JP2001313448A - Both-side flexible wiring board, ic card, and manufacturing method of the both-side flexible wiring board - Google Patents

Both-side flexible wiring board, ic card, and manufacturing method of the both-side flexible wiring board

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JP2001313448A
JP2001313448A JP2000130234A JP2000130234A JP2001313448A JP 2001313448 A JP2001313448 A JP 2001313448A JP 2000130234 A JP2000130234 A JP 2000130234A JP 2000130234 A JP2000130234 A JP 2000130234A JP 2001313448 A JP2001313448 A JP 2001313448A
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layer
insulating layer
conductor layer
conductive
wiring board
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Japanese (ja)
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Shuichi Hori
秀一 堀
Noriharu Miyaake
稚晴 宮明
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Nitto Denko Corp
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Nitto Denko Corp
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a both-side flexible wiring board at a low cost using a small number of simple steps, an IC card with the both side flexible wiring board, and a manufacturing method for the both side flexible wiring board. SOLUTION: A first conductive layer 13, made of a metal foil as a prescribed wiring pattern, is formed on one face of an insulating layer 12. After a through- hole 15 is formed at a given position of the insulating layer 12, the other face of the insulating layer 12 is coated with a conductive paste to form a second conductive layer 14. At the same time, the through-hole 15 is filled with conductive paste, so that a conductive path 16 for connecting the first conductive layer 13 and the second conductive layer 14 is formed.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、両面フレキシブル
配線板、その両面フレキシブル配線板が用いられるIC
カード、および、その両面フレキシブル配線板の製造方
法に関する。
The present invention relates to a double-sided flexible wiring board, and an IC using the double-sided flexible wiring board.
The present invention relates to a card and a method for manufacturing a double-sided flexible wiring board.

【0002】[0002]

【従来の技術】両面フレキシブル配線板は、例えば、図
9に示すように、可撓性のある絶縁層1の一方の面に、
第1の導体層2が所定の回路パターンで形成されるとと
もに、絶縁層1の他方の面にも、第2の導体層3が所定
の回路パターンで形成され、これら第1の導体層2と第
2の導体層3とが、絶縁層1を貫通する貫通孔5に形成
される導通路4によって電気的に接続されてなる回路基
板であって、電子機器などの分野において広く使用され
ている。
2. Description of the Related Art A double-sided flexible wiring board is, for example, as shown in FIG.
The first conductor layer 2 is formed with a predetermined circuit pattern, and the second conductor layer 3 is formed on the other surface of the insulating layer 1 with a predetermined circuit pattern. A circuit board in which the second conductor layer 3 is electrically connected to the second conductor layer 3 by a conductive path 4 formed in a through hole 5 penetrating the insulating layer 1 and is widely used in the field of electronic devices and the like. .

【0003】このような両面フレキシブル配線板は、従
来より、例えば、次のようにして製造されている。すな
わち、まず、絶縁層1の両面に、第1の導体層2および
第2の導体層3を、例えば、サブトラクティブ法、アデ
ィティブ法、セミアディティブ法などによって所定の回
路パターンとして形成する。次いで、第1の導体層2お
よび絶縁層1の所定の位置に、第2の導体層2が露出す
るように貫通孔5を形成し、その貫通孔5にめっきによ
り導通路4を形成する。
[0003] Such a double-sided flexible wiring board has conventionally been manufactured, for example, as follows. That is, first, the first conductor layer 2 and the second conductor layer 3 are formed on both surfaces of the insulating layer 1 as a predetermined circuit pattern by, for example, a subtractive method, an additive method, a semi-additive method, or the like. Next, a through hole 5 is formed at a predetermined position of the first conductor layer 2 and the insulating layer 1 so that the second conductor layer 2 is exposed, and a conduction path 4 is formed in the through hole 5 by plating.

【0004】[0004]

【発明が解決しようとする課題】しかし、上記の方法で
は、製造工程が多く、特に、導通路4および第2の絶縁
層3の形成には、めっきや、レジストの形成およびエッ
チングなどの複雑な工程が必要とされるので、両面フレ
キシブル配線板の製造に要する手間および時間がかか
り、コストの上昇を招いている。
However, the above-described method involves many manufacturing steps. In particular, the formation of the conductive path 4 and the second insulating layer 3 involves complicated processes such as plating, formation of a resist, and etching. Since a process is required, it takes time and effort to manufacture a double-sided flexible wiring board, resulting in an increase in cost.

【0005】また、近年、磁気カードに代えて使用され
つつあるICカードには、フレキシブル配線板が用いら
れている。ICカードは、磁気カードに比べて記憶容量
が格段に大きい一方で、製造コストがかかり高価である
という問題を有している。そのため、このようなICカ
ードに用いられる両面フレキシブル配線板は、効率的に
製造されかつ低コストで供給されることが、強く要望さ
れている。
In recent years, a flexible wiring board has been used for an IC card which is being used instead of a magnetic card. The IC card has a much larger storage capacity than the magnetic card, but has a problem that it is expensive to manufacture and expensive. Therefore, there is a strong demand for a double-sided flexible wiring board used for such an IC card to be efficiently manufactured and supplied at low cost.

【0006】本発明は、このような事情に鑑みなされた
もので、その目的とするところは、製造工程が少なく、
かつ、簡易な工程により製造され、低コストで供給され
る両面フレキシブル配線板、その両面フレキシブル配線
板が用いられるICカード、および、その両面フレキシ
ブル配線板の製造方法を提供することにある。
The present invention has been made in view of such circumstances, and has as its object to reduce the number of manufacturing steps.
Another object of the present invention is to provide a double-sided flexible wiring board manufactured by a simple process and supplied at low cost, an IC card using the double-sided flexible wiring board, and a method of manufacturing the double-sided flexible wiring board.

【0007】[0007]

【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に、本発明の両面フレキシブル配線板は、絶縁層の一方
の面に、第1の導体層が形成されるとともに、前記絶縁
層の他方の面に、第2の導体層が形成され、前記第1の
導体層と前記第2の導体層とが、前記絶縁層を貫通する
導通路によって電気的に接続されてなる両面フレキシブ
ル配線板において、前記第1の導体層が金属箔からな
り、前記第2の導体層および前記導通路が、導電性ペー
ストの塗布により形成されていることを特徴としてい
る。
To achieve the above object, a double-sided flexible wiring board according to the present invention has a first conductor layer formed on one surface of an insulating layer and a second conductor layer formed on the other side of the insulating layer. A second conductive layer is formed on the surface of the double-sided flexible wiring board, wherein the first conductive layer and the second conductive layer are electrically connected by a conductive path penetrating the insulating layer. The first conductor layer is made of a metal foil, and the second conductor layer and the conduction path are formed by applying a conductive paste.

【0008】この両面フレキシブル配線板では、前記第
1の導体層が、銅箔またはアルミ箔からなることが好ま
しく、また、前記導電性ペーストが、銀ペースト、銅ペ
ーストまたはアルミペーストであることが好ましい。
In this double-sided flexible wiring board, the first conductor layer is preferably made of a copper foil or an aluminum foil, and the conductive paste is preferably a silver paste, a copper paste or an aluminum paste. .

【0009】また、本発明は、上記した本発明の両面フ
レキシブル配線板が用いられているICカードをも含む
ものである。
The present invention also includes an IC card using the above-mentioned double-sided flexible wiring board of the present invention.

【0010】また、本発明は、絶縁層の一方の面に、第
1の導体層を形成する工程、前記絶縁層の所定の位置に
貫通孔を形成する工程、前記絶縁層の他方の面に、導電
性ペーストを塗布することにより、第2の導体層を形成
すると同時に、前記貫通孔に前記導電性ペーストを充填
して、前記第1の導体層と前記第2の導体層とを電気的
に接続する導通路を形成する工程を含んでなる両面フレ
キシブル配線板の製造方法をも含むものである。
Further, the present invention provides a method for forming a first conductor layer on one surface of an insulating layer, a process for forming a through hole at a predetermined position on the insulating layer, and a method for forming a through hole on the other surface of the insulating layer. Forming a second conductive layer by applying a conductive paste, filling the through-hole with the conductive paste at the same time as electrically connecting the first conductive layer and the second conductive layer to each other. The method also includes a method for manufacturing a double-sided flexible wiring board, which includes a step of forming a conduction path connected to the flexible wiring board.

