KR20220151976A - Producing method of template for supporting mask and producing method of mask integrated frame - Google Patents

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KR20220151976A
KR20220151976A KR1020210059354A KR20210059354A KR20220151976A KR 20220151976 A KR20220151976 A KR 20220151976A KR 1020210059354 A KR1020210059354 A KR 1020210059354A KR 20210059354 A KR20210059354 A KR 20210059354A KR 20220151976 A KR20220151976 A KR 20220151976A
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장택용
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주식회사 오럼머티리얼
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Abstract

The present invention relates to a method of manufacturing a mask support template and a method of manufacturing a frame-integrated mask. A method of manufacturing a mask support template according to the present invention is a method of manufacturing a mask support template for supporting a mask for forming an OLED pixel to correspond to a frame, and comprises the steps of: (a) inserting a template into a groove formed in a template support; (b) bonding the mask on which the plurality of mask patterns are formed to at least one surface of the template and the template support in a state in which tensile force is applied in a lateral direction; and (c) cutting the edge of the mask to the same size as the template.

Description

마스크 지지 템플릿의 제조 방법 및 프레임 일체형 마스크의 제조 방법 {PRODUCING METHOD OF TEMPLATE FOR SUPPORTING MASK AND PRODUCING METHOD OF MASK INTEGRATED FRAME}Method for manufacturing a mask support template and method for manufacturing a frame-integrated mask

본 발명은 마스크 지지 템플릿의 제조 방법 및 프레임 일체형 마스크의 제조 방법에 관한 것이다. 보다 상세하게는, 마스크의 변형없이 안정적으로 지지 및 이동이 가능하고, 각 마스크 간의 얼라인(align)을 명확하게 할 수 있는 마스크 지지 템플릿의 제조 방법 및 프레임 일체형 마스크의 제조 방법에 관한 것이다.The present invention relates to a method of manufacturing a mask support template and a method of manufacturing a frame-integrated mask. More specifically, it relates to a method of manufacturing a mask support template and a method of manufacturing a frame-integrated mask capable of stably supporting and moving a mask without deformation and clear alignment between masks.

OLED 제조 공정에서 화소를 형성하는 기술로, 박막의 금속 마스크(Shadow Mask)를 기판에 밀착시켜서 원하는 위치에 유기물을 증착하는 FMM(Fine Metal Mask) 법이 주로 사용된다.As a technology for forming pixels in the OLED manufacturing process, the FMM (Fine Metal Mask) method, which deposits organic materials on a desired location by attaching a thin metal shadow mask to the substrate, is mainly used.

기존의 OLED 제조 공정에서는 마스크를 스틱 형태, 플레이트 형태 등으로 제조한 후, 마스크를 OLED 화소 증착 프레임에 용접 고정시켜 사용한다. 마스크 하나에는 디스플레이 하나에 대응하는 셀이 여러개 구비될 수 있다. 또한, 대면적 OLED 제조를 위해서 여러 개의 마스크를 OLED 화소 증착 프레임에 고정시킬 수 있는데, 프레임에 고정하는 과정에서 각 마스크가 평평하게 되도록 인장을 하게 된다. 마스크의 전체 부분이 평평하게 되도록 인장력을 조절하는 것은 매우 어려운 작업이다. 특히, 각 셀들을 모두 평평하게 하면서, 크기가 수 내지 수십 ㎛에 불과한 마스크 패턴을 정렬하기 위해서는, 마스크의 각 측에 가하는 인장력을 미세하게 조절하면서, 정렬 상태를 실시간으로 확인하는 고도의 작업이 요구된다.In the existing OLED manufacturing process, a mask is manufactured in a stick shape, plate shape, etc., and then the mask is welded and fixed to the OLED pixel deposition frame. A plurality of cells corresponding to one display may be provided in one mask. In addition, several masks can be fixed to the OLED pixel deposition frame for manufacturing large-area OLEDs. In the process of fixing to the frame, each mask is tensioned so that it is flat. It is a very difficult task to adjust the tension so that the entire part of the mask is flat. In particular, in order to flatten each cell and align a mask pattern that is only a few to several tens of μm in size, a high level of work is required to check the alignment in real time while finely adjusting the tensile force applied to each side of the mask. do.

그럼에도 불구하고, 여러 개의 마스크를 하나의 프레임에 고정시키는 과정에서 마스크 상호간에, 그리고 마스크 셀들의 상호간에 정렬이 잘 되지 않는 문제점이 있었다. 또한, 마스크를 프레임에 용접 고정하는 과정에서 마스크 막의 두께가 너무 얇고 대면적이기 때문에 하중에 의해 마스크가 쳐지거나 뒤틀어지는 문제점, 용접 과정에서 용접 부분에 발생하는 주름, 번짐(burr) 등에 의해 마스크 셀의 정렬이 엇갈리게 되는 문제점 등이 있었다.Nevertheless, in the process of fixing a plurality of masks to one frame, there is a problem in that alignment between masks and between mask cells is not good. In addition, in the process of fixing the mask to the frame by welding, the thickness of the mask film is too thin and has a large area, so the mask is sagging or distorted by the load, and wrinkles and burrs generated at the welded part during the welding process cause the mask cell to deteriorate. There was a problem with the alignment being staggered.

초고화질의 OLED의 경우, 현재 QHD 화질은 500~600 PPI(pixel per inch)로 화소의 크기가 약 30~50㎛에 이르며, 4K UHD, 8K UHD 고화질은 이보다 높은 ~860 PPI, ~1600 PPI 등의 해상도를 가지게 된다. 이렇듯 초고화질의 OLED의 화소 크기를 고려하여 각 셀들간의 정렬 오차를 수 ㎛ 정도로 감축시켜야 하며, 이를 벗어나는 오차는 제품의 실패로 이어지게 되므로 수율이 매우 낮아지게 될 수 있다. 그러므로, 마스크가 쳐지거나 뒤틀리는 등의 변형을 방지하고, 정렬을 명확하게 할 수 있는 기술, 마스크를 프레임에 고정하는 기술 등의 개발이 필요한 실정이다.In the case of ultra-high-definition OLED, the current QHD picture quality is 500 to 600 PPI (pixel per inch), with a pixel size of about 30 to 50 μm, and 4K UHD and 8K UHD high-definition are higher than this, such as ~860 PPI and ~1600 PPI. has a resolution of In this way, considering the pixel size of ultra-high-definition OLED, the alignment error between each cell must be reduced to about several micrometers, and an error that deviate from this can lead to failure of the product, so the yield can be very low. Therefore, there is a need to develop a technology capable of preventing deformation such as drooping or twisting of the mask and clarifying the alignment, a technology of fixing the mask to the frame, and the like.

따라서, 본 발명은 상기와 같은 종래 기술의 제반 문제점을 해결하기 위하여 안출된 것으로서, 복수의 마스크 지지 템플릿을 프레임에 동시에 대응하고 부착시킬 수 있는 마스크 지지 템플릿의 제조 방법을 제공하는 것을 그 목적으로 한다.Accordingly, the present invention has been made to solve the various problems of the prior art as described above, and an object of the present invention is to provide a method of manufacturing a mask support template capable of simultaneously corresponding to and attaching a plurality of mask support templates to a frame. .

또한, 본 발명은 마스크를 변형없이 안정적으로 지지 및 이동이 가능하고, 마스크가 쳐지거나 뒤틀리는 등의 변형을 방지하고 정렬을 명확하게 할 수 있는 마스크 지지 템플릿의 제조 방법 및 프레임 일체형 마스크의 제조 방법을 제공하는 것을 그 목적으로 한다.In addition, the present invention provides a method of manufacturing a mask support template and a method of manufacturing a frame-integrated mask capable of stably supporting and moving a mask without deformation, preventing deformation such as sagging or twisting the mask, and clarifying alignment. It aims to provide

또한, 본 발명은 제조시간을 현저하게 감축시키고, 수율을 현저하게 상승시킨 프레임 일체형 마스크의 제조 방법을 제공하는 것을 그 목적으로 한다.In addition, an object of the present invention is to provide a method for manufacturing a frame-integrated mask that significantly reduces manufacturing time and significantly increases yield.

그러나 이러한 과제는 예시적인 것으로, 이에 의해 본 발명의 범위가 한정되는 것은 아니다.However, these tasks are illustrative, and the scope of the present invention is not limited thereby.

본 발명의 상기의 목적은, OLED 화소 형성용 마스크를 지지하여 프레임에 대응시키는 마스크 지지 템플릿(template)의 제조 방법으로서, (a) 템플릿 지지부에 형성된 홈에 템플릿을 삽입하는 단계; (b) 복수의 마스크 패턴이 형성된 마스크를 측면 방향으로 인장력을 가한 상태로, 템플릿 및 템플릿 지지부의 적어도 일면 상에 접착하는 단계; (c) 마스크의 테두리를 템플릿 크기와 동일하게 커팅하는 단계;를 포함하는, 마스크 지지 템플릿의 제조 방법에 의해 달성된다.The above object of the present invention is a method of manufacturing a mask support template for supporting a mask for forming an OLED pixel to correspond to a frame, comprising: (a) inserting the template into a groove formed in a template support; (b) adhering the mask on which the plurality of mask patterns are formed on at least one surface of the template and the template support in a state in which tensile force is applied in a lateral direction; (c) cutting the rim of the mask to be the same as the size of the template;

그리고, 본 발명의 상기의 목적은, OLED 화소 형성용 마스크를 지지하여 프레임에 대응시키는 마스크 지지 템플릿(template)의 제조 방법으로서, (a) 템플릿 지지부에 형성된 홈에 템플릿을 삽입하는 단계; (b) 마스크 금속막을 측면 방향으로 인장력을 가한 상태로, 템플릿 및 템플릿 지지부의 적어도 일면 상에 접착하는 단계; (c) 마스크 금속막에 복수의 마스크 패턴을 형성하고, 마스크 금속막 테두리를 템플릿 크기와 동일하게 커팅하여 마스크를 제조하는 단계;를 포함하는, 마스크 지지 템플릿의 제조 방법에 의해 달성된다.And, the above object of the present invention is a method of manufacturing a mask support template for supporting a mask for forming an OLED pixel to correspond to a frame, comprising: (a) inserting the template into a groove formed in a template support; (b) adhering the mask metal film on at least one surface of the template and the template support in a state in which tensile force is applied in a lateral direction; (c) manufacturing a mask by forming a plurality of mask patterns on the mask metal film and cutting an edge of the mask metal film to have the same size as the template;

(c) 단계 이후, 템플릿 및 템플릿의 일면 상에 접착된 마스크를 템플릿 지지부로부터 분리하는 단계를 더 포함할 수 있다.After step (c), a step of separating the template and the mask adhered on one surface of the template from the template support may be further included.

(b) 단계에서, 마스크에 대응하는 템플릿 및 템플릿 지지부의 일면 상에 임시접착부가 형성될 수 있다.In step (b), a temporary adhesive portion may be formed on one surface of the template corresponding to the mask and the template support.

(b) 단계에서, 마스크 금속막에 대응하는 템플릿 및 템플릿 지지부의 일면 상에 임시접착부가 형성될 수 있다.In step (b), a temporary adhesive portion may be formed on one surface of the template corresponding to the mask metal layer and the template support.

(a) 단계에서, 템플릿 지지부의 홈에 임시접착부가 형성되어 템플릿의 타면이 임시접착부를 개재하여 템플릿 지지부에 접착될 수 있다.In step (a), a temporary adhesive portion is formed in the groove of the template support portion so that the other surface of the template may be adhered to the template support portion via the temporary adhesive portion.

(a) 단계에서, 템플릿과 템플릿 지지부의 정렬을 위한 위치 제어를 더 수행할 수 있다.In step (a), position control for aligning the template and the template support may be further performed.

(a) 단계 이후, 템플릿와 템플릿 지지부의 일면의 높이를 일치시키도록 평탄화 공정을 수행할 수 있다.After step (a), a planarization process may be performed to match the heights of the template and one surface of the template support.

템플릿 지지부는, 베이스판, 및 베이스판의 일면 테두리에 연결되고 중공 영역을 가지는 테두리판을 포함하고, 중공 영역이 템플릿 지지부의 홈에 대응할 수 있다. The template support unit includes a base plate and an edge plate connected to an edge of one surface of the base plate and having a hollow area, and the hollow area may correspond to a groove of the template support unit.

(c) 단계에서, 마스크는 양측에 인장력이 작용된 상태로 템플릿 상에 고정 접착될 수 있다.In step (c), the mask may be fixedly adhered to the template in a state in which tension is applied to both sides.

그리고, 본 발명의 상기의 목적은, 적어도 하나의 마스크와 마스크를 지지하는 프레임이 일체로 형성된 프레임 일체형 마스크의 제조 방법으로서, (a) 템플릿 지지부에 형성된 홈에 템플릿을 삽입하는 단계; (b) 복수의 마스크 패턴이 형성된 마스크를 측면 방향으로 인장력을 가한 상태로, 템플릿 및 템플릿 지지부의 적어도 일면 상에 접착하는 단계; (c) 마스크의 테두리를 템플릿 크기와 동일하게 커팅하는 단계; (d) 적어도 하나의 마스크 셀 영역을 구비한 프레임 상에 템플릿을 로딩하여 마스크를 프레임의 마스크 셀 영역에 대응하는 단계; (e) 마스크를 프레임에 부착하는 단계;를 포함하는, 프레임 일체형 마스크의 제조 방법에 의해 달성된다.And, the above object of the present invention is a method of manufacturing a frame-integrated mask in which at least one mask and a frame supporting the mask are integrally formed, comprising: (a) inserting a template into a groove formed in a template support; (b) adhering the mask on which the plurality of mask patterns are formed on at least one surface of the template and the template support in a state in which tensile force is applied in a lateral direction; (c) cutting the edge of the mask to the same size as the template; (d) loading a template onto a frame having at least one mask cell region so that the mask corresponds to the mask cell region of the frame; (e) attaching the mask to the frame; and a method for manufacturing a frame-integrated mask.

그리고, 본 발명의 상기의 목적은, 적어도 하나의 마스크와 마스크를 지지하는 프레임이 일체로 형성된 프레임 일체형 마스크의 제조 방법으로서, (a) 템플릿 지지부에 형성된 홈에 템플릿을 삽입하는 단계; (b) 마스크 금속막을 측면 방향으로 인장력을 가한 상태로, 템플릿 및 템플릿 지지부의 적어도 일면 상에 접착하는 단계; (c) 마스크 금속막에 복수의 마스크 패턴을 형성하고, 마스크 금속막 테두리를 템플릿 크기와 동일하게 커팅하여 마스크를 제조하는 단계; (d) 적어도 하나의 마스크 셀 영역을 구비한 프레임 상에 템플릿을 로딩하여 마스크를 프레임의 마스크 셀 영역에 대응하는 단계; (e) 마스크를 프레임에 부착하는 단계;를 포함하는, 프레임 일체형 마스크의 제조 방법에 의해 달성된다.And, the above object of the present invention is a method of manufacturing a frame-integrated mask in which at least one mask and a frame supporting the mask are integrally formed, comprising: (a) inserting a template into a groove formed in a template support; (b) adhering the mask metal film on at least one surface of the template and the template support in a state in which tensile force is applied in a lateral direction; (c) manufacturing a mask by forming a plurality of mask patterns on the mask metal film and cutting an edge of the mask metal film to have the same size as the template; (d) loading a template onto a frame having at least one mask cell region so that the mask corresponds to the mask cell region of the frame; (e) attaching the mask to the frame; and a method for manufacturing a frame-integrated mask.

