JP2000329721A - 有害物質検出手段 - Google Patents
有害物質検出手段Info
- Publication number
- JP2000329721A JP2000329721A JP2000061160A JP2000061160A JP2000329721A JP 2000329721 A JP2000329721 A JP 2000329721A JP 2000061160 A JP2000061160 A JP 2000061160A JP 2000061160 A JP2000061160 A JP 2000061160A JP 2000329721 A JP2000329721 A JP 2000329721A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- water
- conductivity
- gas
- chamber
- reservoir
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 239000000126 substance Substances 0.000 title claims abstract description 18
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 54
- 239000007789 gas Substances 0.000 claims abstract description 43
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 14
- 239000000523 sample Substances 0.000 claims description 10
- 239000000243 solution Substances 0.000 claims description 7
- 239000002341 toxic gas Substances 0.000 claims description 7
- 238000005342 ion exchange Methods 0.000 claims description 5
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 claims description 4
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 claims description 3
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 claims description 2
- 238000011065 in-situ storage Methods 0.000 claims description 2
- 238000001514 detection method Methods 0.000 abstract description 12
- 238000005070 sampling Methods 0.000 abstract description 11
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 9
- NWUYHJFMYQTDRP-UHFFFAOYSA-N 1,2-bis(ethenyl)benzene;1-ethenyl-2-ethylbenzene;styrene Chemical compound C=CC1=CC=CC=C1.CCC1=CC=CC=C1C=C.C=CC1=CC=CC=C1C=C NWUYHJFMYQTDRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 6
- 239000003456 ion exchange resin Substances 0.000 abstract description 6
- 229920003303 ion-exchange polymer Polymers 0.000 abstract description 6
- 241000920340 Pion Species 0.000 abstract description 4
- 230000008859 change Effects 0.000 abstract description 4
- 239000008367 deionised water Substances 0.000 abstract description 4
- 229910021641 deionized water Inorganic materials 0.000 abstract description 4
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 abstract description 4
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 abstract description 4
- 238000002242 deionisation method Methods 0.000 abstract 1
- 238000000746 purification Methods 0.000 abstract 1
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 6
- 230000004044 response Effects 0.000 description 5
- 238000013461 design Methods 0.000 description 4
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 4
- 231100001261 hazardous Toxicity 0.000 description 3
- XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N Argon Chemical compound [Ar] XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CURLTUGMZLYLDI-UHFFFAOYSA-N Carbon dioxide Chemical compound O=C=O CURLTUGMZLYLDI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000009471 action Effects 0.000 description 2
- 239000013056 hazardous product Substances 0.000 description 2
- 230000001473 noxious effect Effects 0.000 description 2
- 238000005086 pumping Methods 0.000 description 2
- 230000035945 sensitivity Effects 0.000 description 2
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 2
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 2
- 241000894007 species Species 0.000 description 2
- 238000004566 IR spectroscopy Methods 0.000 description 1
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000002378 acidificating effect Effects 0.000 description 1
- 229910052786 argon Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910002092 carbon dioxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000001569 carbon dioxide Substances 0.000 description 1
- 238000001311 chemical methods and process Methods 0.000 description 1
- 230000007797 corrosion Effects 0.000 description 1
- 238000005260 corrosion Methods 0.000 description 1
- 230000006378 damage Effects 0.000 description 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 1
- 239000003085 diluting agent Substances 0.000 description 1
- 229910001873 dinitrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 239000003517 fume Substances 0.000 description 1
- 238000004817 gas chromatography Methods 0.000 description 1
- 230000005484 gravity Effects 0.000 description 1
- 150000004820 halides Chemical class 0.000 description 1
- 239000001307 helium Substances 0.000 description 1
- 229910052734 helium Inorganic materials 0.000 description 1
- SWQJXJOGLNCZEY-UHFFFAOYSA-N helium atom Chemical compound [He] SWQJXJOGLNCZEY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000004949 mass spectrometry Methods 0.000 description 1
- 239000000463 material Substances 0.000 description 1
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 1
- 150000007522 mineralic acids Chemical class 0.000 description 1
- 239000002244 precipitate Substances 0.000 description 1
- 230000008569 process Effects 0.000 description 1
- 238000010926 purge Methods 0.000 description 1
- 238000011002 quantification Methods 0.000 description 1
- 230000009467 reduction Effects 0.000 description 1
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 1
- 229920006395 saturated elastomer Polymers 0.000 description 1
- -1 silicon Halides Chemical class 0.000 description 1
