JP2000289365A

JP2000289365A - 平版印刷版支持体の製造装置

Info

Publication number: JP2000289365A
Application number: JP10107999A
Authority: JP
Inventors: Akio Uesugi; 彰男上杉; Mutsumi Matsuura; 睦松浦
Original assignee: Fuji Photo Film Co Ltd
Current assignee: Fujifilm Holdings Corp
Priority date: 1999-04-08
Filing date: 1999-04-08
Publication date: 2000-10-17

Abstract

(57)【要約】【課題】アルミニウム板に電気化学的処理を施す
ものにおいて、過酷な処理条件下においてもサポートロ
ーラが変形等することなくアルミニウム板を良好に処理
ができるようにする。【解決手段】骨格部３２０は、ステンレススチールか
らなる芯金３２１と、芯金３２１の周囲に円筒状に設け
られた基板３２２とで構成されている。基板３２２は、
縦弾性係数が８，０００ｋｇｆ／ｍｍ²以上、５０，０
００ｋｇｆ／ｍｍ²未満のステンレススチール、アルミ
ニウム等の金属で形成されている。骨格部３２０の周囲
には、酸化クロムを１０重量％以上、９０重量％以下含
み電気抵抗が０．０１ＭΩ以上のセラミック絶縁層３２
３が設けられている。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明はアルミニウム板等の
金属板を用いた平版印刷版支持体の製造装置に関するも
のである。

【０００２】

【従来の技術】一般に、アルミニウム板を平版印刷版支
持体として使用するためには、感光材との適度な密着性
と保水性とを有し、さらに均一に粗面化されていること
が必要である。均一に粗面化されているということは、
生成されたピットの大きさが適度に揃っており、かつそ
のようなピットが全面均一に生成していることが必要で
ある。また、このピットは、版材の印刷性能である汚れ
難さ、耐刷性等に著しい影響を及ぼし、その良否は版材
製造上重要な要素になっている。また、近年コンピュー
ター等のデジタル信号から直接製版するシステムが情報
システムの進展から広まりつつあり、特に固体レーザ
ー、半導体レーザーの小型化、高出力化の進展と相俟っ
て、急速に世の中に普及しつつあり、平版印刷版支持体
もレーザー光のハレーションを抑制し、印刷版として重
要な特性である保水性、親水性、耐刷性、印刷の汚れ難
さなどが兼ね備えられた支持体が期待されている。

【０００３】この保水性、耐刷性等の性能を維持するた
めに、機械的粗面化、化学的エッチング、電気化学的粗
面化、陽極酸化等が行われており、粗面化する手段とし
て特公昭６２−２５１１７号公報で開示された方法があ
る。

【０００４】一方、赤外線レーザーの記録材料として
は、特公昭６１−４８４１８号公報に、少なくとも５
〜１２ｇ／ｍ²の酸化物層を有する陽極酸化支持体が示
されている。また、特開昭６３−２６０４９１号公報に
は、銀錯体に還元する核を有するゾルを被着した粗面
化、陽極酸化した支持体が提案されている。ＵＳ４５５
５４７５号には、陽極酸化皮膜を有する表面にシリケ
ート処理し２〜８ｍｇ／ｍ²のアルミのシリケートを形
成させる支持体が提案されている。ＥＰ１６４１２８Ｂ
でもアルミ表面を砂目立て、陽極酸化した後シリケート
処理しカーボンブラックを塗布して感材を作り、画像を
形成させる方法が示されている。また、特願平１０−２
２８９９２号では、ハレーションを抑制する支持体が提
案されている。

【０００５】また、本発明者らは、特願平１０−１６２
０８６号において、温度の高い酸性電解液を用いてもサ
ポートローラが破損等しないように、耐酸性の強い材料
で形成した電解処理装置を提案している。

【０００６】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、従来の
平版印刷版支持体の製造装置においては、サポートロー
ラに変形、変質等が発生し、アルミニウム板の良好な処
理をすることができなかった。

【０００７】本発明は、以上の課題を解決し、過酷な処
理条件下においてもサポートローラが変形等することな
くアルミニウム板を良好に処理することができる平版印
刷版支持体の製造装置を提供することを目的とする。

【０００８】

【課題を解決するための手段】本発明者らは、上記目的
を達成するために鋭意検討し、変形等が発生しないサポ
ートローラの構造を見出し、本発明を完成させた。

【０００９】第一の発明による平版印刷版支持体の製造
装置は、酸性電解液中にサポートローラと電極とが設け
られ、サポートローラ上を移動する金属板に電気化学的
処理をする平版印刷版支持体の製造装置において、前記
サポートローラが、芯金の周囲に円筒状に設けられた縦
弾性係数が８,０００ｋｇｆ／ｍｍ²以上、５０，０００
ｋｇｆ／ｍｍ²未満の基板を有する骨格部と、該骨格部
の周囲に設けられた酸化クロムを１０重量％以上、９０
重量％未満含み電気抵抗が０．０１ＭΩ以上のセラミッ
ク絶縁層とを有していることを特徴として構成されてい
る。

【００１０】第二の本発明による平版印刷版支持体の製
造装置は、酸性電解液中にサポートローラと電極とが設
けられ、サポートローラ上を移動する金属板に電気化学
的処理をする平版印刷版支持体の製造装置において、前
記サポートローラが、芯金の周囲に円筒状に設けられた
縦弾性係数が８，０００ｋｇｆ／ｍｍ²以上、５０，０
００ｋｇｆ／ｍｍ²未満の基板を有する骨格部と、該骨
格部の周囲に設けられた電気抵抗が０．０１ＭΩ以上の
絶縁層と、該絶縁層の円周面に設けられた厚さ１０ｍｍ
以上、１００ｍｍ以下で密度０．３０ｇ／ｃｃ以上、
１．００ｇ／ｃｃ未満に圧密した耐酸性の不織布とを有
することを特徴として構成されている。

【００１１】

【発明の実施の形態】以下、本発明を詳細に説明する。
平版印刷版用支持体としては、一般に軽量で表面処理
性、加工性、耐蝕性に優れたアルミニウム板が使用され
ている。この目的に供されるアルミニウム板としては、
ＪＩＳ１０５０材、ＪＩＳ１１００材、ＪＩＳ１０７０
材、Ａｌ−Ｍｎ系合金、Ａｌ−Ｍｎ−Ｍｇ系合金、Ａｌ
−Ｚｒ系合金、Ａｌ−Ｍｇ−Ｓｉ系合金等が使用されて
いる。

【００１２】(１) ＪＩＳ１０５０材に関しては、下記
の特許公報に開示されている。特開昭５９−１５３８６
１号、特開昭６１−５１３９５号、特開昭６２−１４６
６９４号、特開昭６０−２１５７２５号、特開昭６０−
２１５７２６号、特開昭６０−２１５７２７号、特開昭
６０−２１６７２８号、特開昭６１−２７２３６７号、
特開昭５８−１１７５９号、特開昭５８−４２４９３
号、特開昭５８−２２１２５４号、特開昭６２−１４８
２９５号、特開平４−２５４５４５号、特開平４−１６
５０４１号、特公平３−６８９３９号、特開平３−２３
４５９４号、特公平１−４７５４５号及び特開昭６２−
１４０８９４号各公報。また、特公平１−３５９１０号
公報、特公昭５５−２８８７４号公報等に開示された技
術も知られている。

【００１３】(２) ＪＩＳ１０７０材に関しては、下記
の特許公報に開示されている。特開平７−８１２６４
号、特開平７−３０５１３３号、特開平８−４９０３４
号、特開平８−７３９７４号、特開平８−１０８６５９
号及び特開平８−９２６７９号各公報。

【００１４】(３) Ａｌ−Ｍｇ系合金に関しては、下記
の特許公報に開示されている。特公昭６２−５０８０
号、特公昭６３−６０８２３号、特公平３−６１７５３
号、特開昭６０−２０３４９６号、特開昭６０−２０３
４９７号、特公平３−１１６３５号、特開昭６１−２７
４９９３号、特開昭６２−２３７９４号、特開昭６３−
４７３４７号、特開昭６３−４７３４８号、特開昭６３
−４７３４９号、特開昭６４−１２９３号、特開昭６３
−１３５２９４号、特開昭６３−８７２８８号、特公平
４−７３３９２号、特公平７−１００８４４号、特開昭
６２−１４９８５６号、特公平４−７３３９４号、特開
昭６２−１８１１９１号、特公平５−７６５３０号、特
開昭６３−３０２９４号及び特公平６−３７１１６号各
公報。また、特開平２−２１５５９９号、特開昭６１−
２０１７４７号各公報等にも開示されている。

【００１５】(４) Ａｌ−Ｍｎ系合金に関しては、下記
の特許公報に開示されている。特開昭６０−２３０９５
１号、特開平１−３０６２８８号及び特開平２−２９３
１８９号各公報。また、特公昭５４−４２２８４号、特
公平４−１９２９０号、特公平４−１９２９１号、特公
平４−１９２９２号、特開昭６１−３５９９５号、特開
昭６４−５１９９２号、特開平４−２２６３９４号各公
報、米国特許５，００９，７２２号及び同５，０２８，
２７６号各明細書等にも開示されている。

【００１６】(５) Ａｌ−Ｍｎ−Ｍｇ系合金に関して
は、下記の特許公報に開示されている。特開昭６２−８
６１４３号及び特開平３−２２２７９６号各公報。ま
た、特公昭６３−６０８２４号、特開昭６０−６３３４
６号、特開昭６０−６３３４７号、特開平１−２９３３
５０号各公報、欧州特許２２３，７３７号、米国特許
４，８１８，３００号、英国特許１，２２２，７７７号
各明細書等にも開示されている。

【００１７】(６) Ａｌ−Ｚｒ系合金に関しては、本出
願人等によって開発された技術が下記の特許公報に開示
されている。特公昭６３−１５９７８号及び特開昭６１
−５１３９５号各公報。また、特開昭６３−１４３２３
４号、特開昭６３−１４３２３５号各公報等にも開示さ
れている。

【００１８】(７) Ａｌ−Ｍｇ−Ｓｉ系合金に関して
は、英国特許１，４２１，７１０号等に開示されてい
る。

【００１９】平版印刷版用支持体に用いるアルミニウム
（アルミニウム合金を含む）板を得るには、一般に、ま
ず、上述した含有成分及び合金成分割合のアルミニウム
合金溶湯を常法に従い清浄化処理を施し、鋳造する。

【００２０】清浄化処理では、溶湯中の水素などの不要
なガスを除去するために、フラックス処理、アルゴンガ
ス、塩素ガス等を用いた脱ガス処理、セラミックチュウ
ブフィルタ、セラミックフォームフィルタ等のいわゆる
リジッドメディアフィルタや、アルミナフレーク、アル
ミナボール等を濾材とするフィルタや、グラスクロスフ
ィルタ等を用いたフィルタリング、あるいは、脱ガスと
フィルタリングを組み合わせた処理が行われる。これら
の清浄化処理は、溶湯中の非金属介在物、酸化物等の異
物による欠陥、溶湯に溶け込んだガスによる欠陥を防ぐ
ために実施されることが望ましい。

【００２１】溶湯の脱ガスに関しては、特開平５−５１
６５９号、実開平５−４９１４８号各公報等に記載され
ている。本出願人も特開平７−４００１７号公報に溶湯
の脱ガスに関する技術を開示している。

【００２２】また、溶湯のフィルタリングに関しては、
特開平６−５７４３２号、特開平３−１６２５３０号、
特開平５−１４０６５９号、特開平４−２３１４２５
号、特開平４−２７６０３１号、特開平５−３１１２６
１号、特開平６−１３６４６６号各公報等に記載されて
いる。

【００２３】以上のように、清浄化処理を施された溶湯
を用いて鋳造を行う。鋳造方法に関しては、ＤＣ鋳造法
に代表される固体鋳型を用いる方法と、連続鋳造法に代
表される駆動鋳型を用いる方法とがある。

