JP2000321544A - Liquid crystal display element production apparatus - Google Patents
Liquid crystal display element production apparatusInfo
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Abstract
Description
【0001】[0001]
【発明の属する技術分野】本発明は、液晶表示素子製造
プロセスで用いられる液晶表示素子製造装置に関するも
のであり、特にレジスト塗布装置、露光装置、配向膜塗
布装置、印刷機等に関するものである。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a liquid crystal display device manufacturing apparatus used in a liquid crystal display element manufacturing process, and more particularly to a resist coating device, an exposure device, an alignment film coating device, a printing machine, and the like.
【0002】[0002]
【従来の技術】従来、液晶表示素子には、例えば300
mm×300mm×厚み1.0mm程度のガラス基板が
主に用いられており、最近では、さらに400mm、5
00mmサイズのより大形のガラス基板も用いられるよ
うになってきている。2. Description of the Related Art Conventionally, a liquid crystal display device has, for example, 300
A glass substrate having a size of about 300 mm x 300 mm x a thickness of about 1.0 mm is mainly used.
Larger glass substrates with a size of 00 mm have also been used.
【0003】このようなガラス基板は、液晶表示素子の
製造プロセス中、例えばレジスト塗布装置、露光装置、
配向膜塗布装置、印刷機等を通して順次搬送され、そし
て、各装置内における処理操作中には、図6に示すよう
に、ガラス基板11は、上面が平坦な載置台(以下、ス
テージという)12上に真空吸着によって固定されるよ
うになっている。すなわち、ステージ12には、直径
0.5〜1.0mm程度の複数の吸着孔13が5〜30
mmの間隔で碁盤目状に設けられ、これら吸着孔13
は、ステージ12の下側に設けられた真空ポンプ15に
連通路14を介して接続されている。ガラス基板11
は、各吸着孔13を通して作用する真空吸着力によっ
て、ほぼ全面にわたって吸着されてステージ12上に固
定される。During the manufacturing process of a liquid crystal display device, such a glass substrate is used, for example, in a resist coating device, an exposure device,
The glass substrate 11 is sequentially conveyed through an alignment film coating device, a printing machine, etc., and during a processing operation in each device, as shown in FIG. The upper part is fixed by vacuum suction. That is, the stage 12 is provided with a plurality of suction holes 13 having a diameter of about 0.5 to 1.0 mm.
The suction holes 13 are provided in a grid pattern at intervals of mm.
Is connected to a vacuum pump 15 provided below the stage 12 via a communication path 14. Glass substrate 11
Is absorbed over almost the entire surface by the vacuum suction force acting through each suction hole 13 and is fixed on the stage 12.
【0004】平板状に作製されているガラス基板11
は、優れたフラット性を有すると共に剛性も高いため、
前記のような吸着孔13を通して離散的に吸着力を作用
させたとしても、図7に示すように、ガラス基板11に
反り等の変形が生じることはなく、この結果、液晶表示
素子の製造プロセスにおいて、例えばレジスト塗布の処
理によって、図8に示すように、レジスト膜16は均一
に塗布され、仕上がり状態に凹凸を生じることはない。A glass substrate 11 manufactured in a flat shape
Has excellent flatness and high rigidity,
Even if the suction force is applied discretely through the suction holes 13 as described above, no deformation such as warpage occurs in the glass substrate 11 as shown in FIG. At this time, as shown in FIG. 8, the resist film 16 is uniformly applied by, for example, a resist coating process, and the finished state does not have irregularities.
【0005】一方、近年においては、液晶表示素子の薄
形化に伴い、プラスチック等からなる基板が採用され、
実用化されようとしている。そして、従来は、このよう
な基板を各製造装置内に位置決めして固定する場合にお
いても、前記同様の吸着孔13を通して吸着固定する方
法が採用されている。On the other hand, in recent years, as the liquid crystal display elements have become thinner, substrates made of plastic or the like have been adopted.
It is about to be put to practical use. Conventionally, even when such a substrate is positioned and fixed in each manufacturing apparatus, a method of suction-fixing through the same suction hole 13 as described above is adopted.