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 1
- 231100000331 toxic Toxicity 0.000 description 1
- 230000002588 toxic effect Effects 0.000 description 1
- 230000000007 visual effect Effects 0.000 description 1
- 235000012431 wafers Nutrition 0.000 description 1
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
- G01N27/00—Investigating or analysing materials by the use of electric, electrochemical, or magnetic means
- G01N27/26—Investigating or analysing materials by the use of electric, electrochemical, or magnetic means by investigating electrochemical variables; by using electrolysis or electrophoresis
- G01N27/416—Systems
- G01N27/4162—Systems investigating the composition of gases, by the influence exerted on ionic conductivity in a liquid
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
- G01N27/00—Investigating or analysing materials by the use of electric, electrochemical, or magnetic means
- G01N27/02—Investigating or analysing materials by the use of electric, electrochemical, or magnetic means by investigating impedance
- G01N27/04—Investigating or analysing materials by the use of electric, electrochemical, or magnetic means by investigating impedance by investigating resistance
- G01N27/06—Investigating or analysing materials by the use of electric, electrochemical, or magnetic means by investigating impedance by investigating resistance of a liquid
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
- G01N33/00—Investigating or analysing materials by specific methods not covered by groups G01N1/00 - G01N31/00
- G01N33/0095—Semiconductive materials
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Pathology (AREA)
- Immunology (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Analytical Chemistry (AREA)
- Biochemistry (AREA)
- General Health & Medical Sciences (AREA)
- Electrochemistry (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Molecular Biology (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Food Science & Technology (AREA)
- Medicinal Chemistry (AREA)
- Investigating Or Analyzing Materials By The Use Of Electric Means (AREA)
- Treatment Of Water By Ion Exchange (AREA)
- Gas Separation By Absorption (AREA)
- Treating Waste Gases (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】排出ガス中の有害物質の検出方法を提供する。
【解決手段】ガス/蒸気流中の水溶性有害物質の検出方
法.。ガス/蒸気流を少容量の水と接触させ、その後の
経時的な伝導率及び/又はpHの変化を測定し、溶解し
た有毒ガス流を水溶解イオンとして含有する水溶液が、
予め決められた水準の伝導率及び/又はpHを超えた時
に、該溶液からその場で該有害物質を浄化して、該溶液
を更なる使用に適せしめる。
法.。ガス/蒸気流を少容量の水と接触させ、その後の
経時的な伝導率及び/又はpHの変化を測定し、溶解し
た有毒ガス流を水溶解イオンとして含有する水溶液が、
予め決められた水準の伝導率及び/又はpHを超えた時
に、該溶液からその場で該有害物質を浄化して、該溶液
を更なる使用に適せしめる。
