JP2000275393A - イオン交換樹脂の減容処理方法およびその装置 - Google Patents

イオン交換樹脂の減容処理方法およびその装置

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JP2000275393A
JP2000275393A JP11080720A JP8072099A JP2000275393A JP 2000275393 A JP2000275393 A JP 2000275393A JP 11080720 A JP11080720 A JP 11080720A JP 8072099 A JP8072099 A JP 8072099A JP 2000275393 A JP2000275393 A JP 2000275393A
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ion exchange
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plasma
frequency
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JP11080720A
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Yasushi Sakakibara
康史 榊原
Makoto Koguchi
信 虎口
Koji Shimizu
康次 清水
Genichi Katagiri
源一 片桐
Sadahiro Yaginuma
禎浩 柳沼
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Fuji Electric Co Ltd
Original Assignee
Fuji Electric Co Ltd
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Abstract

(57)【要約】 【課題】減容処理操作に伴って容器内に付着したタ─ル
分が効率よく除外され、高い稼働率で運転できるものと
する 【解決手段】被処理用のイオン交換樹脂3を内包する処
理容器2に酸素を含むガスを導入し、高周波誘導コイル
9により高周波電磁界を印加して誘導結合型のプラズマ
1を発生させ、酸素ガスのプラズマ化によって得られた
活性酸素原子をイオン交換樹脂3に作用させて灰化減容
処理するものにおいて、減容処理を行ったのち、接続切
替え手段12を切替えて高周波誘導コイル9と処理容器
2との間に高電圧を印加して容量結合型のプラズマを発
生させ、容器内に付着したタ─ル分に作用させて除去す
る。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、廃棄物として生じ
るイオン交換樹脂の減容処理装置に係わり、特に酸素含
有雰囲気中のプラズマにより生じる活性酸素原子を利用
して灰化減容処理を行う装置およびその方法に関する。
【0002】
【従来の技術】図5に本装置で発生させる誘導結合プラ
ズマの発生原理を示す。誘導結合プラズマは、図5に例
示したように、プラズマ容器51に近接して配された誘
導コイル52に電源53より高周波電流を通電し、電磁
誘導現象によりプラズマ容器51の内部に所望のガスの
プラズマ54を発生させることにより得られるもので、
基本的な原理は金属などの誘導加熱(IH:Induction H
eating)と同じである。電磁誘導によりθ方向に生じる
誘導電界によってプラズマ中に渦電流を生じさせ、この
渦電流によってプラズマの加熱が行われる。
【0003】一方、電極を用いて電極間の電界によりプ
ラズマを発生させる方法は、容量結合型プラズマと呼ば
れる。容量結合型プラズマの発生原理を図6に示す。プ
ラズマ容器61の両端に配した電極62と電極63との
間に、電源64によって高電圧を印加することによっ
て、電界によりプラズマ容器61の内部にプラズマ65
が得られる。容量結合型プラズマにおけるプラズマへの
パワー供給は、電極に印加した高電圧による電界に依存
する。しかしながら、印加する高電界には異常放電など
の観点から制限があり、プラズマへ大きなパワーを注入
することができないので、容量結合型プラズマでは一般
に高密度プラズマは得られない。これに対し、誘導結合
型プラズマにおいては、誘導電磁界がプラズマに浸透
