JP2000331053A - 露光データ作成方法、露光データ作成装置、及び、記録媒体 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】階層化設計されたマスクパターンデータからオ
ーバーラップを除去した露光データを作成する処理の高
速化と作業領域の低減を図ることができる露光データ作
成方法を提供すること。 【解決手段】オーバーラップパターンまとめ処理におい
て、ＣＰＵ２は、マスクパターンデータの内、階層構造
を利用してオーバーラップのあるパターンを一つのかた
まりとして扱い、各パターンのかたまりが同型か否かを
判定し、該判定結果に基づいて複数のパターンのかたま
りをストラクチャにまとめる。そして、ＣＰＵ２は、ま
とめた新たなストラクチャについて、各階層単位でパタ
ーンのオーバーラップ除去を行い、パターンのオーバー
ラップのない露光データを作成する。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は半導体集積回路装置
のレイアウトパターンデータからパターンの重なり合い
を除去した露光データを作成するための露光データ作成
方法、露光データ作成装置、及び、記録媒体に関するも
のである。

【０００２】半導体集積回路用露光データ（以後、単に
露光データと呼ぶ）をマスクウエハに露光する過程にお
いて、露光データにパターンの重なり（オーバーラッ
プ）があると多重露光になる。このことから、パターン
のオーバーラップをなくした露光データが必要になる。
このため、階層化設計された半導体集積回路用マスクパ
ターンデータ（以後、単にマスクパターンデータと呼
ぶ）に対してオーバーラップ除去処理を実施した後、そ
のデータをフォーマット変換処理して露光データを作成
する。

【０００３】近年の半導体集積回路（ＬＳＩ）において
は、大規模化及び高集積化が進められ、そのＬＳＩを作
成するために必要なマスクパターンデータ、露光データ
のデータ量も増大している。このことは、データを記憶
するメモリ装置やディスク装置等のリソース量の不足に
対する記憶装置の増設、オーバーラップ除去，フォーマ
ット変換等の処理に要する時間の長時間化、ひいてはＬ
ＳＩのコストアップを招くことから、処理時間の短縮と
リソース量の低減が要求されている。

【０００４】

【従来の技術】従来、露光データを作成する第１の方法
として、階層化設計されたマスクパターンデータの全て
を展開し、オーバーラップをなくしたデータを露光デー
タにフォーマット変換し、それを露光装置に入力する方
法が用いられてきた。しかし、この方法では出力される
露光データ量があまりにも膨大になり、オーバーラップ
除去にも時間がかかる。

【０００５】そこで、第２の方法として、入力されたマ
スクパターンデータを展開し、繰り返し性のあるパター
ンの形状認識をし、ストラクチャ（データを構成する構
造体であり、セル及びパターンを含む）にまとめてデー
タの圧縮をし、圧縮されたデータに対しオーバーラップ
除去を行う方法が考えられる。以後、繰り返し性のある
パターンの形状を認識し、ストラクチャにまとめる処理
を単に「まとめ処理」と呼ぶ。

【０００６】この場合、オーバーラップ除去は圧縮した
データに対して行うので、階層構造を利用でき処理時間
が短縮される。しかし、この方法では、オーバーラップ
しているパターンは同じストラクチャにしなくてはオー
バーラップをなくすことができないので、予めオーバー
ラップしているかどうかの認識をする必要がある。この
オーバーラップ認識を展開後に行うと、階層化された状
態に比べ認識対象となるパターン数が何倍（場合によっ
ては何千倍）にも増え、認識処理で膨大な時間がかかる
という新たな問題が生じる。

【０００７】そこで、第３の方法として、階層構造を利
用してオーバーラップ認識を行い、オーバーラップして
いるパターンのみを展開してオーバーラップ除去を行う
方法が考えられる。以降、オーバーラップパターンのみ
を対象とするまとめ処理を「オーバーラップパターンま
とめ処理」と呼ぶ。この方法によれば、オーバーラップ
していないパターンをまとめ処理から除外できるため、
展開されるパターン数及びオーバーラップ除去の対象パ
ターン数が減り、処理時間が短縮される。更に、まとめ
処理により、圧縮されデータ量の少ない露光データが生
成される。

【０００８】

【発明が解決しようとする課題】しかし、ＬＳＩの大規
模化，高集積化に伴って、オーバーラップするパターン
数が増加する。これにより、展開されるパターン数が増
えることから、第３の方法において、次の問題が発生す
る。

【０００９】(1) オーバーラップパターンまとめ処理
は、オーバーラップしたパターンを展開した後に行うた
め、階層構造を利用した場合に比べ、オーバーラップパ
ターンまとめ処理における同型判定の対象となるパター
ン数が多くなり、処理時間の増加の原因になる。

【００１０】(2) オーバーラップパターンまとめ処理に
展開処理が必要であるため、一時的に展開データを保持
するため膨大な作業領域を必要とする。これらの問題
は、近年のＬＳＩの大規模化に伴って、リソース不足に
よる処理の中断や現実的な時間内で処理が終わらない
等、深刻な事態を招く原因となりうる。

【００１１】本発明は上記問題点を解決するためになさ
れたものであって、その目的は階層化設計されたマスク
パターンデータからオーバーラップを除去した露光デー
タを作成する処理の高速化と作業領域の低減を図ること
のできる露光データ作成方法、露光データ作成装置、及
び、記録媒体を提供することにある。

【００１２】

【課題を解決するための手段】上記目的を達成するた
め、請求項１に記載の発明は、階層構造を持つマスクパ
ターンデータを変換して露光データを作成する露光デー
タ作成方法であって、前記マスクパターンデータの内、
階層構造を利用してオーバーラップのあるパターンを一
つのかたまりとして扱い、各パターンのかたまりが同型
か否かを判定し、該判定結果に基づいて複数のパターン
のかたまりをストラクチャにまとめるオーバーラップパ
ターンまとめ処理を備え、前記まとめたストラクチャに
ついて、各階層単位でパターンのオーバーラップ除去を
行い、パターンのオーバーラップのない露光データを作
成する。このように、ストラクチャにまとめることで、
同型判定するパターン数が少なくなり、処理時間及び作
業領域が少なくてすむ。

【００１３】オーバーラップパターンまとめ処理は、請
求項２に記載の発明のように、前記マスクパターンデー
タの内、階層構造を利用してオーバーラップしたパター
ンを認識するオーバーラップ認識処理が実施された後、
そのオーバーラップ認識処理において認識されたオーバ
ーラップのあるパターンについて、最下層のストラクチ
ャから上層に向かって処理を実施する。