【0006】[0006]
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、前述の
ような基板に従来同様の吸着固定法を適用する場合、素
材自身の持つフレキシブル性または剛性の低さから、図
9に示すように、各吸着孔13からの吸着力に応じてそ
の直上の箇所が局部的に変形した吸着状態となり、この
結果、図のように、吸着孔13の間隔に応じたうねりを
生じた状態で基板21の固定が行われるものとなってい
る。すなわち、前述のように互いに離間した位置に開口
する吸着孔13を通して吸着力を作用させる場合には、
基板21全体は平面状に作製されているにもかかわら
ず、素材のフレキシブル性または剛性の低さから局部的
な吸着状態を生じ、このため、フラット性が逆に損なわ
れた状態での固定状態となっているのである。However, when the same suction fixing method is applied to the substrate as described above, due to the flexibility or rigidity of the material itself, as shown in FIG. In accordance with the suction force from the holes 13, a portion immediately above the holes 21 becomes a locally deformed suction state. As a result, as shown in FIG. It is to be done. That is, as described above, when the suction force is applied through the suction holes 13 opened at positions separated from each other,
Despite the fact that the entire substrate 21 is formed in a planar shape, a local adsorption state occurs due to the flexibility or rigidity of the material, and therefore, the fixed state in a state where the flatness is impaired conversely It is.
【0007】この結果、例えば図10に示すように、レ
ジスト塗布処理後のレジスト膜22の膜厚が不均一とな
り、仕上がり状態に凹凸が生じる。このため、液晶表示
素子の表示品位にムラを生じるという問題が発生してい
る。As a result, for example, as shown in FIG. 10, the thickness of the resist film 22 after the resist coating process becomes non-uniform, resulting in unevenness in the finished state. For this reason, there is a problem that the display quality of the liquid crystal display element becomes uneven.
【0008】本発明は、以上のような従来の問題点に鑑
みなされたものであって、プラスチック等からなる吸着
孔からの吸着力に応じてその直上の箇所が局部的に変形
した吸着状態となる基板を用いても、表示品位に優れた
液晶表示素子を得ることができる液晶表示素子製造装置
を提供することを目的としている。SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made in view of the above-mentioned conventional problems, and has been described in view of a situation in which a portion immediately above a suction hole made of plastic or the like is locally deformed in response to the suction force. It is an object of the present invention to provide a liquid crystal display element manufacturing apparatus capable of obtaining a liquid crystal display element having excellent display quality even when a substrate is used.
【0009】[0009]
【課題を解決するための手段】前述した目的を達成する
ために、本発明の請求項1記載の液晶表示素子製造装置
は、被処理体を載置する平坦な載置面を有する載置台
と、前記載置面に設けられた互いに離間してそれぞれ開
口する複数の吸着孔とを有し、前記吸着孔を通して吸着
力を作用させて前記被処理体を固定し、前記被処理体に
各種の処理を施す液晶表示素子製造装置において、前記
吸着孔を通して前記被処理体に吸着力を作用させた吸着
状態を切り換える機構を有することを特徴としている。According to a first aspect of the present invention, there is provided an apparatus for manufacturing a liquid crystal display element, comprising: a mounting table having a flat mounting surface on which an object to be processed is mounted; A plurality of suction holes provided on the mounting surface and spaced apart from each other and opened, and by applying suction force through the suction holes to fix the object to be processed, various types of the object to be processed are provided. In a liquid crystal display element manufacturing apparatus for performing a process, a mechanism for switching a suction state in which suction force is applied to the object to be processed through the suction holes is provided.
【0010】請求項2記載の液晶表示素子製造装置は、
請求項1記載の液晶表示素子製造装置において、前記機
構は、すべての前記吸着孔を通して前記被処理体に吸着
力を作用させた全面吸着状態と、前記被処理体の有効使
用範囲を除く周縁部に位置する前記吸着孔を通して吸着
力を作用させた周縁吸着状態と、に切り換えることがで
きることを特徴としている。According to a second aspect of the present invention, there is provided a liquid crystal display device manufacturing apparatus.