【0011】さらに、本発明は、第1の絶縁層の上に、
第1の導体層を形成する工程、前記第1の導体層の上
に、所定の位置に貫通孔を有する第2の絶縁層を形成す
る工程、前記第2の絶縁層の上に、導電性ペーストを塗
布することにより、第2の導体層を形成すると同時に、
前記貫通孔に前記導電性ペーストを充填して、前記第1
の導体層と前記第2の導体層とを電気的に接続する導通
路を形成する工程を含んでなる両面フレキシブル配線板
の製造方法をも含むものである。
Further, according to the present invention, on the first insulating layer,
Forming a first conductive layer, forming a second insulating layer having a through hole at a predetermined position on the first conductive layer, forming a conductive layer on the second insulating layer; At the same time as forming the second conductor layer by applying the paste,
Filling the through-hole with the conductive paste, the first
And a method of manufacturing a double-sided flexible wiring board, which comprises a step of forming a conductive path for electrically connecting the conductive layer and the second conductive layer.

【0012】これらの両面フレキシブル配線板の製造方
法においては、前記導電性ペーストを塗布することによ
り、前記第2の導体層を形成する時に、同時に、前記第
2の導体層を所定の回路パターンとして形成することが
好ましい。また、前記第1の導体層が、銅箔またはアル
ミ箔からなることが好ましく、また、前記導電性ペース
トが、銀ペースト、銅ペーストまたはアルミペーストで
あることが好ましい。
In the method for manufacturing a double-sided flexible wiring board, when the second conductive layer is formed by applying the conductive paste, the second conductive layer is simultaneously formed into a predetermined circuit pattern. Preferably, it is formed. Further, it is preferable that the first conductor layer is made of a copper foil or an aluminum foil, and that the conductive paste is a silver paste, a copper paste or an aluminum paste.

【0013】[0013]

【発明の実施の形態】図1は、本発明の両面フレキシブ
ル配線板の一実施形態を示す要部断面図である。図1に
おいて、この両面フレキシブル配線板11は、絶縁層1
2の一方の面12aに、第1の導体層13が所定の回路
パターンで形成されるとともに、絶縁層12の他方の面
12bにも、第2の導体層14が所定の回路パターンで
形成されている。そして、これら第1の導体層13と第
2の導体層14とは、絶縁層12を貫通する貫通孔15
に形成される導通路16によって、電気的に接続されて
いる。
DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS FIG. 1 is a sectional view showing a main part of an embodiment of a double-sided flexible wiring board according to the present invention. In FIG. 1, this double-sided flexible wiring board 11 has an insulating layer 1
A first conductor layer 13 is formed on a first surface 12a of the insulating layer 12 in a predetermined circuit pattern, and a second conductor layer 14 is formed on the other surface 12b of the insulating layer 12 in a predetermined circuit pattern. ing. The first conductor layer 13 and the second conductor layer 14 form a through hole 15 penetrating the insulating layer 12.
Are electrically connected by a conductive path 16 formed at the bottom.

【0014】このような両面フレキシブル配線板11を
製造するには、例えば、図2に示すような方法が用いら
れる。すなわち、まず、図2(a)に示すように、絶縁
層12の一方の面12aに、第1の導体層13を、所定
の回路パターンとして形成する。
In order to manufacture such a double-sided flexible wiring board 11, for example, a method as shown in FIG. 2 is used. That is, first, as shown in FIG. 2A, the first conductor layer 13 is formed on one surface 12a of the insulating layer 12 as a predetermined circuit pattern.

【0015】絶縁層12としては、フレキシブル配線板
の絶縁層として使用可能なものであれば、特に制限され
ず、例えば、ポリイミド系樹脂、アクリル系樹脂、ポリ
エーテルニトリル系樹脂、ポリエーテルスルホン系樹
脂、ポリエチレンテレフタレート系樹脂、ポリエチレン
ナフタレート系樹脂、ポリ塩化ビニル系樹脂などの合成
樹脂のフィルムが挙げられる。これらの合成樹脂のうち
では、耐熱性や寸法安定性などを考慮すると、好ましく
は、ポリイミド系樹脂、コストの低減化を考慮すると、
好ましくは、ポリエチレンテレフタレート系樹脂が挙げ
られる。なお、絶縁層12の厚みは、通常、5〜100
μm、好ましくは、5〜50μmである。
The insulating layer 12 is not particularly limited as long as it can be used as an insulating layer of a flexible wiring board. For example, polyimide resin, acrylic resin, polyether nitrile resin, polyether sulfone resin And synthetic resin films such as polyethylene terephthalate resin, polyethylene naphthalate resin and polyvinyl chloride resin. Of these synthetic resins, considering heat resistance and dimensional stability, etc., preferably, a polyimide resin, considering cost reduction,
Preferably, a polyethylene terephthalate resin is used. The thickness of the insulating layer 12 is usually 5 to 100.
μm, preferably 5 to 50 μm.

【0016】また、所定の回路パターンとして形成され
る第1の導体層13は、フレキシブル配線板の導体層と
して使用可能な金属箔であって、例えば、銅箔、アルミ
箔、ニッケル箔、金箔などが挙げられる。コストの低減
化を考慮すると、好ましくは、銅箔およびアルミ箔が挙
げられる。なお、第1の導体層13の厚みは、通常、1
〜50μm、好ましくは、2〜35μmである。
The first conductor layer 13 formed as a predetermined circuit pattern is a metal foil that can be used as a conductor layer of a flexible wiring board, such as a copper foil, an aluminum foil, a nickel foil, and a gold foil. Is mentioned. In consideration of cost reduction, preferably, copper foil and aluminum foil are used. The thickness of the first conductor layer 13 is usually 1
5050 μm, and preferably 2 to 35 μm.

【0017】そして、絶縁層12の一方の面12aに、
第1の導体層13を形成するには、例えば、第1の導体
層13に絶縁層12を貼り合わす、第1の導体層13に
絶縁層12を形成するための樹脂溶液を塗布して乾燥さ
せる、あるいは、絶縁層12にめっきにより第1の導体
層13を設けるなどの方法が挙げられる。
Then, on one surface 12a of the insulating layer 12,
In order to form the first conductor layer 13, for example, the insulating layer 12 is attached to the first conductor layer 13, and a resin solution for forming the insulating layer 12 is applied to the first conductor layer 13 and dried. Or a method of providing the first conductor layer 13 on the insulating layer 12 by plating.

【0018】第1の導体層13に絶縁層12を貼り合わ
す場合には、例えば、金属箔からなる第1の導体層13
に、フィルム状に形成された絶縁層12を、熱融着など
によってそのまま貼着するか、あるいは、接着剤または
粘着剤を介して貼着すればよい。粘着剤または接着剤と
しては、例えば、エポキシ−ニトリルブチルゴム系樹
脂、エポキシ−アクリルゴム系樹脂、アクリル系樹脂、
ブチラール系樹脂、ウレタン系樹脂など、公知の粘着剤
または接着剤が用いられる。そして、これら絶縁層12
と第1の導体層13とを貼り合わせた後に、例えば、第
1の導体層13を、サブトラクティブ法などの公知のパ
ターンニング法によって所定の回路パターンとして形成
すればよい。サブトラクティブ法では、第1の導体層1
3の表面に、所定の回路パターンに対応させてエッチン
グレジストを形成し、このエッチングレジストをレジス
トとして、第1の導体層13をエッチングして、その後
に、エッチングレジストを除去するようにする。
When the insulating layer 12 is bonded to the first conductor layer 13, for example, the first conductor layer 13 made of a metal foil is used.
Then, the insulating layer 12 formed in a film shape may be attached as it is by heat fusion or the like, or may be attached via an adhesive or an adhesive. As the pressure-sensitive adhesive or adhesive, for example, epoxy-nitrile butyl rubber-based resin, epoxy-acrylic rubber-based resin, acrylic resin,
A known adhesive or adhesive such as a butyral resin or a urethane resin is used. And these insulating layers 12
After the first conductor layer 13 is bonded to the first conductor layer 13, for example, the first conductor layer 13 may be formed as a predetermined circuit pattern by a known patterning method such as a subtractive method. In the subtractive method, the first conductor layer 1
An etching resist is formed on the surface of the substrate 3 so as to correspond to a predetermined circuit pattern, the first conductive layer 13 is etched using the etching resist as a resist, and then the etching resist is removed.

【0019】また、第1の導体層13に絶縁層12を形
成するための樹脂溶液を塗布して乾燥させる場合には、
例えば、ポリアミド酸溶液などの単量体の樹脂溶液を、
金属箔からなる第1の導体層13の表面に成膜し、これ
を乾燥硬化させることにより、絶縁層12を形成すれば
よい。そして、第1の導体層13の表面に絶縁層12を
形成した後に、例えば、第1の導体層13を、サブトラ
クティブ法などの公知のパターンニング法によって所定
の回路パターンとして形成すればよい。
When a resin solution for forming the insulating layer 12 is applied to the first conductor layer 13 and dried,
For example, a resin solution of a monomer such as a polyamic acid solution,
The insulating layer 12 may be formed by forming a film on the surface of the first conductor layer 13 made of a metal foil and drying and curing the film. After the insulating layer 12 is formed on the surface of the first conductor layer 13, the first conductor layer 13 may be formed as a predetermined circuit pattern by a known patterning method such as a subtractive method.