(d) 단계에서, 마스크는 양측에 인장력이 작용된 상태로 템플릿 상에 고정 접착되어, 템플릿의 위치 제어로만 템플릿 상의 마스크를 마스크 셀 영역에 대응할 수 있다.In step (d), the mask is fixedly adhered to the template with tension applied to both sides, and the mask on the template can correspond to the mask cell region only by controlling the position of the template.

(e) 단계 이후, 임시접착부에 열 인가, 화학적 처리, 초음파 인가, UV 인가 중 적어도 어느 하나를 수행하여, 마스크와 템플릿을 분리할 수 있다.After step (e), at least one of heat, chemical treatment, ultrasonic, and UV may be applied to the temporary adhesive to separate the mask and the template.

마스크로부터 템플릿이 분리되면, 마스크에 작용된 인장력이 프레임에 인가될 수 있다.When the template is separated from the mask, the tensile force applied to the mask may be applied to the frame.

그리고, 본 발명의 상기의 목적은, 적어도 하나의 마스크와 마스크를 지지하는 프레임이 일체로 형성된 프레임 일체형 마스크의 제조 방법으로서, (a) 적어도 하나의 마스크 셀 영역을 구비한 프레임 상에, 상기 제조 방법으로 제조한 템플릿을 로딩하여 마스크를 프레임의 마스크 셀 영역에 대응하는 단계; 및 (b) 마스크를 프레임에 부착하는 단계를 포함하는, 프레임 일체형 마스크의 제조 방법에 의해 달성된다.And, the above object of the present invention is a method of manufacturing a frame-integrated mask in which at least one mask and a frame supporting the mask are integrally formed, (a) on a frame having at least one mask cell region, loading the template manufactured by the method to correspond the mask to the mask cell region of the frame; and (b) attaching the mask to the frame.

상기와 같이 구성된 본 발명에 따르면, 복수의 마스크 지지 템플릿을 프레임에 동시에 대응하고 부착시킬 수 있는 효과가 있다.According to the present invention configured as described above, there is an effect of simultaneously corresponding to and attaching a plurality of mask support templates to the frame.

또한, 본 발명에 따르면, 마스크를 변형없이 안정적으로 지지 및 이동이 가능하고, 마스크가 쳐지거나 뒤틀리는 등의 변형을 방지하고 정렬을 명확하게 할 수 있는 효과가 있다.In addition, according to the present invention, the mask can be stably supported and moved without deformation, and deformation such as sagging or twisting of the mask can be prevented and alignment can be made clear.

또한, 본 발명에 따르면, 제조시간을 현저하게 감축시키고, 수율을 현저하게 상승시킬 수 있는 효과가 있다.In addition, according to the present invention, there is an effect of significantly reducing the manufacturing time and significantly increasing the yield.

물론 이러한 효과에 의해 본 발명의 범위가 한정되는 것은 아니다.Of course, the scope of the present invention is not limited by these effects.

도 1은 종래의 마스크를 프레임에 부착하는 과정을 나타내는 개략도이다.
도 2는 본 발명의 일 실시예에 따른 프레임 일체형 마스크를 나타내는 정면도 및 측단면도이다.
도 3은 본 발명의 일 실시예에 따른 마스크 및 비교예에 따른 마스크 지지 템플릿을 나타내는 개략 평면도 및 측단면도이다.
도 4는 비교예에 따른 마스크 지지 템플릿을 프레임 상에 로딩하는 과정을 나타내는 개략도이다.
도 5 내지 도 6은 본 발명의 일 실시예에 따른 마스크 지지 템플릿을 제조하는 과정을 나타내는 개략도이다.
도 7은 본 발명의 다른 실시예에 따른 마스크 지지 템플릿을 제조하는 과정을 나타내는 개략도이다.
도 8은 본 발명의 다른 실시예에 따른 템플릿 지지부를 나타내는 개략도이다.
도 9는 본 발명의 일 실시예에 따른 마스크 지지 템플릿을 프레임 상에 로딩하는 과정을 나타내는 개략도이다.
도 10은 본 발명의 일 실시예에 따른 템플릿을 프레임 상에 로딩하여 마스크를 프레임의 셀 영역에 대응시키는 상태를 나타내는 개략도이다.
도 11은 본 발명의 일 실시예에 따른 마스크를 프레임에 부착한 후 마스크와 템플릿을 분리하는 과정을 나타내는 개략도이다.
도 12는 본 발명의 일 실시예에 따른 마스크를 프레임에 부착한 상태를 나타내는 개략도이다.
도 13은 본 발명의 일 실시예에 따른 프레임 일체형 마스크를 이용한 OLED 화소 증착 장치를 나타내는 개략도이다.1 is a schematic diagram showing a conventional process of attaching a mask to a frame.
2 is a front view and a side cross-sectional view illustrating a frame-integrated mask according to an embodiment of the present invention.
3 is a schematic plan view and side cross-sectional view illustrating a mask according to an embodiment of the present invention and a mask support template according to a comparative example.
4 is a schematic diagram illustrating a process of loading a mask support template onto a frame according to a comparative example.
5 and 6 are schematic views illustrating a process of manufacturing a mask support template according to an embodiment of the present invention.
7 is a schematic diagram illustrating a process of manufacturing a mask support template according to another embodiment of the present invention.
8 is a schematic diagram showing a template support unit according to another embodiment of the present invention.
9 is a schematic diagram illustrating a process of loading a mask support template onto a frame according to an embodiment of the present invention.
10 is a schematic diagram illustrating a state in which a mask corresponds to a cell region of a frame by loading a template onto a frame according to an embodiment of the present invention.
11 is a schematic diagram illustrating a process of separating a mask and a template after attaching a mask to a frame according to an embodiment of the present invention.
12 is a schematic diagram showing a state in which a mask is attached to a frame according to an embodiment of the present invention.
13 is a schematic diagram showing an OLED pixel deposition apparatus using a frame-integrated mask according to an embodiment of the present invention.

후술하는 본 발명에 대한 상세한 설명은, 본 발명이 실시될 수 있는 특정 실시예를 예시로서 도시하는 첨부 도면을 참조한다. 이들 실시예는 당업자가 본 발명을 실시할 수 있기에 충분하도록 상세히 설명된다. 본 발명의 다양한 실시예는 서로 다르지만 상호 배타적일 필요는 없음이 이해되어야 한다. 예를 들어, 여기에 기재되어 있는 특정 형상, 구조 및 특성은 일 실시예에 관련하여 본 발명의 정신 및 범위를 벗어나지 않으면서 다른 실시예로 구현될 수 있다. 또한, 각각의 개시된 실시예 내의 개별 구성요소의 위치 또는 배치는 본 발명의 정신 및 범위를 벗어나지 않으면서 변경될 수 있음이 이해되어야 한다. 따라서, 후술하는 상세한 설명은 한정적인 의미로서 취하려는 것이 아니며, 본 발명의 범위는, 적절하게 설명된다면, 그 청구항들이 주장하는 것과 균등한 모든 범위와 더불어 첨부된 청구항에 의해서만 한정된다. 도면에서 유사한 참조부호는 여러 측면에 걸쳐서 동일하거나 유사한 기능을 지칭하며, 길이 및 면적, 두께 등과 그 형태는 편의를 위하여 과장되어 표현될 수도 있다.DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS The detailed description of the present invention which follows refers to the accompanying drawings which illustrate, by way of illustration, specific embodiments in which the present invention may be practiced. These embodiments are described in sufficient detail to enable one skilled in the art to practice the present invention. It should be understood that the various embodiments of the present invention are different from each other but are not necessarily mutually exclusive. For example, specific shapes, structures, and characteristics described herein may be implemented in one embodiment in another embodiment without departing from the spirit and scope of the invention. Additionally, it should be understood that the location or arrangement of individual components within each disclosed embodiment may be changed without departing from the spirit and scope of the invention. Accordingly, the detailed description set forth below is not to be taken in a limiting sense, and the scope of the present invention, if properly described, is limited only by the appended claims, along with all equivalents as claimed by those claims. Similar reference numerals in the drawings indicate the same or similar functions in various aspects, and the length, area, thickness, and the like may be exaggerated for convenience.

이하에서는, 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자가 본 발명을 용이하게 실시할 수 있도록 하기 위하여, 본 발명의 바람직한 실시예들에 관하여 첨부된 도면을 참조하여 상세히 설명하기로 한다.Hereinafter, preferred embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings so that those skilled in the art can easily practice the present invention.

도 1은 종래의 마스크(10)를 프레임(20)에 부착하는 과정을 나타내는 개략도이다.1 is a schematic diagram showing a process of attaching a conventional mask 10 to a frame 20.

종래의 마스크(10)는 스틱형(Stick-Type) 또는 판형(Plate-Type)이며, 도 1의 스틱형 마스크(10)는 스틱의 양측을 OLED 화소 증착 프레임에 용접 고정시켜 사용할 수 있다. 마스크(10)의 바디(Body)[또는, 마스크 막(11)]에는 복수의 디스플레이 셀(C)이 구비된다. 하나의 셀(C)은 스마트폰 등의 디스플레이 하나에 대응한다. 셀(C)에는 디스플레이의 각 화소에 대응하도록 화소 패턴(P)이 형성된다.The conventional mask 10 is a stick-type or plate-type, and the stick-type mask 10 of FIG. 1 can be used by welding both sides of the stick to the OLED pixel deposition frame. A plurality of display cells C are provided on the body of the mask 10 (or the mask layer 11 ). One cell C corresponds to one display of a smartphone or the like. A pixel pattern P is formed in the cell C to correspond to each pixel of the display.

도 1의 (a)를 참조하면, 스틱 마스크(10)의 장축 방향으로 인장력(F1~F2)을 가하여 편 상태로 사각틀 형태의 프레임(20) 상에 스틱 마스크(10)를 로딩한다. 스틱 마스크(10)의 셀(C1~C6)들은 프레임(20)의 틀 내부 빈 영역 부분에 위치하게 된다.Referring to (a) of FIG. 1 , the stick mask 10 is loaded on the square frame-shaped frame 20 in a stretched state by applying tensile forces F1 to F2 in the direction of the long axis of the stick mask 10 . The cells C1 to C6 of the stick mask 10 are positioned in the blank area inside the frame 20 .

도 1의 (b)를 참조하면, 스틱 마스크(10)의 각 측에 가하는 인장력(F1~F2)을 미세하게 조절하면서 정렬을 시킨 후, 스틱 마스크(10) 측면의 일부를 용접(W)함에 따라 스틱 마스크(10)와 프레임(20)을 상호 연결한다. 도 1의 (c)는 상호 연결된 스틱 마스크(10)와 프레임의 측단면을 나타낸다.Referring to (b) of FIG. 1, after aligning while finely adjusting the tensile forces (F1 to F2) applied to each side of the stick mask 10, welding (W) a part of the side of the stick mask 10 Accordingly, the stick mask 10 and the frame 20 are interconnected. 1(c) shows a cross-sectional side view of the frame and the stick mask 10 connected to each other.

스틱 마스크(10)의 각 측에 가하는 인장력(F1~F2)을 미세하게 조절함에도 불구하고, 마스크 셀(C1~C3)들의 상호간에 정렬이 잘 되지 않는 문제점이 나타난다. 가령, 셀(C1~C6)들의 패턴 간에 거리가 상호 다르게 되거나, 패턴(P)들이 비뚤어지는 것이 그 예이다. 스틱 마스크(10)는 복수의 셀(C1~C6)을 포함하는 대면적이고, 수십 ㎛ 수준의 매우 얇은 두께를 가지기 때문에, 하중에 의해 쉽게 쳐지거나 뒤틀어지게 된다. 또한, 각 셀(C1~C6)들을 모두 평평하게 하도록 인장력(F1~F2)을 조절하면서, 각 셀(C1~C6)들간의 정렬 상태를 현미경을 통해 실시간으로 확인하는 것은 매우 어려운 작업이다. 크기가 수 내지 수십 ㎛인 마스크 패턴(P)이 초고화질 OLED의 화소 공정에 악영향을 미치지 않도록 하기 위해서는, 정렬 오차가 3㎛를 초과하지 않는 것이 바람직하다. 이렇게 인접하는 셀 사이의 정렬 오차를 PPA(pixel position accuracy)라 지칭한다.Although the tensile forces F1 to F2 applied to each side of the stick mask 10 are finely adjusted, there is a problem in that the mask cells C1 to C3 are not well aligned with each other. For example, an example is that the distances between the patterns of the cells C1 to C6 are different from each other or the patterns P are distorted. Since the stick mask 10 has a large area including a plurality of cells C1 to C6 and has a very thin thickness of several tens of μm, it is easily hit or distorted by a load. In addition, it is very difficult to check the alignment between the cells C1 to C6 in real time through a microscope while adjusting the tensile force F1 to F2 to flatten each cell C1 to C6. In order to prevent the mask pattern P having a size of several to several tens of μm from adversely affecting the pixel process of the ultra-high-definition OLED, it is preferable that the alignment error does not exceed 3 μm. This alignment error between adjacent cells is referred to as pixel position accuracy (PPA).

이에 더하여, 복수의 스틱 마스크(10)들을 프레임(20) 하나에 각각 연결하면서, 복수의 스틱 마스크(10)들간에, 그리고 스틱 마스크(10)의 복수의 셀(C~C6)들간에 정렬 상태를 명확히 하는 것도 매우 어려운 작업이고, 정렬에 따른 공정 시간이 증가할 수밖에 없게 되어 생산성을 감축시키는 중대한 이유가 된다.In addition to this, while connecting the plurality of stick masks 10 to one frame 20, respectively, a state of alignment between the plurality of stick masks 10 and between the plurality of cells C to C6 of the stick mask 10 It is also a very difficult task to clarify, and the process time for alignment inevitably increases, which is a significant reason for reducing productivity.

한편, 스틱 마스크(10)를 프레임(20)에 연결 고정시킨 후에는, 스틱 마스크(10)에 가해졌던 인장력(F1~F2)이 프레임(20)에 역으로 장력(tension)을 작용할 수 있다. 이러한 장력이 프레임(20)을 미세하게 변형시킬 수 있고, 복수의 셀(C~C6)들간에 정렬 상태가 틀어지는 문제가 발생할 수 있다.Meanwhile, after the stick mask 10 is connected and fixed to the frame 20, the tensile forces F1 to F2 applied to the stick mask 10 may act reversely to the frame 20 as tension. Such tension may slightly deform the frame 20, and a problem in which alignment between the plurality of cells C to C6 may be distorted may occur.