2. The liquid crystal display element manufacturing apparatus according to claim 1, wherein the mechanism is configured to apply a suction force to the processing target through all the suction holes and apply a suction force to the processing target, and a peripheral portion excluding an effective use range of the processing target. 3. And a peripheral suction state in which a suction force is applied through the suction hole located in the position.
【0011】本発明の液晶表示素子製造装置によれば、
吸着孔を通して被処理体に吸着力を作用させた吸着状態
を切り換える機構を有することにより、有効使用範囲に
おいては被処理体を平面状態とすることができるととも
に、被処理体の位置ずれを防止することができる。周縁
吸着状態のみで被処理体の吸着固定を行った場合、吸着
孔の間隔を超えた大きな曲率の変形を生じて載置台上に
被処理体が載置されたときには、この変形を矯正するこ
とができないため、被処理体を平面状態とすることがで
きないとともに、変形している分だけ被処理体の位置が
ずれることとなる。レジスト等のように被処理体の全面
に塗布する膜であれば位置ずれはそれほど問題にならな
いが、配向膜およびシール材料のように液晶表示素子の
電極パターンに合わせて塗布する膜では位置ずれは大き
な問題となる。また、各種の処理を施す際には周縁吸着
状態とすればよく、吸着孔の間隔に対応する局部的なう
ねりは解消され、有効使用範囲においては被処理体を平
面状態とすることができる。According to the liquid crystal display device manufacturing apparatus of the present invention,
By having a mechanism for switching the suction state in which the suction force is applied to the processing object through the suction hole, the processing object can be brought into a planar state in the effective use range, and the position of the processing object is prevented from being shifted. be able to. If the workpiece is fixed by suction only in the peripheral suction state, when the workpiece is placed on the mounting table due to a large curvature deformation exceeding the distance between the suction holes, this deformation should be corrected. Therefore, the object to be processed cannot be brought into a planar state, and the position of the object to be processed is shifted by an amount corresponding to the deformation. If the film is coated on the entire surface of the object to be processed, such as a resist, the positional deviation is not so much a problem. It is a big problem. Further, when performing various kinds of processing, the peripheral edge suction state may be set, the local undulation corresponding to the interval between the suction holes is eliminated, and the object to be processed can be brought into a planar state in the effective use range.
【0012】[0012]
【発明の実施の形態】図1乃至図5を用いて、本発明の
実施の形態について説明する。DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS An embodiment of the present invention will be described with reference to FIGS.
【0013】例えば、液晶表示素子の製造プロセスにお
けるレジスト塗布装置には、図1および図2に示すよう
に、上面に平坦な載置面を有するステージ(載置台)2
が設けられている。このステージ2には、直径0.5〜
1.0mmの複数の吸着孔3、7が前記載置面に5〜3
0mm間隔で碁盤目状に開口している。これらの吸着孔
3、7のうち、最外周側の周縁側吸着孔3は、ステージ
2内部に横設されている第1連通路5にそれぞれ接続さ
れている。そして、この第1連通路5は、切換弁6を介
して真空ポンプ4に接続されている。また、周縁側吸着
孔3よりも内側の中央側吸着孔7は、第1連通路5とは
別にステージ2内に形成されている第2連通路8にそれ
ぞれ接続され、この第2連通路8は切換弁6に接続され
ている。For example, as shown in FIGS. 1 and 2, a resist coating apparatus in a manufacturing process of a liquid crystal display element has a stage (mounting table) 2 having a flat mounting surface on an upper surface.
Is provided. This stage 2 has a diameter of 0.5 to
A plurality of 1.0 mm suction holes 3 and 7
The openings are in a grid pattern at 0 mm intervals. Of these suction holes 3 and 7, the outermost peripheral side suction hole 3 is connected to a first communication path 5 provided horizontally inside the stage 2. The first communication path 5 is connected to the vacuum pump 4 via a switching valve 6. Further, the central suction holes 7 inside the peripheral suction holes 3 are connected to second communication passages 8 formed in the stage 2 separately from the first communication passages 5, respectively. Is connected to the switching valve 6.
