JP2000313007A - 押出成形装置とこれを用いる成形体の製造方法 - Google Patents

押出成形装置とこれを用いる成形体の製造方法

Info

Publication number
JP2000313007A
JP2000313007A JP11123699A JP12369999A JP2000313007A JP 2000313007 A JP2000313007 A JP 2000313007A JP 11123699 A JP11123699 A JP 11123699A JP 12369999 A JP12369999 A JP 12369999A JP 2000313007 A JP2000313007 A JP 2000313007A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
extrusion
die
wire
piano wire
roller
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP11123699A
Other languages
English (en)
Other versions
JP3999910B2 (ja
Inventor
Kazuya Tsuchimoto
和也 土本
Osamu Yamanishi
修 山西
Kunihisa Ito
邦久 伊藤
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Sumitomo Chemical Co Ltd
Original Assignee
Sumitomo Chemical Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Sumitomo Chemical Co Ltd filed Critical Sumitomo Chemical Co Ltd
Priority to JP12369999A priority Critical patent/JP3999910B2/ja
Priority to KR1020000022021A priority patent/KR20000071810A/ko
Publication of JP2000313007A publication Critical patent/JP2000313007A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP3999910B2 publication Critical patent/JP3999910B2/ja
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Fee Related legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/70Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
    • G03F7/70483Information management; Active and passive control; Testing; Wafer monitoring, e.g. pattern monitoring
    • G03F7/70591Testing optical components
    • G03F7/706Aberration measurement
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B30PRESSES
    • B30BPRESSES IN GENERAL
    • B30B11/00Presses specially adapted for forming shaped articles from material in particulate or plastic state, e.g. briquetting presses, tabletting presses
    • B30B11/22Extrusion presses; Dies therefor
    • B30B11/227Means for dividing the extruded material into briquets
    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01MTESTING STATIC OR DYNAMIC BALANCE OF MACHINES OR STRUCTURES; TESTING OF STRUCTURES OR APPARATUS, NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • G01M11/00Testing of optical apparatus; Testing structures by optical methods not otherwise provided for
    • G01M11/02Testing optical properties
    • G01M11/0242Testing optical properties by measuring geometrical properties or aberrations
    • G01M11/0257Testing optical properties by measuring geometrical properties or aberrations by analyzing the image formed by the object to be tested
    • G01M11/0264Testing optical properties by measuring geometrical properties or aberrations by analyzing the image formed by the object to be tested by using targets or reference patterns
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/70Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
    • G03F7/70216Mask projection systems
    • G03F7/70258Projection system adjustments, e.g. adjustments during exposure or alignment during assembly of projection system
    • G03F7/70266Adaptive optics, e.g. deformable optical elements for wavefront control, e.g. for aberration adjustment or correction
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/70Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
    • G03F7/70483Information management; Active and passive control; Testing; Wafer monitoring, e.g. pattern monitoring
    • G03F7/70605Workpiece metrology
    • G03F7/70616Monitoring the printed patterns
    • G03F7/70633Overlay, i.e. relative alignment between patterns printed by separate exposures in different layers, or in the same layer in multiple exposures or stitching
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/70Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
    • G03F7/70483Information management; Active and passive control; Testing; Wafer monitoring, e.g. pattern monitoring
    • G03F7/70605Workpiece metrology
    • G03F7/70681Metrology strategies
    • G03F7/70683Mark designs
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/70Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
    • G03F7/70483Information management; Active and passive control; Testing; Wafer monitoring, e.g. pattern monitoring
    • G03F7/70605Workpiece metrology
    • G03F7/706843Metrology apparatus
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F9/00Registration or positioning of originals, masks, frames, photographic sheets or textured or patterned surfaces, e.g. automatically
    • G03F9/70Registration or positioning of originals, masks, frames, photographic sheets or textured or patterned surfaces, e.g. automatically for microlithography
    • G03F9/7073Alignment marks and their environment
    • G03F9/7076Mark details, e.g. phase grating mark, temporary mark
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F9/00Registration or positioning of originals, masks, frames, photographic sheets or textured or patterned surfaces, e.g. automatically
    • G03F9/70Registration or positioning of originals, masks, frames, photographic sheets or textured or patterned surfaces, e.g. automatically for microlithography
    • G03F9/7073Alignment marks and their environment
    • G03F9/708Mark formation