【００１４】オーバーラップパターンまとめ処理は、請
求項３に記載の発明のように、前記オーバーラップのあ
るパターンを同型か否か判定し、同型と判定したものに
は同じ情報を付与し、該同型判定に基づく内部データを
作成する同型判定処理と、前記同型と判定したパターン
のかたまりを新たなストラクチャにまとめ、該ストラク
チャの保有パターン情報及び配置情報を前記内部データ
に基づいて作成する情報再構成処理と、を含み、前記保
有パターン情報及び配置情報に基づいてオーバーラップ
を除去し、除去後のデータをフォーマット変換して露光
データを作成する。

【００１５】尚、同型判定処理は、前記オーバーラップ
のあるパターンのかたまりを子ストラクチャのパターン
のかたまりで表現するステップと、前記子ストラクチャ
のパターンのかたまりをパターンと見なして同型判定を
行うステップと、前記判定結果に基づいて同型と判定し
たかたまりに同じ識別番号を付与するステップと、付与
した前記情報に基づいて内部データを作成するステップ
と、を含み、前記各ステップを全種類のストラクチャに
対して実施する。

【００１６】また、情報再構成処理は、同型と判断した
複数のパターンのかたまりを予め設定された基準個数に
基づいて新たなストラクチャにまとめるか否かを判定す
るステップと、新たなストラクチャの保有パターン情報
を作成するステップと、新たなストラクチャの配置情報
を作成するステップと、を含む。

【００１７】また、請求項４に記載の発明は、階層構造
を持つマスクパターンデータを変換して露光データを作
成する露光データ作成装置であって、前記マスクパター
ンデータの内、階層構造を利用してオーバーラップのあ
るパターンを一つのかたまりとして扱い、各パターンの
かたまりが同型か否かを判定し、該判定結果に基づいて
複数のパターンのかたまりをストラクチャにまとめるオ
ーバーラップパターンまとめ手段を備え、前記まとめた
ストラクチャについて、各階層単位でパターンのオーバ
ーラップ除去を行い、パターンのオーバーラップのない
露光データを作成する。

【００１８】また、請求項５に記載の発明は、階層構造
を持つレイアウトパターンデータを露光データに変換す
るためのコンピュータ読み取り可能なプログラムコード
が記録された記録媒体であって、前記プログラムは、前
記マスクパターンデータの内、階層構造を利用してオー
バーラップのあるパターンを一つのかたまりとして扱
い、各パターンのかたまりが同型か否かを判定し、該判
定結果に基づいて複数のパターンのかたまりをストラク
チャにまとめるステップと、前記まとめ処理の実施結果
を元に、各階層単位でパターンのオーバーラップ除去を
行い、パターンのオーバーラップのない露光データを作
成するステップと、を備えた方法を実行する。

【００１９】

【発明の実施の形態】以下、本発明を具体化した一実施
形態を図１〜図１９に従って説明する。図２は、本実施
形態の露光データ作成装置のハードウエア構成を概略的
に示すブロック図である。

【００２０】露光データ作成装置１は、中央処理装置
（以下、ＣＰＵという）２と、それに接続されたディス
ク装置３，端末装置４，メモリ装置５を含む。ディスク
装置３は、通常、磁気ディスク装置、光ディスク装置、
光ディスク装置等の記憶装置であり、これには図１に示
す露光データ作成処理のプログラムデータ及び第１ファ
イル１１が予め格納されている。第１ファイル１１に
は、露光データ作成処理の入力データとして半導体集積
回路装置用マスクパターンデータが格納されている。

【００２１】ＣＰＵ２は、プログラムデータに従って露
光データ作成処理を実行し、マスクパターンデータから
パターンのオーバーラップを除去し、その除去後のデー
タをフォーマット変換して露光データを作成する。この
オーバーラップを除去する過程において、ＣＰＵ２は、
図１の第２〜第４ファイル１４をディスク装置３に作成
する。更に、ＣＰＵ２は、露光データ作成処理の結果で
ある出力データとしての露光データを格納した第５ファ
イル１５をディスク装置３に作成する。

【００２２】第２ファイル１２は内部データファイルで
あり、ＣＰＵ２は、プログラム実行中に作成する一時的
な内部データをこのファィル１２に格納する。第３ファ
イル１３はストラクチャ配置データファイルであり、Ｃ
ＰＵ２は、処理過程において作成したパターンのかたま
りの配置情報を登録する。第４ファイル１４はパターン
データファイルであり、ＣＰＵ２は、処理過程において
作成したパターン情報を登録する。

【００２３】第５ファイル１５は露光データファイルで
あり、ＣＰＵ２は、第３及び第４ファイル１３，１４に
登録した情報（データ）をフォーマット変換して作成し
た露光データをこれに格納する。

【００２４】尚、図１の各ファイル１１〜１５は、異な
る記憶装置に格納されても良く、また、各ファイル１１
〜１５を複数の記憶装置にまたがって格納する構成とし
ても良い。

【００２５】露光データ作成処理のためのプログラムデ
ータは、記録媒体６を用いて提供される。記録媒体６
は、フレキシブルディスク、ＣＤ−ＲＯＭ、ハードディ
スク、メモリカード、ＲＯM、パンチカード、テープ等
のコンピュータ読み取り可能な媒体である。

【００２６】尚、記録媒体６には、通信媒体を介して提
供されるプログラムデータを記録した媒体、ディスク装
置を含む。更に、コンピュータによって直接実行可能な
プログラムを記録した記録媒体だけでなく、いったん他
の記録媒体（ハードディスク等）にインストールするこ
とによって実行可能となるようなプログラムを記録した
記録媒体や、暗号化されたり、圧縮されたりしたプログ
ラムを記録した記録媒体も含む。

【００２７】端末装置４は、ユーザからの要求や指示，
パラメータの入力等に用いるキーボード，マウス装置
（図示せず）等の入力装置と、パターン画像，処理結
果，等の表示に用いるＶＤＴ，モニタ，プリンタ等の表
示装置を含む。ＣＰＵ２は、端末装置４の操作に基づい
て起動されると、図１に示される露光データ作成処理を
実行する。

【００２８】メモリ装置５は記憶装置であり、ディスク
装置３に比べ高速なアクセスを提供するが、容量が小さ
い。従って、ＣＰＵ２は、処理過程のサイズの小さいデ
ータを高速アクセスする目的でメモリ装置５を用いる。
尚、図１の内部データを格納するファイル１２を、この
メモリ装置５に作成しても良い。