【0014】切換弁6によって、真空ポンプ4を作動し
たときの真空吸着力が、第1連通路5および第2連通路
8から全ての吸着孔3、7を通して作用する状態(以
下、全面吸着作用状態という)と、第1連通路5から周
縁側吸着孔3を通してのみ作用する状態(以下、周縁吸
着作用状態という)との切換えが行われる。A state in which the vacuum suction force when the vacuum pump 4 is operated by the switching valve 6 is applied from the first communication path 5 and the second communication path 8 through all the suction holes 3 and 7 (hereinafter, the entire suction operation). The state is switched between a state in which the first communication path 5 operates only through the peripheral suction holes 3 (hereinafter, referred to as a peripheral suction operation state).
【0015】前記のようなステージ2を備えるレジスト
塗布装置に、基板として例えばプラスチック等の材質か
らなる平面状のフレキシブル基板1が載置された場合、
以下のような操作手順に基づいてこのフレキシブル基板
1の吸着固定が行われる。なお、この場合のフレキシブ
ル基板1には、図4に示すように、全体が方形状をな
し、そして、周縁側を除く中央部側に、有効使用範囲と
しての領域に、図のように二段の表示領域1a、1bが
設定されているものとする。さらに、図1に示すよう
に、ステージ2の載置面は、その上に載置されるフレキ
シブル基板1よりも大きい面積を有する。When a flat flexible substrate 1 made of a material such as plastic is mounted on a resist coating apparatus having the stage 2 as described above,
The flexible substrate 1 is fixed by suction based on the following operation procedure. In this case, as shown in FIG. 4, the flexible substrate 1 has a rectangular shape as a whole, and has a two-stage structure as shown in FIG. It is assumed that display areas 1a and 1b are set. Further, as shown in FIG. 1, the mounting surface of the stage 2 has a larger area than the flexible substrate 1 mounted thereon.
【0016】まず、装置外からフレキシブル基板1がス
テージ2上に搬送され、位置決めが行われると、図5に
示すように、切換弁6が作動されて、初めに、第1連通
路5および第2連通路8の両者が真空ポンプ4への接続
状態となる。これにより、フレキシブル基板1はステー
ジ2と中心を合わせた位置決め状態で、全吸着孔3、7
を通して前記全面吸着作用状態となって吸着固定され
る。First, when the flexible substrate 1 is conveyed from outside the apparatus onto the stage 2 and positioning is performed, the switching valve 6 is operated as shown in FIG. Both of the two communication paths 8 are connected to the vacuum pump 4. As a result, the flexible substrate 1 is positioned in such a manner that the center of the flexible substrate 1 is aligned with the center of the stage 2, and all the suction holes 3, 7
Through which the entire surface is adsorbed and adsorbed and fixed.
【0017】次いで、切換弁6の切換操作が行われ、こ
れによって、真空ポンプ4との第1連通路5側の接続状
態は継続したまま、第2連通路8の真空ポンプ4との接
続状態を断って中央側吸着孔7を通しての真空吸着力を
解除する。この結果、図1に示すように、フレキシブル
基板1における表示範囲を除く周縁側の領域(図におい
て斜線を施した領域)に位置する周縁側吸着孔3のみを
通して、真空吸着力が作用する前記周縁吸着作用状態で
の固定に切換わる。Next, the switching operation of the switching valve 6 is performed, whereby the connection state of the second communication path 8 with the vacuum pump 4 is maintained while the connection state of the first communication path 5 with the vacuum pump 4 is maintained. And the vacuum suction force through the central suction hole 7 is released. As a result, as shown in FIG. 1, the peripheral edge on which the vacuum suction force acts only through the peripheral side suction holes 3 located in the peripheral side area (the shaded area in the figure) except the display range on the flexible substrate 1. The mode is switched to the fixed state in the suction operation state.
【0018】その後、フレキシブル基板1の表面にレジ
ストが塗布され、この装置での処理を完了すると、切換
弁6をさらに切換えて周縁側吸着孔3を通しての吸着力
も解除され、この装置から次の工程へと搬出される。Thereafter, a resist is applied to the surface of the flexible substrate 1, and when the processing in this apparatus is completed, the switching valve 6 is further switched to release the suction force through the peripheral suction holes 3, and the next step is performed from this apparatus. It is carried out to.