し、プラズマ内部に発生する誘導電界により直接パワー
供給できる。また、原理的に無電極のため異常放電など
の問題もない。このため容量結合型にくらべて高密度の
プラズマが発生できるという利点がある。
【0004】酸素プラズマによるイオン交換樹脂減容処
理の概念を以下に述べる。プラズマ中では、次式
(1)、(2)で代表される過程により化学的活性の高
い酸素原子や酸素イオンが生成される。
【0005】
【数1】 A)5eV以上の電子衝突の場合 O2 +e→O2 * +e→O2 +e+hν →O+O+e (1) B)12eV以上の電子衝突の場合 O2 +e→O2 * +e→O2 + +2e →O+O+ +2e (2) これらの活性粒子はイオン交換樹脂や樹脂の分解ガスに
直接作用して、アルキル基から水素を引き抜いたり、C
−C結合への割り込みや切断を経て炭化水素の酸化をお
こなう。その結果、イオン交換樹脂はCO、CO2 、あ
るいはH2Oへとガス化され減容される。また、イオン
交換樹脂の交換基に吸着されていたCoなどの金属イオ
ンは、酸化物として減容残さ中に残留する。
【0006】図7は、特願平10−284064号に記
載の高周波誘導コイルを利用したイオン交換樹脂減容処
理装置の構成を模式的に示す断面図である。本減容処理
装置は、被処理物としてのイオン交換樹脂3を搭載した
処理皿4を内蔵する処理容器2、高周波誘導コイル9の
生じる電磁界を処理容器2内に浸透させるための絶縁物
よりなる平板窓31、平板窓31の上部に巻装された高
周波誘導コイル9、処理容器2内部を排気する図示しな
い減圧ポンプに接続される排気口11、処理容器2の内
部に酸素または酸素を含む複数のガスを導入するための
ガス導入口5、および高周波誘導コイル9に高周波電流
を供給する高周波電源10により構成されている。移動
機構21により鉛直方向に移動可能に組み込まれた移動
ステージ22の上に、イオン交換樹脂3を積載した処理
皿4を置載し、灰化減容処理を行うよう構成されてい
る。
【0007】本構成では、移動ステージ22の高さ方向
の位置を調節して、被処理樹脂の性状に合わせた処理を
行うことができる。すなわち、温度耐性が大きくプラズ
マ1による加熱で熱分解しにくい樹脂の場合には、移動
ステージ22を相対的に上方に配置し、イオン交換樹脂
3をプラズマ1の領域に近づけて積極的に活性粒子に暴
露させて処理効率を上げる。これにより不完全酸化物の
生成が抑えられる。また、キレート材を多量に含む場合
や温度耐性の低い樹脂の場合には、移動ステージ22を
相対的に下方に配置し、イオン交換樹脂3をプラズマ1
の領域から遠ざけてプラズマ1による加熱を抑制するこ
とにより、熱分解ガスの大量発生を抑え、活性粒子不足
による不完全酸化物生成に起因するタール等の生成を効
果的に低減させることができる。
【0008】このように被処理イオン交換樹脂を積載す
る処理皿を、鉛直方向に移動可能な移動ステージ上に配
することとすれば、被処理樹脂の状況に応じて、高周波
誘導コイルと被処理樹脂の距離を調整することができ、
生成している活性粒子量に応じて熱分解気化ガスの発生
量を調整し、気相における完全酸化を実現できるので、
メンテナンスが容易で効率的に使用できるイオン交換樹
脂減容処理装置として好適である。
【0009】
【発明が解決しようとする課題】上記のごとく従来の装
置は優れた特性を備えており、特に原子力設備からの廃
棄物のイオン交換樹脂の減容処理に有効である。しかし
ながら、これらの装置においても、なお以下のごとき問
題点が残っている。
【0010】前記したごとく、イオン交換樹脂の種類に
より温度耐性の低いものがあり、これらは過熱により熱
分解ガスを大量に発生する。実際の樹脂処理において
は、多種類の異なるイオン交換樹脂が様々な割合で排出
され、これらを処理する必要があるため、必ずしも樹脂
性状に適合した処理を行うことはできない。すなわち、
実際の処理においては、熱分解ガスが大量に発生し、こ
れにともなってタールが処理容器内壁に付着する場合が
ある。タールが一旦容器壁に付着すると、容器壁の温度
が室温程度の低温であり、またプラズマによる活性酸素
原子も容器壁には届き難いので、タールは処理されない
でそのまま残存することとなる。一方、この種のイオン
交換樹脂減容処理装置は、処理容器の圧力を調整するた
めのバルブや、図7に示したごとき上下駆動ステージな
どの駆動部分を備えているが、これらの駆動部分に上記
のタールが付着すれば円滑な駆動操作が阻害され、初期