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Geometry (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Analytical Chemistry (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Glanulating (AREA)
  • Press-Shaping Or Shaping Using Conveyers (AREA)
  • Devices For Post-Treatments, Processing, Supply, Discharge, And Other Processes (AREA)
  • Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
  • Testing Of Optical Devices Or Fibers (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【課題】 ピアノ線等の切断用線材の長寿命化を図り、
端部が変形していない成形体を長時間連続して製造し得
る押出成形装置とこれを用いる成形体の製造方法を提供
することである。 【解決手段】 本発明の押出成形装置は、押出孔3を有
するダイ1と、前記押出孔3の前面を該押出孔3の周縁
に接触しながら横切って押出直後の成形品を切断するピ
アノ線6を有する切断装置2とを備え、前記切断装置2
が、前記ダイ1の外面と離隔対向し前記成形品の押出方
向と直交する方向に回転または往復動する取付け板9
と、この取付け板9に取り付けられ前記ダイ1との対向
面上にピアノ線6を張設した繰り出しローラ10および
巻き取りローラ11と、巻き取りローラ11を回転させ
てピアノ線6を巻き取りローラ11に巻き取る回転駆動
手段12とを備える。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、押出成形装置とこ
れを用いる成形体の製造方法に関する。
【従来の技術】
【0002】一般に、触媒、触媒担体、吸着材、乾燥
材、調湿材等は、直径2〜10mm、長さ10〜20m
m程度の円柱形または円筒形の成形体に成形され、これ
を反応器に充填して種々の化学反応プロセスに使用され
る。このような触媒等の成形体を製造するために、従来
から押出成形法が採用されている。すなわち、アルミナ
等の軟質な粘土状材料をダイから連続的に押し出した成
形品を小さく切断して成形体を製造する。その際、成形
品を刃物等で切断すると、成形体の切断された端部が変
形して、反応器内に密に充填できなくなり、その結果、
触媒等の充填量が少なくなって、化学反応プロセスに支
障をきたすという問題が生じる。
【0003】そのため、従来より、ダイから押し出され
た直後の軟質な成形品を、2点間に張設したピアノ線で
切断することが行われていた。すなわち、ピアノ線を2
点間に張設した支持板を用いて、この支持板を押出方向
と直交する方向に回転または往復動させて、ピアノ線を
一定の時間間隔でダイの押出孔前面を横切らせることに
より、押出直後の成形品を切断していた。このとき、ピ
アノ線はダイの押出孔の周縁に接触しながら横切ること
が重要であって、押出孔とピアノ線との間に隙間がある
と、成形品を引きちぎるような切断になるため、成形体
の端部が変形してしまう。また、使用するピアノ線につ
いても、あまり太いピアノ線を使用すると、成形体の端
部が変形するおそれがあるため、200μm以下の細い
ピアノ線を使用する必要があった。
【0004】従って、細いピアノ線をダイに繰り返し接
触させるために、ピアノ線がすぐに疲労し、切断してし
まうという問題があった。例えば、後述する比較例で
は、150μmのピアノ線を用いて、繰り返し成形品の
切断を行った場合、ピアノ線の寿命はわずか14分であ
った。実際の製造装置では、一対の支持板間に複数本の
ピアノ線を張設し、一対の支持板をその中心軸を中心に
して回転させているため、1〜2時間程度の寿命を有す
る。しかし、1〜2時間ごとに押出成形装置を止めて、
ピアノ線を交換しなければならないために、成形体の生
産性が悪いという問題があった。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、ピア
ノ線等の切断用線材の長寿命化を図り、端部が変形して
いない成形体を長時間連続して製造し得る押出成形装置
とこれを用いる成形体の製造方法を提供することであ
る。
【0006】
【課題を解決するための手段】上記課題を解決するため
の本発明の押出成形装置は、成形品が連続的に押し出さ
れる押出孔を有するダイと、2点間に張設され前記押出
孔の前面を該押出孔の周縁に接触しながら横切って押出
直後の成形品を切断する線材を有する切断装置とを備
え、前記切断装置が、前記ダイの外面と離隔対向し前記
成形品の押出方向と直交する方向に回転または往復動す
る取付け板と、この取付け板に取り付けられ前記ダイと
の対向面上に線材を張設した線材繰り出しローラおよび
線材巻き取りローラと、線材巻き取りローラを回転させ
て線材を前記繰り出しローラから巻き取りローラへと移
動させる回転駆動手段とを備えたことを特徴とする。
【0007】また、本発明の成形体の製造方法は、前記
押出成形装置を用いて、ダイから連続的に押し出される
成形品を切断装置で所定長さに順次切断することを特徴
とする。かかる本発明によれば、切断用の線材は巻き取
りローラで巻き取られながら、ダイから押し出された成
形品を順次に切断するので、同一箇所で何度も成形品を
切断することがなく、従ってダイに繰り返し又は連続的
に接触することによる疲労により線材が切断するのが回
避される。
【0008】
【発明の実施の形態】本発明の一実施形態を図1および
図2に示す。図1はこの実施形態にかかる押出成形装置
を示しており、ダイ1の前面には切断装置2が設けられ
ている。ダイ1は成形品が連続的に押し出される押出孔
3を有する。また、切断装置2は、2つのガイドローラ
4,5間に張りわたされたピアノ線6(線材)を有す
る。このピアノ線6は、押出孔3を設けた断面台形の膨
出部15の頂面に接触しながら押出孔3の前面を移動し
て、ダイ1から押し出された成形品を所定長さで切断し
て成形体7を得る。すなわち、前記切断装置2は、押出
方向に平行に配置された回転軸8に該回転軸8に直交し
て一体に取り付けられた円板形の取付け板9を備え、こ
の取付け板9をダイ1の外面と離隔対向させる共に、回
