JP2000294905A - Manufacture of package wiring board - Google Patents

Manufacture of package wiring board

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JP2000294905A
JP2000294905A JP11102882A JP10288299A JP2000294905A JP 2000294905 A JP2000294905 A JP 2000294905A JP 11102882 A JP11102882 A JP 11102882A JP 10288299 A JP10288299 A JP 10288299A JP 2000294905 A JP2000294905 A JP 2000294905A
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JP
Japan
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wiring
package
slit
plating
layer
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JP11102882A
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Japanese (ja)
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Akira Yonezawa
章 米沢
Eiji Imamura
英治 今村
Hidehisa Yamazaki
秀久 山崎
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Yamaichi Electronics Co Ltd
Original Assignee
Yamaichi Electronics Co Ltd
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Publication date
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    • H01ELECTRIC ELEMENTS
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    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/02Bonding areas; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/04Structure, shape, material or disposition of the bonding areas prior to the connecting process
    • H01L2224/05Structure, shape, material or disposition of the bonding areas prior to the connecting process of an individual bonding area
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    • H01L2224/0555Shape
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    • HELECTRICITY
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    • H01L2224/47Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process
    • H01L2224/49Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process of a plurality of wire connectors
    • H01L2224/491Disposition
    • H01L2224/4912Layout
    • H01L2224/49171Fan-out arrangements

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a method for manufacturing a package wiring board, having a wiring part containing a bonding pad and a solder ball pad with satisfactory yield. SOLUTION: This manufacturing method comprises the steps of producing a package wiring board, a process for generating an insulating layer 6 which is integrated/ arranged on one main face of a conductive metallic layer 5, a wiring part 1 containing a bonding pad 1a and a solder ball pad 1b which are formed on the face of the insulating layer 6, a conductive bump 4 which passes through the insulating layer 6 and which electrically connects the wiring part 1 to the conductive metallic layer 5, and a package wiring element board 7 which is connected to the wiring part 1 and has a plating terminal 1d led through to the outer peripheral direction, a process for forming a slit 8 in the outer work region of the package wiring element board 7 and cutting a connection lead 1c with the plating terminal 1d, a process for arranging resin layers 9 having peeling property on both main faces of the package wiring element board 7 and masking them, a process for processing the face of the slit 8 by insulating resin and insulating/coating the cut face of a connection lead 1c of a wiring part side exposed to the face of the slit 8, and a process for working an outer form along the slit 8 are provided.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、電子部品を実装し
て成る実装回路装置の構成に適するパッケージ用配線板
の製造方法に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a method of manufacturing a package wiring board suitable for a configuration of a mounted circuit device having electronic components mounted thereon.

【0002】[0002]

【従来の技術】周知のように配線基板に、IC素子などの
電子部品を搭載・実装して成る実装回路装置は、各種電
子機器類の高性能化や小形化などを目的に、開発・実用
化が進められている。そして、この種のパッケージ用配
線板は、高密度配線化ないし微細配線化とともに、動作
に伴う発熱を容易に放熱し、安定した機能を呈するよう
に、放熱手段を付与している。
2. Description of the Related Art As is well known, a mounting circuit device in which electronic components such as IC elements are mounted and mounted on a wiring board is developed and put into practical use for the purpose of improving the performance and miniaturization of various electronic devices. Is being promoted. In addition, this type of package wiring board is provided with a heat radiating means so as to easily dissipate heat generated by the operation and exhibit a stable function in addition to high density wiring or fine wiring.

【0003】すなわち、放熱板としての機能を兼ねる導
電性金属層(導電性金属箔)の一主面上に、絶縁体層を
介してボンディングパッドおよび半田ボールパッドを含
む配線部を一体に配置・形成したパッケージ用配線板が
知られている。ここで、ボンディングパッドは、IC素子
の電極との間のワイヤボンデング点をなし、このボンデ
ィングパッドに接続する半田ボールパッドを介して給電
される構成と成っている。なお、ボンディングパッドお
よび半田ボールパッドは、銅箔などのパターニングで一
体的に形成されている。
That is, a wiring portion including a bonding pad and a solder ball pad is integrally arranged on one main surface of a conductive metal layer (conductive metal foil) also functioning as a heat sink via an insulator layer. A formed package wiring board is known. Here, the bonding pad forms a wire bonding point with an electrode of the IC element, and is configured to be supplied with power via a solder ball pad connected to the bonding pad. The bonding pad and the solder ball pad are integrally formed by patterning a copper foil or the like.

【0004】また、パッケージ用配線板は、絶縁体層中
に、信号配線パターン層を層間絶縁として多層的に配置
し、かつ適宜、信号配線パターンを層間接続した構造、
もしくは導電性金属層を接地層などとして利用する構成
などが採られている。
Further, the package wiring board has a structure in which signal wiring pattern layers are arranged in a multilayer structure in an insulating layer as interlayer insulation, and signal wiring patterns are appropriately connected between layers.
Alternatively, a configuration in which a conductive metal layer is used as a ground layer or the like is employed.

