JP2000290230A - ３−アセトキシ−２−メチル安息香酸の製造方法 - Google Patents
３−アセトキシ−２−メチル安息香酸の製造方法Info
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- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
- Low-Molecular Organic Synthesis Reactions Using Catalysts (AREA)
Abstract
(57)【要約】
３−アセトキシ−２−メチル安息香酸の安価な工業的製
法の提供 【解決手段】３−ニトロ−２−メチル安息香酸金属塩を
水溶液中、触媒と水素源を用いて３−アミノ−２−メチ
ル安息香酸金属塩を得る。この水溶液を酸性化後、有機
溶剤との２相系で亜硝酸ナトリウムを反応させた後加熱
して、３−ヒドロキシ−２−メチル安息香酸を有機溶剤
中に得る。無機塩を含有した水相を分液した後、アルカ
リ金属類を加え３−ヒドロキシ−２−メチル安息香酸金
属塩を形成させ、無水酢酸を加えて反応させる。副生す
る無機塩をろ別あるいは水洗にて除去した後、３−アセ
トキシ−２−メチル安息香酸を得る製造方法。
法の提供 【解決手段】３−ニトロ−２−メチル安息香酸金属塩を
水溶液中、触媒と水素源を用いて３−アミノ−２−メチ
ル安息香酸金属塩を得る。この水溶液を酸性化後、有機
溶剤との２相系で亜硝酸ナトリウムを反応させた後加熱
して、３−ヒドロキシ−２−メチル安息香酸を有機溶剤
中に得る。無機塩を含有した水相を分液した後、アルカ
リ金属類を加え３−ヒドロキシ−２−メチル安息香酸金
属塩を形成させ、無水酢酸を加えて反応させる。副生す
る無機塩をろ別あるいは水洗にて除去した後、３−アセ
トキシ−２−メチル安息香酸を得る製造方法。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、３−アセトキシ−
２−メチル安息香酸の製造方法に関する。
２−メチル安息香酸の製造方法に関する。
【従来の技術】３−アセトキシ−２−メチル安息香酸
（以下ＡＭＢＡという）は、ＨＩＶプロテアーゼ阻害剤
などの医薬品の中間体として有用な化合物である。ＡＭ
ＢＡの製造方法として、３−ニトロ−２−メチル安息香
酸をパラジウムカーボン触媒で還元して酸性化後単離す
る。続いて、シーマン反応にて３−ヒドロキシ−２−メ
チル安息香酸（以下ＨＭＢＡという）を得ている。（Ｂ
ｕｌｌ．Ｓｏｃ．Ｃｈｉｍ．Ｆｒ．、＜１９７３＞、３
４２７−３４３２）。この方法では３−ニトロ−２−メ
チル安息香酸から３−アミノ−２−メチル安息香酸の収
率は９０％と低く、３−アミノ−２−メチル安息香酸か
らＨＭＢＡへの収率は８１％（通算収率７３％）とかな
り低いものである。またＨＭＢＡからＡＭＢＡの製造法
としてはＨＭＢＡを、硫酸を触媒として無水酢酸でアセ
チル化する方法（米国特許５４８４９２６実施例８１）
やピリジン触媒を用い無水酢酸を使用する方法が公開さ
れている（特開平１１−５７６５）がこれらの方法は収
率が低かったり、毒性の強い化合物を使う等の問題があ
った。
（以下ＡＭＢＡという）は、ＨＩＶプロテアーゼ阻害剤
などの医薬品の中間体として有用な化合物である。ＡＭ
ＢＡの製造方法として、３−ニトロ−２−メチル安息香
酸をパラジウムカーボン触媒で還元して酸性化後単離す
る。続いて、シーマン反応にて３−ヒドロキシ−２−メ
チル安息香酸（以下ＨＭＢＡという）を得ている。（Ｂ
ｕｌｌ．Ｓｏｃ．Ｃｈｉｍ．Ｆｒ．、＜１９７３＞、３
４２７−３４３２）。この方法では３−ニトロ−２−メ
