JP2000301086A - 光学部材の洗浄方法及びその装置 - Google Patents
光学部材の洗浄方法及びその装置Info
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- JP2000301086A JP2000301086A JP11064214A JP6421499A JP2000301086A JP 2000301086 A JP2000301086 A JP 2000301086A JP 11064214 A JP11064214 A JP 11064214A JP 6421499 A JP6421499 A JP 6421499A JP 2000301086 A JP2000301086 A JP 2000301086A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 コバ面等の端面（研削面）から脱落して光学
部材の研磨面に付着した研削屑、破片等をきれいに除去
することができる光学部材の洗浄方法及びその装置を提
供する。 【解決手段】 本発明の光学部材の洗浄方法は、研削加
工後の光学部材２を洗剤中で超音波洗浄する工程Ｈ１、
Ｈ２と、水中又は純水中で超音波洗浄する濯ぎ工程Ｈ８
〜Ｈ１０と、洗浄された光学部材を乾燥させる乾燥工程
Ｈ１２とを有する光学部材の洗浄方法において、乾燥工
程直前に光学部材２に純水を噴射する純水噴射洗浄工程
Ｈ１１を設けている。
部材の研磨面に付着した研削屑、破片等をきれいに除去
することができる光学部材の洗浄方法及びその装置を提
供する。 【解決手段】 本発明の光学部材の洗浄方法は、研削加
工後の光学部材２を洗剤中で超音波洗浄する工程Ｈ１、
Ｈ２と、水中又は純水中で超音波洗浄する濯ぎ工程Ｈ８
〜Ｈ１０と、洗浄された光学部材を乾燥させる乾燥工程
Ｈ１２とを有する光学部材の洗浄方法において、乾燥工
程直前に光学部材２に純水を噴射する純水噴射洗浄工程
Ｈ１１を設けている。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、ガラス、石英、結
晶物（Ｇｅ、Ｓｉなど）等の材料からなるレンズ、プリ
ズム等の光学屈折部材、液晶パネル用ガラス板のような
板物光学部材、その他の光学部材を研削加工後、洗浄す
る際に、これらの部材の研磨面に付着した研削屑、破片
等を洗浄する方法及びその装置に関する。
晶物（Ｇｅ、Ｓｉなど）等の材料からなるレンズ、プリ
ズム等の光学屈折部材、液晶パネル用ガラス板のような
板物光学部材、その他の光学部材を研削加工後、洗浄す
る際に、これらの部材の研磨面に付着した研削屑、破片
等を洗浄する方法及びその装置に関する。
【０００２】
【従来技術】一般に、レンズ、プリズム、液晶パネル用
ガラス板、その他の光学部材は、コバ面等の端面を研削
加工後、超音波洗浄装置を用いて洗浄され、その後蒸気
乾燥、遠心分離乾燥、純水引上乾燥等の乾燥工程を経て
乾燥され、表面をコーティングされ、製品化されてい
る。
ガラス板、その他の光学部材は、コバ面等の端面を研削
加工後、超音波洗浄装置を用いて洗浄され、その後蒸気
乾燥、遠心分離乾燥、純水引上乾燥等の乾燥工程を経て
乾燥され、表面をコーティングされ、製品化されてい
る。
【０００３】従来の洗浄方法及びその装置Ｇは、図１に
示すように、研削加工後のガラスレンズの有機物による
汚れ（作業者の指紋、研磨液、粉塵等）を有機洗剤によ
り超音波洗浄する工程Ａ１、Ａ２、有機洗剤を水道水に
より濯ぐ工程Ｂ１〜Ｂ３、イソプロピルアルコール（以
下、ＩＰＡと略記する）を用いて、水道水をＩＰＡに置
換する置換工程Ｃ１〜Ｃ３、フロン蒸気による乾燥工程
Ｄ１等からなっている。ここで、有機洗剤には、界面活
性剤を用いた水性のアルカリ洗剤が用いられている。ま
た、Ａ１、Ａ２、Ｂ１、Ｂ２、Ｃ１〜Ｃ３には、超音波
発振浴槽が用いられ、超音波発振槽には、出力５００
Ｗ、周波数２８ｋＨｚで超音波を発生するものが用いら
れている。
示すように、研削加工後のガラスレンズの有機物による
汚れ（作業者の指紋、研磨液、粉塵等）を有機洗剤によ