【0019】以降、その他の製造プロセス、例えば、レ
ジスト塗布、露光、配向膜塗布、オフセット印刷、スク
リーン印刷等の各工程においても、フレキシブル基板1
を前述と同様に吸着固定して各処理が行われて液晶表示
素子が作製される。Hereinafter, the flexible substrate 1 is also used in other manufacturing processes such as resist coating, exposure, alignment film coating, offset printing, and screen printing.
Is fixed by suction in the same manner as described above, and each process is performed to manufacture a liquid crystal display element.
【0020】以上の説明のように、前述の実施の形態に
おいては、各製造装置内でフレキシブル基板1をステー
ジ2上に吸着固定して、例えばレジスト塗布等の処理を
行う場合には、フレキシブル基板1の表示範囲を除く周
縁側に対応して位置する周縁側吸着孔3のみを通して吸
着力を作用させる操作が行われる。したがって、互いに
離間する吸着孔3毎に吸着力が作用して局部的変形が生
じる領域は、フレキシブル基板1における表示範囲を除
く周縁部のみに限定されてステージ2上に固定される。
したがって、図3に示すように、少なくとも前記表示範
囲においては、フレキシブル基板1自身が有する平面性
が保持される。この結果、例えば、このフレキシブル基
板1の表面に塗布されるレジストの膜厚を表示範囲内で
ほぼ均一なものとすることが可能となる。同様に、その
他の装置においても、前記表示範囲内ではその全面にわ
たって均一な処理が行われることとなるので、表示特性
の向上した液晶表示素子を作製することができる。As described above, in the above-described embodiment, when the flexible substrate 1 is suction-fixed on the stage 2 in each manufacturing apparatus and a process such as resist coating is performed, the flexible substrate 1 is used. The operation of applying the suction force is performed only through the peripheral side suction holes 3 located corresponding to the peripheral side excluding the display range of 1. Therefore, the region where local deformation occurs due to the suction force acting on each of the suction holes 3 separated from each other is limited to only the peripheral portion of the flexible substrate 1 excluding the display range, and is fixed on the stage 2.
Therefore, as shown in FIG. 3, the flatness of the flexible substrate 1 itself is maintained at least in the display range. As a result, for example, the thickness of the resist applied to the surface of the flexible substrate 1 can be made substantially uniform within the display range. Similarly, in other devices, uniform processing is performed over the entire surface within the display range, so that a liquid crystal display element with improved display characteristics can be manufactured.
【0021】また、前述の実施の形態においては、各装
置内における所定の処理に先立って、これら装置内にフ
レキシブル基板1が搬送され、位置決めされた時点で
は、周縁側吸着孔3および中央側吸着孔7の全てに吸着
力を作用させた全面吸着作用状態で、フレキシブル基板
1の固定が行われる。すなわち、フレキシブル基板1は
ステージ2と中心を合わせた位置決め状態でほぼ全面に
吸着力が作用する。このとき、従来同様に、吸着孔3、
7の個々の間隔に対応して局部的にうねりを生じた状態
となるが、例えば、吸着孔3、7の間隔を超えた大きな
曲率の変形を生じて前記ステージ2上に載置された場合
でも、全体的には、ステージ2の上面に沿ってほぼ平面
状に矯正され、かつ、前記位置決め位置を保持して正確
に固定される。また、全面にわたって吸着力が作用する
ことから、前記のような吸着固定状態が速やかに得られ
るものとなる。このような吸着固定状態を経て、前記の
周縁吸着作用状態に切換えられ、これによって、表示範
囲内においてフレキシブル基板1自身が有する平面状態
に復帰し、この後、前記の各処理がそれぞれ行われるよ
うになっている。この結果、ステージ2上の固定位置も
より正確に保持された状態で均一な処理が行われるの
で、さらに、表示特性の向上した液晶表示素子を作製し
得るものとなる。Further, in the above-described embodiment, prior to the predetermined processing in each device, the flexible substrate 1 is conveyed into these devices, and when the flexible substrate 1 is positioned, the peripheral side suction holes 3 and the central side suction holes 3 are positioned. The fixing of the flexible substrate 1 is performed in a state where the suction force is applied to all the holes 7 in the entire surface suction operation state. That is, the suction force acts on almost the entire surface of the flexible substrate 1 in a positioning state where the center is aligned with the stage 2. At this time, the suction holes 3,
7 is undulated locally corresponding to each of the intervals of the suction holes 7, for example, when it is placed on the stage 2 with a large curvature deformation exceeding the interval between the suction holes 3 and 7. However, as a whole, it is corrected into a substantially flat shape along the upper surface of the stage 2 and is accurately fixed while maintaining the positioning position. In addition, since the suction force acts on the entire surface, the above-mentioned suction fixed state can be quickly obtained. After such a suction-fixed state, the state is switched to the peripheral suction state, thereby returning to the flat state of the flexible substrate 1 itself within the display range, and thereafter, each of the above-described processes is performed. It has become. As a result, uniform processing is performed in a state where the fixed position on the stage 2 is more accurately held, so that a liquid crystal display element with further improved display characteristics can be manufactured.