【0020】また、絶縁層12にめっきにより第1の導
体層13を設ける場合には、アディティブ法やセミアデ
ィティブ法などの公知のパターンニング法によって、フ
ィルム状に形成された絶縁層12に、直接、金属箔から
なる第1の導体層13を、所定の回路パターンとして形
成すればよい。すなわち、アディティブ法では、まず、
絶縁層12の表面に、所定の回路パターンと逆パターン
でめっきレジストを形成して、次いで、絶縁層12にお
けるめっきレジストが形成されていない表面に、めっき
により、所定の回路パターンとして第1の導体層13を
形成し、その後に、めっきレジストを除去するようにす
る。また、セミアディティブ法では、まず、絶縁層12
の表面に、下地となる導体の薄膜を真空蒸着法などによ
り形成して、次いで、この下地の上に、所定の回路パタ
ーンと逆パターンでめっきレジストを形成した後、下地
におけるめっきレジストが形成されていない表面に、め
っきにより、所定の回路パターンとして第1の導体層1
3を形成し、その後に、めっきレジストおよびそのめっ
きレジストが積層されていた下地を除去するようにす
る。
In the case where the first conductor layer 13 is provided on the insulating layer 12 by plating, the first conductor layer 13 is directly formed on the insulating layer 12 formed into a film by a known patterning method such as an additive method or a semi-additive method. The first conductor layer 13 made of a metal foil may be formed as a predetermined circuit pattern. That is, in the additive method, first,
A plating resist is formed on the surface of the insulating layer 12 in a pattern opposite to the predetermined circuit pattern, and then the first conductor as a predetermined circuit pattern is formed on the surface of the insulating layer 12 where the plating resist is not formed by plating. The layer 13 is formed, and thereafter, the plating resist is removed. In the semi-additive method, first, the insulating layer 12
A thin film of a conductor serving as a base is formed on the surface of the base by a vacuum deposition method or the like, and then, on the base, a plating resist is formed in a pattern opposite to a predetermined circuit pattern, and then a plating resist on the base is formed. The first conductor layer 1 is formed as a predetermined circuit pattern on the uncoated surface by plating.
Then, the plating resist and the base on which the plating resist is laminated are removed.

【0021】なお、上記したサブトラクティブ法、アデ
ィティブ法およびセミアディティブ法などによる第1の
導体層13のパターンニングは、次に述べる貫通孔15
の形成の前後のいずれの時であってもよい。
The patterning of the first conductive layer 13 by the above-described subtractive method, additive method, semi-additive method, etc.
At any time before and after the formation of.

【0022】そして、このようにして、絶縁層12の一
方の面12aに、第1の導体層13を、所定の回路パタ
ーンとして形成した後には、図2(b)に示すように、
絶縁層12の所定の位置に貫通孔15を形成する。貫通
孔15は、打ち抜き、ドリル穿孔、レーザーアブレーシ
ョン法、化学エッチング法、プラズマエッチング法など
公知の穿孔方法により形成することができる。なお、図
2(b)に示すように、その底面に第1の導体層13を
露出させるように、絶縁層12のみに貫通孔15を形成
する場合には、好ましくは、レーザーアブレーション
法、化学エッチング法、プラズマエッチング法が用いら
れる。貫通孔15の孔径は、通常、30〜2000、好
ましくは、100〜1000μであり、その形状は、丸
孔や角孔など任意の形状でよい。
After the first conductor layer 13 is formed as a predetermined circuit pattern on one surface 12a of the insulating layer 12 as described above, as shown in FIG.
A through hole 15 is formed at a predetermined position of the insulating layer 12. The through hole 15 can be formed by a known perforation method such as punching, drilling, laser ablation, chemical etching, and plasma etching. When the through hole 15 is formed only in the insulating layer 12 so as to expose the first conductor layer 13 on the bottom surface as shown in FIG. An etching method and a plasma etching method are used. The hole diameter of the through-hole 15 is usually 30 to 2000, preferably 100 to 1000 μ, and the shape may be any shape such as a round hole or a square hole.

【0023】なお、このような貫通孔15は、通常、絶
縁層12に第1の導体層13を形成した後に形成される
が、場合によっては、絶縁層12に第1の導体層13を
形成する前に、予めフィルム状に形成された絶縁層12
に形成しておいてもよい。
Incidentally, such a through hole 15 is usually formed after the first conductor layer 13 is formed in the insulating layer 12. In some cases, the first conductor layer 13 is formed in the insulating layer 12. Before the formation, the insulating layer 12 previously formed into a film shape
May be formed in advance.

【0024】次いで、図2(c)に示すように、絶縁層
12の他方の面12bに、第2の導体層14を、所定の
回路パターンとして形成するとともに、貫通孔15に導
通路16を形成する。本実施形態において、この第2の
導体層14および導通路16の形成は、絶縁層12の他
方の面12bに、導電性ペーストを塗布することによ
り、第2の導体層14を形成し、これと同時に、貫通孔
15に導電性ペーストを充填することにより、導通路1
6を形成する。
Next, as shown in FIG. 2C, a second conductor layer 14 is formed as a predetermined circuit pattern on the other surface 12b of the insulating layer 12, and a conduction path 16 is formed in the through hole 15. Form. In the present embodiment, the second conductor layer 14 and the conductive path 16 are formed by applying a conductive paste to the other surface 12 b of the insulating layer 12 to form the second conductor layer 14. At the same time, by filling the through holes 15 with a conductive paste,
6 is formed.

【0025】導電性ペーストは、銅、銀、アルミなどの
導電性のある微粒子が、粘性のあるバインダ中に分散さ
れてなるペーストであって、バインダとしては、例え
ば、エポキシ樹脂、フェノール樹脂、ウレタン樹脂など
の熱硬化性樹脂や、例えば、ポリアミド樹脂やポリエチ
レン樹脂などの熱可塑性樹脂が用いられる。導電性ペー
ストとしては、銅の微粒子が分散されてなる銅ペース
ト、銀の微粒子が分散されてなる銀ペースト、アルミの
微粒子が分散されてなるアルミペーストが好ましく用い
られる。このような導電性ペーストを用いることによ
り、コストの低減化を図ることができる。
The conductive paste is a paste in which conductive fine particles such as copper, silver, and aluminum are dispersed in a viscous binder. Examples of the binder include an epoxy resin, a phenol resin, and a urethane. A thermosetting resin such as a resin or a thermoplastic resin such as a polyamide resin or a polyethylene resin is used. As the conductive paste, a copper paste in which fine copper particles are dispersed, a silver paste in which fine silver particles are dispersed, and an aluminum paste in which fine aluminum particles are dispersed are preferably used. By using such a conductive paste, cost can be reduced.

【0026】導電性ペーストの塗布は、例えば、スクリ
ーン印刷や、ディスペンス法を用いればよい。すなわ
ち、スクリーン印刷では、絶縁層12の他方の面12b
の上に、スクリーン版を配置し、その上から導電性ペー
ストをスキージなどによって押し出すことにより、第2
の導体層14に対応する所定の回路パターンを形成しな
がら、これと同時に、貫通孔15に導電性ペーストを充
填するようにする。また、ディスペンス法では、ディス
ペンサーのノズルから、絶縁層12の他方の面12bの
上に導電性ペーストを吐出し、第2の導体層14に対応
する所定の回路パターンを形成しながら、これと同時
に、貫通孔15に導電性ペーストを充填するようにす
る。そして、塗布された導電性ペーストを、その導電性
ペーストに応じた温度で乾燥硬化して、第2の導体層1
4を、所定の回路パターンとして形成するとともに、導
通路16を形成する。なお、絶縁層12の他方の面12
bに塗布する導電性ペーストの厚みは、15〜300μ
mであることが好ましく、また、その乾燥硬化後の第2
の導体層14の厚みは、10〜200μmであることが
好ましい。
The conductive paste may be applied by, for example, screen printing or dispensing. That is, in screen printing, the other surface 12b of the insulating layer 12 is used.
A screen plate is placed on top of this, and the conductive paste is extruded from above with a squeegee or the like, so that the second
While a predetermined circuit pattern corresponding to the conductive layer 14 is formed, the conductive paste is filled into the through holes 15 at the same time. In the dispensing method, a conductive paste is discharged from the nozzle of the dispenser onto the other surface 12b of the insulating layer 12 to form a predetermined circuit pattern corresponding to the second conductive layer 14, and at the same time, The conductive paste is filled in the through holes 15. Then, the applied conductive paste is dried and cured at a temperature corresponding to the conductive paste, and the second conductive layer 1
4 is formed as a predetermined circuit pattern, and the conduction path 16 is formed. The other surface 12 of the insulating layer 12
b. The thickness of the conductive paste applied to b is 15 to 300 μm.
m, and the second after drying and curing.
The thickness of the conductor layer 14 is preferably 10 to 200 μm.

