JP2851951B2 - Flexible substrate adsorption method - Google Patents
Flexible substrate adsorption methodInfo
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- Supply And Installment Of Electrical Components (AREA)
- Coating Apparatus (AREA)
Description
【０００１】[0001]
【産業上の利用分野】本発明は、例えば液晶表示素子製
造プロセスで用いられるレジスト塗布装置、露光装置、
配向膜塗布装置、印刷機等でのフレキシブル基板の吸着
固定に適用されるフレキシブル基板の吸着方法に関する
ものである。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a resist coating apparatus, an exposure apparatus,
The present invention relates to a method for adsorbing a flexible substrate applied to an alignment film coating device, a printing machine, or the like, for adsorbing and fixing the flexible substrate.
【０００２】[0002]
【従来の技術】従来、液晶表示素子には、例えば３００
ｍｍ×３００ｍｍ×厚み1.０ｍｍ程度のガラス基板が主
に用いられており、最近では、さらに４００ｍｍ、５０
０ｍｍサイズのより大形のガラス基板も用いられるよう
になってきている。2. Description of the Related Art Conventionally, a liquid crystal display device has, for example, 300
A glass substrate having a size of about 300 mm x 300 mm x thickness of about 1.0 mm is mainly used.
Larger glass substrates of 0 mm size have also been used.
【０００３】このようなガラス基板は、液晶表示素子の
製造プロセス中、例えばレジスト塗布装置、露光装置、
配向膜塗布装置、印刷機等を通して順次搬送され、そし
て、各装置内における処理操作中には、上記のガラス基
板は、図６に示すように、上面が平坦な載置台（以下、
ステージという）１２上に真空吸着によって固定される
ようになっている。すなわち、上記ステージ１２には、
直径0.５ｍｍ〜1.０ｍｍ程度の吸着孔１３…が５ｍｍ〜
３０ｍｍの間隔で碁盤目状に設けられ、これら吸着孔１
３…は、ステージ１２の下側に設けられた真空ポンプ１
５に連通路１４を介して接続されている。ガラス基板１
１は、各吸着孔１３…を通して作用する真空吸着力によ
って、ほぼ全面にわたって吸着されてステージ１２上に
固定される。[0003] Such a glass substrate is used during the manufacturing process of a liquid crystal display element, for example, in a resist coating apparatus, an exposure apparatus, or the like.
The glass substrate is conveyed sequentially through an alignment film coating device, a printing machine, etc., and during the processing operation in each device, the glass substrate is placed on a mounting table (hereinafter, referred to as a flat surface) as shown in FIG.
The stage 12 is fixed by vacuum suction. That is, the stage 12 includes
The suction holes 13 having a diameter of about 0.5 mm to 1.0 mm are 5 mm to
It is provided in a grid pattern at intervals of 30 mm.
3 are vacuum pumps 1 provided below the stage 12
5 through a communication path 14. Glass substrate 1
1 is sucked and fixed on the stage 12 over substantially the entire surface by the vacuum suction force acting through the suction holes 13.
【０００４】平板状に作製されているガラス基板１１
は、優れたフラット性を有すると共に剛性も高いため、
上記のような吸着孔１３…を通して離散的に吸着力を作
用させたとしても、図７に示すように、ガラス基板１１
に反り等の変形が生じることはなく、この結果、液晶表
示素子の製造プロセスにおいて、例えばレジスト塗布の
処理によって、図８に示すように、レジスト膜１６は均
一に塗布され、仕上がり状態に凹凸を生じることはな
い。A glass substrate 11 manufactured in a flat shape
Has excellent flatness and high rigidity,
Even if the suction force is applied discretely through the suction holes 13 as described above, as shown in FIG.
As a result, in the manufacturing process of the liquid crystal display element, the resist film 16 is uniformly applied as shown in FIG. Will not occur.
【０００５】一方、近年においては、液晶表示素子の薄
形化に伴い、プラスチック等からなるフレキシブル基板
がガラスの替わりに採用され、実用化されようとしてい
る。On the other hand, in recent years, as the liquid crystal display element has become thinner, a flexible substrate made of plastic or the like has been employed instead of glass, and is being put to practical use.