転軸8を回転させることにより成形品の押出方向に直交
する方向に回転させるように構成されている。
【0009】取付け板9のダイ1と対向した前面には、
前記したガイドローラ4,5が立設されると共に、取付
け板9の背面には繰り出しローラ10および巻き取りロ
ーラ11が取付けられている。ピアノ線6は、あらかじ
め繰り出しローラ10に巻装されており、この繰り出し
ローラ10からガイドローラ4および5を経て巻き取り
ローラ11へと張りわたされている。取付け板9には、
ピアノ線6を移動させるための開口部13,14が設け
られる。
【0010】巻き取りローラ11には、ピアノ線6を巻
き取るためのモーター12(回転駆動手段)が付設され
ており、このモーター12を駆動させて巻き取りローラ
11で巻き取ることによりピアノ線6を連続的に移動さ
せることができる。一方、巻き取られるピアノ線6に所
定の張力(テンション)を付与するために、繰り出しロ
ーラ10とその支持板20との間にはパーマヒストルク
コントローラ(商品名、小倉クラッチ(株)製)、パー
マトルク(商品名、(株)工進精工所製)等の回転抵抗
手段(図示せず)が設けられている。この回転抵抗手段
によってピアノ線6の張力を調整することができる。張
力は通常0.1〜1kgf、好ましくは0.25〜0.
5kgf程度であるのがよい。
【0011】前記回転軸8は、その後部で図示しない回
転駆動部によって軸心Bを中心に回転可能に支持され、
円板形のダイ1の中心軸と同軸上に設けられる。そし
て、図2に示すようにダイ1には複数の押出孔3が同心
円状に配設されているので、回転軸8を回転させて、取
付け板9を回転させることにより、その前面に張設した
ピアノ線6が各押出孔3の前面を横切りながら通過す
る。また、図2に示すように、この実施形態では、取付
け板9に回転軸8を介して互いに反対方向に2つのピア
ノ線6,6が張設されており、それぞれのピアノ線6,
6にて成形品の切断が行われる。
【0012】使用するピアノ線6は、直径が200μm
以下のものを使用するのが好ましい。ピアノ線6の径が
200μmより大きいと、得られる成形体が切断箇所で
潰れてしまうおそれがある。また、ピアノ線の長さは約
150〜10mであるのが好ましい。ピアノ線の長さが
150mを超えると、繰り出しローラ10への巻き付け
時にピアノ線6が折れ曲がるおそれがある。一方、ピア
ノ線の長さが10mを下回ると、頻繁にピアノ線6を交
換しなければならなくため、生産性が低下する。ピアノ
線6の巻き取り速度は、特に限定されるものではなく、
ダイ1からの成形品の押出速度、ダイ1内の押出孔3の
数等を考慮して適宜設定可能であり、通常10〜100
mm/分であるのがよい。
【0013】この実施形態では、ピアノ線6は押出孔3
を設けた断面台形の膨出部15の頂面に接触しながら移
動するが、上記のようにピアノ線6を連続的に巻き取り
ながら移動させているので、ピアノ線6が破断すること
がなくなる。従って、繰り出しローラ10に巻装された
ピアノ線6がほぼ全部巻き取られるまで、押出成形装置
を連続運転することができるようになり、頻繁にピアノ
線6を交換する手間が大幅に軽減され、生産性および作
業性が向上すると共に、製品の歩留りも向上し、さらに
ピアノ線6の切断によって工程が止まるのを防止できる
ため、工程管理も容易になるという利点がある。
【0014】次にこの実施形態で使用のダイ1について
説明する。ダイ1における押出孔3の内径は、約1mm
〜10mm、好ましくは約3mm〜6mmである。押出
孔の孔数はダイの外径、押出孔の内径等を考慮して決定
すればよく、例えば2ケ、4ケ、8ケ、16ケ、32ケ
等が挙げられる。
【0015】成形物の具体例としては、例えば触媒、触
媒担体、吸着材、乾燥材、調湿材等が挙げられる。ま
た、成形体の材料は無機材料に限定されるものではな
く、種々のプラスチック材料等に対して本発明の押出成
形装置は適用可能である。その際、使用する線材はピア
ノ線に限定されるものではなく、他の金属線であっても
良く、プラスチック材、繊維材等から作られた線材であ
ってもよいことは勿論である。さらに、上記実施形態で
は、取付け板9は回転するように構成されたが、成形品
の押出方向に対して直交する方向に往復動させても同様
の効果が得られる。
【0016】
【実施例】以下、実施例および比較例を挙げて本発明の
押出成形装置を説明する。 実施例 図1、図2に示す押出成形装置を用いて、粘土状のアル
ミナ触媒成形体を押出成形した。使用したダイ1は、表
面がクロムメッキされたもので、押出孔3を同心円状に
8個配設した円板形状を有する。押出孔3は内径が5m
mである。切断装置2は、径が150μm、長さ100
mのピアノ線6を用いて、張力0.5kgf(成形開始
時)〜0.25kgf(成形終了時)で巻き取り速度2
5mm/分にてピアノ線6を連続的に移動させ、押出孔
3が設けられた膨出部15の頂面に接触しながら移動さ
せた。これらのダイ1および切断装置2を用いて、押出
速度40mm/分で上記アルミナ触媒成形体の押出成形
を行った。その結果、ピアノ線6は切断することなく8
時間57分の連続運転が可能であった。
【0017】比較例 ピアノ線6を巻き取らずに固定したまま、アルミナ触媒
成形体の押出成形を行った他は実施例と同様にしてアル
ミナ触媒成形体の押出成形を行った。その結果、成形開
始から14分でピアノ線が切断してしまい、成形操作を
中断せざるを得なかった。
【0018】
【発明の効果】本発明によれば、切断用の線材は繰り出
しローラから巻き取りローラへと移動しながら、ダイか
ら押し出された成形品を順次に切断するので、線材が疲
労により破断されるのが回避され、線材の長寿命化を図
ることができ、その結果、端部が変形していない成形体
を長時間連続して製造し得るという効果がある。
【0019】
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の一実施形態である押出成形装置を示す
概略断面図である。
【図2】切断用の線材とダイの押出孔との関係を示す概
略説明図である。
【符号の説明】
1 ダイ 2 切断装置 3 押出孔 6 ピアノ線(線材) 7 成形体 8 回転軸 10 繰り出しローラ 11 巻き取りローラ 12 モーター(回転駆動手段)
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き Fターム(参考) 4G054 AA00 AA05 AB00 AC00 BD01 BD18 4G055 AA00 AA07 AB03 AC05 BB05 BB13

