JP2000329721A - 有害物質検出手段 - Google Patents
有害物質検出手段Info
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- 239000000126 substance Substances 0.000 title claims abstract description 18
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 54
- 239000007789 gas Substances 0.000 claims abstract description 43
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 14
- 239000000523 sample Substances 0.000 claims description 10
- 239000000243 solution Substances 0.000 claims description 7
- 239000002341 toxic gas Substances 0.000 claims description 7
- 238000005342 ion exchange Methods 0.000 claims description 5
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 claims description 4
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 claims description 3
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 claims description 2
- 238000011065 in-situ storage Methods 0.000 claims description 2
- 238000001514 detection method Methods 0.000 abstract description 12
- 238000005070 sampling Methods 0.000 abstract description 11
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 9
- NWUYHJFMYQTDRP-UHFFFAOYSA-N 1,2-bis(ethenyl)benzene;1-ethenyl-2-ethylbenzene;styrene Chemical compound C=CC1=CC=CC=C1.CCC1=CC=CC=C1C=C.C=CC1=CC=CC=C1C=C NWUYHJFMYQTDRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 6
- 239000003456 ion exchange resin Substances 0.000 abstract description 6
- 229920003303 ion-exchange polymer Polymers 0.000 abstract description 6
- 241000920340 Pion Species 0.000 abstract description 4
- 230000008859 change Effects 0.000 abstract description 4
- 239000008367 deionised water Substances 0.000 abstract description 4
- 229910021641 deionized water Inorganic materials 0.000 abstract description 4
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 abstract description 4
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 abstract description 4
- 238000002242 deionisation method Methods 0.000 abstract 1
- 238000000746 purification Methods 0.000 abstract 1
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 6
- 230000004044 response Effects 0.000 description 5
- 238000013461 design Methods 0.000 description 4
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 4
- 231100001261 hazardous Toxicity 0.000 description 3
- XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N Argon Chemical compound [Ar] XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CURLTUGMZLYLDI-UHFFFAOYSA-N Carbon dioxide Chemical compound O=C=O CURLTUGMZLYLDI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000009471 action Effects 0.000 description 2
- 239000013056 hazardous product Substances 0.000 description 2
- 230000001473 noxious effect Effects 0.000 description 2
- 238000005086 pumping Methods 0.000 description 2
- 230000035945 sensitivity Effects 0.000 description 2
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 2
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 2
- 241000894007 species Species 0.000 description 2
- 238000004566 IR spectroscopy Methods 0.000 description 1
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000002378 acidificating effect Effects 0.000 description 1
- 229910052786 argon Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910002092 carbon dioxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000001569 carbon dioxide Substances 0.000 description 1
- 238000001311 chemical methods and process Methods 0.000 description 1
- 230000007797 corrosion Effects 0.000 description 1
- 238000005260 corrosion Methods 0.000 description 1
- 230000006378 damage Effects 0.000 description 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 1
- 239000003085 diluting agent Substances 0.000 description 1
- 229910001873 dinitrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 239000003517 fume Substances 0.000 description 1
- 238000004817 gas chromatography Methods 0.000 description 1
- 230000005484 gravity Effects 0.000 description 1
- 150000004820 halides Chemical class 0.000 description 1
- 239000001307 helium Substances 0.000 description 1
- 229910052734 helium Inorganic materials 0.000 description 1
- SWQJXJOGLNCZEY-UHFFFAOYSA-N helium atom Chemical compound [He] SWQJXJOGLNCZEY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000004949 mass spectrometry Methods 0.000 description 1
- 239000000463 material Substances 0.000 description 1
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 1
- 150000007522 mineralic acids Chemical class 0.000 description 1
- 239000002244 precipitate Substances 0.000 description 1
- 230000008569 process Effects 0.000 description 1
- 238000010926 purge Methods 0.000 description 1
- 238000011002 quantification Methods 0.000 description 1
- 230000009467 reduction Effects 0.000 description 1
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 1