【０００６】そして、従来は、このようなフレキシブル
基板を各製造装置内に位置決めして固定する場合におい
ても、前記同様の吸着孔１３…を通して吸着固定する方
法が採用されている。Conventionally, even when such a flexible substrate is positioned and fixed in each manufacturing apparatus, a method of suction-fixing through the same suction holes 13 as described above has been adopted.
【０００７】[0007]
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記の
ようなフレキシブル基板に従来同様の吸着固定法を適用
する場合、素材自身の持つフレキシブル性から、図９に
示すように、各吸着孔１３…からの吸着力に応じてその
直上の箇所が局部的に変形した吸着状態となり、この結
果、図のように、吸着孔１３…の間隔に応じたうねりを
生じた状態でフレキシブル基板２１の固定が行われるも
のとなっている。すなわち、上記のように互いに離間し
た位置に開口する吸着孔１３…を通して吸着力を作用さ
せる場合には、フレキシブル基板２１全体は平面状に作
製されているにもかかわらず、素材のフレキシブル性か
ら局部的な吸着状態を生じ、このため、フラット性が逆
に損なわれた状態での固定状態となっているのである。However, when the same suction fixing method as that of the related art is applied to the above-described flexible substrate, the flexibility of the material itself causes the suction holes 13 to move from the suction holes 13 as shown in FIG. In this state, the portion immediately above the substrate is locally deformed in response to the suction force, and as a result, as shown in FIG. It is something to be done. That is, when the suction force is applied through the suction holes 13 opened at positions separated from each other as described above, the flexible substrate 21 is locally formed because of the flexibility of the material, although the entire flexible substrate 21 is formed in a planar shape. Thus, a stable state is generated, and the flatness is conversely impaired, and the state is a fixed state.
【０００８】この結果、例えば図１０に示すように、レ
ジスト塗布処理後のレジスト膜２２の膜厚が不均一とな
り、仕上がり状態に凹凸が生じる。このため、液晶表示
素子の表示品位にムラを生じるという問題が発生してい
る。As a result, for example, as shown in FIG. 10, the thickness of the resist film 22 after the resist coating treatment becomes non-uniform, and the finished state has irregularities. For this reason, there is a problem that the display quality of the liquid crystal display element becomes uneven.
【０００９】[0009]
【課題を解決するための手段】請求項１の発明に係るフ
レキシブル基板の吸着方法は、上記課題を解決するため
に、複数の吸着孔が互いに離間してそれぞれ開口する平
坦な載置面を有する載置台上に、上記吸着孔を通して平
面状のフレキシブル基板に吸着力を作用させて固定する
フレキシブル基板の吸着方法において、フレキシブル基
板のほぼ全面にわたって位置する吸着孔を通して吸着力
を作用させることにより上記フレキシブル基板を載置台
上に固定した後、上記フレキシブル基板の有効使用範囲
を除く周縁部に位置する吸着孔を通して吸着力を作用さ
せた周縁吸着状態に切換えることで、上記フレキシブル
基板を固定することを特徴としている。According to a first aspect of the present invention, there is provided a method for sucking a flexible substrate, wherein the plurality of suction holes have a flat mounting surface which is separated from each other and opened. on the stage, the adsorption method of a flexible substrate for fixing by the action of suction force in a plane of the flexible substrate through the suction hole, flexible base
Suction force through suction holes located almost all over the plate
The flexible substrate is placed on the mounting table
After being fixed on the upper side , the flexible substrate is fixed by switching to a peripheral suction state in which a suction force is applied through a suction hole located at a peripheral portion excluding the effective use range of the flexible substrate.
【００１０】[0010]
【００１１】[0011]
【作用】本発明のフレキシブル基板の吸着方法を液晶表
示素子の製造プロセスにおけるレジスト塗布装置に適用
した場合を例に挙げて説明する。A description will be given of an example in which the method for adsorbing a flexible substrate of the present invention is applied to a resist coating apparatus in a manufacturing process of a liquid crystal display element.
