JP2000309886A - ホーロー製品及びその洗浄方法並びにホーロー製品用洗剤 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 タワシやブラシで強くこすらなくても、洗剤
と水を含ませた布で軽くこする程度の清掃により、表面
の汚れを簡単に除去できるホーロー製品の提供。 【解決手段】 金属基材表面に釉薬層が形成されている
ホーロー製品であって、前記釉薬層中にはＡｇ成分が含
有されていることを特徴とする易清掃性ホーロー製品。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、脂肪酸系の汚れが
固着しにくく、布拭き程度で簡単に除去可能な台所、浴
室、トイレ等で利用可能なホーロー製品に関する。

【０００２】

【従来の技術】ホーロー製品の表面を清浄に保つこと、
及び長期に亘って美観を高く保つことは、ホーロー製品
が一般的に台所、浴室、トイレ、洗面所等の生活空間で
広く使用されていることから必要とされる特性である。
古くより一般家庭において、ホーロー製品表面を衛生的
に清浄に保ち、美観を高く保つための方法として、界面
活性剤、酸、アルカリ等の洗剤や研磨剤をタワシやブラ
シに付けて強くこする方法が採られてきた。

【０００３】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、この方
法によれば、汚れが付着する度に、タワシやブラシでこ
するという労働が要求される。特に、キッチンバック等
では脂肪酸系の油が強く固着して、それでも、なかなか
汚れが落ちないという問題があった。また、浴槽では喫
水線にやはり脂肪酸系の油が強く固着して、その清掃は
特に老齢者には大変であった。

【０００４】そこで、本発明の目的は、タワシやブラシ
で強くこすらなくても、洗剤と水を含ませた布で軽くこ
する程度の清掃により、ホーロー製品の表面の汚れを簡
単に除去できるようにしたホーロー製品を提供すること
を目的とする。

【０００５】

【課題を解決するための手段】本発明では、上記課題を
解決すべく、その一実施態様として、金属基材表面に釉
薬層が形成されているホーロー製品であって、前記釉薬
層中には、Ａｇ成分が含有されていることを特徴とする
易清掃性ホーロー製品を提供する。前記Ａｇ成分は、好
ましくは前記釉薬層中の全金属成分に対して酸化物換算
量で０．１重量％以上、より好ましくは釉薬層中の全金
属成分に対して酸化物換算量で０．５重量％以上、最も
好ましくは１重量％以上とするのがよい。焼成により失
われないＡｇ成分を含有させることで、ホーロー製品表
面にＮａ及び／又はＫを含有する物質、より好適には陰
イオン界面活性剤と水を含ませた布により軽く拭くだけ
で、表面に付着汚れに対するセルフクリーニング機能を
付与することが可能となる。このことにつき、以下に詳
述する。Ａｇ成分が含有されている釉薬層表面に陰イオ
ン界面活性剤を作用させると、釉薬のガラス成分中の１
価のＡｇイオンと陰イオン界面活性剤中のＮａイオン等
の陽イオンとがまずイオン交換する（図１）。ところ
で、ホーロー製品表面に齎される付着汚れは、例えば、
キッチンパネルにおいては食用油（脂肪酸）や水垢、洗
面器及び浴室内壁においては、金属石鹸（石鹸カス）、
脂肪酸、脂肪酸エステル、蛋白質、アミノ酸、水垢等、
浴槽に関しては、喫水線では脂肪酸、脂肪酸エステル、
蛋白質、アミノ酸等、エプロン部では水垢、脂肪酸等で
あり、主要な付着汚れはカルボキシル末端基を含有する
油性汚れ及び水垢である。従って、例えば、カルボキシ
ル末端基を含有する油性汚れがホーロー製品表面に齎さ
れる場合に、イオン交換されて残留したＮａ成分等が存
在すると、Ｎａ成分が置換反応により優先的に上記油性
汚れに付加され、或いは吸着される。それにより、上記
汚れの水との親和性が向上し、汚れが低分子の場合には
汚れが水溶性化（ケン化）される。それにより、上記汚
れのホーロー製品表面への親和性よりも水との親和性が
高くなり、上記汚れが水により容易に除去されるように
なる（図２）。また、Ａｇ成分の量を、前記釉薬層中の
全金属成分に対して酸化物換算量で好ましくは０．１重
量％以上、より好ましくは０．５重量％以上、最も好ま
しくは１重量％以上であるようにすることにより、おそ
らくＮａ及び／又はＫを含有する物質や陰イオン界面活
性剤中の陽イオンとのイオン交換量が増大するために易
清掃機能は著しく向上する。

