JP2000297080A - ３位に不飽和基を有する２−イソオキサゾリン化合物の製造法 - Google Patents
３位に不飽和基を有する２−イソオキサゾリン化合物の製造法Info
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- JP2000297080A JP2000297080A JP11105630A JP10563099A JP2000297080A JP 2000297080 A JP2000297080 A JP 2000297080A JP 11105630 A JP11105630 A JP 11105630A JP 10563099 A JP10563099 A JP 10563099A JP 2000297080 A JP2000297080 A JP 2000297080A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 ３位に不飽和基を有するイソオキサゾリン化
合物の工業的に有利な製造法を提供する。 【解決手段】 一般式（２） 【化１】 （式中、Ｒは、Ｃ1-6 アルキル基または置換されてもよ
いアリール基を表す。）で表される化合物と一般式
（３） Ｒ1 ＭｇＸ （３） （式中、Ｒ1 は、Ｃ2-6 アルケニル基またはＣ2-6 アル
キニル基、Ｘは、ハロゲン原子を表す。）とを反応させ
て、一般式（１） 【化２】 （式中、Ｒ1 は、前記と同じ意味を表す。）で表される
化合物を得る。
合物の工業的に有利な製造法を提供する。 【解決手段】 一般式（２） 【化１】 （式中、Ｒは、Ｃ1-6 アルキル基または置換されてもよ
いアリール基を表す。）で表される化合物と一般式
（３） Ｒ1 ＭｇＸ （３） （式中、Ｒ1 は、Ｃ2-6 アルケニル基またはＣ2-6 アル
キニル基、Ｘは、ハロゲン原子を表す。）とを反応させ
て、一般式（１） 【化２】 （式中、Ｒ1 は、前記と同じ意味を表す。）で表される
化合物を得る。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、３位に不飽和基を
有する２−イソオキサゾリン化合物の製造法に関する。
有する２−イソオキサゾリン化合物の製造法に関する。
【０００２】
【従来の技術】本発明の３位に不飽和基を有する２−イ
ソオキサゾリンの製造法に関しては、従来、ニトロビニ
ル体から、脱酸素剤としてフェニルイソシアナートを使
用して発生させたニトリルオキシドとオレフィンとを反
応させて得る方法（Ａ．Ｂａｒａｎｓｋｉ：Ｐｏｌｉｓ
ｈ Ｊ．Ｃｈｅｍ．，５５，１１８９（１９８１））が
ある。しかしながらオレフィン類をもちいることによ
り、生成するニトリルオキシドが重合するため適用性が
低く、置換基Ｒ1 が著しく限定される。また、３−ニト
ロイソオキサゾリンと１−プロピンリチウムとの反応
（Ｐ．Ａ．Ｗａｄｅ：Ｔｅｔｒａｈｅｄｒｏｎ Ｌｅｔ
ｔｅｒｓ，３０，５９６９（１９８９）もあるが、プロ
ピンリチウムを用いる点で一般的ではない。
ソオキサゾリンの製造法に関しては、従来、ニトロビニ
ル体から、脱酸素剤としてフェニルイソシアナートを使
用して発生させたニトリルオキシドとオレフィンとを反
応させて得る方法（Ａ．Ｂａｒａｎｓｋｉ：Ｐｏｌｉｓ
ｈ Ｊ．Ｃｈｅｍ．，５５，１１８９（１９８１））が
ある。しかしながらオレフィン類をもちいることによ
り、生成するニトリルオキシドが重合するため適用性が
低く、置換基Ｒ1 が著しく限定される。また、３−ニト
ロイソオキサゾリンと１−プロピンリチウムとの反応
（Ｐ．Ａ．Ｗａｄｅ：Ｔｅｔｒａｈｅｄｒｏｎ Ｌｅｔ
