹脂が適用され
る。即ち、分子量分布が2.0より小さければ、可塑化
したポリエチレン系樹脂の粘度が高くなって成形が困難
になり、3.0より大きければ低分子量成分が多くなっ
て臭気の改善が困難になる。
樹脂は、重量平均分子量(Mw)が50000〜150
000であるポリエチレン系樹脂である。即ち、Mwが
50000より小さいとポリエチレン系樹脂の中に低分
子量成分が残って臭気の発生が有り、 150000より
大きいと溶融粘度が上がって押出負荷が大きくなり、成
形が困難となる。
と重量平均分子量とを同時に満足するポリエチレン系樹
脂として、メタロセン化合物を用いて得られたポリエチ
レン系樹脂が適用される。メタロセン化合物を用いて得
られたポリエチレン系樹脂は、従来のチーグラー触媒を
用いて得られるポリエチレンと比較して分子量分布が狭
いものを得ることが可能である。即ち、メタロセン化合
物を用いる方法では分子量分布が2.0から3.0の範
囲のポリエチレン系樹脂を得ることができるが、チーグ
ラー触媒を用いる方法ではこの範囲の分子量分布をもつ
ポリエチレン系樹脂を得るのは難しい。
子系の不飽和化合物で挟んだ構造の化合物であり、チタ
ン、ジルコニウム、ニッケル、パラジウム、ハフニウ
ム、白金等の四価の遷移金属に、1つまたは2つ以上の
シクロペンタジエニル環またはその類縁体がリガンドと
して存在する化合物である。
ンタジエニル環、インデニル環、炭化水素基、置換炭化
水素基または炭化水素一置換メタロイド基により置換さ
れたシクロペンタジエニル環及びインデニル環、シクロ
ペンタジエニルオリゴマー環等が挙げられる。
例えば、塩素、臭素などの一価のアニオンまたは二価の
アニオンキレート、炭化水素基、アルコキシド、アミ
ド、ホスフィド、アリールアルコキシド、アリールアミ
ド、アリールホスフィド、アリールオキシドなどが遷移
金属に配位結合されていてもよい。
ル環と置換される炭化水素基としては、例えば、メチ
ル、エチル、プロピル、ブチル、イソブチル、アミル、
イソアミル、ヘキシル、2エチルヘキシル、へプチル、
オクチル、ノニル、デシル、セチル、フェニルなどが挙
げられる。
えば、シクロペンタジエニルチタニウムトリス(ジメチ
ルアミド)、メチルシクロペンタジエニルチタニウムト
リス(ジメチルアミド)、ビス(シクロペンタジエニ
ル)チタニウムジクロリド、ジメチルシリルテトラメチ
ルシクロペンタジエニル−tert−ブチルアミドジル
コニウムジクロリド、ジメチルシリルテトラメチルシク
ロペンタジエニル−tert−ブチルアミドハフニウム
ジクロリド、ジメチルシリルテトラメチルシクロペンタ
ジエニル−p−n−ブチルフェニルアミドジルコニウム
ジクロリド、メチルフェニルシリルテトラメチルシクロ
ペンタジエニル−tert−ブチルアミドハフニウムジ
クロリド、インデニルチタニウムトリス(ジメチルアミ
ド)、インデニルチタニウムトリス(ジエチルアミ
ド)、インデニルチタニウムトリス(ジ−n−プロピル
アミド)、インデニルチタニウムビス(ジ−n−ブチル
アミド)(ジ−n−プロピルアミド)等が挙げられる。
や配位子の構造を変え、特定の共触媒と組み合わせるこ
とにより、重合の際に触媒として働く。具体的には、重
合は、メタロセン化合物に共触媒としてメチルアルミノ
キサン(MAO)、ホウ素化合物などの添加した系で行
われる。メタロセン化合物に対する共触媒の使用割合
は、一般的に用いられている10〜1000000モル
倍、好ましくは50〜5000モル倍が適用される。
例えば、不活性媒体を用いる溶液重合法、実質的に不活
性媒体の存在しない塊状重合法、気相重合法などが利用
できる。通常温度は−300℃〜−100℃、重合圧力
は常圧〜100kg/cm2であるのが一般的である。
は、エチレンの単独重合体、エチレンとα−オレフィン
との共重合体等が挙げられる。
レン、1−ブテン、1−ペンテン、1−ヘキセン、4−
メチル−1−ペンテン、1−ヘプテン、1−オクテン等
が挙げられる。
記メタロセン化合物を用いて得られたポリエチレン系樹
脂を主成分とされたものであれば、製造方法は特に限定
はされないが、架橋には、一般的に、ビニルシラン化合