【０００６】本発明の好ましい態様においては、上記構
成において、前記釉薬層表面の表面粗さＲａが触針式表
面粗さ測定装置（ＪＩＳ−Ｂ０６５１）により、０．０
７μｍ未満、好ましくは０．０５μｍ以下、より好まし
くは０．０３μｍ以下であるようにする。そうすること
により、表面の凹凸に汚れが付着しにくくなり、清掃性
が著しく向上する。

【０００７】本発明の好ましい態様においては、上記構
成において、前記釉薬層は実質的に非晶質成分からなる
ようにする。釉薬層を実質的に非晶質成分（好ましくは
ガラス成分）からなるようにすることにより、Ａｇが＋
１価のイオンと交換可能な状態で存在しやすくなり、Ｎ
ａ及び／又はＫを含有する物質や陰イオン界面活性剤を
作用させた後の清掃性が向上する。

【０００８】本発明の好ましい態様においては、上記構
成において、前記釉薬層は実質的に水和可能な物質から
なるようにする。釉薬層が水和可能な物質からなるよう
にすることにより、Ｎａ及び／又はＫを含有する物質や
陰イオン界面活性剤を使用した布拭き程度の簡単な清掃
のみで、ホーロー製品表面に付着した油性汚れ、水垢等
の付着汚れが一層除去されやすくなる。このことにつ
き、以下に詳述する。Ａｇ成分が含有されている釉薬層
表面に例えば陰イオン界面活性剤を作用させると、釉薬
のガラス成分中の１価のＡｇイオンと陰イオン界面活性
剤中のＮａイオン等の陽イオンとがまずイオン交換す
る。ところで、ホーロー製品表面に齎される付着汚れ
は、例えば、キッチンパネルにおいては食用油（脂肪
酸）や水垢、洗面器及び浴室内壁においては、金属石鹸
（石鹸カス）、脂肪酸、脂肪酸エステル、蛋白質、アミ
ノ酸、水垢等、浴槽に関しては、喫水線では脂肪酸、脂
肪酸エステル、蛋白質、アミノ酸等、エプロン部では水
垢、脂肪酸等であり、主要な付着汚れはカルボキシル末
端基を含有する油性汚れ及び水垢である。従って、ホー
ロー製品表面に付着した上記カルボキシル末端基を含有
する油性汚れは、まず陰イオン界面活性剤中のＮａイオ
ン等の存在により、Ｎａイオン等の成分が置換反応によ
り優先的に上記油性汚れに付加され、或いは吸着され
る。それにより、上記汚れの水との親和性が向上し、汚
れが低分子の場合には汚れが水溶性化（ケン化）され
る。ここで、釉薬層が水和可能な物質からなるようにす
ると、ケン化された上記汚れは水和可能な物質中を電解
質としてかなり自由に移動できるようになる（図１）。
従って、タイル表面が重力方向に傾いている面では、特
に水洗によらずとも重力方向に上記油性汚れが移動する
ようになり、汚れは自動的に除去されるようになる（図
２）。

【０００９】本発明の好ましい態様においては、上記構
成において、前記釉薬層表面のゼータ電位は負であるよ
うにする。前記釉薬層表面のゼータ電位を負にすること
によって、ホーロー製品表面に水を接触させた場合に除
菌効果を持たせることができるようになる。このことに
つき、以下に詳述する。大腸菌等の菌類は、一般的に水
中において負に帯電していることが知られている。従っ
て、ホーロー製品表面のゼータ電位を負にすることによ
って、水を接触させた状態ではホーロー製品表面と菌類
とが電気的に反発し、菌類の付着を防止することができ
る。

【００１０】本発明の他の態様においては、金属基材表
面に着色性の第一の釉薬層が形成されており、前記第一
の釉薬層表面に透明性の第二の釉薬層が形成されている
ホーロー製品であって、前記第二の釉薬層中には、Ａｇ
成分が前記釉薬層中の全金属成分に対して酸化物換算量
で０．１重量％以上、より好ましくは０．５重量％以
上、最も好ましくは１重量％以上含有されていることを
特徴とする易清掃性ホーロー製品を提供する。上記構成
にすることにより、最表層を形成する第二の釉薬層には
顔料や乳濁剤を含まないことになるので、実質的にガラ
ス成分のみで構成させることになり、Ａｇが＋１価のイ
オンと交換可能な状態で存在しやすくなり、Ｎａ及び／
又はＫを含有する物質や陰イオン界面活性剤を作用させ
た後の清掃性が向上する。さらに、最表層を形成する第
二の釉薬層には顔料や乳濁剤を含まないことになるので
表面平滑性が良好となり、従って、表面の凹凸に汚れが
付着しにくくなり、より易清掃性が向上する。