【００２４】ＤＣ鋳造法を用いた場合、冷却速度は０．
５〜３０℃／秒の範囲で凝固する。

【００２５】１℃未満であると粗大な金属間化合物が多
数形成される。

【００２６】連続鋳造法には、ハンター法、３Ｃ法に代
表される冷却ローラを用いる方法、また、ハズレー法、
アルスイスキャスターII型に代表される冷却ベルトや冷
却ブロックを用いる方法が工業的に行われている。連続
鋳造法を用いる場合には、冷却速度が１００〜１０００
℃／秒の範囲で凝固する。一般的には、ＤＣ鋳造法に比
べて冷却速度が速いため、アルミマトリックスに対する
合金成分固溶度を高くできる特徴がある。連続鋳造法に
関しては、特開平３−７９７９８号、特開平５−２０１
１６６号、特開平５−１５６４１４号、特開平６−２６
２２０３号、特開平６−１２２９４９号、特開平６−２
１０４０６号、特開平６−２６３０８号各公報等に開示
されている。

【００２７】ＤＣ鋳造を行った場合、板厚３００〜８０
０ｍｍの鋳塊が製造できる。その鋳塊は、常法に従い、
必要に応じて面削を行い、表層の１〜３０ｍｍ、好まし
くは１〜１０ｍｍを切削する。その前後、必要に応じ
て、均熱化処理を行う。均熱化処理を行う場合、金属間
化合物が粗大化しないように、４５０〜６２０℃で１時
間以上、４８時間以下の熱処理が施される。熱処理が１
時間より短い場合には、均熱化処理の効果が不十分とな
る。

【００２８】次いで、熱間圧延、冷間圧延を行ってアル
ミニウム圧延板とする。熱間圧延の前又は後、若しくは
その途中において中間焼鈍処理を施してもよい。この場
合の中間焼鈍は、バッチ式焼鈍炉を用いて２８０〜６０
０℃で２〜２０時間、好ましくは３５０〜５００℃で２
〜１０時間加熱する方法や、連続焼鈍炉を用いて、１０
〜２００℃／秒の昇温速度で加熱する方法を採ることが
でき、連続焼鈍炉を用いて上記条件で行なうと結晶組織
を細かくすることができる。

【００２９】以上の工程によって、厚さ０．１〜０．５
ｍｍに仕上げられたアルミニウム板は、平面性を改善す
るためにローラレベラ、テンションレベタ等の矯正装置
によって平面性を改善してもよい。平面性の改善は、ア
ルミニウム板をシート状にカットした後に行ってもよい
が、生産性を向上させるためには、連続したコイルの状
態で平面性改善を行うことが好ましい。また、アルミニ
ウム板巾を所定の巾に加工するため、スリッタラインを
通してもよい。また、アルミニウム板同志の摩擦による
傷の発生を防止するために、アルミニウム板の表面に薄
い油膜を設けてもよい。油膜には、必要に応じて、揮発
性のものや、不揮発性のものが適宜用いられる。なお、
冷間圧延に関して、特開平６−２１０３０８号公報等に
開示されている。

【００３０】連続鋳造を行った場合、例えば、ハンター
法等の冷却ローラを用いると板厚１〜１０ｍｍの鋳造板
を直線連続鋳造でき、熱間圧延の工程を省略できるメリ
ットが得られる。また、ハズレー法等の冷却ローラを用
いると、板厚１０〜５０ｍｍの鋳造板が鋳造でき、一般
的に、鋳造直後に熱間圧延ローラを配置し連続的に圧延
することで、板厚１〜１０ｍｍの連続鋳造圧延板が得ら
れる。これらの連続鋳造圧延板は、ＤＣ鋳造の場合に説
明したのと同じように、冷間圧延、中間焼鈍、平面性改
良、スリット等の工程を経て０.１〜０.５ｍｍの板厚に
仕上げられる。連続鋳造法を用いた場合の中間焼鈍条
件、冷間圧延条件については、特開平６−２２０５９３
号、特開平６−２１０３０８号、特開平７−５４１１１
号、特開平８−９２７０９号各公報等に開示されてい
る。

【００３１】上述したような方法で製造されたアルミニ
ウム板を、平版印刷版用支持体として使用する場合、そ
の用途によって、以下に述べる種々の特性が望まれる。

【００３２】(１) 強度に関して：平版印刷版用支持体
として必要な腰の強さを得るため、０．２％耐力が１４
０ＭＰａ以上あることが望ましい。また、バーニング処
理を行ったときにもある程度の腰の強さを得るために
は、２７０℃で３〜１０分間加熱後の０．２％耐力が８
０ＭＰａ以上、望ましくは１００ＭＰａ以上あることが
よい。特に、腰の強さを求める場合は、ＭｇやＭｎを添
加したアルミニウム材料を採用することができるが、印
刷機の版胴へのフィットし易さは劣ってくるため、用途
に応じて、材質、微量成分の添加量は適宜選択される。
これらについては、特開平７−１２６８２０号、特開昭
６２−１４０８９４号各公報等に開示されている。

【００３３】(２) 結晶組織に関して：平版印刷版用支
持体として、化学的な表面処理、電気化学的な表面処理
を行う場合、アルミニウム板の表面の結晶組織に起因す
る面質不良が発生する場合があり、表面の結晶組織は、
あまり粗大でないことが好ましい。結晶組織の巾として
は、２００μｍ以下、好ましくは１００μｍ以下、より
好ましくは５０μｍ以下がである。結晶組織の長さとし
ては、５０００μｍ以下、好ましくは１０００μｍ以
下、より好ましくは５００μｍ以下がである。これらに
ついては、特開平６−２１８４９５号、特開平７−３９
９０６号、特開平７−１２４６０９号各公報等に開示さ
れている。

【００３４】(３) 合金成分分布に関して：平版印刷版
用支持体として、化学的な表面処理、電気化学的な表面
処理を行う場合、アルミニウム板の表面の合金成分の不
均一な分布に起因する面質不良が発生する場合があり、
表面の合金成分の分布はあまり不均一でないことが好ま
しい。これらについては、特開平６−４８０５８号、特
開平５−３０１４７８号、特開平７−１３２６８９号各
公報等に開示されている。

【００３５】(４) 金属間化合物に関して：平版印刷版
用支持体として、化学的な表面処理、電気化学的な表面
処理を行う場合、金属間化合物のサイズや密度の影響を
受けることがある。これらについては、特開平７−１３
８６８７号、特開平４−２５４５４５号各公報に開示さ
れている。

【００３６】アルミニウム板の荷姿としては、例えば、
鉄製パレットにハードボードとフェルトを敷き、製品両
端にダンボールドーナツ板を当て、ポリチューブで全体
を包み、コイル内径部に木製ドーナツを挿入し、コイル
外周部にフェルトを当て、帯鉄で絞め、その外周部に表
示を行う。また、包装材としては、ポリエチレンフィル
ム、緩衝材としては、ニードルフェルト、ハードボード
が用いられる。その他いろいろな形態があるが、安定し
て、キズも付かず運送等が可能なことが重要である。

【００３７】このようなアルミニウム板に以下に記載す
る表面処理を行う。まず、アルミニウム板に前処理を行
なうが、この前処理は、代表的な例として、トリクレン
等の溶剤や界面活性剤を用いてアルミニウム板表面の圧
延油を除去する処理や、水酸化ナトリウムや水酸化カリ
ウム等のアルカリエッチング剤を用いてアルミニウム板
表面に清浄な面を露出させる処理がある。

【００３８】具体的には、溶剤脱脂方法としては、ガソ
リン、ケロシン、ベンジン、ソルベントナフサ、ノルマ
ルヘキサン等の石油系溶剤を用いる方法、トリクロルエ
チレン、メチレンクロライド、パークロルエチレン、
１,１,１−トリクロルエタン等の塩素系溶剤を用いる方
法がある。アルカリ脱脂方法としては、水酸化ナトリウ
ム、炭酸ナトリウム、重炭酸ナトリウム、硫酸ナトリウ
ム等のソーダ塩の水溶液を用いる方法、オルトケイ酸ナ
トリウム、メタケイ酸ナトリウム、二号ケイ酸ナトリウ
ム、三号ケイ酸ナトリウム等のケイ酸塩の水溶液を用い
る方法、第一燐酸ナトリウム、第三燐酸ナトリウム、第
二燐酸ナトリウム、トリポリリン酸ナトリウム、ピロリ
ン酸ナトリウム、ヘキサメタリン酸ナトリウム等の燐酸
塩水溶液を用いる方法等がある。

【００３９】アルカリ脱脂方法を用いる場合、処理時
間、処理温度によって、アルミニウム板表面が溶解する
可能性があり得るので、脱脂処理については、溶解現象
が伴わないようにする必要がある。

【００４０】界面活性剤による脱脂処理としては、アニ
オン界面活性剤、カチオン界面活性剤、非イオン性界面
活性剤及び両性界面活性剤の水溶液が用いられ、各種の
市販品等を用いることが出来る。

【００４１】脱脂方法としては、浸漬法、吹き付け法、
液を布等に含ませて擦る方法等用いることが出来る。ま
た、浸漬や吹き付け法には、超音波を用いてもよい。

【００４２】また、脱脂処理に関して、例えば、特開平
２−２６７９３号公報を参照することができる。

【００４３】次に、機械的粗面化処理が行われる。この
機械的粗面化には転写、ブラシ、液体ホーニング等の方
法があり、生産性等を考慮して併用することもできる。

【００４４】凹凸面をアルミニウム板に圧接する転写方
法としては、種々の方法を使用することができる。すな
わち、前記特開昭５５−７４８９８号、特開昭６０−３
６１９５号、特開昭６０−２０３４９６号各公報で開示
された転写を数回行うことを特徴とした方法、特開平６
−２４１６８号公報で開示された方法等も適用すること
ができる。

【００４５】また、放電加工・ショットブラスト・レー
ザー・プラズマエッチングなどを用いて微細な凹凸を食
刻したローラで繰り返し転写を行なったり、微細粒子を
塗布した凹凸のある面を、アルミニウム板に接面させ、
その上より複数回繰し返し圧力を加え、アルミニウム板
に微細粒子の平均直径に相当する凹凸パターンを複数回
繰り返し転写させてもよい。

【００４６】転写ローラへ微細な凹凸を付与する方法と
しては、特開平３−８６３５号、特開平３−６６４０４
号、特開昭６３−６５０１７号各公報等が公知となって
いる。また、ローラ表面にダイス、バイト又はレーザー
などを使って２方向から微細な溝を切り、表面に角形の
凹凸をつけてもよい。このローラ表面は、公知のエッチ
ング処理などをおこなって、形成した角形の凹凸が丸み
を帯びるような処理をおこなってもよい。さらに、表面
の硬度を上げるために焼き入れ、ハードクロムメッキな
どを行ってもよい。

【００４７】ブラシを用いた機械的粗面化処理について
図１を参照して説明する。図１は、ブラシを用いた機械
的粗面化処理工程の機会的粗面化処理装置を示す概略図
である。この図においてアルミニウム板を粗面化処理す
るには、アルミニウム板１０を支持ローラ１０７で支持
して矢印方向に走行させ、研磨スラリー１０３をアルミ
ニウム板１０の表面に均一に散布するとともに、ブラシ
ローラ１０２をアルミニウム板１０表面上で回転させて
機械的粗面化処理を行う。この例では、研磨スラリーの
散布とブラシローラによる粗面化処理を２ヵ所で行って
いる。

【００４８】ブラシを用いる場合、曲げ弾性率が１０，
０００〜４０,０００ｋｇ／ｃｍ²、好ましくは１５，０
００〜３５,０００ｋｇ／ｃｍ²で、かつ毛腰の強さが５
００ｇ以下、好ましくは４００ｇ以下であるブラシ毛を
用い、さらに粒径２０〜８０μｍ、好ましくは３０〜６
０μｍの研磨材を用いる。

【００４９】ブラシの材質は、上記の機械的強度を備え
るものが好ましいが、上記機械的強度以外でも使用可能
であり、合成樹脂や金属から適宜選択できる。合成樹脂
としては、例えば、ナイロン等のポリアミド、ポリプロ
ピレン等のポリオレフィン、ポリ塩化ビニル、ポリブチ
レンテレフタレート等のポリエステル、ポリカーボネー
ト等を用いることができる。また金属としては、ステン
レスや真鍮等を用いることができる。

【００５０】また、研磨材の材質も上記の粒径範囲が好
ましが、その材質は制限されるものではなく、従来より
機械的粗面化処理に使用されているアルミナ、珪砂、シ
リカ、炭化ケイ素、窒化ケイ素等から選択して用いるこ
とができる。