【0022】特に、前述のように、一旦、全面吸着作用
状態とすることは、フレキシブル基板1のサイズが例え
ば200〜500mm程度の比較的大きなものが用いら
れる場合に有効である。つまり、この場合には、前述の
ようにステージ2上に載置され位置決めされた状態にお
いて、すぐに周縁吸着作用状態で固定しようとする場合
には、例えばステージ2中央側で、フレキシブル基板1
下面とステージ2上面との間の空気層がすぐには周縁側
から抜けきらず、したがって、全体にわたってステージ
2に沿って平坦状になるには幾分かの時間を要するもの
となる。また、この場合に、中央側が大きなうねりを生
じた固定状態となったり、位置決め位置からのずれを生
じて固定されるおそれもある。そこで、前記のように、
一旦、全面吸着を行うことによって、位置決め位置に定
置した状態での速やかな固定状態とすることが可能とな
る。In particular, as described above, temporarily bringing the entire surface into the suction state is effective when the size of the flexible substrate 1 is relatively large, for example, about 200 to 500 mm. In other words, in this case, in the state where the flexible substrate 1 is placed on the stage 2 as described above and is to be immediately fixed in the peripheral suction state, for example, the flexible substrate 1
The air layer between the lower surface and the upper surface of the stage 2 does not immediately escape from the peripheral side, so that it takes some time for the entire surface to be flat along the stage 2. Further, in this case, there is a possibility that the center side may be in a fixed state in which large undulation has occurred, or may be shifted from the positioning position and fixed. So, as mentioned above,
Once the entire surface is adsorbed, it is possible to quickly fix it in a state where it is fixed at the positioning position.
【0023】このように、本発明によれば、吸着孔から
の吸着力に応じてその直上の箇所が局部的に変形した吸
着状態となる基板に対し表示範囲内において均一な処理
を実施することができ、表示特性の向上した液晶表示素
子を作製することができる。このような液晶表示素子に
は、TN(Twisted Nematic)、STN
(Super Twisted Nematic)、お
よびFSTN(Film−compensated S
uper Twisted Nematic)等の駆動
タイプがあり、最近のワープロ、パソコン等の大型のも
のには、STN、あるいはFSTN等の駆動タイプが用
いられている。特に、このタイプの液晶表示素子の液晶
配向制御については従来よりもきびしい制御が必要で、
吸着孔からの吸着力に応じてその直上の箇所が局部的に
変形した吸着状態となる基板がこれらのタイプの液晶表
示素子に用いられる場合に、液晶配向処理時における基
板のフラット性の保持が極めて重要なものとなってお
り、この場合に、前述の方法を適用することによって、
特性の向上を図ることができる。As described above, according to the present invention, uniform processing can be performed within a display range on a substrate in which a portion immediately above the substrate is locally deformed according to the suction force from the suction hole and is in a suction state. Thus, a liquid crystal display element with improved display characteristics can be manufactured. Such liquid crystal display elements include TN (Twisted Nematic), STN
(Super Twisted Nematic) and FSTN (Film-compensated S)
There are drive types such as upper twisted nematics, and drive types such as STN and FSTN are used for recent large-sized devices such as word processors and personal computers. In particular, liquid crystal alignment control of this type of liquid crystal display element requires tighter control than before,
When these substrates are used in these types of liquid crystal display devices, where the substrate directly above it is in an adsorption state in which the area directly above it is deformed according to the adsorption force from the adsorption holes, the flatness of the substrate during liquid crystal alignment processing is maintained. Is very important, and in this case, by applying the method described above,
The characteristics can be improved.