【００１２】まず、本発明に係るフレキシブル基板の吸
着方法によれば、互いに離間する吸着孔毎に吸着力が作
用して局部的変形を生じる領域は、フレキシブル基板に
おける有効使用範囲としての表示範囲を除く周縁部のみ
に限定されて載置台上に固定される。したがって、上記
表示範囲においては、フレキシブル基板自身が有する平
面性が保持される。この結果、このフレキシブル基板表
面に塗布されるレジストの膜厚を上記表示範囲内でほぼ
均一なものとすることが可能となる。この結果、表示特
性の向上した液晶表示素子を作製することができる。First, according to the flexible substrate suction method of the present invention, the region where the suction force acts on each of the suction holes separated from each other to cause local deformation is the display range as the effective use range of the flexible substrate. It is fixed only on the mounting table except for the peripheral portion except for it. Therefore, the flatness of the flexible substrate itself is maintained in the display range. As a result, the thickness of the resist applied to the surface of the flexible substrate can be made substantially uniform within the display range. As a result, a liquid crystal display element with improved display characteristics can be manufactured.
【００１３】また、フレキシブル基板の周縁部を吸着し
て固定する前に、ほぼ全面にわたる吸着孔を通して吸着
力が作用する。つまり、レジスト塗布装置内にフレキシ
ブル基板が搬送され、位置決めされた時点では、このフ
レキシブル基板のほぼ全面にわたって吸着力を作用させ
る。このとき、吸着孔の個々の間隔に対応する局部的な
うねりを生じた状態となるが、例えば、吸着孔の間隔を
超えた大きな曲率の変形を生じて載置台上に載置された
場合でも、全体的には、ステージの上面に沿ってほぼ平
面状に矯正され、かつ、上記位置決め位置を保持して正
確に固定される。このような吸着固定状態を経て、前記
の周縁固定状態に切換えることによって、表示範囲内に
おいてフレキシブル基板自身が有する平面状態に復帰
し、この後のレジスト塗布においては、載置台上の所定
の位置に正確に保持された状態で均一な処理が行われる
ので、さらに、表示特性の向上した液晶表示素子を作製
することができる。 Further, before fixing by suction the peripheral portion of the full Rekishiburu substrate, suction force acts through substantially the entire surface over the suction holes. In other words, when the flexible substrate is conveyed into the resist coating device and positioned, an attraction force acts on almost the entire surface of the flexible substrate. At this time, local undulations corresponding to the individual intervals of the suction holes are generated.For example, even when the suction holes are placed on the mounting table due to a large curvature deformation exceeding the interval of the suction holes. As a whole, it is corrected to a substantially planar shape along the upper surface of the stage, and is accurately fixed while maintaining the above-mentioned positioning position. By switching to the peripheral edge fixed state through such an adsorption fixed state, the flat state of the flexible substrate itself is returned within the display range, and in the subsequent resist coating, the flexible substrate is moved to a predetermined position on the mounting table. Since uniform processing is performed in a state where the liquid crystal display device is accurately held, a liquid crystal display element with further improved display characteristics can be manufactured.
【００１４】[0014]
【実施例】本発明の一実施例について図１ないし図５に
基づいて説明すれば、以下の通りである。DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS One embodiment of the present invention will be described below with reference to FIGS.
【００１５】例えば、液晶表示素子の製造プロセスにお
けるレジスト塗布装置には、図１および図２に示すよう
に、上面に平坦な載置面を有するステージ（載置台）２
が設けられている。このステージ２には、直径0.５ｍｍ
〜1.０ｍｍの複数の吸着孔３…、７…が上記載置面に５
ｍｍ〜３０ｍｍ間隔で碁盤目状に開口している。これら
の吸着孔のうち、最外周側の周縁側吸着孔３…は、ステ
ージ２内部に横設されている第１連通路５にそれぞれ接
続されている。そして、この第１連通路５は、切換弁６
を介して真空ポンプ４に接続されている。また、上記周
縁側吸着孔３…よりも内側の中央側吸着孔７…は、第１
連通路５とは別にステージ２内に形成されている第２連
通路８にそれぞれ接続され、この第２連通路８は上記切
換弁６に接続されている。For example, as shown in FIGS. 1 and 2, a resist coating apparatus in a manufacturing process of a liquid crystal display element has a stage (mounting table) 2 having a flat mounting surface on an upper surface.