- 229920006395 saturated elastomer Polymers 0.000 description 1
- -1 silicon Halides Chemical class 0.000 description 1
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 1
- 231100000331 toxic Toxicity 0.000 description 1
- 230000002588 toxic effect Effects 0.000 description 1
- 230000000007 visual effect Effects 0.000 description 1
- 235000012431 wafers Nutrition 0.000 description 1
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- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
- G01N27/00—Investigating or analysing materials by the use of electric, electrochemical, or magnetic means
- G01N27/26—Investigating or analysing materials by the use of electric, electrochemical, or magnetic means by investigating electrochemical variables; by using electrolysis or electrophoresis
- G01N27/416—Systems
- G01N27/4162—Systems investigating the composition of gases, by the influence exerted on ionic conductivity in a liquid
-
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- G01—MEASURING; TESTING
- G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
- G01N27/00—Investigating or analysing materials by the use of electric, electrochemical, or magnetic means
- G01N27/02—Investigating or analysing materials by the use of electric, electrochemical, or magnetic means by investigating impedance
- G01N27/04—Investigating or analysing materials by the use of electric, electrochemical, or magnetic means by investigating impedance by investigating resistance
- G01N27/06—Investigating or analysing materials by the use of electric, electrochemical, or magnetic means by investigating impedance by investigating resistance of a liquid
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- G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
- G01N33/00—Investigating or analysing materials by specific methods not covered by groups G01N1/00 - G01N31/00
- G01N33/0095—Semiconductive materials
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- Chemical & Material Sciences (AREA)
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- Electrochemistry (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Molecular Biology (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Food Science & Technology (AREA)
- Medicinal Chemistry (AREA)
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Abstract
(57)【要約】
【課題】排出ガス中の有害物質の検出方法を提供する。
【解決手段】ガス／蒸気流中の水溶性有害物質の検出方
法.。ガス／蒸気流を少容量の水と接触させ、その後の