チル安息香酸から３−アミノ−２−メチル安息香酸の収
率は９０％と低く、３−アミノ−２−メチル安息香酸か
らＨＭＢＡへの収率は８１％（通算収率７３％）とかな
り低いものである。またＨＭＢＡからＡＭＢＡの製造法
としてはＨＭＢＡを、硫酸を触媒として無水酢酸でアセ
チル化する方法（米国特許５４８４９２６実施例８１）
やピリジン触媒を用い無水酢酸を使用する方法が公開さ
れている（特開平１１−５７６５）がこれらの方法は収
率が低かったり、毒性の強い化合物を使う等の問題があ
った。
【０００２】
【発明が解決しようとする課題】各工程毎に精製が必要
であるため、収率が低く、製造コストを下げることがで
きず、ＡＭＢＡの安価な製造方法が求められていた。
であるため、収率が低く、製造コストを下げることがで
きず、ＡＭＢＡの安価な製造方法が求められていた。
【０００３】
【課題を解決するための手段】本発明者らは、種々検討
の結果、各工程について安価に製造できる方法を見いだ
した。また、中間体を単離せずに連続的に反応を行い高
収率，高品質で目的物を得る方法を見いだした。即ち本
発明は、３−ニトロ−２−メチル安息香酸金属塩を水溶
液中、触媒と水素源を用いて３−アミノ−２−メチル安
息香酸金属塩を得る。この水溶液を酸性化後、有機溶剤
との２相系で亜硝酸ナトリウムを反応させた後加熱し
て、３−ヒドロキシ−２−メチル安息香酸を有機溶剤中
に得る。無機塩を含有した水相を分液した後、金属塩類
を加え３−ヒドロキシ−２−メチル安息香酸金属塩を形
成させ、無水酢酸を加えて反応させる。副生する無機塩
をろ別あるいは水洗にて除去した後、３−アセトキシ−
２−メチル安息香酸を得る製造方法。
の結果、各工程について安価に製造できる方法を見いだ
した。また、中間体を単離せずに連続的に反応を行い高
収率，高品質で目的物を得る方法を見いだした。即ち本
発明は、３−ニトロ−２−メチル安息香酸金属塩を水溶
液中、触媒と水素源を用いて３−アミノ−２−メチル安
息香酸金属塩を得る。この水溶液を酸性化後、有機溶剤
との２相系で亜硝酸ナトリウムを反応させた後加熱し
て、３−ヒドロキシ−２−メチル安息香酸を有機溶剤中
に得る。無機塩を含有した水相を分液した後、金属塩類
を加え３−ヒドロキシ−２−メチル安息香酸金属塩を形
成させ、無水酢酸を加えて反応させる。副生する無機塩
をろ別あるいは水洗にて除去した後、３−アセトキシ−
２−メチル安息香酸を得る製造方法。
【０００４】本発明において、３−ニトロ−２−メチル
安息香酸金属塩として、リチウム，ナトリウム，カリウ
ムなどのアルカリ金属塩類，カルシウム，マグネシウム
などのアルカリ土類金属塩類，マンガン，アルミニウ
ム，亜鉛，鉛，銅，鉄，スズ，ニッケル，コバルト，ク
ロム，チタンなどの金属の塩が使用できる。
安息香酸金属塩として、リチウム，ナトリウム，カリウ
ムなどのアルカリ金属塩類，カルシウム，マグネシウム
などのアルカリ土類金属塩類，マンガン，アルミニウ
ム，亜鉛，鉛，銅，鉄，スズ，ニッケル，コバルト，ク
ロム，チタンなどの金属の塩が使用できる。
【０００５】本発明において、３−ニトロ−２−メチル
安息香酸金属塩として使用する金属の量は、原料に対し
て０．５〜２．５モル当量好ましくは０．８〜１．２当
量である。
安息香酸金属塩として使用する金属の量は、原料に対し
て０．５〜２．５モル当量好ましくは０．８〜１．２当
量である。
【０００６】本発明において、３−アミノ−２−メチル
安息香酸を得る時に使用する触媒は、一般に還元反応に
おいて触媒として使用されるものでよい。特に好ましい
のは金属元素を含む金属触媒、例えば、パラジウム，ル