【００１１】本発明の好ましい態様においては、上記構
成において、前記第二の釉薬層表面の表面粗さＲａが触
針式表面粗さ測定装置（ＪＩＳ−Ｂ０６５１）により、
０．０７μｍ未満、好ましくは０．０５μｍ以下、より
好ましくは０．０３μｍ以下であるようにする。そうす
ることにより、表面の凹凸に汚れが付着しにくくなり、
清掃性が著しく向上する。

【００１２】本発明の好ましい態様においては、上記構
成において、前記第二の釉薬層は実質的に非晶質成分か
らなるようにする。第二の釉薬層を実質的に非晶質成分
（好ましくはガラス成分）からなるようにすることによ
り、Ａｇが＋１価のイオンと交換可能な状態で存在しや
すくなり、Ｎａ及び／又はＫを含有する物質や陰イオン
界面活性剤を作用させた後の清掃性が向上する。

【００１３】本発明の好ましい態様においては、上記構
成において、前記第二の釉薬層は実質的に水和可能な物
質からなるようにする。第二の釉薬層が水和可能な物質
からなるようにすることにより、Ｎａ及び／又はＫを含
有する物質や陰イオン界面活性剤を使用した布拭き程度
の簡単な清掃のみで、ホーロー製品表面に付着した油性
汚れ、水垢等の付着汚れが一層除去されやすくなる。ホ
ーロー製品表面に付着した汚れが重力方向に除去されや
すくなる。

【００１４】本発明の好ましい態様においては、上記構
成において、前記釉薬層表面のゼータ電位は負であるよ
うにする。前記釉薬層表面のゼータ電位を負にすること
によって、ホーロー製品表面に水を接触させた場合に除
菌効果を持たせることができるようになる。このことに
つき、以下に詳述する。大腸菌等の菌類は、一般的に水
中において負に帯電していることが知られている。従っ
て、ホーロー製品表面のゼータ電位を負にすることによ
って、水を接触させた状態ではホーロー製品表面と菌類
とが電気的に反発し、菌類の付着を防止することができ
る。

【００１５】

【発明の実施の形態】本発明の一実施態様においては、
図３に示すように、金属基材表面に釉薬層が形成されて
いるホーロー製品であって、前記釉薬層中には、Ａｇ成
分が含有されていることを特徴とする易清掃性ホーロー
製品である。本発明の他の実施態様においては、図４に
示すように、金属基材表面に着色性の第一の釉薬層が形
成されており、前記第一の釉薬層表面に透明性の第二の
釉薬層が形成されているホーロー製品であって、前記第
二の釉薬層中には、Ａｇ成分が含有されていることを特
徴とする易清掃性ホーロー製品である。

【００１６】一般に釉薬層は、Ｓｉを主成分とし、その
他にＡｌ等の３価金属成分、Ｃａ、Ｍｇ、Ｚｎ等の２価
金属成分、Ｎａ、Ｋ等のアルカリ金属成分からなるが、
図３及び図４の態様においては、他にＡｇ成分が含有さ
れる。

【００１７】水和可能な物質としては、構造中を水分子
が通過可能な非架橋酸素を有するＳｉＯ₄網目構造体を
含む物質（例えば、シリカ、シリケート等）が利用でき
る。

【００１８】図３の実施態様のホーロー製品を製造する
１つの方法は、例えば、Ａｇを含有するフリット釉薬を
準備し、必要に応じて粉砕した後に、金属基材上に塗布
し、３００〜１０００度の温度で焼成する。図３の実施
態様のホーロー製品を製造する他の方法は、例えば、通
常の着色性の釉薬原料にＡｇを含む塩を釉薬に添加した
釉薬を準備し、必要に応じて粉砕した後に、金属基材上
に塗布し、３００〜１０００度の温度で焼成する。図３
の実施態様のホーロー製品を製造する他の方法は、例え
ば、ホーロー製品上に通常の着色性の釉薬を塗布した後
に、さらにその上に通常の着色性の釉薬原料にＡｇ成分
を含む塩を釉薬に添加した釉薬を塗布し、３００〜１０
００度の温度で焼成する。

【００１９】図４の実施態様のホーロー製品を製造する
他の方法は、例えば、ホーロー製品上に通常の着色性の
釉薬を塗布した後に、さらにその上にＡｇ成分を含む顔
料や乳濁剤を含まない（フリット）釉薬を塗布し、３０
０〜１０００度の温度で焼成する。