이에, 본 발명은 마스크(100)가 프레임(200)과 일체형 구조를 이룰 수 있게 하는 프레임(200) 및 프레임 일체형 마스크를 제안한다. 프레임(200)에 일체로 형성되는 마스크(100)는 쳐지거나 뒤틀리는 등의 변형이 방지되고, 프레임(200)에 명확히 정렬될 수 있다.Accordingly, the present invention proposes a frame 200 and a frame-integrated mask enabling the mask 100 to form an integral structure with the frame 200 . The mask 100 integrally formed with the frame 200 can be prevented from deformation such as sagging or twisting, and can be clearly aligned with the frame 200 .

도 2는 본 발명의 일 실시예에 따른 프레임 일체형 마스크를 나타내는 정면도[도 2의 (a)] 및 측단면도[도 2의 (b)]이다.2 is a front view (FIG. 2 (a)) and a side cross-sectional view (FIG. 2 (b)) showing a frame-integrated mask according to an embodiment of the present invention.

본 명세서에서는 아래에서 프레임 일체형 마스크의 구성을 간단히 설명하나, 프레임 일체형 마스크의 구조, 제조 과정은 한국특허출원 제2018-0016186호의 내용이 전체로서 산입된 것으로 이해될 수 있다.In this specification, the configuration of the frame-integrated mask is briefly described below, but it can be understood that the structure and manufacturing process of the frame-integrated mask are incorporated in the Korean Patent Application No. 2018-0016186 as a whole.

도 2를 참조하면, 프레임 일체형 마스크는, 복수의 마스크(100) 및 하나의 프레임(200)을 포함할 수 있다. 다시 말해, 복수의 마스크(100)들을 각각 하나씩 프레임(200)에 부착한 형태이다. 이하에서는, 설명의 편의상 사각 형태의 마스크(100)를 예로 들어 설명하나, 마스크(100)들은 프레임(200)에 부착되기 전에는 양측에 클램핑되는 돌출부를 구비한 스틱 마스크 형태일 수 있으며, 프레임(200)에 부착된 후에 돌출부가 제거될 수 있다.Referring to FIG. 2 , a frame-integrated mask may include a plurality of masks 100 and one frame 200 . In other words, it is a form in which a plurality of masks 100 are attached to the frame 200 one by one. Hereinafter, for convenience of description, a square mask 100 will be described as an example, but the masks 100 may be in the form of a stick mask having protrusions clamped on both sides before being attached to the frame 200, and the frame 200 ), then the protrusion can be removed.

각각의 마스크(100)에는 복수의 마스크 패턴(P)이 형성되며, 하나의 마스크(100)에는 하나의 셀(C)이 형성될 수 있다. 하나의 마스크 셀(C)은 스마트폰 등의 디스플레이 하나에 대응할 수 있다.A plurality of mask patterns P may be formed on each mask 100 , and one cell C may be formed on one mask 100 . One mask cell C may correspond to one display of a smartphone or the like.

마스크(100)는 인바(invar), 슈퍼 인바(super invar), 니켈(Ni), 니켈-코발트(Ni-Co) 등의 재질일 수도 있다. 마스크(100)는 압연(rolling) 공정 또는 전주 도금(electroforming)으로 생성한 금속 시트(sheet)를 사용할 수 있다.The mask 100 may be made of a material such as invar, super invar, nickel (Ni), or nickel-cobalt (Ni-Co). The mask 100 may use a metal sheet produced by a rolling process or electroforming.

프레임(200)은 복수의 마스크(100)를 부착시킬 수 있도록 형성된다. 프레임(200)은 열변형을 고려하여 마스크와 동일한 재질로 구성되는 것이 바람직하다. 프레임(200)은 대략 사각 형상, 사각틀 형상의 테두리 프레임부(210)를 포함할 수 있다. 테두리 프레임부(210)의 내부는 중공 형태일 수 있다.The frame 200 is formed to attach a plurality of masks 100 thereto. The frame 200 is preferably made of the same material as the mask in consideration of thermal deformation. The frame 200 may include an edge frame portion 210 having a substantially rectangular shape or a rectangular frame shape. The inside of the edge frame unit 210 may be hollow.

이에 더하여, 프레임(200)은 복수의 마스크 셀 영역(CR)을 구비하며, 테두리 프레임부(210)에 연결되는 마스크 셀 시트부(220)를 포함할 수 있다. 마스크 셀 시트부(220)는 테두리 시트부(221) 및 제1, 2 그리드 시트부(223, 225)로 구성될 수 있다. 테두리 시트부(221) 및 제1, 2 그리드 시트부(223, 225)는 동일한 시트에서 구획된 각 부분을 지칭하며, 이들은 상호간에 일체로 형성된다.In addition, the frame 200 may include a plurality of mask cell regions CR, and may include a mask cell sheet portion 220 connected to the edge frame portion 210 . The mask cell sheet portion 220 may include an edge sheet portion 221 and first and second grid sheet portions 223 and 225 . The edge sheet portion 221 and the first and second grid sheet portions 223 and 225 refer to portions partitioned from the same sheet, and are integrally formed with each other.

테두리 프레임부(210)의 두께는 마스크 셀 시트부(220)의 두께보다 두꺼운 수mm 내지 수cm의 두께로 형성될 수 있다. 마스크 셀 시트부(220)는 테두리 프레임부(210)의 두께보다는 얇지만, 마스크(100)보다는 두꺼운 약 0.1mm 내지 1mm 정도로 두께일 수 있다. 제1, 2 그리드 시트부(223, 225)의 폭은 약 1~5mm 정도로 형성될 수 있다.The edge frame portion 210 may be formed to a thickness of several mm to several cm thicker than the thickness of the mask cell sheet portion 220 . The mask cell sheet portion 220 may have a thickness of about 0.1 mm to 1 mm, which is thinner than the thickness of the edge frame portion 210 but thicker than the mask 100 . The first and second grid sheet portions 223 and 225 may have a width of about 1 to 5 mm.

평면의 시트에서 테두리 시트부(221), 제1, 2 그리드 시트부(223, 225)가 점유하는 영역을 제외하여, 복수의 마스크 셀 영역(CR: CR11~CR56)이 제공될 수 있다. In the flat sheet, a plurality of mask cell regions CR (CR11 to CR56) may be provided except for regions occupied by the edge sheet portion 221 and the first and second grid sheet portions 223 and 225 .

프레임(200)은 복수의 마스크 셀 영역(CR)을 구비하고, 각각의 마스크(100)는 각각 하나의 마스크 셀(C)이 마스크 셀 영역(CR)에 대응되도록 부착될 수 있다. 마스크 셀(C)은 프레임(200)의 마스크 셀 영역(CR)에 대응하고, 더미의 일부 또는 전부가 프레임(200)[마스크 셀 시트부(220)]에 부착될 수 있다. 이에 따라, 마스크(100)와 프레임(200)이 일체형 구조를 이룰 수 있게 된다.The frame 200 includes a plurality of mask cell regions CR, and each mask 100 may be attached such that one mask cell C corresponds to the mask cell region CR. The mask cell C corresponds to the mask cell region CR of the frame 200, and part or all of the dummy may be attached to the frame 200 (mask cell sheet portion 220). Accordingly, the mask 100 and the frame 200 can form an integral structure.

도 3은 본 발명의 일 실시예에 따른 마스크(100) 및 비교예에 따른 마스크 지지 템플릿(50')을 나타내는 개략 평면도 및 측단면도이다.3 is a schematic plan view and side cross-sectional view showing a mask 100 according to an embodiment of the present invention and a mask support template 50' according to a comparative example.

도 3의 (a) 및 (b)를 참조하면, 마스크(100)는 복수의 마스크 패턴(P)이 형성된 마스크 셀(C) 및 마스크 셀(C) 주변의 더미(DM)를 포함할 수 있다. 압연 공정, 전주 도금 등으로 생성한 금속 시트로 마스크(100)를 제조할 수 있고, 마스크(100)에는 하나의 셀(C)이 형성될 수 있다. 더미(DM)는 셀(C)을 제외한 마스크 막(110)[마스크 금속막(110)] 부분에 대응하고, 마스크 막(110)만을 포함하거나, 마스크 패턴(P)과 유사한 형태의 소정의 더미 패턴이 형성된 마스크 막(110)을 포함할 수 있다. 더미(DM)는 마스크(100)의 테두리에 대응하여 더미(DM)의 일부 또는 전부가 프레임(200)[마스크 셀 시트부(220)]에 부착될 수 있다.Referring to (a) and (b) of FIG. 3 , the mask 100 may include mask cells C on which a plurality of mask patterns P are formed and dummy DMs around the mask cells C. . The mask 100 may be manufactured from a metal sheet produced through a rolling process, electroplating, or the like, and one cell C may be formed in the mask 100 . The dummy DM corresponds to a portion of the mask film 110 (mask metal film 110) excluding the cell C, and includes only the mask film 110 or a predetermined dummy having a shape similar to that of the mask pattern P. A patterned mask layer 110 may be included. A part or all of the dummy DM may be attached to the frame 200 (mask cell sheet portion 220) corresponding to the edge of the mask 100.

마스크 패턴(P)의 폭은 40㎛보다 작게 형성될 수 있고, 마스크(100)의 두께는 약 5~20㎛로 형성될 수 있다. 프레임(200)이 복수의 마스크 셀 영역(CR: CR11~CR56)을 구비하므로, 각각의 마스크 셀 영역(CR: CR11~CR56)에 대응하는 마스크 셀(C: C11~C56)을 가지는 마스크(100)도 복수개 구비할 수 있다.The width of the mask pattern P may be less than 40 μm, and the thickness of the mask 100 may be about 5 μm to 20 μm. Since the frame 200 includes a plurality of mask cell regions (CR: CR11 to CR56), the mask 100 has mask cells (C: C11 to C56) corresponding to each of the mask cell regions (CR: CR11 to CR56). ) may also be provided with a plurality.

도 3의 (b)를 참조하면, 비교예에 따른 템플릿(50')의 일면 상에 마스크(100)가 부착되어 지지된 상태로 이동할 수 있다. 템플릿(50)' 중심부는 마스크 금속막(110)의 마스크 셀(C)에 대응하고, 테두리부는 마스크 금속막(110)의 더미(DM)에 대응할 수 있다. 마스크 금속막(110)이 전체적으로 지지될 수 있도록 템플릿(50')의 크기는 마스크 금속막(110)보다 면적이 큰 평판 형상이다. Referring to (b) of FIG. 3 , the mask 100 may be attached to one surface of the template 50' according to the comparative example and moved in a supported state. A central portion of the template 50 may correspond to the mask cell C of the mask metal layer 110 , and an edge portion may correspond to the dummy DM of the mask metal layer 110 . The size of the template 50 ′ is a flat plate shape having a larger area than the mask metal layer 110 so that the mask metal layer 110 can be supported as a whole.

템플릿(50')은 템플릿(50')의 상부에서 조사하는 레이저(L)가 마스크(100)의 용접부(용접을 수행할 영역, WP)에까지 도달할 수 있도록, 템플릿(50')에는 레이저 통과공(51')이 형성될 수 있다. 레이저 통과공(51')은 용접부(WP)의 위치 및 개수에 대응하도록 템플릿(50)에 형성될 수 있다.The template 50' has a laser pass through the template 50' so that the laser L irradiated from the top of the template 50' can reach the welding part (region to be welded, WP) of the mask 100. A ball 51' may be formed. The laser pass-through hole 51' may be formed in the template 50 to correspond to the location and number of welded parts WP.

템플릿(50')의 일면에는 임시접착부(55')가 형성될 수 있다. 임시접착부(55')는 마스크(100)가 프레임(200)에 부착되기 전까지 마스크(100)[또는, 마스크 금속막(110)]이 임시로 템플릿(50')의 일면에 접착되어 템플릿(50') 상에 지지되도록 할 수 있다.A temporary adhesive portion 55' may be formed on one surface of the template 50'. The temporary adhesive portion 55' temporarily adheres the mask 100 (or the mask metal film 110) to one surface of the template 50' until the mask 100 is attached to the frame 200. ') can be supported on.

도 4는 비교예에 따른 마스크 지지 템플릿(50')을 프레임(200) 상에 로딩하는 과정을 나타내는 개략도이다.4 is a schematic diagram illustrating a process of loading a mask support template 50' on a frame 200 according to a comparative example.

도 4를 참조하면, 템플릿(50')은 진공 척(90)에 의해 이송될 수 있다. 진공 척(90)으로 마스크(100)가 접착된 템플릿(50') 면의 반대 면을 흡착하여 이송할 수 있다.Referring to FIG. 4 , the template 50' may be transferred by the vacuum chuck 90. The surface opposite to the surface of the template 50' to which the mask 100 is attached may be suctioned and transferred by the vacuum chuck 90.

마스크(100)를 프레임(200)의 하나의 마스크 셀 영역(CR)에 대응할 수 있다. 템플릿(50')을 프레임(200)[또는, 마스크 셀 시트부(220)] 상에 로딩하는 것으로 마스크(100)를 마스크 셀 영역(CR)에 대응시킬 수 있다.The mask 100 may correspond to one mask cell region CR of the frame 200 . By loading the template 50' on the frame 200 (or the mask cell sheet portion 220), the mask 100 may correspond to the mask cell region CR.

이어서, 마스크(100)에 레이저(L)를 조사하여 레이저 용접에 의해 마스크(100)를 프레임(200)에 접착할 수 있다. 레이저 용접된 마스크의 용접부 부분에는 용접 비드(WB)가 생성되고, 용접 비드(WB)는 마스크(100)/프레임(200)과 동일한 재질을 가지고 일체로 연결될 수 있다.Next, the mask 100 may be irradiated with a laser L to adhere the mask 100 to the frame 200 by laser welding. A welding bead WB is generated at the weld portion of the laser-welded mask, and the welding bead WB has the same material as the mask 100/frame 200 and may be integrally connected.

하나의 마스크(100)를 하나의 마스크 셀 영역(CR)에 대응시키고 레이저(L)를 조사하여 마스크(100)를 프레임(200)에 접착하는 과정을 반복적으로 수행하여 모든 마스크 셀 영역(CR)에 각각 마스크(100)를 접착할 수 있다. 하지만, 마스크(100)가 용접에 의해 프레임(200)에 접착된 후에 해당 마스크(100) 주변의 마스크 셀 시트부(220)에 인장력을 작용하게 될 수 있다. 이에 의해 마스크 셀 시트부(220)가 미세하게 변형되어, 다음 순번의 마스크(100)를 접착하려고 할때 정렬에 악영향을 미칠 수 있다.One mask 100 corresponds to one mask cell region CR, and a process of attaching the mask 100 to the frame 200 by irradiating a laser L is repeatedly performed so that all mask cell regions CR It is possible to attach the mask 100 to each. However, after the mask 100 is attached to the frame 200 by welding, a tensile force may be applied to the mask cell sheet portion 220 around the mask 100 . As a result, the mask cell sheet portion 220 is deformed minutely, and may adversely affect alignment when trying to attach the mask 100 in the next turn.