り超音波洗浄する工程Ａ１、Ａ２、有機洗剤を水道水に
より濯ぐ工程Ｂ１〜Ｂ３、イソプロピルアルコール（以
下、ＩＰＡと略記する）を用いて、水道水をＩＰＡに置
換する置換工程Ｃ１〜Ｃ３、フロン蒸気による乾燥工程
Ｄ１等からなっている。ここで、有機洗剤には、界面活
性剤を用いた水性のアルカリ洗剤が用いられている。ま
た、Ａ１、Ａ２、Ｂ１、Ｂ２、Ｃ１〜Ｃ３には、超音波
発振浴槽が用いられ、超音波発振槽には、出力５００
Ｗ、周波数２８ｋＨｚで超音波を発生するものが用いら
れている。
【０００４】なお、現在では、地球環境保護を目的とし
てのフロン放出規制により、乾燥工程には、ＩＰＡ蒸気
乾燥を用いるようになっており、現在の洗浄方法は、図
２に示すように、有機洗剤により超音波洗浄する工程Ａ
１、Ａ２、水道水と純水とにより有機洗剤を濯ぐ工程Ｂ
１、Ｂ２、Ｂ１’〜Ｂ３’、水道水をＩＰＡに置換する
置換工程Ｃ１〜Ｃ３、ＩＰＡ蒸気による乾燥工程Ｃ４等
からなっている。ここで、純水とは、抵抗値１〜５ＭΩ
／ｃｍ程度の純水である。
てのフロン放出規制により、乾燥工程には、ＩＰＡ蒸気
乾燥を用いるようになっており、現在の洗浄方法は、図
２に示すように、有機洗剤により超音波洗浄する工程Ａ
１、Ａ２、水道水と純水とにより有機洗剤を濯ぐ工程Ｂ
１、Ｂ２、Ｂ１’〜Ｂ３’、水道水をＩＰＡに置換する
置換工程Ｃ１〜Ｃ３、ＩＰＡ蒸気による乾燥工程Ｃ４等
からなっている。ここで、純水とは、抵抗値１〜５ＭΩ
／ｃｍ程度の純水である。
【０００５】最近では、ＩＰＡ蒸気乾燥工程Ｃ４に代え
て、遠心分離乾燥又は温純水引上乾燥の乾燥工程により
洗浄後の光学部材を乾燥させる方法が採られている。
て、遠心分離乾燥又は温純水引上乾燥の乾燥工程により
洗浄後の光学部材を乾燥させる方法が採られている。
【０００６】すなわち、図３に示すように、有機洗剤に
より超音波洗浄する工程Ａ１、Ａ２、水道水と純水とに
より有機洗剤を濯ぐ工程Ｂ１、Ｂ２、Ｂ１’〜Ｂ３’、
遠心分離乾燥による乾燥工程Ｅ１等からなる洗浄装置、
又は、図４に示すように、有機洗剤により超音波洗浄す
る工程Ａ１、Ａ２、水道水と純水とにより有機洗剤を濯
ぐ工程Ｂ１、Ｂ２、Ｂ１’〜Ｂ３’、温純水引上乾燥に
よる乾燥工程Ｅ１’等からなる洗浄装置が従来から知ら
れている。
より超音波洗浄する工程Ａ１、Ａ２、水道水と純水とに
より有機洗剤を濯ぐ工程Ｂ１、Ｂ２、Ｂ１’〜Ｂ３’、
遠心分離乾燥による乾燥工程Ｅ１等からなる洗浄装置、
又は、図４に示すように、有機洗剤により超音波洗浄す
る工程Ａ１、Ａ２、水道水と純水とにより有機洗剤を濯
ぐ工程Ｂ１、Ｂ２、Ｂ１’〜Ｂ３’、温純水引上乾燥に
よる乾燥工程Ｅ１’等からなる洗浄装置が従来から知ら
れている。
【０００７】
【解決しようとする課題】しかしながら、例えば、研磨
加工後のガラスレンズ等の光学部材では、コバ面等の端
面からの研削屑、破片等がレンズの研磨面に付着してお
り、図３又は図４の洗浄方法又は装置Ｇではきれいに洗
浄されない問題があった。
加工後のガラスレンズ等の光学部材では、コバ面等の端
面からの研削屑、破片等がレンズの研磨面に付着してお
り、図３又は図４の洗浄方法又は装置Ｇではきれいに洗
浄されない問題があった。
【０００８】これは、研削加工された光学部材そのもの
の組成・性質によると考えられる。
の組成・性質によると考えられる。
【０００９】すなわち、レンズのコバ面のように研削加
工された面は、その研削の衝撃からその部分に多少の振
動が作用しただけでガラス破片が脱落する。
工された面は、その研削の衝撃からその部分に多少の振
動が作用しただけでガラス破片が脱落する。
【００１０】そこで、レンズのコバ面のように研削加工
した面を研磨することが考えられるが、実用的ではな
い。
した面を研磨することが考えられるが、実用的ではな
い。
【００１１】さらに、コバ面のような研削加工した面か
ら研削屑や破片等が脱落しないようになるまで繰り返し
洗浄することも考えられるが、これは研磨面にかなりの
ダメージを与え、かつ、作業工程に多大の時間を掛ける
ことになり、作業効率を上げることができない。また、
超音波発振槽の周波数を例えば１００ｋＨｚの高周波数