【0024】また、液晶表示素子製造プロセスにおける
レジスト塗布装置を中心に説明したが、その他の製造装
置において、本発明の適用が可能である。Although the description has been made mainly on the resist coating apparatus in the liquid crystal display element manufacturing process, the present invention can be applied to other manufacturing apparatuses.
【0025】[0025]
【発明の効果】以上の説明のように、本発明の液晶表示
素子製造装置によれば、吸着孔を通して被処理体に吸着
力を作用させた吸着状態を切り換える機構を有すること
により、全面吸着状態と周縁吸着状態とに切り換えるこ
とができ、有効使用範囲においては被処理体を平面状態
とすることができるとともに、被処理体の位置ずれを防
止することができる。したがって、均一な膜厚の膜を高
い位置精度で形成することができるため、表示特性に優
れた液晶表示素子を得ることができる。As described above, according to the liquid crystal display device manufacturing apparatus of the present invention, the mechanism for switching the suction state in which the suction force is applied to the object to be processed through the suction holes is provided, so that the entire surface suction state is achieved. In the effective use range, the target object can be brought into a planar state, and the positional deviation of the target object can be prevented. Therefore, since a film having a uniform thickness can be formed with high positional accuracy, a liquid crystal display element having excellent display characteristics can be obtained.
【図1】本発明の実施の形態において用いられるステー
ジとフレキシブル基板との関係を示す平面図である。FIG. 1 is a plan view showing a relationship between a stage and a flexible substrate used in an embodiment of the present invention.
【図2】ステージの断面図である。FIG. 2 is a sectional view of a stage.
【図3】ステージ上へのフレキシブル基板の吸着固定状
態を示す断面図である。FIG. 3 is a cross-sectional view showing a state in which a flexible substrate is fixed by suction on a stage.
【図4】フレキシブル基板における表示範囲を説明する
ための平面図である。FIG. 4 is a plan view for explaining a display range on a flexible substrate.
【図5】フレキシブル基板を二段階の吸着操作で固定す
る場合のタイミングチャートである。FIG. 5 is a timing chart when the flexible substrate is fixed by a two-stage suction operation.
【図6】従来のステージとこのステージ状に載置される
ガラス基板とを示す断面図である。FIG. 6 is a cross-sectional view showing a conventional stage and a glass substrate mounted on the stage.
【図7】従来のステージへのガラス基板の吸着固定状態
を示す拡大断面図である。FIG. 7 is an enlarged cross-sectional view showing a state in which a glass substrate is fixed by suction to a conventional stage.
【図8】レジスト膜が塗布されたガラス基板を示す断面
図である。FIG. 8 is a cross-sectional view showing a glass substrate to which a resist film has been applied.
【図9】従来のステージによる吸着孔からの吸着力に応
じてその直上の箇所が局部的に変形した吸着状態となる
基板の吸着固定状態を示す拡大断面図である。FIG. 9 is an enlarged cross-sectional view showing a suction-fixed state of a substrate in which a portion immediately above a conventional stage is in a suction state in which a portion immediately above the suction hole is locally deformed according to a suction force from a suction hole by a conventional stage.
【図10】従来の吸着固定状態でレジストを塗布した後
の吸着孔からの吸着力に応じてその直上の箇所が局部的
に変形した吸着状態となる基板の断面図である。FIG. 10 is a cross-sectional view of a conventional substrate in which a portion immediately above the resist is locally deformed in accordance with the suction force from a suction hole after a resist is applied in a suction-fixed state, and is in a suction state.