【００２９】ここで、マスクパターンデータの構成を説
明する。階層化設計されたマスクパターンデータとは、
図３で示された次の特徴と持つマスクパターンデータの
ことである。 (a) ストラクチャと呼ぶ構造とパターンで表現される。 (b) ストラクチャは、パターンとストラクチャの配置情
報で再帰的に定義される。 (c) 同じ名前を持つストラクチャは必ず同じパターンと
ストラクチャの配置情報から構成される。

【００３０】図３において、Ａ，Ｂ，Ｃ，Ｄはストラク
チャであり、Ｐ，Ｃ，Ｒ，Ｓ，Ｔはパターンである。
Ｂ，ＣはＡの子ストラクチャ、ＤはＣの子ストラクチャ
である。逆に、ＡはＢ，Ｃの親ストラクチャ、ＣはＤの
親ストラクチャである。特に、ストラクチャＡはトップ
ストラクチャと呼ばれることがある。

【００３１】次に、露光データ作成処理の概略を、図１
に従って説明する。露光データ作成処理は、図１のステ
ップ２１〜２５を含む。ステップ２１は入力処理（手
段）であり、ＣＰＵ２は、入力データである第１ファイ
ル１１のマスクパターンデータを読み込む。

【００３２】ステップ２２はオーバーラップ認識処理
（手段）であり、ＣＰＵ２は、マスクパターンデータに
含まれるパターンのオーバーラップを認識する。この
際、ＣＰＵ２は、階層構造を利用してそれを行う。

【００３３】このオーバーラップ認識は、以下のように
行われる。即ち、マスクパターンデータの各ストラクチ
ャに含まれる各セル毎にパターンを展開し、その展開し
た全てのパターンを含む領域を設定し、各領域の枠及び
パターンの枠よりなるセル枠の情報を作成し、レイアウ
トデータに含まれるセルを順次処理対象セルに設定し、
処理対象セル以下の階層のセル，パターンのセル枠に対
して階層構造に応じた種類を設定する。そして、幾何学
的に重なりがあるセル枠，パターンに対して、異なる種
類が設定されている場合には重なり有りと判定し、セル
枠同士又はセル枠とパターンに重なり有りと判定した場
合には重なりがあるセル枠に含まれる下層のセル枠，パ
ターンを更に読み込み、パターン同士に重なりがあると
判定した場合には該パターンの重なりを確定する。

【００３４】これにより、各セルの枠に対して種類を設
定し、同じ種類の枠は「重なり無し」として処理するこ
とで余計な重なりを調べる時間を省き、処理時間を短く
する。

【００３５】次に、ステップ２３はオーバーラップパタ
ーンまとめ処理（手段）であり、ＣＰＵ２は、階層構造
を用いて、オーバーラップしているパターンをストラク
チャにまとめる処理を行う。

【００３６】詳述すると、オーバーラップパターンまと
め処理は、パターンのかたまりの同型判定を行い、スト
ラクチャにまとめる処理である。同型判定の対象は、あ
る配置においてオーバーラップしているパターンのみで
ある。

【００３７】従来の方法におけるオーバーラップまとめ
処理は、ある配置においてオーバーラップしているパタ
ーンは展開して、パターンのかたまりの同型判定を行っ
ていた。これに対し、本発明の特徴は、展開を行わず、
階層構造を保ったままパターンのかたまりの同型判定を
行うことである。従って、処理するパターン数が少ない
のでリソース量及び処理時間が少なくて済む。

【００３８】ＣＰＵ２は、パターンのかたまりの同型判
定を、各ストラクチャ毎に行う。更に、ＣＰＵ２は、ス
トラクチャの処理順序を、階層の下に位置するストラク
チャから上層に向かって行う、所謂ボトムアップ処理を
行うようにしている。

【００３９】階層構造を用いた同型判定の手順は次の通
りである。即ち、あるストラクチャでのパターンのかた
まりを、子ストラクチャでのパターンのかたまりで表現
する。同型判定として、パターンのかたまりを構成する
子ストラクチャでのパターンのかたまりをパターンと見
なして同型判定する。因みに、従来はパターンのかたま
りを構成するパターンを比較対象にしていた。従って、
本発明は、従来に比べて同型判定の実施回数が少ない。

【００４０】そして、ＣＰＵ２は、同型と判定したパタ
ーンのかたまりに関する情報を、階層化形式の内部デー
タとして第２ファイル１２に格納する。この様にして、
ＣＰＵ２は、全てのストラクチャに対する処理を終了す
ると、同型と判定したパターンのかたまりの中から任意
に選び出したかたまりをストラクチャに設定する。同型
と判定されたパターンのかたまりは、参照する１つのス
トラクチャをそれぞれ配置することで表される。

【００４１】そして、ＣＰＵ２は、設定したストラクチ
ャの配置情報（同型と判定したパターンのかたまりの位
置情報）をストラクチャ配置データとして第３ファイル
１３に登録し、そのストラクチャを構成するパターンの
情報をパターンデータとして第４ファイル１４に登録す
る。

【００４２】ステップ２４はオーバーラップ除去処理
（手段）であり、ＣＰＵ２は、ステップ２３においてま
とめた各ストラクチャ毎にオーバーラップ除去を行う。
即ち、ＣＰＵ２は、ストラクチャ毎に格納した第４ファ
イル１４のパターンデータから、オーバーラップした部
分のデータを除去したデータを作成する。

【００４３】ステップ２５は出力処理（手段）であり、
ＣＰＵ２は、ステップ２４においてオーバーラップを除
去したデータ及び第３ファイル１３のストラクチャ配置
データに基づいて、フォーマット変換して作成した露光
データを第５ファイル１５に格納する。これを全てのパ
ターンに対して実施すると、ＣＰＵ２は、露光データ作
成処理を終了する。

【００４４】次に、図１に示すステップ２３のオーバー
ラップパターンまとめ処理を、図４，５に従って詳述す
る。図４のステップ２３ａと図５のステップ２３ｂは、
オーバーラップパターンまとめ処理（ステップ２３）の
サブステップである。

【００４５】ステップ２３ａは同型判定処理であり、Ｃ
ＰＵ２は、ステップ２２のオーバーラップ認識結果に基
づいて、オーバーラップしている複数のパターンをパタ
ーンのかたまりとして表現し、そのパターンのかたまり
と同一形状を持つ他のパターンのかたまりが存在するか
否かを判定する。そして、ＣＰＵ２は、同一形状を持つ
複数のかたまりに同型情報を付加し、その同型情報に基
づいて作成した内部データを図１の第２ファイル１２に
格納する。