に変えたとしても、あまり洗浄効果を上げることができ
なかった。
ら研削屑や破片等が脱落しないようになるまで繰り返し
洗浄することも考えられるが、これは研磨面にかなりの
ダメージを与え、かつ、作業工程に多大の時間を掛ける
ことになり、作業効率を上げることができない。また、
超音波発振槽の周波数を例えば１００ｋＨｚの高周波数
に変えたとしても、あまり洗浄効果を上げることができ
なかった。
【００１２】また、図５に示すように、シリコンウェハ
ーの洗浄装置での洗浄工程においては、アルカリ液工程
Ｆ１〜Ｆ３による洗浄後、純水シャワーによる濯ぎ工程
Ｆ４、Ｆ５、純水への浸漬による濯ぎ工程Ｆ６を経て、
窒素ガスを用いた遠心分離乾燥工程Ｆ７が行われている
ので、光学部材の洗浄方法及び装置にこの技術を転用し
て、有機洗剤の濯ぎ工程Ｂ１、Ｂ２、Ｂ１’〜Ｂ３’に
純水シャワー洗浄後、浸漬工程Ｆ４、Ｆ５、Ｆ６を付加
したとしても、従来の洗浄方法とほとんどかわらず、や
はりコバ面等の端面からの研削屑、破片等がレンズの屈
折面に付着していた。
ーの洗浄装置での洗浄工程においては、アルカリ液工程
Ｆ１〜Ｆ３による洗浄後、純水シャワーによる濯ぎ工程
Ｆ４、Ｆ５、純水への浸漬による濯ぎ工程Ｆ６を経て、
窒素ガスを用いた遠心分離乾燥工程Ｆ７が行われている
ので、光学部材の洗浄方法及び装置にこの技術を転用し
て、有機洗剤の濯ぎ工程Ｂ１、Ｂ２、Ｂ１’〜Ｂ３’に
純水シャワー洗浄後、浸漬工程Ｆ４、Ｆ５、Ｆ６を付加
したとしても、従来の洗浄方法とほとんどかわらず、や
はりコバ面等の端面からの研削屑、破片等がレンズの屈
折面に付着していた。
【００１３】そこで、本願発明は、コバ面等の端面（研
削面）から脱落して光学部材の研磨面に付着した研削
屑、破片等をきれいに除去することができる洗浄方法及
び装置を提供することを目的とする。
削面）から脱落して光学部材の研磨面に付着した研削
屑、破片等をきれいに除去することができる洗浄方法及
び装置を提供することを目的とする。
【００１４】
【課題を解決するための手段】請求項ｌに記載の光学部
材の洗浄方法は、研削加工後の光学部材を洗剤中で超音
波洗浄する工程と、水中又は純水中で超音波洗浄する濯
ぎ工程と、洗浄された光学部材を乾燥させる乾燥工程と
を有する光学部材の洗浄方法において、乾燥工程直前に
光学部材に純水を噴射する純水噴射洗浄工程を設けたこ
とを特微とする。
材の洗浄方法は、研削加工後の光学部材を洗剤中で超音
波洗浄する工程と、水中又は純水中で超音波洗浄する濯
ぎ工程と、洗浄された光学部材を乾燥させる乾燥工程と
を有する光学部材の洗浄方法において、乾燥工程直前に
光学部材に純水を噴射する純水噴射洗浄工程を設けたこ
とを特微とする。
【００１５】請求項２に記載の光学部材の洗浄方法は、
研削加工後の光学部材を洗剤中で超音波洗浄する工程
と、水中又は純水中で超音波洗浄する濯ぎ工程と、洗浄
された光学部材を乾燥させる乾燥工程とを有する光学部
材の洗浄方法において、乾燥工程直前に光学部材に純水
を墳射して光学部材の研磨面の付着物を除去する純水墳
射洗浄工程を設けたことを特徴とする。
研削加工後の光学部材を洗剤中で超音波洗浄する工程
と、水中又は純水中で超音波洗浄する濯ぎ工程と、洗浄
された光学部材を乾燥させる乾燥工程とを有する光学部
材の洗浄方法において、乾燥工程直前に光学部材に純水
を墳射して光学部材の研磨面の付着物を除去する純水墳
射洗浄工程を設けたことを特徴とする。
【００１６】請求項３に記載の光学部材の洗浄装置は、
研削加工後の光学部材を洗剤中で洗浄するための超音波
洗浄手段と、水中又は純水中で超音波洗浄するための濯
ぎ洗浄手段と、洗浄された光学部材を乾燥させるための
乾燥手段とを有する光学部材の洗浄装置において、乾燥
手段による乾燥工程直前に光学部材に純水を噴射する純
水噴射洗浄手段を設けたことを特徴とする。
研削加工後の光学部材を洗剤中で洗浄するための超音波
洗浄手段と、水中又は純水中で超音波洗浄するための濯
ぎ洗浄手段と、洗浄された光学部材を乾燥させるための
乾燥手段とを有する光学部材の洗浄装置において、乾燥