ｔｅｒｓ，３０，５９６９（１９８９）もあるが、プロ
ピンリチウムを用いる点で一般的ではない。
【０００３】
【発明の解決しようとする課題】本発明は、イソオキサ
ゾリンの４，５位に置換基のない３位に不飽和基を有す
る２−イソオキサゾリンの一般的な製造法を得ることで
ある。
ゾリンの４，５位に置換基のない３位に不飽和基を有す
る２−イソオキサゾリンの一般的な製造法を得ることで
ある。
【０００４】
【課題を解決するための手段】すなわち、本発明は、
（ａ）一般式（２）
（ａ）一般式（２）
【０００５】
【化３】
【０００６】（式中、Ｒは、Ｃ1-6 アルキル基または置
換されてもよいアリール基を表す。）で表される化合物
と一般式（３） Ｒ1 ＭｇＸ （３） （式中、Ｒ1 は、Ｃ2-6 アルケニル基またはＣ2-6 アル
キニル基、Ｘは、ハロゲン原子を表す。）とを反応させ
ることを特徴とする一般式（１）
換されてもよいアリール基を表す。）で表される化合物
と一般式（３） Ｒ1 ＭｇＸ （３） （式中、Ｒ1 は、Ｃ2-6 アルケニル基またはＣ2-6 アル
キニル基、Ｘは、ハロゲン原子を表す。）とを反応させ
ることを特徴とする一般式（１）
【０００７】
【化４】
【０００８】（式中、Ｒ1 は、前記と同じ意味を表
す。）で表される化合物の製造法である。
す。）で表される化合物の製造法である。
【０００９】本発明において、Ｒは、メチル，エチル，
プロピル，イソプロピル，ブチル，イソブチル，ｓ−ブ
チル，ｔ−ブチルなどのＣ1-6 アルキル基、（任意の位
置に、フッ素，塩素，臭素，沃素などのハロゲン原子、
メチル，エチル，プロピル，イソプロピル，ブチル，ｔ
−ブチルなどのＣ1-6 アルキル基、メトキシ，エトキ
シ、プロポキシ，イソプロポキシ，ブトキシ，ｔ−ブト
キシなどのＣ1-6 アルコキシ基、クロロメチル，ジクロ
ロメチル，トリクロロメチル，フルオロメチル，ジフル
オロメチル，トリフルオロメチルなどのＣ1-6 ハロアル
キル基などで置換されてもよい）フェニル基、（任意の
位置に、フッ素，塩素，臭素，沃素などのハロゲン原
子、メチル，エチル，プロピル，イソプロピル，ブチ
ル，ｔ−ブチルなどのＣ1-6 アルキル基、メトキシ，エ
トキシ、プロポキシ，イソプロポキシ，ブトキシ，ｔ−
ブトキシなどのＣ1-6 アルコキシ基、クロロメチル，ジ
クロロメチル，トリクロロメチル，フルオロメチル，ジ
フルオロメチル，トリフルオロメチルなどのＣ1-6 ハロ
アルキル基などで置換されてもよい）ナフチル基などの
置換されてもよいアリール基を表す。
プロピル，イソプロピル，ブチル，イソブチル，ｓ−ブ
チル，ｔ−ブチルなどのＣ1-6 アルキル基、（任意の位
置に、フッ素，塩素，臭素，沃素などのハロゲン原子、
メチル，エチル，プロピル，イソプロピル，ブチル，ｔ
−ブチルなどのＣ1-6 アルキル基、メトキシ，エトキ
シ、プロポキシ，イソプロポキシ，ブトキシ，ｔ−ブト
キシなどのＣ1-6 アルコキシ基、クロロメチル，ジクロ
ロメチル，トリクロロメチル，フルオロメチル，ジフル
オロメチル，トリフルオロメチルなどのＣ1-6 ハロアル
キル基などで置換されてもよい）フェニル基、（任意の
位置に、フッ素，塩素，臭素，沃素などのハロゲン原
子、メチル，エチル，プロピル，イソプロピル，ブチ
ル，ｔ−ブチルなどのＣ1-6 アルキル基、メトキシ，エ
トキシ、プロポキシ，イソプロポキシ，ブトキシ，ｔ−
ブトキシなどのＣ1-6 アルコキシ基、クロロメチル，ジ
クロロメチル，トリクロロメチル，フルオロメチル，ジ
フルオロメチル，トリフルオロメチルなどのＣ1-6 ハロ
アルキル基などで置換されてもよい）ナフチル基などの
置換されてもよいアリール基を表す。