の性能が維持できなくなる。そのため、一定期間経過す
る毎に運転を停止してタールの除去作業を行う必要があ
る。したがって、従来の装置ではこの除去作業のために
装置の稼働率を高くすることが困難であった。また、例
えば原子力設備から廃棄されるイオン交換樹脂のように
放射性を有する被処理物の場合には作業自体が困難で、
永続的な処理に用いることができないという難点があ
る。
【0011】本発明の目的は、樹脂処理時に発生して容
器内に付着したタールが効率よく、かつ確実に除去さ
れ、高い稼働率で運転できるイオン交換樹脂の減容処理
方法ならびにその装置を提供することにある。
【0012】
【課題を解決するための手段】上記の目的を達成するた
めに、本発明においては、(A)被処理イオン交換樹脂
を内包する金属製の処理容器内に酸素または酸素を含む
複数のガスを導入し、高周波電磁界を印加して電磁界作
用によって処理容器内に誘導結合型プラズマを発生さ
せ、酸素ガスのプラズマ化によって生じた活性酸素原子
をイオン交換樹脂に作用させて灰化減容処理したのち、
処理容器内に電界を印加して容量結合型プラズマを発生
させ、灰化減容処理に伴って処理容器内壁に付着した汚
損物質の除去処理を行うこととする。
【0013】既に述べたように、誘導結合型プラズマは
高密度プラズマの発生手段として有利な方法であるが、
そのプラズマ領域は容量結合型と比較して狭い。これは
プラズマを発生させる電界の分布に依存している。先に
示した図5および図6中には、誘導結合型プラズマ、容
量結合型プラズマの電界が描かれているが、図6のよう
に、容量結合型は容器内全域に、しかも均一な電界が形
成できることがわかる。一方、誘導結合型では、原理的
に高周波誘導コイルの中心軸上の電界は0であり、また
このコイルに近いほど電界強度は強く、このコイルから
遠ざかるほど電界は弱くなる。発生するプラズマの密度
分布は電界強度分布により決まる。したがって、誘導結
合型プラズマでは、容器内の特に高周波誘導コイルから
遠い場所にプラズマは発生せず、この部分に付着したタ
ールを除去することは不可能である。これに対して容量
結合型では、プラズマの密度は低いが、容器内全域にプ
ラズマを発生させることが可能である。容器壁に付着し
たタール分の量は、灰化減容処理する樹脂の量に比べて
わずかであり、低密度の容量結合型プラズマを用いても
短時間に酸化分解処理し、除去することが可能である。
したがって、上記の(A)のごとき方法によりイオン交
換樹脂を処理することとすれば、付着したタールが効率
よく、かつ確実に除去されることとなり、処理装置の稼
働率の向上に効果的である。
【0014】また、本発明においては、(B)被処理イ
オン交換樹脂を内包する金属製の処理容器、高周波電磁
界を処理容器内に透過させるために処理容器に設けられ
た電気絶縁性の窓、高周波電磁界を発生させるために処
理容器の外の特に前記窓近傍に配置される高周波誘導コ
イル、高周波誘導コイルに高周波電流を通電する高周波
電源、処理容器を減圧状態にする減圧手段、および処理
容器内にガスを導入するためのガス導入手段を備え、ガ
ス導入手段により処理容器内に酸素または酸素を含む複
数のガスを導入し、高周波電源より高周波誘導コイルに
高周波電流を通電して電磁界作用によって処理容器内に
誘導結合型プラズマを発生させ、酸素ガスのプラズマ化
によって生じた活性酸素原子を処理容器に内包したイオ
ン交換樹脂に作用させて灰化減容する装置において、
(1)処理容器内に容量結合型プラズマを発生させる電
界印加手段を備えることとし、(2)この電界印加手段
を、高周波誘導コイルの一端と処理容器との間に接続し
た電源より構成する。あるいは、この電源を高周波誘導
コイルの一端に接続切替え手段を介して接続された上記
の高周波電源とする。
【0015】(3)あるいは、この電界印加手段を、処
理容器の電気絶縁性の窓の近傍に設けられた高電圧印加
用電極と処理容器との間に接続された電源より構成する
こととし、(4)さらに(3)において、この高電圧印
加用電極を、高周波誘導コイルのコイル巻方向に対して
直交する方向にスリットを備えるものとするか、あるい
は、その厚さを、高電圧印加用電極の材料と高周波電源
の出力周波数により定まる電磁界表皮深さの1/10よ
り小さい厚さとすることとする。
【0016】上記(1)〜(4)のごとく構成すれば、
処理容器の内部に誘導結合型プラズマとは発生原理の異
なる容量結合型プラズマを発生させることができ、処理
容器の内壁に付着したタールをこの容量結合型プラズマ