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、排出ガス流、特
に、半導体工業における排出ガス流からの有害物質の検
出及び定量化の為の装置に関する。
に、半導体工業における排出ガス流からの有害物質の検
出及び定量化の為の装置に関する。
【従来の技術】半導体工業においては、電子ウエハー/
チップ及びその他の装置の加工において多量の有害物質
が使用される。これらは、部分的に或いは全体に水溶性
であるガス蒸気又は微細ダスト、例えば、HCl、Cl
2、BCl3、HF、F2、NH3、Cl2SiH2、ClF
3、WF6、CO2、AlCl3を含む。その様なガス/フ
ュームは、酸性或いは塩基性のいずれかである。
チップ及びその他の装置の加工において多量の有害物質
が使用される。これらは、部分的に或いは全体に水溶性
であるガス蒸気又は微細ダスト、例えば、HCl、Cl
2、BCl3、HF、F2、NH3、Cl2SiH2、ClF
3、WF6、CO2、AlCl3を含む。その様なガス/フ
ュームは、酸性或いは塩基性のいずれかである。
【発明が解決しようとする課題】これらは、毒性であり
及び/又は腐蝕性であり及び/又は発火性であり、半導
体加工室からのそれらの未検出放出は、チャンバのダク
トの閉塞、火災害、加工装置の腐蝕及び作業場への有毒
ガス/蒸気放出の危険性を含む多くの問題をもたらす事
になる。更に、これらの物質の放出は、未処理の排出ガ
ス流、或いは、加工の封じ込めの違反、或いは、環境的
に安全な濃度の為の排出ガス流からのこれらの有害物質
の除去又は減少の為に設計された適当な洗浄装置の消耗
又は破壊を惹起する事となる。これらの有害物質の検出
は、様々な方法で、例えば、質量分光分析、ガスクロマ
トグラフィー、赤外分光分析、電気化学的セル検出、紙
テープ検出、固体状態センサー検出及び定量化学指示薬
サンプル管検出によって達成出来る。検出の為の更なる
方法としては、これらの物質が、それらの物質を水と接
触させる事によって液体の水(H2O)の伝導率及びp
Hを持つと言う効果をモニターする事である。水と接触
すると、この物質の幾らかの部分又は全部が水に溶解す
る。これは、適当な伝導率及び/又はpHセルで測定す
る事の出来る電気伝導率及び/又はpHの変化の原因と
なる。非再生化本体の水をサンプリングした場合、伝導
率及び/又はpHは、液体の本体が、塩として沈殿する
かも知れないその有害物質で飽和されるまで、及び/又
は水の本体が蒸発乾固するまで上昇する。従って、再生
可能な水源が望ましい。
及び/又は腐蝕性であり及び/又は発火性であり、半導
体加工室からのそれらの未検出放出は、チャンバのダク
トの閉塞、火災害、加工装置の腐蝕及び作業場への有毒
ガス/蒸気放出の危険性を含む多くの問題をもたらす事
になる。更に、これらの物質の放出は、未処理の排出ガ
ス流、或いは、加工の封じ込めの違反、或いは、環境的
に安全な濃度の為の排出ガス流からのこれらの有害物質
の除去又は減少の為に設計された適当な洗浄装置の消耗
又は破壊を惹起する事となる。これらの有害物質の検出
は、様々な方法で、例えば、質量分光分析、ガスクロマ
トグラフィー、赤外分光分析、電気化学的セル検出、紙
テープ検出、固体状態センサー検出及び定量化学指示薬
サンプル管検出によって達成出来る。検出の為の更なる
方法としては、これらの物質が、それらの物質を水と接
触させる事によって液体の水(H2O)の伝導率及びp
Hを持つと言う効果をモニターする事である。水と接触
すると、この物質の幾らかの部分又は全部が水に溶解す
る。これは、適当な伝導率及び/又はpHセルで測定す
る事の出来る電気伝導率及び/又はpHの変化の原因と
なる。非再生化本体の水をサンプリングした場合、伝導
率及び/又はpHは、液体の本体が、塩として沈殿する
かも知れないその有害物質で飽和されるまで、及び/又
は水の本体が蒸発乾固するまで上昇する。従って、再生
可能な水源が望ましい。
【0002】有害物質と水の本体との間の界面の設計
は、その様な検出器の感度及び/又は応答速度にとって
極めて重要である。両方とも、適用の実際に当って、最
少容量の水(<200cm3)と最大容量の有害ガスを
使用する事によって高められる。この方法での設計上の
制約は、伝導率及び/又はpHセルの両方が、効果的に
作動する為には最少容量の水を必要とすると言った、伝
導率及び/又はpHセル問題を包含する事である。この
装置の設計は、又、有害物質の発生源の近くに適当に配
置出来なければならない点で実用的でなければならな
い。有害ガス流と接触する水の本体の伝導率及び/又は
pHの変化に依存する検出装置の従来の設計は、再生可
能な水の供給と大容量の水(>200cm3)の特徴を
持たない。これは、数分間の時間尺度で加工室で起る化
学処理の検出に対して不向きなものとさせる程度に検出
器の感度及び応答時間を制限する。従って、有害物質を
検出する為に、伝導率及び/又はpH変化に依存するタ
イプの改善された検出装置に対する要望が存在する。
は、その様な検出器の感度及び/又は応答速度にとって
極めて重要である。両方とも、適用の実際に当って、最
少容量の水(<200cm3)と最大容量の有害ガスを
使用する事によって高められる。この方法での設計上の
制約は、伝導率及び/又はpHセルの両方が、効果的に
作動する為には最少容量の水を必要とすると言った、伝
導率及び/又はpHセル問題を包含する事である。この
装置の設計は、又、有害物質の発生源の近くに適当に配
置出来なければならない点で実用的でなければならな
い。有害ガス流と接触する水の本体の伝導率及び/又は
pHの変化に依存する検出装置の従来の設計は、再生可
能な水の供給と大容量の水(>200cm3)の特徴を
持たない。これは、数分間の時間尺度で加工室で起る化
学処理の検出に対して不向きなものとさせる程度に検出
器の感度及び応答時間を制限する。従って、有害物質を
検出する為に、伝導率及び/又はpH変化に依存するタ
イプの改善された検出装置に対する要望が存在する。
【0003】