手段による乾燥工程直前に光学部材に純水を噴射する純
水噴射洗浄手段を設けたことを特徴とする。
【００１７】請求項４に記載の光学部材の洗浄装置は、
研削加工後の光学部材を洗剤中で洗浄するための超音波
洗浄手段と、水中又は純水中で超音波洗浄するための濯
ぎ洗浄手段と、洗浄された光学部材を乾燥させるための
乾燥手段とを有する光学部材の洗浄装置において、乾燥
手段による乾燥工程直前に光学部材の研磨面の付着物を
除去する純水噴射洗浄手段を設けたことを特徴とする。
研削加工後の光学部材を洗剤中で洗浄するための超音波
洗浄手段と、水中又は純水中で超音波洗浄するための濯
ぎ洗浄手段と、洗浄された光学部材を乾燥させるための
乾燥手段とを有する光学部材の洗浄装置において、乾燥
手段による乾燥工程直前に光学部材の研磨面の付着物を
除去する純水噴射洗浄手段を設けたことを特徴とする。
【００１８】
【発明の実施形態】本発明の光学部材の洗浄方法及びそ
の装置Ｇは、図６、図７に示すように、有機洗剤により
超音波洗浄する工程Ｈ１、Ｈ２、超音波により水道水を
用いて有機洗剤を濯ぐ濯ぎ工程Ｈ３、有機洗剤により超
音波洗浄する工程Ｈ４、Ｈ５、水道水により有機洗剤を
濯ぐ濯ぎ工程Ｈ６、Ｈ７、純水により有機洗剤を濯ぐ濯
ぎ工程Ｈ８〜Ｈ１０、遠心分離器による乾燥工程Ｈ１２
等からなっている。なお、本発明の光学部材の洗浄装置
Ｇはクラス１００以上のクリーンルーム内に設置され
て、洗浄が行われる。
の装置Ｇは、図６、図７に示すように、有機洗剤により
超音波洗浄する工程Ｈ１、Ｈ２、超音波により水道水を
用いて有機洗剤を濯ぐ濯ぎ工程Ｈ３、有機洗剤により超
音波洗浄する工程Ｈ４、Ｈ５、水道水により有機洗剤を
濯ぐ濯ぎ工程Ｈ６、Ｈ７、純水により有機洗剤を濯ぐ濯
ぎ工程Ｈ８〜Ｈ１０、遠心分離器による乾燥工程Ｈ１２
等からなっている。なお、本発明の光学部材の洗浄装置
Ｇはクラス１００以上のクリーンルーム内に設置され
て、洗浄が行われる。
【００１９】この洗浄方法及び装置において、乾燥工程
Ｈ１２の直前に純水によるシャワー洗浄工程（純水噴射
工程）Ｈ１１を設ける。このシャワー洗浄により、コバ
面の端面（研削面）から脱落してレンズ等の光学部材の
研磨面（屈折面）に付着した研削屑、破片等をきれいに
除去することができる。
Ｈ１２の直前に純水によるシャワー洗浄工程（純水噴射
工程）Ｈ１１を設ける。このシャワー洗浄により、コバ
面の端面（研削面）から脱落してレンズ等の光学部材の
研磨面（屈折面）に付着した研削屑、破片等をきれいに
除去することができる。
【００２０】ここで、遠心分離器による乾燥とは、高速
回転によって乾燥面上の水膜に遠心力を与え、その作用
で水きりを行う方法をいい、乾燥面は回転軸と直角な平
坦面であるのが望ましく、ウェハ、ガラス基板、ディス
ク基板など板状のものに主に適用される。
回転によって乾燥面上の水膜に遠心力を与え、その作用
で水きりを行う方法をいい、乾燥面は回転軸と直角な平
坦面であるのが望ましく、ウェハ、ガラス基板、ディス
ク基板など板状のものに主に適用される。
【００２１】また、純水とは、水中に混入した窒素、酸
素等の気体を除去した脱気済みの抵抗値が１６ＭΩ／ｃ
ｍ以上で、温度が３０℃程度の超純水をいう。超音波発
振槽には出力５００Ｗ、周波数２８ｋＨｚ、４０ｋＨ
ｚ、１００ＫＨｚで超音波を発生するものが用いられ
る。
素等の気体を除去した脱気済みの抵抗値が１６ＭΩ／ｃ
ｍ以上で、温度が３０℃程度の超純水をいう。超音波発
振槽には出力５００Ｗ、周波数２８ｋＨｚ、４０ｋＨ
ｚ、１００ＫＨｚで超音波を発生するものが用いられ
る。
【００２２】図８は、純水を用いて光学部材としてのレ
ンズをシャワー洗浄している状態を示している。搬送用
トレイ１に載置された研削加工後のレンズ２には、洗浄
槽Ｇ１の上面の四隅に設けられているノズル３から噴射
される純水シャワー４が浴びせられ、研削加工されたコ
バ面５から脱落して研磨面（屈折面）６に付着している
研削屑、破片等がきれいに洗い流される。なお、ノズル
３には図示を略すホースが接続され、純水タンクから高
圧の純水が供給され、搬送用トレイ１は搬送用ローラコ