物とラジカル発生剤とを添加し反応させることにより、
ビニルシラン化合物をグラフトさせたポリエチレンを、
水存在下でシラノール縮合させる架橋法が好んで用いら
れる。 上記のビニルシラン化合物としては、例えば、
ビニルトリスアルコキシランがあり、中でも、ビニルト
リメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、ビニル
トリス(メトキシエトキシ)シランが好ましい。また、
ビニルメチルジエトキシシラン、ビニルフェニルジメト
キシシラン等でもよい。
機ペルオキシド、有機ペルエステルなどがあり、中で
も、ベンゾイルペルオキシド、ジクロルベンゾイルペル
オキシド、ジクミルペルオキシド、ジ−tert−ブチ
ルペルオキシド、2,5−ジメチル−2,5−ジ(ペル
オキシベンゾエート)ヘキシン−3,1,4−ビス(t
ert−ブチルペルオキシイソプロピル)ベンゼン、ラ
ウロイルペルオキシド、tert−ブチルペルアセテー
ト、2,5−ジメチル−2,5−ジ(tert−ブチル
ペルオキシ)ヘキシン−3,2,5−ジメチル−2,5
−ジ(tert−ブチルペルオキシ)ヘキサン、ter
t−ブチルペルベンゾエート、tert−ブチルペルフ
ェニルアセテート、tert−ブチルペルイソブチレー
ト、tert−ブチルペル−sec−オクトエート、t
ert−ブチルペルピバレート、クミルペルピバレー
ト、tert−ブチルペルジエチルアセテート等が好ま
しく、その他にも、アゾ化合物があり、例えば、アゾビ
スイソブチルニトリル、ジメチルアゾイソブチレート等
が挙げられる。
め、上記化合物以外にシラノール縮合触媒を配合しても
よい。シラノール縮合触媒は、シラノール間の脱水縮合
を促進する触媒として一般的に用いられる任意の化合物
であればよく、例えば、ジブチル錫ジラウレート、ジオ
クチル錫ジラウレート、ジブチル錫ジアセテート、ジブ
チル錫ジオクトエート、酢酸第一錫、ナフテン酸コバル
ト、ナフテン酸鉛、エチルアミン、ジブチルアミン、ヘ
キシルアミン、ピリジン等の化合物、硫酸、塩酸などの
無機酸、トルエンスルホン酸、酢酸、ステアリン酸、マ
レイン酸等の有機酸などが挙げられ、これらの1種もし
くは2種以上が好適に用いられるが、中でもジブチル錫
ジラウレート、ジオクチル錫ジラウレートがより好適に
用いられる。
剤、紫外線吸収剤、有機及び/又は無機充填剤、顔料、
染料、加工助剤などの各種添加剤の1種もしくは2種以
上を選択し添加されてもよい。
チル−2−ヒドロキシフェニル)ベンゾトリアゾール、
2−〔2−ヒドロキシ−3,5−ビス(α,α−ジメチ
ルベンジル)フェニル〕2H−ベンゾトリアゾール、2
−(3−t−ブチル−5−メチル−2−ヒドロキシフェ
ニル)−5−クロロベンゾトリアゾール、2−(3,5
−ジ−t−ブチル−2−ヒドロキシフェニル)−5−ク
ロロベンゾトリアゾールなどのベンゾトリアゾール系化
合物が好適に使用される。
チレン管は、メタロセン化合物を用いて得られたポリエ
チレン系樹脂からなり、分子量分布が2.0から3.0
であって重量平均分子量が50000以上であるので低
分子量成分の含有量が少なく、かつ重量平均分子量が1
50000以下であるので従来の製造設備で製造が可能
である。低分子量成分が少なく分子量が揃っていること
から、低臭気化のための熱水洗浄が短時間で済み、なお
熱水使用量が少なくなるのでコスト的にも有利になるの
である。
ポリエチレン管の実施例と比較例とを参照して説明す
る。
られたポリエチレン樹脂(ダウケミカル社製;商品名
「アフィニティーHF1030」、密度0.935、重
量平均分子量(クロマトグラフィー法)53400、分
子量分布(クロマトグラフィー法)2.5に対し、ビニ
ルトリメトキシシランが2%、有機過酸化物(日本油脂
社製;商品名「パーブチルD」)が0.07%となるよ
うに混合した後、押出機(日本製鋼所社製;「TEX−
44」、スクリュー直径47mm、L/D=45.5)
に投入し、190℃で混練を行った後、バレル途中に設
けられた液体注入孔よりシラノール縮合触媒(和光純薬
工業社製;ジブチル錫ジラウレート)を6g/Hrの供
給量でプランジャーポンプ(日本精密化学社製;NP−