経時的な伝導率及び／又はｐＨの変化を測定し、溶解し
た有毒ガス流を水溶解イオンとして含有する水溶液が、
予め決められた水準の伝導率及び／又はｐＨを超えた時
に、該溶液からその場で該有害物質を浄化して、該溶液
を更なる使用に適せしめる。
法.。ガス／蒸気流を少容量の水と接触させ、その後の
経時的な伝導率及び／又はｐＨの変化を測定し、溶解し
た有毒ガス流を水溶解イオンとして含有する水溶液が、
予め決められた水準の伝導率及び／又はｐＨを超えた時
に、該溶液からその場で該有害物質を浄化して、該溶液
を更なる使用に適せしめる。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、排出ガス流、特
に、半導体工業における排出ガス流からの有害物質の検
出及び定量化の為の装置に関する。
に、半導体工業における排出ガス流からの有害物質の検
出及び定量化の為の装置に関する。
【従来の技術】半導体工業においては、電子ウエハー／
チップ及びその他の装置の加工において多量の有害物質
が使用される。これらは、部分的に或いは全体に水溶性
であるガス蒸気又は微細ダスト、例えば、ＨＣｌ、Ｃｌ
2、ＢＣｌ3、ＨＦ、Ｆ2、ＮＨ3、Ｃｌ2ＳｉＨ2、ＣｌＦ
3、ＷＦ6、ＣＯ2、ＡｌＣｌ3を含む。その様なガス／フ
ュームは、酸性或いは塩基性のいずれかである。
チップ及びその他の装置の加工において多量の有害物質
が使用される。これらは、部分的に或いは全体に水溶性
であるガス蒸気又は微細ダスト、例えば、ＨＣｌ、Ｃｌ
2、ＢＣｌ3、ＨＦ、Ｆ2、ＮＨ3、Ｃｌ2ＳｉＨ2、ＣｌＦ
3、ＷＦ6、ＣＯ2、ＡｌＣｌ3を含む。その様なガス／フ
ュームは、酸性或いは塩基性のいずれかである。
【発明が解決しようとする課題】これらは、毒性であり
及び／又は腐蝕性であり及び／又は発火性であり、半導
体加工室からのそれらの未検出放出は、チャンバのダク
トの閉塞、火災害、加工装置の腐蝕及び作業場への有毒
ガス／蒸気放出の危険性を含む多くの問題をもたらす事
になる。更に、これらの物質の放出は、未処理の排出ガ
ス流、或いは、加工の封じ込めの違反、或いは、環境的
に安全な濃度の為の排出ガス流からのこれらの有害物質
の除去又は減少の為に設計された適当な洗浄装置の消耗
又は破壊を惹起する事となる。これらの有害物質の検出
は、様々な方法で、例えば、質量分光分析、ガスクロマ
トグラフィー、赤外分光分析、電気化学的セル検出、紙
テープ検出、固体状態センサー検出及び定量化学指示薬
サンプル管検出によって達成出来る。検出の為の更なる
方法としては、これらの物質が、それらの物質を水と接
触させる事によって液体の水（Ｈ2Ｏ）の伝導率及びｐ
Ｈを持つと言う効果をモニターする事である。水と接触
すると、この物質の幾らかの部分又は全部が水に溶解す
る。これは、適当な伝導率及び／又はｐＨセルで測定す
る事の出来る電気伝導率及び／又はｐＨの変化の原因と
なる。非再生化本体の水をサンプリングした場合、伝導
率及び／又はｐＨは、液体の本体が、塩として沈殿する
かも知れないその有害物質で飽和されるまで、及び／又
は水の本体が蒸発乾固するまで上昇する。従って、再生
可能な水源が望ましい。
及び／又は腐蝕性であり及び／又は発火性であり、半導
体加工室からのそれらの未検出放出は、チャンバのダク
トの閉塞、火災害、加工装置の腐蝕及び作業場への有毒
ガス／蒸気放出の危険性を含む多くの問題をもたらす事
になる。更に、これらの物質の放出は、未処理の排出ガ
ス流、或いは、加工の封じ込めの違反、或いは、環境的
に安全な濃度の為の排出ガス流からのこれらの有害物質
の除去又は減少の為に設計された適当な洗浄装置の消耗
又は破壊を惹起する事となる。これらの有害物質の検出
は、様々な方法で、例えば、質量分光分析、ガスクロマ
トグラフィー、赤外分光分析、電気化学的セル検出、紙
テープ検出、固体状態センサー検出及び定量化学指示薬
サンプル管検出によって達成出来る。検出の為の更なる
方法としては、これらの物質が、それらの物質を水と接
触させる事によって液体の水（Ｈ2Ｏ）の伝導率及びｐ
Ｈを持つと言う効果をモニターする事である。水と接触
すると、この物質の幾らかの部分又は全部が水に溶解す
る。これは、適当な伝導率及び／又はｐＨセルで測定す
る事の出来る電気伝導率及び／又はｐＨの変化の原因と
なる。非再生化本体の水をサンプリングした場合、伝導
率及び／又はｐＨは、液体の本体が、塩として沈殿する
かも知れないその有害物質で飽和されるまで、及び／又
は水の本体が蒸発乾固するまで上昇する。従って、再生
可能な水源が望ましい。
【０００２】有害物質と水の本体との間の界面の設計
は、その様な検出器の感度及び／又は応答速度にとって
極めて重要である。両方とも、適用の実際に当って、最
少容量の水（＜２００ｃｍ3）と最大容量の有害ガスを
使用する事によって高められる。この方法での設計上の
制約は、伝導率及び／又はｐＨセルの両方が、効果的に
作動する為には最少容量の水を必要とすると言った、伝
導率及び／又はｐＨセル問題を包含する事である。この
装置の設計は、又、有害物質の発生源の近くに適当に配
置出来なければならない点で実用的でなければならな
い。有害ガス流と接触する水の本体の伝導率及び／又は
ｐＨの変化に依存する検出装置の従来の設計は、再生可
能な水の供給と大容量の水（＞２００ｃｍ3）の特徴を
持たない。これは、数分間の時間尺度で加工室で起る化
学処理の検出に対して不向きなものとさせる程度に検出
器の感度及び応答時間を制限する。従って、有害物質を