により酸化分解処理することが可能となるので、従来装
置で行われる装置の停止、およびタールの除去作業が不
要となる。
【0017】
【発明の実施の形態】<実施例1>図1は、本発明のイ
オン交換樹脂減容処理装置の第1の実施例の基本構成を
模式的に示す縦断面図である。本実施例の減容処理装置
は、図7に示した従来の構成を基に形成されたもので、
図7との処理装置との相違点は、高周波誘導コイル9に
接続される高周波電源10に接続切替え手段12が設け
られ、この接続切替え手段12により、高周波電源10
の接続先を、高周波誘導コイル9の両端から、高周波誘
導コイル9の一端と処理容器2の容器壁との間へと切替
えることにより、容量結合型プラズマを発生させるため
の電圧印加手段が形成されるよう構成されている点にあ
る。
【0018】したがって、本装置においては、イオン交
換樹脂を灰化減容処理するための誘導結合型プラズマの
みならず、容量結合型プラズマも発生できることとなる
ので、誘導結合型プラズマによるイオン交換樹脂の灰化
減容処理に伴って処理容器2の内壁にタール分が付着し
ても、処理容器内の全体に広がる容量結合型プラズマに
よって、付着したタール分は酸素プラズマにより分解処
理され、処理容器2の内壁はクリーニングされることと
なる。
【0019】したがって、本構成のイオン交換樹脂減容
処理装置では、従来装置のように運転を停止してクリー
ニング作業を行う必要がなく、効率の高い灰化減容処理
が可能となる。 <実施例2>図2は、本発明のイオン交換樹脂減容処理
装置の第2の実施例の基本構成を模式的に示す縦断面図
である。本実施例の減容処理装置も、図7に示した従来
の構成を基に形成されたもので、図7の処理装置との相
違点は、高周波誘導コイル9の一端と処理容器2の容器
壁との間に接続切替え手段12Aを介して接続される第
二の電源13を配した点にあり、これによって、容量結
合型プラズマを発生させるための電圧印加手段が形成さ
れている。本装置においては、接続切替え手段12Aの
切替えによって、発生原理の異なる2種類のプラズマを
生成することが可能になる。すなわち、イオン交換樹脂
3を減容処理する際には、接続切替え手段12Aを高周
波電源10の側へと投入して運転し、誘導結合型プラズ
マを発生させて処理が行われる。一方、接続切替え手段
12Aを第二の電源13の側へと投入して運転すれば、
処理容器2の内部の全体に広がった容量結合型プラズマ
が発生する。減容処理に伴って容器内壁に付着したター
ル分は、酸素プラズマにより分解処理され、容器壁はク
リーニングされることとなる。
【0020】したがって、本構成のイオン交換樹脂減容
処理装置も、運転を停止してクリーニング作業を行う必
要がなく、効率の高い灰化減容処理が可能となる。 <実施例3>図3は、本発明のイオン交換樹脂減容処理
装置の第3の実施例の基本構成を模式的に示す縦断面図
である。本実施例の減容処理装置も、図7に示した従来
の構成を基に形成されたもので、図7の処理装置との相
違点は、高電圧印加用の円形平板状の電極14を、平板
窓31と高周波誘導コイル9との間に取り外し可能に組
み込み、本電極14と処理容器2の容器壁との間に第二
の電源13を配した点にあり、これによって、容量結合
型プラズマを発生させるための電圧印加手段が形成され
ている。
【0021】本装置においては、電極14が装着されて
いない状態で、高周波電源10により誘導結合型プラズ
マを発生させてイオン交換樹脂の減容処理が行われ、減
容処理を行った後、この電極14を装着し、第二の電源
13により容量結合型プラズマを発生して、減容処理に
伴って容器内壁に付着したタール分は、酸素プラズマに
より分解処理が行われる。本構成では、容量結合型プラ
ズマの発生に、実施例1あるいは2の場合の高周波誘導
コイル9に替えて電極14を用いているので、より均一
なプラズマが形成できるという利点がある。
【0022】なお、本構成では誘導結合型プラズマの発
生用と容量結合型プラズマの発生用にそれぞれ独立した
電源を組み込んでいるが、誘導結合型プラズマの発生に
用いられる高周波電源10を接続切替え手段により切替
えて容量結合型プラズマの発生用の電源として使用する
構成とすることもできる。 <実施例4>本実施例は、図3に示した第3の実施例を
基に構成されたもので、第3の実施例との相違点は、平
板窓31と高周波誘導コイル9との間に組み込まれた電
極がスリットを備えて構成されている点にある。図4