Is provided. This stage 2 has a diameter of 0.5 mm
A plurality of suction holes 3..., 7.
The openings are formed in a grid pattern at intervals of 30 mm to 30 mm. Of these suction holes, the outermost peripheral side suction holes 3... Are respectively connected to first communication passages 5 provided horizontally inside the stage 2. The first communication passage 5 is provided with a switching valve 6
And is connected to the vacuum pump 4 via. The central suction holes 7 inside the peripheral suction holes 3 are the first suction holes 7.
In addition to the communication path 5, the communication path 5 is connected to a second communication path 8 formed in the stage 2, and the second communication path 8 is connected to the switching valve 6.
【００１６】上記切換弁６によって、真空ポンプ４を作
動したときの真空吸着力が、第１連通路５及び第２連通
路８から全ての吸着孔３…、７…を通して作用する状態
（以下、全面吸着作用状態という）と、第１連通路５か
ら周縁側吸着孔３…を通してのみ作用する状態（以下、
周縁吸着作用状態という）との切換えが行われる。By the switching valve 6, the vacuum suction force when the vacuum pump 4 is operated acts from the first communication path 5 and the second communication path 8 through all the suction holes 3. And a state in which the first communication passage 5 acts only through the peripheral suction holes 3 (hereinafter, referred to as a suction state).
(Referred to as a peripheral suction operation state).
【００１７】上記のようなステージ２を備えるレジスト
塗布装置に、例えばプラスチック等の材質からなる平面
状のフレキシブル基板１が載置された場合、以下のよう
な操作手順に基づいてこのフレキシブル基板１の吸着固
定が行われる。なお、この場合のフレキシブル基板１に
は、図４に示すように、全体が方形状をなし、そして、
周縁側を除く中央部側に、有効使用範囲としての領域
に、図のように二段の表示領域１ａ・１ｂが設定されて
いるものとする。When the flat flexible substrate 1 made of a material such as plastic is placed on the resist coating apparatus having the stage 2 as described above, the flexible substrate 1 is formed on the basis of the following operation procedure. Suction fixing is performed. The flexible substrate 1 in this case has a square shape as shown in FIG.
It is assumed that two-stage display areas 1a and 1b are set as shown in the figure in the area as the effective use range on the center side except the peripheral side.
【００１８】まず、装置外から上記のフレキシブル基板
１がステージ２上に搬送され、位置決めが行われると、
図５に示すように、前記切換弁６が作動されて、初め
に、第１連通路５及び第２連通路８の両者が真空ポンプ
４への接続状態となる。これにより、フレキシブル基板
１はステージ２と中心を合わせた位置決め状態で、全吸
着孔３…、７…を通して前記全面吸着作用状態となって
吸着固定される。First, when the above-mentioned flexible substrate 1 is conveyed onto the stage 2 from outside the apparatus and is positioned,
As shown in FIG. 5, when the switching valve 6 is operated, first, both the first communication path 5 and the second communication path 8 are connected to the vacuum pump 4. As a result, the flexible substrate 1 is positioned in a state of being aligned with the center of the stage 2, and is suction-fixed in the entire suction state through all the suction holes 3, 7.
【００１９】次いで、切換弁６の切換操作が行われ、こ
れによって、真空ポンプ４との第１連通路５側の接続状
態は継続したまま、第２連通路８の真空ポンプ４との接
続状態を断って中央側吸着孔７…を通しての真空吸着力
を解除する。この結果、図１に示すように、フレキシブ
ル基板１における表示範囲を除く周縁側の領域（図にお
いて斜線を施した領域）に位置する周縁側吸着孔３…の
みを通して、真空吸着力が作用する前記周縁吸着作用状
態での固定に切換わる。Next, the switching operation of the switching valve 6 is performed, whereby the connection state of the second communication path 8 with the vacuum pump 4 is maintained while the connection state of the first communication path 5 with the vacuum pump 4 is maintained. And the vacuum suction force through the central suction holes 7 is released. As a result, as shown in FIG. 1, the vacuum suction force acts only through the peripheral side suction holes 3 located in the peripheral side area (the area shaded in the figure) excluding the display range on the flexible substrate 1. The mode is switched to the fixing in the peripheral suction state.