【００２０】本発明に利用可能な陰イオン界面活性剤と
しては、例えば、スルホン酸ポリオキシエチレンアルキ
ルフェニルエーテルナトリウム塩、脂肪酸ナトリウムセ
ッケン、脂肪酸カリセッケン、ジオクチルスルホコハク
酸ナトリウム、アルキルサルフェートソーダ塩、アルキ
ルエーテルサルフェートソーダ塩、ポリオキシエチレン
アルキルエーテルサルフェートソーダ塩、２−エチルヘ
キシルアルキル硫酸エステルナトリウム塩、アシルメチ
ルタウリン酸ナトリウム、ラウロイルメチルタウリン酸
ナトリウム、ドデシルベンゼンスルホン酸ナトリウム、
スルホコハク酸ラウリル２ナトリウム、ポリオキシエチ
レンスルホコハク酸ラウリル２ナトリウム、スルホＦＡ
エステルナトリウム塩等のＮａ塩又はＫ塩；スルホン酸
ポリオキシエチレンアルキルフェニルエーテルアンモニ
ウム塩、アルキルサルフェート、アルキルエーテルサル
フェート、ポリオキシエチレンアルキルエーテルサルフ
ェート、アルキルサルフェートＴＥＡ塩、ポリオキシエ
チレンアルキルエーテルサルフェートＴＥＡ塩、ポリカ
ルボン酸、オレオイルザルコシン、アミドエーテルサル
フェート、ラウロイルザルコシネート等が好適に利用で
きる。

【００２１】また、陰イオン界面活性剤にはキレート剤
を添加してもよい。キレート剤としては、ＥＤＴＡ、エ
デト酸塩等が好適に用いられる。キレート剤は一般に金
属封鎖剤（水中のＣａイオンやＭｇイオンと結合して金
属石鹸の生成を防止する）として洗剤に添加されること
が多く、Ａｇを含む釉薬に対して陰イオン界面活性剤と
同時に用いた場合には、Ａｇイオンの捕捉効果が高ま
り、界面活性剤によるイオン交換の働きを高めることが
できる。

【００２２】

【実施例】（比較例１）ＳｉＯ₂−Ｂ₂Ｏ₃−Ｎａ₂Ｏを主
成分とする＃１釉薬原料（Ａｇ成分は含まれない）を、
電気炉を用いて１３００〜１４００℃にて溶融し、水中
で急冷してガラスフリットを得た。これを、スタンプミ
ルにより粉砕し、得られた粉末６００ｇと水４００ｇ及
びアルミナボール１ｋｇを、容積２リットルの陶器製ポ
ット中に入れ、ボールミルにより約１８時間粉砕した。
レーザー回折式粒度分布計を用いて、粉砕後に得られた
釉薬スラリーの粒径を測定したところ、１０μｍ以下が
６５％、５０％平均粒径（Ｄ５０）が５．８μｍであっ
た。その後、上記釉薬スラリーを乾燥させ、粉末状の釉
薬を得た。ここで得られた釉薬粉末を、釉薬Ａとする。
また、上記＃１釉薬原料から乳濁剤と顔料を除いた組成
からなる釉薬基材（Ａｇ成分は含まれない）を、電気炉
を用いて１３００〜１４００℃にて溶融し、水中で急冷
してガラスフリットを得た。これを、スタンプミルによ
り粉砕し、得られた粉末６００ｇと水４００ｇ及びアル
ミナボール１ｋｇを、容積２リットルの陶器製ポット中
に入れ、ボールミルにより約１８時間粉砕した。レーザ
ー回折式粒度分布計を用いて、粉砕後に得られた釉薬ス
ラリーの粒径を測定したところ、１０μｍ以下が６８
％、５０％平均粒径（Ｄ５０）が６．０μｍであった。
その後、上記釉薬スラリーを乾燥させ、粉末状の釉薬を
得た。ここで得られた釉薬粉末を、釉薬Ｂとする。次
に、８００〜１０００℃に加熱した１００×１００ｍｍ
の鋳鉄製の板状試験片を炉から取り出して、下層として
ふるいで釉薬Ａをふるい掛けし、８００〜１０００℃で
焼成した。続いて、上記試験片を炉から取り出して、上
層としてふるいで釉薬Ｂをふるい掛けし、再び８００〜
１０００℃で焼成することによりホーロー試料を得た。
得られた試料について、洗浄等は一切行わず、目視によ
る釉薬層の外観評価、キッチンパネルでの使用を想定し
た疑似汚れによる水中での耐汚染試験及び空気中での耐
汚染試験、釉薬層表面の抗菌性試験を行った。釉薬層の
外観は、目視においてクラック等の欠陥は見られず、ホ
ーロー製品として全く問題なかった。キッチンパネルで
の使用を想定した疑似汚れによる水中での耐汚染試験
は、初めに、オレイン酸２００重量部、エンジンオイル
１重量部、オイルブラック１重量部から成る疑似汚れを
作製した。ここで、オレイン酸は台所汚れの主原因であ
る食用油の主要成分、エンジンオイルとオイルブラック
は油が目視で見え易いようにするための添加剤である。
次に、３００ｃｃビーカーに蒸留水を約２７０ｃｃ入
れ、続いて、上記疑似汚れを約３０ｃｃ入れた。このビ
ーカー中に上記板状試料を沈め、試料沈降時に釉薬層表
面に付着した油汚れが水中で剥離するまでの時間を計測
した。その結果、５分間経っても釉薬面の一部分に油膜
が残っていた。また、疑似汚れによる空気中での耐汚染
試験は、上記成分の疑似汚れ０．３ｃｃを水平に置いた
板状試料の中央に滴下し、その後、垂直に傾けて５分間
経過した時に釉薬面上の疑似汚れの残存状態を目視によ
り評価した。その結果、上下方向に幅の広い油膜が帯状
に残存していた。