テニウム，白金などの貴金属類、活性化したニッケルや
コバルトなどの金属類、塩化第一鉄，塩化第二鉄，硫酸
鉄，酸化鉄，水酸化鉄などの水中で水酸化鉄を生成する
塩類、銅、亜鉛，アルミニウムなどの金属あるいはその
塩が使用できる。あるいは、上記金属類あるいは金属塩
類の混合物も使用できる。
安息香酸を得る時に使用する触媒は、一般に還元反応に
おいて触媒として使用されるものでよい。特に好ましい
のは金属元素を含む金属触媒、例えば、パラジウム，ル
テニウム，白金などの貴金属類、活性化したニッケルや
コバルトなどの金属類、塩化第一鉄，塩化第二鉄，硫酸
鉄，酸化鉄，水酸化鉄などの水中で水酸化鉄を生成する
塩類、銅、亜鉛，アルミニウムなどの金属あるいはその
塩が使用できる。あるいは、上記金属類あるいは金属塩
類の混合物も使用できる。
【０００７】また、これらの触媒はそのままでも使用で
きるが固形物に担持しても使用できる。担持する物質と
しては、例えば活性炭、ケイソウ土、白土、アルミナな
どが挙げられる。
きるが固形物に担持しても使用できる。担持する物質と
しては、例えば活性炭、ケイソウ土、白土、アルミナな
どが挙げられる。
【０００８】本発明において、３−アミノ−２−メチル
安息香酸を得る時に使用する水素源は、一般に還元反応
において使用されるものでよい。例えば、水素ガス，ヒ
ドラジンなどが使用できる。
安息香酸を得る時に使用する水素源は、一般に還元反応
において使用されるものでよい。例えば、水素ガス，ヒ
ドラジンなどが使用できる。
【０００９】本発明において、３−アミノ−２−メチル
安息香酸を得る時に消泡剤を用いることができる。消泡
剤としては、特に炭素数２〜１２までのアルコール，ジ
オール，ポリオール類が適している。例えば、ｎ−ブタ
ノール，イソブタノール，第二ブタノール，第三ブタノ
ール，ｎ−アミルアルコール，活性アミルアルコール，
イソアミルアルコール，第二アミルアルコール，３−ペ
ンタノール，第三アミルアルコール，フーゼル油，ｎ−
ヘキサノール，メチルアミルアルコール，２−エチルブ
タノール，ｎ−ヘプタノール，２−ヘプタノール，３−
ヘプタノール，ｎ−オクタノール，２−オクタノール，
２−エチルヘキサノール，３，５，５−トリメチルヘキ
サノール，ノナノール，ｎ−デカノール，ウンデカノー
ル，ｎ−ドデカノール，トリメチルノニルアルコール，
シクロヘキサノール，２−メチルシクロヘキサノール，
ベンジルアルコール，グリシドール，フルフリルアルコ
ール，テトラヒドロフルフリルアルコール，α−テルピ
ネオール，アビエチルアルコール，エチレングリコー
ル，ジエチレングリコール，トリエチレングリコール，
プロピレングリコール，ブチレングリコール，グリセリ
ン，エチレングリコールモノメチルエーテル，エチレン
グリコールモノエチルエーテル，ジエチレングリコール
モノメチルエーテル，ジエチレングリコールモノエチル
エーテル，ジエチレングリコールモノブチルエーテル，
プロピレングリコールモノメチルエーテル，プロピレン
グリコールモノエチルエーテル，プロピレングリコール
モノブチルエーテルなどが使用できる。
安息香酸を得る時に消泡剤を用いることができる。消泡
剤としては、特に炭素数２〜１２までのアルコール，ジ
オール，ポリオール類が適している。例えば、ｎ−ブタ
ノール，イソブタノール，第二ブタノール，第三ブタノ
ール，ｎ−アミルアルコール，活性アミルアルコール，
イソアミルアルコール，第二アミルアルコール，３−ペ
ンタノール，第三アミルアルコール，フーゼル油，ｎ−
ヘキサノール，メチルアミルアルコール，２−エチルブ
タノール，ｎ−ヘプタノール，２−ヘプタノール，３−