【００５１】機械的粗面化処理は、上記のブラシ毛を有
するローラブラシを高速回転させながらアルミニウム板
表面に圧接するとともに、上記の研磨材をローラブラシ
に供給することにより行われる。この時のローラブラシ
の回転数や圧接力、研磨材の供給量等は特に制限されな
い。

【００５２】上記機械的粗面化に適した装置としては、
例えば、特公昭５０−４００４７号公報に記載された装
置を挙げることができる。

【００５３】このように機械的粗面化処理を行った後、
アルミニウム板の平滑化、均斉化等を目的として、アル
ミニウム表面をｐＨ１１以上、好ましくはｐＨ１３以上
のアルカリ溶液を用いて化学的エッチング処理を行う。

【００５４】化学的エッチング処理について図２を参照
して説明する。図２は、アルミニウム板表面に化学的エ
ッチング処理を行う化学的エッチング処理装置の一例を
示す概略図である。この図においてアルミニウム板に化
学的エッチング処理を行なうには、アルミニウム板１０
をパスローラ２０２及びニップローラ２０１によってエ
ッチング処理槽２１１内を通過させ、このエッチング処
理槽２１１内で、調液タンク２０５中の処理液（水酸化
ナトリウムを主とするエッチング液）を送液ポンプ２０
４によって導入管２１２を通してスプレー２０３に送り
込み、このスプレー２０３よってアルミニウム板１０の
幅方向にわたって均一に処理液をスプレーして表面エッ
チングを行う。アルミニウム板１０がエッチング処理槽
２１１を出るとき、ニップローラ２０１でアルミニウム
板１０の表面を拭って処理液のエッチング処理槽２１１
外への持ち出しを防ぐ。

【００５５】処理液は調液タンク２０５で調合され、調
合された処理液は、導入管２１２を介してスプレー２０
３に送液することができるが、他方、送液ポンプ２０４
により、導入管２１２より分岐している給液配管２２４
及び２２５を通ってそれぞれ拡散透析槽２０６及び析出
槽２０７に送液することができる。給液量および給液の
時期は配管の途中に設けた弁（図示せず）の操作によっ
て調節することができる。

【００５６】調液タンク２０５とエッチング処理槽２１
１とは導入管２１２および戻り液配管２１３とによって
連結され、処理液はこれらの間で循環されている。エッ
チング処理の間に処理液中の水酸化ナトリウム成分は反
応により減少し、アルミニウムイオン含量は増加し、ま
た水は蒸発し減少する等処理液の量および成分濃度は変
化する。このため、調液タンク２０５内の処理液には水
酸化ナトリウム溶液と水の補給がそれぞれ補給配管２０
０及び２０１からおこなわれるが、増加するアルミニウ
ムイオンを除去しないで補給液によって処理液中のアル
ミニウムイオンを所定の濃度に保つのは無駄が多い。

【００５７】このため、給液配管２２４及び２２５を通
って調液タンク２０５内の処理液の一部を拡散透析槽２
０６及び析出槽２０７へ循環使用中の処理液の一部を適
時に送液し、アルミニウムイオンを系外に除去する。拡
散透析槽２０６では、送液された処理液の約７０％が水
酸化ナトリウム液として回収され、回収液ａとして回収
用配管２１８を通って調液タンク２０５に戻される。一
方、拡散透析槽２０６で透析によって過飽和のアルミン
酸ソーダ溶液となった透析廃液は、透析廃液用送液管２
１５を通って析出槽２０７へ送られる。拡散透析槽２０
６では、蒸発した水を補給するため給液配管２１４より
水を加えることが出来る。

【００５８】析出槽２０７では拡散透析槽２０６からの
透析廃液と調液タンク２０５からの処理液を混合して、
混合液から過飽和のアルミン酸ソーダ溶液中の水酸化ア
ルミニウムの種子を核として水酸化アルミニウムを結晶
化させる。アルミニウムイオンが除去された水酸化ナト
リウム液を主とする処理液と水酸化アルミニウムの結晶
との混合物は送液管２１６によってシックナー２０８へ
送られ、結晶化した水酸化アルミニウムは配管２１７を
通ってドラムフィルター２０９で離漿し、ホッパー２１
０に集められる。一方、水酸化ナトリウム液を主とする
処理液は回収液ｂとして回収用配管２１９を通り、調液
タンク２０５に戻される。

【００５９】なお、この例では拡散透析を使用したが、
結晶化させる晶析法等を使用してもよい。

【００６０】化学的エッチング処理におけるエッチング
量は、３ｇ／ｍ²以上、２５ｇ／ｍ²以下、好ましくは３
ｇ／ｍ²以上、１５ｇ／ｍ²以下である。エッチング量が
３ｇ／ｍ²未満では、機械的粗面化処理により形成され
た凹凸を平滑化できず、後段の電解処理において均一な
ピットを生成できない。一方、エッチング量が２５ｇ／
ｍ²を越えると、前記凹凸が消失してしまうこともあ
り、好ましくない。

【００６１】使用可能なアルカリ溶液として、例えば、
水酸化ナトリウム、炭酸ナトリウム、重炭酸ナトリウ
ム、硫酸ナトリウム等のソーダ塩水溶液、オルトケイ酸
ナトリウム、メタケイ酸ナトリウム、二号ケイ酸ナトリ
ウム、三号ケイ酸ナトリウム等のケイ酸塩水溶液、第一
燐酸ナトリウム、第二燐酸ナトリウム、第三燐酸ナトリ
ウム、トリポリリン酸ナトリウム、ピロリン酸ナトリウ
ム、ヘキサメタリン酸ナトリウム等の燐酸塩水溶液等を
挙げることができる。

【００６２】処理条件としては、アルカリ溶液の濃度
０．０１重量％〜５０重量％、液温２０℃〜９０℃、時
間５秒〜５分間であり、上記のエッチング量となるよう
に適時選択される。

【００６３】上記アルカリ溶液によりアルミニウム板表
面を化学的エッチング処理すると、その表面に不溶解残
渣部すなわちスマットが生成する。そこで、後述する電
解粗面化処理に使用される酸性溶液と同一組成の酸性溶
液を用いてスマットを除去する。

【００６４】好ましい処理条件は、液温３０〜８０℃、
時間３秒〜３分である。

【００６５】次いで、このようにして処理されたアルミ
ニウム板に電解粗面化処理を行う。本発明における電解
粗面化処理は、陰極電解処理の前後に酸性溶液中での交
番波形電流による第１及び第２の電解処理を行うことが
好ましい。陰極電解処理により、アルミニウム板の表面
にスマットが生成するとともに、水素ガスが発生してよ
り均一な電解粗面化が可能となる。陰極電解処理によ
り、アルミニウム板の表面にスマットが生成するととも
に、水素ガスが発生してより均一な電解粗面化が可能と
なる。

【００６６】まず、酸性溶液中での交番波形電流による
第１及び第２の電解粗面化処理について説明する。な
お、この電解粗面化処理は、第１の処理と第２の処理と
が同一条件であっても、また好ましい処理条件の範囲に
おいてそれぞれ異なっていてもよい。

【００６７】電解粗面化処理について図３を参照して説
明する。図３は、アルミニウム板に第１及び第２の電解
粗面化処理を行う電解粗面化処理装置の一例を示す概略
図である。

【００６８】図３において、符号１０はアルミニウム板
で、この、アルミニウム板１０において、１０ａは表面
(最初に電解粗面化処理される方の面)、１０ｂは裏面
（後に電解粗面化処理される方の面）である。符号３０
２は、アルミニウム板１０の表面１０ａを電解粗面化す
る第１表面側粗面化処理装置、符号３０３も、アルミニ
ウム板１０の表面１０ａを電解粗面化する第２表面側粗
面化処理装置、符号３０４は、アルミニウム板１０の裏
側面１０ｂを電解粗面化する裏面側粗面化処理装置であ
る。これらの表面側粗面化処理装置３０２、３０３及び
裏面側粗面化処理装置３０４は、図４に示すように、そ
れぞれ、電解槽３０５に交流電源３１２を介して接続さ
れた一対の円弧状の主電極３０６、３０６が配設される
とともに、主電極３０６の上方に回転自在なサポートロ
ーラ３０７が配置されている。そして、主電極３０６と
サポートローラ３０７の間には電解液３０８が充填され
ている。

【００６９】また、第１表面側粗面化処理装置３０２、
第２表面側粗面化処理装置３０３及び裏面側粗面化処理
装置３０４の間には、パスローラ３０９……３０９が所
定箇所に配置され、アルミニウム板１０の走行路を形成
している。また、第２表面側粗面化処理装置３０３と裏
面側粗面化処理装置３０４の間の走行路は、裏面側粗面
化処理装置３０４においては表面１０ａがサポートロー
ラ３０７に接し、裏面１０ｂが電解液３０８に漬かるよ
うに、アルミニウム板１０を反転させる反転走行路３１
０となっている。そして、この反転走行路３１０に、電
解液３０８をアルミニウム板１０に散布するスプレー３
１１……３１１が複数設けられている。

【００７０】前記サポートローラについて説明する。図
５は、第一の発明による平版印刷版支持体の製造装置に
かかるサポートローラの一実施形態の断面図である。図
５において、３２０は骨格部で、この骨格部３２０は、
ステンレススチールからなる芯金３２１と、芯金３２１
の周囲に円筒状に設けられた基板３２２とで構成されて
おり、この基板３２２は、縦弾性係数が８，０００ｋｇ
ｆ／ｍｍ²以上、５０，０００ｋｇｆ／ｍｍ²未満のステ
ンレススチール、アルミニウム等の金属で形成されてい
る。そして、このような骨格部３２０の周囲には、酸化
クロムを１０重量％以上、９０重量％以下含み電気抵抗
が０.０１ＭΩ以上のセラミック絶縁層３２３が設けら
れている。

【００７１】基板は、縦弾性係数が８，０００ｋｇｆ／
ｍｍ²以上、５０，０００ｋｇｆ／ｍｍ²未満であり、好
ましくは１５,０００ｋｇｆ／ｍｍ²以上、４５,０００
ｋｇｆ／ｍｍ²未満、より好ましくは１８，０００ｋｇ
ｆ／ｍｍ2以上、４０，０００ｋｇｆ／ｍｍ²未満であ
る。縦弾性係数が８，０００ｋｇｆ／ｍｍ²未満である
と、アルミウェブの張力に抗しきれず、変形等生ずる恐
れがあり、また、縦弾性係数が５０，０００ｋｇｆ／ｍ
ｍ²以上であると、製作が困難である。

【００７２】セラミック絶縁層は、酸化クロムを１０重
量％以上、９０重量％以下含んでおり、好ましくは１５
重量％以上、８０重量％以下含んでおり、より好ましく
は２０重量％以上、７５重量％以下含んでいる。酸化ク
ロムが１０重量％以下であると、酸性液が、微小なセラ
ミックス粒子間に浸透し、ローラ寿命が短くなり、ま
た、９０重量％を超えると、絶縁性を損なう恐れがあ
る。

【００７３】セラミック絶縁層は、電気抵抗が０．０１
ＭΩ以上であり、好ましくは０．１ＭΩ以上、より好ま
しくは０．５ＭΩ以上である。電気抵抗が０．１ＭΩ未
満であると、アルミ板に電流が流れたとき、サポートロ
ーラに電流がリークして電蝕等異常が発生する恐れがあ
る。

【００７４】以上のようなセラミック絶縁層は、酸化ア
ルミ、酸化ケイ素等、用途に合わせて適度に調合して作
成する。

【００７５】図６は、第二の発明による平版印刷版支持
体の製造装置にかかるサポートローラの一実施形態の断
面図である。図６において、３３０は骨格部で、この骨
格部３３０は、ステンレススチールからなる芯金３３１
と、芯金３３１の周囲に円筒状に設けられた基板３３２
とで構成されており、この基板３３２は、縦弾性係数が
８，０００ｋｇｆ／ｍｍ²以上、５０，０００ｋｇｆ／
ｍｍ²未満のステンレススチール、アルミニウム等の金
属で形成されている。そして、このような骨格部３３０
の周囲には、電気抵抗が０．０１ＭΩ以上の絶縁層３３
３が設けられており、この絶縁層３３３の周面には、厚
さ１０ｍｍ以上、１００ｍｍ以下で密度０．３ｇ／ｃｃ
以上、１．００ｇ／ｃｃ未満に圧密した耐酸性の不織布
３３４が設けられている。