【００２３】抗菌性試験については、大腸菌（Ｅｓｃｈ
ｅｒｉｃｉａ ｃｏｌｉ，ＩＦＯ３９７２）に対する殺
菌効果を評価した。すなわち、あらかじめ７０ｖｏｌ％
のエタノールで殺菌し、乾燥させておいた上記試料の釉
薬層表面に、菌液０．２ｍｌ（菌数：１×１０⁵〜５×
１０⁵個）を滴下し、４５×４５ｍｍのポリエチレン製
フィルムで被覆して密着させ、温度３７±１℃、相対湿
度９０％以上の雰囲気中で２４時間静置した。その後、
フィルムをはがし、ＮＡ培地でスタンプし、温度３５±
１℃の環境下で１６〜２０時間培養して生菌数を測定し
た。同時に、抗菌性の無いブランクサンプル（対照品）
で試験して培養した菌数と、上記サンプル（供試品）で
試験して培養した菌数を比較することにより、減菌率及
び増殖抑制率を算出し、抗菌性を判定した。減菌率は、
以下の式により計算される。 減菌率（％）＝１００×（［対照品生残菌数］−［供試
品生残菌数］）／［対照品生残菌数］ また、増殖抑制率は、以下の式により計算される。 増殖抑制率＝ｌｏｇ（［対照品生残菌数］／［供試品生
残菌数］） なお、抗菌効果の有無の判定基準は、上記減菌率が９９
％以上又は増殖抑制率が２．０以上の場合「抗菌効果あ
り」、それ以下の場合は「抗菌効果なし」と判定する。
その結果、本比較例１試料の減菌率は３５％、増殖抑制
率は０．１９であり、「抗菌効果なし」と判定された。

【００２４】（比較例２）比較例１で調製した釉薬Ｂの
組成に対して、Ａｇ成分が含まれるように調合した釉薬
基材（Ａｇ₂Ｏの重量はガラス成分の合計重量に対して
０．５重量％である）を、電気炉を用いて１３００〜１
４００℃にて溶融し、水中で急冷してガラスフリットを
得た。これをスタンプミルにより粉砕し、得られた粉末
６００ｇと水４００ｇ及びアルミナボール１ｋｇを、容
積２リットルの陶器製ポット中に入れ、ボールミルによ
り約１８時間粉砕した。レーザー回折式粒度分布計を用
いて、粉砕後に得られた釉薬スラリーの粒径を測定した
ところ、１０μｍ以下が６８％、５０％平均粒径（Ｄ５
０）が６．０μｍであった。その後、上記釉薬スラリー
を乾燥させ、粉末状の釉薬を得た。ここで得られた釉薬
粉末を、釉薬Ｃとする。次に、８００〜１０００℃に加
熱した１００×１００ｍｍの鋳鉄製の板状試験片を炉か
ら取り出し、下層としてふるいで釉薬Ａをふるい掛け
し、８００〜１０００℃で焼成した。続いて、上記試験
片を炉から取り出し、上層としてふるいで釉薬Ｃをふる
い掛けし、再び８００〜１０００℃で焼成することによ
りホーロー試料を得た。得られた試料について、洗浄等
は一切行わず、比較例１と同様に評価したところ、釉薬
層の外観は、目視においてクラック等の欠陥は見られ
ず、ホーロー製品として全く問題なかった。疑似汚れに
よる水中での耐汚染試験については、５分間経っても釉
薬面の一部分に油膜が残っていた。疑似汚れによる空気
中での耐汚染試験については、上下方向に幅の広い油膜
が帯状に残存していた。抗菌性試験結果は、減菌率９
９．９９９９１％、増殖抑制率６．０であり、「抗菌効
果あり」と判定された。