【課題を解決するための手段】本発明によれば、 ガス
/蒸気流中の水溶性有害物質の検出方法であって、ガス
/蒸気流を少容量の水と接触させ、その後の経時的な伝
導率及び/又はpHの変化を測定し、溶解した有毒ガス
流を水溶解イオンとして含有する水溶液が、予め決めら
れた水準の伝導率及び/又はpHを超えた時に、該溶液
からその場で該有害物質を浄化して、該溶液を更なる使
用に適せしめる事を特徴とする方法が提供される。
/蒸気流中の水溶性有害物質の検出方法であって、ガス
/蒸気流を少容量の水と接触させ、その後の経時的な伝
導率及び/又はpHの変化を測定し、溶解した有毒ガス
流を水溶解イオンとして含有する水溶液が、予め決めら
れた水準の伝導率及び/又はpHを超えた時に、該溶液
からその場で該有害物質を浄化して、該溶液を更なる使
用に適せしめる事を特徴とする方法が提供される。
【発明の実施の態様】これを達成する為には、溶液をイ
オン交換床に通し、更なる使用の為に維持する事が好ま
しい。有害ガス流は、水を通してポンプ輸送する事によ
って、或いは、水の表面を有害ガスに暴露する事によっ
て水と接触させる事が出来、その後、得られた液体を伝
導率又はpHプルーブで測定する。ここで、「pH」と
言う用語は、pIon測定を含むものである。イオン交
換床は、一般に公知のタイプのイオン交換樹脂から成る
のが好ましい。このイオン交換樹脂は、水からのイオン
を除去又は洗浄して、その最初の脱イオン化された状
態、一般的には、5マイクロ−シーメンス/cm(5mi
cro-siemens/cm)未満の伝導率を持つ状態に戻すのに役
立つものである。次いで、水は、既に概説したものと同
じ方法で有害ガス/蒸気を検出する為に再使用する事が
出来る。又、有利には、最初の少容量の水は、脱イオン
化される。
オン交換床に通し、更なる使用の為に維持する事が好ま
しい。有害ガス流は、水を通してポンプ輸送する事によ
って、或いは、水の表面を有害ガスに暴露する事によっ
て水と接触させる事が出来、その後、得られた液体を伝
導率又はpHプルーブで測定する。ここで、「pH」と
言う用語は、pIon測定を含むものである。イオン交
換床は、一般に公知のタイプのイオン交換樹脂から成る
のが好ましい。このイオン交換樹脂は、水からのイオン
を除去又は洗浄して、その最初の脱イオン化された状
態、一般的には、5マイクロ−シーメンス/cm(5mi
cro-siemens/cm)未満の伝導率を持つ状態に戻すのに役
立つものである。次いで、水は、既に概説したものと同
じ方法で有害ガス/蒸気を検出する為に再使用する事が
出来る。又、有利には、最初の少容量の水は、脱イオン
化される。
【0004】可溶性又は部分的に可溶性のガス/蒸気
は、この方法によって検出されても良い。有害ガス/蒸
気物質は、一種以上のハライド、無機酸ガス、シリコン
ハライド、特に、シリコンテトラハライド及びボロント
リハライドを含んでも良い。溶解し検出できるガス/蒸
気の特定の例は、HCl、Cl2、HF、F2、NH 3、
Cl2SiH2、ClF3、WF6及びCO2である。プログ
ラムロジックコントローラー(PLC)インターフェー
スによって検出装置に接続されたアルファー数値表示上
で適当なガス/蒸気を選択する事によって、ガス/蒸気
検出が簡単に求められる百万分率(ppm)での濃度に
ついての量的情報を与える為に装置に目盛りを付けても
良い。この装置は、純粋なガス/蒸気として、或いは、
通常、パージガス及び/又は希釈ガスとして使用される
不活性水不溶性ガス、例えば、窒素、アルゴン及び/又
はヘリウムで希釈されたガスとしてその中に有害物質を
含むガス流中の有害ガス又は蒸気物質を検出する為に使
用しても良い。大気からのサンプリングは、一般に、部
分的に水に溶解して伝導率及びpHセルの両方によって
検出され得る二酸化炭素の存在によって偽の結果をもた
らす。
は、この方法によって検出されても良い。有害ガス/蒸
気物質は、一種以上のハライド、無機酸ガス、シリコン
ハライド、特に、シリコンテトラハライド及びボロント
リハライドを含んでも良い。溶解し検出できるガス/蒸
気の特定の例は、HCl、Cl2、HF、F2、NH 3、
Cl2SiH2、ClF3、WF6及びCO2である。プログ
ラムロジックコントローラー(PLC)インターフェー
スによって検出装置に接続されたアルファー数値表示上
で適当なガス/蒸気を選択する事によって、ガス/蒸気
検出が簡単に求められる百万分率(ppm)での濃度に
ついての量的情報を与える為に装置に目盛りを付けても
良い。この装置は、純粋なガス/蒸気として、或いは、
通常、パージガス及び/又は希釈ガスとして使用される
不活性水不溶性ガス、例えば、窒素、アルゴン及び/又
はヘリウムで希釈されたガスとしてその中に有害物質を
含むガス流中の有害ガス又は蒸気物質を検出する為に使
用しても良い。大気からのサンプリングは、一般に、部
分的に水に溶解して伝導率及びpHセルの両方によって
検出され得る二酸化炭素の存在によって偽の結果をもた
らす。
【0005】少容量の液体(<200cm3)中への比
較的大容量のガス(<500sccm)のサンプリング
によって、及び極めて感度の高い伝導率(K=0.1、
1.0)及び/又はpHセルを使用する事によって、伝
導率及び/又はpH/pIonの極めて小さな変化も決
定する事が出来る。使用される液体の容量が知られてお
り且つ固定されていれば、有害ガス/蒸気サンプル速度
が知られており且つ固定されていれば、そしてガス/蒸
気が知られており且つ固定されておりサンプリング時間
が知られていれば、有害ガス/蒸気の濃度は、百万分率
(ppm)のオーダーで正確に決定する事が出来る。P
LCコントロールは、伝導率及び/又はpHの漸進的変
化に応答して、有害ガス/蒸気の水準変化に対する
「即」応答を与える為にプログラムされても良く、及び
/又はPLCは、長期間にわたる伝導率及び/又はpH
の特定の(及び大きな)変化に応答する事によって濃度
の平均的指示を与えても良い。この装置のPLCコント