検出する為に、伝導率及び／又はｐＨ変化に依存するタ
イプの改善された検出装置に対する要望が存在する。
は、その様な検出器の感度及び／又は応答速度にとって
極めて重要である。両方とも、適用の実際に当って、最
少容量の水（＜２００ｃｍ3）と最大容量の有害ガスを
使用する事によって高められる。この方法での設計上の
制約は、伝導率及び／又はｐＨセルの両方が、効果的に
作動する為には最少容量の水を必要とすると言った、伝
導率及び／又はｐＨセル問題を包含する事である。この
装置の設計は、又、有害物質の発生源の近くに適当に配
置出来なければならない点で実用的でなければならな
い。有害ガス流と接触する水の本体の伝導率及び／又は
ｐＨの変化に依存する検出装置の従来の設計は、再生可
能な水の供給と大容量の水（＞２００ｃｍ3）の特徴を
持たない。これは、数分間の時間尺度で加工室で起る化
学処理の検出に対して不向きなものとさせる程度に検出
器の感度及び応答時間を制限する。従って、有害物質を
検出する為に、伝導率及び／又はｐＨ変化に依存するタ
イプの改善された検出装置に対する要望が存在する。
【０００３】
【課題を解決するための手段】本発明によれば、 ガス
／蒸気流中の水溶性有害物質の検出方法であって、ガス
／蒸気流を少容量の水と接触させ、その後の経時的な伝
導率及び／又はｐＨの変化を測定し、溶解した有毒ガス
流を水溶解イオンとして含有する水溶液が、予め決めら
れた水準の伝導率及び／又はｐＨを超えた時に、該溶液
からその場で該有害物質を浄化して、該溶液を更なる使
用に適せしめる事を特徴とする方法が提供される。
／蒸気流中の水溶性有害物質の検出方法であって、ガス
／蒸気流を少容量の水と接触させ、その後の経時的な伝
導率及び／又はｐＨの変化を測定し、溶解した有毒ガス
流を水溶解イオンとして含有する水溶液が、予め決めら
れた水準の伝導率及び／又はｐＨを超えた時に、該溶液
からその場で該有害物質を浄化して、該溶液を更なる使
用に適せしめる事を特徴とする方法が提供される。
【発明の実施の態様】これを達成する為には、溶液をイ
オン交換床に通し、更なる使用の為に維持する事が好ま
しい。有害ガス流は、水を通してポンプ輸送する事によ
って、或いは、水の表面を有害ガスに暴露する事によっ
て水と接触させる事が出来、その後、得られた液体を伝
導率又はｐHプルーブで測定する。ここで、「ｐＨ」と
言う用語は、ｐＩｏｎ測定を含むものである。イオン交
換床は、一般に公知のタイプのイオン交換樹脂から成る
のが好ましい。このイオン交換樹脂は、水からのイオン
を除去又は洗浄して、その最初の脱イオン化された状
態、一般的には、５マイクロ−シーメンス／ｃｍ（５mi
cro-siemens/cm）未満の伝導率を持つ状態に戻すのに役
立つものである。次いで、水は、既に概説したものと同
じ方法で有害ガス／蒸気を検出する為に再使用する事が
出来る。又、有利には、最初の少容量の水は、脱イオン
化される。
オン交換床に通し、更なる使用の為に維持する事が好ま
しい。有害ガス流は、水を通してポンプ輸送する事によ
って、或いは、水の表面を有害ガスに暴露する事によっ
て水と接触させる事が出来、その後、得られた液体を伝
導率又はｐHプルーブで測定する。ここで、「ｐＨ」と
言う用語は、ｐＩｏｎ測定を含むものである。イオン交
換床は、一般に公知のタイプのイオン交換樹脂から成る
のが好ましい。このイオン交換樹脂は、水からのイオン
を除去又は洗浄して、その最初の脱イオン化された状
態、一般的には、５マイクロ−シーメンス／ｃｍ（５mi
cro-siemens/cm）未満の伝導率を持つ状態に戻すのに役
立つものである。次いで、水は、既に概説したものと同
じ方法で有害ガス／蒸気を検出する為に再使用する事が
出来る。又、有利には、最初の少容量の水は、脱イオン
化される。
【０００４】可溶性又は部分的に可溶性のガス／蒸気
は、この方法によって検出されても良い。有害ガス／蒸
気物質は、一種以上のハライド、無機酸ガス、シリコン
ハライド、特に、シリコンテトラハライド及びボロント
リハライドを含んでも良い。溶解し検出できるガス／蒸
気の特定の例は、ＨＣｌ、Ｃｌ2、ＨＦ、Ｆ2、ＮＨ 3、
Ｃｌ2ＳｉＨ2、ＣｌＦ3、ＷF6及びＣＯ2である。プログ
ラムロジックコントローラー（ＰＬＣ）インターフェー
スによって検出装置に接続されたアルファー数値表示上
で適当なガス／蒸気を選択する事によって、ガス／蒸気
検出が簡単に求められる百万分率（ｐｐｍ）での濃度に
ついての量的情報を与える為に装置に目盛りを付けても
良い。この装置は、純粋なガス／蒸気として、或いは、
通常、パージガス及び／又は希釈ガスとして使用される
不活性水不溶性ガス、例えば、窒素、アルゴン及び／又
はヘリウムで希釈されたガスとしてその中に有害物質を
含むガス流中の有害ガス又は蒸気物質を検出する為に使
用しても良い。大気からのサンプリングは、一般に、部
分的に水に溶解して伝導率及びｐＨセルの両方によって
検出され得る二酸化炭素の存在によって偽の結果をもた
らす。
は、この方法によって検出されても良い。有害ガス／蒸
気物質は、一種以上のハライド、無機酸ガス、シリコン
ハライド、特に、シリコンテトラハライド及びボロント
リハライドを含んでも良い。溶解し検出できるガス／蒸
気の特定の例は、ＨＣｌ、Ｃｌ2、ＨＦ、Ｆ2、ＮＨ 3、
Ｃｌ2ＳｉＨ2、ＣｌＦ3、ＷF6及びＣＯ2である。プログ
ラムロジックコントローラー（ＰＬＣ）インターフェー
スによって検出装置に接続されたアルファー数値表示上