ンベアＧ２に載置されて搬送される。また、図９に示す
ように、マイナスレンズ等の曲率半径が小さい側の屈折
面７にも、純水シヤワーが浴びせられ、コバ面５等の瑞
面（研削面）から脱落して研磨面（屈折面）７に付着し
ている研削屑、破片等をきれいに除去することができ
る。
ンズをシャワー洗浄している状態を示している。搬送用
トレイ１に載置された研削加工後のレンズ２には、洗浄
槽Ｇ１の上面の四隅に設けられているノズル３から噴射
される純水シャワー４が浴びせられ、研削加工されたコ
バ面５から脱落して研磨面（屈折面）６に付着している
研削屑、破片等がきれいに洗い流される。なお、ノズル
３には図示を略すホースが接続され、純水タンクから高
圧の純水が供給され、搬送用トレイ１は搬送用ローラコ
ンベアＧ２に載置されて搬送される。また、図９に示す
ように、マイナスレンズ等の曲率半径が小さい側の屈折
面７にも、純水シヤワーが浴びせられ、コバ面５等の瑞
面（研削面）から脱落して研磨面（屈折面）７に付着し
ている研削屑、破片等をきれいに除去することができ
る。
【００２３】レンズ２に限定されず、図１０に示すよう
に液晶用ガラス基板、プリズム、棒状レンズ等の板物光
学部材８であっても、同様に、乾燥、工程直前に純水シ
ャワーによる洗浄工程を設けることによって、同様の効
果を奏することができる。
に液晶用ガラス基板、プリズム、棒状レンズ等の板物光
学部材８であっても、同様に、乾燥、工程直前に純水シ
ャワーによる洗浄工程を設けることによって、同様の効
果を奏することができる。
【００２４】さらに、図７に示すように、有機洗剤によ
り超音波洗浄する工程Ｈ１、Ｈ２、超音波により水道水
を用いて有機洗剤を濯ぐ濯ぎ工程Ｈ３、有機洗剤により
超音波洗浄する工程Ｈ４、Ｈ５、有機洗剤を濯ぐ濯ぎ工
程Ｈ６、Ｈ７、純水により有機洗剤を濯ぐ濯ぎ工程Ｈ８
〜Ｈ１０、温純水引上乾燥による乾燥工程Ｈ１２’等か
らなる洗浄方法又は装置の場合にも、乾燥工程Ｈ１２’
の直前に純水シャワー工程（純水噴射工程）Ｈ１１を設
けても良い。
り超音波洗浄する工程Ｈ１、Ｈ２、超音波により水道水
を用いて有機洗剤を濯ぐ濯ぎ工程Ｈ３、有機洗剤により
超音波洗浄する工程Ｈ４、Ｈ５、有機洗剤を濯ぐ濯ぎ工
程Ｈ６、Ｈ７、純水により有機洗剤を濯ぐ濯ぎ工程Ｈ８
〜Ｈ１０、温純水引上乾燥による乾燥工程Ｈ１２’等か
らなる洗浄方法又は装置の場合にも、乾燥工程Ｈ１２’
の直前に純水シャワー工程（純水噴射工程）Ｈ１１を設
けても良い。
【００２５】ここで、温純水引上乾燥とは、ＬＣＤ（液
晶）ガラス基板、ハードディスク等の板物の乾燥に用い
られる方法で、被乾燥物を６０〜９０℃の温純水（１５
ＭＱΩ／ｃｍ以上の超純水、実施例では、１６ＭΩ／ｃ
ｍ以上）に浸漬してからゆっくり引き上げる方法をい
う。水の表面張力でほとんどの水が除去され、表面に残
った水の薄膜も、暖められた被乾燥物自身の熱によって
揮発するようになっている。
晶）ガラス基板、ハードディスク等の板物の乾燥に用い
られる方法で、被乾燥物を６０〜９０℃の温純水（１５
ＭＱΩ／ｃｍ以上の超純水、実施例では、１６ＭΩ／ｃ
ｍ以上）に浸漬してからゆっくり引き上げる方法をい
う。水の表面張力でほとんどの水が除去され、表面に残
った水の薄膜も、暖められた被乾燥物自身の熱によって
揮発するようになっている。
【００２６】この発明の実施の形態の場合においても、
コバ面５等の端面（研削面）からの研削屑、破片等をき
れいに除去することができる。
コバ面５等の端面（研削面）からの研削屑、破片等をき
れいに除去することができる。
【００２７】なお、この発明の実施の形態では、搬送用
トレイ１は搬送用ローラコンベアＧ２によって搬送され
ることとしたが、これに限るものではなく、ロボットア
ーム等のアーム機構を用いて乾燥工程Ｈ１２に送るよう
にしても良い。
トレイ１は搬送用ローラコンベアＧ２によって搬送され
ることとしたが、これに限るものではなく、ロボットア
ーム等のアーム機構を用いて乾燥工程Ｈ１２に送るよう
にしても良い。
【００２８】
【変形例】図１１、図１２は本発明の実施の形態の変形
例を説明するための説明図であって、この変形例では、