ロールは、有害ガス流、例えば、検出される有害物質を
洗浄及び/又は収集手段へ向かうガス流の計算された濃
度への応答において、外部本体を電気的に及び/又は機
械的に切り替えるオプションを含んでも良い。この装置
は、その濃度に応じて有害ガスサンプリング速度を増加
或いは減少させる為の能力を有する。例えば、PLCが
低濃度有害ガス流を検出する場合は、サンプリング速度
は、検出速度を増加させる為に増加する事が出来る。
較的大容量のガス(<500sccm)のサンプリング
によって、及び極めて感度の高い伝導率(K=0.1、
1.0)及び/又はpHセルを使用する事によって、伝
導率及び/又はpH/pIonの極めて小さな変化も決
定する事が出来る。使用される液体の容量が知られてお
り且つ固定されていれば、有害ガス/蒸気サンプル速度
が知られており且つ固定されていれば、そしてガス/蒸
気が知られており且つ固定されておりサンプリング時間
が知られていれば、有害ガス/蒸気の濃度は、百万分率
(ppm)のオーダーで正確に決定する事が出来る。P
LCコントロールは、伝導率及び/又はpHの漸進的変
化に応答して、有害ガス/蒸気の水準変化に対する
「即」応答を与える為にプログラムされても良く、及び
/又はPLCは、長期間にわたる伝導率及び/又はpH
の特定の(及び大きな)変化に応答する事によって濃度
の平均的指示を与えても良い。この装置のPLCコント
ロールは、有害ガス流、例えば、検出される有害物質を
洗浄及び/又は収集手段へ向かうガス流の計算された濃
度への応答において、外部本体を電気的に及び/又は機
械的に切り替えるオプションを含んでも良い。この装置
は、その濃度に応じて有害ガスサンプリング速度を増加
或いは減少させる為の能力を有する。例えば、PLCが
低濃度有害ガス流を検出する場合は、サンプリング速度
は、検出速度を増加させる為に増加する事が出来る。
【0006】
【実施例】本発明のより一層の理解の為に、例示のみの
方法によって、本発明で使用される装置の略図を示す添
付図面に就いて説明する。図面によれば、本発明の方法
が有効に実施できる装置が示される。この装置は、一般
に、1で示される伝導性セル、水リザーバ2、イオン交
換樹脂カートリッジ3及びソレノイド作動バルブマニホ
ールド4から成る。この装置の操作では、脱イオン化水
は、水リザーバ2の水の水面上への圧縮窒素(<1.3
72x104Pa絶対)(<2psia)の作用の下に、
水充填管5の中に移動し、バルブマニホールド4を介し
て、伝導性セル1のチャンバ6の中に移動される。水の
水準センサー7は、チャンバ6の中に存在して、水の量
を制限してセンサーの高さまで導入する。次いで、リザ
ーバ2が大気中に脱気される。チャンバ6の底にある伝
導率プルーブ8は、予め決められた基準によってチャン
バ6にサンプル水を保つか或いは廃棄するかを判断する
コントローラーをプログラム化した装置で測定をする。
その様な基準は、水の伝導率が許容限界値以下であるか
どうか、若しそうであれば、サンプリングを禁止し、或
いは、伝導率が許容限界以上であるかどうか、若しそう
であれば、水は以下に記述する様に洗浄を必要とする事
を含む事が出来る。
方法によって、本発明で使用される装置の略図を示す添
付図面に就いて説明する。図面によれば、本発明の方法
が有効に実施できる装置が示される。この装置は、一般
に、1で示される伝導性セル、水リザーバ2、イオン交
換樹脂カートリッジ3及びソレノイド作動バルブマニホ
ールド4から成る。この装置の操作では、脱イオン化水
は、水リザーバ2の水の水面上への圧縮窒素(<1.3
72x104Pa絶対)(<2psia)の作用の下に、
水充填管5の中に移動し、バルブマニホールド4を介し
て、伝導性セル1のチャンバ6の中に移動される。水の
水準センサー7は、チャンバ6の中に存在して、水の量
を制限してセンサーの高さまで導入する。次いで、リザ
ーバ2が大気中に脱気される。チャンバ6の底にある伝
導率プルーブ8は、予め決められた基準によってチャン
バ6にサンプル水を保つか或いは廃棄するかを判断する
コントローラーをプログラム化した装置で測定をする。
その様な基準は、水の伝導率が許容限界値以下であるか
どうか、若しそうであれば、サンプリングを禁止し、或
いは、伝導率が許容限界以上であるかどうか、若しそう
であれば、水は以下に記述する様に洗浄を必要とする事
を含む事が出来る。
【0007】水の伝導率が、サンプリングを始める事を
許す場合は、装置コントロラーは、ガス源からチャンバ
6に、チャンバ6の蓋10中に空けられた孔9を介して
ポンプ輸送された排出流中の有害ガス/蒸気のサンプリ
ングを開始する。伝導率プルーブ8は、ガス排出流の存
在に起因するチャンバ6中の水の伝導率の変化を連続的
に測定する。特に、水の伝導率が増加を始めた場合は、
これは、水溶性ガスが存在する事を示す。装置コントロ
ーラーは、伝導率の結果(通常、排出ガス流中の(或い
は、排出ガス流中から生じる)予め決められた種に関す
るデータを含んでいる)を判断し、結果として、例え
ば、百万分率(ppm)で排出流種の濃度を表示し、及
び/又は、その濃度が予め決められた限界を確実に超え
る時は警報によって指示する為にプログラム化される。
装置コントローラーは、サンプリングを止める事が出来
る時及びチャンバ6中の水が更新されるべき時を判断す
る。この判断が為された時は、排出ガス流のポンプ輸送
を停止し、装置コントローラーは、加圧窒素(1.37
2x104Pa)(2psi)を、一定期間マニホールド
に導入し、同時にバルブ(示されない)を開けて、重力
によって汚染された水を、そして窒素ガス圧を、カート
リッジ3中のイオン交換樹脂中に放出し、それから、洗
浄された脱イオン化水として水リザーバ2中に放出す
る。
許す場合は、装置コントロラーは、ガス源からチャンバ
6に、チャンバ6の蓋10中に空けられた孔9を介して
ポンプ輸送された排出流中の有害ガス/蒸気のサンプリ
ングを開始する。伝導率プルーブ8は、ガス排出流の存
在に起因するチャンバ6中の水の伝導率の変化を連続的