따라서, 마스크(100)를 하나씩 마스크 셀 영역(CR)에 대응/접착하는 것보다는 모든 마스크(100)를 모든 마스크 셀 영역(CR)에 동시에 대응시키고 접착하는 것이 바람직하게 요구될 수 있다. 이렇게 동시에 마스크(100)를 마스크 셀 영역(CR)에 대응하기 위해서는 마스크(100)가 지지접착된 템플릿(50')들이 프레임(200) 상에 복수개가 로딩되어야 한다. 하지만, 도 4에 도시된 바와 같이, 템플릿(50')은 마스크(100)보다 넓은 면적으로 형성되기 때문에, 이웃하는 템플릿(50') 간에 상호 중첩되는 영역(OR)으로 인한 간섭이 발생하는 문제점이 있었다. 복수의 템플릿(50')을 프레임(200) 상에 나란히 대응시키기가 어려운 것이다. 제1, 2 그리드 시트부(223, 225)의 폭은 약 1~5mm 정도에 불과하므로, 마스크(100)와 템플릿(50')의 일측 길이의 차이는 그 1/2인 약 0.5~2.5mm보다도 적어야 한다. 위 치수 차이를 만족시키면서 템플릿(50') 상에서 마스크 패턴(P)을 가지는 마스크(100)를 제조하는 공정을 수행하기는 대단히 어렵다.Therefore, it may be desirable to simultaneously correspond to and adhere all the masks 100 to all the mask cell regions CR, rather than to correspond/attach the masks 100 to the mask cell regions CR one by one. In order to simultaneously correspond the mask 100 to the mask cell region CR, a plurality of templates 50 ′ to which the mask 100 is supported and adhered must be loaded onto the frame 200 . However, as shown in FIG. 4, since the template 50' is formed with a larger area than the mask 100, interference occurs between adjacent templates 50' due to mutually overlapping regions OR. there was It is difficult to match the plurality of templates 50' side by side on the frame 200. Since the width of the first and second grid sheet portions 223 and 225 is only about 1 to 5 mm, the difference between the length of one side of the mask 100 and the template 50' is about 0.5 to 2.5 mm, which is 1/2 of that length. should be less than It is very difficult to perform a process of manufacturing the mask 100 having the mask pattern P on the template 50' while satisfying the above dimensional difference.

이에 따라, 마스크(100)의 면적과 동일한 템플릿(50)을 구성하는 것이 제안된다. 하지만, 마스크 금속막(110)에 마스크 패턴(P)을 형성하는 공정을 마스크 금속막(110)과 동일한 면적의 템플릿(50)에서 곧바로 수행하는 경우, 마스크 패턴(P)과 템플릿(50)의 정렬이 어긋나는 문제가 발생하고, 템플릿(50)의 레이저 통과공(51)과 마스크(100)의 더미(DM)[또는, 용접부(WP)]의 정렬이 맞지 않는 문제도 발생한다. 또한, 마스크 금속막(110)에 마스크 패턴(P)을 형성한 후 모서리 부분을 커팅하여 도 3의 (a)와 같은 마스크(100)를 완성해야 하는데, 마스크(100)와 동일한 면적을 가지는 템플릿(50)에서 모서리 부분을 커팅하는 것은 어려운 문제가 있다.Accordingly, it is proposed to configure the template 50 equal to the area of the mask 100 . However, when the process of forming the mask pattern P on the mask metal film 110 is directly performed on the template 50 having the same area as the mask metal film 110, the mask pattern P and the template 50 A problem of misalignment occurs, and a problem of misalignment between the laser pass-through hole 51 of the template 50 and the dummy DM (or welded part WP) of the mask 100 also occurs. In addition, after forming the mask pattern P on the mask metal film 110, it is necessary to cut the corners to complete the mask 100 as shown in (a) of FIG. 3, a template having the same area as the mask 100. Cutting the corner portion in (50) is a difficult problem.

이 문제를 해결하기 위해, 마스크(100)를 소정의 기판 상에서 제조한 후 마스크(100)와 동일한 크기의 템플릿(50)에 전사(transfer)하는 방식을 고려할 수 있다. 하지만, 마스크(100)를 전사하는 과정에서 마스크(100)에 결함이 생기거나, 마스크(100)에 구김, 변형이 생겨 템플릿(50)과 정렬이 어긋나거나, 마스크(100)와 템플릿(50) 사이에 이물질이 개재되는 등으로 인해 제품이 불량률이 늘어나는 문제점이 다시 발생하였다.In order to solve this problem, a method of manufacturing the mask 100 on a predetermined substrate and then transferring it to a template 50 having the same size as the mask 100 may be considered. However, in the process of transferring the mask 100, the mask 100 is defective, or the mask 100 is wrinkled or deformed, resulting in misalignment with the template 50, or the mask 100 and the template 50. The problem of increasing the defective rate of the product due to the interposition of foreign substances in between occurred again.

따라서, 본 발명은 템플릿 지지부(60)에 템플릿(50)을 삽입한 상태에서 템플릿(50)과 동일한 면적의 마스크(100)를 제조하는 것을 특징으로 한다. 보다 구체적으로, 본 발명은 템플릿 지지부(60)에 템플릿(50)을 삽입하고, 템플릿 지지부(60)와 템플릿(50) 상에 마스크 금속막(110)을 접착한 후, 마스크 금속막(110)에 마스크 패턴(P)을 형성하고 마스크 금속막(110) 테두리 부분을 커팅하여 템플릿(50)의 크기와 동일한 마스크(100)를 제조하는 것을 특징으로 한다.Accordingly, the present invention is characterized in that the mask 100 having the same area as the template 50 is manufactured in a state in which the template 50 is inserted into the template support 60 . More specifically, the present invention inserts the template 50 into the template support 60, adheres the mask metal film 110 on the template support 60 and the template 50, and then forms the mask metal film 110. It is characterized in that the mask 100 having the same size as the size of the template 50 is manufactured by forming a mask pattern P on and cutting the edge portion of the mask metal film 110.

도 5 내지 도 6은 본 발명의 일 실시예에 따른 마스크 지지 템플릿(50)을 제조하는 과정을 나타내는 개략도이다.5 and 6 are schematic diagrams illustrating a process of manufacturing a mask support template 50 according to an embodiment of the present invention.

도 5의 (a)를 참조하면, 템플릿 지지부(60)를 준비할 수 있다. 템플릿 지지부(60)는 템플릿(template; 50)이 삽입되는 홈(64)이 형성될 수 있다. 홈(64)의 너비, 높이는 템플릿(50)에 대응하도록 형성될 수 있다. 템플릿(50)을 홈(64)에 수용할 수 있도록, 템플릿 지지부(60)는 크기, 높이는 템플릿(50)보다 커야함은 물론이다. 또한, 열적거동이 유사하도록 템플릿 지지부(60)는 템플릿(50)과 동일한 재질, 동일한 열팽창 계수를 가지는 재질을 채용할 수 있다.Referring to (a) of FIG. 5 , a template support 60 may be prepared. The template support 60 may have a groove 64 into which a template 50 is inserted. The width and height of the groove 64 may be formed to correspond to the template 50 . Needless to say, the size and height of the template support 60 must be greater than that of the template 50 so that the template 50 can be accommodated in the groove 64 . In addition, the template support 60 may be made of the same material as the template 50 and a material having the same thermal expansion coefficient so that the thermal behavior is similar.

한편, 홈(64)의 적어도 일부에는 템플릿(50)이 삽입된 후에 접착 고정될 수 있도록 임시접착부(65)가 형성될 수 있다. 임시접착부(65)는 후술할 템플릿(50)의 임시접착부(55)와 동일한 재질을 사용할 수 있으며, 바람직하게는, UV 조사에 의해 분리가 가능한 접착시트(UV release tape; URT)를 사용할 수 있다. 임시접착부(65)로 URT를 쓰는 경우 UV를 특정 영역에만 조사하여 분리를 수행할 수 있으므로, 추후 템플릿(50)을 템플릿 지지부(60)로부터 분리하기 용이한 이점이 있다.Meanwhile, a temporary adhesive portion 65 may be formed in at least a portion of the groove 64 so that the template 50 may be adhesively fixed after being inserted. The temporary adhesive portion 65 may use the same material as the temporary adhesive portion 55 of the template 50 to be described later, and preferably, may use an adhesive sheet (UV release tape; URT) that can be separated by UV irradiation. . When the URT is used as the temporary adhesive portion 65, since separation can be performed by irradiating UV light only to a specific area, there is an advantage in that the template 50 can be easily separated from the template support portion 60 later.

다음으로, 도 5의 (b)를 참조하면, 템플릿(50)을 준비하고, 템플릿 지지부(60)의 홈(64)에 삽입할 수 있다. 템플릿(50)은 마스크(100)가 일면 상에 부착되어 지지된 상태로 이동시킬 수 있는 매개체이다. 템플릿(50)의 일면은 평평한 마스크(100)를 지지하여 이동시킬 수 있도록 평평한 것이 바람직하다.Next, referring to (b) of FIG. 5 , a template 50 may be prepared and inserted into the groove 64 of the template support 60 . The template 50 is a medium that allows the mask 100 to be attached to one surface and moved in a supported state. One surface of the template 50 is preferably flat so as to support and move the flat mask 100 .

템플릿(50)은 템플릿(50)의 상부에서 조사하는 레이저(L)가 마스크(100)의 용접부(WP)에까지 도달할 수 있도록, 템플릿(50)에는 레이저 통과공(51)이 형성될 수 있다. 레이저 통과공(51)은 용접부(WP)의 위치 및 개수에 대응하도록 템플릿(50)에 형성될 수 있다. 용접부(WP)는 마스크(100)의 테두리 또는 더미(DM) 부분에서 소정 간격을 따라 복수개 배치되어 있으므로, 레이저 통과공(51)도 이에 대응하도록 소정 간격을 따라 복수개 형성될 수 있다. 일 예로, 용접부(WP)는 마스크(100)의 양측(좌측/우측) 더미(DM) 부분에 소정 간격을 따라 복수개 배치되어 있으므로, 레이저 통과공(51)도 템플릿(50)이 양측(좌측/우측)에 소정 간격을 따라 복수개 형성될 수 있다.In the template 50, a laser pass-through hole 51 may be formed in the template 50 so that the laser L irradiated from the top of the template 50 can reach the welded portion WP of the mask 100. . The laser pass-through hole 51 may be formed in the template 50 to correspond to the location and number of welded portions WP. Since a plurality of welding parts WP are disposed at predetermined intervals on the edge or dummy DM portion of the mask 100, a plurality of laser pass-through holes 51 may also be formed at predetermined intervals to correspond thereto. For example, since the plurality of welding parts WP are disposed along a predetermined interval on the dummy DM on both sides (left/right) of the mask 100, the laser pass-through hole 51 also has the template 50 on both sides (left/right). right side) may be formed in plurality at predetermined intervals.

레이저 통과공(51)은 반드시 용접부의 위치 및 개수에 대응될 필요는 없다. 예를 들어, 레이저 통과공(51) 중 일부에 대해서만 레이저(L)를 조사하여 용접을 수행할 수도 있다. 또한, 용접부에 대응되지 않는 레이저 통과공(51) 중 일부는 마스크(100)와 템플릿(50)을 정렬할 때 얼라인 마크를 대신하여 사용할 수도 있다. 만약, 템플릿(50)의 재질이 레이저(L) 광에 투명하다면 레이저 통과공(51)을 형성하지 않을 수도 있다.The laser pass-through hole 51 does not necessarily correspond to the location and number of welded portions. For example, welding may be performed by irradiating the laser L to only some of the laser passage holes 51 . In addition, some of the laser pass-through holes 51 that do not correspond to the welded portion may be used instead of alignment marks when aligning the mask 100 and the template 50 . If the material of the template 50 is transparent to the laser L light, the laser pass-through hole 51 may not be formed.

템플릿(50)을 템플릿 지지부(60)의 홈(64)에 삽입하는 과정에서 얼라인을 위한 위치 제어가 수행될 수 있다. 홈(64)과 템플릿(50)이 명확하게 동일할 수 있지만, 홈(64)이 템플릿(50)보다 크게 형성되는 경우 정렬 과정이 필요할 수 있다. 현미경, 얼라이너 등 공지의 위치 확인 및 위치 제어 수단을 사용하여 위치 제어를 수행할 수 있다.In the process of inserting the template 50 into the groove 64 of the template support 60, position control for alignment may be performed. Although the groove 64 and the template 50 may be clearly identical, an alignment process may be required if the groove 64 is formed larger than the template 50 . Position control can be performed using known means for position confirmation and position control, such as a microscope and an aligner.

한편, 템플릿(50)을 템플릿 지지부(60)의 홈(64)에 삽입한 후에, 템플릿(50)과 템플릿 지지부(60)의 일면(상면)의 높이가 일치하지 않는 경우에는 소정의 평탄화 공정을 수행할 수 있다. 평탄화 공정은 폴리싱(polishing) 등으로 템플릿(50)과 템플릿 지지부(60)의 높이를 일치시키는 일련의 공정을 의미할 수 있다. 템플릿(50)과 템플릿 지지부(60)의 가공 공차가 발생할 수 있기 때문에, 높이를 일치시킴에 따라 후속 공정인 임시접착부(55) 형성, 마스크 금속막(110) 접착을 용이하게 수행할 수 있게 된다.Meanwhile, after inserting the template 50 into the groove 64 of the template support 60, when the heights of the template 50 and one surface (upper surface) of the template support 60 do not match, a predetermined flattening process is performed. can be done The flattening process may refer to a series of processes of matching the heights of the template 50 and the template support 60 by polishing or the like. Since there may be a processing tolerance between the template 50 and the template support 60, matching the heights makes it possible to easily perform subsequent processes such as forming the temporary bonding portion 55 and bonding the mask metal film 110. .