ヘプタノール，ｎ−オクタノール，２−オクタノール，
２−エチルヘキサノール，３，５，５−トリメチルヘキ
サノール，ノナノール，ｎ−デカノール，ウンデカノー
ル，ｎ−ドデカノール，トリメチルノニルアルコール，
シクロヘキサノール，２−メチルシクロヘキサノール，
ベンジルアルコール，グリシドール，フルフリルアルコ
ール，テトラヒドロフルフリルアルコール，α−テルピ
ネオール，アビエチルアルコール，エチレングリコー
ル，ジエチレングリコール，トリエチレングリコール，
プロピレングリコール，ブチレングリコール，グリセリ
ン，エチレングリコールモノメチルエーテル，エチレン
グリコールモノエチルエーテル，ジエチレングリコール
モノメチルエーテル，ジエチレングリコールモノエチル
エーテル，ジエチレングリコールモノブチルエーテル，
プロピレングリコールモノメチルエーテル，プロピレン
グリコールモノエチルエーテル，プロピレングリコール
モノブチルエーテルなどが使用できる。
【００１０】本発明において、３−ヒドロキシ−２−メ
チル安息香酸を得る時に使用する溶剤として、ベンゼ
ン，トルエン，キシレン，ペンタン，ヘキサン，ヘプタ
ン，オクタン，リグロイン，シクロヘキサンなどの炭化
水素溶剤，クロロホルム，塩化メチレン，ジクロルエタ
ン，トリクロルエチレン，クロルベンゼン，ジクロルベ
ンゼン，トリクロルベンゼンなどのハロゲン化炭化水素
類，酢酸エチル，酢酸プロピル，酢酸イソプロピル，酢
酸ブチルなどのカルボン酸エステル類，メチルエチルケ
トン，メチルイソブチルケトンなどのケトン類，エチル
エーテル，ジイソプロピルエーテル，メチルブチルエー
テル，ジオキサン，ＴＨＦ，ジメチルセロソルブ，ジエ
チルセロソルブ，セロソルブアセテーロ，メチルカルビ
トールアセテート，エチルセロソルブアセテートなどの
エーテル類が使用できる。あるいはそれらの混合溶剤と
しても使用できる。
チル安息香酸を得る時に使用する溶剤として、ベンゼ
ン，トルエン，キシレン，ペンタン，ヘキサン，ヘプタ
ン，オクタン，リグロイン，シクロヘキサンなどの炭化
水素溶剤，クロロホルム，塩化メチレン，ジクロルエタ
ン，トリクロルエチレン，クロルベンゼン，ジクロルベ
ンゼン，トリクロルベンゼンなどのハロゲン化炭化水素
類，酢酸エチル，酢酸プロピル，酢酸イソプロピル，酢
酸ブチルなどのカルボン酸エステル類，メチルエチルケ
トン，メチルイソブチルケトンなどのケトン類，エチル
エーテル，ジイソプロピルエーテル，メチルブチルエー
テル，ジオキサン，ＴＨＦ，ジメチルセロソルブ，ジエ
チルセロソルブ，セロソルブアセテーロ，メチルカルビ
トールアセテート，エチルセロソルブアセテートなどの
エーテル類が使用できる。あるいはそれらの混合溶剤と
しても使用できる。
【００１１】本発明において、３−ヒドロキシ−２−メ
チル安息香酸金属塩を形成させるために使用する金属塩
類として、リチウム，ナトリウム，カリウムなどのアル
カリ金属塩類，カルシウム，マグネシウムなどのアルカ
リ土類金属塩類，マンガン，アルミニウム，亜鉛，鉛，
銅，鉄，スズ，ニッケル，コバルト，クロム，チタンな
どの金属塩が使用できる。
チル安息香酸金属塩を形成させるために使用する金属塩
類として、リチウム，ナトリウム，カリウムなどのアル
カリ金属塩類，カルシウム，マグネシウムなどのアルカ
リ土類金属塩類，マンガン，アルミニウム，亜鉛，鉛，
銅，鉄，スズ，ニッケル，コバルト，クロム，チタンな
どの金属塩が使用できる。
【００１２】本発明において、３−ヒドロキシ−２−メ
チル安息香酸金属塩を形成させるために使用する金属塩
類の量は、原料に対して０．５〜３．０当量好ましくは