【0005】さらに、この種のパッケージ用配線板の製
造に当たっては、たとえばIC素子を搭載・実装するため
に、図3に要部構成を拡大して平面的に示すように、ボ
ンディングパッド1a、および半田ボール1bを含む配線部
1が、少なくとも絶縁体層2の上面に一体的に設けられ
ている。ここで、ボンディングパッド1aおよび半田ボー
ルパッド1bなどの配線部1は、たとえば銅箔の選択エッ
チングによりパターニングされるが、信頼性などの高い
接続を形成し易いように、ボンディングパッド1aおよび
半田ボールパッド1bなどの面を金などでメッキ処理して
いる。
Further, in manufacturing this type of package wiring board, for example, in order to mount and mount an IC element, as shown in an enlarged plan view of a main part in FIG. 3, bonding pads 1a and The wiring portion 1 including the solder ball 1b is provided integrally on at least the upper surface of the insulator layer 2. Here, the wiring portion 1 such as the bonding pad 1a and the solder ball pad 1b is patterned by, for example, selective etching of a copper foil, but the bonding pad 1a and the solder ball pad 1b are formed so as to easily form a highly reliable connection. The surface such as 1b is plated with gold.

【0006】すなわち、パッケージ用配線板の製造工程
において、ボンディングパッド1aおよび半田ボールパッ
ド1bなどを含む配線部1に接続リード1cで電気的に接続
し、かつ外周方向(外形加工領域)に導出されたメッキ
用端子(図示せず)を有するパッケージ用配線素板を製
作する。次いで、前記メッキ用端子にメッキ用電源を接
続する一方、パッケージ用配線素板を電解金メッキ液に
浸して、前記ボンディングパッド1aおよび半田ボールパ
ッド1bなどの面に、金などの電気メッキ層を成長させ
る。そして、この電気メッキ層の成長後、外形加工によ
ってメッキ用端子を切り離し・除去し、製品化してい
る。
That is, in the manufacturing process of the package wiring board, the wiring portion 1 including the bonding pad 1a and the solder ball pad 1b is electrically connected to the wiring portion 1 by the connection lead 1c, and is led out in the outer peripheral direction (outer shape processing region). A wiring substrate for a package having plated terminals (not shown) is manufactured. Next, while a plating power source is connected to the plating terminal, the package wiring base plate is immersed in an electrolytic gold plating solution to grow an electroplating layer such as gold on the surface of the bonding pad 1a and the solder ball pad 1b. Let it. After the growth of the electroplating layer, the plating terminals are cut off and removed by external processing to produce a product.

【0007】なお、上記パッケージ用配線板の製造工程
においては、生産性ないし量産を考慮して、一般的に、
パッケージ用配線板を多面取りに設計・設定している。
In the manufacturing process of the package wiring board, generally, in consideration of productivity or mass production,
We design and set the package wiring board to be multiple.

【0008】[0008]

【発明が解決しようとする課題】しかし、上記パッケー
ジ用配線板の製造方法の場合、特に、最終的な外形加工
を施し、製品化した段階で、次ぎのような不都合が認め
られる。すなわち、メッキ用端子領域を切断分離した
際、メッキ用端子および配線部1とを接続する接続リー
ド1cの切断端面のうち少なくとも一部は、配線板の外形
加工面において突出していたり、切断方向に延出・折り
曲げられたり、あるいは位置ズレを起こしていることが
しばしば認められる。
However, in the case of the above-mentioned method of manufacturing a wiring board for a package, the following inconveniences are recognized, particularly at the stage of final outer shape processing and commercialization. That is, when the plating terminal region is cut and separated, at least a part of the cut end surface of the connection lead 1c that connects the plating terminal and the wiring portion 1 projects on the outer shape processing surface of the wiring board, or extends in the cutting direction. It is often recognized that it has been extended, bent, or misaligned.

【0009】このような接続リード1cの切断端面が部分
的に突出などすると、パッケージ用配線板の実装密度な
いし配線密度が高い場合、換言すると機能的な容量の高
いIC素子などを搭載・実装するためのボンディングパッ
ド1a、および半田ボールパッド1bなどの数が多く、対応
するメッキ用端子側に延設する接続リード1cの配置が緻
密になると、次ぎのような問題を提起する。すなわち、
隣接するメッキ用端子側に延設する接続リード1cの切断
端同士、あるいは接続リード1cの切断端と導電性金属層
の切断面との接触などが起こり易く、結果的に、所定の
実装回路を形成できないなどの問題を招来する。したが
って、パッケージ用配線板は信頼性を損なわれる恐れが
あり、また、歩留まり低下ともなる。
If the cut end surface of the connection lead 1c partially protrudes, if the mounting density or wiring density of the package wiring board is high, in other words, an IC element having a high functional capacity is mounted / mounted. The number of bonding pads 1a, solder ball pads 1b, etc. is large, and the arrangement of the connection leads 1c extending to the corresponding plating terminal side becomes dense, causing the following problem. That is,
The cut ends of the connection leads 1c extending to the adjacent plating terminals are likely to come into contact with each other, or the cut end of the connection lead 1c and the cut surface of the conductive metal layer are likely to occur. This leads to problems such as inability to form. Therefore, the reliability of the package wiring board may be impaired, and the yield may be reduced.