【0027】このようにして、第2の導体層14と導通
路16とを同時に形成すれば、1つの工程において、第
2の導体層14と導通路16とを形成することができる
ので、従来のように、第2の導体層14と導通路16と
を、それぞれ別々の工程で形成していた場合に比べて、
製造工程の簡略化を図ることができる。しかも、導電性
ペーストを塗布するのみで、第2の導体層14と導通路
16とを形成することができるので、従来のように、め
っきや、レジストの形成およびエッチングなどの複雑な
工程が不要であり、簡易な工程により製造することがで
きる。したがって、この製造方法によれば、両面フレキ
シブル配線板を低コストで供給することができる。
If the second conductor layer 14 and the conduction path 16 are simultaneously formed in this manner, the second conductor layer 14 and the conduction path 16 can be formed in one step. As compared with the case where the second conductor layer 14 and the conduction path 16 are formed in separate steps,
The manufacturing process can be simplified. Moreover, since the second conductor layer 14 and the conductive path 16 can be formed only by applying the conductive paste, complicated processes such as plating, formation of a resist, and etching are not required as in the related art. And can be manufactured by a simple process. Therefore, according to this manufacturing method, a double-sided flexible wiring board can be supplied at low cost.

【0028】また、上記したように、スクリーン印刷
や、ディスペンス法により、導電性ペースト塗布すれ
ば、第2の導体層14を、直接、所定の回路パターンと
して形成することができるので、より簡易な工程により
製造することができ、両面フレキシブル配線板をより低
コストで供給することができる。
Further, as described above, if a conductive paste is applied by screen printing or dispensing, the second conductor layer 14 can be directly formed as a predetermined circuit pattern. The double-sided flexible wiring board can be supplied at lower cost.

【0029】なお、図2に示す製造方法では、図2
(b)に示すように、絶縁層12の所定の位置に貫通孔
15を、その底面に第1の導体層13が露出するよう
に、絶縁層12のみに形成したが、図3(b)に示すよ
うに、絶縁層12の所定の位置において、貫通孔15
を、絶縁層12とともに第1の導体層13をも貫通させ
るようにして形成してもよい。
In the manufacturing method shown in FIG.
As shown in FIG. 3B, a through hole 15 is formed at a predetermined position of the insulating layer 12 only in the insulating layer 12 so that the first conductor layer 13 is exposed on the bottom surface. As shown in FIG.
May be formed so as to penetrate the first conductor layer 13 together with the insulating layer 12.

【0030】すなわち、図3に示す製造方法では、図2
に示す製造方法と同様にして、まず、図3(a)に示す
ように、絶縁層12の一方の面12aに、第1の導体層
13を、所定の回路パターンとして形成した後、図3
(b)に示すように、絶縁層12の所定の位置に貫通孔
15を形成する工程において、絶縁層12の所定の位置
において、絶縁層12とともに第1の導体層13を貫通
させることにより、貫通孔15を形成する。このように
貫通孔15を形成する場合には、好ましくは、打ち抜
き、ドリル穿孔が用いられる。そして、図2に示す製造
方法と同様にして、図3(c)に示すように、絶縁層1
2の他方の面12bに、導電性ペーストを塗布すること
により、第2の導体層14を形成するとともに、貫通孔
15に導電性ペーストを充填することにより、導通路1
6を形成して、両面フレキシブル配線板11を製造すれ
ばよい。
That is, in the manufacturing method shown in FIG.
First, as shown in FIG. 3A, a first conductor layer 13 is formed as a predetermined circuit pattern on one surface 12a of the insulating layer 12 as shown in FIG.
As shown in (b), in the step of forming the through hole 15 at a predetermined position of the insulating layer 12, the first conductor layer 13 is penetrated together with the insulating layer 12 at a predetermined position of the insulating layer 12. A through hole 15 is formed. When the through holes 15 are formed in this manner, punching and drilling are preferably used. Then, similarly to the manufacturing method shown in FIG. 2, as shown in FIG.
The second conductive layer 14 is formed by applying a conductive paste to the other surface 12 b of the second conductive layer 2, and the conductive path 1 is formed by filling the through-hole 15 with the conductive paste.
6, the double-sided flexible wiring board 11 may be manufactured.

【0031】なお、図2(b)に示すように、貫通孔1
5を絶縁層12のみに形成した場合には、図3(b)に
示すように、貫通孔15を絶縁層12および第1の導体
層13に形成した場合よりも、第1の導体層13に対す
る導通路16の接触面積を大きくとることができ、回路
の接続信頼性を向上させることができる。
Note that, as shown in FIG.
5 is formed only in the insulating layer 12, as shown in FIG. 3B, the through hole 15 is formed in the first conductive layer 13 rather than in the insulating layer 12 and the first conductive layer 13. , The contact area of the conduction path 16 with the contact can be increased, and the connection reliability of the circuit can be improved.

【0032】また、本発明の両面フレキシブル配線板
は、図4に示すように、第1の絶縁層22の上に、第1
の導体層23が所定の回路パターンで形成され、第1の
導体層23の上に、絶縁層としての第2の絶縁層24が
形成され、さらに、第2の絶縁層24の上に、第2の導
体層25が形成され、かつ、第1の導体層23と第2の
導体層25とが、第2の絶縁層24を貫通する貫通孔2
6に形成される導通路27によって、電気的に接続され
ているものであってもよい。
As shown in FIG. 4, the double-sided flexible wiring board of the present invention
Is formed in a predetermined circuit pattern, a second insulating layer 24 as an insulating layer is formed on the first conductive layer 23, and a second insulating layer 24 is formed on the second insulating layer 24. 2 conductor layers 25 are formed, and the first conductor layer 23 and the second conductor layer 25 are formed in the through holes 2 penetrating the second insulating layer 24.
6 may be electrically connected to each other by the conductive path 27.

【0033】このような両面フレキシブル配線板21を
製造するには、例えば、図5に示すような方法が用いら
れる。すなわち、まず、図5(a)に示すように、第1
の絶縁層22の上に、第1の導体層23を所定の回路パ
ターンとして形成する。
In order to manufacture such a double-sided flexible wiring board 21, for example, a method as shown in FIG. 5 is used. That is, first, as shown in FIG.
A first conductor layer 23 is formed as a predetermined circuit pattern on the insulating layer 22 of FIG.

【0034】第1の絶縁層22および第1の導体層23
は、図2に示す製造方法において用いた絶縁層12およ
び第1の導体層13と同様のものを用いることができ、
第1の絶縁層22の上に第1の導体層23を所定の回路
パターンとして形成する方法も、図2に示す製造方法と
同様の方法を用いることができる。
First insulating layer 22 and first conductor layer 23
Can be the same as the insulating layer 12 and the first conductor layer 13 used in the manufacturing method shown in FIG.
The method for forming the first conductor layer 23 as a predetermined circuit pattern on the first insulating layer 22 can be the same as the method shown in FIG.

【0035】次いで、図5(b)に示すように、第1の
導体層23の上に、所定の位置に貫通孔26を有する第
2の絶縁層24を形成する。第1の導体層23の上に、
第2の絶縁層24を形成するには、例えば、第1の導体
層23に、予め所定の位置に貫通孔26が形成されたフ
ィルム状の第2の絶縁層24を貼り合わす、あるいは、
第1の導体層23に、第2の絶縁層24を形成するため
のソルダレジストインクまたは樹脂溶液を、貫通孔26
が形成されるように塗布するなどの方法が挙げられる。
Next, as shown in FIG. 5B, a second insulating layer 24 having a through hole 26 at a predetermined position is formed on the first conductor layer 23. On the first conductor layer 23,
In order to form the second insulating layer 24, for example, a film-shaped second insulating layer 24 in which a through hole 26 is formed at a predetermined position in advance is bonded to the first conductor layer 23, or
A solder resist ink or a resin solution for forming the second insulating layer 24 is formed on the first conductor layer 23 through the through holes 26.
For example, is applied so that is formed.

【0036】第1の導体層23に、予め所定の位置に貫
通孔26が形成されたフィルム状の第2の絶縁層24を
貼り合わす場合には、まず、予め所定の位置に貫通孔2
6が形成されたフィルム状の第2の絶縁層24を用意す
る。第2の絶縁層24は、第1の絶縁層22と同様のも
のであって、フィルム状に形成されているものを用いれ
ばよい。また、この第2の絶縁層24の所定の位置に貫
通孔26を形成するには、図2示す製造方法と同様に、
打ち抜き、ドリル穿孔、レーザーアブレーション法、化
学エッチング法、プラズマエッチング法など公知の穿孔
方法を用いればよい。
When the film-shaped second insulating layer 24 in which the through-hole 26 is formed in a predetermined position in advance is bonded to the first conductor layer 23, first, the through-hole 2 is formed in a predetermined position in advance.
A film-shaped second insulating layer 24 on which 6 is formed is prepared. The second insulating layer 24 is similar to the first insulating layer 22 and may be formed in a film shape. In order to form the through-hole 26 at a predetermined position of the second insulating layer 24, as in the manufacturing method shown in FIG.
Known perforation methods such as punching, drilling, laser ablation, chemical etching, and plasma etching may be used.