【００２０】その後、上記フレキシブル基板１の表面に
レジストが塗布され、この装置での処理を完了すると、
上記切換弁６をさらに切換えて周縁側吸着孔３…を通し
ての吸着力も解除され、この装置から、次の工程へと搬
出される。Thereafter, a resist is applied to the surface of the flexible substrate 1, and when the processing by this apparatus is completed,
By further switching the switching valve 6, the suction force through the peripheral suction holes 3 is also released, and the device is carried out to the next step.
【００２１】以降、その他の製造プロセス、例えば、レ
ジスト塗布、露光、配向膜塗布、オフセット印刷、スク
リーン印刷等の各工程においても、フレキシブル基板１
を上記同様に吸着固定して各処理が行われて液晶表示素
子が作製される。Thereafter, the flexible substrate 1 is also used in other manufacturing processes such as resist coating, exposure, alignment film coating, offset printing, and screen printing.
Is absorbed and fixed in the same manner as described above, and each process is performed to manufacture a liquid crystal display element.
【００２２】以上の説明のように、上記実施例において
は、各製造装置内でフレキシブル基板１をステージ２上
に吸着固定して、例えばレジスト塗布等の処理を行う場
合には、フレキシブル基板１の表示範囲を除く周縁側に
対応して位置する周縁側吸着孔３…のみを通して吸着力
を作用させる操作が行われる。したがって、互いに離間
する吸着孔３…毎に吸着力が作用して局部的変形が生じ
る領域は、フレキシブル基板１における表示範囲を除く
周縁部のみに限定されてステージ２上に固定される。し
たがって、図３に示すように、少なくとも上記表示範囲
においては、フレキシブル基板１自身が有する平面性が
保持される。この結果、例えば、このフレキシブル基板
１の表面に塗布されるレジストの膜厚を表示範囲内でほ
ぼ均一なものとすることが可能となる。同様に、その他
の装置においても、上記表示範囲内ではその全面にわた
って均一な処理が行われることとなるので、表示特性の
向上した液晶表示素子を作製することができる。As described above, in the above embodiment, in a case where the flexible substrate 1 is attracted and fixed on the stage 2 in each manufacturing apparatus and a process such as resist coating is performed, the flexible substrate 1 An operation is performed in which the suction force is applied only through the peripheral side suction holes 3 corresponding to the peripheral side excluding the display range. Therefore, the region where local deformation occurs due to the suction force acting on each of the suction holes 3 spaced apart from each other is limited to only the peripheral portion of the flexible substrate 1 excluding the display range, and is fixed on the stage 2. Therefore, as shown in FIG. 3, the flatness of the flexible substrate 1 itself is maintained at least in the display range. As a result, for example, the thickness of the resist applied to the surface of the flexible substrate 1 can be made substantially uniform within the display range. Similarly, in other devices, uniform processing is performed over the entire surface within the display range, so that a liquid crystal display element with improved display characteristics can be manufactured.
【００２３】また、上記実施例においては、各装置内に
おける所定の処理に先立って、これら装置内にフレキシ
ブル基板１が搬送され、位置決めされた時点では、周縁
側吸着孔３…及び中央側吸着孔７…の全てに吸着力を作
用させた全面吸着作用状態で、フレキシブル基板１の固
定が行われる。すなわち、フレキシブル基板１はステー
ジ２と中心を合わせた位置決め状態でほぼ全面に吸着力
が作用する。このとき、従来同様に、吸着孔３…、７…
の個々の間隔に対応して局部的にうねりを生じた状態と
なるが、例えば、吸着孔３…、７…の間隔を超えた大き
な曲率の変形を生じて上記ステージ２上に載置された場
合でも、全体的には、ステージ２の上面に沿ってほぼ平
面状に矯正され、かつ、上記位置決め位置を保持して正
確に固定される。また、全面にわたって吸着力が作用す
ることから、上記のような吸着固定状態が速やかに得ら
れものとなる。このような吸着固定状態を経て、前記の
周縁吸着作用状態に切換えられ、これによって、表示範
囲内においてフレキシブル基板１自身が有する平面状態
に復帰し、この後、前記の各処理がそれぞれ行われるよ
うになっている。この結果、ステージ２上の固定位置も
より正確に保持された状態で均一な処理が行われるの
で、さらに、表示特性の向上した液晶表示素子を作製し
得るものとなる。Further, in the above embodiment, prior to the predetermined processing in each apparatus, when the flexible substrate 1 is conveyed into these apparatuses and positioned, the peripheral side suction holes 3 and the central side suction holes 3. The fixing of the flexible substrate 1 is performed in a state where the suction force is applied to all of 7. That is, the suction force acts on almost the entire surface of the flexible substrate 1 in a positioning state where the center is aligned with the stage 2. At this time, the suction holes 3,.