【0010】本発明は、上記事情に対処してなされたも
ので、狭(小)ピッチの半田ボールパッドなどを含む配
線部を有するパッケージ用配線板を歩留まりよく製造で
きる方法の提供を目的とする。
SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made in view of the above circumstances, and has as its object to provide a method for manufacturing a package wiring board having a wiring portion including a narrow (small) pitch solder ball pad with a high yield. .

【0011】[0011]

【課題を解決するための手段】請求項1の発明は、導電
性金属層(導電性金属箔)の少なくとも一主面上に一体
・配置された絶縁体層、前記絶縁体層面に形成されたボ
ンディングパッドおよび半田ボールパッドを含む配線
部、前記絶縁体層を貫挿し配線部を導電性金属層に電気
的に接続する導電性バンプ、および前記配線部に接続
し、かつ外周方向に導出されたメッキ用端子を有するパ
ッケージ用配線素板を作製する工程と、前記パッケージ
用配線素板の配線部以外をメッキレジストで被覆し、メ
ッキ浴中に浸漬してメッキ用端子からの給電でメッキ処
理する工程と、前記メッキ処理したパッケージ用配線素
板の外形加工領域に、スリットを形設してメッキ用端子
との接続リードを切断する工程と、前記パッケージ用配
線素板の両主面に剥離性の樹脂層を配置し、マスキング
する工程と、前記スリット領域面を絶縁性樹脂で処理
し、スリット領域面に露出している配線部側に接続する
接続リードの切断部を絶縁・被覆する工程と、前記スリ
ットに沿って外形加工する工程と、を有することを特徴
とするパッケージ用配線板の製造方法である。
According to a first aspect of the present invention, there is provided an insulator layer integrally formed on at least one principal surface of a conductive metal layer (conductive metal foil), and formed on the surface of the insulator layer. A wiring portion including a bonding pad and a solder ball pad, a conductive bump that penetrates the insulator layer and electrically connects the wiring portion to a conductive metal layer, and is connected to the wiring portion and led out in an outer peripheral direction. A step of preparing a package wiring base plate having a plating terminal, and covering a portion other than the wiring portion of the package wiring base plate with a plating resist, immersing in a plating bath, and performing a plating process by supplying power from the plating terminal. A step of forming a slit in the outer shape processing area of the plated wiring substrate to cut a connection lead to a plating terminal; and peeling off both main surfaces of the package wiring substrate. Disposing the resin layer, masking, treating the slit region surface with an insulating resin, and insulating and covering the cut portion of the connection lead connected to the wiring portion side exposed on the slit region surface; And a step of processing the outer shape along the slit.

【0012】請求項2の発明は、請求項1記載のパッケ
ージ用配線板の製造方法において、絶縁体層が液晶ポリ
マーであることを特徴とする。
According to a second aspect of the present invention, in the method for manufacturing a package wiring board according to the first aspect, the insulator layer is a liquid crystal polymer.

【0013】請求項3の発明は、請求項1もしくは請求
項2記載のパッケージ用配線板の製造方法において、剥
離性の樹脂層がでドライフィルムあることを特徴とす
る。
According to a third aspect of the present invention, in the method for manufacturing a package wiring board according to the first or second aspect, the releasable resin layer is a dry film.

【0014】請求項1ないし3の発明において、絶縁体
層は、たとえばエポキシ樹脂、フェノール樹脂、ポリイ
ミド樹脂、ポリカーボネート樹脂、ホットメルト接着
剤、ポリビニルブチラール樹脂、ニトリルラバー、フェ
ノキシ樹脂、酢酸ビニル樹脂、ポリアミド樹脂、ポリア
ミドイミド樹脂、液晶ポリマー、ポリエーテルエーテル
ケトン樹脂、ポリエーテルイミド樹脂などの1種もしく
は2種以上の混合系、または、前記樹脂とガラスクルス
ヤやマット、合成繊維や布などとを組み合わせたシート
状(もしくはフィルム状)のものが挙げられる。そし
て、これら樹脂系シートは、たとえば厚さ25〜 150μm
、好ましくは30〜 120μm 程度である。
In the first to third aspects of the present invention, the insulating layer is made of, for example, an epoxy resin, a phenol resin, a polyimide resin, a polycarbonate resin, a hot melt adhesive, a polyvinyl butyral resin, a nitrile rubber, a phenoxy resin, a vinyl acetate resin, a polyamide resin. A sheet of a resin, a polyamideimide resin, a liquid crystal polymer, a polyetheretherketone resin, a polyetherimide resin, or a mixture of two or more thereof, or a sheet in which the resin is combined with a glass crusader, a mat, a synthetic fiber, a cloth, or the like. (Or film). And these resin-based sheets are, for example, 25 to 150 μm thick.
And preferably about 30 to 120 μm.