【００７６】骨格部の芯金及び基板は、前記第一の発明
におけるサポートローラの場合と同一である。

【００７７】絶縁層は、電気抵抗が０．０１ＭΩ以上で
あり、好ましくは０．１ＭΩ以上、より好ましくは０．
５ＭΩ以上である。電気抵抗が０．１ＭΩ未満である
と、アルミ板に電流が流れたとき、サポートローラに電
流がリークして電蝕等異常が発生する恐れがある。

【００７８】以上のような絶縁層はフッ素系のコーティ
ングが一般的に用いられる。

【００７９】不織布は、厚さが１０ｍｍ以上、１００ｍ
ｍ以下であり、好ましくは２０ｍｍ以上、９０ｍｍ以下
であり、より好ましくは３０ｍｍ以上、６０ｍｍ以下で
ある。厚さが３０ｍｍ未満であると、耐久性に問題が生
じる。また、厚さが１００ｍｍを超えると、不織布の吸
水性の影響で、サポートローラの動バランス等が狂い、
特に加減速時に不具合が発生し易い。

【００８０】不織布は、密度が０．３ｇ／ｃｃ以上、
１．００ｇ／ｃｃ未満に圧密したものであり、好ましく
は０．４ｇ／ｃｃ以上、０．９ｇ／ｃｃ未満であり、よ
り好ましくは０．５ｇ／ｃｃ以上、０．８ｇ／ｃｃ未満
である。密度が０．３ｃｃ／ｇ未満であると、不織布が
長期使用後変形し易くなり、密度が１．００ｇ／ｃｃ以
上であると、硬度が高くなりすぎて押し傷等が発生し易
くなる。

【００８１】また、不織布は、耐酸性のものが好まし
く、例えば、ビニル樹脂、ＰＰＳ樹脂、テフロン樹脂が
用いられる。

【００８２】以上のような電解粗面化処理装置でアルミ
ニウム板を粗面化処理するには、各粗面化処理装置３０
２、３０３、３０４の主電極３０６……３０６に通電す
るとともにアルミニウム板１０を走行させる。すると、
アルミニウム板１０は、その表面側１０ａが第１表面側
粗面化処理装置３０２及び第２表面側粗面化処理装置３
０３で連続して粗面化される。表面側１０ａが粗面化処
理されたアルミニウム板１０は、反転走行路３１０を通
って、表面側１０ａが裏面側粗面化処理装置３０４のサ
ポートローラ３０７に接し、かつ裏面側１０ｂが電解液
３０８に浸されるように、反転された状態で裏面側粗面
化処理装置３０４に送られ粗面化される。また、反転走
行路３１０を走行中に、スプレー３１１……３１１から
電解液を散布してアルミニウム板１０を常に濡れた状態
にしている。

【００８３】この電解粗面化処理は、例えば、特公昭４
８−２８１２３号公報、英国特許８９６５６３号明細書
に記載されている電気化学的グレイン法に従うことがで
きる。この電解グレイニングは正弦波形の交流電流を用
いるものであるが、特開昭５２−５８６０２号公報に記
載されているような特殊な波形を用いて行ってもよい。
また、特開平３−７９７９９号公報に記載の波形を用い
ることもできる。

【００８４】また、特開昭５５−１５８２９８、特開昭
５６−２８８９８、特開昭５２−５８６０２、特開昭５
２−１５２３０２、特開昭５４−８５８０２、特開昭６
０−１９０３９２、特開昭５８−１２０５３１、特開昭
６３−１７６１８７各号公報、特開平１−５８８９、特
開平１−２８０５９０、特開平１−１１８４８９、特開
平１−１４８５９２、特開平１−１７８４９６、特開平
１−１８８３１５、特開平１−１５４７９７、特開平２
−２３５７９４、特開平３−２６０１００、特開平３−
２５３６００、特開平４−７２０７９、特開平４−２７
０９８、特開平３−２６７４００、特開平１−１４１０
９４各号公報に記載の方法も適用することができる。

【００８５】交流電源の周波数としては、前述の他に、
電解コンデンサーにて提案されているものも使用でき
る。例えば、米国特許４２７６１２９、同４６７６８７
９号明細書等である。

【００８６】電解液である酸性溶液としては、硝酸、塩
酸等の他、米国特許４６７１８５９、同４６６５７６、
同４６６１２１９、同４６１８４０５、同４６２６２
８、同４６００４８２、同４５６６９６０、同４５６６
９５８、同４５６６９５９、同４４１６９７２、同４３
７４７１０、同４３３６１１３、同４１８４９３２各号
明細書等の電解液も使用できる。

【００８７】酸性溶液の濃度は、０．５〜２．５重量％
が好ましいが、上記のスマット除去処理での使用を考慮
すると、０．７〜２．０重量％が特に好ましい。また、
液温は２０〜８０℃、特に３０〜６０℃が好ましい。

【００８８】電解槽に供給する電源としては、種々提案
されているが、米国特許４２０３６３７号明細書、特開
昭５６−１２３４００、特開昭５７−５９７７０、特開
昭５３−１２７３８、特開昭５３−３２８２１、特開昭
５３−３２８２２、特開昭５３−３２８２３、特開昭５
５−１２２８９６、特開昭５５−１３２８８４、特開昭
６２−１２７５００、特開平１−５２１００、特開平１
−５２０９８、特開昭６０−６７７００、特開平１−２
３０８００、特開平３−２５７１９９各号公報等に記載
のものがある。

【００８９】また、上述した以外にも種々提案されてお
り、例えば、特開昭５２−５８６０２、特開昭５２−１
５２３０２、特開昭５３−１２７３８、特開昭５３−１
２７３９、特開昭５３−３２８２１、特開昭５３−３２
８２２、特開昭５３−３２８３３、特開昭５３−３２８
２４、特開昭５３−３２８２５、特開昭５４−８５８０
２、特開昭５５−１２２８９６、特開昭５５−１３２８
８４、特公昭４８−２８１２３、特公昭５１−７０８
１、特開昭５２−１３３８３８、特開昭５２−１３３８
４０、特開昭５２−１３３８４４、特開昭５２−１３３
８４５、特開昭５３−１４９１３５、特開昭５４−１４
６２３４各号公報で提案されているものを適用すること
ができる。

【００９０】この電解粗面化処理は、前述の機械的粗面
化を行う場合には陽極電気量３０〜４００Ｃ／ｄｍ²、
好ましくは５０〜３００Ｃ／ｄｍ²で行われる。陽極電
気量が３０Ｃ／ｄｍ2未満では、均一なピットが生成さ
れず、一方４００Ｃ／ｄｍ²を越えるとピットが大きく
なりすぎる。

【００９１】機械的粗面化を行わない場合には、この限
りでない。

【００９２】前記第１及び第２の電解粗面化処理の間
に、アルミニウム板は陰極電解処理が施される。この陰
極電解処理により、アルミニウム板表面にスマットが生
成するとともに、水素ガスが発生してより均一な電解粗
面化が可能となる。

【００９３】この陰極電解処理は、酸性溶液中で陰極電
気量３〜８０Ｃ／ｄｍ²、好ましくは５〜３０Ｃ／ｄｍ
²で行われる。陰極電気量が３Ｃ／ｄｍ²未満では、スマ
ット付着量が不足し、一方８０Ｃ／ｄｍ²を越えると、
スマット付着量が過剰となり好ましくない。また、処理
速度を上げる場合、電解処理槽を更に加えても良い。

【００９４】また、電解液は上記第１及び第２の電解粗
面化処理で使用する溶液と同一でも異なっていてもよ
い。

【００９５】第２の電解粗面化処理の後、アルミニウム
板をｐＨ１１以上のアルカリ溶液を用いて第２の化学的
エッチング処理を行う。この第２の化学的エッチング処
理に使用されるｐＨ１１以上のアルカリ溶液は、上記第
１の化学的エッチング処理で使用されるアルカリ溶液と
同一でもよいし、異なるアルカリ溶液を用いてもよい。

【００９６】ただし、エッチング量は第１の化学的エッ
チング処理とは異なり、０．１〜８ｇ／ｍ²、好ましく
は０．２〜３．０ｇ／ｍ²、より好ましくは０．５〜
１．５ｇ／ｍ²である。エッチング量が０．１ｇ／ｍ²未
満では、電解処理によって得られたピット端部を平滑化
できず、一方８ｇ／ｍ²を越えるとピットが消失する。

【００９７】上記の化学的エッチング処理によりスマッ
トが生成するため、アルミニウム板は、硝酸を主体とす
る溶液を用いてスマットの除去を行う。ここで、硫酸を
主体とする溶液とは、硫酸単独溶液の他、燐酸、硝酸、
クロム酸、塩酸等を適宜混合してなる混合溶液である。
この硫酸を主体とする溶液を用いるスマット除去は、例
えば、特開昭５３−１２７３９号公報を参照することが
できる。

【００９８】また、アルカリ処理を組み合わせてもよ
く、例えば、特開昭５６−５１３８８号公報を参照する
ことができる。

【００９９】さらに、特開昭６０−８０９１、特開昭６
３−１７６１８８、特開平１−３８２９１、特開平１−
１２７３８９、特開平１−１８８６９９、特開平３−１
７７６００、特開平３−１２６８９１、特開平３−１９
１１００各号公報等に記載された方法を併用することも
できる。

【０１００】次いで、アルミニウム板の表面に、陽極酸
化皮膜を形成する。

【０１０１】アルミニウム板の表面に陽極酸化被膜を形
成する陽極酸化処理について図７を参照して説明する。

【０１０２】図７は、アルミニウム板の表面を陽極酸化
処理する工程の一例を示す概略図である。この図に示す
陽極酸化処理装置４１０において、アルミニウム板１０
は、図中矢印で示すように搬送される。電解液４１８が
貯溜された給電槽４１２において、アルミニウム板１０
は給電電極４２０によって（＋）に荷電される。そし
て、アルミニウム板１０は、給電槽４１２においてロー
ラ４２２によって上方に搬送され、ニップローラ４２４
によって下方に方向変換された後、電解処理槽４１４に
向けて搬送され、ローラ４２８によって水平方向に方向
転換される。

【０１０３】そして、アルミニウム板１０は、電解電極
４３０によって（−）に荷電されることにより、その表
面に陽極酸化皮膜が形成され、電解処理槽４１４を出た
アルミニウム板１０は後工程に搬送される。

【０１０４】この陽極酸化処理装置４１０において、ロ
ーラ４２２、ニップローラ４２４及びローラ４２８によ
って方向転換手段が構成され、アルミニウム板１０は、
給電槽４１２と電解処理槽４１４との槽間部において、
前記ローラ４２２、４２４、４２８により山型（逆Ｕ字
型）に搬送される。給電電極４２０と電解電極４３０と
は、直流電流４３４に接続されている。

【０１０５】このような陽極酸化処理装置４１０の特徴
は、給電槽４１２と電解処理槽４１４とを１枚の槽壁４
３２で仕切り、アルミニウム板１０を槽間部において山
型（逆Ｕ字型）に搬送したことにある。これによって、
槽間部におけるアルミニウム板１０の長さを最短にする
ことができる。よって、陽極酸化処理装置４１０の全体
長を短くできるので、設備費を低減することができる。

【０１０６】また、アルミニウム板１０を山型（逆Ｕ字
型）に搬送することによって、各槽４１２、４１４の槽
壁にアルミニウム板１０を通過させるための開口部を形
成する必要がなくなる。よって、各槽４１２、４１４内
の液面高さを必要レベルに維持するのに要する送液量を
抑えることができるので、稼働費を低減することができ
る。

【０１０７】この場合、例えば、硫酸濃度５０〜３００
ｇ／ｌで、アルミニウム濃度５重量％以下の溶液中で、
アルミニウム板を陽極として通電して陽極酸化膜を形成
することができる。前記溶液には燐酸、クロム酸、しゅ
う酸、スルファミン酸、ベンゼンスルホン酸等を配合し
てもよい。

【０１０８】形成される酸化皮膜量は、１.０〜５.０ｇ
／ｍ²、特に１.５〜４.０ｇ／ｍ²であることが好まし
い。

【０１０９】陽極酸化の処理条件は、使用される電解液
によって種々変化するので、一概にいえないが、一般的
には、電解液の濃度が１〜８０重量％、液温５〜７０
℃、電流密度０.５〜６０Ａ／ｃｍ²、電圧１〜１００
Ｖ、電解時間１５秒〜５０分の範囲であり、上記の皮膜
量となるように調整される。