０．８〜１．５当量である。
チル安息香酸金属塩を形成させるために使用する金属塩
類の量は、原料に対して０．５〜３．０当量好ましくは
０．８〜１．５当量である。
【００１３】本発明において、３−ヒドロキシ−２−メ
チル安息香酸金属塩と反応させる無水酢酸の量は、原料
に対して０．５〜３．０当量好ましくは０．８〜１．５
当量である。
チル安息香酸金属塩と反応させる無水酢酸の量は、原料
に対して０．５〜３．０当量好ましくは０．８〜１．５
当量である。
【００１４】本発明において、３−アセトキシ−２−メ
チル安息香酸を得る反応時には、有機溶剤を使用しなく
ても製造することが可能である。有機溶剤を使用する場
合ベンゼン，トルエン，キシレン，ペンタン，ヘキサ
ン，ヘプタン，オクタン，リグロイン，シクロヘキサン
などの炭化水素溶剤，クロロホルム，塩化メチレン，ジ
クロルエタン，トリクロルエチレン，クロルベンゼン，
ジクロルベンゼン，トリクロルベンゼンなどのハロゲン
化炭化水素類，酢酸エチル，酢酸プロピル，酢酸イソプ
ロピル，酢酸ブチルなどのカルボン酸エステル類，メチ
ルエチルケトン，メチルイソブチルケトンなどのケトン
類，エチルエーテル，ジイソプロピルエーテル，メチル
ブチルエーテル，ジオキサン，ＴＨＦ，ジメチルセロソ
ルブ，ジエチルセロソルブ，セロソルブアセテーロ，メ
チルカルビトールアセテート，エチルセロソルブアセテ
ートなどのエーテル類が使用できる。あるいはそれらの
混合溶剤としても使用できる。
チル安息香酸を得る反応時には、有機溶剤を使用しなく
ても製造することが可能である。有機溶剤を使用する場
合ベンゼン，トルエン，キシレン，ペンタン，ヘキサ
ン，ヘプタン，オクタン，リグロイン，シクロヘキサン
などの炭化水素溶剤，クロロホルム，塩化メチレン，ジ
クロルエタン，トリクロルエチレン，クロルベンゼン，
ジクロルベンゼン，トリクロルベンゼンなどのハロゲン
化炭化水素類，酢酸エチル，酢酸プロピル，酢酸イソプ
ロピル，酢酸ブチルなどのカルボン酸エステル類，メチ
ルエチルケトン，メチルイソブチルケトンなどのケトン
類，エチルエーテル，ジイソプロピルエーテル，メチル
ブチルエーテル，ジオキサン，ＴＨＦ，ジメチルセロソ
ルブ，ジエチルセロソルブ，セロソルブアセテーロ，メ
チルカルビトールアセテート，エチルセロソルブアセテ
ートなどのエーテル類が使用できる。あるいはそれらの
混合溶剤としても使用できる。
【００１５】
【実施例】次に実施例を挙げて本発明を詳細に説明する
が、本発明はこれによって限定されるものではない。
が、本発明はこれによって限定されるものではない。
【００１６】[実施例１]３−アミノ−２−メチル安息香
酸の合成 撹拌機及び還流冷却器、温度計を備えた１Ｌガラス製反
応器に水３００ｇと塩化鉄２．３ｇ，３−ニトロ−２−
メチル安息香酸１８１ｇ， 水酸化ナトリウム４０ｇ，
活性炭２３ｇ，４−メチル−２−ペンタノール１２ｇを
仕込みヒドラジン水和物（８０％）１１２ｇを滴下し
た。活性炭をろ別して更に水で洗浄して３−アミノ−２
−メチル安息香酸水溶液７００ｇを得た。ＨＰＬＣ分析
法により水溶液中の３−アミノ−２−メチル安息香酸を
定量したところ１５０ｇ含まれていた（収率９９％）。
酸の合成 撹拌機及び還流冷却器、温度計を備えた１Ｌガラス製反
応器に水３００ｇと塩化鉄２．３ｇ，３−ニトロ−２−
メチル安息香酸１８１ｇ， 水酸化ナトリウム４０ｇ，
活性炭２３ｇ，４−メチル−２−ペンタノール１２ｇを
仕込みヒドラジン水和物（８０％）１１２ｇを滴下し
た。活性炭をろ別して更に水で洗浄して３−アミノ−２
−メチル安息香酸水溶液７００ｇを得た。ＨＰＬＣ分析