【0015】ここで、絶縁体層は、たとえばキシダール
(商品名.Dartco社製)、ベクトラ(商品名.Clanese
社製)で代表される多軸配向の熱可塑性ポリマー液晶ポ
リマーから成る膜が好ましい。すなわち、この種の液晶
ポリマーは、吸湿性がほとんどなく、誘電率が約 3.0(1
MHz)程度であり、広い周波数領域で安定しているためで
ある。なお、液晶ポリマーは、その分子構造によって、
その融点なども異なっており、同一の分子構造でも、結
晶構造や添加物によって融点が変動する。たとえばベク
トランAタイプ(融点, 285℃)、ベクトランCタイプ
(融点, 325℃)、BIACフィルム(融点, 335℃)
などが例示される。
The insulator layer is made of, for example, Xidal (trade name, manufactured by Dartco), Vectra (trade name, Clanese).
A film composed of a thermoplastic polymer liquid crystal polymer of multi-axis orientation represented by the following company is preferred. That is, this type of liquid crystal polymer has almost no hygroscopicity and a dielectric constant of about 3.0 (1
MHz) and is stable over a wide frequency range. In addition, the liquid crystal polymer, depending on its molecular structure,
The melting points and the like are different, and even with the same molecular structure, the melting point varies depending on the crystal structure and additives. For example, Vectran A type (melting point, 285 ° C), Vectran C type (melting point, 325 ° C), BIAC film (melting point, 335 ° C)
And the like.

【0016】請求項1ないし3の発明において、ボンデ
ィングパッドおよび半田ボールパッドを含む配線部やメ
ッキ端子部は、厚さ10〜35μm 程度の銅箔、アルミ箔、
ニッケル箔、金箔、銀箔などのパターニングで形成され
ているが、経済性および加工性の点などから銅箔製が適
する。
According to the first to third aspects of the present invention, the wiring portion and the plating terminal portion including the bonding pad and the solder ball pad are made of a copper foil, an aluminum foil having a thickness of about 10 to 35 μm,
It is formed by patterning a nickel foil, a gold foil, a silver foil or the like, but a copper foil is suitable from the viewpoint of economy and workability.

【0017】また、前記層間絶縁体を成す樹脂シートな
どに圧入され、その先端部が対向する導電性金属層(金
属箔)面などに対接し、電気的な接続部を形成する導電
性バンプは、たとえばスクリーン印刷で、ほぼ一定高さ
・形状の導電性組成物の突起を形成し、これを乾燥・硬
化させることによって形成される。ここで、導電性バン
プは、たとえば銀、金、銅、半田粉などの導電性粉末、
これらの合金粉末もしくは複合(混合)金属粉末と、た
とえばポリカーボネート樹脂、ポリスルホン樹脂、ポリ
エステル樹脂、フェノキシ樹脂、フェノール樹脂、ポリ
イミド樹脂などのバインダー成分とを混合して調製され
た導電性組成物で形成される。
Further, the conductive bump which is press-fitted into the resin sheet or the like forming the interlayer insulator and whose leading end contacts the opposing conductive metal layer (metal foil) surface or the like to form an electrical connection portion is provided. For example, the projections are formed by forming projections of the conductive composition having a substantially constant height and shape by screen printing, followed by drying and curing. Here, the conductive bumps are, for example, conductive powders such as silver, gold, copper, and solder powder;
A conductive composition prepared by mixing the alloy powder or the composite (mixed) metal powder with a binder component such as a polycarbonate resin, a polysulfone resin, a polyester resin, a phenoxy resin, a phenol resin, and a polyimide resin. You.

【0018】請求項1ないし3の発明において、放熱体
を兼ねる導電性金属層は、たとえば厚さ 100〜 600μm
程度の銅箔(もしくは薄板)、アルミ箔(もしくは薄
板)、ニッケル箔(もしくは薄板)などが挙げられる。
In the first to third aspects of the present invention, the conductive metal layer also serving as a heat radiator has a thickness of, for example, 100 to 600 μm.
Copper foil (or thin plate), aluminum foil (or thin plate), nickel foil (or thin plate) and the like are included.

【0019】請求項1ないし3の発明において、ボンデ
ィングパッドおよび半田ボールパッドを含む配線部、メ
ッキ用端子、接続リードなどのパターンニング、ボンデ
ィングおよびパッド半田ボールパッドを含む配線部に対
する金メッキ処理などは、この種のパッケージ用配線板
の製造工程で採られている手段で行われる。
According to the first to third aspects of the present invention, the wiring portion including the bonding pad and the solder ball pad, the patterning of the plating terminal and the connection lead, the gold plating process for the bonding and the wiring portion including the pad solder ball pad, etc. This is performed by means employed in the manufacturing process of this type of package wiring board.