で適当なガス／蒸気を選択する事によって、ガス／蒸気
検出が簡単に求められる百万分率（ｐｐｍ）での濃度に
ついての量的情報を与える為に装置に目盛りを付けても
良い。この装置は、純粋なガス／蒸気として、或いは、
通常、パージガス及び／又は希釈ガスとして使用される
不活性水不溶性ガス、例えば、窒素、アルゴン及び／又
はヘリウムで希釈されたガスとしてその中に有害物質を
含むガス流中の有害ガス又は蒸気物質を検出する為に使
用しても良い。大気からのサンプリングは、一般に、部
分的に水に溶解して伝導率及びｐＨセルの両方によって
検出され得る二酸化炭素の存在によって偽の結果をもた
らす。
【０００５】少容量の液体（＜２００ｃｍ3）中への比
較的大容量のガス（＜５００ｓｃｃｍ）のサンプリング
によって、及び極めて感度の高い伝導率（Ｋ＝０．１、
１．０）及び／又はｐＨセルを使用する事によって、伝
導率及び／又はｐＨ／pＩｏｎの極めて小さな変化も決
定する事が出来る。使用される液体の容量が知られてお
り且つ固定されていれば、有害ガス／蒸気サンプル速度
が知られており且つ固定されていれば、そしてガス／蒸
気が知られており且つ固定されておりサンプリング時間
が知られていれば、有害ガス／蒸気の濃度は、百万分率
（ｐｐｍ）のオーダーで正確に決定する事が出来る。Ｐ
ＬＣコントロールは、伝導率及び／又はｐＨの漸進的変
化に応答して、有害ガス／蒸気の水準変化に対する
「即」応答を与える為にプログラムされても良く、及び
／又はＰＬＣは、長期間にわたる伝導率及び／又はｐＨ
の特定の（及び大きな）変化に応答する事によって濃度
の平均的指示を与えても良い。この装置のＰＬＣコント
ロールは、有害ガス流、例えば、検出される有害物質を
洗浄及び／又は収集手段へ向かうガス流の計算された濃
度への応答において、外部本体を電気的に及び／又は機
械的に切り替えるオプションを含んでも良い。この装置
は、その濃度に応じて有害ガスサンプリング速度を増加
或いは減少させる為の能力を有する。例えば、ＰＬＣが
低濃度有害ガス流を検出する場合は、サンプリング速度
は、検出速度を増加させる為に増加する事が出来る。
較的大容量のガス（＜５００ｓｃｃｍ）のサンプリング
によって、及び極めて感度の高い伝導率（Ｋ＝０．１、
１．０）及び／又はｐＨセルを使用する事によって、伝
導率及び／又はｐＨ／pＩｏｎの極めて小さな変化も決
定する事が出来る。使用される液体の容量が知られてお
り且つ固定されていれば、有害ガス／蒸気サンプル速度
が知られており且つ固定されていれば、そしてガス／蒸
気が知られており且つ固定されておりサンプリング時間
が知られていれば、有害ガス／蒸気の濃度は、百万分率
（ｐｐｍ）のオーダーで正確に決定する事が出来る。Ｐ
ＬＣコントロールは、伝導率及び／又はｐＨの漸進的変
化に応答して、有害ガス／蒸気の水準変化に対する
「即」応答を与える為にプログラムされても良く、及び
／又はＰＬＣは、長期間にわたる伝導率及び／又はｐＨ
の特定の（及び大きな）変化に応答する事によって濃度
の平均的指示を与えても良い。この装置のＰＬＣコント
ロールは、有害ガス流、例えば、検出される有害物質を
洗浄及び／又は収集手段へ向かうガス流の計算された濃
度への応答において、外部本体を電気的に及び／又は機
械的に切り替えるオプションを含んでも良い。この装置
は、その濃度に応じて有害ガスサンプリング速度を増加
或いは減少させる為の能力を有する。例えば、ＰＬＣが
低濃度有害ガス流を検出する場合は、サンプリング速度
は、検出速度を増加させる為に増加する事が出来る。
【０００６】
【実施例】本発明のより一層の理解の為に、例示のみの
方法によって、本発明で使用される装置の略図を示す添
付図面に就いて説明する。図面によれば、本発明の方法
が有効に実施できる装置が示される。この装置は、一般
に、１で示される伝導性セル、水リザーバ２、イオン交
換樹脂カートリッジ３及びソレノイド作動バルブマニホ
ールド４から成る。この装置の操作では、脱イオン化水
は、水リザーバ２の水の水面上への圧縮窒素（＜１．３
７２ｘ１０4Pa絶対）（＜２ｐｓｉａ）の作用の下に、
水充填管５の中に移動し、バルブマニホールド４を介し
て、伝導性セル１のチャンバ６の中に移動される。水の
水準センサー７は、チャンバ６の中に存在して、水の量
を制限してセンサーの高さまで導入する。次いで、リザ
ーバ２が大気中に脱気される。チャンバ６の底にある伝
導率プルーブ８は、予め決められた基準によってチャン
バ６にサンプル水を保つか或いは廃棄するかを判断する
コントローラーをプログラム化した装置で測定をする。
その様な基準は、水の伝導率が許容限界値以下であるか
どうか、若しそうであれば、サンプリングを禁止し、或
いは、伝導率が許容限界以上であるかどうか、若しそう
であれば、水は以下に記述する様に洗浄を必要とする事
を含む事が出来る。
方法によって、本発明で使用される装置の略図を示す添
付図面に就いて説明する。図面によれば、本発明の方法
が有効に実施できる装置が示される。この装置は、一般
に、１で示される伝導性セル、水リザーバ２、イオン交
換樹脂カートリッジ３及びソレノイド作動バルブマニホ
ールド４から成る。この装置の操作では、脱イオン化水
は、水リザーバ２の水の水面上への圧縮窒素（＜１．３
７２ｘ１０4Pa絶対）（＜２ｐｓｉａ）の作用の下に、
水充填管５の中に移動し、バルブマニホールド４を介し
て、伝導性セル１のチャンバ６の中に移動される。水の
水準センサー７は、チャンバ６の中に存在して、水の量