【００４６】ステップ２３ｂは情報再構成処理であり、
ＣＰＵ２は、ステップ２３ａにおいて作成した内部デー
タに基づき、新たなストラクチャを設定し、そのストラ
クチャが持つパターンの配置情報を図１の第３ファイル
１３に、パターンを示す情報を第４ファイル１４に格納
する。

【００４７】図４のステップ３１〜３６は、ステップ２
３ａ（同型判定処理）のサブステップであり、図５のス
テップ３７〜３９は、ステップ２３ｂ（情報再構成処
理）のサブステップである。

【００４８】ステップ３１において、図２のＣＰＵ２
は、処理対象のストラクチャが持つパターンのかたまり
を、そのストラクチャの子ストラクチャが持つパターン
のかたまりで表現する。

【００４９】ステップ３２において、ＣＰＵ２は、子ス
トラクチャが持つパターンのかたまりを１つのパターン
とみなし、それが処理対象ストラクチャが持つ他のパタ
ーンのかたまりと同型か否かを判定する。

【００５０】ステップ３３において、ＣＰＵ２は、ステ
ップ３２における判定結果に基づいて、同型のみなしパ
ターンが存在する場合にステップ３４へ移り、それが存
在しない場合にステップ３６へ移る。

【００５１】ステップ３４において、ＣＰＵ２は、同型
と判定したみなしパターンに同じ識別番号を付与する。
ステップ３５において、ＣＰＵ２は、同型と判定した複
数のみなしパターンのデータを圧縮した内部データを作
成する。そして、ＣＰＵ２は、その内部データを図１の
第２ファイル１２に格納する。

【００５２】ステップ３６において、ＣＰＵ２は、全種
類のストラクチャに対して上記の処理を終了したか否か
を判断し、全てについて終了していない場合にステップ
３１に移る。即ち、ＣＰＵ２は、ステップ３１からステ
ップ３６までの処理を、ストラクチャの種類分だけルー
プする。

【００５３】そして、ＣＰＵ２は、全種類のストラクチ
ャについて処理を終了すると、情報再構成処理を実行す
べくステップ３６からステップ３７へ移る。ステップ３
７は再構成判定処理であり、ＣＰＵ２は、同型なパター
ンのかたまりの個数と基準の個数を比較し、そのパター
ンのかたまりをストラクチャとして再構成するか否かを
判定する。この基準の個数は、再構成したストラクチャ
の種類数が増えすぎないように予め設定されプログラミ
ングされている。パターンのかたまりをストラクチャに
再構成した場合、繰り返し性の少ないストラクチャの種
類数が増えても意味がないからである。尚、この基準の
個数は、ステップ３７において、端末装置４から入力す
るようプログラミングされていても良い。

【００５４】ステップ３８はパターン情報作成処理であ
り、ＣＰＵ２は、再構成した新たなストラクチャを構成
するパターンの情報、詳しくはパターンのかたまりの親
子関係の情報を作成し、その情報を図１の第４ファイル
１４に格納する。

【００５５】ステップ３９は配置情報作成処理であり、
ＣＰＵ２は、再構成した新たなストラクチャの配置位置
の情報、即ち、パターンのかたまりをどこに配置するか
の情報を作成し、これを図１の第３ファイル１３に格納
する。この格納を終了すると、ＣＰＵ２は、再構成処
理、即ちオーバーラップパターンまとめ処理を終了し、
次のオーバーラップ除去処理を実行する。

【００５６】次に、図１に示すステップ２４のオーバー
ラップ除去処理を、図５に従って詳述する。図５のステ
ップ４１，４２は、図１のステップ２４（オーバーラッ
プ除去処理）のサブステップである。

【００５７】ステップ４１において、ＣＰＵ２は、処理
対象としたストラクチャを構成するパターンからオーバ
ーラップした部分を除去する。ステップ４２において、
ＣＰＵ２は、全種類のストラクチャに対して上記の処理
を終了したか否かを判断し、全てについて終了していな
い場合にステップ４１に移る。即ち、ＣＰＵ２は、ステ
ップ４１の処理を、ストラクチャの種類分だけループす
る。そして、ＣＰＵ２は、全種類のストラクチャについ
て処理を終了すると、ステップ２４のオーバーラップ除
去処理を終了する。

【００５８】図６は、同型判定を説明するためのレイア
ウト図である。図６において、実線はパターンの形状を
示し、破線はパターンを含む領域を示す。パターンのか
たまりが同型かどうかの判定は、次のように行う。最初
に、同じパターンで構成されているかどうかを判定し、
同じパターンで構成されている場合は各パターンの配置
情報を平行移動、回転、ｘ軸反転（ｙ軸反転）、拡大を
行い重ね合わせを行って判定する。

【００５９】図６において、各パターンのかたまり５１
〜５５は、それぞれ３つのパターンを有する。第１のか
たまり５１と第２のかたまり５２と第３のかたまり５３
は、実質的に同一の構成を持つ、即ちパターン６１，６
２，６３をそれぞれ有し、それらパターン６１，６２，
６３は同一の重なりを持つ。従って、ＣＰＵ２は、第１
〜第３のかたまり５１〜５３を同型と判定し、これらに
同一の識別番号を付与する。

【００６０】これに対し、第４のかたまり５４は、第１
のかたまり５１と異なるパターン６４を持ち、全体の形
状が異なる。従って、ＣＰＵ２は、第４のかたまり５４
を第１のかたまり５１と形状が異なると判定し、この第
４のかたまり５４に対して第１のかたまり５１と異なる
値の識別番号を付与する。

【００６１】更に、第５のかたまり５５は、第１のかた
まり５１と同一のパターン６１〜６３を持つが、全体の
形状が異なる。また、これは第４のかたまり５４と構成
及び形状が異なる。従って、ＣＰＵ２は、第５のかたま
り５５を第１及び第４のかたまり５１，５４と形状が異
なると判定し、この第５のかたまり５５に対して第１及
び第４のかたまり５１，５４と異なる値の識別番号を付
与する。