【０１１０】電解装置としては、特開昭４８−２６６３
８、特開昭４７−１８７３９、特公昭５８−２４５１７
各号公報等に記載されている。また、特開昭５４−８１
１３３、特開昭５７−４７８９４、特開昭５７−５１２
８９、特開昭５７−５１２９０、特開昭５７−５４３０
０、特開昭５７−１３６５９６、特開昭５８−１０７４
９８、特開昭６０−２００２５６、特開昭６２−１３６
５９６、特開昭６３−１７６４９４、特開平４−１７６
８９７、特開平４−２８０９９７、特開平６−２０７２
９９、特開平５−２４３７７、特開平５−３２０８３、
特開平５−１２５５９７、特開平５−１９５２９１各号
公報等に記載されている方法も使用できる。

【０１１１】また、陽極酸化皮膜を形成した後、アルミ
ニウム板と感光組成物との密着を最適なものとするため
に、陽極酸化皮膜をエッチングし、さらに水蒸気及び熱
水で封孔処理をして、経時安定性が良く、現像性が良好
で、非画像部の汚れのない感光性印刷版を与えるアルミ
ニウム板の封孔処理装置があり（特公昭５６−１２５１
８号公報）、この様な装置で皮膜生成後処理を行なって
もよい。また、特開平４−４１９４号公報、特開平５−
２０２４９６、特開平５−１７９４８２各号公報に記載
されている装置又は方法で封孔処理を行なってもよい。

【０１１２】また、米国特許第２９４６６３８号明細書
に記載されている弗化ジルコニウム酸カリウム処理、米
国特許第３２０１２４７号明細書に記載されているホス
ホモリブデート処理、英国特許第１１０８５５９号に記
載されているアルキルチタネート処理、独国特許第１０
９１４３３号明細書に記載されているポリアクリル酸処
理、独国特許第１１３４０９３号明細書や英国特許第１
２３０４４７号明細書に記載されているポリビニルホス
ホン酸処理、特公昭４４−６４０９号公報に記載されて
いるホスホン酸処理、米国特許第３３０７９５１号明細
書に記載されているフィチン酸処理、特開昭５８−１６
８９３号や特開昭５８−１８２９１号の各公報に記載さ
れている親油性有機高分子化合物と２価の金属との塩に
よる処理や、米国特許第３８６０４２６号明細書に記載
されているように、水溶性金属塩（例えば、酢酸亜鉛な
ど）を含む親水性セルロース（例えば、カルボキシメチ
ルセルロースなど）の下塗り層を設けたり、特開昭５９
−１０１６５１号公報に記載されているスルホン酸基を
有する水溶性重合体の下塗りによって親水化処理を行っ
たものや、特開昭６２−０１９４９４号公報に記載され
ているリン酸塩、特開昭６２−０３３６９２号公報に記
載されている水溶性エポキシ化合物、特開昭６２−０９
７８９２号公報に記載のリン酸変性デンプン、特開昭６
３−０５６４９８号公報に記載のジアミン化合物、特開
昭６３−１３０３９１号公報記載のアミノ酸の無機又は
有機酸、特開昭６３−１４５０９２号公報に記載のカル
ボキシル基又は水酸基を含む有機ホスホン酸、特開昭６
３−１６５１８３号公報に記載のアミノ基とホスホン酸
基を有する化合物、特開平２−３１６２９０号公報に記
載の特定のカルボン酸誘導体、特開平３−２１５０９５
号公報に記載のリン酸エステル、特開平３−２６１５９
２号公報に記載の１個のアミノ基とリンの酸素酸基１個
を持つ化合物、特開平３−２１５０９５号公報に記載の
リン酸エステル、特開平５−２４６１７１号公報に記載
のフェニルホスホン酸などの脂肪族又は芳香族ホスホン
酸、特開平１−３０７７４５号公報に記載のチオサリチ
ル酸のようなＳ原子を含む化合物、特開平４−２８２６
３７号公報に記載のリンの酸素酸のグループを持つ化合
物などの下塗りや、特開昭６０−６４３５２号公報に記
載されている酸性染料による着色を行なうこともでき
る。

【０１１３】陽極酸化処理工程の後、水洗、乾燥を行
い、迷走電流を測定並びに接地する工程を設ける。例え
ば、電気抵抗の非常に小さい銅メッキ等で被覆された金
属ローラをアルミニウム板と接触させてアースされる電
流値を求める方式がある。電流値は少なければ少ない程
良く、３００Ａ以下が好ましく、より好ましくは１００
Ａ以下である。

【０１１４】迷走電流の測定工程を図８を参照して説明
する。図８は迷走電流の測定に用いる迷走電流測定手段
の一例の概略図である。図８において、符号１は表面に
銅メッキが形成された導電性の良いアースローラで、こ
のアースローラ１は接地線２により接地されている。こ
の接地線２に接地電流を測定する電流計３が設けられ、
迷走電流を測定できるようになっている。

【０１１５】迷走電流の測定工程を経たアルミニウム板
は、感光層の塗布工程及び続いて乾燥工程に送られる。

【０１１６】感光層の塗布工程において、アルミニウム
板に感光層が設けられ感光性平版印刷版とすることがで
きる。

【０１１７】［Ｉ］ｏ−ナフトキノンジアジドスルホ
ン酸エステルおよびフェノール・クレゾール混合のノボ
ラック樹脂を含有する感光層を設ける場合。ｏ−キノンジアジド化合物はｏ−ナフトキノンジアジド
化合物であり、例えば、米国特許第２,７６６,１１８
号、同第２,７６７,０９２号、同第２，７７２，９７２
号、同第２,８５９,１１２号、同第３,１０２,８０９
号、同第３,１０６,４６５号、同第３,６３５,７０９
号、同第３,６４７,４４３号の各明細書をはじめ、多数
の刊行物に記されており、これらは、好適に使用するこ
とができる。これらの内でも、特に芳香族ヒドロキシ化
合物のｏ−ナフトキノンジアジドスルホン酸エステル又
はｏ−ナフトキノンジアジドカルボン酸エステル、及び
芳香族アミノ化合物のｏ−ナフトキノンジアジドスルホ
ン酸アミド又はｏ−ナフトキノンジアジドカルボン酸ア
ミドが好ましく、特に米国特許第３,６３５,７０９号明
細書に記されているピロガロールとアセトンとの縮合物
にｏ−ナフトキノンジアジドスルホン酸をエステル反応
させたもの、米国特許第４,０２８,１１１号明細書に記
されている末端にヒドロキシ基を有するポリエステルに
ｏ−ナフトキノンジアジドスルホン酸、又はｏ−ナフト
キノンジアジドカルボン酸をエステル反応させたもの、
英国特許第１,４９４,０４３号明細書に記されているよ
うなｐ−ヒドロキシスチレンのホモポリマー又はこれと
他の共重合し得るモノマーとの共重合体にｏ−ナフトキ
ノンジアジドスルホン酸、又はｏ−ナフトキノンジアジ
ドカルボン酸をエステル反応させたもの、米国特許第
３,７５９,７１１号明細書に記されているようなｐ−ア
ミノスチレンと他の共重合し得るモノマーとの共重合体
にｏ−ナフトキノンジアジドスルホン酸、又はｏ−ナフ
トキノンジアジドカルボン酸をアミド反応させたものは
非常に優れている。

【０１１８】これらのｏ−キノンジアジド化合物は、単
独で使用することができるが、アルカリ可溶性樹脂と混
合して用いた方が好ましい。好適なアルカリ可溶性樹脂
には、ノボラック型フェノール樹脂が含まれ、具体的に
は、フェノールホルムアルデヒド樹脂、ｏ−クレゾール
ホルムアルデヒド樹脂、ｍ−クレゾールホルムアルデヒ
ド樹脂などが含まれる。さらに、米国特許第４,０２８,
１１１号明細書に記されているように上記のようなフェ
ノール樹脂と共に、ｔ−ブチルフェノールホルムアルデ
ヒド樹脂のような炭素数３〜８のアルキル基で置換され
たフェノール又はクレゾールとホルムアルデヒドとの縮
合物を併用すると、より一層好ましい。

【０１１９】また、露光により可視像を形成するために
ｏ−ナフトキノンジアジド、４−スルホニルクロライ
ド、ｐ−ジアゾジフェニルアミンの無機アニオン塩、ト
リハロメチルオキサジアゾール化合物、ベンゾフラン環
を有するトリハロメチルオキサジアゾール化合物等の化
合物などが添加される。一方画像の着色剤としては、ビ
クトリアブルーＢＯＨ、クリスタルバイオレット、オイ
ルブルー、等のトリフェニルメタン染料が用いられる。
また、特開昭６２−２９３２４７号公報に記載されてい
る染料は特に好ましい。

【０１２０】さらに、感脂化剤として特公昭５７−２３
２５３号公報に記載されているような炭素数３〜１５の
アルキル基で置換されたフェノール、例えば、ｔ−ブチ
ルフェノール、Ｎ−オクチルフェノール、ｔ−ブチルフ
ェノールとホルムアルデヒドとを縮合させたノボラック
樹脂、又は、このようなノボラック樹脂のｏ−ナフトキ
ノンジアジド−４−又は−５−スルホン酸エステル（例
えば、特開昭６１−２４２４４６号公報に記載されてい
る）を含有させることができる。

【０１２１】また、現像性を良化させるためにさらに特
開昭６２−２５１７４０号公報に記載されているような
非イオン界面活性剤を含有させることができる。

【０１２２】以上の組成物は、上記各成分を溶解する溶
媒に溶かして支持体上に塗布する。ここで使用する溶媒
としては、エチレンジクロライド、シクロヘキサノン、
メチルエチルケトン、エチレングリコールモノメチルエ
ーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、２−
メトキシエチルアセテート、１−メトキシ−２−プロパ
ノール、１−メトキシ−２−プロピルアセテート、乳酸
メチル、乳酸エチル、ジメチルスルホキシド、ジメチル
アセトアミド、ジメチルホルムアミド、水、Ｎ−メチル
ピロリドン、テトラヒドロフルフリルアルコール、アセ
トン、ジアセトンアルコール、メタノール、エタノー
ル、イソプロパノール、ジエチレングリコールジメチル
エーテルなどがあり、これらの溶媒を単独あるいは混合
して使用する。

【０１２３】これらの成分からなる感光性組成物が、固
形分として０.５〜３．０ｇ／ｍ²設けられる。

【０１２４】［II］ジアゾ樹脂と水不溶性かつ親油性
光分子化合物を含有する感光層を設ける場合。ジアゾ樹脂としては、例えば、ｐ−ジアゾジフェニルア
ミンとホルムアルデヒド又はアセトアルデヒドの縮合物
と、ヘキサフルオロリン酸塩、テトラフルオロホウ酸塩
との有機溶媒可溶の反応生成物であるジアゾ樹脂無機
塩、また米国特許第３，３００，３０９号明細書に記載
されているような、前記縮合物とスルホン酸類例えばＰ
−トルエンスルホン酸又はその塩、ホスフィン酸類例え
ばベンゼンホスフィン酸又はその塩、ヒドロキシル基含
有化合物例えば、２，４−ジヒドロキシベンゾフェノ
ン、２−ヒドロキシ−４−メトキシベンゾフェノン−５
−スルホン酸又はその塩等の反応生成物である有機溶媒
可溶性ジアゾ樹脂有機酸塩等が挙げられる。

【０１２５】本発明において、好適に用いることができ
る他のジアゾ樹脂は、カルボキシル基、スルホン酸基、
スルフィン酸基、リンの酸素酸基およびヒドロキシル基
のうち少なくとも一つの有機基を有する芳香族化合物
と、ジアゾニウム化合物、好ましくは芳香族ジアゾニウ
ム化合物とを構造単位として含む共縮合体である。