【００１０】また、Ｘは、塩素，臭素などのハロゲン原
子を表す。
子を表す。
【００１１】さらに、Ｒ1 は、エテニル，１−プロペニ
ル，２−プロペニル，１−ブテニル，２−ブテニル，３
−ブテニルなどのＣ2-6 アルケニル基またはエチニル，
１−プロピニル，２−プロピニル，１−ブチニル，２−
ブチニル，３−ブチニルなどのＣ2-6 アルキニル基を表
す。
ル，２−プロペニル，１−ブテニル，２−ブテニル，３
−ブテニルなどのＣ2-6 アルケニル基またはエチニル，
１−プロピニル，２−プロピニル，１−ブチニル，２−
ブチニル，３−ブチニルなどのＣ2-6 アルキニル基を表
す。
【００１２】
【発明の実施の態様】本発明の製造法を以下に説明す
る。 製造法
る。 製造法
【００１３】
【化５】
【００１４】（式中、Ｒ，Ｒ1 ，Ｘは、前記と同じ意味
を表す。）
を表す。）
【００１５】本製造法は、３−スルホニル−２−イソオ
キサゾリン類（２）と不飽和グリニヤ試薬（３）との反
応から得られる。反応溶媒は、ジエチルエーテル，テト
ラヒドロフラン（ＴＨＦ）などのエーテル類、ベンゼ
ン，トルエン，キシレンなどの芳香族炭化水素類、また
はそれらの混合溶媒が用いられる。反応温度は、室温あ
るいは必要があれば、反応溶媒の沸点まで加熱してもよ
い。
キサゾリン類（２）と不飽和グリニヤ試薬（３）との反
応から得られる。反応溶媒は、ジエチルエーテル，テト
ラヒドロフラン（ＴＨＦ）などのエーテル類、ベンゼ
ン，トルエン，キシレンなどの芳香族炭化水素類、また
はそれらの混合溶媒が用いられる。反応温度は、室温あ
るいは必要があれば、反応溶媒の沸点まで加熱してもよ
い。
【００１６】本発明の原料である一般式（２）で表され
る化合物は、本発明者らの同日出願の特願平１１−１０
５６０６号などに記載された方法により製造することが
できる。
る化合物は、本発明者らの同日出願の特願平１１−１０
５６０６号などに記載された方法により製造することが
できる。
【００１７】後処理は通常の方法によって行うことがで
きる。生成物の同定は、ＩＲ，ＮＭＲおよびＭＳなどに
より行った。
きる。生成物の同定は、ＩＲ，ＮＭＲおよびＭＳなどに
より行った。
【００１８】
【実施例】次に、実施例を挙げて、本発明をさらに具体
的に説明する。
的に説明する。
【００１９】実施例１ ３−（１−プロピニル）−２−イソオキサゾリンの製造
【００２０】
【化６】
【００２１】３−ベンゼンスルホニル−２−イソオキサ
ゾリン１0.０ｇを乾燥ＴＨＦ５０ｍｌに溶解し、室温で
0.５Ｍの１−プロピンマグネシウムブロミドＴＨＦ溶液
１９０ｍｌを滴下後、７時間加熱還流した。その後、室
温まで冷却し、反応液を１Ｎ塩酸水溶液に注加して、酢
酸エチルで抽出を行い、有機層を水洗後、無水硫酸マグ
ネシウムで乾燥した。溶媒を減圧留去して残った油状物
をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製すること
によって、３−（１−プロピニル）−２−イソオキサゾ
リン4.９ｇを得た。 ｂ．ｐ．５５−５７℃／0.２ｍｍＨｇ
ゾリン１0.０ｇを乾燥ＴＨＦ５０ｍｌに溶解し、室温で
0.５Ｍの１−プロピンマグネシウムブロミドＴＨＦ溶液
１９０ｍｌを滴下後、７時間加熱還流した。その後、室
温まで冷却し、反応液を１Ｎ塩酸水溶液に注加して、酢
酸エチルで抽出を行い、有機層を水洗後、無水硫酸マグ
ネシウムで乾燥した。溶媒を減圧留去して残った油状物
をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製すること
によって、３−（１−プロピニル）−２−イソオキサゾ