【0020】請求項1ない3の発明において、ボンディ
ングパッドおよび半田ボールパッドを含む前記配線部に
接続し、かつ外周方向に導出されたメッキ用端子を有す
るパッケージ用配線素板の外形加工領域に形設するスリ
ットは、前記配線部に対して電気的に接続するメッキ用
端子の電気的な接続を遮断する。したがって、このスリ
ットの形設は、メッキ用端子が延設されている領域との
間、換言すると、メッキ用端子が延設されている各辺に
ついて行われる。
According to the third aspect of the present invention, the external shape processing area of the package wiring plate having plating terminals connected to the wiring portion including the bonding pad and the solder ball pad and extending in the outer peripheral direction is formed. The slit provided cuts off the electrical connection of the plating terminal electrically connected to the wiring portion. Therefore, the slit is formed between the area where the plating terminal is extended, in other words, each side where the plating terminal is extended.

【0021】ここで、スリットは、パッケージ用配線板
の製造が多面取り型(もしくは方式)に行われる場合、
いわゆる外形加工線部に形設することができる。また、
剥離性の樹脂層としては、ドライフィルムなど、厚さ15
〜50μm 程度のフィルム類が挙げられる。
Here, when the production of the wiring board for a package is performed in a multi-cavity type (or system),
It can be formed in a so-called outline processing line portion. Also,
As a peelable resin layer, dry film etc.
Films of about 50 μm are mentioned.

【0022】なお、前記配線部側に接続する導体の切断
部が露出しているスリット領域面を絶縁・被覆する樹脂
としては、一般的に、上記絶縁体層を形成する樹脂が使
用される。ここで、絶縁・被覆は、たとえば吹き付け塗
布・乾燥法、浸漬塗布・乾燥法などで行われ、その膜厚
は、スリット領域面に露出している切断部同士、あるい
は切断部と導電性金属層とが、それぞれ所要の電気的な
絶縁を保持できる程度である。
As the resin for insulating and covering the slit region surface where the cut portion of the conductor connected to the wiring portion is exposed, the resin forming the insulator layer is generally used. Here, the insulation / coating is performed by, for example, a spray coating / drying method, a dip coating / drying method, or the like, and the film thickness is such that the cut portions exposed on the slit region surface or between the cut portions and the conductive metal layer. Are respectively enough to maintain required electrical insulation.

【0023】請求項1ないし3の発明では、外形加工で
端面に露出するメッキ用の接続リードの切断部が相互に
絶縁・被覆されるため、電気回路的にも信頼性の高いパ
ッケージ用配線板が歩留まりよく得られる。すなわち、
端狭小ないし配置密度の高い半田ボールパッドなどを含
む配線部を備え、かつ配線部に対応したメッキ用端子部
との接続リードを有するパッケージ用配線板の製作・製
造において、配線部のメッキ処理後にスリットの形設で
切断され、そのスリット面に露出した接続リード端部が
選択的に、また、確実に絶縁被覆される。したがって、
隣接する接続リード同士、隣接する接続リードと放熱板
などを兼ねる導電性金属層との電気的な短絡発生なども
解消ないし回避されて信頼性の高い回路機能を呈する。
According to the first to third aspects of the present invention, the cut portions of the connecting leads for plating, which are exposed on the end face during the outer shape processing, are insulated and covered with each other, so that the wiring board for a package having high reliability in terms of an electric circuit is also provided. Can be obtained with good yield. That is,
In the manufacture and manufacture of a package wiring board that has a wiring part including a solder ball pad etc. with a narrow end or a high placement density and has a connection lead with a plating terminal part corresponding to the wiring part, after plating processing of the wiring part The connection lead ends which are cut in the form of a slit and exposed on the slit surface are selectively and reliably insulated. Therefore,
The occurrence of an electrical short circuit between adjacent connection leads or between the adjacent connection leads and the conductive metal layer also serving as a heat sink is eliminated or avoided, and a highly reliable circuit function is exhibited.

【0024】[0024]

【発明の実施の形態】以下、添付図面を参照して実施例
を説明する。
Embodiments of the present invention will be described below with reference to the accompanying drawings.

【0025】図1(a) 〜(c) および図2(a) 〜(c) は、
実施例に係るパッケージ用配線板の製造工程を模式的に
示す要部断面図である。
FIGS. 1 (a) to 1 (c) and 2 (a) to 2 (c)
It is principal part sectional drawing which shows typically the manufacturing process of the wiring board for packages which concerns on an Example.