다음으로, 도 5의 (c)를 참조하면, 템플릿(50) 및 템플릿 지지부(60)의 일면 상에 임시접착부(55)를 형성할 수 있다. 임시접착부(55)는 마스크 금속막(110)에 대응하는 템플릿(50) 및 템플릿 지지부(60)의 부분에 형성되는 것이 바람직하다. 마스크 금속막(110)은 템플릿(50)보다는 크고, 템플릿 지지부(60)보다는 작은 면적을 가질 수 있으므로, 템플릿(50)의 일면(상면) 전체 및 템플릿 지지부(60)의 일면(상면) 일부 상에 임시접착부(55)가 형성될 수 있다. 임시접착부(55)는 마스크(100)가 프레임(200)에 부착되기 전까지 마스크(100)가 임시로 템플릿(50)의 일면에 접착되어 템플릿(50) 상에 지지되도록 할 수 있다. 또한, 임시접착부(55)는 마스크 금속막(110)에 마스크 패턴(P)을 형성하여 마스크(100)를 제조하기 전까지 마스크 금속막(110)이 템플릿(50) 및 템플릿 지지부(60)의 일면에 접착되어 지지되도록 할 수 있다.Next, referring to (c) of FIG. 5 , a temporary adhesive part 55 may be formed on one surface of the template 50 and the template support part 60 . The temporary adhesive portion 55 is preferably formed on portions of the template 50 and the template support portion 60 corresponding to the mask metal film 110 . Since the mask metal film 110 may have an area larger than that of the template 50 and smaller than that of the template support 60, the entire surface (upper surface) of the template 50 and a portion of one surface (top surface) of the template support 60 may be formed. A temporary adhesive portion 55 may be formed. The temporary adhesive portion 55 may allow the mask 100 to be temporarily adhered to one surface of the template 50 and supported on the template 50 until the mask 100 is attached to the frame 200 . In addition, the temporary adhesive portion 55 forms a mask pattern P on the mask metal film 110 until the mask 100 is manufactured, and the mask metal film 110 adheres to one surface of the template 50 and the template support 60 It can be attached to and supported.

임시접착부(55)는 열을 가함에 따라 분리가 가능한 접착제, UV 조사에 의해 분리가 가능한 접착제를 사용할 수 있다.The temporary adhesive portion 55 may use an adhesive that can be separated by applying heat or an adhesive that can be separated by UV irradiation.

일 예로, 임시접착부(55)는 액체 왁스(liquid wax)를 사용할 수 있다. 액체 왁스는 반도체 웨이퍼의 폴리싱 단계 등에서 이용되는 왁스와 동일한 것을 사용할 수 있고, 그 유형이 특별히 한정되지는 않는다. 액체 왁스는 주로 유지력에 관한 접착력, 내충격성 등을 제어하기 위한 수지 성분으로 아크릴, 비닐아세테이트, 나일론 및 다양한 폴리머와 같은 물질 및 용매를 포함할 수 있다. 일 예로, 임시접착부(55)는 수지 성분으로 아크릴로나이트릴 뷰타디엔 고무(ABR, Acrylonitrile butadiene rubber), 용매 성분으로 n-프로필알코올을 포함하는 SKYLIQUID ABR-4016을 사용할 수 있다. 액체 왁스는 스핀 코팅을 사용하여 임시접착부(55)를 형성할 수 있다.For example, the temporary adhesive part 55 may use liquid wax. The liquid wax may be the same as the wax used in the polishing step of a semiconductor wafer, etc., and the type is not particularly limited. The liquid wax is a resin component mainly for controlling adhesion, impact resistance, and the like for holding power, and may include substances and solvents such as acrylic, vinyl acetate, nylon, and various polymers. For example, the temporary adhesive portion 55 may use SKYLIQUID ABR-4016 containing acrylonitrile butadiene rubber (ABR) as a resin component and n-propyl alcohol as a solvent component. The liquid wax may form the temporary adhesive portion 55 using spin coating.

액체 왁스인 임시접착부(55)는 85℃~100℃보다 높은 온도에서는 점성이 낮아지고, 85℃보다 낮은 온도에서 점성이 커지고 고체처럼 일부 굳을 수 있어, 마스크 금속막(110)과 템플릿(50)[및 템플릿 지지부(60)]을 고정 접착할 수 있다.The temporary adhesive portion 55, which is liquid wax, has lower viscosity at temperatures higher than 85°C to 100°C, increases in viscosity at temperatures lower than 85°C, and may be partially hardened like a solid, so that the mask metal film 110 and the template 50 [and the template support 60] may be fixedly bonded.

임시접착부(55)를 형성하고 마스크 금속막(110)이 템플릿(50) 및 템플릿 지지부(60)와 접착되는 공정이 수행되는 공간의 공정 온도를 상온보다 높은 온도로 상승시킬 수 있다. 공정 온도는 상술한 임시접착부(55)의 점성이 낮아지는 85℃~100℃ 정도일 수 있다.A process temperature of a space in which a process of forming the temporary bonding portion 55 and bonding the mask metal film 110 to the template 50 and the template support 60 is performed may be increased to a temperature higher than room temperature. The process temperature may be about 85° C. to 100° C., which lowers the viscosity of the temporary adhesive portion 55 described above.

다음으로, 도 5의 (d)를 참조하면, 템플릿(50) 및 템플릿 지지부(60) 상에 마스크 금속막(110)을 접착할 수 있다. 일 예로, 액체 왁스를 85℃ 이상으로 가열하고 마스크 금속막(110)을 템플릿(50) 및 템플릿 지지부(60)에 접촉시킨 후, 마스크 금속막(110), 템플릿(50) 및 템플릿 지지부(60)를 롤러 사이에 통과시켜 접착을 수행할 수 있다.Next, referring to (d) of FIG. 5 , the mask metal film 110 may be adhered on the template 50 and the template support 60 . For example, after heating the liquid wax to 85° C. or higher and bringing the mask metal film 110 into contact with the template 50 and the template support 60, the mask metal film 110, the template 50, and the template support 60 ) can be passed between rollers to perform bonding.

일 실시예에 따르면, 템플릿(50)[및 템플릿 지지부(60)]에 약 120℃, 60초 동안 베이킹(baking)을 수행하여 임시접착부(55)의 솔벤트를 기화시키고, 곧바로, 마스크 금속막(110)의 라미네이션(lamination) 공정을 진행할 수 있다. 라미네이션은 임시접착부(55)가 일면에 형성된 템플릿(50) 및 템플릿 지지부(60) 상에 마스크 금속막(110)을 로딩하고, 약 100℃의 상부 롤(roll)과 약 0℃의 하부 롤 사이에 통과시켜 수행할 수 있다. 또는, 임시접착부(55)가 일면에 형성된 템플릿(50) 및 템플릿 지지부(60) 상에 마스크 금속막(110)을 로딩하고, 상온 또는 상온보다 높은 온도에서 진공 라미네이션을 수행할 수도 있다. 그 결과로, 마스크 금속막(110)이 템플릿(50) 및 템플릿 지지부(60) 상에서 임시접착부(55)를 개재하여 접촉될 수 있다.According to an embodiment, baking is performed on the template 50 (and the template support part 60) at about 120° C. for 60 seconds to vaporize the solvent of the temporary adhesive part 55, and immediately, the mask metal film ( 110) may proceed with the lamination process. In lamination, the mask metal film 110 is loaded on the template 50 and the template support 60 on which the temporary adhesive portion 55 is formed, and the mask metal film 110 is loaded between an upper roll at about 100° C. and a lower roll at about 0° C. It can be done by passing Alternatively, the mask metal film 110 may be loaded on the template 50 and the template support 60 on which the temporary adhesive portion 55 is formed, and vacuum lamination may be performed at room temperature or higher than room temperature. As a result, the mask metal film 110 may contact the template 50 and the template support 60 via the temporary adhesive portion 55 .

마스크 금속막(110)의 측면 방향으로 인장력(F)을 가한 상태로 마스크 금속막(110)을 템플릿(50) 및 템플릿 지지부(60) 상에 접착할 수 있다. 마스크 금속막(110)은 팽팽한 상태를 유지하며 템플릿(50) 및 템플릿 지지부(60) 상에 접착될 수 있다.The mask metal film 110 may be adhered to the template 50 and the template support 60 in a state in which a tensile force F is applied to the lateral direction of the mask metal film 110 . The mask metal film 110 may adhere to the template 50 and the template support 60 while maintaining a tensioned state.

한편, 마스크 금속막(110)의 일면을 평탄화 할 수도 있다. 압연 공정으로 제조된 마스크 금속막(110)은 평탄화 공정으로 두께를 감축시킬 수 있다. 그리고, 전주 도금 공정으로 제조된 마스크 금속막(110)도 표면 특성, 두께의 제어를 위해 평탄화 공정이 수행될 수 있다. 이에 따라, 마스크 금속막(110)의 두께가 감축됨에 따라, 마스크 금속막(110)은 두께가 약 5㎛ 내지 20㎛가 될 수 있다. 두께가 감축된 마스크 금속막(110)을 템플릿(50) 및 템플릿 지지부(60) 상에 로딩할 수 있음은 물론이다.Meanwhile, one surface of the mask metal film 110 may be planarized. The thickness of the mask metal layer 110 manufactured through the rolling process may be reduced through a planarization process. In addition, a planarization process may be performed on the mask metal film 110 manufactured through the electroplating process to control the surface characteristics and thickness. Accordingly, as the thickness of the mask metal film 110 is reduced, the mask metal film 110 may have a thickness of about 5 μm to about 20 μm. Of course, the mask metal film 110 having a reduced thickness may be loaded onto the template 50 and the template support 60 .

마스크 금속막(110)을 템플릿(50) 및 템플릿 지지부(60) 상에 접착한 후, 공정 온도를 상온, 또는, 임시접착부(55)의 점성이 커지고 고체처럼 일부 굳을 수 있는 온도로 하강시킬 수 있다.After attaching the mask metal film 110 on the template 50 and the template support 60, the process temperature may be lowered to room temperature or to a temperature at which the viscosity of the temporary adhesive 55 increases and partially hardens like a solid. have.

다음으로, 도 6의 (e)를 참조하면, 마스크 금속막(110) 상에 패턴화된 절연부(25)를 형성할 수 있다. 절연부(25)는 프린팅 법 등을 이용하여 포토레지스트 재질로 형성될 수 있다.Next, referring to (e) of FIG. 6 , a patterned insulating portion 25 may be formed on the mask metal layer 110 . The insulating portion 25 may be formed of a photoresist material using a printing method or the like.

이어서, 마스크 금속막(110)의 식각을 수행할 수 있다. 건식 식각, 습식 식각 등의 방법을 제한없이 사용할 수 있고, 식각 결과 절연부(25) 사이의 빈 공간(26)으로 노출된 마스크 금속막(110)의 부분이 식각될 수 있다. 마스크 금속막(110)의 식각된 부분은 마스크 패턴(P)을 구성하고, 복수의 마스크 패턴(P)이 형성된 마스크(100)가 제조될 수 있다.Then, the mask metal layer 110 may be etched. Methods such as dry etching and wet etching may be used without limitation, and as a result of the etching, a portion of the mask metal layer 110 exposed to the empty space 26 between the insulating parts 25 may be etched. The etched portion of the mask metal layer 110 constitutes a mask pattern P, and a mask 100 having a plurality of mask patterns P formed thereon may be manufactured.

마스크 패턴(P)의 식각과 동시에, 마스크 금속막(110)의 테두리도 식각(EC)할 수 있다. 절연부(25)의 빈 부분을 템플릿(50) 형태에 대응하도록 형성하고 빈 공간으로 노출된 마스크 금속막(110)의 부분을 식각(EC)하면, 템플릿(50)의 크기와 동일하게 마스크 금속막(110)의 테두리 부분(111)이 커팅될 수 있다. 이어서, 절연부(25)를 제거하는 공정을 더 수행할 수 있다.Simultaneously with the etching of the mask pattern P, the edge of the mask metal layer 110 may also be etched (EC). When the empty portion of the insulating part 25 is formed to correspond to the shape of the template 50 and the portion of the mask metal film 110 exposed to the empty space is etched (EC), the mask metal has the same size as the template 50. An edge portion 111 of the film 110 may be cut. Subsequently, a process of removing the insulating portion 25 may be further performed.

다음으로, 도 6의 (f)를 참조하면, 템플릿 지지부(60)로부터 템플릿(50) 및 마스크(100)를 분리(debonding)할 수 있다. 분리는 임시접착부(65)에 열 인가, 화학적 처리, 초음파 인가, UV 인가(UV) 중 적어도 어느 하나를 통해 수행할 수 있으나, 특정 영역만 분리를 수행하기 용이하도록 URT 임시접착부(65)에 UV를 조사하는 방법이 바람직하다.Next, referring to (f) of FIG. 6 , the template 50 and the mask 100 may be debonded from the template support 60 . Separation may be performed through at least one of heat application, chemical treatment, ultrasonic application, and UV application to the temporary adhesive portion 65, but UV is applied to the URT temporary adhesive portion 65 to facilitate separation of only a specific area. A method of investigating is preferred.

도 5의 (d)에서 마스크 금속막(110)이 측면 방향으로 인장력을 가한 상태로 팽팽하게 당겨져 접착 고정되었으므로, 템플릿 지지부(60)로부터 분리된 템플릿(50) 상에서 마스크(100)는 양측을 잡아당기는 인장력(IT)을 내포하는 상태를 유지할 수 있다. 다른 관점으로 마스크(100)[마스크 금속막(110)]은 원래보다 양측으로 소정 길이 늘어난 상태로 템플릿(50) 상에 접착된 상태일 수 있다.In (d) of FIG. 5, since the mask metal film 110 is pulled tight and adhesively fixed with a tensile force applied in the lateral direction, the mask 100 is held on both sides of the template 50 separated from the template support 60. It is possible to maintain a state containing a pulling tensile force (IT). From another point of view, the mask 100 (the mask metal film 110) may be attached to the template 50 in a state in which a predetermined length is increased on both sides than originally.

템플릿 지지부(60)로부터 템플릿(50)을 분리하여 측면 방향으로 인장력(IT)을 작용받는 마스크(100)를 지지하는 템플릿(50)의 제조를 완료할 수 있다.By separating the template 50 from the template support 60, manufacturing of the template 50 supporting the mask 100 subjected to the tensile force IT in the lateral direction may be completed.

프레임(200)이 복수의 마스크 셀 영역(CR: CR11~CR56)을 구비하므로, 각각의 마스크 셀 영역(CR: CR11~CR56)에 대응하는 마스크 셀(C: C11~C56)을 가지는 마스크(100)도 복수개 구비할 수 있다. 또한, 복수개의 마스크(100)의 각각을 지지하는 복수의 템플릿(50)을 구비할 수 있다.Since the frame 200 includes a plurality of mask cell regions (CR: CR11 to CR56), the mask 100 has mask cells (C: C11 to C56) corresponding to each of the mask cell regions (CR: CR11 to CR56). ) may also be provided with a plurality. In addition, a plurality of templates 50 supporting each of the plurality of masks 100 may be provided.

도 7은 본 발명의 다른 실시예에 따른 마스크 지지 템플릿을 제조하는 과정을 나타내는 개략도이다. 도 7에서는 도 5 및 도 6의 과정과 차이점에 대해서만 설명하고, 동일한 과정, 구성에 대해서는 설명을 생략한다.7 is a schematic diagram illustrating a process of manufacturing a mask support template according to another embodiment of the present invention. In FIG. 7, only the processes and differences of FIGS. 5 and 6 are described, and descriptions of the same processes and configurations are omitted.