Undulations are locally generated in accordance with the individual intervals. However, for example, a large curvature deformation exceeding the intervals of the suction holes 3..., 7. Even in this case, as a whole, it is corrected to be substantially flat along the upper surface of the stage 2 and is accurately fixed while maintaining the above-described positioning position. Further, since the suction force acts on the entire surface, the above-mentioned suction fixed state can be quickly obtained. After such a suction-fixed state, the state is switched to the peripheral suction state, thereby returning to the flat state of the flexible substrate 1 itself within the display range, and thereafter, each of the above-described processes is performed. It has become. As a result, uniform processing is performed in a state where the fixed position on the stage 2 is more accurately held, so that a liquid crystal display element with further improved display characteristics can be manufactured.
【００２４】特に、上記のように、一旦、全面吸着作用
状態とすることは、フレキシブル基板１のサイズが例え
ば２００ｍｍ〜５００ｍｍ程度の比較的大きなものが用
いられる場合に有効である。つまり、この場合には、前
記のようにステージ２上に載置され位置決めされた状態
において、すぐに周縁吸着作用状態で固定しようとする
場合には、例えばステージ２中央側で、フレキシブル基
板１下面とステージ２上面との間の空気層がすぐには周
縁側から抜けきらず、したがって、全体にわたってステ
ージ２に沿って平坦状になるには幾分かの時間を要する
ものとなる。また、この場合に、中央側が大きなうねり
を生じた固定状態となったり、位置決め位置からのずれ
を生じて固定されるおそれもある。そこで、上記のよう
に、一旦、全面吸着を行うことによって、位置決め位置
に定置した状態での速やかな固定状態とすることが可能
となる。In particular, as described above, once the entire surface is brought into the adsorption state, it is effective when the size of the flexible substrate 1 is relatively large, for example, about 200 mm to 500 mm. In other words, in this case, if it is to be immediately fixed on the peripheral edge in the state of being placed and positioned on the stage 2 as described above, for example, at the center side of the stage 2, the lower surface of the flexible substrate 1 The air layer between the stage and the upper surface of the stage 2 does not immediately escape from the peripheral side, and it takes some time for the entire surface to be flat along the stage 2. Further, in this case, there is a possibility that the center side may be in a fixed state in which large undulation has occurred, or may be shifted from the positioning position and fixed. Therefore, as described above, once the entire surface is sucked, it is possible to quickly set the fixed state at the fixed position.
【００２５】このように、上記実施例によれば、フレキ
シブル基板１に対し表示範囲内において均一な処理を実
施することができ、表示特性の向上した液晶表示素子を
作製することができる。このような液晶表示素子には、
ＴＮ(Twisted Nematic) 、ＳＴＮ(Super Twisted Nemat
ic) 、及びＦＳＴＮ(Film-compensated Super Twisted
Nematic)等の駆動タイプがあり、最近のワープロ、パソ
コン等の大型のものには、ＳＴＮ、あるいはＦＳＴＮ等
の駆動タイプが用いられている。特に、このタイプの液
晶表示素子の液晶配向制御については従来よりもきびし
い制御が必要で、フレキシブル基板がこれらのタイプの
液晶表示素子に用いられる場合に、液晶配向処理時にお
けるフレキシブル基板のフラット性の保持が極めて重要
なものとなっており、この場合に、上記の方法を適用す
ることによって、特性の向上を図ることができる。As described above, according to the above embodiment, uniform processing can be performed on the flexible substrate 1 within the display range, and a liquid crystal display device with improved display characteristics can be manufactured. In such a liquid crystal display device,
TN (Twisted Nematic), STN (Super Twisted Nemat)
ic) and FSTN (Film-compensated Super Twisted
Nematic) and other large types such as recent word processors and personal computers use a drive type such as STN or FSTN. In particular, liquid crystal alignment control of this type of liquid crystal display element requires more strict control than before, and when a flexible substrate is used for these types of liquid crystal display elements, the flatness of the flexible substrate during liquid crystal alignment processing is required. Retention is extremely important, and in this case, the characteristics can be improved by applying the above method.