に測定する。特に、水の伝導率が増加を始めた場合は、
これは、水溶性ガスが存在する事を示す。装置コントロ
ーラーは、伝導率の結果(通常、排出ガス流中の(或い
は、排出ガス流中から生じる)予め決められた種に関す
るデータを含んでいる)を判断し、結果として、例え
ば、百万分率(ppm)で排出流種の濃度を表示し、及
び/又は、その濃度が予め決められた限界を確実に超え
る時は警報によって指示する為にプログラム化される。
装置コントローラーは、サンプリングを止める事が出来
る時及びチャンバ6中の水が更新されるべき時を判断す
る。この判断が為された時は、排出ガス流のポンプ輸送
を停止し、装置コントローラーは、加圧窒素(1.37
2x104Pa)(2psi)を、一定期間マニホールド
に導入し、同時にバルブ(示されない)を開けて、重力
によって汚染された水を、そして窒素ガス圧を、カート
リッジ3中のイオン交換樹脂中に放出し、それから、洗
浄された脱イオン化水として水リザーバ2中に放出す
る。
【0008】この手順は、伝導率プルーブが、高伝導率
測定手段により、装置コントローラーに対して、イオン
交換樹脂が排出された事、従って、置換えが必要な事、
及び/又は最少の水の水準インジケーター11が低い水
の水準を示し、従って、リザーバは新しい脱イオン化水
で再充填される必要が在る事を示すまで繰返される。こ
れらの二つの条件の何れかの下において、装置使用者
は、視覚的及び/又は音響信号によって装置コントロー
ラーによって修正行動を取る事を警告される。図面にお
いて示された本発明のこの実施態様において、そして一
般に、伝導率プルーブはpH/pIonプルーブで置換
えても良く、従って、変更された装置で置換えても良
い。
測定手段により、装置コントローラーに対して、イオン
交換樹脂が排出された事、従って、置換えが必要な事、
及び/又は最少の水の水準インジケーター11が低い水
の水準を示し、従って、リザーバは新しい脱イオン化水
で再充填される必要が在る事を示すまで繰返される。こ
れらの二つの条件の何れかの下において、装置使用者
は、視覚的及び/又は音響信号によって装置コントロー
ラーによって修正行動を取る事を警告される。図面にお
いて示された本発明のこの実施態様において、そして一
般に、伝導率プルーブはpH/pIonプルーブで置換
えても良く、従って、変更された装置で置換えても良
い。
【図1】本発明方法を実施する為の装置の略図である。
Claims (5)
- 【請求項1】 ガス/蒸気流中の水溶性有害物質の検出
方法であって、該ガス/蒸気流を少容量の水と接触さ
せ、その後の経時的な伝導率及び/又はpHの変化を測
定し、溶解した有毒ガス流を水溶解イオンとして含有す
る水溶液が、予め決められた水準の伝導率及び/又はp
Hを超えた時に、該溶液からその場で該有害物質を浄化
して、該溶液を更なる使用に適せしめる事を特徴とする
方法。 - 【請求項2】 前記溶液をイオン交換床を通す事によっ
て該溶液を浄化する、請求項1に記載の方法。 - 【請求項3】 前記有害ガス流を、前記水を通してポン
プ輸送する、請求項1又は2に記載の方法。 - 【請求項4】 前記有害ガス流を、前記水の表面に暴露
する、請求項1〜3の何れか一項に記載の方法。 - 【請求項5】 水リザーバ、イオン交換床、該リザーバ
から水を受け取るチャンバであって、該水の電気伝導率
/pH測定用プルーブを有するチャンバ、及びイオン交
換床を介して該水を該リザーバに戻す為の手段を含む事
を特徴とする請求項1〜4の何れか一項に記載の方法を
実施する為の装置。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
GB9902087:7 | 1999-01-29 | ||
GBGB9902087.7A GB9902087D0 (en) | 1999-01-29 | 1999-01-29 | Detection means |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2000329721A true JP2000329721A (ja) | 2000-11-30 |
Family
ID=10846805
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2000061160A Pending JP2000329721A (ja) | 1999-01-29 | 2000-01-31 | 有害物質検出手段 |
Country Status (3)
Country | Link |
---|---|
EP (1) | EP1024357A3 (ja) |
JP (1) | JP2000329721A (ja) |
GB (1) | GB9902087D0 (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2006234541A (ja) * | 2005-02-24 | 2006-09-07 | Koike Sanso Kogyo Co Ltd | 塩化水素の測定方法及び測定装置 |
KR101603947B1 (ko) * | 2014-06-05 | 2016-03-17 | (주)피시피아 | 유해 물질 경고 장치, 유해 물질 경고 방법 및 유해 물질 경고 시스템 |
Families Citing this family (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
BR112014008952B1 (pt) | 2011-10-28 | 2020-06-02 | Koninklijke Philips N.V. | Sensor para medição de uma concentração de gás solúvel em fluido, e, sistema para o monitoramento e/ou a ventilação do paciente de um paciente |