を制限してセンサーの高さまで導入する。次いで、リザ
ーバ２が大気中に脱気される。チャンバ６の底にある伝
導率プルーブ８は、予め決められた基準によってチャン
バ６にサンプル水を保つか或いは廃棄するかを判断する
コントローラーをプログラム化した装置で測定をする。
その様な基準は、水の伝導率が許容限界値以下であるか
どうか、若しそうであれば、サンプリングを禁止し、或
いは、伝導率が許容限界以上であるかどうか、若しそう
であれば、水は以下に記述する様に洗浄を必要とする事
を含む事が出来る。
【０００７】水の伝導率が、サンプリングを始める事を
許す場合は、装置コントロラーは、ガス源からチャンバ
６に、チャンバ６の蓋１０中に空けられた孔９を介して
ポンプ輸送された排出流中の有害ガス／蒸気のサンプリ
ングを開始する。伝導率プルーブ８は、ガス排出流の存
在に起因するチャンバ６中の水の伝導率の変化を連続的
に測定する。特に、水の伝導率が増加を始めた場合は、
これは、水溶性ガスが存在する事を示す。装置コントロ
ーラーは、伝導率の結果（通常、排出ガス流中の（或い
は、排出ガス流中から生じる）予め決められた種に関す
るデータを含んでいる）を判断し、結果として、例え
ば、百万分率（ｐｐｍ）で排出流種の濃度を表示し、及
び／又は、その濃度が予め決められた限界を確実に超え
る時は警報によって指示する為にプログラム化される。
装置コントローラーは、サンプリングを止める事が出来
る時及びチャンバ６中の水が更新されるべき時を判断す
る。この判断が為された時は、排出ガス流のポンプ輸送
を停止し、装置コントローラーは、加圧窒素（１．３７
２ｘ１０4Pa）（２ｐｓｉ）を、一定期間マニホールド
に導入し、同時にバルブ（示されない）を開けて、重力
によって汚染された水を、そして窒素ガス圧を、カート
リッジ３中のイオン交換樹脂中に放出し、それから、洗
浄された脱イオン化水として水リザーバ２中に放出す
る。
許す場合は、装置コントロラーは、ガス源からチャンバ
６に、チャンバ６の蓋１０中に空けられた孔９を介して
ポンプ輸送された排出流中の有害ガス／蒸気のサンプリ
ングを開始する。伝導率プルーブ８は、ガス排出流の存
在に起因するチャンバ６中の水の伝導率の変化を連続的
に測定する。特に、水の伝導率が増加を始めた場合は、
これは、水溶性ガスが存在する事を示す。装置コントロ
ーラーは、伝導率の結果（通常、排出ガス流中の（或い
は、排出ガス流中から生じる）予め決められた種に関す
るデータを含んでいる）を判断し、結果として、例え
ば、百万分率（ｐｐｍ）で排出流種の濃度を表示し、及
び／又は、その濃度が予め決められた限界を確実に超え
る時は警報によって指示する為にプログラム化される。
装置コントローラーは、サンプリングを止める事が出来
る時及びチャンバ６中の水が更新されるべき時を判断す
る。この判断が為された時は、排出ガス流のポンプ輸送
を停止し、装置コントローラーは、加圧窒素（１．３７
２ｘ１０4Pa）（２ｐｓｉ）を、一定期間マニホールド
に導入し、同時にバルブ（示されない）を開けて、重力
によって汚染された水を、そして窒素ガス圧を、カート
リッジ３中のイオン交換樹脂中に放出し、それから、洗
浄された脱イオン化水として水リザーバ２中に放出す
る。
【０００８】この手順は、伝導率プルーブが、高伝導率
測定手段により、装置コントローラーに対して、イオン
交換樹脂が排出された事、従って、置換えが必要な事、
及び／又は最少の水の水準インジケーター１１が低い水
の水準を示し、従って、リザーバは新しい脱イオン化水
で再充填される必要が在る事を示すまで繰返される。こ
れらの二つの条件の何れかの下において、装置使用者
は、視覚的及び／又は音響信号によって装置コントロー
ラーによって修正行動を取る事を警告される。図面にお
いて示された本発明のこの実施態様において、そして一
般に、伝導率プルーブはｐＨ／pＩｏｎプルーブで置換
えても良く、従って、変更された装置で置換えても良
い。
測定手段により、装置コントローラーに対して、イオン
交換樹脂が排出された事、従って、置換えが必要な事、
及び／又は最少の水の水準インジケーター１１が低い水
の水準を示し、従って、リザーバは新しい脱イオン化水
で再充填される必要が在る事を示すまで繰返される。こ
れらの二つの条件の何れかの下において、装置使用者
は、視覚的及び／又は音響信号によって装置コントロー
ラーによって修正行動を取る事を警告される。図面にお
いて示された本発明のこの実施態様において、そして一
般に、伝導率プルーブはｐＨ／pＩｏｎプルーブで置換
えても良く、従って、変更された装置で置換えても良
い。
【図１】本発明方法を実施する為の装置の略図である。
Claims (5)
- 【請求項１】 ガス／蒸気流中の水溶性有害物質の検出
方法であって、該ガス／蒸気流を少容量の水と接触さ
せ、その後の経時的な伝導率及び／又はｐＨの変化を測
定し、溶解した有毒ガス流を水溶解イオンとして含有す
る水溶液が、予め決められた水準の伝導率及び／又はｐ
Ｈを超えた時に、該溶液からその場で該有害物質を浄化
して、該溶液を更なる使用に適せしめる事を特徴とする
方法。 - 【請求項２】 前記溶液をイオン交換床を通す事によっ
て該溶液を浄化する、請求項１に記載の方法。 - 【請求項３】 前記有害ガス流を、前記水を通してポン
プ輸送する、請求項１又は２に記載の方法。 - 【請求項４】 前記有害ガス流を、前記水の表面に暴露
する、請求項１〜３の何れか一項に記載の方法。 - 【請求項５】 水リザーバ、イオン交換床、該リザーバ