リン4.９ｇを得た。 ｂ．ｐ．５５−５７℃／0.２ｍｍＨｇ
【００２２】実施例２ ３−（１−プロペニル）−２−イソオキサゾリンの製造
【００２３】
【化７】
【００２４】マグネシウム粉末0.４６ｇを乾燥ＴＨＦ１
６ｍｌ、乾燥エチルエーテル８ｍｌに懸濁させ、還流下
に、ｃｉｓ−１−プロペニルブロミド2.３ｇを滴下後、
１時間加熱還流した。その後、室温まで冷却し、３−ベ
ンゼンスルホニル−２−イソオキサゾリン1.０ｇを乾燥
ＴＨＦ６ｍｌに溶解した溶液を冷却下に滴下後、１時間
加熱還流した。その後、室温まで冷却し、反応液を１Ｎ
塩酸水溶液に注加して、酢酸エチルで抽出を行い、有機
層を水洗後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を
減圧留去して残った油状物をシリカゲルカラムクロマト
グラフィーで精製することによって、３−（１−プロペ
ニル）−２−イソオキサゾリン0.４ｇを得た。この化合
物は、ｃｉｓ：ｔｒａｎｓ＝１：１（ＮＭＲ）の混合物
であった。 1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3 , δｐｐｍ）： ｃｉｓ 6.15(d,1H,J=15.0Hz),5.94(m,1H),4.36(t,2H,J=8.7Hz) 3.17(t,2H,J=8.7Hz),1.95(d,3H,J=7.9Hz) ｔｒａｎｓ 6.42(d,1H,J=16.6Hz),6.0(m,1H),4.32(t,2H,J=9.5Hz) 3.13(t,2H,J=9.5Hz),1.89(d,3H,J=7.9Hz)
６ｍｌ、乾燥エチルエーテル８ｍｌに懸濁させ、還流下
に、ｃｉｓ−１−プロペニルブロミド2.３ｇを滴下後、
１時間加熱還流した。その後、室温まで冷却し、３−ベ
ンゼンスルホニル−２−イソオキサゾリン1.０ｇを乾燥
ＴＨＦ６ｍｌに溶解した溶液を冷却下に滴下後、１時間
加熱還流した。その後、室温まで冷却し、反応液を１Ｎ
塩酸水溶液に注加して、酢酸エチルで抽出を行い、有機
層を水洗後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を
減圧留去して残った油状物をシリカゲルカラムクロマト
グラフィーで精製することによって、３−（１−プロペ
ニル）−２−イソオキサゾリン0.４ｇを得た。この化合
物は、ｃｉｓ：ｔｒａｎｓ＝１：１（ＮＭＲ）の混合物
であった。 1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3 , δｐｐｍ）： ｃｉｓ 6.15(d,1H,J=15.0Hz),5.94(m,1H),4.36(t,2H,J=8.7Hz) 3.17(t,2H,J=8.7Hz),1.95(d,3H,J=7.9Hz) ｔｒａｎｓ 6.42(d,1H,J=16.6Hz),6.0(m,1H),4.32(t,2H,J=9.5Hz) 3.13(t,2H,J=9.5Hz),1.89(d,3H,J=7.9Hz)
【００２５】実施例３ ３−（１−プロピニル）−２−イソオキサゾリンの製造
【００２６】
【化８】
【００２７】３−メタンスルホニル−２−イソオキサゾ
リン1.０ｇを乾燥ＴＨＦ５ｍｌに溶解し、室温で0.５Ｍ
１−プロピンマグネシウムブロミドのＴＨＦ溶液２７ｍ
ｌを滴下後、１時間加熱還流した。その後、室温まで冷
却し、反応液を１Ｎ塩酸水溶液に注加して、酢酸エチル
で抽出を行い、有機層を水洗後、無水硫酸マグネシウム
で乾燥した。溶媒を減圧留去して残った油状物をシリカ
ゲルカラムクロマトグラフィーで精製することによっ
て、３−（１−プロピニル）−２−イソオキサゾリン0.