【0026】先ず、図1(a) に示すように、導電性金属
箔、たとえば厚さ15μm の電解銅箔3を用意し、この電
解銅箔3の一主面上の所要位置に、ポリマータイプの銀
系の導電性ペーストを印刷し、円錐形の導電性パンブ4
を形成(形設)する。一方、導電性金属層、たとえば厚
さ 100μm 程度のAl薄板5、および絶縁体層、たとえば
厚さ50μm の液晶ポリマーフィルム(シート)6を用意
する。
First, as shown in FIG. 1A, a conductive metal foil, for example, an electrolytic copper foil 3 having a thickness of 15 μm is prepared, and a polymer type foil is placed at a required position on one main surface of the electrolytic copper foil 3. Printed with a silver-based conductive paste, and a conical conductive pump 4
Is formed (formed). On the other hand, a conductive metal layer, for example, an Al thin plate 5 having a thickness of about 100 μm, and an insulating layer, for example, a liquid crystal polymer film (sheet) 6 having a thickness of 50 μm are prepared.

【0027】次に、図1(b) に示すように、前記導電性
金属層5の一主面に、液晶ポリマーフィルム6を配置・
積層(セット)し、この液晶ポリマーフィルム6に対
し、前記導電性パンブ4を形成した電解銅箔3を位置決
め配置して積層体化する。その後、前記積層体を加熱加
圧することにより、図1(c) に示すように、導電性のバ
ンプ4の先端が、液晶ポリマーフィルム6中に圧入し、
さらに、裏面側に先端部が貫通して、対向するAl薄板5
に接続した銅箔張り積層板を作製する。
Next, as shown in FIG. 1B, a liquid crystal polymer film 6 is disposed on one main surface of the conductive metal layer 5.
Laminated (set), the electrolytic copper foil 3 on which the conductive bumps 4 are formed is positioned and arranged on the liquid crystal polymer film 6 to form a laminate. Then, by heating and pressing the laminate, the tip of the conductive bump 4 is pressed into the liquid crystal polymer film 6 as shown in FIG.
Further, the front end portion penetrates to the back surface side, and the facing Al thin plate 5
To produce a copper foil-clad laminate connected to.

【0028】次いで、前記電解銅箔3およびAl薄板5の
露出面に、エッチングレジストを印刷し、銅箔3を選択
的にエッチング除去し、ボンディングパッド(図示省
略)および半田ボールパッド1bを含む配線部1、前記半
田ボールパッド1bにそれぞれ接続する接続リード1cおよ
びメッキ用端子1dを形成してから、エッチングレジスト
をアルカリ水溶液で剥離する。このエッチング処理工程
により、たとえばボンディングパッドおよび半田ボール
パッド1bなどが形設され、かつ外形加工線の外側にメッ
キ用端子1dを延設した配線パターニングが行われ、パッ
ケージ用配線素板が得られる。なお、絶縁体層6を貫挿
し、対向するAl薄板5に接続した導電性バンプ4はAl薄
板5を放熱板もしくは接地層として機能させる。
Next, an etching resist is printed on the exposed surfaces of the electrolytic copper foil 3 and the Al thin plate 5, the copper foil 3 is selectively etched and removed, and a wiring including a bonding pad (not shown) and a solder ball pad 1b is provided. After forming the connection lead 1c and the plating terminal 1d to be connected to the portion 1, the solder ball pad 1b, the etching resist is peeled off with an alkaline aqueous solution. By this etching process, for example, a bonding pad, a solder ball pad 1b, and the like are formed, and wiring patterning in which a plating terminal 1d is extended outside the outer shape processing line is performed, so that a package wiring element plate is obtained. The conductive bumps 4 penetrating the insulator layer 6 and connected to the facing Al thin plate 5 allow the Al thin plate 5 to function as a heat sink or a ground layer.

【0029】その後、前記パッケージ用配線素板の被メ
ッキ部(ボンディングパッドおよび半田ボールパッド1b
を含む配線部1)を露出させて、ソルダーレジストを印
刷し部分マスキングする。すなわち、メッキ用端子1dに
接続する接続リード1cなどをマスキングし、たとえば金
のメッキ浴を用いて金の電気メッキ処理を行って、前記
露出させてあるボンディングパッドおよび半田ボールパ
ッド1bなどの面を金で被覆する。
Thereafter, the plated portion (the bonding pad and the solder ball pad 1b) of the package wiring plate is
Is exposed, and a solder resist is printed and partially masked. That is, the connection leads 1c and the like connected to the plating terminals 1d are masked, and gold electroplating is performed using, for example, a gold plating bath to expose the surfaces of the exposed bonding pads and solder ball pads 1b. Cover with gold.