【００２６】なお、上記実施例においては、全面吸着と
周縁吸着とを順次切換える例を挙げて説明したが、例え
ばフレキシブル基板１のサイズが小さく、周縁吸着のみ
で正確な吸着固定状態が得られる場合には、ステージ２
には、フレキシブル基板１の周縁側のみに対応する位置
に吸着孔を設けて、このステージ２上に位置決めされた
フレキシブル基板１に対してすぐに周縁側吸着を行うよ
うにすることも、本発明の請求項１の範囲において可能
である。In the above embodiment, an example in which the entire surface suction and the peripheral suction are sequentially switched has been described. However, for example, in the case where the size of the flexible substrate 1 is small and an accurate suction fixing state can be obtained only by the peripheral suction. In stage 2
According to the present invention, a suction hole may be provided at a position corresponding to only the peripheral side of the flexible substrate 1 so that the flexible substrate 1 positioned on the stage 2 is immediately suctioned to the peripheral side. Is possible within the scope of claim 1.
【００２７】また、上記では、液晶表示素子製造プロセ
スにおけるレジスト塗布装置を中心に説明したが、その
他の製造装置、さらには、液晶表示素子製造プロセス以
外のフレキシブル基板を吸着固定する装置において、本
発明の適用が可能である。In the above description, the resist coating apparatus in the liquid crystal display element manufacturing process has been mainly described. Is applicable.
【００２８】[0028]
【発明の効果】請求項１の発明に係るフレキシブル基板
の吸着方法は、以上のように、フレキシブル基板のほぼ
全面にわたって位置する吸着孔を通して吸着力を作用さ
せることにより上記フレキシブル基板を載置台上に固定
した後、上記フレキシブル基板の有効使用範囲を除く周
縁部に位置する吸着孔を通して吸着力を作用させた周縁
吸着状態に切換えることで、上記フレキシブル基板の固
定を行うものである。Adsorption method of a flexible substrate according to the invention of claim 1 according to the present invention, as described above, the flexible substrate substantially
Apply suction force through suction holes located over the entire surface.
To fix the flexible substrate on the mounting table
After that , the flexible substrate is fixed by switching to a peripheral suction state in which a suction force is applied through suction holes located at a peripheral portion excluding an effective use range of the flexible substrate.
【００２９】それゆえ、フレキシブル基板はその有効使
用範囲内において、フレキシブル基板自身が有する平面
性が保持されるので、この範囲内に均一な処理、例えば
レジスト塗布処理において、均一な膜厚を形成すること
ができる。この結果、例えば液晶表示素子の製造プロセ
スに適用する場合には、表示特性の向上した液晶表示素
子を作製することができるという効果を奏する。Therefore, since the flatness of the flexible substrate itself is maintained within the effective use range of the flexible substrate, a uniform film thickness is formed in this range by a uniform process, for example, a resist coating process. be able to. As a result, for example, when applied to a manufacturing process of a liquid crystal display element, there is an effect that a liquid crystal display element with improved display characteristics can be manufactured.
【００３０】[0030]
【００３１】また、例えば、フレキシブル基板が大きな
曲率の変形を生じて載置台上に載置された場合でも、全
体的には、ステージの上面に沿ってほぼ平面状に矯正さ
れ、かつ、上記位置決め位置を保持して正確に固定され
た後、有効使用範囲内はフレキシブル基板自身が有する
平面状態に復帰した状態で、例えば、レジスト塗布処理
が行われる。この結果、載置台上の所定の位置に正確に
保持された状態で均一な処理が行われるので、さらに、
表示特性の向上した液晶表示素子等の作製が可能になる
という効果を奏する。 Also , for example, even when the flexible substrate is mounted on the mounting table due to large curvature deformation, the flexible substrate is generally corrected to be substantially flat along the upper surface of the stage, and the positioning is performed. For example, a resist coating process is performed in a state where the flexible substrate itself has returned to the planar state within the effective use range after the position is accurately fixed while holding the position. As a result, uniform processing is performed while being accurately held at a predetermined position on the mounting table.