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】成形品が連続的に押し出される押出孔を有
    するダイと、2点間に張設され前記押出孔の前面を該押
    出孔の周縁に接触しながら横切って押出直後の成形品を
    切断する線材を有する切断装置とを備え、 前記切断装置が、前記ダイの外面と離隔対向し前記成形
    品の押出方向と直交する方向に回転または往復動する取
    付け板と、この取付け板に取り付けられ前記ダイとの対
    向面上に線材を張設した線材繰り出しローラおよび線材
    巻き取りローラと、線材巻き取りローラを回転させて線
    材を前記繰り出しローラから巻き取りローラへと移動さ
    せる回転駆動手段とを備えたことを特徴とする押出成形
    装置。
  2. 【請求項2】請求項1記載の押出成形装置を用いて、ダ
    イから連続的に押し出される成形品を切断装置で所定長
    さに順次切断することを特徴とする成形体の製造方法。
JP12369999A 1999-04-30 1999-04-30 押出成形装置とこれを用いる成形体の製造方法 Expired - Fee Related JP3999910B2 (ja)

Priority Applications (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP12369999A JP3999910B2 (ja) 1999-04-30 1999-04-30 押出成形装置とこれを用いる成形体の製造方法
KR1020000022021A KR20000071810A (ko) 1999-04-30 2000-04-25 수차에 기인한 위치상의 이동과 위치 어긋남의 측정 장치및 방법