【0030】その後、図2(a) に示すように、前記パッ
ケージ用配線素板7の外形加工線(外形加工領域)に、
スリット8を形設してメッキ用端子1dとの接続を破断す
る。ここで、スリット8の形設は、メッキ用端子1dが延
設(導出)配置された内側で、外形・切断加工の一部と
して行うこともできる。このスリット形設加工後、図2
(b) に示すように、前記パッケージ用配線素板7の両主
面に剥離性の樹脂層9を配置してマスキングする。
Thereafter, as shown in FIG. 2A, the outer shape processing line (outer shape processing area) of the package wiring plate 7 is
A slit 8 is formed to break the connection with the plating terminal 1d. Here, the formation of the slit 8 can be performed as a part of the outer shape / cutting processing inside the plating terminal 1d in which the plating terminal 1d is extended (derived). After this slit forming process,
As shown in FIG. 2B, masking is performed by disposing releasable resin layers 9 on both main surfaces of the package wiring base plate 7.

【0031】ここでのマスキングは、たとえば光硬化型
の厚さ20μm 程度のドライフィルム9の貼着が好まし
く、この場合は、前記スリット8に対応した領域の選択
的な開口も容易に行える。また、スリット8に対応した
領域の選択的な開口は、剥離性の樹脂層9を貼着した
後、スリット形設加工を施すことにより行ってもよい。
The masking is preferably performed, for example, by applying a photocurable dry film 9 having a thickness of about 20 μm. In this case, selective opening of the area corresponding to the slit 8 can be easily performed. Alternatively, the selective opening of the region corresponding to the slit 8 may be performed by applying a releasable resin layer 9 and then performing slit forming processing.

【0032】上記スリット8の面(領域面)を絶縁性樹
脂、たとえばエポキシ樹脂溶液を塗布(コーティング)
・乾燥硬化させて、スリット8の面に露出している配線
部側に接続するリード(導体)部1aの切断部を絶縁・被
覆10する。その後に、前記剥離性の樹脂層9を剥離・除
去する一方、スリット8に沿ってパッケージ用配線素板
7の外形加工を行うことにより、図2(c) に示すよう
に、スリット8面が確実に絶縁被覆されたパッケージ用
配線板が得られる。なお、上記剥離性の樹脂層9を剥離
・除去は、パッケージ用配線素板7の外形加工後に行っ
てもよい。
The surface (region surface) of the slit 8 is coated with an insulating resin, for example, an epoxy resin solution.
Dry and cure, and insulate and cover 10 the cut portion of the lead (conductor) portion 1a connected to the wiring portion side exposed on the surface of the slit 8. Thereafter, while the peelable resin layer 9 is peeled and removed, the outer shape of the package wiring plate 7 is processed along the slit 8 so that the surface of the slit 8 is formed as shown in FIG. As a result, a package wiring board that is surely coated with insulation can be obtained. The peeling / removing of the peelable resin layer 9 may be performed after the outer shape processing of the package wiring plate 7.

【0033】本発明は、上記実施例に限定されるもので
なく、発明の趣旨を逸脱しない範囲でいろいろの変形を
採ることができる。たとえば、上記では導電性金属層上
の絶縁体層面に、ボンディングパッドおよび半田ボール
パッドを含む配線部を備えた構成を例示したが、絶縁体
層中に信号配線パターン層を複数層配設した構成を採る
こともできる。
The present invention is not limited to the above embodiment, and various modifications can be made without departing from the spirit of the invention. For example, in the above description, a configuration in which a wiring portion including a bonding pad and a solder ball pad is provided on the surface of the insulating layer on the conductive metal layer is exemplified. However, a configuration in which a plurality of signal wiring pattern layers are provided in the insulating layer. Can also be taken.

【0034】[0034]

【発明の効果】請求項1ないし3の発明によれば、狭小
ないし配置密度の高いボンディングパッドおよび半田ボ
ールパッドを含む配線部を備え、かつこの配線部に対応
したメッキ用端子部との接続リードを有するパッケージ
用配線板の構成において、外形加工の切断面露出した接
続リード端部が選択的に、また、確実に絶縁被覆された
パッケージ用配線板を歩留まりよく提供できる。換言す
ると、切断面に導出されている接続リード同士、接続リ
ードと導電性金属層との電気的な短絡発生なども解消な
いし回避された信頼性の高い回路機能を呈する実装回路
装置の構成に大きく寄与する。
According to the first to third aspects of the present invention, a wiring portion including a bonding pad and a solder ball pad having a small or high density is provided, and a connection lead to a plating terminal corresponding to the wiring portion is provided. In the configuration of the package wiring board having the above, the connection lead end exposed at the cut surface of the outer shape processing can be selectively and surely provided with good insulation yield with high yield. In other words, the configuration of the mounting circuit device exhibiting a highly reliable circuit function in which the connection leads led to the cut surface and the occurrence of an electrical short circuit between the connection lead and the conductive metal layer are eliminated or avoided is greatly increased. Contribute.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】(a) ,(b) ,(c) は実施例に係る製造実施態様
において、パッケージ用配線素板の製造工程を模式的に
示す要部断面図。
FIGS. 1A, 1B, and 1C are cross-sectional views schematically showing a main part of a manufacturing embodiment of a package according to an embodiment.