破線で示す浴槽９の浴壁の上部に洗浄用パイプ１０が搬
送用トレイ１の搬送方向Ｚ１と直交する方向に掛け渡さ
れている。この洗浄用パイプ１０には、例えば、穴径が
０．３ｍｍ〜１．５ｍｍの一対の噴射穴１１が洗浄パイ
プ１０の長手方向に５００個〜１０００個穿孔されてい
る。浴槽９の浴壁の上部には案内穴１２が設けられ、洗
浄パイプ１０はその案内穴１２に沿って上下方向Ｚ２に
可動される構成とされている。
例を説明するための説明図であって、この変形例では、
破線で示す浴槽９の浴壁の上部に洗浄用パイプ１０が搬
送用トレイ１の搬送方向Ｚ１と直交する方向に掛け渡さ
れている。この洗浄用パイプ１０には、例えば、穴径が
０．３ｍｍ〜１．５ｍｍの一対の噴射穴１１が洗浄パイ
プ１０の長手方向に５００個〜１０００個穿孔されてい
る。浴槽９の浴壁の上部には案内穴１２が設けられ、洗
浄パイプ１０はその案内穴１２に沿って上下方向Ｚ２に
可動される構成とされている。
【００２９】この変形例によれば、洗浄用パイプ１０の
通水路１３を通じて送られてきた純水は噴射穴１１を通
じて純水シャワー４として搬送方向両面の研磨面６、７
に浴びせられると共に、洗浄用パイプ１０の上下動によ
って研磨面６、７に当たる純水シャワー４の強さが加減
され、研磨面６、７に付着していた研削屑、破片等がよ
り一層効率的に除去される。
通水路１３を通じて送られてきた純水は噴射穴１１を通
じて純水シャワー４として搬送方向両面の研磨面６、７
に浴びせられると共に、洗浄用パイプ１０の上下動によ
って研磨面６、７に当たる純水シャワー４の強さが加減
され、研磨面６、７に付着していた研削屑、破片等がよ
り一層効率的に除去される。
【００３０】この変形例では、洗浄用パイプ１０を上下
方向Ｚ２に可動させる構成としたが、搬送用トレイ１が
浴槽９を通過する際に洗浄用パイプ１０を搬送方向に沿
う方向に複数回往復させる構成としても良い。
方向Ｚ２に可動させる構成としたが、搬送用トレイ１が
浴槽９を通過する際に洗浄用パイプ１０を搬送方向に沿
う方向に複数回往復させる構成としても良い。
【００３１】また、洗浄用パイプ１０を浴槽９の浴壁に
固定する構成としても良い。
固定する構成としても良い。
【００３２】
【発明の効果】本発明に係る光学部材の洗浄方法及びそ
の装置は、以上説明したように、乾燥工程直前に光学部
材に純水を噴射する純水噴射洗浄工程又は洗浄手段を設
けたので、コバ面等の端面（研削面）から脱落して光学
部材の研磨面に付着した研削屑、破片等をきれいに除去
することができる効果を奏する。
の装置は、以上説明したように、乾燥工程直前に光学部
材に純水を噴射する純水噴射洗浄工程又は洗浄手段を設
けたので、コバ面等の端面（研削面）から脱落して光学
部材の研磨面に付着した研削屑、破片等をきれいに除去
することができる効果を奏する。
【図１】 従来の光学部材の洗浄方法又は装置の工程の
一例を示す図である。
一例を示す図である。
【図２】 従来の光学部材の洗浄方法又は装置の工程の
他の例を示す図である。
他の例を示す図である。
【図３】 従来の光学部材の洗浄方法又は装置の工程の
更に他の例を示す図である。
更に他の例を示す図である。
【図４】 従来の光学部材の洗浄方法又は装置の工程の
更に他の例を示す図である。
更に他の例を示す図である。
【図５】 従来の光学部材の洗浄方法又は装置の工程の
更に他の例を示す図である。
更に他の例を示す図である。
【図６】 本発明に係わる光学部材の洗浄方法又は装置
の一例を示す図である。
の一例を示す図である。
【図７】 本発明に係わる光学部材の洗浄方法又は装置
の他の例を示す図である。
の他の例を示す図である。
【図８】 図６に示す純水シャワー工程による洗浄の説
明図であって、研削レンズに純水シャワーを噴射してい
る状態を示す斜視図である。
明図であって、研削レンズに純水シャワーを噴射してい
る状態を示す斜視図である。
【図９】 図８に示す斜視図を側面から見た図である。
【図１０】 板物光学部材に純水シャワーを噴射してい
る状態を示す斜視図である。
る状態を示す斜視図である。
【図１１】 本発明に係わる光学部材の洗浄方法又は装
