JP2000340167A - 質量分析装置 - Google Patents

質量分析装置

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JP2000340167A
JP2000340167A JP11144293A JP14429399A JP2000340167A JP 2000340167 A JP2000340167 A JP 2000340167A JP 11144293 A JP11144293 A JP 11144293A JP 14429399 A JP14429399 A JP 14429399A JP 2000340167 A JP2000340167 A JP 2000340167A
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JP
Japan
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heating
ion
power source
electrode plate
ion lens
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JP11144293A
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Nobuhiko Nishi
伸彦 西
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Shimadzu Corp
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Shimadzu Corp
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Abstract

(57)【要約】 【課題】イオンレンズを取り外すことなく洗浄できるよ
うにした質量装置を提供する。 【解決手段】イオンレンズ20aに収束用電源30の他
に、加熱手段31、33、34を取り付け、イオンレン
ズが汚れたときに通電することによりイオンレンズを加
熱するようにして不純物を除去する。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は質量分析装置に関
し、さらに詳細には高周波誘導結合プラズマ質量分析装
置(ICP−MS)、液体クロマトグラフ質量分析装置
(LC−MS)、ガスクロマトグラフ質量分析装置(G
C−MS)等の検出器に質量分析計を用いている質量分
析装置に関する。
【0002】
【従来の技術】従来からの質量分析装置の一例を図1、
図2により説明する。図において質量分析装置10は隔
壁17により隔てられたイオン化室11とマスフィルタ
室12からなり、マスフィルタ室12の方はターボ分子
ポンプ(TMP)による排気により高真空に保持され
る。試料導入口16から送り込まれる試料は、まずイオ
ン化室11において各種方法でイオン化される。イオン
化の方法により異なるが、イオン化室11は一般に大気
圧から1Torr程度と、マスフィルタ室12よりもはるか
に高い圧力となっている。
【0003】このため、両室11、12が直接隣接する
状態ではマスフィルタ室12を高真空に保つことは困難
なため、通常は図1に示すように隔壁17を二重にし、
中間室14を設けて粗引き用のロータリーポンプ(R
P)により中間排気を行うようにしている。
【0004】イオン化室11で生成された試料のイオン
は両室11、12の圧力差により隔壁17に設けられた
スキマー17aを通してマスフィルタ室12に引き込ま
れる。スキマー17aの直後にはエキストラクタ電極1
8が設けられ、エキストラクタ電極18は電界によりノ
ズル17aからのイオンの引き込みを助ける。マスフィ
ルタ室12に引き込まれたイオンは、エキストラクタ電
極18及びイオンレンズ20が形成する電界によりマス
フィルタ25の入口付近に収束される。なお、図1の質
量分析装置ではマスフィルタ25として四重極フィルタ
を使用しており、イオンレンズ20の電界が四重極フィ
ルタの電界に影響を及ぼさないように、四重極フィルタ
の直前にはノズル21が設けられる。入射したイオンの
うち、所定の質量/電荷比(m/z)を有するイオンの
みがマスフィルタ25を通過し、イオン検出器26によ
り検出される。なお、イオンレンズ20は複数のドーナ
ツ状の電極板20aが中心軸を揃えて互いに平行になる
ように離隔して設置されており、これら電極板20aの
中央孔をイオンが通過するようにしてある。また各電極
板20aは収束用電源30によって電圧が印加されるこ
とにより収束電界が生じるようになっている。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】このような装置を用い
て分析を続けていると、試料の一部がイオンレンズに付
着し堆積してくる。この汚れはイオンレンズの収束条件
の変動や、分析における不純物の原因となる。そのた
め、従来の装置では汚れがひどくなる度にマスフィルタ
室を大気開放し、イオンレンズを構成する部材を分解洗
浄するようにしていた。しかしながら、マスフィルタ室
を大気開放すると、再び元の真空状態まで戻すのに相当
時間がかかりその間は分析開始を待たねばならなかっ
た。また、イオンレンズは複数の電極板により構成され
ており、そのひとつひとつを取り外して洗浄することは
煩雑であり、さらには洗浄後に軸合わせの調整をしなが
ら組み付ける必要があり手間を要した。そこで、本発明
は簡単にイオンレンズの洗浄が行えるようにした質量分
析装置を提供することを目的とする。
【0006】
【課題を解決するための手段】本発明では、検出しよう
とするイオンをイオンレンズにより検出器に導くように