【0037】そして、第1の導体層23に第2の絶縁層
24を貼り合わすには、図2に示す製造方法と同様に、
例えば、第2の導体層23に、第2の絶縁層24を、熱
融着などによってそのまま貼着するか、あるいは、接着
剤または粘着剤を介して貼着すればよい。
Then, to bond the second insulating layer 24 to the first conductor layer 23, as in the manufacturing method shown in FIG.
For example, the second insulating layer 24 may be stuck to the second conductor layer 23 by heat fusion or the like, or may be stuck via an adhesive or an adhesive.

【0038】なお、第1の導体層23と第2の絶縁層2
4とを、粘着剤または接着剤を介して貼り合わす場合に
は、予め、フィルム状に形成された第2の絶縁層24
に、粘着剤または接着剤を積層して、第2の絶縁層24
と粘着剤層または接着剤層との複合体を形成しておき、
この複合体に貫通孔26を形成した後、第1の導体層2
3に貼着することが好ましい。このように、貫通孔26
が形成される複合体を第1の導体層23に貼着すれば、
作業の簡易化を図ることができる。また、この場合にお
いて、粘着剤を用いて、第2の絶縁層24と粘着剤層と
からなる複合体を形成するようにすれば、コストの低減
化を図ることができる。
The first conductor layer 23 and the second insulating layer 2
4 is bonded via an adhesive or an adhesive, the second insulating layer 24 previously formed in a film shape is used.
, An adhesive or an adhesive is laminated on the second insulating layer 24.
To form a composite with the pressure-sensitive adhesive layer or adhesive layer,
After forming the through-hole 26 in this composite, the first conductor layer 2
It is preferable to stick to No. 3. Thus, the through hole 26
Is adhered to the first conductor layer 23,
Work can be simplified. In this case, if a composite including the second insulating layer 24 and the adhesive layer is formed using an adhesive, cost can be reduced.

【0039】また、第1の導体層23に、第2の絶縁層
24を形成するためのソルダレジストインクまたは樹脂
溶液を、貫通孔26が形成されるように塗布する場合に
は、例えば、エポキシ系などの熱硬化タイプのソルダー
レジストインクや、ポリアミド酸溶液などの単量体の樹
脂溶液を、上記したスクリーン印刷や、ディスペンス法
を用いて、第1の導体層23の上における貫通孔26が
形成される部分を除いて、塗布し、これを乾燥硬化させ
ることにより、第1の導体層23の上に、所定の位置に
貫通孔26を有する第2の絶縁層24を形成すればよ
い。
When a solder resist ink or a resin solution for forming the second insulating layer 24 is applied to the first conductor layer 23 so that the through holes 26 are formed, for example, an epoxy resin is used. The through-hole 26 on the first conductor layer 23 is formed by using the above-described screen printing or dispensing method using a thermosetting type solder resist ink such as a resin or a resin solution of a monomer such as a polyamic acid solution. The second insulating layer 24 having the through-hole 26 at a predetermined position may be formed on the first conductor layer 23 by applying the material except for the portion to be formed and drying and curing the applied material.

【0040】また、例えば、感光性のエポキシ系などの
熱硬化タイプのソルダーレジストインクや、感光性のポ
リアミド酸溶液などの単量体の樹脂溶液を用いて、これ
を第1の導体層23の上に塗布し、フォトレジストを、
貫通孔26を形成するための所定の位置に配置して、露
光および現像することにより、第1の導体層23の上
に、所定の位置に貫通孔26を有する第2の絶縁層24
を形成してもよい。
Further, for example, a thermosetting solder resist ink such as a photosensitive epoxy resin or a resin solution of a monomer such as a photosensitive polyamic acid solution is used to form the first conductive layer 23. And apply photoresist on top
The second insulating layer 24 having the through hole 26 at a predetermined position is formed on the first conductor layer 23 by exposing and developing the second insulating layer 24 at a predetermined position for forming the through hole 26.
May be formed.

【0041】次いで、図5(c)に示すように、第2の
絶縁層24の上に、第2の導体層25を、所定の回路パ
ターンとして形成するとともに、貫通孔26に導通路2
7を形成する。この第2の導体層25および導通路27
の形成は、図2に示す製造方法と同様に、第2の絶縁層
24の上に、導電性ペーストを塗布することにより、第
2の導体層25を形成し、これと同時に、貫通孔26に
導電性ペーストを充填することにより、導通路27を形
成すればよい。
Next, as shown in FIG. 5C, a second conductor layer 25 is formed as a predetermined circuit pattern on the second insulating layer 24, and the conductive path 2 is formed in the through hole 26.
7 is formed. The second conductor layer 25 and the conductive path 27
The second conductive layer 25 is formed by applying a conductive paste on the second insulating layer 24 in the same manner as in the manufacturing method shown in FIG. The conductive path 27 may be formed by filling the conductive paste into the conductive paste.

【0042】このようにして、第2の導体層25と導通
路27とを同時に形成すれば、図2に示す製造方法と同
様に、製造工程の簡略化を図ることができるるととも
に、簡易な工程により製造することができ、両面フレキ
シブル配線板を低コストで供給することができる。
If the second conductor layer 25 and the conductive path 27 are formed at the same time in this manner, the manufacturing process can be simplified as in the manufacturing method shown in FIG. It can be manufactured by a process, and a double-sided flexible wiring board can be supplied at low cost.

【0043】なお、図4に示す両面フレキシブル配線板
21は、図1に示す両面フレキシブル配線板11より
も、絶縁層が1つ多く、その分、構成材料および工程が
多くなるが、その目的および用途によっては、第1の絶
縁層22を、そのまま保護層として、あるいは、他の材
料と接合するための接合層として用いることができる。
The double-sided flexible wiring board 21 shown in FIG. 4 has one more insulating layer than the double-sided flexible wiring board 11 shown in FIG. 1 and accordingly requires more constituent materials and steps. Depending on the use, the first insulating layer 22 can be used as it is as a protective layer or as a bonding layer for bonding to another material.

【0044】また、この図4に示す両面フレキシブル配
線板21では、貫通孔26が第2の絶縁層24にのみ形
成されているので、図3(b)に示すように、貫通孔1
5を絶縁層12および第1の導体層13に形成した場合
よりも、第1の導体層23に対する導通路27の接触面
積を大きくとることができ、回路の接続信頼性を向上さ
せることができる。
In the double-sided flexible wiring board 21 shown in FIG. 4, since the through-hole 26 is formed only in the second insulating layer 24, as shown in FIG.
5 can be made larger in the contact area of the conduction path 27 with the first conductor layer 23 than in the case where 5 is formed on the insulating layer 12 and the first conductor layer 13, and the connection reliability of the circuit can be improved. .

【0045】そして、このようにして製造される本発明
の両面フレキシブル配線板は、簡易な工程により製造さ
れ、低コストで供給されるので、各種の分野において有
効に用いることができる。特に、本発明の両面フレキシ
ブル配線板は、近年、磁気カードに代えて使用されつつ
あるICカードを製造するために、好適に用いることが
できる。
The double-sided flexible wiring board of the present invention thus manufactured is manufactured by a simple process and supplied at a low cost, so that it can be effectively used in various fields. In particular, the double-sided flexible wiring board of the present invention can be suitably used for manufacturing an IC card which has recently been used in place of a magnetic card.

【0046】すなわち、本発明において、ICカード
は、カード内に、アンテナコイルとICチップとを内蔵
し、送受信機側のコイルに通電すると発生する磁界を受
けて、電力を誘起して交信する非接触型のICカード、
および、アンテナコイルの代わりに外部端子が内蔵され
ている接触型のICカードのいずれも含むが、本発明の
両面フレキシブル配線板は、非接触型のICカードに用
いられることが好ましい。
That is, in the present invention, the IC card has a built-in antenna coil and IC chip in the card, receives a magnetic field generated when the coil on the transceiver side is energized, induces electric power, and communicates by inducing electric power. Contact type IC card,
Also, the present invention includes any contact type IC card having an external terminal built in instead of the antenna coil, but the double-sided flexible wiring board of the present invention is preferably used for a non-contact type IC card.