도 5의 (a) 내지 (c) 단계와 마찬가지로, 템플릿(50) 및 템플릿 지지부(60)를 준비한다.Similar to steps (a) to (c) of FIG. 5 , the template 50 and the template support 60 are prepared.

다음으로, 도 7의 (d2)를 참조하면, 복수의 마스크 패턴(P)이 형성된 마스크(100)를 준비할 수 있다. 후술할 마스크(100)의 테두리가 식각(EC) 또는 커팅되어 제거되는 것을 고려하여, 마스크(100)의 마스크 패턴(P)이 형성된 마스크 셀(C) 및 더미(DM)는 템플릿(50)보다 넓은 것이 바람직하다.Next, referring to (d2) of FIG. 7 , a mask 100 having a plurality of mask patterns P may be prepared. Considering that the edge of the mask 100, which will be described later, is removed by etching (EC) or cutting, the mask cells C and the dummy DM formed with the mask pattern P of the mask 100 are formed from the template 50. Wide is preferred.

이어서, 템플릿(50) 및 템플릿 지지부(60) 상에 마스크(100)를 접착할 수 있다. 마스크(100)의 측면 방향으로 인장력(F)을 가한 상태로 마스크(100)를 템플릿(50) 및 템플릿 지지부(60) 상에 접착할 수 있다. 마스크(100)는 팽팽한 상태를 유지하며 템플릿(50) 및 템플릿 지지부(60) 상에 접착될 수 있다. 마스크(100)의 마스크 패턴(P)이 형성된 마스크 셀(C) 부분은 템플릿(50)의 레이저 통과공(51) 내의 영역에 대응되도록 접착하는 것이 바람직하다. 접착 과정은 도 5의 (d) 단계와 동일하게 수행될 수 있다.Subsequently, the mask 100 may be adhered to the template 50 and the template support 60 . The mask 100 may be adhered to the template 50 and the template support 60 in a state in which a tensile force F is applied in the lateral direction of the mask 100 . The mask 100 may be adhered to the template 50 and the template support 60 while maintaining a tensioned state. It is preferable that the portion of the mask cell C of the mask 100 where the mask pattern P is formed corresponds to the area within the laser pass-through hole 51 of the template 50 . The bonding process may be performed in the same manner as step (d) of FIG. 5 .

또한, 마스크(100)는 이미 마스크 패턴(P)들이 형성되어 있으므로, 마스크(100)의 측면에 가하는 인장력(F)에 의해 마스크 패턴(P)의 형태가 크게 변하지 않을 정도의 인장력(F)을 작용해야 한다. 마스크 패턴(P)의 원래 폭보다 10%를 넘지 않는 크기의 인장력(F)을 작용하는 것이 바람직하다.In addition, since mask patterns P are already formed in the mask 100, the tensile force F applied to the side surface of the mask 100 does not change the shape of the mask pattern P significantly. It should work. It is preferable to apply a tensile force F that does not exceed 10% of the original width of the mask pattern P.

다음으로, 도 7의 (e2)를 참조하면, 마스크(100)의 테두리를 식각(EC) 또는 커팅할 수 있다. 절연부(미도시)를 마스크(100)의 마스크 셀(C)과 더미 사이(DM)에 형성한 후 식각(EC)을 수행할 수도 있고, 레이저 커팅 등의 방법을 사용할 수도 있다. 식각(EC), 커팅에 의해 템플릿(50)의 크기와 동일하게 마스크(100)의 더미(DM) 테두리 부분(101)이 커팅될 수 있다.Next, referring to (e2) of FIG. 7, the edge of the mask 100 may be etched (EC) or cut. After an insulating part (not shown) is formed between the mask cell C of the mask 100 and the dummy DM, etching (EC) may be performed or a method such as laser cutting may be used. The edge portion 101 of the dummy DM of the mask 100 may be cut to have the same size as the template 50 by etching (EC) and cutting.

다음으로, 도 6의 (f)와 같이, 템플릿 지지부(60)로부터 템플릿(50) 및 마스크(100)를 분리하여, 마스크 지지 템플릿의 제조를 완료할 수 있다.Next, as shown in (f) of FIG. 6 , the template 50 and the mask 100 may be separated from the template support 60 to complete manufacturing of the mask support template.

도 8은 본 발명의 다른 실시예에 따른 템플릿 지지부(60')를 나타내는 개략도이다.8 is a schematic diagram showing a template support 60' according to another embodiment of the present invention.

도 8을 참조하면, 다른 실시예에 따른 템플릿 지지부(60')는 별개의 구성인 베이스판(61') 및 테두리판(62')을 포함할 수 있다. 베이스판(61')은 평판 형상이고, 테두리판(62')은 중공 영역(66)을 가지는 사각 링 형상일 수 있다. 베이스판(61') 상에 테두리판(62')이 소정의 접착부(67)를 개재하여 접착되고 테두리판(62')의 중공 영역(66)은 템플릿 지지부(60')의 홈을 구성할 수 있다. 접착부(67)는 접착제, 또는 임시접착부(55)에 대응할 수 있다.Referring to FIG. 8 , a template support 60' according to another embodiment may include a base plate 61' and an edge plate 62', which are separate components. The base plate 61' may have a flat plate shape, and the edge plate 62' may have a square ring shape having a hollow region 66. An edge plate 62' is adhered to the base plate 61' via a predetermined bonding portion 67, and the hollow region 66 of the edge plate 62' constitutes a groove for the template support portion 60'. can The adhesive portion 67 may correspond to an adhesive or the temporary adhesive portion 55 .

특히, 테두리판(62')과 템플릿(50)은 같은 원판을 사용하여 제조된 것일 수 있다. 같은 원판을 사용하여 테두리판(62')과 템플릿(50)을 제조하면, 두께 및 재질이 동일하고, 높이에 따른 가공 공차가 생기지 않게 된다. 따라서, 도 5의 (b) 단계에서 상술한 바와 같은, 템플릿(50)과 템플릿 지지부(60)의 높이를 일치시키기 위한 평탄화 공정을 생략할 수 있는 이점이 있다. 게다가, 테두리판(62')을 베이스판(61')으로부터 분리함에 따라, 마스크(100)가 지지된 템플릿(50)이 베이스판(61') 상에 돌출 배치되므로, 템플릿(50)을 베이스판(61')으로부터 분리하기 더 용이한 이점이 있다.In particular, the edge plate 62' and the template 50 may be manufactured using the same original plate. If the edge plate 62' and the template 50 are manufactured using the same original plate, the thickness and material are the same, and there is no processing tolerance according to the height. Accordingly, there is an advantage in that a flattening process for matching the heights of the template 50 and the template support 60 as described above in step (b) of FIG. 5 can be omitted. In addition, as the frame plate 62' is separated from the base plate 61', the template 50 on which the mask 100 is supported protrudes from the base plate 61'. It has the advantage of being easier to separate from the plate 61'.

도 9는 본 발명의 일 실시예에 따른 마스크 지지 템플릿을 프레임 상에 로딩하는 과정을 나타내는 개략도이다.9 is a schematic diagram illustrating a process of loading a mask support template onto a frame according to an embodiment of the present invention.

도 9를 참조하면, 템플릿(50)은 진공 척(90)에 의해 이송될 수 있다. 진공 척(90)으로 마스크(100)가 접착된 템플릿(50) 면의 반대 면을 흡착하여 이송할 수 있다. 진공 척(90)은 x, y, z, θ축으로 이동되는 이동 수단(미도시)에 연결될 수 있다. 또한, 진공 척(90)은 템플릿(50)을 흡착하여 플립(flip)할 수 있는 플립 수단(미도시)에 연결될 수 있다. 도 9의 (b)에 도시된 바와 같이, 진공 척(90)이 템플릿(50)을 흡착하여 플립한 후, 프레임(200) 상으로 템플릿(50)을 이송하는 과정에서도, 마스크(100)의 접착 상태 및 정렬 상태에는 영향이 없게 된다.Referring to FIG. 9 , the template 50 may be transferred by the vacuum chuck 90 . A surface opposite to the surface of the template 50 to which the mask 100 is attached may be suctioned and transferred by the vacuum chuck 90 . The vacuum chuck 90 may be connected to a moving means (not shown) that moves in the x, y, z, and θ axes. In addition, the vacuum chuck 90 may be connected to a flip means (not shown) capable of adsorbing and flipping the template 50 . As shown in (b) of FIG. 9 , even in the process of transferring the template 50 onto the frame 200 after the vacuum chuck 90 adsorbs and flips the template 50, the mask 100 Adhesion and alignment are unaffected.

도 10은 본 발명의 일 실시예에 따른 템플릿을 프레임 상에 로딩하여 마스크를 프레임의 셀 영역에 대응시키는 상태를 나타내는 개략도이다.10 is a schematic diagram illustrating a state in which a mask corresponds to a cell region of a frame by loading a template onto a frame according to an embodiment of the present invention.

도 10을 참조하면, 마스크(100)를 프레임(200)의 하나의 마스크 셀 영역(CR)에 대응할 수 있다. 템플릿(50)을 프레임(200)[또는, 마스크 셀 시트부(220)] 상에 로딩하는 것으로 마스크(100)를 마스크 셀 영역(CR)에 대응시킬 수 있다. 템플릿(50)/진공 척(90)의 위치를 제어하면서, 현미경을 통해 마스크(100)가 마스크 셀 영역(CR)에 대응하는지 살펴볼 수 있다. 템플릿(50)이 마스크(100)를 압착하므로, 마스크(100)와 프레임(200)은 긴밀히 맞닿을 수 있다.Referring to FIG. 10 , the mask 100 may correspond to one mask cell region CR of the frame 200 . By loading the template 50 onto the frame 200 (or the mask cell sheet portion 220), the mask 100 may correspond to the mask cell region CR. While controlling the positions of the template 50/vacuum chuck 90, it may be observed whether the mask 100 corresponds to the mask cell region CR through a microscope. Since the template 50 compresses the mask 100, the mask 100 and the frame 200 may closely contact each other.

순차적으로 또는 동시에, 복수의 템플릿(50)을 프레임(200)[또는, 마스크 셀 시트부(220)] 상에 로딩하여 각각의 마스크(100)를 각각의 마스크 셀 영역(CR)에 대응시킬 수 있다. 템플릿(50)과 마스크(100)의 크기가 동일하므로, 특정 마스크 셀 영역(CR11) 상에 대응하는 템플릿(50)과 이에 이웃하는 마스크 셀 영역(CR12, CR21) 상에 대응하는 템플릿(50)은 서로 간섭/중첩되지 않고 소정 간격을 이룰 수 있다. 이 소정 간격은 제1, 2 그리드 시트부(223, 225)의 폭의 1/2보다 작은 정도일 수 있다.Sequentially or simultaneously, a plurality of templates 50 may be loaded onto the frame 200 (or the mask cell sheet portion 220) so that each mask 100 corresponds to each mask cell region CR. have. Since the template 50 and the mask 100 have the same size, the template 50 corresponding to the specific mask cell region CR11 and the template 50 corresponding to the mask cell regions CR12 and CR21 adjacent thereto may form a predetermined interval without interfering/overlapping with each other. This predetermined interval may be less than 1/2 of the width of the first and second grid sheet portions 223 and 225 .

한편, 하부 지지체(70)를 프레임(200) 하부에 더 배치할 수도 있다. 하부 지지체(70)는 마스크(100)가 접촉하는 마스크 셀 영역(CR)의 반대면을 압착할 수 있다. 동시에, 하부 지지체(70)와 템플릿(50)이 상호 반대되는 방향으로 마스크(100)의 테두리 및 프레임(200)[또는, 마스크 셀 시트부(220)]를 압착하게 되므로, 마스크(100)의 정렬 상태가 흐트러지지 않고 유지될 수 있게 된다.Meanwhile, the lower support 70 may be further disposed under the frame 200 . The lower support 70 may compress the opposite surface of the mask cell region CR, which the mask 100 contacts. At the same time, since the lower support 70 and the template 50 compress the edge of the mask 100 and the frame 200 (or the mask cell sheet portion 220) in opposite directions, Alignment can be maintained without being disturbed.

이어서, 마스크(100)에 레이저(L)를 조사하여 레이저 용접에 의해 마스크(100)를 프레임(200)에 부착할 수 있다. 레이저 용접된 마스크의 용접부 부분에는 용접 비드(WB)가 생성되고, 용접 비드(WB)는 마스크(100)/프레임(200)과 동일한 재질을 가지고 일체로 연결될 수 있다.Subsequently, the mask 100 may be irradiated with a laser L to attach the mask 100 to the frame 200 by laser welding. A welding bead WB is generated at the weld portion of the laser-welded mask, and the welding bead WB has the same material as the mask 100/frame 200 and may be integrally connected.

템플릿(50)과 마스크(100)의 열팽창 계수에 따른 재질 선정 및 마스크(100)가 프레임(200)에 부착된 후의 열적 거동에 대해 이하에서 더 설명한다.Selection of materials according to thermal expansion coefficients of the template 50 and the mask 100 and thermal behavior after the mask 100 is attached to the frame 200 will be further described below.

종래와 같이, 글래스 등의 재질인 템플릿(50')의 열팽창계수가 인바 등의 재질인 마스크(100)[또는, 마스크 금속막(110)]보다 높은 경우에는 다음과 같은 문제가 발생할 수 있다. 종래에는 템플릿(50')의 재질로 글래스(glass), 붕규산유리(borosilicate glass) 등을 사용하였다. 이 중 특히, 붕규산유리인 BOROFLOAT® 33은 열팽창계수가 약 3.3 X 10-6/℃으로 열팽창계수가 1.5~3 X 10-6/℃ 정도인 인바(invar) 마스크 금속막(110)과 열팽창계수 차이가 적어 마스크 금속막(110)의 제어 용이성으로 인해 많이 사용되었다.As in the prior art, when the coefficient of thermal expansion of the template 50 ′ made of glass or the like is higher than that of the mask 100 (or the mask metal film 110 ) made of invar or the like, the following problems may occur. Conventionally, glass, borosilicate glass, or the like has been used as a material for the template 50'. Among these, in particular, BOROFLOAT ® 33, a borosilicate glass, has a thermal expansion coefficient of about 3.3 X 10 -6 / ° C, and an invar mask metal film 110 and a thermal expansion coefficient of about 1.5 to 3 X 10 -6 / ° C It has been widely used due to the ease of control of the mask metal film 110 due to a small difference.