した質量分析装置において、イオンレンズを構成する部
材に加熱手段を設けたことを特徴とする。
【0007】加熱手段は別途イオンレンズを構成する部
材に取り付けるようにしてもよいし、あるいはイオンレ
ンズ自体を加熱手段としてもよい。
【0008】
【発明の実施の形態】以下、本発明について実施例を用
いて説明する。本発明の質量分析装置の全体構造につい
ては図1、図2の従来例と同様である。図3は、本発明
の一実施例である質量分析装置におけるイオンレンズ部
分の構成を示す図である。図において電極板20aは図
1、図2で平行に設置された複数のイオンレンズ20の
構成部材のひとつであり、イオンが通過するための中央
孔を有するドーナツ状の形態をしている。電極板20a
はマスフィルタ室12の壁面に絶縁的に保持しうる保持
具20bにより固定されるようになっており、この電極
板20aの一部に設けられた凸部において収束用電源3
0が接続されている。また前記凸部には良熱伝導性セラ
ミック34(例えば窒化ホウ素)が取り付けられてい
る。この良熱伝導性セラミック34には加熱用のニクロ
ム線33が巻かれてある。そして加熱用電源31がリレ
ー32を介してニクロム線33に接続されており、この
ニクロム線33に電流が流されると良熱伝導性セラミッ
ク34が加熱されることになり、電極板20aは金属
(例えばアルミ)製であるため良熱伝導性セラミック3
4からの熱が伝達されて全体が加熱されるようになって
いる。
【0009】次に、上記実施例のイオンレンズによる洗
浄方法について説明する。洗浄を始める前の分析続行中
はリレー32が開けてある。このときは収束用電源30
により印加された電圧により電極板20aを所望の一定
電圧に保持し、収束電界を発生させる。 分析を続ける
ことによりやがてイオンレンズが汚れてしまい、これの
洗浄の必要性が生じたときは収束用電源はOFFにして
リレー32を閉じ、加熱用電源31から通電する。これ
によりニクロム線33が加熱されて良熱伝導性セラミッ
ク34を介して電極板20aが加熱される。するとレン
ズに付着した試料は加熱気化されることにより付着物が
真空ポンプから外に除去される。なお、場合によっては
装置を一端停止し、大気開放した後で加熱を行うことに
より、レンズに付着した不純物を燃焼させてしまうこと
も可能である。この場合は真空排気するための待ち時間
が生じることになるが、燃焼させることにより洗浄効果
が大きくなる。また加熱しつつ真空排気することによ
り、比較的迅速に元の真空度に復帰させることができ
る。図4は本発明の他の実施例である質量分析装置のイ
オンレンズ部分の構成を示す図である。この実施例のイ
オンレンズは渦巻き状の電極線40で構成される。電極
線40は中央孔を有し、保持具20bにより壁面に固定
されるとともに、収束用電源30に接続されている。ま
た、電極線40の両端はリレー32を介して加熱用電源
31に接続されている。この実施例でも先程の例と同様
に分析中はリレー32が開かれており、収束用電源30
により電圧が印加されることにより、イオンレンズとし
て機能する。そして洗浄を行うときはリレー32を閉じ
て加熱用電源31から電流を流すことにより電極線40
全体が加熱され、不純物の気化が促進される。なお、本
発明では電極板40の汚れについて説明したが、エキス
トラクタ電極18等についても同様の加熱手段を取り付
けることにより同様の効果を得ることが可能である。
【0010】
【発明の効果】以上、説明したように質量分析装置で
は、イオンレンズを構成する部材を加熱できるようにし
たので、イオンレンズが汚れた場合でも簡単に洗浄する
ことができる。また、真空中で加熱することにより、マ
スフィルタ室12をベーキングにより洗浄することも可
能となる。
【図面の簡単な説明】
【図1】イオンレンズを用いた質量分析装置の構成図。
【図2】イオンレンズ部分の拡大説明図。
【図3】本発明の一実施例である質量分析装置における
イオンレンズの構成図。
【図4】本発明の他の一実施例である質量分析装置にお
けるイオンレンズの構成図。
【符号の説明】
20:イオンレンズ 20a:電極板 20b:保持具 30:収束用電源 31:加熱用電源 32:リレー 33:ニクロム線 34:良熱伝導性セラミック

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 検出しようとするイオンをイオンレンズ
    により検出器に導くようにした質量分析装置において、
    イオンレンズを構成する部材に加熱手段を設けたことを
    特徴とする質量分析装置。
JP11144293A 1999-05-25 1999-05-25 質量分析装置 Pending JP2000340167A (ja)

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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2012522335A (ja) * 2009-03-27 2012-09-20 ディーエイチ テクノロジーズ デベロップメント プライベート リミテッド 飛行源の加熱時間
WO2013027551A1 (ja) * 2011-08-25 2013-02-28 株式会社日立製作所 自動クリーニング機能付き質量分析装置

Cited By (3)

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JP2013045719A (ja) * 2011-08-25 2013-03-04 Hitachi Ltd 自動クリーニング機能付き質量分析装置

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