【００２５】（実施例１）比較例２で得られたホーロー
試料について、第一工業製薬製ネオゲンＳ−２０（成分
は直鎖ドデシルベンゼンスルホン酸ナトリウム）をしみ
込ませた市販のセルローズ製スポンジを用いて、試料の
釉薬層表面に陰イオン界面活性剤を塗布した後、蒸留水
中で超音波洗浄して各種評価に用いた。上記前処理をし
た後、比較例１と同様に評価したところ、釉薬層の外観
は、目視においてクラック等の欠陥は見られず、ホーロ
ー製品として全く問題なかった。疑似汚れによる水中で
の耐汚染試験については、水没後６０秒後に釉薬面の油
膜がほぼ完全に剥離した。疑似汚れによる空気中での耐
汚染試験については、釉薬層表面には極微量の油滴があ
るものの、滴下した油汚れはほぼ完全に流れ落ちてい
た。抗菌性試験結果は、減菌率７９％、増殖抑制率０．
６８であり、「抗菌効果なし」と判定された。

【００２６】（実施例２）比較例１で調製した釉薬Ｂの
スラリーにＡｇ粉末を添加し（Ａｇ₂Ｏの重量はガラス
成分の合計重量に対して０．５重量％である）、約１時
間撹拌した。レーザー回折式粒度分布計を用いて、撹拌
後に得られた釉薬スラリーの粒径を測定したところ、１
０μｍ以下が６５％、５０％平均粒径（Ｄ５０）が５．
８μｍであった。その後、上記釉薬スラリーを乾燥さ
せ、粉末状の釉薬を得た。ここで得られた粉末状の釉薬
を、釉薬Ｄとする。次に、８００〜１０００℃に加熱し
た１００×１００ｍｍの鋳鉄製の板状試験片を炉から取
り出し、下層として比較例１で調製した釉薬Ａをふるい
でふるい掛けし、８００〜１０００℃で焼成した。続い
て、上記試験片を炉から取り出し、上層としてふるいで
釉薬Ｄをふるい掛けし、再び８００〜１０００℃で焼成
することによりホーロー試料を得た。得られた試料につ
いて、鐘紡製ナイーブボティーソープ（界面活性剤の他
にもエデト酸塩を含む）をしみ込ませた市販のセルロー
ズ製スポンジを用いて、試料の釉薬層表面に陰イオン界
面活性剤を塗布した後、蒸留水中で超音波洗浄して各種
評価に用いた。上記前処理をした後、比較例１と同様に
評価したところ、釉薬層の外観は、目視においてクラッ
ク等の欠陥は見られず、ホーロー製品として全く問題な
かった。疑似汚れによる水中での耐汚染試験について
は、水没後４０秒後に釉薬面の油膜がほぼ完全に剥離し
た。疑似汚れによる空気中での耐汚染試験については、
釉薬層表面には極微量の油滴があるものの、滴下した油
汚れはほぼ完全に流れ落ちていた。抗菌性試験結果は、
減菌率９６％、増殖抑制率１．３であり、「抗菌効果な
し」と判定された。

【００２７】

【表１】

【００２８】本発明の実施例における評価結果をまとめ
て表１に示す。このように、本発明の実施例において
は、使用前に陰イオン界面活性剤と水で清掃することに
より、水中及び空気中での付着汚れが残存しにくい釉薬
層表面になっており、そのため、ホーロー製品としての
実使用においても、汚物が除去しやすくなっているもの
と推定される。

【００２９】

【発明の効果】本発明によれば、タワシやブラシで強く
こすらなくても、洗剤と水を含ませた布で軽くこする程
度の清掃により、ホーロー製品表面の汚れを簡単に除去
できるようになる。

【図面の簡単な説明】

【図１】 イオン交換によりホーロー製品表面に水和層
ができる状態を示す図。

【図２】 汚れ分子にＮａ等が吸着・置換され、水溶性
化される状態を示す図。

【図３】 本発明の一実施例を示す図。

【図４】 本発明の他の実施例を示す図。

【符号の説明】

１…金属基材 ２…着色性釉薬層 ３…透明性釉薬層

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 伊藤 正昭 福岡県北九州市小倉北区中島２丁目１番１ 号 東陶機器株式会社内 (72)発明者 安藤 正美 福岡県北九州市小倉北区中島２丁目１番１ 号 東陶機器株式会社内 (72)発明者 林 浩一 福岡県北九州市小倉北区中島２丁目１番１ 号 東陶機器株式会社内 (72)発明者 早川 信 福岡県北九州市小倉北区中島２丁目１番１ 号 東陶機器株式会社内