【0047】非接触型のICカードは、その要部を図6
に示すように、カード31内に、コイル状に形成される
アンテナコイル32と、ICチップ33とが内蔵されて
おり、アンテナコイル32の両端部32a、32bが、
接続用配線34a、34bを介してICチップ33に接
続されるように構成されている。アンテナコイル32の
内側端部32bとICチップ33とを接続するために
は、接続用配線34bが、アンテナコイル32を横切る
必要がある。そのため、図7に示すように、本発明の両
面フレキシブル配線板において、絶縁層35の一方の面
に、第1の導体層として、アンテナコイル32、およ
び、アンテナコイル32の外側端部32aとICチップ
33とを接続するための接続用配線34aを形成すると
ともに、絶縁層35の他方の面に、アンテナコイル32
の内側端部32bとICチップ33とを接続するための
接続用配線34bを形成し、この両面フレキシブル配線
板をICカードのカードアンテナ基板36として用いる
ことにより、アンテナコイル32とICチップ33とを
良好に接続することができる。
The main part of the non-contact type IC card is shown in FIG.
As shown in FIG. 3, an antenna coil 32 formed in a coil shape and an IC chip 33 are built in a card 31, and both ends 32a and 32b of the antenna coil 32 are
It is configured to be connected to the IC chip 33 via the connection wires 34a and 34b. In order to connect the inner end 32b of the antenna coil 32 to the IC chip 33, the connection wiring 34b needs to cross the antenna coil 32. Therefore, as shown in FIG. 7, in the double-sided flexible wiring board of the present invention, on one surface of the insulating layer 35, the antenna coil 32 and the outer end 32a of the antenna coil 32 A wiring 34a for connecting to the chip 33 is formed, and the antenna coil 32 is formed on the other surface of the insulating layer 35.
By forming a connection wiring 34b for connecting the inner end 32b of the IC chip 33 and the IC chip 33, and using the double-sided flexible wiring board as the card antenna board 36 of the IC card, the antenna coil 32 and the IC chip 33 are connected. Can be connected well.

【0048】なお、図7に示すICカードは、カードア
ンテナ基板36の両面に、接着シート37を介して、文
字や図形などがデザインされた化粧板38がそれぞれ積
層されることにより、形成されている。
The IC card shown in FIG. 7 is formed by laminating decorative boards 38 on which characters and figures are designed on both sides of a card antenna board 36 via an adhesive sheet 37. I have.

【0049】また、ICカードは、磁気カードよりも記
憶容量が格段に大きく、急速に普及されつつあるが、一
方で、製造コストがかかり高価であるという問題を有し
ている。そのため、本発明の両面フレキシブル配線板を
用いれば、ICカードを、低コストで大量に供給するこ
とができる。
[0049] Further, the IC card has a much larger storage capacity than the magnetic card and is rapidly spreading, but has a problem that the manufacturing cost is high and the cost is high. Therefore, if the double-sided flexible wiring board of the present invention is used, a large number of IC cards can be supplied at low cost.

【0050】また、例えば、第1の導体層および第2の
導体層のいずれも導電性ペーストによって形成すれば、
コストの低減化をより一層図ることができるが、そのよ
うな場合には、電気抵抗が大きくなり、信号特性および
接続信頼性が低下してしまうので、良好な性能を保持す
ることができない。そのため、本発明のように、第1の
導体層を金属箔により形成するとともに、第2の導体層
を導電性ペーストにより形成すれば、コストの低減化を
図りつつ、良好な性能を保持することができる。特に、
上記したように、金属箔からなる第1の導体層として、
アンテナコイル32および接続用配線34aを、導電性
ペーストからなる第2の導体層として、接続用配線34
bを、それぞれ形成すれば、アンテナコイル32を金属
箔によって正確かつ確実に所定のパターンとして形成す
ることができながら、接続用配線34bを、安価な導電
性ペーストによって形成することができ、より一層、良
好な性能を保持しつつ、かつ、低コストでICカードを
製造および供給することができる。
Further, for example, if both the first conductor layer and the second conductor layer are formed of a conductive paste,
Although the cost can be further reduced, in such a case, the electrical resistance increases and the signal characteristics and connection reliability decrease, so that good performance cannot be maintained. Therefore, if the first conductor layer is formed of a metal foil and the second conductor layer is formed of a conductive paste as in the present invention, good performance can be maintained while reducing costs. Can be. In particular,
As described above, as the first conductor layer made of metal foil,
By using the antenna coil 32 and the connection wiring 34a as a second conductor layer made of a conductive paste, the connection wiring 34
By forming each of b, while the antenna coil 32 can be accurately and reliably formed as a predetermined pattern by the metal foil, the connection wiring 34b can be formed by the inexpensive conductive paste. The IC card can be manufactured and supplied at low cost while maintaining good performance.

【0051】なお、図7においては、ICチップ33
を、第1の導体層としてのアンテナコイル32および接
続用配線34aと絶縁層35に対して反対側に配置させ
ているが、例えば、図8に示すように、ICチップ33
を、第1の導体層としてのアンテナコイル32および接
続用配線34aと絶縁層35に対して同じ側に配置させ
るようにしてもよい。ICチップ33を同じ側に配置さ
せるようにすれば、ICチップ33を接続用配線34
a、34bと接続するためのICチップ接続用端子(図
示せず。)を、アンテナコイル32および接続用配線3
4aとともに第1の導体層として、同時に精度良く形成
することができ、これによって、より一層、良好な性能
を保持しつつ、かつ、低コストでICカードを製造およ
び供給することができる。
In FIG. 7, the IC chip 33
Are arranged on the opposite side to the antenna coil 32 as the first conductor layer and the connection wiring 34a and the insulating layer 35. For example, as shown in FIG.
May be arranged on the same side with respect to the antenna coil 32 as the first conductor layer, the connection wiring 34a, and the insulating layer 35. If the IC chip 33 is arranged on the same side, the IC chip 33 is
a, 34b, an IC chip connection terminal (not shown) for connecting to the antenna coil 32 and the connection wiring 3
4a and the first conductor layer can be simultaneously formed with high precision, whereby an IC card can be manufactured and supplied at lower cost while maintaining better performance.

【0052】[0052]

【実施例】以下に実施例を示し、本発明をさらに具体的
に説明するが、本発明は、何ら実施例に限定されること
はない。
EXAMPLES The present invention will be described in more detail with reference to the following Examples, which by no means limit the present invention.

【0053】実施例1 まず、絶縁層として、厚さ25μmのポリエチレンテレ
フタレートフィルムの一方の面に、ウレタン系接着剤を
介して、第1の導体層として、厚さ15μmのアルミ箔
を貼着したものを用意し、この第1の導体層に、サブト
ラクティブ法により、所定の回路パターンを形成した。
その後、金型による打ち抜きにより、絶縁層と第1の導
体層とを貫通する貫通孔を、所定の位置において、1.
0mm角の角孔で形成した。
Example 1 First, an aluminum foil having a thickness of 15 μm was adhered as a first conductor layer to one surface of a polyethylene terephthalate film having a thickness of 25 μm as an insulating layer via a urethane-based adhesive. A predetermined circuit pattern was formed on the first conductor layer by a subtractive method.
After that, through-holes penetrating the insulating layer and the first conductor layer are formed at predetermined positions by punching with a mold.
It was formed with a square hole of 0 mm square.

【0054】次いで、第1の絶縁層における他方の面
に、#300のサイズのメッシュのスクリーン版を用い
たスクリーン印刷により、熱可塑性樹脂をバインダとし
た銀ペースト(日本アチソン(株)製、Electro
dag6036SS)を塗布した。塗布時には、銀ペー
ストが自重によって貫通孔の壁面を流動し、第1の導体
層まで到達した。その後、80℃で30分間、および、
120℃で15分間、乾燥硬化することにより、第2の
導体層と導通路とを同時に形成した。なお、乾燥硬化後
の第2の導体層の厚さは、約10μmであった。
Next, on the other surface of the first insulating layer, a silver paste using a thermoplastic resin as a binder (Electro, manufactured by Nippon Acheson Co., Ltd., by screen printing using a # 300 mesh screen plate).
dag6036SS) was applied. At the time of application, the silver paste flowed on the wall surface of the through hole by its own weight, and reached the first conductor layer. Then at 80 ° C. for 30 minutes, and
By drying and curing at 120 ° C. for 15 minutes, the second conductor layer and the conductive path were simultaneously formed. Note that the thickness of the second conductor layer after drying and curing was about 10 μm.

【0055】このようにして得られた両面フレキシブル
配線板は、図3(c)に相当する構成を有し、簡易な方
法により製造することができ、かつ、低コストで供給し
得ることがわかった。
The thus obtained double-sided flexible wiring board has a configuration corresponding to FIG. 3 (c), can be manufactured by a simple method, and can be supplied at low cost. Was.