は、本実施例に用いられている電極14の基本構成を模
式的に示す平面図である。
【0023】既に述べた実施例3の構成では、通常のイ
オン交換樹脂の減容処理時、すなわち誘導結合型プラズ
マ発生時に、高周波誘導コイル9と平板窓31の間に電
極14を組み込んだ状態に保持すれば、高周波誘導コイ
ル9により発生する電磁界が平板状の電極14により遮
蔽され、処理容器2の中に浸透できなくなるので、誘導
結合型プラズマ発生時には取り外す必要がある。これに
対して、この電極を、図4に示したごとくスリット15
を備えた電極14Aとして構成すれば、高周波誘導コイ
ル9の電磁界により発生する渦電流損失が大幅に低減さ
れる。すなわち、電極で生じる渦電流は電極を通過する
磁束を取り巻くように直交方向に円を描いて生じるの
で、この渦電流を妨げる方向、すなわち、コイルに直交
する方向に短冊状のスリットを設ければ、渦電流が阻止
され、電極に生じる渦電流損失が低減される。したがっ
て、本構成の電極14Aを用いるイオン交換樹脂減容処
理装置では、常時電極14Aを組み込んで運転すること
が可能となる。
【0024】なお、本構成においても、誘導結合型プラ
ズマの発生に用いられる高周波電源10を接続切替え手
段により切替えて容量結合型プラズマの発生用の電源と
して使用する構成とすることもできる。 <実施例5>本実施例においては、図3に示した実施例
3において用いられている容量結合型プラズマ発生用の
電圧印加手段の電極14が、平板窓上に蒸着などの方法
により薄膜として形成される。
【0025】誘導結合プラズマを生成するための電磁界
の導体による減衰量は、表皮深さδで表される。電磁界
の角周波数をω、導体の透磁率および導電率を、それぞ
れμおよびρとすれば、表皮深さδは次式(3)によっ
て与えられる。
【0026】
【数2】 δ=(2ρ/(ωμ))1/2 (3) 表皮深さδは、電磁界が表面の 1/2.73、すなわち 36.
6 %に減衰する厚さを示す値である。電極において消費
される電力量は電極内の電界の2乗に比例するから、表
皮深さδの厚さの電極においては、1−( 1/2.732
すなわち 86.5%の電力が電極内で消費されることにな
り、表皮深さδの 1/10の厚さの電極においては、電極
内での損失電力は約 18 %となる。したがって、容量結
合型プラズマ発生用の電圧印加手段の電極として平板窓
上に形成される薄膜電極の厚さを、高々、表皮深さδの
1/10の厚さとすれば、誘導結合プラズマ発生用の誘導
電磁界は処理容器内部に効果的に浸透し、所望の誘導結
合プラズマが発生し、イオン交換樹脂の減容処理が行わ
れることとなる。また、この薄膜電極と処理容器の容器
壁との間に高電圧を印加して容量結合型プラズマを発生
させ、減容処理に伴って反応容器の内壁に付着したター
ル分を除去することができる。
【0027】例えば、高周波電源の出力周波数、したが
って電磁界の周波数が 450 kHzで、電極の材質が金(ρ
=2.44×10-8Ω・m)のとき、表皮深さδは 117μmで
ある。したがって、蒸着法などにより1μm程度の厚さ
に制御して電極を形成すれば、この電極内部での電力損
失はほぼゼロ(1.7 %)となる。また、電極の厚さを約
10μmとすれば、電極内部での電力損失は 18 %以下に
抑えられる。
【0028】なお、本構成においても、誘導結合型プラ
ズマの発生に用いられる高周波電源10を接続切替え手
段により切替えて容量結合型プラズマの発生用の電源と
して使用する構成とすることもできる。
【0029】
【発明の効果】上述のごとく、本発明においては、イオ
ン交換樹脂減容処理装置に、イオン交換樹脂の減容処理
プロセスに用いる誘導結合型プラズマの発生手段に加え
て、容量結合型プラズマの発生手段を備えることとした
ので、従来、誘導結合型プラズマでは処理できなかった
反応容器内に付着するタールをプラズマにより除去する
ことが可能となった。
【0030】その結果、樹脂処理時に発生して容器内に
付着したタールが効率よく、かつ確実に除去され、高い
稼働率で運転できるイオン交換樹脂処理装置が得られる
こととなった。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明によるイオン交換樹脂減容処理装置の第
1の実施例の基本構成を模式的に示す断面図
【図2】本発明によるイオン交換樹脂減容処理装置の第
2の実施例の基本構成を模式的に示す断面図
【図3】本発明によるイオン交換樹脂減容処理装置の第
3の実施例の基本構成を模式的に示す断面図