1 フレキシブル基板 2 ステージ(載置台) 3 周縁側吸着孔 4 真空ポンプ 5 第1連通路 6 切換弁 7 中央側吸着孔 8 第2連通路 11 ガラス基板 12 ステージ(載置台) 13 吸着孔 14 連通路 15 真空ポンプ 16 レジスト膜 21 吸着孔からの吸着力に応じてその直上の箇所が局
部的に変形した吸着状態となる基板 22 レジスト膜DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Flexible board 2 Stage (mounting table) 3 Peripheral side suction hole 4 Vacuum pump 5 1st communication path 6 Switching valve 7 Central side suction hole 8 2nd communication path 11 Glass substrate 12 Stage (mounting table) 13 Suction hole 14 Communication path 15 Vacuum pump 16 Resist film 21 Substrate which is in an adsorption state in which a portion immediately above it is locally deformed according to the adsorption force from the adsorption hole 22 Resist film
Claims (2)
る載置台と、前記載置面に設けられた互いに離間してそ
れぞれ開口する複数の吸着孔とを有し、前記吸着孔を通
して吸着力を作用させて前記被処理体を固定し、前記被
処理体に各種の処理を施す液晶表示素子製造装置におい
て、 前記吸着孔を通して前記被処理体に吸着力を作用させた
吸着状態を切り換える機構を有することを特徴とする液
晶表示素子製造装置。1. A mounting table having a flat mounting surface on which an object to be processed is mounted, and a plurality of suction holes provided on the mounting surface and separated from each other and opened, wherein the suction holes are provided. In the liquid crystal display device manufacturing apparatus for fixing the object to be processed by applying an attraction force through the through hole and performing various processes on the object to be processed, the suction state in which the attraction force is applied to the object to be processed through the suction holes A liquid crystal display element manufacturing apparatus having a switching mechanism.
て前記被処理体に吸着力を作用させた全面吸着状態と、
前記被処理体の有効使用範囲を除く周縁部に位置する前
記吸着孔を通して吸着力を作用させた周縁吸着状態と、
に切り換えることができることを特徴とする請求項1記
載の液晶表示素子製造装置。2. The apparatus according to claim 1, wherein the mechanism is configured to apply a suction force to the object through all of the suction holes,
A peripheral suction state in which the suction force is applied through the suction holes located at the peripheral portion except the effective use range of the object to be processed,
2. The liquid crystal display element manufacturing apparatus according to claim 1, wherein the liquid crystal display element manufacturing apparatus can be switched over.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2000119260A JP3306409B2 (en) | 1991-04-25 | 2000-04-20 | Liquid crystal display device manufacturing equipment |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2000119260A JP3306409B2 (en) | 1991-04-25 | 2000-04-20 | Liquid crystal display device manufacturing equipment |
Related Parent Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP18560097A Division JP3218205B2 (en) | 1997-07-11 | 1997-07-11 | Manufacturing method of liquid crystal display element |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2000321544A true JP2000321544A (en) | 2000-11-24 |
JP3306409B2 JP3306409B2 (en) | 2002-07-24 |
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Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2000119260A Expired - Fee Related JP3306409B2 (en) | 1991-04-25 | 2000-04-20 | Liquid crystal display device manufacturing equipment |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP3306409B2 (en) |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN100367088C (en) * | 2002-02-22 | 2008-02-06 | 芝浦机械电子装置股份有限公司 | Substrate laminating apparatus and method |
KR101009415B1 (en) * | 2008-11-18 | 2011-01-19 | 삼성모바일디스플레이주식회사 | Method for manufacturing electronic apparatus comprising plastic substrate, electronic apparatus manufactured by that method, and apparatus to be used in that method |
KR101206261B1 (en) | 2011-03-17 | 2012-11-28 | 엘아이지에이디피 주식회사 | Adhesive plate for manufacturing OLED device |
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US8491955B2 (en) | 2008-11-18 | 2013-07-23 | Samsung Display Co., Ltd. | Method of manufacturing electronic apparatus including plastic substrate, electronic apparatus manufactured using the method, and apparatus for use in the method |
KR101206261B1 (en) | 2011-03-17 | 2012-11-28 | 엘아이지에이디피 주식회사 | Adhesive plate for manufacturing OLED device |
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Publication number | Publication date |
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JP3306409B2 (en) | 2002-07-24 |
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