法により水溶液中の３−アミノ−２−メチル安息香酸を
定量したところ１５０ｇ含まれていた（収率９９％）。
【００１７】[実施例２]３−ヒドロキシ−２−メチル安
息香酸の合成 撹拌機及び還流冷却器、温度計を備えた２Ｌガラス製反
応器に実施例１で得られた水溶液３５０ｇを仕込む。５
０％硫酸３４７ｇを滴下し、メチルイソブチルケトン３
００ｇを加えた後、２５％亜硝酸ナトリウム水溶液４８
０ｇを滴下してジアゾニュウム塩を形成させる。５０℃
で３時間反応させ、無機塩を含んだ水層を分液除去し更
に水１００ｇを用いて水洗分液を行い３−ヒドロキシ−
２−メチル安息香酸のメチルイソブチルケトン溶液４０
０ｇを得た。ＨＰＬＣ分析法により溶液中の３−ヒドロ
キシ−２−メチル安息香酸を定量したところ７２ｇ含ま
れていた（収率９５％）３−ニトロ−２−メチル安息香
酸からのトータル収率は９４％であった。
息香酸の合成 撹拌機及び還流冷却器、温度計を備えた２Ｌガラス製反
応器に実施例１で得られた水溶液３５０ｇを仕込む。５
０％硫酸３４７ｇを滴下し、メチルイソブチルケトン３
００ｇを加えた後、２５％亜硝酸ナトリウム水溶液４８
０ｇを滴下してジアゾニュウム塩を形成させる。５０℃
で３時間反応させ、無機塩を含んだ水層を分液除去し更
に水１００ｇを用いて水洗分液を行い３−ヒドロキシ−
２−メチル安息香酸のメチルイソブチルケトン溶液４０
０ｇを得た。ＨＰＬＣ分析法により溶液中の３−ヒドロ
キシ−２−メチル安息香酸を定量したところ７２ｇ含ま
れていた（収率９５％）３−ニトロ−２−メチル安息香
酸からのトータル収率は９４％であった。
【００１８】[実施例３]３−アセトキシ−２−メチル安
息香酸の合成 撹拌機及び還流冷却器、温度計を備えた１Ｌガラス製反
応器に実施例２で得られた溶液４００ｇを仕込み炭酸ナ
トリウム１０６ｇ加え生成する水をメチルイソブチルケ
トンと共沸にて回収する。得られたＨＭＢＡナトリウム
塩の懸濁液に、無水酢酸１０２ｇを添加し６０℃で３時
間反応した後、水を加え副生する酢酸ナトリウムを水層
へ除去した。溶液中のＡＭＢＡをＨＰＬＣ分析法にて定
量すると８８ｇのＡＭＢＡが存在した（収率９６％）。
息香酸の合成 撹拌機及び還流冷却器、温度計を備えた１Ｌガラス製反
応器に実施例２で得られた溶液４００ｇを仕込み炭酸ナ
トリウム１０６ｇ加え生成する水をメチルイソブチルケ
トンと共沸にて回収する。得られたＨＭＢＡナトリウム
塩の懸濁液に、無水酢酸１０２ｇを添加し６０℃で３時
間反応した後、水を加え副生する酢酸ナトリウムを水層
へ除去した。溶液中のＡＭＢＡをＨＰＬＣ分析法にて定
量すると８８ｇのＡＭＢＡが存在した（収率９６％）。
【００１９】[実施例４]３−アセトキシ−２−メチル安
息香酸の精製 実施例３で得られた溶液を０℃まで冷却して析出するＡ
ＭＢＡを吸引ろ過にてろ別後乾燥して６７ｇのＡＭＢＡ
を得た（収率７６％）。３−ニトロ−２−メチル安息香
酸からのトータル収率は６９％であった。
息香酸の精製 実施例３で得られた溶液を０℃まで冷却して析出するＡ
ＭＢＡを吸引ろ過にてろ別後乾燥して６７ｇのＡＭＢＡ
を得た（収率７６％）。３−ニトロ−２−メチル安息香
酸からのトータル収率は６９％であった。
【００２０】[実施例５]３−アセトキシ−２−メチル安
息香酸の精製 実施例３で得られた溶液から減圧にて溶剤を留去した
後、酢酸エチル２００ｇを加え０℃まで冷却して析出す
るＡＭＢＡを吸引ろ過にてろ別後乾燥して６９ｇのＡＭ
ＢＡを得た（収率７８％）。３−ニトロ−２−メチル安
息香酸からのトータル収率は７１％であった。
息香酸の精製 実施例３で得られた溶液から減圧にて溶剤を留去した
後、酢酸エチル２００ｇを加え０℃まで冷却して析出す