Family Cites Families (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
GB1143403A (en) * | 1965-02-04 | 1969-02-19 | Nat Res Dev | Apparatus for supplying carbon dioxide to growing plants |
DE2147718C3 (de) * | 1971-09-24 | 1978-11-02 | Draegerwerk Ag | Kohlendioxid-Warngerät |
US4228400A (en) * | 1978-03-28 | 1980-10-14 | Research Corporation | Conductometric gas analysis cell |
US5517181A (en) * | 1993-06-08 | 1996-05-14 | The United States Of America As Represented By The United Staes Department Of Energy | Hazardous fluid leak detector |
-
1999
- 1999-01-29 GB GBGB9902087.7A patent/GB9902087D0/en not_active Ceased
-
2000
- 2000-01-28 EP EP00300671A patent/EP1024357A3/en not_active Withdrawn
- 2000-01-31 JP JP2000061160A patent/JP2000329721A/ja active Pending
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2006234541A (ja) * | 2005-02-24 | 2006-09-07 | Koike Sanso Kogyo Co Ltd | 塩化水素の測定方法及び測定装置 |
KR101603947B1 (ko) * | 2014-06-05 | 2016-03-17 | (주)피시피아 | 유해 물질 경고 장치, 유해 물질 경고 방법 및 유해 물질 경고 시스템 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
EP1024357A2 (en) | 2000-08-02 |
GB9902087D0 (en) | 1999-03-24 |
EP1024357A3 (en) | 2002-12-11 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
KR100546367B1 (ko) | 흡착제의 잔류 수명 확인용 감지 장치, 이를 구비한 가스스크러버 및 흡착제의 잔류 수명 확인 방법 | |
KR20060121858A (ko) | 반응성 가스 필터 | |
KR20100019400A (ko) | 입자 생성 불순물에 대한 실란과 같은 반응성 기체의 분석 방법 | |
JP2000329721A (ja) | 有害物質検出手段 | |
US5517181A (en) | Hazardous fluid leak detector | |
US5712168A (en) | Method for evaluating, monitoring or controlling the efficiency, stability, or exhaustion of a complexing or chelating agent present in a chemical solution used for oxidizing, dissolving, etching or stripping a semiconductor wafer | |
US20070238188A1 (en) | Peroxide monitor | |
CN108139348B (zh) | 制冷剂分析仪及其使用方法 | |
US20210088491A1 (en) | Fuse for detecting failure of gas trap | |
US3471391A (en) | Chlorine gas leak detector | |
JP6031795B2 (ja) | イオン交換装置の破過検知方法及び運転方法 | |
JP4645827B2 (ja) | 炭酸ガス溶解水の評価方法及び炭酸ガス溶解水試料の採水装置 | |
JP2003302376A (ja) | 揮発性有機化合物の連続測定装置及び測定方法 | |
US4600888A (en) | Device for continuously monitoring the density of atmospheric sodium ions | |
GB2312279A (en) | Hydrogen detecting system | |
JPH0353575B2 (ja) | ||
JP3333237B2 (ja) | ガルバニ電池タイプの酸素分析計およびこの分析計の制御方法 | |
JPH0251653B2 (ja) | ||
KR100627694B1 (ko) | 중수로형 수지탑에서의 누출 탄산종 고감도 검출 장치 및검출 방법 | |
JP3660559B2 (ja) | イオン性物質の監視方法及びその方法を実施するための検出装置 | |
KR100579528B1 (ko) | 원전 계통수 정화계통 이온교환수지탑 누출감시 장치 | |
JPH0310158A (ja) | 有機物分析装置 | |
JPS634139B2 (ja) | ||
JP2005189151A (ja) | フルオロカーボンガスの検出方法とその装置 | |
JPH02285259A (ja) | 試料水中の遊離塩素の測定装置 |