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP12369999A JP3999910B2 (ja) 1999-04-30 1999-04-30 押出成形装置とこれを用いる成形体の製造方法

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2000313007A true JP2000313007A (ja) 2000-11-14
JP3999910B2 JP3999910B2 (ja) 2007-10-31

Family

ID=14867161

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP12369999A Expired - Fee Related JP3999910B2 (ja) 1999-04-30 1999-04-30 押出成形装置とこれを用いる成形体の製造方法

Country Status (2)

Country Link
JP (1) JP3999910B2 (ja)
KR (1) KR20000071810A (ja)

Cited By (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2002079568A (ja) * 2000-09-07 2002-03-19 Sumitomo Chem Co Ltd 押出成形装置とこれを用いる成形体の製造方法
JP2007168369A (ja) * 2005-12-26 2007-07-05 Sumitomo Chemical Co Ltd 成形体の製造方法
JP2011143664A (ja) * 2010-01-18 2011-07-28 Sumitomo Chemical Co Ltd 押出成形装置およびこれを用いた成形体の製造方法
EP3173220A1 (en) * 2015-11-20 2017-05-31 The Boeing Company Device and method for cutting a continuous fiber reinforced material
CN108406812A (zh) * 2018-02-27 2018-08-17 福建三锋智能科技有限公司 一种加工夹具
CN109551761A (zh) * 2019-01-04 2019-04-02 西安交通大学 一种可自动更新刮刀的铺粉装置及铺粉方法
JP2019130816A (ja) * 2018-01-31 2019-08-08 積水ハウス株式会社 タイル模様付け装置
CN113118612A (zh) * 2021-03-17 2021-07-16 昆山哈工万洲焊接研究院有限公司 一种颗粒式搅拌摩擦增材制造装置及方法
CN114851558A (zh) * 2022-04-28 2022-08-05 飞而康快速制造科技有限责任公司 一种刮刀及3d打印机

Families Citing this family (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2002156738A (ja) * 2000-11-17 2002-05-31 Nec Corp パターン形成方法
US6753954B2 (en) * 2000-12-06 2004-06-22 Asml Masktools B.V. Method and apparatus for detecting aberrations in a projection lens utilized for projection optics
CN104941514A (zh) * 2015-05-26 2015-09-30 安徽大地节能科技有限公司 一种平模颗粒机