【００６２】次に、１つの例として、図７に示される構
造を持つマスクパターンデータを処理する場合について
説明する。このマスクパターンデータは、最上層にスト
ラクチャＡを有し、そのストラクチャＡはストラクチャ
Ｂ，Ｃ，Ｄ，Ｅを有している。ストラクチャＢ，Ｃは、
図において上下対象に配置されたパターンＰ１，Ｐ２，
Ｐ３を持つ。従って、ストラクチャＢ，Ｃは、実質的に
同一のストラクチャであるが、ここでは説明の便宜上異
なる符号を付している。同様に、ストラクチャＤ，Ｅ
は、図において上下対象に配置されたパターンＱ１，Ｑ
２，Ｑ３，Ｑ４をそれぞれ持つ。

【００６３】パターンＰ１〜Ｐ３はオーバーラップして
おり、パターンＱ１〜Ｑ４はオーバーラップしている。
さらに、ストラクチャＢ，Ｃがそれぞれ持つパターンＰ
３とストラクチャＤ，Ｅがそれぞれ持つパターンＱ１は
オーバーラップしている。

【００６４】上記のように構成されたマスクパターンデ
ータにおいて、ストラクチャＢのパターンＰ１〜Ｐ３の
オーバーラップと、ストラクチャＣのパターンＰ１〜Ｐ
３のそれは、同一形状（上下対象）である。従って、図
２のＣＰＵ２は、ストラクチャＢが持つパターンＰ１〜
Ｐ３のかたまりと、ストラクチャＣが持つパターンＰ１
〜Ｐ３のかたまりを同型と判定し、これらをまとめて図
８（ａ）に示す新たなパターンのかたまりＰＧＢ１，Ｐ
ＧＢ２を設定する。同様に、ＣＰＵ２は、ストラクチャ
Ｄが持つパターンＱ１〜Ｑ４のかたまりと、ストラクチ
ャＥが持つパターンＱ１〜Ｑ４のかたまりを同型と判定
し、これらをまとめて新たなパターンのかたまりＰＧＣ
１，ＰＧＣ２を設定する。尚、パターンのかたまりＰＧ
Ｂ１とパターンのかたまりＰＧＢ２、パターンのかたま
りＰＧＣ１とパターンのかたまりＰＧＣ２は、ストラク
チャＢ〜Ｅと同様に、実質的に同一のストラクチャであ
る。

【００６５】更に、新たなパターンのかたまりＰＧＢ１
とパターンのかたまりＰＧＣ１とのオーバーラップは、
パターンのかたまりＰＧＢ２とパターンのかたまりＰＧ
Ｃ２とのオーバーラップと同じである。従って、各パタ
ーンのかたまりＰＧＢ１，ＰＧＢ２，ＰＧＣ１，ＰＧＣ
２をパターンと見なすと、パターンＰＧＢ１とパターン
ＰＧＣ１からなるかたまりは、パターンＰＧＢ２とパタ
ーンＰＧＣ２からなるかたまりと実質的に同一形状を持
つ。従って、ＣＰＵ２は、パターンＰＧＢ１とパターン
ＰＧＣ１をまとめた新たなパターンのかたまりＰＧＡ１
を設定し、パターンＰＧＢ２とパターンＰＧＣ２をまと
めた新たなパターンのかたまりＰＧＡ２を設定する。こ
のように、設定されたパターンのかたまりＰＧＡ１，Ｐ
ＧＡ２は、それぞれ２個の要素（この場合はパターンの
かたまりＰＧＢ１とパターンのかたまりＰＧＣ１、パタ
ーンのかたまりＰＧＢ２とパターンのかたまりＰＧＣ
２）を持つ。

【００６６】このようの、新たなパターンのかたまりを
設定したストラクチャＡの階層構造を図８（ｂ）に示
す。この図のように、階層化設計されたデータの特徴か
ら、パターンのかたまりＰＧＢ１とパターンのかたまり
ＰＧＢ２は、同じパターンＰ１，Ｐ２，Ｐ３を参照す
る。同様に、パターンのかたまりＰＧＣ１とパターンの
かたまりＰＧＣ２は、同じパターンＱ１，Ｑ２，Ｑ３，
Ｑ４を参照する。

【００６７】上記の方法に対して、従来の方法によれ
ば、重なりのあるパターンは展開されてまとめられるた
め、図９（ａ）に示されるように、パターンＰ１〜Ｐ３
及びパターンＱ１〜Ｑ４をそれぞれ有するパターンのか
たまりＰＧＡ１，ＰＧＡ２が設定される。これらパター
ンのかたまりＰＧＡ１，ＰＧＡ２は、それぞれ７個の要
素（この場合はパターンＰ１〜Ｐ３及びパターンＱ１〜
Ｑ４）を持つ。

【００６８】このように、パターンに変えて設定した新
たなパターンのかたまりＰＧＢ１，ＰＧＢ２，ＰＧＣ
１，ＰＧＣ２を用いることで、同型判定の対象となるパ
ターン数が少なくなる。

【００６９】更に、パターンのかたまりＰＧＡ１，ＰＧ
Ａ２を表現するために要するデータ量は、下層のパター
ンのかたまりＰＧＢ１，ＰＧＢ２，ＰＧＣ１，ＰＧＣ２
と、参照元のパターンＰ１〜Ｐ３及びパターンＱ１〜Ｑ
４の合計１１個分（＝４＋７）となる。これに対して、
従来の方法によるデータ量は、パターンのかたまりＰＧ
Ａ１，ＰＧＡ２をそれぞれ構成するパターンＰ１〜Ｐ３
及びパターンＱ１〜Ｑ４の合計１４個分（＝７×２）と
なる。このように、パターンのかたまりを表現するため
のデータ量が少なくなる。

【００７０】上記では、ストラクチャＡが２つの新たな
パターンのかたまりＰＧＡ１，ＰＧＡ２を持つ場合につ
いて説明したが、パターンのかたまりの繰り返しが多い
ほど、本実施形態の効果がより明らかになる。

【００７１】即ち、図１０（ａ）に示すように、トップ
ストラクチャＡＡは、上記の図８における新たなパター
ンのかたまりＰＧＡ１，ＰＧＡ２，…，ＰＧＡ１００を
持つ。各パターンのかたまりＰＧＡ１〜ＰＧＡ１００
は、上記と同様に、パターンのかたまりＰＧＢ，ＰＧＣ
をそれぞれ持つ。従って、１００個のパターンのかたま
りＰＧＡ１〜ＰＧＡ１００を表現するために必要なデー
タ量は、各パターンのかたまりＰＧＡ１〜ＰＧＡ１００
が下層に持つパターンのかたまりＰＧＢ，ＰＧＣの数の
合計と、パターンのかたまりＰＧＢが参照するパターン
Ｐ１〜Ｐ３、パターンのかたまりＰＧＣが参照するパタ
ーンＱ１〜Ｑ４の合計２０７個分（＝２×１００＋４＋
３）となる。これに対して、従来の方法によるデータ量
は、１００個のパターンのかたまりＰＧＡ１〜ＰＧＡ１
００に展開され存在するパターンＰ１〜Ｐ３及びパター
ンＱ１〜Ｑ４の合計７００（＝（３＋４）×１００）と
なる。