마스크(100)보다 템플릿(50')의 열팽창계수가 높으므로, 온도를 상승시키고 마스크(100)를 템플릿(50')에 부착한 후, 다시 온도를 하강시킬때, 마스크(100)는 온도 변화에 의해서 상대적으로 적은 정도만 수축하는 반면, 템플릿(50')은 상대적으로 큰 정도로 수축하게 된다. 동시에 템플릿(50')과 마스크(100)가 임시접착부(55)를 개재하여 잘 접착고정된 상태이므로, 마스크(100)는 원래 수축되는 정도보다 더 수축되려는 힘을 작용받게 된다. 더 수축되려는 힘은 템플릿(50')이 수축되는 정도가 마스크(100)의 수축되는 정도보다 크기 때문에 발생한다. 이에 따라, 마스크(100)는 측면 방향[마스크(100)의 내측]으로 압축력을 작용받는 상태로 템플릿(50') 상에 접착된다.Since the thermal expansion coefficient of the template 50' is higher than that of the mask 100, when the temperature is increased, the mask 100 is attached to the template 50', and the temperature is lowered again, the mask 100 changes in temperature. While only a relatively small degree of contraction is caused by the template 50 'is contracted to a relatively large extent. At the same time, since the template 50' and the mask 100 are well bonded and fixed via the temporary adhesive 55, the mask 100 receives a force to contract more than the original contraction. The force for further contraction occurs because the degree of contraction of the template 50' is greater than the degree of contraction of the mask 100. Accordingly, the mask 100 is adhered on the template 50' in a state in which a compressive force is applied in the lateral direction (the inside of the mask 100).

위와 같이, 마스크(100)가 측면 방향으로 압축력을 작용받는 상태인 템플릿(50')을 프레임(200)에 로딩하여 마스크(100)를 마스크 셀 영역(CR)에 대응시키고, 용접을 수행하여 프레임(200)에 마스크(100)를 부착한다[도 4 참조]. 그리고, 템플릿(50')을 마스크(100)로부터 분리한다. 하지만, 템플릿(50')을 마스크(100)로부터 분리함과 동시에 마스크(100)에 작용하고 있던 압축력이 해제되면서 마스크(100)의 정렬이 흐트러질 수 있다. 다시 말해, 마스크(100)에 작용하는 압축력 때문에, 마스크(100)의 양측이 바깥 방향으로 팽팽하게 당겨진 채로 프레임(200)에 부착되지 못하고, 주름지거나 쳐진 상태로 프레임(200)에 부착되는 문제점이 발생할 수 있다. 이는 마스크(100)의 정렬 오차, 셀(C)들간의 PPA 오차 등에 의한 제품 실패로 이어지게 된다.As described above, the template 50 ′, in which the mask 100 is subjected to a compressive force in the lateral direction, is loaded onto the frame 200 so that the mask 100 corresponds to the mask cell region CR, and welding is performed to frame the frame 50 ′. A mask 100 is attached to 200 (see FIG. 4). Then, the template 50' is separated from the mask 100. However, since the compressive force acting on the mask 100 is released at the same time as the template 50 ′ is separated from the mask 100 , alignment of the mask 100 may be disturbed. In other words, due to the compressive force acting on the mask 100, both sides of the mask 100 cannot be attached to the frame 200 while being stretched outward, and the problem is that the mask 100 is attached to the frame 200 in a wrinkled or drooped state. can happen This leads to product failure due to an alignment error of the mask 100, a PPA error between cells C, and the like.

따라서, 본 발명의 템플릿(50)은 마스크(100)[또는, 마스크 금속막(110)]보다 열팽창계수가 낮은 것을 특징으로 한다. 또한, 템플릿 지지부(60)도 마스크(100)보다 열팽창계수가 낮을 수 있다. 도 5의 (c), (d)와 같이 공정 온도를 상온보다 높은 온도로 상승시키고, 마스크 금속막(110)을 템플릿(50) 및 템플릿 지지부(60) 상에 접착시킬 수 있다. 그리고, 마스크(100)가 템플릿(50) 상에서 제조된 후에, 공정 온도를 임시접착부(55)의 점성이 커지고 고체처럼 일부 굳을 수 있는 온도로 하강시킬 수 있다.Accordingly, the template 50 of the present invention is characterized by having a lower coefficient of thermal expansion than the mask 100 (or the mask metal film 110). In addition, the template support 60 may also have a lower coefficient of thermal expansion than the mask 100 . As shown in (c) and (d) of FIG. 5 , the process temperature may be raised to a temperature higher than room temperature, and the mask metal film 110 may be adhered to the template 50 and the template support 60 . In addition, after the mask 100 is manufactured on the template 50, the process temperature may be lowered to a temperature at which the viscosity of the temporary adhesive portion 55 increases and partially hardens like a solid.

마스크 금속막(110)[또는, 마스크(100)]은 열팽창계수가 적어도 1보다는 큰 인바, 슈퍼 인바, 니켈, 니켈-코발트 등의 재질일 수 있다. 반면, 템플릿(50)[및 템플릿 지지부(60)]은 열팽창계수가 1보다 작을(0초과) 수 있다. 바람직하게는 열팽창계수가 0.55인 석영(quartz) 재질의 템플릿(50)[및 템플릿 지지부(60)]을 사용할 수 있지만, 이에 제한되지는 않는다.The mask metal film 110 (or the mask 100 ) may be made of a material such as invar, super invar, nickel, nickel-cobalt, or the like having a coefficient of thermal expansion greater than at least 1. On the other hand, the template 50 (and the template support 60) may have a coefficient of thermal expansion less than 1 (exceed 0). Preferably, the template 50 (and the template support 60) made of quartz having a coefficient of thermal expansion of 0.55 may be used, but is not limited thereto.

마스크(100)보다 템플릿(50)의 열팽창계수가 낮으므로, 공정 온도를 하강시킬때, 템플릿(50)은 거의 수축되지 않거나, 상대적으로 마스크(100)보다 적은 정도로 수축하게 된다. 마스크(100)는 상대적으로 크게 수축할 수 있으나, 임시접착부(55)를 개재하여 템플릿(50) 상에 잘 접착되어 고정된 상태이므로 수축되지 못하고 수축되려는 내부 힘(IT)을 작용받게 된다. 다시 말해, 마스크(100)는 측면 방향으로 인장력(IT)을 작용 받아 팽팽한 상태로 템플릿(50) 상에 접착될 수 있다.Since the thermal expansion coefficient of the template 50 is lower than that of the mask 100 , when the process temperature is lowered, the template 50 hardly shrinks or shrinks relatively less than the mask 100 . Although the mask 100 can be contracted relatively greatly, since it is well adhered and fixed on the template 50 through the temporary adhesive part 55, it cannot be contracted and receives an internal force (IT) to be contracted. In other words, the mask 100 may be adhered to the template 50 in a taut state by receiving the tensile force IT in the lateral direction.

이 상태로 템플릿(50)을 프레임(200)에 로딩하여 마스크(100)를 대응하고, 용접을 수행하여 용접비드(WB)를 형성함에 따라 프레임(200)에 마스크(100)를 부착할 수 있다.In this state, the mask 100 may be attached to the frame 200 by loading the template 50 onto the frame 200 to correspond to the mask 100 and performing welding to form the weld bead WB. .

도 11은 본 발명의 일 실시예에 따른 마스크를 프레임에 부착한 후 마스크와 템플릿을 분리하는 과정을 나타내는 개략도이다.11 is a schematic diagram illustrating a process of separating a mask and a template after attaching a mask to a frame according to an embodiment of the present invention.

도 11을 참조하면, 마스크(100)를 프레임(200)에 부착한 후, 마스크(100)와 템플릿(50)을 분리(debonding)할 수 있다. 마스크(100)와 템플릿(50)의 분리는 임시접착부(55)에 열 인가(ET), 화학적 처리(CM), 초음파 인가(US), UV 인가(UV) 중 적어도 어느 하나를 통해 수행할 수 있다. 마스크(100)는 프레임(200)에 부착된 상태를 유지하므로, 템플릿(50)만을 들어올릴 수 있다. 일 예로, 85℃~100℃보다 높은 온도의 열을 인가(ET)하면 임시접착부(55)의 점성이 낮아지게 되고, 마스크(100)와 템플릿(50)의 접착력이 약해지게 되어, 마스크(100)와 템플릿(50)이 분리될 수 있다. 다른 예로, IPA, 아세톤, 에탄올 등의 화학 물질에 임시접착부(55)를 침지(CM)함으로서 임시접착부(55)를 용해, 제거 등의 방식으로 마스크(100)와 템플릿(50)이 분리될 수 있다. 다른 예로, 초음파를 인가(US)하거나, UV를 인가(UV)하면 마스크(100)와 템플릿(50)의 접착력이 약해지게 되어, 마스크(100)와 템플릿(50)이 분리될 수 있다.Referring to FIG. 11 , after attaching the mask 100 to the frame 200 , the mask 100 and the template 50 may be debonded. Separation of the mask 100 and the template 50 may be performed by at least one of heat application (ET), chemical treatment (CM), ultrasonic application (US), and UV application (UV) to the temporary adhesive portion 55. have. Since the mask 100 remains attached to the frame 200, only the template 50 can be lifted. For example, when heat at a temperature higher than 85° C. to 100° C. is applied (ET), the viscosity of the temporary adhesive portion 55 is lowered, and the adhesive force between the mask 100 and the template 50 is weakened. ) and the template 50 may be separated. As another example, the mask 100 and the template 50 may be separated by dissolving or removing the temporary adhesive portion 55 by immersing (CM) the temporary adhesive portion 55 in a chemical such as IPA, acetone, or ethanol. have. As another example, when ultrasound is applied (US) or UV is applied (UV), the adhesive force between the mask 100 and the template 50 is weakened, and thus the mask 100 and the template 50 may be separated.

마스크(100)로부터 템플릿(50)이 분리됨과 동시에, 마스크(100)에 작용하던 인장력(IT)이 해제되면서 마스크(100)의 양측을 팽팽하게 하는 장력(TS)으로 전환될 수 있다. 다시 말해, 마스크(100)의 원래 하강 온도(T2)에서 가질 길이보다 긴 길이로 당겨져 템플릿(50)에 접착된 상태이고, 이 상태 그대로 프레임(200)에 용접 부착되므로 당겨진 상태[자체적으로 주변의 마스크 셀 시트부(220)에 장력(TS)을 작용하는 상태]를 유지하게 될 수 있다. 따라서, 프레임(200) 상에서 마스크(100)가 팽팽하게 당겨진 채로 부착되므로, 주름, 변형 등이 발생하지 않게 된다. 이에 따라 마스크(100)의 정렬 오차, 셀(C)들간의 PPA 오차를 줄이는데 효과가 있다.At the same time as the template 50 is separated from the mask 100 , the tensile force IT acting on the mask 100 is released and converted to the tension TS that tightens both sides of the mask 100 . In other words, the mask 100 is pulled to a length longer than the length it will have at the original lowering temperature (T2) and adhered to the template 50, and is welded to the frame 200 as it is in this state, so it is in a pulled state [the surrounding itself A state in which tension TS is applied to the mask cell sheet portion 220] may be maintained. Therefore, since the mask 100 is attached to the frame 200 while being stretched, wrinkles and deformation do not occur. Accordingly, it is effective to reduce an alignment error of the mask 100 and a PPA error between cells C.

도 12는 본 발명의 일 실시예에 따른 마스크(100)를 프레임(200)에 부착한 상태를 나타내는 개략도이다. 도 12에서는 모든 마스크(100)를 프레임(200)의 셀 영역(CR)에 부착한 상태를 나타낸다. 하나씩 마스크(100)를 부착한 후 템플릿(50)을 분리할 수 있지만, 모든 마스크(100)를 부착한 후 모든 템플릿(50)을 분리할 수 있다.12 is a schematic diagram showing a state in which the mask 100 is attached to the frame 200 according to an embodiment of the present invention. 12 shows a state in which all the masks 100 are attached to the cell region CR of the frame 200 . Although the templates 50 may be separated after attaching the masks 100 one by one, all templates 50 may be separated after attaching all the masks 100 .

종래의 도 1의 마스크(10)는 셀 6개(C1~C6)를 포함하므로 긴 길이를 가지는데 반해, 본 발명의 마스크(100)는 셀 1개(C)를 포함하여 짧은 길이를 가지므로 PPA(pixel position accuracy)가 틀어지는 정도가 작아질 수 있다. 또한, 본 발명은 마스크(100)의 하나의 셀(C)을 대응시키고 정렬 상태를 확인하기만 하면 되므로, 복수의 셀(C: C1~C6)을 동시에 대응시키고 정렬 상태를 모두 확인하여야 하는 종래의 방법[도 1 참조]보다, 제조시간을 현저하게 감축시킬 수 있다.The conventional mask 10 of FIG. 1 includes 6 cells (C1 to C6) and thus has a long length, whereas the mask 100 of the present invention includes 1 cell (C) and has a short length. The degree to which pixel position accuracy (PPA) is distorted may be reduced. In addition, since the present invention only needs to match one cell (C) of the mask 100 and check the alignment, a plurality of cells (C: C1 to C6) must be simultaneously matched and the alignment must be checked. Compared to the method [see FIG. 1], the manufacturing time can be significantly reduced.

각각의 마스크(100)들이 모두 대응되는 마스크 셀 영역(CR) 상에 부착된 후에 템플릿(50)과 마스크(100)들이 분리되면, 복수의 마스크(100)들이 상호 반대방향으로 수축되는 장력(TS)을 인가하기 때문에, 그 힘이 상쇄되어 마스크 셀 시트부(220)에는 변형이 일어나지 않게 된다. 예를 들어, CR11 셀 영역에 부착된 마스크(100)와 CR12 셀 영역에 부착된 마스크(100) 사이의 제1 그리드 시트부(223)는 CR11 셀 영역에 부착된 마스크(100)의 우측 방향으로 작용하는 장력(TS)과 CR12 셀 영역에 부착된 마스크(100)의 좌측 방향으로 작용하는 장력(TS)이 상쇄될 수 있다. 그리하여, 장력(TS)에 의한 프레임(200)[또는, 마스크 셀 시트부(220)]에는 변형이 최소화되어 마스크(100)[또는, 마스크 패턴(P)]의 정렬 오차가 최소화 될 수 있는 이점이 있다.When the template 50 and the masks 100 are separated after each mask 100 is attached to the corresponding mask cell region CR, the tension (TS) by which the plurality of masks 100 contract in opposite directions to each other ) is applied, the force is offset, so that deformation does not occur in the mask cell sheet portion 220 . For example, the first grid sheet portion 223 between the mask 100 attached to the CR11 cell area and the mask 100 attached to the CR12 cell area extends to the right of the mask 100 attached to the CR11 cell area. The tension TS acting and the tension TS acting in the left direction of the mask 100 attached to the CR12 cell region may be offset. Thus, deformation of the frame 200 (or the mask cell sheet portion 220) due to the tension TS is minimized, thereby minimizing an alignment error of the mask 100 (or the mask pattern P). there is

도 13은 본 발명의 일 실시예에 따른 프레임 일체형 마스크(100, 200)를 이용한 OLED 화소 증착 장치(1000)를 나타내는 개략도이다.13 is a schematic diagram illustrating an OLED pixel deposition apparatus 1000 using frame-integrated masks 100 and 200 according to an embodiment of the present invention.