るＡＭＢＡを吸引ろ過にてろ別後乾燥して６９ｇのＡＭ
ＢＡを得た（収率７８％）。３−ニトロ−２−メチル安
息香酸からのトータル収率は７１％であった。
【００２１】[実施例６]実施例２〜４において溶剤をメ
チルイソブチルケトンの代わりにトルエンを使用して実
施した。実施例２〜４と同様の操作を行い６６ｇのＡＭ
ＢＡを得た。３−ニトロ−２−メチル安息香酸からのト
ータル収率は６８％であった。
チルイソブチルケトンの代わりにトルエンを使用して実
施した。実施例２〜４と同様の操作を行い６６ｇのＡＭ
ＢＡを得た。３−ニトロ−２−メチル安息香酸からのト
ータル収率は６８％であった。
【００２２】
【発明の効果】本発明方法によれば、各工程を安価に行
うことができ、次反応と接続できるようにもなった。中
間体を単離せずに連続的に反応を行い高収率，高品質で
目的物を得ることができる。
うことができ、次反応と接続できるようにもなった。中
間体を単離せずに連続的に反応を行い高収率，高品質で
目的物を得ることができる。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き Ｆターム(参考） 4H006 AA02 AC42 AC48 AC52 AD12 AD16 BA19 BB31 BC10 BD70 BE27 BJ50 BS10 BS30 KA06 KD10 4H039 CA71 CB40
Claims (9)
- 【請求項１】３−ニトロ−２−メチル安息香酸金属塩の
水溶液あるいは懸濁液中、触媒と水素源を用いて３−ア
ミノ−２−メチル安息香酸金属塩の水溶液を得る。３−
アミノ−２−メチル安息香酸金属塩を単離することな
く、この水溶液を用いて、３−ヒドロキシ−２−メチル
安息香酸を経て、３−アセトキシ−２−メチル安息香酸
を得る製造方法。 - 【請求項２】触媒と水素源が金属触媒とヒドラジンであ
る請求項１の製造方法 - 【請求項３】金属触媒が系中で水酸化鉄を形成する鉄塩
の触媒である請求項２の製造方法 - 【請求項４】消泡剤を使用することを特徴とする請求項
１の製造方法 - 【請求項５】３−アミノ−２−メチル安息香酸またはそ
の金属塩を水中で酸性化後、有機溶剤との２相系で亜硝
酸ナトリウムを反応させた後加熱して、３−ヒドロキシ
−２−メチル安息香酸を有機溶剤中に得る。無機塩を含
有した水相を分液した後、３−ヒドロキシ−２−メチル
安息香酸を単離することなく、この有機溶剤溶液を用い
て、３−アセトキシ−２−メチル安息香酸を得る製造方
法。 - 【請求項６】３−ヒドロキシ−２−メチル安息香酸金属
塩の懸濁液に無水酢酸を加えて反応させる。副生する無
機塩をろ別あるいは水洗にて除去した後、３−アセトキ
シ−２−メチル安息香酸を得る製造方法。 - 【請求項７】３−ヒドロキシ−２−メチル安息香酸の有
機溶剤溶液に、金属塩類を加え３−ヒドロキシ−２−メ
チル安息香酸の金属塩を形成させ有機溶剤との共沸にて
系中の水分を脱水する。得られた有機溶剤と３−ヒドロ
キシ−２−メチル安息香酸金属塩の懸濁液に無水酢酸を
加えて反応させる。副生する無機塩をろ別あるいは水洗
にて除去した後、３−アセトキシ−２−メチル安息香酸
を得る製造方法。 - 【請求項８】３−ニトロ−２−メチル安息香酸金属塩を
水溶液中、系中で水酸化鉄を形成する鉄塩の触媒とヒド
ラジンを用いて３−アミノ−２−メチル安息香酸金属塩
の水溶液を得る。この水溶液を酸性化後、有機溶剤との
２相系で亜硝酸ナトリウムを反応させた後加熱して、３
−ヒドロキシ−２−メチル安息香酸を有機溶剤中に得
る。無機塩を含有した水相を分液した後、金属塩類を加
え３−ヒドロキシ−２−メチル安息香酸金属塩を形成さ