【００７２】このように、繰り返し数が多い、または深
い階層構造を持つマスクパターンデータでは、本実施形
態におけるデータ量と、従来のそれとの差が大きくなっ
て現れる。

【００７３】次に、別の例として、図１１に示す構造を
持つストラクチャに対する図２のＣＰＵ２の処理を説明
する。図１１に示すストラクチャＡは、下層に４個のス
トラクチャＢを持ち、そのストラクチャＢは、更に下層
に８個のストラクチャＣを持つ。そのストラクチャＣは
１個のパターンＰを持つ。

【００７４】ストラクチャＢにおいて、８個のストラク
チャＣはマトリックス状に配置され、ストラクチャＣは
図の横方向にパターンＰがオーバーラップし、縦方向に
オーバーラップしていない。これにより、ストラクチャ
Ｂは、パターンＰのかたまりを２つ持つ。

【００７５】ストラクチャＡにおいて、４個のストラク
チャＢはマトリックス状に配置され、ストラクチャＢは
図の横方向にストラクチャＣ、さらにはパターンＰがオ
ーバーラップし、且つ一直線状に配置され、縦方向にオ
ーバーラップしていない。従って、ストラクチャＡは、
パターンＰのかたまりを４つ持つ。

【００７６】図１１において、対象となるストラクチャ
はＡ，Ｂ，Ｃの３つであり、図２のＣＰＵ２は、最下層
のストラクチャＣからストラクチャＢ，ストラクチャＡ
の順番で選択する。

【００７７】最初に、ＣＰＵ２は、ストラクチャＣに対
する処理を実施する。しかし、ストラクチャＣにはパタ
ーンのかたまりが１つであるため、同型判定の必要がな
い（便宜上、パターン１つの場合でもパターンのかたま
りと呼ぶことにする）。この場合、ＣＰＵ２は、図４の
ステップ３１〜ステップ３６の処理を実質的に実施しな
い。

【００７８】次に、ＣＰＵ２は、ストラクチャＢの処理
を実施する。ストラクチャＢはパターンのかたまりを２
つ持つ。これらを図１２のようにＰＧＢ１，ＰＧＢ２と
する。この２つは図４のステップ３１において、子スト
ラクチャＣのパターンのかたまりＰＧＣの４つで表現さ
れる。

【００７９】図４のステップ３２において、ＣＰＵ２
は、子ストラクチャＣのパターンのかたまりＰＧＣで表
現されたパターンのかたまりＰＧＢ１，ＰＧＢ２の同型
判定を行う。

【００８０】ＣＰＵ２は、ステップ３２においてパター
ンのかたまりＰＧＢ１，ＰＧＢ２を同型と判定し、ステ
ップ３３からステップ３４へ移る。ステップ３４におい
て、ＣＰＵ２は、ステップ３２の同型判定の結果によ
り、同型と判定したパターンのかたまりＰＧＢ１，ＰＧ
Ｂ２に同一の識別番号を付与する。

【００８１】次に、ステップ３５において、ＣＰＵ２
は、同型判定の情報を元に、パターンのかたまりＰＧＢ
１，ＰＧＢ２のデータを圧縮した内部データを作成す
る。図１３は、パターンのかたまりのデータ圧縮を示し
た図である。図１３（ａ）は、パターンのかたまりＰＧ
Ｂ１，ＰＧＢ２が子ストラクチャＣのパターンのかたま
りＰＧＣで表現されている状態を示す。図１３（ｂ）及
び図１３（ｃ）は、パターンのかたまりＰＧＢ１，ＰＧ
Ｂ２を同型と判定したことにより、それらのデータを圧
縮した状態を示す。

【００８２】図１３（ｂ）に示すように、同型のパター
ンのかたまりＰＧＢ１，ＰＧＢ２は、共通のデータＰＧ
Ｂを配置する情報と、そのデータＰＧＢを示すポインタ
で表される。

【００８３】図１３（ｃ）はパターンのかたまりの親子
関係データであり、パターンのかたまりＰＧＢ１，ＰＧ
Ｂ２の実体である共通のデータＰＧＢと、それから参照
する共通のデータＰＧＣで表される。

【００８４】以上のようにして、ＣＰＵ２は、ストラク
チャＢに対する処理を終了すると、上層のストラクチャ
Ａを処理する。ストラクチャＡは、パターンのかたまり
を４個持つ。これらをＰＧＡ１，ＰＧＡ２，ＰＧＡ３，
ＰＧＡ４とする。

【００８５】ストラクチャＡに対するステップ３１にお
いて、ＣＰＵ２は、パターンのかたまりＰＧＡ１〜ＰＧ
Ａ４を、子ストラクチャＢのパターンのかたまりＰＧＢ
１，ＰＧＢ２を用いて（ＰＧＢ１，ＰＧＢ１），（ＰＧ
Ｂ２，ＰＧＢ２），（ＰＧＡ１，ＰＧＡ１），（ＰＧＢ
２，ＰＧＢ２）で表現する。このように、ＰＧＡ１とＰ
ＧＡ３，ＰＧＡ２とＰＧＡ４がそれぞれ同じパターンの
かたまりで表現できることが階層化設計されたマスクパ
ターンデータの特徴である。

【００８６】次に、ステップ３２において、ＣＰＵ２
は、（ＰＧＢ１，ＰＧＢ１），（ＰＧＢ２，ＰＧＢ
２），（ＰＧＡ１，ＰＧＡ１），（ＰＧＢ２，ＰＧＢ
２）に対して同型判定を行う。ＰＧＢ１とＰＧＢ２は同
じ識別番号がついているので同じものと見なされ、パタ
ーンのかたまりの組み合わせは同じと判定される。更
に、配置関係も同じであるから、ＣＰＵ２はパターンの
かたまりＰＧＡ１〜ＰＧＡ４をすべて同型と判定する。

【００８７】そして、ステップ３４において、ＣＰＵ２
は、ステップ３２の同型判定の結果により、同型と判定
したパターンのかたまりＰＧＡ１〜ＰＧＡ４の全てに同
じ識別番号を付与する。