【０１２６】そして上記の芳香族環としては、好ましく
はフェニル基、ナフチル基をあげることができる。

【０１２７】前述のカルボキシル基、スルホン酸基、ス
ルフィン酸基、リンの酸素酸基、及びヒドロキシル基の
うち少なくとも一つを含有する芳香族化合物としては種
々のものが挙げられるが、好ましいのは、４−メトキシ
安息香酸、３−クロロ安息香酸、２，４−ジメトキシ安
息香酸、ｐ−フェノキシ安息香酸、４−アニリノ安息香
酸、フェノキシ酢酸、フェニル酢酸、ｐ−ヒドロキシ安
息香酸、２，４−ジヒドロキシ安息香酸、ベンゼンスル
ホン酸、ｐ−トルエンスルフィン酸、１−ナフタレンス
ルホン酸、フェニルリン酸、フェニルホスホン酸であ
る。前述の共縮合ジアゾ樹脂の構成単位をなす芳香族ジ
アゾニウム化合物には、例えば、特公昭４９−４８００
１号公報に挙げられているようなジアゾニウム塩を用い
ることができるが、特に、ジフェニルアミン−４−ジア
ゾニウム塩類が好ましい。

【０１２８】ジフェニルアミン−４−ジアゾニウム塩類
は、４−アミノ−ジフェニルアミン類から誘導される
が、このような４−アミノ−ジフェニルアミン類として
は、４−アミノジフェニルアミン、４−アミノ−３−メ
トキシジフェニルアミン、４−アミノ−２−メトキシジ
フェニルアミン、４’−アミノ−２−メトキシジフェニ
ルアミン、４’−アミノ−４−メトキシジフェニルアミ
ン、４−アミノ−３−メチルジフェニルアミン、４−ア
ミノ−３−エトキシジフェニルアミン、４−アミノ−３
−β−ヒドロキシエトキシジフェニルアミン、４−アミ
ノ−ジフェニルアミン−２−スルホン酸、４−アミノ−
ジフェニルアミン−２−カルボン酸、４−アミノ−ジフ
ェニルアミン−２’−カルボン酸等が挙げられ、特に好
ましくは、３−メトキシ−４−アミノ−４−ジフェニル
アミン、４−アミノジフェニルアミンである。

【０１２９】また、酸基を有する芳香族化合物との共縮
合ジアゾ樹脂以外のジアゾ樹脂として、特開平４−１８
５５９、特開平３−１６３５５１及び特開平３−２５３
８５７各号公報に記載された酸基を含有するアルデヒド
又はそのアセタール化合物で縮合したジアゾ樹脂も好ま
しく用いることができる。

【０１３０】ジアゾ樹脂の対アニオンとしては、ジアゾ
樹脂と安定に塩を形成し、かつ該樹脂を有機溶媒に可溶
となすアニオンを含む。これらは、デカン酸及び安息香
酸等の有機カルボン酸、フェニルリン酸等の有機リン酸
及びスルホン酸を含み、典型的な例としては、メタンス
ルホン酸、トルフルオロメタンスルホン酸などのフルオ
ロアルカンスルホン酸、ラウリルスルホン酸、ジオクチ
ルスルホコハク酸、ジシクロヘキシルスルホコハク酸、
カンファースルホン酸、トリルオキシ−３−プロパンス
ルホン酸、ノニルフェノキシ−３−プロパンスルホン
酸、ノニルフェノキシ−４−ブタンスルホン酸、ジブチ
ルフェノキシ−３−プロパンスルホン酸、ジアミルフェ
ノキシ−３−プロパンスルホン酸、ジノニルフェノキシ
−３−プロパンスルホン酸、ジブチルフェノキシ−４−
ブタンスルホン酸、ジノニルフェノキシ−４−ブタンス
ルホン酸、ベンゼンスルホン酸、トルエンスルホン酸、
メシチレンスルホン酸、ｐ−クロロベンゼンスルホン
酸、２，５−ジクロロベンゼンスルホン酸、スルホサリ
チル酸、２，５−ジメチルベンゼンスルホン酸、ｐ−ア
セチルベンゼンスルホン酸、５−ニトロ−ｏ−トルエン
スルホン酸、２−ニトロベンゼンスルホン酸、３−クロ
ロベンゼンスルホン酸、３−ブロモベンゼンスルホン
酸、２−クロロ−５−ニトロベンゼンスルホン酸、ブチ
ルベンゼンスルホン酸、オクチルベンゼンスルホン酸、
デシルベンゼンスルホン酸、ドデシルベンゼンスルホン
酸、ブトキシベンゼンスルホン酸、ドデシルオキシベン
ゼンスルホン酸、２−ヒドロキシ−４−メトキシベンゾ
フェノン−５−スルホン酸、イソプロピルナフタレンス
ルホン酸、ブチルナフタレンスルホン酸、ヘキシルナフ
タレンスルホン酸、オクチルナフタレンスルホン酸、ブ
トキシナフタレンスルホン酸、ドデシルオキシナフタレ
ンスルホン酸、ジブチルナフタレンスルホン酸、ジオク
チルナフタレンスルホン酸、トリイソプロピルナフタレ
ンスルホン酸、トリブチルナフタレンスルホン酸、１−
ナフトール−５−スルホン酸、ナフタリン−１−スルホ
ン酸、ナフタリン−２−スルホン酸、１,８−ジニトロ
−ナフタレン−３,６−ジスルホン酸、ジメチル−５−
スルホイソフタレート等の脂肪族並びに芳香族スルホン
酸、２,２'，４,４'−テトラヒドロキシベンゾフェノ
ン、１,２,３−トリヒドロキシベンゾフェノン、２,
２'，４−トリヒドロキシベンゾフェノン等の水酸基含
有芳香族化合物、ヘキサフルオロリン酸、テトラフルオ
ロホウ酸等のハロゲン化ルイス酸、ＨＣｌＯ₄、ＨＩＯ₄
等の過ハロゲン酸等が挙げられるが、これに限られるも
のではない。これらの中で、特に好ましいものは、ブチ
ルナフタレンスルホン酸、ジブチルナフタレンスルホン
酸、ヘキサフルオロリン酸、２−ヒドロキシ−４−メト
キシベンゾフェノン−５−スルホン酸、ドデシルベンゼ
ンスルホン酸である。

【０１３１】本発明に使用するジアゾ樹脂は、各単量体
のモル比及び縮合条件を種々変えることにより、その分
子量は任意の値として得ることができるが、本発明の目
的とする使途に有効に供するためには分子量が約４００
〜１００，０００のもの、好ましくは、約８００〜８，
０００のものが適当である。

【０１３２】水不溶性かつ親油性高分子化合物として
は、下記(１)〜(15)に示すモノマーをその構造単位とす
る通常１〜２０万の分子量をもつ共重合体が挙げられ
る。

【０１３３】(１) 芳香族水酸基を有するアクリルアミ
ド類、メタクリルアミド類、アクリル酸エステル類、メ
タクリル酸エステル類及びヒドロキシスチレン類、例え
ば、Ｎ−（４−ヒドロキシフェニル）アクリルアミド又
はＮ−（４−ヒドロキシフェニル）メタクリルアミド、
ｏ−，ｍ−，ｐ−ヒドロキシスチレン、ｏ−，ｍ−，ｐ
−ヒドロキシフェニル−アクリレート又はメタクリレー
ト。

【０１３４】(２) 脂肪族水酸基を有するアクリル酸エ
ステル類、及びメタクリル酸エステル類、例えば、２−
ヒドロキシエチルアクリレート又は２−ヒドロキシエチ
ルメタクリレート、４−ヒドロキシブチルメタクリレー
ト。

【０１３５】(３) アクリル酸、メタクリル酸、無水マ
レイン酸、イタコン酸等の不飽和カルボン酸。

【０１３６】(４) アクリル酸メチル、アクリル酸エチ
ル、アクリル酸プロピル、アクリル酸ブチル、アクリル
酸アミル、アクリル酸ヘキシル、アクリル酸シクロヘキ
シル、アクリル酸オクチル、アクリル酸ベンジル、アク
リル酸−２−クロロエチル、グリシジルアクリレート、
Ｎ−ジメチルアミノエチルアクリレート等の（置換）ア
ルキルアクリレート。

【０１３７】(５) メチルメタクリレート、エチルメタ
クリレート、プロピルメタクリレート、ブチルメタクリ
レート、アミルメタクリレート、シクロヘキシルメタク
リレート、ベンジルメタクリレート、グリシジルメタク
リレート、Ｎ−ジメチルアミノエチルメタクリレート等
の（置換）アルキルメタクリレート。

【０１３８】(６) アクリルアミド、メタクリルアミ
ド、Ｎ−メチロールアクリルアミド、Ｎ−メチロールメ
タクリルアミド、Ｎ−エチルアクリルアミド、Ｎ−ヘキ
シルメタクリルアミド、Ｎ−シクロヘキシルアクリルア
ミド、Ｎ−ヒドロキシエチルアクリルアミド、Ｎ−フェ
ニルアクリルアミド、Ｎ−ニトロフェニルアクリルアミ
ド、Ｎ−エチル−Ｎ−フェニルアクリルアミド等のアク
リルアミドもしくはメタクリルアミド類。

【０１３９】(７) エチルビニルエーテル、２−クロロ
エチルビニルエーテル、ヒドロキシエチルビニルエーテ
ル、プロピルビニルエーテル、ブチルビニルエーテル、
オクチルビニルエーテル、フェニルビニルエーテル等の
ビニルエーテル類。

【０１４０】(８) ビニルアセテート、ビニルクロロア
セテート、ビニルブチレート、安息香酸ビニル等のビニ
ルエステル類。

【０１４１】(９) スチレン、α−メチルスチレン、ク
ロロメチルスチレン等のスチレン類。

【０１４２】(10) メチルビニルケトン、エチルビニル
ケトン、プロピルビニルケトン、フェニルビニルケトン
等のビニルケトン類。

【０１４３】(11) エチレン、プロピレン、イソブチレ
ン、ブタジエン、イソプレン等のオレフィン類。

【０１４４】(12) Ｎ−ビニルピロリドン、Ｎ−ビニル
カルバゾール、４−ビニルピリジン、アクリロニトリ
ル、メタクリロニトリル等。

【０１４５】(13) マレイミド、Ｎ−アクリロイルアク
リルアミド、Ｎ−アセケチルメタクリルアミド、Ｎ−プ
ロピオニルメタクリルアミド、Ｎ−(ｐ−クロロベンゾ
イル)メタクリルアミド等の不飽和イミド。

【０１４６】(14) Ｎ（ｏ−アミノスルホニルフェニ
ル）メタクリルアミド、Ｎ−（ｍ−アミノスルホニルフ
ェニル）メタクリルアミド、Ｎ−（ｐ−アミノ）スルホ
ニルフェニルメタクリルアミド、Ｎ−（１−(３−アミ
ノスルホニル)ナフチル）メタクリルアミド、Ｎ−(２−
アミノスルホニルエチル)メタクリルアミド等のメタク
リル酸アミド類、及び上記と同様の置換基を有するアク
リルアミド類、また、ｏ−アミノスルホニルフェニルフ
メタクリレート、ｍ−アミノスルホニルフェニルメタク
リレート、ｐ−アミノスルホニルフェニルメタクリレー
ト、１−（３−アミノスルホニルナフチル）メタクリレ
ート等のメタクリル酸エステル類、及び上記と同様の置
換基を有するアクリル酸エステル類などの不飽和スルホ
ンアミド。

【０１４７】(15) Ｎ−（２−（メタクリロイルオキ
シ）−エチル）−２，３−ジメチルマレイミド、ビニル
シンナメート、などの、側鎖に、架橋性基を有する不飽
和モノマー。更に、上記モノマーと共重合し得るモノマ
ーを共重合させてもよい。

【０１４８】(16) 米国特許第３，７５１，２５７号明
細書に記載されているフェノール樹脂および例えば、ポ
リビニルフォルマール樹脂、ポリビニルブチラール樹脂
のようなポリビニルアセタール樹脂。

【０１４９】(17) ポリウレタンをアルカリ可溶化した
特公昭５４−１９７７３号、特開昭５７−９０４７４７
号、同６０−１８２４３７号、同６２−５８２４２号、
同６２−１２３４５２号、同６２−１２３４５３号、同
６３−１１３４５０号、特開平２−１４６０４２号に記
載された高分子化合物。

【０１５０】また上記共重合体には必要に応じて、ポリ
ビニルブチラール樹脂、ポリウレタン樹脂、ポリアミド
樹脂、エポキシ樹脂、ノボラック樹脂、天然樹脂等を添
加してもよい。