This produces an effect that a liquid crystal display element or the like having improved display characteristics can be manufactured.
【図１】本発明の一実施例において用いられるステージ
とフレキシブル基板との関係を示す平面図である。FIG. 1 is a plan view showing a relationship between a stage and a flexible substrate used in an embodiment of the present invention.
【図２】上記ステージの断面図である。FIG. 2 is a cross-sectional view of the stage.
【図３】上記ステージ上へのフレキシブル基板の吸着固
定状態を示す断面図である。FIG. 3 is a cross-sectional view showing a state in which a flexible substrate is attracted and fixed on the stage.
【図４】上記フレキシブル基板における表示範囲を説明
するための平面図である。FIG. 4 is a plan view for explaining a display range on the flexible substrate.
【図５】上記フレキシブル基板を二段階の吸着操作で固
定する場合のタイミングチャートである。FIG. 5 is a timing chart when the flexible substrate is fixed by a two-stage suction operation.
【図６】従来のステージとこのステージ状に載置される
ガラス基板とを示す断面図である。FIG. 6 is a cross-sectional view showing a conventional stage and a glass substrate mounted on the stage.
【図７】上記従来のステージへのガラス基板の吸着固定
状態を示す拡大断面図である。FIG. 7 is an enlarged cross-sectional view showing a state in which a glass substrate is fixed by suction to the conventional stage.
【図８】レジスト膜が塗布された上記ガラス基板を示す
断面図である。FIG. 8 is a cross-sectional view showing the glass substrate coated with a resist film.
【図９】上記従来のステージによるフレキシブル基板の
吸着固定状態を示す拡大断面図である。FIG. 9 is an enlarged sectional view showing a state in which a flexible substrate is suction-fixed by the conventional stage.
【図１０】上記従来の吸着固定状態でレジストを塗布し
た後のフレキシブル基板の断面図である。FIG. 10 is a cross-sectional view of a flexible substrate after a resist is applied in the above-described conventional suction-fixed state.
１ フレキシブル基板 ２ ステージ（載置台） ３ 周縁側吸着孔 ７ 中央側吸着孔 DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Flexible board 2 Stage (mounting table) 3 Peripheral side suction hole 7 Center side suction hole
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 ＦＩ Ｇ０３Ｆ 7/16 Ｇ０３Ｆ 7/16 Ｈ０５Ｋ 13/04 Ｈ０５Ｋ 13/04 ──────────────────────────────────────────────────続 き Continued on the front page (51) Int.Cl. 6 Identification code FI G03F 7/16 G03F 7/16 H05K 13/04 H05K 13/04
Claims (1)
開口する平坦な載置面を有する載置台上に、上記吸着孔
を通して平面状のフレキシブル基板に吸着力を作用させ
て固定するフレキシブル基板の吸着方法において、フレキシブル基板のほぼ全面にわたって位置する吸着孔
を通して吸着力を作用させることにより上記フレキシブ
ル基板を載置台上に固定した後、上記 フレキシブル基板
の有効使用範囲を除く周縁部に位置する吸着孔を通して
吸着力を作用させた周縁吸着状態に切換えることで、上
記フレキシブル基板を固定することを特徴とするフレキ
シブル基板の吸着方法。A flexible substrate fixed on a mounting table having a flat mounting surface in which a plurality of suction holes are separated from each other and opened by applying suction force to a flat flexible substrate through the suction holes. In the suction method, suction holes located over almost the entire surface of the flexible substrate
Flexib by applying adsorption force through
After fixing the flexible substrate on the mounting table , the flexible substrate is fixed by switching to the peripheral suction state in which the suction force is applied through the suction holes located at the peripheral portion excluding the effective use range of the flexible substrate. Characteristic method of adsorbing flexible substrates.
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1991
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