から水を受け取るチャンバであって、該水の電気伝導率
／ｐＨ測定用プルーブを有するチャンバ、及びイオン交
換床を介して該水を該リザーバに戻す為の手段を含む事
を特徴とする請求項１〜４の何れか一項に記載の方法を
実施する為の装置。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| GB9902087:7 | 1999-01-29 | ||
| GBGB9902087.7A GB9902087D0 (en) | 1999-01-29 | 1999-01-29 | Detection means |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2000329721A true JP2000329721A (ja) | 2000-11-30 |
Family
ID=10846805
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2000061160A Pending JP2000329721A (ja) | 1999-01-29 | 2000-01-31 | 有害物質検出手段 |
Country Status (3)
| Country | Link |
|---|---|
| EP (1) | EP1024357A3 (ja) |
| JP (1) | JP2000329721A (ja) |
| GB (1) | GB9902087D0 (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2006234541A (ja) * | 2005-02-24 | 2006-09-07 | Koike Sanso Kogyo Co Ltd | 塩化水素の測定方法及び測定装置 |
| KR101603947B1 (ko) * | 2014-06-05 | 2016-03-17 | (주)피시피아 | 유해 물질 경고 장치, 유해 물질 경고 방법 및 유해 물질 경고 시스템 |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| BR112014008952B1 (pt) | 2011-10-28 | 2020-06-02 | Koninklijke Philips N.V. | Sensor para medição de uma concentração de gás solúvel em fluido, e, sistema para o monitoramento e/ou a ventilação do paciente de um paciente |
Family Cites Families (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| GB1143403A (en) * | 1965-02-04 | 1969-02-19 | Nat Res Dev | Apparatus for supplying carbon dioxide to growing plants |
| DE2147718C3 (de) * | 1971-09-24 | 1978-11-02 | Draegerwerk Ag | Kohlendioxid-Warngerät |
| US4228400A (en) * | 1978-03-28 | 1980-10-14 | Research Corporation | Conductometric gas analysis cell |
| US5517181A (en) * | 1993-06-08 | 1996-05-14 | The United States Of America As Represented By The United Staes Department Of Energy | Hazardous fluid leak detector |
-
1999
- 1999-01-29 GB GBGB9902087.7A patent/GB9902087D0/en not_active Ceased
-
2000
- 2000-01-28 EP EP00300671A patent/EP1024357A3/en not_active Withdrawn
- 2000-01-31 JP JP2000061160A patent/JP2000329721A/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2006234541A (ja) * | 2005-02-24 | 2006-09-07 | Koike Sanso Kogyo Co Ltd | 塩化水素の測定方法及び測定装置 |
| KR101603947B1 (ko) * | 2014-06-05 | 2016-03-17 | (주)피시피아 | 유해 물질 경고 장치, 유해 물질 경고 방법 및 유해 물질 경고 시스템 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| EP1024357A2 (en) | 2000-08-02 |
| GB9902087D0 (en) | 1999-03-24 |
| EP1024357A3 (en) | 2002-12-11 |
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