【０１５１】感光性組成物には、露光による可視画像と
現像後の可視画像を得ることを目的としてさらに色素を
用いることができる。

【０１５２】この色素としては、例えば、ビクトリアピ
ュアブルーＢＯＨ［保土ヶ谷化学社製］、オイルブルー
＃６０３［オリエント化学工業社製］、パテントピュア
ブルー［住友三国化学社製］、クリスタルバイオレッ
ト、ブリリアントグリーン、エチルバイオレット、メチ
ルバイオレット、メチルグリーン、エリスロシンＢ、ベ
イシックフクシン、マラカイトグリーン、オイルレッ
ド、ｍ−クレゾールパープル、ローダミンＢ、オーラミ
ン、４−ｐ−ジエチルアミノフェニルイミナフトキノ
ン、シアノ−ｐ−ジエチルアミノフェニルアセトアニリ
ド等に代表されるトリフーニルメタン系、ジフェニルメ
タン系、オキサジン系、キサンテン系、イミノナフトキ
ノン系、アゾメチン系又はアントラキノン系の色素が有
色から無色あるいは異なる有色の色調へ変化する変色剤
の例として挙げられる。

【０１５３】一方、無色から有色に変化する変色剤とし
ては、ロイコ色素及び、例えばトリフェニルアミン、ジ
フェニルアミン、ｏ−クロロアニリン、１,２,３−トリ
フェニルグアニジン、ナフチルアミン、ジアミノジフェ
ニルメタン、ｐ,ｐ'−ビス−ジメチルアミノジフェニル
アミン、１,２−ジアニリノエチレン、ｐ,ｐ',ｐ”−ト
リス−ジメチルアミノトリフェニルメタン、ｐ,ｐ'−ビ
ス−ジメチルアミノジフェニルメチルイミン、ｐ,ｐ',
ｐ"−トリアミノ−ｏ−メチルトリフェニルメタン、ｐ,
ｐ'−ビス−ジメチルアミノジフェニル−４−アニリノ
ナフチルメタン、ｐ,ｐ',ｐ"−トリアミノトリフェニル
メタンに代表される第１級又は第２級アリールアミン系
色素が挙げられる。特に好ましくは、トリフェニルメタ
ン系、ジフェニルメタン系色素が有効に用いられ、さら
に好ましくはトリフェニルメタン系色素であり、特にビ
クトリアピュアブルーＢＯＨである。

【０１５４】感光性組成物には、さらに種々の添加物を
加えることができる。例えば、塗布性を改良するための
アルキルエーテル類（例えば、エチルセルロース、メチ
ルセルロース）、フッ素系界面活性剤類や、ノニオン系
界面活性剤（特にフッ素系界面活性剤が好ましい）、塗
膜の柔軟性、耐摩耗性を付与するための可塑剤（例え
ば、ブチルフタリル、ポリエチレングリコール、クエン
酸トリブチル、フタル酸ジエチル、フタル酸ジブチル、
フタル酸ジヘキシル、フタル酸ジオクチル、トリ酸トリ
クレジル、リン酸トリブチル、リン酸トリオクチル、オ
レイン酸テトラヒドロフルフリル、アクリル酸又はメタ
クリル酸基オリゴマー及びポリマー、この中で特にリン
酸トリクレジルが好ましい）、画像部の感脂性を向上さ
せるための感脂化剤（例えば、特開昭５５−５２７号公
報記載のスチレン−無水マレイン酸共重合体のアルコー
ルによるハーフエステル化物、ｐ−ｔ−ブチルフェノー
ル−ホルムアルデヒド樹脂などのノボラック樹脂、ｐ−
ヒドロキシスチレンの５０％脂肪酸エステル等）、安定
剤｛例えば、リン酸、亜リン酸、有機酸（クエン酸、シ
ュウ酸、ジピコリン酸、ベンゼンスルホン酸、ナフタレ
ンスルホン酸、スルホサリチル酸、４−メトキシ−２−
ヒドロキシベンゾフェノン−５−スルホン酸、酒石酸
等）｝、現像促進剤（例えば高級アルコール、酸無水物
等）等が好ましく用いられる。

【０１５５】感光性組成物は、上記各成分を溶解する溶
媒に溶かしてアルミニウム板のアルミニウム板上に塗布
される。ここで使用される溶媒としては、特開昭６２−
２５１７３９号、特開平６−２４２５９７号公報に記載
されているような有機溶剤が単独あるいは混合して用い
られる。

【０１５６】感光性組成物は、２〜５０重量％の固形分
濃度で溶解、分散され、アルミニウム板上に塗布・乾燥
される。

【０１５７】アルミニウム板上に塗設される感光性組成
物の層（感光層）の塗布量は用途により異なるが、一般
的には、乾燥後の重量にして０.３〜４．０ｇ／ｍ²が好
ましい。塗布量が小さくなるにつれて画像を得るための
露光量は小さくて済むが、膜強度は低下する。塗布量が
大きくなるにつれ、露光量を必要とするが感光膜は強く
なり、例えば、印刷版として用いた場合、印刷可能枚数
の高い（高耐刷の）印刷版が得られる。

【０１５８】感光性組成物中には、塗布面質を向上する
ための界面活性剤、特に好ましくはフッ素系界面活性剤
を添加することができる。

【０１５９】感光性平版印刷版の製造に当たっては、裏
面のバックコート層と表面の感光性組成物層のどちらが
先にアルミニウム板上に塗布されてもよく、また両者が
同時に塗布されてもよい。

【０１６０】感光性組成物の塗布方法としては特公昭５
８−４５８９号、特開昭５９−１２３５６８号等に記載
されているコーティングロッドを用いる方法や特開平４
−２４４２６５号等に記載されているエクストルージョ
ン型コーターを用いる方法、あるいは特公平１−５７６
２９号公報、特開平１０−１２８２１２号公報等に記載
されているスライドビードコーターを用いる方法等を用
いることができる。

【０１６１】感光性組成物を塗布する塗布装置について
図９を参照して説明する。図９は感光性組成物の塗布装
置の一例の概略断面図である。図９において、５０６は
ワイヤーバー又は溝切りバーで、連続的に走行せしめら
れているアルミニウム板１０と同方向に回転せしめられ
ている。５０７はバー支持部材でバー５０６の全長にわ
たり設けられ、バー５０６にたわみが生ずるのを防止す
ると共にバー５０６へ塗布液５０３を供給する給液器と
しての機能を備えている。すなわち塗布液５０３はバー
支持部材５０７に設けられた給液口５０８より堰部材５
０９との間に形成された給液案内溝５１０内に供給さ
れ、回転するバーによってピックアップされアルミニウ
ム板１０に塗布されるが、この際、アルミニウム板１０
とバー５０６との接触部において塗布液５０３の計量が
おこなわれて所望の塗布量のみがアルミニウム板１０に
塗布され、他は流下して新たに供給された塗布液５０３
と共に液だまり５１１が形成される。従って、定常状態
においては、塗布液５０３は液だまり５１１を介してア
ルミニウム板１０に塗布されることになる。このように
液だまり５１１よりアルミニウム板１０へ塗布液５０３
を塗布すると、驚くべきことに塗膜の表面性が従来に比
し向上することが認められた。しかも塗布液をアルミニ
ウム板１０に転移、塗布する機能と所望の塗布液量に計
量するという機能とをバー５０６が併わせ持っているた
め、装置全体がコンパクトになり、スペースを有効に利
用しうるだけでなく、各種条件の設定や操作も容易とな
った。

【０１６２】この方式において、塗布量はコーティング
バー表面の溝の大きさ、即ちロッドにワイヤーを巻いて
あるワイヤーバーではワイヤーのサイズにより制御する
塗布量の制御範囲ははっきりした制約はないが、３〜
１００ｃｃ／ｍ²が通常用いられる。

【０１６３】コーティングバーの径も特に制約はないが
３〜２０ｍｍが通常用いられる。コーティングバーの回
転はアルミニウム板と同方向、逆方向どちらでもよく、
塗布スピードは１０〜１５０ｍ／分の領域で用いること
ができる。

【０１６４】また、液物性としては、粘度は剪断速度１
００ｌ／ｓｅｃ未満で０．７〜５００ｃｐ、剪断速度１
００〜１００，０００ｌ／ｓｅｃにおいては０．７〜３
００ｃｐ、より好ましくは１００ｌ／ｓｅｃ未満におい
て０．７〜１００ｃｐ、１００〜１００，０００におい
て０．７〜６０ｃｐ、表面張力は２０〜７０ｄｙｎｅ／
ｃｍ、より好ましくは２５〜５０ｄｙｎｅ／ｃｍ、比重
は０．８〜１．５の領域で塗布可能である。

【０１６５】また別の方法としては、エクストルージョ
ン型注液器より、塗布液を吐出させ、バックアップロー
ラに巻回されて走行するアルミニウム板上に塗布液架橋
を形成させ、塗布液架橋の背部を減圧もしくは前部を加
圧して塗布する方法を用いることができる。

【０１６６】この方式ではアルミニウム板と注液器先端
のクリアランスに依存するが１０〜５００ｃｃ／ｍ²程
度の塗布量の液を塗布することができる。

【０１６７】塗布液の条件として、好ましくは剪断速度
１００ｌ／ｓｅｃ未満で、１００〜１００，０００で
０.７〜６０ｃｐ、０.７〜１００ｃｐ、表面張力は２０
〜５０ｄｙｎｅ／ｃｍ、比重は０．８〜１．２の領域が
好ましい。

【０１６８】また、アルミニウム板と注液器のクリアラ
ンスは０．１〜０．５ｍｍ程度が通常用いられる。

【０１６９】次に乾燥方式条件について説明する。乾燥
方式としては、特開平６−６３４８７号公報に記載があ
る乾燥装置内にパスローラを配置し、ローラにアルミニ
ウム板をラップさせて搬送するアーチ型ドライヤー、ア
ルミニウム板の上下面からノズルによりエアーを供給し
アルミニウム板を浮上させながら乾燥する方式、あるい
は熱風を用いず、高温に種々の媒体を用いて加熱し、そ
の副射熱により乾燥する方式、あるいはローラを種々媒
体を用いて加熱しそのローラとアルミニウム板の接触に
よる伝導伝熱により乾燥する方式等がある。

【０１７０】熱風を用いて乾燥させる乾燥装置について
図１０を参照して説明する。図１０は本発明で用いられ
る従来の乾燥装置の一例を示す概略断面図である。この
図において、案内ローラＲに案内され連続的に走行する
アルミニウム板１０は、塗布部６２２により溶媒を含有
する塗布液を塗布され第１ステップ乾燥ゾーン２３に導
入される。第１ステップ乾燥ゾーン６２３には給気口６
２５及び排気口６２６が設けられている。給気口６２５
から４０℃〜１３０℃、露点−５〜１５℃で供給される
熱風は、整流板６２９により整流されて、アルミニウム
板１０に前記塗布により形成された塗布皮膜表面に風速
０．５〜４ｍ／ｓｅｃで接触し、該塗布膜を乾燥させ排
気口６２６から排出される。第１ステップ乾燥ゾーン６
２３の出口付近に達したアルミニウム板１０の該塗布皮
膜は、軟膜状態を呈する。引き続き案内ローラＲに案内
され連続的に走行する長尺アルミニウム板１０は、第２
ステップ乾燥ゾーン６２４に導入される。第２ステップ
乾燥ゾーン６２４には給気口６２７及び排気口６２８が
設けられている。給気口６２７から供給された６０℃〜
１５０℃、露点５〜２０℃の熱風はスリット型ノズル６
３０より吹き出し風速５〜１５ｍ／ｓｅｃで噴出されア
ルミニウム板１０の塗布皮膜面に激しく接触する。これ
により塗布皮膜の溶媒が蒸発し、塗布皮膜が硬化する。
塗布皮膜と接触した後の気体は排気口６２８から排出さ
れる。

【０１７１】スリット型ノズルとしては先端のノズルク
リアランスは０．２〜８ｍｍ、ピッチ３０〜３００ｍ
ｍ、ノズル〜アルミニウム板間距離５〜２００ｍｍの条
件で通常用いられる。

【０１７２】上記のようにして設けられた感光層の表面
には、真空焼き枠を用いた密着露光の際の真空引きの時
間を短縮し、かつ焼きボケを防ぐため、マット層が設け
られる。具体的には、特開昭５０−１２５８０５号、特
公昭５７−６５８２号、同６１−２８９８６号各公報に
記載されているようなマット層を設ける方法、特公昭６
２−６２３３７号公報に記載されているような固体粉末
を熱融着させる方法などが挙げられる。