【００８８】次に、ステップ３５において、ＣＰＵ２
は、同型判定の情報を元に、パターンのかたまりＰＧＡ
１〜ＰＧＡ４のデータを圧縮した内部データを作成す
る。図１４は、パターンのかたまりのデータ圧縮を示し
た図である。ＣＰＵ２は、ストラクチャＢの場合と同様
に、ストラクチャＡに対するデータ圧縮を行う。即ち、
図１４（ａ）に示すパターンのかたまりＰＧＡ１〜ＰＧ
Ａ４を表すデータは、図１４（ｂ）に示すＰＧＡ１〜Ｐ
ＧＡ４の共通のデータＰＧＡを配置する配置データ及び
データＰＧＡを示すポインタと、図１４（ｃ）に示す共
通のパターンのかたまりＰＧＡの情報で表される。更
に、パターンのかたまりＰＧＡの情報は、図１３（ｃ）
の親子関係データ、即ち、共通のデータＰＧＢと、それ
から参照する共通のデータＰＧＣで表される。

【００８９】以上のように全ての種類のストラクチャ
Ａ，Ｂ，Ｃに対して処理を実施した図２のＣＰＵ２は、
ステップ３６からステップ３７に移る。このようにし
て、ストラクチャＡは４個のパターンのかたまりＰＧＡ
１〜ＰＧＡ４で表され、それらはそれぞれ２個のパター
ンのかたまりＰＧＢ１，ＰＧＢ２を持つ。更に、各パタ
ーンのかたまりＰＧＢ１，ＰＧＢ２は４個のパターンの
かたまりＰＧＣを持つ。従って、このストラクチャＡに
おける同型判定の対象は１６個（＝４×２＋２×４）と
なる。

【００９０】これに対して、従来の方法では、図１５に
示すように、ストラクチャＡは４個のストラクチャＰＧ
Ａ１〜ＰＧＡ４（ここでは、従来の方法によりまとめら
れたストラクチャに対して同じ符号を付して説明する）
を持ち、各ストラクチャＰＧＡ１〜ＰＧＡ４はそれぞれ
８個のパターンＰを持つ。従って、このストラクチャＡ
における同型判定の対象は３２個（＝４×８）となる。

【００９１】以上のように、本実施形態における同型判
定の対象数は、従来のそれに比べて少ない。従って、同
型判定に要する時間が従来のそれに比べて短くなると共
に、同型判定の時に扱うデータ量、即ち必要なリソース
量が従来のそれに比べて少なくなる。

【００９２】次に、ＣＰＵ２は、図５のステップ３７に
おいて、同型判定処理の結果、同型と判定したパターン
のかたまりの個数を計算し、予め設定した数値以上か否
かにより、複数のパターンのかたまりをストラクチャに
まとめるか否かを決定する。このことにより、繰り返し
数の少ないストラクチャは作成されず、ストラクチャ種
類数が増えることが防げる。ストラクチャとならないパ
ターンのかたまりは、そのまま展開され直接に配置され
る。

【００９３】次に、ＣＰＵ２は、図５のステップ３８に
おいて、ステップ３７の結果に基づいて新たに作成する
ストラクチャの保有パターンを、パターンのかたまりの
親子関係データ（図１３（ｃ）及び図１４（ｃ））を使
用して作成し、そのパターン情報を図１の第４ファイル
１４に格納する。

【００９４】更に、ＣＰＵ２は、ステップ３９におい
て、ステップ３７の結果に基づいて新しく作成するスト
ラクチャが持つパターンのかたまりの配置情報を、各ス
トラクチャでのパターンのかたまりの配置データ（図１
３（ｂ）及び図１４（ｂ））を使用して作成する。但
し、最終的にオーバーラップがなくなったストラクチャ
でのパターンのかたまりが、その子ストラクチャとして
登録される。

【００９５】図１２においては、ＰＧＡ１〜ＰＧＡ４の
中から代表を選び、新しくストラクチャを作成する。例
えば、図１６に示すように、新たなストラクチャＤを作
成する。このことにより、ＰＧＡ１〜ＰＧＡ４のパター
ンデータは、一つのストラクチャＤに圧縮される。

【００９６】そして、ＣＰＵ２は、図１のステップ２４
において、以上記述したようにして階層間のオーバーラ
ップをなくした階層データから、各ストラクチャ毎にオ
ーバーラップ除去処理を行う。

【００９７】次に、隣接したパターンを有するストラク
チャに対する処理の例を説明する。今、図１７に示すス
トラクチャＡにおいて、ストラクチャＢが保有するパタ
ーンＱ１とストラクチャＣが保有するパターンＱ２が接
触している。尚、ストラクチャＢが保有するパターンＰ
１とストラクチャＣが保有するパターンＰ２はオーバー
ラップしている。そして、ストラクチャＣが保有するパ
ターンＰ２とストラクチャＡが保有するパターンＲがオ
ーバーラップしている。図には、パターンＰ１，Ｐ２，
Ｑ１，Ｑ２にハッチングをしてオーバーラップ及び接触
を判りやすくしている。

【００９８】図１８は、接触をオーバーラップに含めな
い場合の結果である。ＣＰＵ２は、オーバーラップして
いるパターンＰ１，Ｐ２のかたまりから新たなストラク
チャＤを作成し、オーバーラップしているパターンＰ
１，Ｐ２，Ｒのかたまりから新たなストラクチャＥを作
成する。そして、ＣＰＵ２は、パターンＱ１を含む新た
なストラクチャＢ’と、パターンＱ２を含む新たなスト
ラクチャＣ’を作成する。

【００９９】図１９は、接触をオーバーラップに含める
場合の結果である。ＣＰＵ２は、上記と同様にして新た
なストラクチャＤ，Ｅを作成する。更に、ＣＰＵ２は、
接触しているパターンＱ１，Ｑ２のかたまりから新たな
ストラクチャＦを作成する。尚、図中の太線は各ストラ
クチャに対して同時に実施したサイジングの結果を示し
ている。

【０１００】このように、接触をオーバーラップに含め
た処理は、オーバーラップを除去した後のデータに対す
るサイジングなどの図形処理を簡単にする。接触を含め
ない場合、即ち、図１８のレイアウトデータに対してサ
イジングを実施する場合、注目するパターンに接触する
パターンが存在するか否かを判定しなければならない。
これは、階層構造を持つレイアウトデータにおいて、展
開などの処理が必要となり、処理時間が長くなると共
に、多くのリソースを必要とするからである。