KX−120)により圧入した。次いで、この溶融組成
物をパイプ形状(呼び径13、外径17mm、厚み2.
1mm)に賦形し、冷却固化し、管を得た。
0℃の熱水中に3時間および5時間浸漬させ、架橋ポリ
エチレン管を得た。
K6769に記載のKMnO4 消費量を測定した。そ
の結果を表1に示す。
セン化合物を用いて得られたポリエチレン樹脂(ダウケ
ミカル社製;商品名「XUS 59900.20」、密
度0.940、重量平均分子量(クロマトグラフィー
法)94800、分子量分布(クロマトグラフィー法)
2.7)を用いた以外は実施例1と同様とした。
ラー触媒を用いて得られたポリエチレン樹脂(日本ポリ
オレフィン社製;商品名「J−REX AR597
L」、密度0.945、重量平均分子量(クロマトグラ
フィー法)75000、分子量分布(クロマトグラフィ
ー法)3.4)を用いた以外は実施例1と同様とした。
脂は、低臭気化のための熱水洗浄時間が短くて済むので
製造速度が上がり、しかも従来の製造設備で製造が可能
となるので、コスト的にも有利となるのである。
Claims (2)
- 【請求項1】 分子量分布(Mw/Mn)が2.0〜
3.0、重量平均分子量(Mw)が50000〜150
000であるポリエチレン系樹脂を管状に押し出し、熱
架橋させたことを特徴とする架橋ポリエチレン管。 - 【請求項2】 請求項1に記載のポリエチレン系樹脂
が、メタロセン化合物を用いて重合されたポリエチレン
系樹脂であることを特徴とする架橋ポリエチレン管。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP11159676A JP2000343584A (ja) | 1999-06-07 | 1999-06-07 | 低臭架橋ポリエチレン管 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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JP11159676A JP2000343584A (ja) | 1999-06-07 | 1999-06-07 | 低臭架橋ポリエチレン管 |
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Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2000343584A true JP2000343584A (ja) | 2000-12-12 |
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ID=15698907
Family Applications (1)
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Country Status (1)
Country | Link |
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
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-
1999
- 1999-06-07 JP JP11159676A patent/JP2000343584A/ja not_active Withdrawn
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JP2012522107A (ja) * | 2009-03-30 | 2012-09-20 | 東レバッテリーセパレータフィルム株式会社 | 微多孔膜、かかる膜の製造方法、および電池用セパレータフィルムとしてのかかる膜の使用 |
JP2012522108A (ja) * | 2009-03-30 | 2012-09-20 | 東レバッテリーセパレータフィルム株式会社 | 微多孔膜、かかる膜の製造方法、およびバッテリーセパレーターフィルムとしてのかかる膜の使用 |
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