도 13을 참조하면, OLED 화소 증착 장치(1000)는, 마그넷(310)이 수용되고, 냉각수 라인(350)이 배설된 마그넷 플레이트(300)와, 마그넷 플레이트(300)의 하부로부터 유기물 소스(600)를 공급하는 증착 소스 공급부(500)를 포함한다.Referring to FIG. 13 , the OLED pixel deposition apparatus 1000 includes a magnet plate 300 in which a magnet 310 is accommodated and a cooling water line 350 is disposed, and an organic material source 600 from a lower portion of the magnet plate 300. ) and a deposition source supply unit 500 for supplying.

마그넷 플레이트(300)와 소스 증착부(500) 사이에는 유기물 소스(600)가 증착되는 유리 등의 대상 기판(900)이 개재될 수 있다. 대상 기판(900)에는 유기물 소스(600)가 화소별로 증착되게 하는 프레임 일체형 마스크(100, 200)[또는, FMM]이 밀착되거나 매우 근접하도록 배치될 수 있다. 마그넷(310)이 자기장을 발생시키고 자기장에 의해 대상 기판(900)에 밀착될 수 있다.A target substrate 900 such as glass on which the organic material source 600 is deposited may be interposed between the magnet plate 300 and the source deposition unit 500 . The frame-integrated masks 100 and 200 (or FMM) for depositing the organic material source 600 pixel by pixel may be disposed on the target substrate 900 so as to be in close contact with or very close to each other. The magnet 310 generates a magnetic field and may adhere to the target substrate 900 by the magnetic field.

증착 소스 공급부(500)는 좌우 경로를 왕복하며 유기물 소스(600)를 공급할 수 있고, 증착 소스 공급부(500)에서 공급되는 유기물 소스(600)들은 프레임 일체형 마스크(100, 200)에 형성된 패턴(P)을 통과하여 대상 기판(900)의 일측에 증착될 수 있다. 프레임 일체형 마스크(100, 200)의 패턴(P)을 통과한 증착된 유기물 소스(600)는 OLED의 화소(700)로서 작용할 수 있다.The deposition source supply unit 500 may supply the organic material source 600 by reciprocating left and right paths, and the organic material source 600 supplied from the deposition source supply unit 500 may form a pattern P formed on the frame integrated masks 100 and 200. ) and deposited on one side of the target substrate 900 . The deposited organic material source 600 passing through the pattern P of the frame-integrated masks 100 and 200 may serve as the pixel 700 of the OLED.

새도우 이펙트(Shadow Effect)에 의한 화소(700)의 불균일 증착을 방지하기 위해, 프레임 일체형 마스크(100, 200)의 패턴은 경사지게 형성(S)[또는, 테이퍼 형상(S)으로 형성]될 수 있다. 경사진 면을 따라서 대각선 방향으로 패턴을 통과하는 유기물 소스(600)들도 화소(700)의 형성에 기여할 수 있으므로, 화소(700)는 전체적으로 두께가 균일하게 증착될 수 있다.In order to prevent non-uniform deposition of the pixels 700 due to a shadow effect, the patterns of the frame-integrated masks 100 and 200 may be inclined (S) (or formed in a tapered shape (S)). . Since the organic material sources 600 passing through the pattern in a diagonal direction along the inclined surface may also contribute to the formation of the pixel 700, the pixel 700 may be deposited with a uniform thickness as a whole.

본 발명은 상술한 바와 같이 바람직한 실시예를 들어 도시하고 설명하였으나, 상기 실시예에 한정되지 아니하며 본 발명의 정신을 벗어나지 않는 범위 내에서 당해 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자에 의해 다양한 변형과 변경이 가능하다. 그러한 변형예 및 변경예는 본 발명과 첨부된 특허청구범위의 범위 내에 속하는 것으로 보아야 한다.Although the present invention has been shown and described with preferred embodiments as described above, it is not limited to the above embodiments, and various variations can be made by those skilled in the art within the scope of not departing from the spirit of the present invention. Transformation and change are possible. Such modifications and variations are to be regarded as falling within the scope of this invention and the appended claims.

50: 템플릿(template)
51: 레이저 통과공
55, 65: 임시접착부
60, 60': 템플릿 지지부
100: 마스크
110: 마스크 막, 마스크 금속막
200: 프레임
210: 테두리 프레임부
220: 마스크 셀 시트부
221: 테두리 시트부
223: 제1 그리드 시트부
225: 제2 그리드 시트부
C: 셀, 마스크 셀
CR: 마스크 셀 영역
DM: 더미, 마스크 더미
L: 레이저
P: 마스크 패턴
WB: 용접 비드50: template
51: laser pass-through
55, 65: temporary adhesive part
60, 60': template support
100: mask
110: mask film, mask metal film
200: frame
210: border frame part
220: mask cell sheet portion
221: border seat portion
223: first grid sheet portion
225: second grid sheet portion
C: cell, mask cell
CR: mask cell area
DM: Dummy, Dummy Mask
L: laser
P: mask pattern
WB: weld bead

Claims (16)

OLED 화소 형성용 마스크를 지지하여 프레임에 대응시키는 마스크 지지 템플릿(template)의 제조 방법으로서,
(a) 템플릿 지지부에 형성된 홈에 템플릿을 삽입하는 단계;
(b) 복수의 마스크 패턴이 형성된 마스크를 측면 방향으로 인장력을 가한 상태로, 템플릿 및 템플릿 지지부의 적어도 일면 상에 접착하는 단계;
(c) 마스크의 테두리를 템플릿 크기와 동일하게 커팅하는 단계;
를 포함하는, 마스크 지지 템플릿의 제조 방법.A method of manufacturing a mask support template for supporting a mask for forming an OLED pixel to correspond to a frame,
(a) inserting a template into a groove formed in a template support;
(b) adhering the mask on which the plurality of mask patterns are formed on at least one surface of the template and the template support in a state in which tensile force is applied in a lateral direction;
(c) cutting the edge of the mask to the same size as the template;
Including, a method of manufacturing a mask support template. OLED 화소 형성용 마스크를 지지하여 프레임에 대응시키는 마스크 지지 템플릿(template)의 제조 방법으로서,
(a) 템플릿 지지부에 형성된 홈에 템플릿을 삽입하는 단계;
(b) 마스크 금속막을 측면 방향으로 인장력을 가한 상태로, 템플릿 및 템플릿 지지부의 적어도 일면 상에 접착하는 단계;
(c) 마스크 금속막에 복수의 마스크 패턴을 형성하고, 마스크 금속막 테두리를 템플릿 크기와 동일하게 커팅하여 마스크를 제조하는 단계;
를 포함하는, 마스크 지지 템플릿의 제조 방법.A method of manufacturing a mask support template for supporting a mask for forming an OLED pixel to correspond to a frame,
(a) inserting a template into a groove formed in a template support;
(b) adhering the mask metal film on at least one surface of the template and the template support in a state in which tensile force is applied in a lateral direction;
(c) manufacturing a mask by forming a plurality of mask patterns on the mask metal film and cutting an edge of the mask metal film to have the same size as the template;
Including, a method of manufacturing a mask support template. 제1항 또는 제2항에 있어서,
(c) 단계 이후, 템플릿 및 템플릿의 일면 상에 접착된 마스크를 템플릿 지지부로부터 분리하는 단계를 더 포함하는, 마스크 지지 템플릿의 제조 방법.According to claim 1 or 2,
After step (c), the method of manufacturing a mask support template further comprising the step of separating the template and the mask adhered on one surface of the template from the template support. 제1항에 있어서,
(b) 단계에서, 마스크에 대응하는 템플릿 및 템플릿 지지부의 일면 상에 임시접착부가 형성되는, 마스크 지지 템플릿의 제조 방법.According to claim 1,
In step (b), a temporary adhesive portion is formed on one surface of the template corresponding to the mask and the template support, the manufacturing method of the mask support template. 제2항에 있어서,
(b) 단계에서, 마스크 금속막에 대응하는 템플릿 및 템플릿 지지부의 일면 상에 임시접착부가 형성되는, 마스크 지지 템플릿의 제조 방법.According to claim 2,
In step (b), a temporary bonding portion is formed on one surface of the template corresponding to the mask metal film and the template support. 제1항 또는 제2항에 있어서,
(a) 단계에서, 템플릿 지지부의 홈에 임시접착부가 형성되어 템플릿의 타면이 임시접착부를 개재하여 템플릿 지지부에 접착되는, 마스크 지지 템플릿의 제조 방법.According to claim 1 or 2,
In step (a), a temporary adhesive portion is formed in the groove of the template support portion, and the other surface of the template is adhered to the template support portion through the temporary adhesive portion. 제1항 또는 제2항에 있어서,
(a) 단계에서, 템플릿과 템플릿 지지부의 정렬을 위한 위치 제어를 더 수행하는, 마스크 지지 템플릿의 제조 방법.According to claim 1 or 2,
In step (a), position control for aligning the template and the template support is further performed, the manufacturing method of the mask support template. 제1항 또는 제2항에 있어서,
(a) 단계 이후, 템플릿와 템플릿 지지부의 일면의 높이를 일치시키도록 평탄화 공정을 수행하는, 마스크 지지 템플릿의 제조 방법.According to claim 1 or 2,
After step (a), a planarization process is performed to match the heights of the template and one surface of the template support. 제1항 또는 제2항에 있어서,
템플릿 지지부는, 베이스판, 및 베이스판의 일면 테두리에 연결되고 중공 영역을 가지는 테두리판을 포함하고, 중공 영역이 템플릿 지지부의 홈에 대응하는, 마스크 지지 템플릿의 제조 방법.According to claim 1 or 2,
The method of manufacturing a mask support template, wherein the template support portion includes a base plate and an edge plate connected to an edge of one surface of the base plate and having a hollow region, wherein the hollow region corresponds to a groove of the template support portion. 제1항 또는 제2항에 있어서,
(c) 단계에서, 마스크는 양측에 인장력이 작용된 상태로 템플릿 상에 고정 접착되는, 마스크 지지 템플릿의 제조 방법.According to claim 1 or 2,
In step (c), the mask is fixedly adhered to the template in a state in which tension is applied to both sides, a method for manufacturing a mask support template. 적어도 하나의 마스크와 마스크를 지지하는 프레임이 일체로 형성된 프레임 일체형 마스크의 제조 방법으로서,
(a) 템플릿 지지부에 형성된 홈에 템플릿을 삽입하는 단계;
(b) 복수의 마스크 패턴이 형성된 마스크를 측면 방향으로 인장력을 가한 상태로, 템플릿 및 템플릿 지지부의 적어도 일면 상에 접착하는 단계;
(c) 마스크의 테두리를 템플릿 크기와 동일하게 커팅하는 단계;
(d) 적어도 하나의 마스크 셀 영역을 구비한 프레임 상에 템플릿을 로딩하여 마스크를 프레임의 마스크 셀 영역에 대응하는 단계;
(e) 마스크를 프레임에 부착하는 단계;
를 포함하는, 프레임 일체형 마스크의 제조 방법.A method of manufacturing a frame-integrated mask in which at least one mask and a frame supporting the mask are integrally formed,
(a) inserting a template into a groove formed in a template support;
(b) adhering the mask on which the plurality of mask patterns are formed on at least one surface of the template and the template support in a state in which tensile force is applied in a lateral direction;
(c) cutting the edge of the mask to the same size as the template;
(d) loading a template onto a frame having at least one mask cell region so that the mask corresponds to the mask cell region of the frame;
(e) attaching the mask to the frame;
A method of manufacturing a frame-integrated mask comprising a. 적어도 하나의 마스크와 마스크를 지지하는 프레임이 일체로 형성된 프레임 일체형 마스크의 제조 방법으로서,
(a) 템플릿 지지부에 형성된 홈에 템플릿을 삽입하는 단계;
(b) 마스크 금속막을 측면 방향으로 인장력을 가한 상태로, 템플릿 및 템플릿 지지부의 적어도 일면 상에 접착하는 단계;
(c) 마스크 금속막에 복수의 마스크 패턴을 형성하고, 마스크 금속막 테두리를 템플릿 크기와 동일하게 커팅하여 마스크를 제조하는 단계;
(d) 적어도 하나의 마스크 셀 영역을 구비한 프레임 상에 템플릿을 로딩하여 마스크를 프레임의 마스크 셀 영역에 대응하는 단계;
(e) 마스크를 프레임에 부착하는 단계;
를 포함하는, 프레임 일체형 마스크의 제조 방법.A method of manufacturing a frame-integrated mask in which at least one mask and a frame supporting the mask are integrally formed,
(a) inserting a template into a groove formed in a template support;
(b) adhering the mask metal film on at least one surface of the template and the template support in a state in which tensile force is applied in a lateral direction;
(c) manufacturing a mask by forming a plurality of mask patterns on the mask metal film and cutting an edge of the mask metal film to have the same size as the template;
(d) loading a template onto a frame having at least one mask cell region so that the mask corresponds to the mask cell region of the frame;
(e) attaching the mask to the frame;
A method of manufacturing a frame-integrated mask comprising a. 제11항 또는 제12항에 있어서,
(d) 단계에서, 마스크는 양측에 인장력이 작용된 상태로 템플릿 상에 고정 접착되어, 템플릿의 위치 제어로만 템플릿 상의 마스크를 마스크 셀 영역에 대응하는, 프레임 일체형 마스크의 제조 방법.According to claim 11 or 12,
In step (d), the mask is fixedly adhered to the template with tension applied to both sides, and the mask on the template corresponds to the mask cell region only by controlling the position of the template. 제13항에 있어서,
(e) 단계 이후, 임시접착부에 열 인가, 화학적 처리, 초음파 인가, UV 인가 중 적어도 어느 하나를 수행하여, 마스크와 템플릿을 분리하는, 프레임 일체형 마스크의 제조 방법.According to claim 13,
After step (e), at least one of heat application, chemical treatment, ultrasound application, and UV application is performed on the temporary adhesive portion to separate the mask and the template. 제14항에 있어서,
마스크로부터 템플릿이 분리되면, 마스크에 작용된 인장력이 프레임에 인가되는, 프레임 일체형 마스크의 제조 방법.According to claim 14,
When the template is separated from the mask, a tensile force applied to the mask is applied to the frame. 적어도 하나의 마스크와 마스크를 지지하는 프레임이 일체로 형성된 프레임 일체형 마스크의 제조 방법으로서,
(a) 적어도 하나의 마스크 셀 영역을 구비한 프레임 상에, 제1항 또는 제2항의 제조 방법으로 제조한 템플릿을 로딩하여 마스크를 프레임의 마스크 셀 영역에 대응하는 단계; 및
(b) 마스크를 프레임에 부착하는 단계
를 포함하는, 프레임 일체형 마스크의 제조 방법.A method of manufacturing a frame-integrated mask in which at least one mask and a frame supporting the mask are integrally formed,
(a) loading a template manufactured by the manufacturing method of claim 1 or 2 onto a frame having at least one mask cell area, thereby making a mask correspond to the mask cell area of the frame; and
(b) attaching the mask to the frame
A method of manufacturing a frame-integrated mask comprising a.
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