【０１０１】以上記述したように、本実施の形態によれ
ば、以下の効果を奏する。 （１）オーバーラップパターンまとめ処理において、Ｃ
ＰＵ２は、マスクパターンデータの内、階層構造を利用
してオーバーラップのあるパターンを一つのかたまりと
して扱い、各パターンのかたまりが同型か否かを判定
し、該判定結果に基づいて複数のパターンのかたまりを
ストラクチャにまとめる。そして、ＣＰＵ２は、まとめ
た新たなストラクチャについて、各階層単位でパターン
のオーバーラップ除去を行い、パターンのオーバーラッ
プのない露光データを作成するようにした。この結果、
同型判定するパターン数が少なくなり、処理時間の短縮
を図ることができる。

【０１０２】（２）展開処理を行わずにオーバーラップ
パターンまとめ処理を実施することができるので、使用
する作業領域（リソース量）を少なくすることができ
る。 （３）オーバーラップのあるパターンのかたまりをスト
ラクチャに再構成するため、階層間でのオーバーラップ
がない状態が得られる。その結果、各階層毎にオーバー
ラップ除去を行うことができる。

【０１０３】

【発明の効果】以上詳述したように、請求項１乃至５に
記載の発明によれば、階層化設計されたマスクパターン
データからオーバーラップを除去した露光データを作成
する処理の高速化と作業領域の低減を図ることの可能な
露光データ作成方法、露光データ作成装置、及び、記録
媒体を提供することができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】 露光データ作成処理のフローチャートであ
る。

【図２】 露光データ作成装置の概略構成図である。

【図３】 階層構造の説明図である。

【図４】 オーバーラップパターンまとめ処理のフロー
チャートである。

【図５】 オーバーラップパターンまとめ処理のフロー
チャートである。

【図６】 同型判定の説明図である。

【図７】 一例のマスクパターンデータのレイアウト図
である。

【図８】 一実施形態のまとめ処理の説明図である。

【図９】 従来の方法を示す説明図である。

【図１０】 ストラクチャのツリー図である。

【図１１】 処理前のストラクチャのレイアウト図であ
る。

【図１２】 処理後のストラクチャを示すレイアウト図
である。

【図１３】 データ圧縮の説明図である。

【図１４】 データ圧縮の説明図である。

【図１５】 従来方法によるパターンのかたまりを示す
レイアウト図である。

【図１６】 従来方法によるストラクチャのレイアウト
図である。

【図１７】 処理前のストラクチャのレイアウト図であ
る。

【図１８】 接触を含まない処理結果を示すレイアウト
図である。

【図１９】 接触を含む処理結果を示すレイアウト図で
ある。

【符号の説明】

１１ ファイル（マスクパターンデータ） １２ ファイル（内部データ） １３ ファイル（ストラクチャ配置データ） １４ ファイル（パターンデータ） １５ ファイル（露光データ） ２２ オーバーラップ認識処理 ２３ オーバーラップパターンまとめ処理 ２４ オーバーラップ除去処理

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き Ｆターム(参考） 2H095 BB01 5B046 AA08 BA04 JA02 5F046 DA00

Claims (5)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 階層構造を持つマスクパターンデータを
   変換して露光データを作成する露光データ作成方法であ
   って、 前記マスクパターンデータの内、階層構造を利用してオ
   ーバーラップのあるパターンを一つのかたまりとして扱
   い、各パターンのかたまりが同型か否かを判定し、該判
   定結果に基づいて複数のパターンのかたまりをストラク
   チャにまとめるオーバーラップパターンまとめ処理を備
   え、 前記まとめたストラクチャについて、各階層単位でパタ
   ーンのオーバーラップ除去を行い、パターンのオーバー
   ラップのない露光データを作成する、ことを特徴とする
   露光データ作成方法。
2. 【請求項２】 請求項１に記載の露光データ作成方法に
   おいて、 前記マスクパターンデータの内、階層構造を利用してオ
   ーバーラップしたパターンを認識するオーバーラップ認
   識処理を実施し、 オーバーラップパターンまとめ処理は、前記オーバーラ
   ップ認識処理において認識されたオーバーラップのある
   パターンについて、最下層のストラクチャから上層に向
   かって処理を実施する、ことを特徴とする露光データ作
   成方法。
3. 【請求項３】 請求項１又は２に記載の露光データ作成
   方法において、 前記オーバーラップパターンまとめ処理は、 前記オーバーラップのあるパターンを同型か否か判定
   し、同型と判定したものには同じ情報を付与し、該同型
   判定に基づく内部データを作成する同型判定処理と、 前記同型と判定したパターンのかたまりを新たなストラ
   クチャにまとめ、該ストラクチャの保有パターン情報及
   び配置情報を前記内部データに基づいて作成する情報再
   構成処理と、 を含み、前記保有パターン情報及び配置情報に基づいて
   オーバーラップを除去し、除去後のデータをフォーマッ
   ト変換して露光データを作成する、ことを特徴とする露
   光データ作成方法。
4. 【請求項４】 階層構造を持つマスクパターンデータを
   変換して露光データを作成する露光データ作成装置であ
   って、 前記マスクパターンデータの内、階層構造を利用してオ
   ーバーラップのあるパターンを一つのかたまりとして扱
   い、各パターンのかたまりが同型か否かを判定し、該判
   定結果に基づいて複数のパターンのかたまりをストラク
   チャにまとめるオーバーラップパターンまとめ手段を備
   え、 前記まとめたストラクチャについて、各階層単位でパタ
   ーンのオーバーラップ除去を行い、パターンのオーバー
   ラップのない露光データを作成する、ことを特徴とする
   露光データ作成装置。
5. 【請求項５】 階層構造を持つレイアウトパターンデー
   タを露光データに変換するためのコンピュータ読み取り
   可能なプログラムコードが記録された記録媒体であっ
   て、 前記プログラムは、 前記マスクパターンデータの内、階層構造を利用してオ
   ーバーラップのあるパターンを一つのかたまりとして扱
   い、各パターンのかたまりが同型か否かを判定し、該判
   定結果に基づいて複数のパターンのかたまりをストラク
   チャにまとめるステップと、 前記まとめ処理の実施結果を元に、各階層単位でパター
   ンのオーバーラップ除去を行い、パターンのオーバーラ
   ップのない露光データを作成するステップと、を備えた
   方法を実行する、記録媒体。