【図2】(a) ,(b) ,(c) は実施例に係る製造実施態様
において、パッケージ用配線素板の加工工程を模式的に
示す要部断面図。
FIGS. 2 (a), (b) and (c) are cross-sectional views of essential parts schematically showing a process of processing a package wiring plate in a manufacturing embodiment according to an example.

【図3】パッケージ用配線板の要部構成を示す平面図。FIG. 3 is a plan view showing a configuration of a main part of the package wiring board.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1……配線部 1a……ボンディングパッド 1b……半田ボールパッド 1c……接続リード部 1d……メッキ用端子 2,6……絶縁体層 3……電解銅箔 4……導電性バンブ 5……導電性金属層 7……パッケージ用配線素板 8……スリット 9……剥離性の樹脂層 10……絶縁被覆層 DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... Wiring part 1a ... Bonding pad 1b ... Solder ball pad 1c ... Connection lead part 1d ... Plating terminal 2, 6 ... Insulator layer 3 ... Electrolytic copper foil 4 ... Conductive bump 5 ... ... conductive metal layer 7 ... wiring board for package 8 ... slit 9 ... peelable resin layer 10 ... insulating coating layer

フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 FI テーマコート゛(参考) H05K 3/00 H01L 23/12 Q (72)発明者 山崎 秀久 東京都大田区中馬込3丁目28番7号 山一 電機株式会社内 Fターム(参考) 5E315 AA03 BB15 DD15 DD16 GG03 5E336 AA04 BB01 BC16 BC31 CC34 CC37 CC58 GG12 5E338 AA01 BB47 BB63 EE11 5E343 AA22 AA38 BB23 BB24 BB25 BB28 BB67 BB72 DD43 DD76 ER16 GG08 GG13 GG14 Continued on the front page (51) Int.Cl. 7 Identification symbol FI Theme coat II (Reference) H05K 3/00 H01L 23/12 Q (72) Inventor Hidehisa Yamazaki 3-28-7 Nakamagome, Ota-ku, Tokyo Yamaichi F-term (reference) in Denki Co., Ltd.

Claims (3)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 導電性金属層の少なくとも一主面上に一
体・配置された絶縁体層、前記絶縁体層面に形成された
ボンディングパッドおよび半田ボールパッドを含む配線
部、前記絶縁体層を貫挿し配線部を導電性金属層に電気
的に接続する導電性バンプ、および前記配線部に接続
し、かつ外周方向に導出されたメッキ用端子を有するパ
ッケージ用配線素板を作製する工程と、 前記パッケージ用配線素板の配線部以外をメッキレジス
トで被覆し、メッキ浴中に浸漬してメッキ用端子からの
給電でメッキ処理する工程と、 前記メッキ処理したパッケージ用配線素板の外形加工領
域に、スリットを形設してメッキ用端子との接続リード
を切断する工程と、 前記パッケージ用配線素板の両主面に剥離性の樹脂層を
配置し、マスキングする工程と、 前記スリット領域面を絶縁性樹脂で処理し、スリット領
域面に露出している配線部側に接続する接続リードの切
断部を絶縁・被覆する工程と、 前記スリットに沿って外形加工する工程と、を有するこ
とを特徴とするパッケージ用配線板の製造方法。
1. An insulating layer integrally disposed on at least one main surface of a conductive metal layer, a wiring portion including a bonding pad and a solder ball pad formed on the insulating layer surface, and penetrating through the insulating layer. A step of fabricating a package wiring base plate having a conductive bump electrically connecting the inserted wiring portion to the conductive metal layer, and a plating terminal connected to the wiring portion and having a plating terminal led out in an outer peripheral direction; A step of coating a part other than the wiring part of the package wiring base plate with a plating resist, immersing it in a plating bath, and plating with power supplied from a plating terminal; and Forming a slit to cut a connection lead with a plating terminal; disposing a releasable resin layer on both main surfaces of the package wiring base plate; and masking; Processing the lit region surface with an insulating resin, insulating and covering the cut portion of the connection lead connected to the wiring portion side exposed on the slit region surface, and processing the outer shape along the slit, A method for manufacturing a wiring board for a package, comprising:
【請求項2】 絶縁体層が液晶ポリマーであることを特
徴とする請求項1記載のパッケージ用配線板の製造方
法。
2. The method according to claim 1, wherein the insulator layer is a liquid crystal polymer.
【請求項3】 剥離性の樹脂層がでドライフィルムある
ことを特徴とする請求項1もしくは請求項2記載のパッ
ケージ用配線板の製造方法。
3. The method according to claim 1, wherein the releasable resin layer is a dry film.
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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2001196390A (en) * 2000-01-11 2001-07-19 Sanyo Electric Co Ltd Method of manufacturing semiconductor device
JP2011077270A (en) * 2009-09-30 2011-04-14 Sumitomo Chemical Co Ltd Metal base circuit board

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