【０１７３】マット塗布装置について図１１を参照して
説明する。図１１は、従来のマット塗布装置の代表例の
概略断面図である。この図において、連続的に走行する
アルミニウム板１０を温度調整室７０２において所定の
温度に調整し、湿潤装置７０４により表面を湿潤した
後、静電塗装装置７０５により微細な液滴をアルミニウ
ム板１０の表面に塗布する。次いで、湿潤装置７０６に
より表面を再湿潤した後、乾燥装置７０７により乾燥す
る。

【０１７４】本発明に用いられるマット層の平均径は１
００μｍ以下が好ましく、これよりも平均径が大きくな
るとＰＳ版を重ねて保存する場合、感光層とバックコー
ト層との接触面積が増大し、滑り性が低下、感光層およ
びバックコート層双方の表面に擦れ傷を生じ易い。マッ
ト層の平均高さは１０μｍ以下が好ましく、より好まし
くは２〜８μｍである。この範囲より平均高さが高いと
細線が付き難く、ハイライトドットも点減りし、調子再
現上好ましくない。平均高さが２μｍ以下では真空密着
性が不十分で焼きボケを生じる。マット層の塗布量は５
〜２００ｍｇ／ｍ²が好ましく、より好ましくは２０〜
１５０ｍｇ／ｍ²である。塗布量がこの範囲よりも大き
いと感光層とバックコート層との接触面積が増大し擦れ
傷の原因となり、これよりも小さいと真空密着性が不十
分となる。

【０１７５】本発明の平版印刷版（ＰＳ版）のアルミニ
ウム板の裏面には、重ねた場合の感光層の傷付きを防ぐ
ための有機高分子化合物からなる被覆層（以後この被覆
層をバックコート層と称す。）が必要に応じて設けられ
る。

【０１７６】このバックコート層の主成分としては、ガ
ラス転移点２０℃以上の、飽和共重合ポリエステル樹
脂、フェノキシ樹脂、ポリビニルアセタール樹脂及び塩
化ビニリデン共重合樹脂の群から選ばれる少なくとも一
種の樹脂が用いられる。

【０１７７】飽和共重合ポリエステル樹脂は、ジカルボ
ン酸ユニットとジオールユニットからなる。本発明に用
いられるポリエステルのジカルボン酸ユニットとしては
フタル酸、テレフタル酸、イソフタル酸、テトラブロム
フタル酸、テトラクロルフタル酸などの芳香族ジカルボ
ン酸；アジピン酸、アゼライン酸、コハク酸、蓚酸、ス
ベリン酸、セバチン酸、マロン酸、１，４−シクロヘキ
サンジカルボン酸などの飽和脂肪族ジカルボン酸などが
挙げられる。

【０１７８】さらに、バックコート層には、着色のため
の染料や顔料、アルミニウム板との密着性向上のための
シランカップリング剤、ジアゾニウム塩からなるジアゾ
樹脂、有機ホスホン酸、有機リン酸およびカチオン性ポ
リマー等、更には滑り剤として通常用いられるワック
ス、高級脂肪酸、高級脂肪酸アミド、ジメチルシロキサ
ンよりなるシリコーン化合物、変性ジメチルシロキサ
ン、ポリエチレン粉末等が適宜加えられる。

【０１７９】バックコート層の厚さは、基本的には合紙
がなくとも感光層を傷付けにくい厚みがあれば良く、
０．０１〜８μｍの範囲が好ましい。厚さ０．０１μｍ
以下ではＰＳ版を重ねて取り扱った場合の感光層の擦れ
傷を防ぐことができない。厚さが８μｍを越えると印刷
中、印刷版周辺で用いられる薬品によってバックコート
層が膨潤して厚みが変動し、印圧が変化して印刷特性を
劣化させることがある。

【０１８０】バックコート層をアルミニウム板の裏面に
被覆するには種々の方法が適用できる。例えば、適当な
溶媒の溶液にして又は乳化分散液にして塗布、乾燥する
方法、予めフィルム状に成形したものを接着剤や熱でア
ルミニウム板に貼り合わせる方法、溶融押し出し機で溶
融皮膜を形成し、アルミニウム板に貼り合わせる方法が
挙げられるが、上記の塗布量を確保する上で最も好まし
いのは溶液にして塗布、乾燥する方法である。ここで使
用される溶媒としては、特開昭６２−２５１７３９号公
報に記載されているような有機溶剤が単独あるいは混合
して用いられる。

【０１８１】また、塗布する方式条件としては、感光層
を塗布する方式、条件の多くを利用できる。すなわち、
先に述べたコーティングロッドを用いる方法、エクスト
ルージョン型コーターを用いる方法、スライドビードコ
ーターを用いる方法が利用できる。また塗布する条件、
液物性等も先に記載した条件を利用できる。

【０１８２】

【実施例】［実施例１〜６］ＪＩＳ１０５０材を、図１
に示す機械的粗面化装置を用い、回転数２５０ｒｐｍ
で、珪砂を１０％の濃度にした研磨材で機械的砂目立て
を行った。次に、図２に示す化学的エッチング装置で、
苛性ソーダの濃度２５％、スプレーで供給する液は６０
℃で、８ｇ／ｍ²アルミニウムが溶解した。その後、水
洗してスマットを除去し、図３及び図４に示す電解粗面
化処理装置を用い、特開平３−７９７９９号公報記載の
電源波形で、硝酸濃度１２ｇ／ｌ、アルミニウム濃度７
ｇ／ｌで、液温は５５℃として、アノード反応の電気
量が２５０ｃ／ｄｍ²になるように電流値を設定した。
サポートローラは、図５又は図６に示すものを使用し
た。サポートローラの詳細を表１に示す。

【０１８３】

【表１】

【０１８４】その後、アルミニウム溶解量が０.５ｇ／
ｍ²となるようにエッチングし、水洗後スマットを除去
した。次に、図７に示す陽極酸化装置を用い、硫酸濃度
１４０ｇ／ｌ、温度５０℃にて陽極酸化皮膜量が２.３
ｇ／ｍ²になるように直流電流を流し、陽極酸化皮膜を
形成した。

【０１８５】そして、図９に示す感光性組成物の塗布装
置を用い、感光性組成物の塗布を行い、乾燥した後の塗
布重量が１．４ｇ／ｍ²になるように感光層を設けた。
感光層の処方は下記の通りである。（感光層組成）ナフトキノン−１，２−ジアジド−５−スルホニルクロライドとピロガロール、アセトン樹脂とのエステル化合物（米国特許３, ６３５, ７０９号明細書実施例−１記載のもの）０．７５ｇクレゾールノボラック樹脂２．００ｇオイルブルー６０３（オリエント化学）０．０４ｇエチレンジクロライド１６ｇ２−メトキシエチルアセテート１２ｇ

【０１８６】［比較例１〜６］ＪＩＳ１０５０材を、図
１に示す機械的粗面化装置を用い、回転数２５０ｒｐｍ
で、珪砂を１０％の濃度にした研磨材で機械的砂目立て
を行った。次に、図２に示す化学的エッチング装置で、
苛性ソーダの濃度２５％、スプレーで供給する液は６０
℃で、８ｇ／ｍ²アルミニウムが溶解した。その後、水
洗してスマットを除去し、図３及び図４に示す電解粗面
化処理装置を用い、特開平３−７９７９９号公報記載の
電源波形で、硝酸濃度１２ｇ／ｌ、アルミニウム濃度７
ｇ／ｌで、液温は５５℃として、アノード反応の電気
量が２５０ｃ／ｄｍ²になるように電流値を設定した。
サポートローラは、図５又は図６に示すものを使用し
た。サポートローラの詳細を表２に示す。

【０１８７】

【表２】

【０１８８】その後、アルミニウム溶解量が０.５ｇ／
ｍ²となるようにエッチングし、水洗後スマットを除去
した。次に、図７に示す陽極酸化装置を用い、硫酸濃度
１４０ｇ／ｌ、温度５０℃にて陽極酸化皮膜量が２.３
ｇ／ｍ²になるように直流電流を流し、陽極酸化皮膜を
形成した。

【０１８９】そして、図９に示す感光性組成物の塗布装
置を用い、感光性組成物の塗布を行い、乾燥した後の塗
布重量が１.４ｇ／ｍ²になるように感光層を設けた。感
光層の処方は下記の通りである。（感光層組成）ナフトキノン−１，２−ジアジド−５−スルホニルクロライドとピロガロール、アセトン樹脂とのエステル化合物（米国特許３, ６３５, ７０９号明細書実施例−１記載のもの）０．７５ｇクレゾールノボラック樹脂２．００ｇオイルブルー６０３（オリエント化学）０．０４ｇエチレンジクロライド１６ｇ２−メトキシエチルアセテート１２ｇ

【０１９０】［比較結果］実施例、比較例共、平版印刷
版としての基本性能は同一であった。しかし、実施例
は、１００時間連続処理しても問題はなかったが、比較
例１は、サポートローラの変形が生じ、アルミニウム板
に歪みが発生し平面性が悪化した。比較例２、６は、電
飾が発生し、一部ローラ骨格部に溶解後がみられた。比
較例３は、ラインスタート時、サポートローラとアルミ
ニウム板にスリップが発生し、多数の不良品が発生し
た。比較例４は、不織布に変形が生じ、アルミウェブに
歪みが発生し平面性が悪化した。比較例５は、５０時間
後に、セラミックスの一部が剥離した。

【０１９１】

【発明の効果】本発明は、以上のように構成したので、
処理条件が過酷な場合であってもサポートローラが変形
することがない。したがって、長期間に亘ってアルミニ
ウム板等に電解化学的処理を良好に施すことができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】ブラシを用いた機械的粗面化処理装置の一例
を示す概略図である。

【図２】アルミニウム板表面に化学的エッチング処理
を行う化学的エッチング処理装置の一例を示す概略図で
ある。

【図３】アルミニウム板に第１及び第２の電解粗面化
処理を行う電解粗面化処理装置の一例を示す概略図であ
る。

【図４】電解粗面化処理装置の部分拡大図である。

【図５】サポートローラの拡大断面図である。

【図６】サポートローラの拡大断面図である。

【図７】アルミニウム板の表面を陽極酸化処理する陽
極酸化処理装置の一例を示す概略図である。

【図８】迷走電流の測定に用いる迷走電流測定手段の
一例を示す概略図である。

【図９】感光性組成物の塗布装置の一例を示す概略断
面図である。

【図１０】乾燥装置の一例を示す概略断面図である。

【図１１】マット塗布装置の一例を示す概略図であ
る。

【符号の説明】１０……アルミニウム板３０２…粗面化処理装置３０３…粗面化処理装置３０４…粗面化処理装置３０５…電解槽３０６…電極３０７…サポートローラ３２０…骨格部３２１…芯金３２２…基板３２３…セラミック絶縁層３３０…骨格部３３１…芯金３３２…基板３３３…絶縁層３３４…不織布

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】酸性電解液中にサポートローラと電極と
が設けられ、サポートローラ上を移動する金属板に電気
化学的処理をする平版印刷版支持体の製造装置におい
て、前記サポートローラが、芯金の周囲に円筒状に設け
られた縦弾性係数が８，０００ｋｇｆ／ｍｍ²以上、５
０，０００ｋｇｆ／ｍｍ²未満の基板を有する骨格部
と、該骨格部の周囲に設けられた酸化クロムを１０重量
％以上、９０重量％以下含み電気抵抗が０．０１ＭΩ以
上のセラミック絶縁層とを有していることを特徴とする
平版印刷版支持体の製造装置。
【請求項２】酸性電解液中にサポートローラと電極と
が設けられ、サポートローラ上を移動する金属板に電気
化学的処理をする平版印刷版支持体の製造装置におい
て、前記サポートローラが、芯金の周囲に円筒状に設け
られた縦弾性係数が８，０００ｋｇｆ／ｍｍ²以上、５
０，０００ｋｇｆ／ｍｍ²未満の基板を有する骨格部
と、該骨格部の周囲に設けられた電気抵抗が０．０１Ｍ
Ω以上の絶縁層と、該絶縁層の円周面に設けられた厚さ
１０ｍｍ以上、１００ｍｍ以下で密度０．３０ｇ／ｃｃ
以上、１．００ｇ／ｃｃ未満に圧密した耐酸性の不織布
とを有することを特徴とする平版印刷版支持体の製造装
置。