Claims (36)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 金属基材表面に釉薬層が形成されている
   ホーロー製品であって、前記釉薬層中にはＡｇ成分が含
   有されていることを特徴とする易清掃性ホーロー製品。
2. 【請求項２】 金属基材表面に釉薬層が形成されている
   ホーロー製品であって、前記釉薬層中にはＡｇ成分が含
   有されており、前記釉薬層にＮａ及び／又はＫ成分を含
   有する物質を作用させることにより前記Ａｇ成分と前記
   Ｎａ又はＫ成分とがイオン交換されて油性汚れに対する
   セルフクリーニング機能を呈するようになることを特徴
   とする易清掃性ホーロー製品。
3. 【請求項３】 金属基材表面に釉薬層が形成されている
   ホーロー製品であって、前記釉薬層中にはＡｇ成分が含
   有されており、前記釉薬層に陰イオン界面活性剤を作用
   させることにより前記Ａｇ成分と前記陰イオン界面活性
   剤中の陽イオン成分とがイオン交換されて油性汚れに対
   するセルフクリーニング機能を呈するようになることを
   特徴とする易清掃性ホーロー製品。
4. 【請求項４】 前記Ａｇ成分が前記釉薬層中の全金属成
   分に対して酸化物換算量で０．１重量％以上含有されて
   いることを特徴とする請求項１乃至３に記載の易清掃性
   ホーロー製品。
5. 【請求項５】 前記Ａｇ成分が前記釉薬層中の全金属成
   分に対して酸化物換算量で０．５重量％以上含有されて
   いることを特徴とする請求項１乃至３に記載の易清掃性
   ホーロー製品。
6. 【請求項６】 前記Ａｇ成分が前記釉薬層中の全金属成
   分に対して酸化物換算量で１重量％以上含有されている
   ことを特徴とする請求項１乃至３に記載の易清掃性ホー
   ロー製品。
7. 【請求項７】 前記釉薬層表面の表面粗さＲａが触針式
   表面粗さ測定装置（ＪＩＳ−Ｂ０６５１）により、０．
   ０７μｍ未満であることを特徴とする請求項１〜６に記
   載の易清掃性ホーロー製品。
8. 【請求項８】 前記釉薬層表面の表面粗さＲａが触針式
   表面粗さ測定装置（ＪＩＳ−Ｂ０６５１）により、０．
   ０５μｍ未満であることを特徴とする請求項１〜６に記
   載の易清掃性ホーロー製品。
9. 【請求項９】 前記釉薬層表面の表面粗さＲａが触針式
   表面粗さ測定装置（ＪＩＳ−Ｂ０６５１）により、０．
   ０３μｍ未満であることを特徴とする請求項１〜６に記
   載の易清掃性ホーロー製品。
10. 【請求項１０】 前記釉薬層は実質的に非晶質成分から
    なることを特徴とする請求項１〜９に記載の易清掃性ホ
    ーロー製品。
11. 【請求項１１】 前記釉薬層は実質的に水和可能な物質
    からなることを特徴とする請求項１〜１０に記載の易清
    掃性ホーロー製品。
12. 【請求項１２】 前記釉薬層表面のゼータ電位は負であ
    ることを特徴とする請求項１〜１１に記載の易清掃性ホ
    ーロー製品。
13. 【請求項１３】 金属基材表面に着色性の第一の釉薬層
    が形成されており、前記第一の釉薬層上に透明性の第二
    の釉薬層が形成されているホーロー製品であって、前記
    第二の釉薬層中には、Ａｇ成分が含有されていることを
    特徴とする易清掃性ホーロー製品。
14. 【請求項１４】 金属基材表面に着色性の第一の釉薬層
    が形成されており、前記第一の釉薬層表面に透明性の第
    二の釉薬層が形成されているホーロー製品であって、前
    記第二の釉薬層中には、Ａｇ成分が含有されており、前
    記釉薬層にＮａ及び／又はＫ成分を含有する物質を作用
    させることにより前記Ａｇ成分と前記Ｎａ又はＫ成分と
    がイオン交換されて油性汚れに対するセルフクリーニン
    グ機能を呈するようになることを特徴とする易清掃性ホ
    ーロー製品。
15. 【請求項１５】 金属基材表面に着色性の第一の釉薬層
    が形成されており、前記第一の釉薬層表面に透明性の第
    二の釉薬層が形成されているホーロー製品であって、前
    記第二の釉薬層中には、Ａｇ成分が含有されており、前
    記釉薬層に陰イオン界面活性剤を作用させることにより
    前記Ａｇ成分と前記陰イオン界面活性剤中の陽イオン成
    分とがイオン交換されて油性汚れに対するセルフクリー
    ニング機能を呈するようになることを特徴とする易清掃
    性ホーロー製品。
16. 【請求項１６】 前記Ａｇ成分が前記釉薬層中の全金属
    成分に対して酸化物換算量で０．１重量％以上含有され