置の変形例を説明するための斜視図である。
置の変形例を説明するための斜視図である。
【図１２】 本発明に係わる光学部材の洗浄方法又は装
置の変形例を説明するための側面図である。
置の変形例を説明するための側面図である。
２…レンズ（光学部材） Ｈ１、Ｈ２…工程 Ｈ８〜Ｈ１０…濯ぎ工程 Ｈ１１…純水シャワー工程（純水噴射工程） Ｈ１２…乾燥工程
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 村富 敬治 東京都板橋区蓮沼町75番１号株式会社トプ コン内 Ｆターム(参考） 3B201 AA02 AA03 AA46 AB14 AB44 BB02 BB33 BB44 BB82 BB83 BB90 BB92 BB93 BB94 CB15 CC01 CC13
Claims (4)
- 【請求項１】 研削加工後の光学部材を洗剤中で超音波
洗浄する工程と、 水中又は純水中で超音波洗浄する濯ぎ工程と、 洗浄された光学部材を乾燥させる乾燥工程とを有する光
学部材の洗浄方法において、 乾燥工程直前に光学部材に純水を噴射する純水噴射洗浄
工程を設けたことを特微とする光学部材の洗浄方法。 - 【請求項２】 研削加工後の光学部材を有機洗剤中で超
音波洗浄する工程と、 水中又は純水中で超音波洗浄する濯ぎ工程と、 洗浄された光学部材を乾燥させる乾燥工程とを有する光
学部材の洗浄方法において、 乾燥工程直前に光学部材に純水を墳射して光学部材の研
磨面の付着物を除去する純水墳射洗浄工程を設けたこと
を特徴とする光学部材の洗浄方法。 - 【請求項３】 研削加工後の光学部材を洗剤中で洗浄す
るための超音波洗浄手段と、 水中又は純水中で超音波洗浄するための濯ぎ洗浄手段
と、 洗浄された光学部材を乾燥させるための乾燥手段とを有
する光学部材の洗浄装置において、 乾燥手段による乾燥工程直前に光学部材に純水を噴射す
る純水噴射洗浄手段を設けたことを特徴とする光学部材
の洗浄装置。 - 【請求項４】 研削加工後の光学部材を洗剤中で洗浄す
るための超音波洗浄手段と、 水中又は純水中で超音波洗浄するための濯ぎ洗浄手段
と、 洗浄された光学部材を乾燥させるための乾燥手段とを有
する光学部材の洗浄装置において、 乾燥手段による乾燥工程直前に光学部材の研磨面の付着
物を除去する純水噴射洗浄手段を設けたことを特徴とす
る光学部材の洗浄装置。
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|---|---|---|---|
| JP11064214A JP2000301086A (ja) | 1999-02-19 | 1999-03-11 | 光学部材の洗浄方法及びその装置 |
Applications Claiming Priority (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11-41171 | 1999-02-19 | ||
| JP4117199 | 1999-02-19 | ||
| JP11064214A JP2000301086A (ja) | 1999-02-19 | 1999-03-11 | 光学部材の洗浄方法及びその装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2000301086A true JP2000301086A (ja) | 2000-10-31 |
| JP2000301086A5 JP2000301086A5 (ja) | 2005-11-10 |
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ID=26380733
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP11064214A Pending JP2000301086A (ja) | 1999-02-19 | 1999-03-11 | 光学部材の洗浄方法及びその装置 |