Cited By (13)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2002079568A (ja) * 2000-09-07 2002-03-19 Sumitomo Chem Co Ltd 押出成形装置とこれを用いる成形体の製造方法
JP2007168369A (ja) * 2005-12-26 2007-07-05 Sumitomo Chemical Co Ltd 成形体の製造方法
JP2011143664A (ja) * 2010-01-18 2011-07-28 Sumitomo Chemical Co Ltd 押出成形装置およびこれを用いた成形体の製造方法
EP3173220A1 (en) * 2015-11-20 2017-05-31 The Boeing Company Device and method for cutting a continuous fiber reinforced material
US10150262B2 (en) * 2015-11-20 2018-12-11 The Boeing Company System and method for cutting material in continuous fiber reinforced additive manufacturing
US10814511B2 (en) 2015-11-20 2020-10-27 The Boeing Company System and method for cutting material in continuous fiber reinforced additive manufacturing
US11529748B2 (en) 2015-11-20 2022-12-20 The Boeing Company System and method for cutting material in continuous fiber reinforced additive manufacturing
JP7087416B2 (ja) 2018-01-31 2022-06-21 積水ハウス株式会社 タイル模様付け装置
JP2019130816A (ja) * 2018-01-31 2019-08-08 積水ハウス株式会社 タイル模様付け装置
CN108406812A (zh) * 2018-02-27 2018-08-17 福建三锋智能科技有限公司 一种加工夹具
CN109551761A (zh) * 2019-01-04 2019-04-02 西安交通大学 一种可自动更新刮刀的铺粉装置及铺粉方法
CN113118612A (zh) * 2021-03-17 2021-07-16 昆山哈工万洲焊接研究院有限公司 一种颗粒式搅拌摩擦增材制造装置及方法
CN114851558A (zh) * 2022-04-28 2022-08-05 飞而康快速制造科技有限责任公司 一种刮刀及3d打印机

Also Published As

Publication number Publication date
KR20000071810A (ko) 2000-11-25
JP3999910B2 (ja) 2007-10-31

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP2000313007A (ja) 押出成形装置とこれを用いる成形体の製造方法
JP6128455B1 (ja) チョップド繊維束の製造装置およびその製造方法
US2545869A (en) Multiple fiber strand
JPH0720654B2 (ja) ゴム付スチールコード材の製造方法およびその装置
US3589958A (en) Method for the preparation of filament reinforced sheet
US5678774A (en) Fiberglass cutting apparatus and method
US6038949A (en) Method for dispensing reinforcement fibers
EP0223431A2 (en) Apparatus and method for forming pellets
JP2000313008A (ja) 押出成形用ダイ、これを用いた押出成形装置および成形体の製造方法
US3674898A (en) Method for bias cutting a tubular net
JP3881829B2 (ja) 押出成形装置とこれを用いる成形体の製造方法
JP2011148162A (ja) リボン状ストリップの貼着方法、貼着装置および、その装置に用いる口金
JP2005139585A (ja) スチールワイヤゴム複合材料の製造方法及びその装置
JPH09119025A (ja) 長繊維の切断方法
JP2633358B2 (ja) 長繊維樹脂組成物の製造方法およびその製造装置
US4913015A (en) Soft material cutting apparatus
CN221396499U (zh) 一种纸制品包装用模切机
JPH06287817A (ja) チョップドストランドの製造方法および装置
JP4363504B2 (ja) コード入りゴム状弾性シート材料の製造方法及び装置
CN2889722Y (zh) 柔印机的分切收卷装置
JP3668273B2 (ja) 押出機の冷却水槽
JP2006231767A (ja) 押出成形装置および成形方法
JPS62227635A (ja) 合成樹脂製コイルスプリングの製造方法
JPH06277780A (ja) 長尺異形断面板の高速金型圧延装置
JP2001047495A (ja) 網状プラスチック成形体の製造方法

Legal Events

Date Code Title Description
A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20051130

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20060718

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20060911

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20070131

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20070305

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20070731

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20070810

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100817

Year of fee payment: 3

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110817

Year of fee payment: 4

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120817

Year of fee payment: 5

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120817

Year of fee payment: 5

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130817

Year of fee payment: 6

LAPS Cancellation because of no payment of annual fees