せ、その懸濁液に無水酢酸を加えて反応させる。副生す
る無機塩をろ別あるいは水洗にて除去した後、３−アセ
トキシ−２−メチル安息香酸を得る製造方法。 - 【請求項９】３−ニトロ−２−メチル安息香酸金属塩を
水溶液中鉄触媒を用いて３−アミノ−２−メチル安息香
酸金属塩を得る。この水溶液を酸性化後、有機溶剤との
２相系で亜硝酸ナトリウムを反応させた後加熱して、３
−ヒドロキシ−２−メチル安息香酸を有機溶剤中に得
る。無機塩を含有した水相を分液した後、金属塩類を加
え３−ヒドロキシ−２−メチル安息香酸金属塩を形成さ
せる。有機溶剤との共沸にて系中の水分を脱水した後
に、無水酢酸を加えて反応させる。副生する無機塩をろ
別あるいは水洗にて除去した後、３−アセトキシ−２−
メチル安息香酸を得る製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11095219A JP2000290230A (ja) | 1999-04-01 | 1999-04-01 | ３−アセトキシ−２−メチル安息香酸の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11095219A JP2000290230A (ja) | 1999-04-01 | 1999-04-01 | ３−アセトキシ−２−メチル安息香酸の製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2000290230A true JP2000290230A (ja) | 2000-10-17 |
Family
ID=14131641
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP11095219A Pending JP2000290230A (ja) | 1999-04-01 | 1999-04-01 | ３−アセトキシ−２−メチル安息香酸の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2000290230A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN104072383A (zh) * | 2014-07-10 | 2014-10-01 | 四川北方红光特种化工有限公司 | 制备3-氨基-2-甲基苯甲酸的方法 |
| CN113511968A (zh) * | 2021-04-19 | 2021-10-19 | 江苏永安化工有限公司 | 一种2-甲基-3-甲氧基苯甲酸的合成工艺 |
-
1999
- 1999-04-01 JP JP11095219A patent/JP2000290230A/ja active Pending
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN104072383A (zh) * | 2014-07-10 | 2014-10-01 | 四川北方红光特种化工有限公司 | 制备3-氨基-2-甲基苯甲酸的方法 |
| CN113511968A (zh) * | 2021-04-19 | 2021-10-19 | 江苏永安化工有限公司 | 一种2-甲基-3-甲氧基苯甲酸的合成工艺 |
| WO2022222272A1 (zh) * | 2021-04-19 | 2022-10-27 | 江苏永安化工有限公司 | 一种2-甲基-3-甲氧基苯甲酸的合成工艺 |
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