    ていることを特徴とする請求項１３〜１５に記載の易清
    掃性ホーロー製品。
17. 【請求項１７】 前記Ａｇ成分が前記釉薬層中の全金属
    成分に対して酸化物換算量で０．５重量％以上含有され
    ていることを特徴とする請求項１３〜１５に記載の易清
    掃性ホーロー製品。
18. 【請求項１８】 前記Ａｇ成分が前記釉薬層中の全金属
    成分に対して酸化物換算量で１重量％以上含有されてい
    ることを特徴とする請求項１３〜１５に記載の易清掃性
    ホーロー製品。
19. 【請求項１９】 前記第二の釉薬層表面の表面粗さＲａ
    が触針式表面粗さ測定装置（ＪＩＳ−Ｂ０６５１）によ
    り、０．０７μｍ未満であることを特徴とする請求項１
    ３〜１８に記載の易清掃性ホーロー製品。
20. 【請求項２０】 前記第二の釉薬層表面の表面粗さＲａ
    が触針式表面粗さ測定装置（ＪＩＳ−Ｂ０６５１）によ
    り、０．０５μｍ未満であることを特徴とする請求項１
    ３〜１８に記載の易清掃性ホーロー製品。
21. 【請求項２１】 前記第二の釉薬層表面の表面粗さＲａ
    が触針式表面粗さ測定装置（ＪＩＳ−Ｂ０６５１）によ
    り、０．０３μｍ未満であることを特徴とする請求項１
    ３〜１８に記載の易清掃性ホーロー製品。
22. 【請求項２２】 前記第二の釉薬層は実質的に非晶質成
    分からなることを特徴とする請求項１３〜２１に記載の
    易清掃性ホーロー製品。
23. 【請求項２３】 前記第二の釉薬層は実質的に水和可能
    な物質からなることを特徴とする請求項１３〜２２に記
    載の易清掃性ホーロー製品。
24. 【請求項２４】 前記第二の釉薬層表面のゼータ電位は
    負であることを特徴とする請求項１３〜２３に記載の易
    清掃性ホーロー製品。
25. 【請求項２５】 前記ホーロー製品は、キッチンパネル
    であることを特徴とする請求項１〜２４に記載の易清掃
    性ホーロー製品。
26. 【請求項２６】 前記ホーロー製品は、洗面器であるこ
    とを特徴とする請求項１〜２４に記載の易清掃性ホーロ
    ー製品。
27. 【請求項２７】 前記ホーロー製品は、浴槽であること
    を特徴とする請求項１〜２４に記載の易清掃性ホーロー
    製品。
28. 【請求項２８】 前記ホーロー製品は、浴室用建材であ
    ることを特徴とする請求項１〜２４に記載の易清掃性ホ
    ーロー製品。
29. 【請求項２９】 請求項１〜２８に記載のホーロー製品
    表面を、Ｎａ及び／又はＫを含有する物質で処理するこ
    とにより作製可能な油性汚れに対するセルフクリーニン
    グ機能を有するホーロー製品。
30. 【請求項３０】 請求項１〜２８に記載のホーロー製品
    表面を、陰イオン界面活性剤で処理することにより作製
    可能な油性汚れに対するセルフクリーニング機能を有す
    るホーロー製品。
31. 【請求項３１】 請求項１〜３０に記載のホーロー製品
    の清浄化したい部分に油性汚れに対するセルフクリーニ
    ング機能を付与する方法であって、清浄化したいホーロ
    ー製品部位をＮａ及び／又はＫを含有する物質を含有す
    る水に接触させることを特徴とするホーロー製品へのセ
    ルフクリーニング機能付与方法。
32. 【請求項３２】 請求項１〜３０に記載のホーロー製品
    の清浄化したい部分に油性汚れに対するセルフクリーニ
    ング機能を付与する方法であって、清浄化したいホーロ
    ー製品部位を陰イオン界面活性剤を含有する水に接触さ
    せることを特徴とするホーロー製品へのセルフクリーニ
    ング機能付与方法。
33. 【請求項３３】 請求項１〜３０に記載のホーロー製品
    の洗浄方法であって、洗浄したいホーロー製品部位をＮ
    ａ及び／又はＫを含有する物質を含有する水に接触させ
    ることを特徴とするホーロー製品の洗浄方法。
34. 【請求項３４】 請求項１〜３０に記載のホーロー製品
    の洗浄方法であって、洗浄したいホーロー製品部位を陰
    イオン界面活性剤を含有する水に接触させることを特徴
    とするホーロー製品の洗浄方法。
35. 【請求項３５】 請求項１〜３０に記載のホーロー製品
    を洗浄するための洗剤であって、Ｎａ及び／又はＫを含
    有する物質と水を含有することを特徴とするホーロー製
    品用洗剤。
36. 【請求項３６】 請求項１〜３０に記載のホーロー製品
    を洗浄するための洗剤であって、陰イオン界面活性剤と
    水を含有することを特徴とするホーロー製品用洗剤。