【0056】実施例2 まず、絶縁層として、厚さ25μmのポリエチレンテレ
フタレートフィルムの一方の面に、ウレタン系接着剤を
介して、第1の導体層として、厚さ15μmのアルミ箔
を貼着したものを用意し、この第1の導体層に、サブト
ラクティブ法により、所定の回路パターンを形成した。
その後、レーザーアブレーション法によって、絶縁層の
みを貫通する貫通孔を、第1の導体層を貫通させること
なく、所定の位置において、0.1mmφの丸孔で形成
した。
Example 2 First, a 15 μm-thick aluminum foil was adhered as a first conductor layer to one surface of a 25 μm-thick polyethylene terephthalate film as an insulating layer via a urethane-based adhesive. A predetermined circuit pattern was formed on the first conductor layer by a subtractive method.
Thereafter, a through hole penetrating only the insulating layer was formed by a laser ablation method at a predetermined position with a 0.1 mmφ round hole without penetrating the first conductor layer.

【0057】次いで、第1の絶縁層における他方の面
に、スクリーン印刷により、フェノール樹脂をバインダ
とした銅ペースト(タツタ電線(株)製、DDペースト
NF2000EX)を塗布した。塗布時には、銅ペース
トが自重によって貫通孔の壁面を流動し、第1の導体層
の表面に溜まった。その後、160℃で30分間、乾燥
硬化することにより、第2の導体層と導通路とを同時に
形成した。
Next, a copper paste (DD paste NF2000EX, manufactured by Tatsuta Electric Wire Co., Ltd.) using a phenol resin as a binder was applied to the other surface of the first insulating layer by screen printing. At the time of application, the copper paste flowed on the wall surface of the through hole by its own weight, and accumulated on the surface of the first conductor layer. Thereafter, by drying and curing at 160 ° C. for 30 minutes, the second conductor layer and the conductive path were simultaneously formed.

【0058】このようにして得られた両面フレキシブル
配線板は、図1に相当する構成を有し、簡易な方法によ
り製造することができ、かつ、低コストで供給し得るこ
とがわかった。
The thus obtained double-sided flexible wiring board has a configuration corresponding to that of FIG. 1, can be manufactured by a simple method, and can be supplied at low cost.

【0059】実施例3 まず、絶縁層として、厚さ25μmのポリエチレンテレ
フタレートフィルムの上に、ウレタン系接着剤を介し
て、第1の導体層として、厚さ12μmのアルミ箔を貼
着したものを用意し、この第1の導体層に、サブトラク
ティブ法により、所定の回路パターンを形成した。その
後、第1の導体層の上に、#200のサイズのメッシュ
のスクリーン版を用いたスクリーン印刷により、エポキ
シ系のソルダーレジストインク(四国化成工業(株)
製、FCハードCF−30G)を塗布し、その後、15
0℃で30分間、乾燥することにより、第2の絶縁層を
形成した。なお、このスクリーン印刷においては、第2
の絶縁層における所定の位置に、2.0mmφの丸孔か
らなる貫通孔が同時に形成されるようにした。
Example 3 First, a 12 μm-thick aluminum foil was adhered as a first conductor layer on a 25 μm-thick polyethylene terephthalate film as an insulating layer via a urethane-based adhesive. Then, a predetermined circuit pattern was formed on the first conductor layer by a subtractive method. Thereafter, an epoxy solder resist ink (Shikoku Chemical Industry Co., Ltd.) was formed on the first conductive layer by screen printing using a mesh screen plate of # 200 size.
Co., Ltd., FC Hard CF-30G), and then apply
By drying at 0 ° C. for 30 minutes, a second insulating layer was formed. In this screen printing, the second
A through hole made of a 2.0 mmφ round hole was formed at a predetermined position in the insulating layer.

【0060】次いで、第2の絶縁層の上に、#300の
サイズのメッシュのスクリーン版を用いたスクリーン印
刷により、熱可塑性樹脂をバインダとした銀ペースト
(日本アチソン(株)製、Electrodag603
6SS)を塗布した。塗布時には、銀ペーストが自重に
よって貫通孔の壁面を流動し、第1の導体層の表面に溜
まった。その後、80℃で30分間、および、120℃
で15分間、乾燥硬化することにより、第2の導体層と
導通路とを同時に形成した。なお、乾燥硬化後の第2の
導体層の厚さは、約10μmであった。
Then, a silver paste using a thermoplastic resin as a binder (Electrodag 603, manufactured by Nippon Acheson Co., Ltd.) was formed on the second insulating layer by screen printing using a # 300 mesh screen plate.
6SS) was applied. At the time of application, the silver paste flowed on the wall surface of the through-hole by its own weight and accumulated on the surface of the first conductor layer. Thereafter, at 80 ° C. for 30 minutes, and at 120 ° C.
For 15 minutes, thereby simultaneously forming the second conductor layer and the conductive path. Note that the thickness of the second conductor layer after drying and curing was about 10 μm.

【0061】このようにして得られた両面フレキシブル
配線板は、図4に相当する構成を有し、簡易な方法によ
り製造することができ、かつ、低コストで供給し得るこ
とがわかった。
It was found that the double-sided flexible wiring board thus obtained has a configuration corresponding to FIG. 4, can be manufactured by a simple method, and can be supplied at low cost.

【0062】[0062]

【発明の効果】以上述べたように、本発明の両面フレキ
シブル配線板の製造方法によれば、1つの工程におい
て、第2の導体層と導通路とを同時に形成することがで
きるので、従来のように、第2の導体層と導通路とを、
それぞれ別々の工程で形成していた場合に比べて、製造
工程の簡略化を図ることができる。しかも、導電性ペー
ストを塗布するのみで、第2の導体層と導通路とを形成
することができるので、従来のように、めっきや、レジ
ストの形成およびエッチングなどの複雑な工程が不要で
あり、簡易な工程により低コストで製造することができ
る。
As described above, according to the method for manufacturing a double-sided flexible wiring board of the present invention, the second conductor layer and the conductive path can be formed simultaneously in one step. As described above, the second conductive layer and the conductive path
The manufacturing process can be simplified as compared with the case where the components are formed in separate processes. Moreover, since the second conductive layer and the conductive path can be formed only by applying the conductive paste, complicated processes such as plating, formation of a resist, and etching are not required as in the related art. It can be manufactured at low cost by a simple process.

【0063】そのため、本発明の両面フレキシブル配線
板は、低コストで供給することができ、しかも、絶縁層
の一方の面に形成される第1の導体層が、金属箔により
形成される一方で、絶縁層の他方の面に形成される第2
の導体層および導通路が、導電性ペーストによって形成
されているので、従来の両面フレキシブル配線板に比べ
て、屈曲性がより良好である。
Therefore, the double-sided flexible wiring board of the present invention can be supplied at a low cost, and the first conductor layer formed on one surface of the insulating layer is formed of metal foil. A second layer formed on the other surface of the insulating layer.
Since the conductive layer and the conductive path are formed of a conductive paste, the flexibility is better than that of a conventional double-sided flexible wiring board.

【0064】また、本発明のICカードは、このような
本発明の両面フレキシブル配線板が用いられているの
で、低コストで大量に供給することができる。また、本
発明の両面フレキシブル配線板が用いられているICカ
ードでは、第1の導体層が金属箔により形成されるとと
もに、第2の導体層が導電性ペーストにより形成されて
いるので、コストの低減化を図りつつ、良好な性能を発
現することができる。
Since the IC card of the present invention uses such a double-sided flexible wiring board of the present invention, it can be supplied in large quantities at low cost. Further, in the IC card using the double-sided flexible wiring board of the present invention, the first conductor layer is formed of a metal foil and the second conductor layer is formed of a conductive paste. Good performance can be exhibited while reducing the amount.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明の両面フレキシブル配線板の一実施形態
を示す要部断面図である。
FIG. 1 is a cross-sectional view of a main part showing one embodiment of a double-sided flexible wiring board of the present invention.

【図2】図1に示す両面フレキシブル配線板の製造方法
を示す工程図であって、(a)は、絶縁層の一方の面
に、第1の導体層を所定の回路パターンとして形成する
工程を示す断面図、(b)は、絶縁層の所定の位置に貫
通孔を形成する工程を示す断面図、(c)は、絶縁層の
他方の面に、導電性ペーストを塗布することにより、第
2の導体層を形成するとともに、貫通孔に導電性ペース
トを充填することにより、導通路を形成する工程を示す
断面図である。
2A and 2B are process diagrams showing a method for manufacturing the double-sided flexible wiring board shown in FIG. 1, wherein FIG. 2A shows a process of forming a first conductor layer as a predetermined circuit pattern on one surface of an insulating layer; (B) is a cross-sectional view showing a step of forming a through hole at a predetermined position of the insulating layer, and (c) is a step of applying a conductive paste to the other surface of the insulating layer. It is sectional drawing which shows the process of forming a 2nd conductor layer and forming a conduction path by filling a through-hole with a conductive paste.