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| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2000301086A (ja) |
Cited By (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2009248060A (ja) * | 2008-04-10 | 2009-10-29 | Olympus Corp | 洗浄装置 |
| CN102989715A (zh) * | 2012-12-06 | 2013-03-27 | 中国科学院长春光学精密机械与物理研究所 | 一种深紫外光学薄膜基底的处理方法 |
| CN103721971A (zh) * | 2012-10-15 | 2014-04-16 | 江西盛泰光学有限公司 | 一种自动清洗摄像模的方法 |
| WO2014109204A1 (ja) * | 2013-01-10 | 2014-07-17 | Hoya株式会社 | 光学素子の製造方法 |
| JP2016131957A (ja) * | 2015-01-22 | 2016-07-25 | オリンパス株式会社 | 洗浄装置および洗浄方法 |
| CN110665927A (zh) * | 2019-09-16 | 2020-01-10 | 湖北久之洋红外系统股份有限公司 | 一种激光系统用光学玻璃的无损清洗工艺 |
| CN112857136A (zh) * | 2020-11-30 | 2021-05-28 | 邯郸钢铁集团有限责任公司 | 一种板式换热器超声波清洗装置及清洗方法 |
-
1999
- 1999-03-11 JP JP11064214A patent/JP2000301086A/ja active Pending
Cited By (11)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2009248060A (ja) * | 2008-04-10 | 2009-10-29 | Olympus Corp | 洗浄装置 |
| CN103721971A (zh) * | 2012-10-15 | 2014-04-16 | 江西盛泰光学有限公司 | 一种自动清洗摄像模的方法 |
| CN102989715A (zh) * | 2012-12-06 | 2013-03-27 | 中国科学院长春光学精密机械与物理研究所 | 一种深紫外光学薄膜基底的处理方法 |
| WO2014109204A1 (ja) * | 2013-01-10 | 2014-07-17 | Hoya株式会社 | 光学素子の製造方法 |
| CN104903267A (zh) * | 2013-01-10 | 2015-09-09 | Hoya株式会社 | 光学元件的制造方法 |
| JPWO2014109204A1 (ja) * | 2013-01-10 | 2017-01-19 | Hoya株式会社 | 光学素子の製造方法 |
| US9663402B2 (en) | 2013-01-10 | 2017-05-30 | Hoya Corporation | Method for manufacturing optical element |
| CN104903267B (zh) * | 2013-01-10 | 2018-03-09 | Hoya株式会社 | 光学元件的制造方法 |
| JP2016131957A (ja) * | 2015-01-22 | 2016-07-25 | オリンパス株式会社 | 洗浄装置および洗浄方法 |
| CN110665927A (zh) * | 2019-09-16 | 2020-01-10 | 湖北久之洋红外系统股份有限公司 | 一种激光系统用光学玻璃的无损清洗工艺 |
| CN112857136A (zh) * | 2020-11-30 | 2021-05-28 | 邯郸钢铁集团有限责任公司 | 一种板式换热器超声波清洗装置及清洗方法 |
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