７ｇを得た。 ｂ．ｐ．５５−５７℃／0.２ｍｍＨｇ
リン1.０ｇを乾燥ＴＨＦ５ｍｌに溶解し、室温で0.５Ｍ
１−プロピンマグネシウムブロミドのＴＨＦ溶液２７ｍ
ｌを滴下後、１時間加熱還流した。その後、室温まで冷
却し、反応液を１Ｎ塩酸水溶液に注加して、酢酸エチル
で抽出を行い、有機層を水洗後、無水硫酸マグネシウム
で乾燥した。溶媒を減圧留去して残った油状物をシリカ
ゲルカラムクロマトグラフィーで精製することによっ
て、３−（１−プロピニル）−２−イソオキサゾリン0.
７ｇを得た。 ｂ．ｐ．５５−５７℃／0.２ｍｍＨｇ
【００２８】
【発明の効果】本発明では、容易に入手できる３−スル
ホニル−２−イソオキサゾリン類を用いて、容易に目的
物を得ることができる。本発明で得られる化合物は、生
理活性を有するアミノ糖合成の鍵中間体であることが知
られている。（Ｐ．Ａ．Ｗａｄｅ：Ｊ．Ｏｒｇ．Ｃｈｅ
ｍ．，６２，３６７１（１９９７）） また、イソオキサゾリンを置換基とする化合物は除草作
用を有することが知られている。（ＷＯ９６／２６２０
６号，ＷＯ９８／３１６８１号など）
ホニル−２−イソオキサゾリン類を用いて、容易に目的
物を得ることができる。本発明で得られる化合物は、生
理活性を有するアミノ糖合成の鍵中間体であることが知
られている。（Ｐ．Ａ．Ｗａｄｅ：Ｊ．Ｏｒｇ．Ｃｈｅ
ｍ．，６２，３６７１（１９９７）） また、イソオキサゾリンを置換基とする化合物は除草作
用を有することが知られている。（ＷＯ９６／２６２０
６号，ＷＯ９８／３１６８１号など）
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 大口 哲史 神奈川県小田原市高田345 日本曹達株式 会社小田原研究所内 Ｆターム(参考） 4C056 AA01 AB01 AC01 AD01 AE02 AF05 FA03
Claims (1)
- 【請求項１】一般式（２） 【化１】 （式中、Ｒは、Ｃ1-6 アルキル基または置換されてもよ
いアリール基を表す。）で表される化合物と一般式
（３） Ｒ1 ＭｇＸ （３） （式中、Ｒ1 は、Ｃ2-6 アルケニル基またはＣ2-6 アル
キニル基、Ｘは、ハロゲン原子を表す。）とを反応させ
ることを特徴とする一般式（１） 【化２】 （式中、Ｒ1 は、前記と同じ意味を表す。）で表される
化合物の製造法。
Priority Applications (5)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11105630A JP2000297080A (ja) | 1999-04-13 | 1999-04-13 | ３位に不飽和基を有する２−イソオキサゾリン化合物の製造法 |
| AU26912/00A AU2691200A (en) | 1999-02-25 | 2000-02-24 | Isoxazoline compounds and processes for the preparation thereof |
| PCT/JP2000/001063 WO2000050410A1 (fr) | 1999-02-25 | 2000-02-24 | Composes d'isoxazoline et leurs procedes de preparation |
| JP2000600993A JP4558211B2 (ja) | 1999-02-25 | 2000-02-24 | イソオキサゾリン化合物および製造法 |
| JP2010137878A JP5079849B2 (ja) | 1999-02-25 | 2010-06-17 | イソオキサゾリン化合物および製造法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11105630A JP2000297080A (ja) | 1999-04-13 | 1999-04-13 | ３位に不飽和基を有する２−イソオキサゾリン化合物の製造法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2000297080A true JP2000297080A (ja) | 2000-10-24 |
Family
ID=14412803
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP11105630A Pending JP2000297080A (ja) | 1999-02-25 | 1999-04-13 | ３位に不飽和基を有する２−イソオキサゾリン化合物の製造法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2000297080A (ja) |
-
1999
- 1999-04-13 JP JP11105630A patent/JP2000297080A/ja active Pending
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