【図3】図1に示す両面フレキシブル配線板とは異なる
実施形態の両面フレキシブル配線板の製造方法を示す工
程図であって、(a)は、絶縁層の一方の面に、第1の
導体層を所定の回路パターンとして形成する工程を示す
断面図、(b)は、絶縁層の所定の位置に貫通孔を形成
する工程を示す断面図、(c)は、絶縁層の他方の面
に、導電性ペーストを塗布することにより、第2の導体
層を形成するとともに、貫通孔に導電性ペーストを充填
することにより、導通路を形成する工程を示す断面図で
ある。
3A and 3B are process diagrams showing a method for manufacturing a double-sided flexible wiring board according to an embodiment different from the double-sided flexible wiring board shown in FIG. 1, wherein FIG. 3A shows a first conductor on one surface of an insulating layer; FIG. 4B is a cross-sectional view illustrating a step of forming a layer as a predetermined circuit pattern, FIG. 4B is a cross-sectional view illustrating a step of forming a through hole at a predetermined position in the insulating layer, and FIG. FIG. 9 is a cross-sectional view showing a step of forming a conductive path by applying a conductive paste to form a second conductor layer and filling a through-hole with the conductive paste.

【図4】図1に示す両面フレキシブル配線板とは異なる
実施形態の両面フレキシブル配線板を示す要部断面図で
ある。
FIG. 4 is a sectional view of a main part showing a double-sided flexible wiring board of an embodiment different from the double-sided flexible wiring board shown in FIG. 1;

【図5】図4に示す両面フレキシブル配線板の製造方法
を示す工程図であって、(a)は、第1の絶縁層の上
に、第1の導体層を所定の回路パターンとして形成する
工程を示す断面図、(b)は、第1の導体層の上に、所
定の位置に貫通孔を有する第2の絶縁層を形成する工程
を示す断面図、(c)は、第2の絶縁層の上に、導電性
ペーストを塗布することにより、第2の導体層を形成す
るとともに、貫通孔に導電性ペーストを充填することに
より、導通路を形成する工程を示す断面図である。
5A and 5B are process diagrams showing a method for manufacturing the double-sided flexible wiring board shown in FIG. 4, in which FIG. 5A shows the formation of a first conductor layer as a predetermined circuit pattern on a first insulating layer. FIG. 4B is a cross-sectional view illustrating a step, FIG. 4B is a cross-sectional view illustrating a step of forming a second insulating layer having a through hole at a predetermined position on the first conductive layer, and FIG. It is sectional drawing which shows the process of forming a 2nd conductor layer by apply | coating a conductive paste on an insulating layer, and filling a through-hole with a conductive paste, and forming a conduction path.

【図6】本発明のICカードの一実施形態を示す要部平
面図である。
FIG. 6 is a main part plan view showing an embodiment of the IC card of the present invention.

【図7】図6に示すICカードの要部断面図である。FIG. 7 is a sectional view of a main part of the IC card shown in FIG. 6;

【図8】図7に示すICカードと異なる実施形態の要部
断面図である。
8 is a sectional view of a main part of an embodiment different from the IC card shown in FIG. 7;

【図9】従来の両面フレキシブル配線板を示す要部断面
図である。
FIG. 9 is a sectional view of a main part showing a conventional double-sided flexible wiring board.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

11 両面フレキシブル配線板 12 絶縁層 13 第1の導体層 14 第2の導体層 15 貫通孔 16 導通路 21 両面フレキシブル配線板 22 第1の絶縁層 23 第1の導体層 24 第2の絶縁層 25 第2の導体層 26 貫通孔 27 導通路 DESCRIPTION OF SYMBOLS 11 Double-sided flexible wiring board 12 Insulating layer 13 1st conductor layer 14 2nd conductor layer 15 Through-hole 16 Conductive path 21 Double-sided flexible wiring board 22 1st insulation layer 23 1st conductor layer 24 2nd insulation layer 25 Second conductor layer 26 Through hole 27 Conducting path

Claims (9)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 絶縁層の一方の面に、第1の導体層が形
成されるとともに、前記絶縁層の他方の面に、第2の導
体層が形成され、前記第1の導体層と前記第2の導体層
とが、前記絶縁層を貫通する導通路によって電気的に接
続されてなる両面フレキシブル配線板において、 前記第1の導体層が金属箔からなり、 前記第2の導体層および前記導通路が、導電性ペースト
の塗布により形成されていることを特徴とする、両面フ
レキシブル配線板。
1. A first conductor layer is formed on one surface of an insulating layer, and a second conductor layer is formed on the other surface of the insulating layer. In a double-sided flexible wiring board in which a second conductor layer and the second conductor layer are electrically connected by a conduction path penetrating the insulating layer, the first conductor layer is made of metal foil, and the second conductor layer and the second conductor layer A double-sided flexible wiring board, wherein the conductive path is formed by applying a conductive paste.
【請求項2】 前記第1の導体層が、銅箔またはアルミ
箔からなることを特徴とする、請求項1に記載の両面フ
レキシブル配線板。
2. The double-sided flexible wiring board according to claim 1, wherein the first conductor layer is made of a copper foil or an aluminum foil.
【請求項3】 前記導電性ペーストが、銀ペースト、銅
ペーストまたはアルミペーストであることを特徴とす
る、請求項1または2に記載の両面フレキシブル配線
板。
3. The double-sided flexible wiring board according to claim 1, wherein the conductive paste is a silver paste, a copper paste, or an aluminum paste.
【請求項4】 請求項1〜3のいずれかに記載の両面フ
レキシブル配線板が用いられていることを特徴とする、
ICカード。
4. The double-sided flexible wiring board according to claim 1 is used.
IC card.
【請求項5】 絶縁層の一方の面に、第1の導体層を形
成する工程、 前記絶縁層の所定の位置に貫通孔を形成する工程、 前記絶縁層の他方の面に、導電性ペーストを塗布するこ
とにより、第2の導体層を形成すると同時に、前記貫通
孔に前記導電性ペーストを充填して、前記第1の導体層
と前記第2の導体層とを電気的に接続する導通路を形成
する工程を含んでなることを特徴とする、両面フレキシ
ブル配線板の製造方法。
5. A step of forming a first conductor layer on one surface of the insulating layer, a step of forming a through hole at a predetermined position of the insulating layer, and a step of forming a conductive paste on the other surface of the insulating layer. Is applied, the second conductive layer is formed, and at the same time, the conductive paste is filled in the through-holes to form a conductive layer for electrically connecting the first conductive layer and the second conductive layer. A method for manufacturing a double-sided flexible wiring board, comprising a step of forming a passage.
【請求項6】 第1の絶縁層の上に、第1の導体層を形
成する工程、 前記第1の導体層の上に、所定の位置に貫通孔を有する
第2の絶縁層を形成する工程、 前記第2の絶縁層の上に、導電性ペーストを塗布するこ
とにより、第2の導体層を形成すると同時に、前記貫通
孔に前記導電性ペーストを充填して、前記第1の導体層
と前記第2の導体層とを電気的に接続する導通路を形成
する工程を含んでなることを特徴とする、両面フレキシ
ブル配線板の製造方法。
6. A step of forming a first conductor layer on the first insulation layer, and forming a second insulation layer having a through hole at a predetermined position on the first conductor layer. Forming a second conductive layer by applying a conductive paste on the second insulating layer, and simultaneously filling the through-hole with the conductive paste to form the first conductive layer; Forming a conductive path for electrically connecting the second conductive layer to the second conductive layer.
【請求項7】 前記導電性ペーストを塗布することによ
り、前記第2の導体層を形成する時に、同時に、前記第
2の導体層を所定の回路パターンとして形成することを
特徴とする、請求項5または6に記載の両面フレキシブ
ル配線板の製造方法。
7. The method according to claim 1, wherein the second conductive layer is formed as a predetermined circuit pattern when the second conductive layer is formed by applying the conductive paste. 7. The method for producing a double-sided flexible wiring board according to 5 or 6.
【請求項8】 前記第1の導体層が、銅箔またはアルミ
箔からなることを特徴とする、請求項5〜7のいずれか
に記載の両面フレキシブル配線板の製造方法。
8. The method for manufacturing a double-sided flexible wiring board according to claim 5, wherein the first conductor layer is made of a copper foil or an aluminum foil.
【請求項9】 前記導電性ペーストが、銀ペースト、銅
ペーストまたはアルミペーストであることを特徴とす
る、請求項5〜8のいずれかに記載の両面フレキシブル
配線板の製造方法。
9. The method according to claim 5, wherein the conductive paste is a silver paste, a copper paste or an aluminum paste.
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