【図4】本発明によるイオン交換樹脂減容処理装置の第
4の実施例に用いられている電極の基本構成を模式的に
示す平面図
【図5】誘導結合型プラズマの発生原理を示す説明図
【図6】容量結合型プラズマの発生原理を示す説明図
【図7】従来のイオン交換樹脂減容処理装置の構成を模
式的に示す断面図
【符号の説明】
1 プラズマ 2 処理容器 3 イオン交換樹脂 4 処理皿 5 ガス導入口 9 高周波誘導コイル 10 高周波電源 11 排気 12 接続切替え手段 12A 接続切替え手段 13 電源 14 電極 14A 電極 15 スリット 21 移動機構 22 移動ステージ 31 平板窓
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 清水 康次 神奈川県川崎市川崎区田辺新田1番1号 富士電機株式会社内 (72)発明者 片桐 源一 神奈川県川崎市川崎区田辺新田1番1号 富士電機株式会社内 (72)発明者 柳沼 禎浩 神奈川県川崎市川崎区田辺新田1番1号 富士電機株式会社内

Claims (7)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】被処理イオン交換樹脂を内包する金属製の
    処理容器内に酸素または酸素を含む複数のガスを導入
    し、高周波電磁界を印加して電磁界作用によって処理容
    器内に誘導結合型プラズマを発生させ、酸素ガスのプラ
    ズマ化によって生じた活性酸素原子をイオン交換樹脂に
    作用させて灰化減容処理したのち、処理容器内に電界を
    印加して容量結合型プラズマを発生させ、灰化減容処理
    に伴って処理容器内壁に付着した汚損物質の除去処理を
    行うイオン交換樹脂の減容処理方法。
  2. 【請求項2】被処理イオン交換樹脂を内包する金属製の
    処理容器、高周波電磁界を処理容器内に透過させるため
    に処理容器に設けられた電気絶縁性の窓、高周波電磁界
    を発生させるために処理容器の外の特に前記窓近傍に配
    置される高周波誘導コイル、高周波誘導コイルに高周波
    電流を通電する高周波電源、処理容器を減圧状態にする
    減圧手段、および処理容器内にガスを導入するためのガ
    ス導入手段を備え、ガス導入手段により処理容器内に酸
    素または酸素を含む複数のガスを導入し、高周波電源よ
    り高周波誘導コイルに高周波電流を通電して電磁界作用
    によって処理容器内に誘導結合型プラズマを発生させ、
    酸素ガスのプラズマ化によって生じた活性酸素原子を処
    理容器に内包したイオン交換樹脂に作用させて灰化減容
    する装置において、 処理容器内に容量結合型プラズマを発生させる電界印加
    手段を備えたことを特徴とするイオン交換樹脂の減容処
    理装置。
  3. 【請求項3】請求項2に記載のイオン交換樹脂減容装置
    において、前記電界印加手段が、高周波誘導コイルの一
    端と処理容器との間に接続された電源よりなることを特
    徴とするイオン交換樹脂の減容処理装置。
  4. 【請求項4】請求項3に記載のイオン交換樹脂減容装置
    において、前記電源が、高周波誘導コイルの一端に接続
    切替え手段を介して接続された前記高周波電源よりなる
    ことを特徴とするイオン交換樹脂の減容処理装置。
  5. 【請求項5】請求項2に記載のイオン交換樹脂減容装置
    において、前記電界印加手段が、前記処理容器の電気絶
    縁性の窓の近傍に設けられた高電圧印加用電極と処理容
    器との間に接続された電源よりなることを特徴とするイ
    オン交換樹脂の減容処理装置。
  6. 【請求項6】請求項5に記載のイオン交換樹脂減容装置
    において、前記電源が接続される高電圧印加用電極が、
    前記高周波誘導コイルのコイル巻方向に対して直交する
    方向にスリットを備えていることを特徴とするイオン交
    換樹脂減容装置。
  7. 【請求項7】請求項5に記載のイオン交換樹脂減容装置
    において、前記電源が接続される高電圧印加用電極の厚
    みが、高電圧印加用電極の材料と高周波電源の出力周波
    数により定まる電磁界表皮深さの1/10より小さいこ
    とを特徴とするイオン交換樹脂減容装置。
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